JPH10282118A - プローブ顕微鏡 - Google Patents
プローブ顕微鏡Info
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- JPH10282118A JPH10282118A JP9412097A JP9412097A JPH10282118A JP H10282118 A JPH10282118 A JP H10282118A JP 9412097 A JP9412097 A JP 9412097A JP 9412097 A JP9412097 A JP 9412097A JP H10282118 A JPH10282118 A JP H10282118A
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- Japan
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- sample
- probe microscope
- vibration
- vibration isolation
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 装置の不必要は大型化を防ぎ及び防音特性を
劣化させることなく搬送機構を組み込む手段を有する構
成のプロ−ブ顕微鏡の提供を目的とするものである。 【構成】 除振機構13の定盤14上にプローブ顕微鏡
の要素部品を構成する。前記除振機構定盤14の固定時
の位置確認用の変位検出機15が除振機構架台16に固
定されている。除振機構13の架台16を介し、防音カ
バー17及び搬送機構が構成されている。前記防音カバ
ー17の一部には試料搬送用の開閉扉21が構成されて
いる。除振機構13の空気供給口手前に電磁弁を設け空
気圧を制御し、除振機構定盤14が所定の位置に配置さ
れたことを除振機構13に組み込まれた変位検出機15
で確認する。
劣化させることなく搬送機構を組み込む手段を有する構
成のプロ−ブ顕微鏡の提供を目的とするものである。 【構成】 除振機構13の定盤14上にプローブ顕微鏡
の要素部品を構成する。前記除振機構定盤14の固定時
の位置確認用の変位検出機15が除振機構架台16に固
定されている。除振機構13の架台16を介し、防音カ
バー17及び搬送機構が構成されている。前記防音カバ
ー17の一部には試料搬送用の開閉扉21が構成されて
いる。除振機構13の空気供給口手前に電磁弁を設け空
気圧を制御し、除振機構定盤14が所定の位置に配置さ
れたことを除振機構13に組み込まれた変位検出機15
で確認する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は物質間に働く原子間力
または磁気力といった様々な力を微小なばね要素で変位
に変換し、その変位をレーザー光をばね要素に照射しそ
の反射光の位置ずれとして光検出素子で検出して制御信
号とする方式の原子間力顕微鏡や磁気力顕微鏡といった
プロ−ブ顕微鏡(表面分析装置)に関する。
または磁気力といった様々な力を微小なばね要素で変位
に変換し、その変位をレーザー光をばね要素に照射しそ
の反射光の位置ずれとして光検出素子で検出して制御信
号とする方式の原子間力顕微鏡や磁気力顕微鏡といった
プロ−ブ顕微鏡(表面分析装置)に関する。
【0002】
【従来の技術】プロ−ブ顕微鏡の一種である原子間力顕
微鏡(Atomic Force Microscop
e)はSTMの発明者であるG.Binnigらによっ
て考案(Physical Review Lette
rs vol.56 p9301986)されて以来、
新規な絶縁性物質の表面形状観察手段として期待され、
研究が進められている。その原理は先端を充分に鋭くし
た検出チップと試料間に働く原子間力を、前記検出チッ
プが取り付けられているばね要素の変位として測定し、
前記ばね要素の変位量を一定に保ちながら前記試料表面
を走査し、前記ばね要素の変位量を一定に保つための制
御信号を形状情報として、前記試料表面の形状を測定す
るものである。
微鏡(Atomic Force Microscop
e)はSTMの発明者であるG.Binnigらによっ
て考案(Physical Review Lette
rs vol.56 p9301986)されて以来、
新規な絶縁性物質の表面形状観察手段として期待され、
研究が進められている。その原理は先端を充分に鋭くし
た検出チップと試料間に働く原子間力を、前記検出チッ
プが取り付けられているばね要素の変位として測定し、
前記ばね要素の変位量を一定に保ちながら前記試料表面
を走査し、前記ばね要素の変位量を一定に保つための制
御信号を形状情報として、前記試料表面の形状を測定す
るものである。
【0003】ばね要素の変位検出手段としてはトンネル
電流を用いるSTM方式と光学的方式に大別される。S
TM方式は二つの導体を数ナノメータ〜数オングストロ
ームの距離に近付け電圧を印加すると電流が流れ始める
いわゆるトンネル現象を利用するものである。ばね要素
に導電性を付与しておき、鋭利な金属針をばね要素に1
ナノメータ程度まで接近させてトンネル電流を流し、そ
の電流値をばね要素の変位信号として制御を行う。
電流を用いるSTM方式と光学的方式に大別される。S
TM方式は二つの導体を数ナノメータ〜数オングストロ
ームの距離に近付け電圧を印加すると電流が流れ始める
いわゆるトンネル現象を利用するものである。ばね要素
に導電性を付与しておき、鋭利な金属針をばね要素に1
ナノメータ程度まで接近させてトンネル電流を流し、そ
の電流値をばね要素の変位信号として制御を行う。
【0004】光学的方式にはいわゆる干渉法そのものを
使った例(Journal ofVacuum Sci
ence Technology A6(2)p266
Mar/Apr 1988)や、レーザー光をばね要素
に照射しその反射光の位置ずれを光検出素子で検出して
変位信号とする、光てこ方式と呼ばれる例(Journ
al of Applied Physics 65
(1)、1 p164 January 1989)が
報告されている。プロ−ブ顕微鏡は試料にあい対する位
置に配置されたプロ−ブが試料から原子間力を受けるも
のならば原子間力顕微鏡と称され、磁気力ならば磁気力
顕微鏡と称される様に試料から生じる様々な力を検出し
て試料の状態を観察できるものである。
使った例(Journal ofVacuum Sci
ence Technology A6(2)p266
Mar/Apr 1988)や、レーザー光をばね要素
に照射しその反射光の位置ずれを光検出素子で検出して
変位信号とする、光てこ方式と呼ばれる例(Journ
al of Applied Physics 65
(1)、1 p164 January 1989)が
報告されている。プロ−ブ顕微鏡は試料にあい対する位
置に配置されたプロ−ブが試料から原子間力を受けるも
のならば原子間力顕微鏡と称され、磁気力ならば磁気力
顕微鏡と称される様に試料から生じる様々な力を検出し
て試料の状態を観察できるものである。
【0005】プローブ顕微鏡は性能上原子間の形状等の
差を識別できるほど、非常に感度が高い検出部を設けて
いる。この感度の良い検出部を設けていることで一方で
は外乱に対しても敏感な構成であるといえる。そして、
この外乱を検出部が検出することで、試料状態を示す信
号成分と混ざり出力されることになる。いわゆるノイズ
成分となり、装置の分解能の低下要因となる。
差を識別できるほど、非常に感度が高い検出部を設けて
いる。この感度の良い検出部を設けていることで一方で
は外乱に対しても敏感な構成であるといえる。そして、
この外乱を検出部が検出することで、試料状態を示す信
号成分と混ざり出力されることになる。いわゆるノイズ
成分となり、装置の分解能の低下要因となる。
【0006】主な外乱要素として装置を設置した床の振
動が上げられる。この外乱から検出部を保護するために
除振機構を設け、この除振機構の定盤上にプローブ顕微
鏡の検出部等の要素部品を構成する必要がある。通常こ
の除振機構は除振機構架台に対し除振機構定盤が浮上し
て床からの振動を減衰させている。主なものとして空気
圧(空気バネ)を用いたものがある。また、外乱要素と
して装置を設置した場所の騒音が上げられる。この外乱
から検出部を保護するために防音カバーで装置を覆うこ
とが行われている。
動が上げられる。この外乱から検出部を保護するために
除振機構を設け、この除振機構の定盤上にプローブ顕微
鏡の検出部等の要素部品を構成する必要がある。通常こ
の除振機構は除振機構架台に対し除振機構定盤が浮上し
て床からの振動を減衰させている。主なものとして空気
圧(空気バネ)を用いたものがある。また、外乱要素と
して装置を設置した場所の騒音が上げられる。この外乱
から検出部を保護するために防音カバーで装置を覆うこ
とが行われている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】また、試料を検出可能
な位置に設置する際、試料の大型化および他の検査装置
や製造装置からの受け渡しの関係上、搬送機構が必要に
なる場合がある。特に半導体の分野において試料である
ウエ ハがウエ ハカセットと呼ばれるケースにて受け渡さ
れている場合が多い。また、試料サイズも大型化してい
る傾向である。半導体分野においては搬送機構として、
搬送ロボット、試料の面内方向を合わせるオリフラ合わ
せ機、そして、ウエ ハカセットを設置させるカセット台
を組み合わせて構成される。通常、搬送機構は常に再現
よく同位置に搬送対象を搬送目標に搬送するために、搬
送対象物や搬送目標等と同じベースに設けられる。それ
により除振機構定盤の面積が大きくなる傾向になる。除
振機構の定盤が大きくなるとそれに伴い、防音カバーを
大きくする必要になる。防音カバーは検出部(プローブ
顕微鏡部)のみを覆い、搬送機構を外にだす構成にする
と、騒音が除振機構定盤を加振し、それに伴い検出結果
にノイズが加わる要因となる。そのためにも、防音カバ
ーで定盤全体を覆う必要になる。防音カバーを大きくす
ることは装置構成を大きくすることにつながり、装置内
での空間が大きくなり、防音カバーが外部からの音圧を
受ける面積が大きくなり、防音特性を劣化させる要因に
なりかねない。
な位置に設置する際、試料の大型化および他の検査装置
や製造装置からの受け渡しの関係上、搬送機構が必要に
なる場合がある。特に半導体の分野において試料である
ウエ ハがウエ ハカセットと呼ばれるケースにて受け渡さ
れている場合が多い。また、試料サイズも大型化してい
る傾向である。半導体分野においては搬送機構として、
搬送ロボット、試料の面内方向を合わせるオリフラ合わ
せ機、そして、ウエ ハカセットを設置させるカセット台
を組み合わせて構成される。通常、搬送機構は常に再現
よく同位置に搬送対象を搬送目標に搬送するために、搬
送対象物や搬送目標等と同じベースに設けられる。それ
により除振機構定盤の面積が大きくなる傾向になる。除
振機構の定盤が大きくなるとそれに伴い、防音カバーを
大きくする必要になる。防音カバーは検出部(プローブ
顕微鏡部)のみを覆い、搬送機構を外にだす構成にする
と、騒音が除振機構定盤を加振し、それに伴い検出結果
にノイズが加わる要因となる。そのためにも、防音カバ
ーで定盤全体を覆う必要になる。防音カバーを大きくす
ることは装置構成を大きくすることにつながり、装置内
での空間が大きくなり、防音カバーが外部からの音圧を
受ける面積が大きくなり、防音特性を劣化させる要因に
なりかねない。
【0008】この発明は、装置の不必要な大型化を防ぎ
及び防音特性を劣化させることなく搬送機構を組み込む
手段を有する構成のプロ−ブ顕微鏡の提供を目的とする
ものである。
及び防音特性を劣化させることなく搬送機構を組み込む
手段を有する構成のプロ−ブ顕微鏡の提供を目的とする
ものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】この発明は、除振機構の
架台部に搬送機構を構成し、試料搬送時に除振機構を固
定し試料を搬送するという手段を有するものである。
架台部に搬送機構を構成し、試料搬送時に除振機構を固
定し試料を搬送するという手段を有するものである。
【0010】
【作用】この発明は、上記の手段を講じることにより基
本的に除振機構の定盤と架台は除振の観点からは分離さ
れているため、搬送機構を架台に構成し、架台回りを防
音カバーで覆う構造にすれば、搬送機構に関係無く防音
カバーを構成することができる。そして、搬送時に除振
機構定盤を常に一定位置に固定することで、搬送機構は
常に再現よく同位置に搬送対象を搬送目標に搬送するこ
とが可能である。
本的に除振機構の定盤と架台は除振の観点からは分離さ
れているため、搬送機構を架台に構成し、架台回りを防
音カバーで覆う構造にすれば、搬送機構に関係無く防音
カバーを構成することができる。そして、搬送時に除振
機構定盤を常に一定位置に固定することで、搬送機構は
常に再現よく同位置に搬送対象を搬送目標に搬送するこ
とが可能である。
【0011】
【実施例】以下、図面に基ずき実施例について説明して
いく。
いく。
【0012】図1は、防音カバー内に構成された本実施
例の装置の構成を示した図であり、定盤1上にプローブ
顕微鏡の検出部等の要素部品が構成してある。支持アー
ム2及び三次元動作用ステージとして図面上、左右方向
に動作つまりX軸方向用のX軸ステージ3、図面上、前
後方向に動作つまりY軸方向用のY軸ステージ4、図面
上、上下前後方向に動作つまりZ軸方向用のZ軸ステー
ジ5が前記定盤1上に固定されている。前記Zステージ
5上には試料ホルダ6を介して試料7が固定されてい
る。試料固定はウエ ハの場合真空吸着により行われる。
前記試料7の相対する位置には前記試料7の表面状態を
検出する検出部8があり、微動機構9に固定されてい
る。前記微動機構9は電圧を印可することにより変形す
る圧電素子により構成され、前記試料7表面に対し三次
元に検出部8を移動させるものである。本実施例にいて
は、前記検出部8は前記試料7表面から受ける原子間力
や磁気力と言った物理的力を受け変形する非常に小さい
バネ要素の変位を光学的に検出する構成のものが用いら
れている。いわゆる、レーザー光をばね要素に照射しそ
の反射光の位置ずれを光検出素子で検出して変位信号と
する、光てこ方式を小型に構成したものである。前記微
動機構9は前記支持アーム2に固定されている。
例の装置の構成を示した図であり、定盤1上にプローブ
顕微鏡の検出部等の要素部品が構成してある。支持アー
ム2及び三次元動作用ステージとして図面上、左右方向
に動作つまりX軸方向用のX軸ステージ3、図面上、前
後方向に動作つまりY軸方向用のY軸ステージ4、図面
上、上下前後方向に動作つまりZ軸方向用のZ軸ステー
ジ5が前記定盤1上に固定されている。前記Zステージ
5上には試料ホルダ6を介して試料7が固定されてい
る。試料固定はウエ ハの場合真空吸着により行われる。
前記試料7の相対する位置には前記試料7の表面状態を
検出する検出部8があり、微動機構9に固定されてい
る。前記微動機構9は電圧を印可することにより変形す
る圧電素子により構成され、前記試料7表面に対し三次
元に検出部8を移動させるものである。本実施例にいて
は、前記検出部8は前記試料7表面から受ける原子間力
や磁気力と言った物理的力を受け変形する非常に小さい
バネ要素の変位を光学的に検出する構成のものが用いら
れている。いわゆる、レーザー光をばね要素に照射しそ
の反射光の位置ずれを光検出素子で検出して変位信号と
する、光てこ方式を小型に構成したものである。前記微
動機構9は前記支持アーム2に固定されている。
【0013】また、前記微動機構9に対しY軸方向に数
個の対物レンズ10を有する光学顕微鏡11が構成され
ており、前記対物レンズ10は電動のレボルバに固定さ
れている。前記光学顕微鏡11の像はCCDカメラ12
を介してモニタ上に写し出される。前記光学顕微鏡11
で見た試料位置と前記検出部8間の位置ずれ量は事前に
同一の標準試料を用いて算出し、システムに登録するこ
とで、前記三次元ステージ3、4、5を用いて前記光学
顕微鏡11で見た位置と同じ位置で前記検出部8を用い
て検出ができる様になっている。そして、先に示した要
素部品1〜12の全てが除振機構13の定盤14上に構
成されている。前記除振機構定盤14の固定時の位置確
認用の変位検出機15が除振機構架台16に固定されて
いる。
個の対物レンズ10を有する光学顕微鏡11が構成され
ており、前記対物レンズ10は電動のレボルバに固定さ
れている。前記光学顕微鏡11の像はCCDカメラ12
を介してモニタ上に写し出される。前記光学顕微鏡11
で見た試料位置と前記検出部8間の位置ずれ量は事前に
同一の標準試料を用いて算出し、システムに登録するこ
とで、前記三次元ステージ3、4、5を用いて前記光学
顕微鏡11で見た位置と同じ位置で前記検出部8を用い
て検出ができる様になっている。そして、先に示した要
素部品1〜12の全てが除振機構13の定盤14上に構
成されている。前記除振機構定盤14の固定時の位置確
認用の変位検出機15が除振機構架台16に固定されて
いる。
【0014】図2は本実施例の構成を示した図であり、
防音カバーを横方向に切って上から装置をみた状態であ
る。除振機構定盤14上に前記プローブ顕微鏡等の要素
部品類30が構成されている。そして、除振機構13の
架台16上に、防音カバー17及び搬送機構が構成され
ている。本実施例ではカセット台18、搬送ロボット1
9及びオリフラ合わせ機20の構成にした。前記防音カ
バー17の一部には試料搬送用の開閉扉21が構成され
ており、空気圧シリンダを介して外部制御つまり、シス
テムとして開閉可能になっている。
防音カバーを横方向に切って上から装置をみた状態であ
る。除振機構定盤14上に前記プローブ顕微鏡等の要素
部品類30が構成されている。そして、除振機構13の
架台16上に、防音カバー17及び搬送機構が構成され
ている。本実施例ではカセット台18、搬送ロボット1
9及びオリフラ合わせ機20の構成にした。前記防音カ
バー17の一部には試料搬送用の開閉扉21が構成され
ており、空気圧シリンダを介して外部制御つまり、シス
テムとして開閉可能になっている。
【0015】本実施例では空気圧(空気バネ式)制御の
除振機構13の空気供給口手前に電磁弁を設け空気圧を
制御し、除振機構定盤14が所定の位置に配置されたこ
と除振機構13に組み込まれた変位検出機15で確認で
きる構成になっている。本実施例では変位検出機とし
て、機械式のリミットスイッチ及び静電型の変位計を用
いた。変位計としては、そのほか、磁気検出型、光学式
検出型のものがある。
除振機構13の空気供給口手前に電磁弁を設け空気圧を
制御し、除振機構定盤14が所定の位置に配置されたこ
と除振機構13に組み込まれた変位検出機15で確認で
きる構成になっている。本実施例では変位検出機とし
て、機械式のリミットスイッチ及び静電型の変位計を用
いた。変位計としては、そのほか、磁気検出型、光学式
検出型のものがある。
【0016】ここで、搬送における流れを示す。 1)除振機構定盤14に設けられたX、Y、Zステージ
を原点に移動させる。 2)除振機構13の空気供給口手前に設けた電磁弁の供
給側を締め、排気側を開き除振機構13の空気圧を下げ
る。 3)除振機構13に設けられた変位検出機15で除振機
構定盤14が所定の位置に配置されたことが確認された
時点で電磁弁の排気側をしめる。 4)搬送ロボット19がカセット台18に置かれた試料
7をとり、オリフラ合わせ機20に搬送する。試料7の
方向が合わせられた後、搬送ロボット19にて試料7を
受け取る。 5)防音カバー17側面に設けられた開閉扉21を開
け、X、Y、Zステージを移動させ、試料ホルダを試料
受け渡し位置まで移動させる。 6)搬送ロボット19にて試料7をステージ上の試料ホ
ルダ6の所定の位置に搬送する。試料7を試料ホルダ6
に真空吸着する。 7)搬送ロボット19を引っ込め、ステージを原点に移
動させ、開閉扉21を閉めた後、電磁弁の供給側を開き
除振機構定盤14を浮上させる。 以上は試料を装置内に搬送する時の流れを示したもので
あるが、装置内から試料を搬送する際にも基本的に同様
な流れで行われる。
を原点に移動させる。 2)除振機構13の空気供給口手前に設けた電磁弁の供
給側を締め、排気側を開き除振機構13の空気圧を下げ
る。 3)除振機構13に設けられた変位検出機15で除振機
構定盤14が所定の位置に配置されたことが確認された
時点で電磁弁の排気側をしめる。 4)搬送ロボット19がカセット台18に置かれた試料
7をとり、オリフラ合わせ機20に搬送する。試料7の
方向が合わせられた後、搬送ロボット19にて試料7を
受け取る。 5)防音カバー17側面に設けられた開閉扉21を開
け、X、Y、Zステージを移動させ、試料ホルダを試料
受け渡し位置まで移動させる。 6)搬送ロボット19にて試料7をステージ上の試料ホ
ルダ6の所定の位置に搬送する。試料7を試料ホルダ6
に真空吸着する。 7)搬送ロボット19を引っ込め、ステージを原点に移
動させ、開閉扉21を閉めた後、電磁弁の供給側を開き
除振機構定盤14を浮上させる。 以上は試料を装置内に搬送する時の流れを示したもので
あるが、装置内から試料を搬送する際にも基本的に同様
な流れで行われる。
【0017】
【発明の効果】以上に示した構成にすることで除振機構
の定盤上に搬送機構を配置する事が無く試料の搬送がで
き、防音カバーを搬送機構の大きさに関係なく形成でき
ることで防音特性の劣化を防げる。また、装置全体が大
きくなることをおさえる効果がある。
の定盤上に搬送機構を配置する事が無く試料の搬送がで
き、防音カバーを搬送機構の大きさに関係なく形成でき
ることで防音特性の劣化を防げる。また、装置全体が大
きくなることをおさえる効果がある。
【図1】この発明の実施例の防音カバー内に構成された
装置の構成を示した図である。
装置の構成を示した図である。
【図2】この発明の実施例の構成を示した図である。
1 定盤 2 支持アーム 3、4、5 X、Y、Zステージ 6 試料ホルダ 7 試料 8 検出部 9 微動機構 10 対物レンズ 11 光学顕微鏡 12 CCDカメラ 13 除振機構 14 除振機構定盤 15 変位検出機 16 除振機構架台 17 防音カバー 18 カセット台 19 搬送ロボット 20 オリフラ合わせ機 21 開閉扉
Claims (9)
- 【請求項1】 試料表面より受ける原子間力や磁気力等
を変位に変換するばね要素と、その変位をレーザー光を
ばね要素に照射しその反射光の位置ずれとして光検出素
子にて検出する変位検出手段と、試料とばね要素を3次
元的に相対運動させる粗動機構及び微動機構と、試料と
ばね要素間を一定の距離に保つ制御手段と、装置から振
動を除去する除振機構と、装置全体を制御する制御部及
びコンピュータと、試料搬送機構を有した構成からな
る、試料表面の形状及び状態を観察するプロ−ブ顕微鏡
において、前記除振機構が前記試料搬送時に固定される
機能を有しているプロ−ブ顕微鏡。 - 【請求項2】 前記ばね要素と前記変位検出手段を前記
微動素子側に配置した構成からなる、プロ−ブ顕微鏡に
おいて、前記除振機構が前記試料搬送時に固定される機
能を有している請求項1記載のプロ−ブ顕微鏡。 - 【請求項3】 試料搬送時に固定される機能を有した前
記除振機構において、前記除振機構の空気圧を制御し、
その固定状態を確認できる手段を有している請求項1記
載のプロ−ブ顕微鏡。 - 【請求項4】 試料搬送時に固定される機能を有した前
記除振機構において、前記除振機構の磁気力を制御し、
その固定状態を確認できる手段を有している請求項1記
載のプロ−ブ顕微鏡。 - 【請求項5】 試料搬送時に固定される機能を有した前
記除振機構の制御が前記除振機構の設けられた電圧によ
り変位する圧電素子体を介して制御し、その固定状態を
確認できる手段を有している請求項1記載のプロ−ブ顕
微鏡。 - 【請求項6】 前記除振機構の固定状態を確認できる手
段として機械式変位計を設けてなる請求項3から5のい
ずれかに記載のプロ−ブ顕微鏡。 - 【請求項7】 前記除振機構の固定状態を確認できる手
段として静電容量型の変位計を設けてなる請求項3から
5のいずれかに記載のプロ−ブ顕微鏡。 - 【請求項8】 前記除振機構の固定状態を確認できる手
段として磁気検出型の変位計を設けてなる請求項3から
5のいずれかに記載のプロ−ブ顕微鏡。 - 【請求項9】 前記除振機構の固定状態を確認できる手
段として光学式検出型の変位計を設けてなる請求項3か
ら5のいずれかに記載のプロ−ブ顕微鏡。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9412097A JPH10282118A (ja) | 1997-04-11 | 1997-04-11 | プローブ顕微鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9412097A JPH10282118A (ja) | 1997-04-11 | 1997-04-11 | プローブ顕微鏡 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10282118A true JPH10282118A (ja) | 1998-10-23 |
Family
ID=14101575
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9412097A Pending JPH10282118A (ja) | 1997-04-11 | 1997-04-11 | プローブ顕微鏡 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH10282118A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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1997
- 1997-04-11 JP JP9412097A patent/JPH10282118A/ja active Pending
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