JPH1027803A - バンプ形成方法 - Google Patents

バンプ形成方法

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JPH1027803A
JPH1027803A JP19708696A JP19708696A JPH1027803A JP H1027803 A JPH1027803 A JP H1027803A JP 19708696 A JP19708696 A JP 19708696A JP 19708696 A JP19708696 A JP 19708696A JP H1027803 A JPH1027803 A JP H1027803A
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JP
Japan
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metal particles
particles
pressure plate
bump
bumps
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Pending
Application number
JP19708696A
Other languages
English (en)
Inventor
Tsutomu Sakatsu
務 坂津
Kozo Komatsu
耕三 小松
Yoshihiro Yoshida
芳博 吉田
Toshiaki Iwabuchi
寿章 岩渕
Satoshi Kuwazaki
聡 桑崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
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Publication date
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Priority to JP19708696A priority Critical patent/JPH1027803A/ja
Publication of JPH1027803A publication Critical patent/JPH1027803A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector

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  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 金属粒子の配列工程の負荷を軽減し、かつ、
接続歩留まりの向上を図る。 【解決手段】 電子部品1の電極2上に金属粒子3を配
列させた後、電極2と金属粒子3を一括して合金化させ
てバンプを形成する。金属粒子3を加圧板4によって押
圧して超音波振動をかけると、そのエネルギーによって
金属粒子3の表面及び電極2上の酸化膜が破壊され、新
生面同士の接触により合金化がおこり、バンプが形成さ
れる。1個1個形成しなくてはならないワイヤーバンピ
ングと異なり、複数の粒子を同時に一括して接合出来
る、また、超音波のエネルギーを使うので、金属粒子及
び電極材表面の酸化膜が容易に破壊でき、新生面同士の
接触により合金化が得られやすい。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体部品等の製
造に際に、半導体チップの電極にバンプを形成する方法
に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体装置の製造に際し、半導体チップ
と外部リード部をバンプを介してボンディングすること
が行なわれている。このようなバンプは、半導体チップ
の電極、或いは、外部リード部に予め形成しておき、バ
ンプを有する半導体チップと外部電極とを重ね、或い
は、バンプを有する外部電極と半導体チップとを重ね、
一括接合によりボンディングするものである。
【0003】バンプの形成に関して、ワイヤーボンダー
(WB)を利用したワイヤーバンピング法や金属ボール
を熱圧着により接合する方法がある。ワイヤーバンピン
グ法はバンプを一個一個作るため、時間がかかる。ま
た、特開昭62−25435号公報、特開平7−283
224号公報には、ボール金属を用いて一括接合するこ
とが記載されているが、これらの方法は、熱圧着による
方法であり、電極側および粒子(ボール金属)側の酸化
膜を破壊することが難しく、接合の確実性にかける。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上述のように、特開昭
62−25435号公報や特開平7−283224号公
報には、金属ボールを用い、熱圧着により一括接合する
ことが開示されているが、金属ボールが、錫鉛ハンダボ
ールのように柔らかい材質では、熱圧着では接続し難
い。
【0005】本発明は、上述のごとき実情に鑑みてなさ
れたもので、特に、金属ボールを用いたバンプにおい
て、一括で且つ確実に接続させるため、超音波を使った
バンプ形成法を提供することを目的としてなされたもの
である。また、その際に、加圧板と金属粒子との間で滑
りがあると、超音波のエネルギー伝達にロスが大きく、
酸化膜破壊が不充分となり接続不良の原因となる。更
に、金属粒子を電極上に配列するのはマスクなどで行う
が、電極ピッチが細かくなったり、電極サイズが小さく
なったりすると、非常に困難になり、プロセスに負荷が
かかる。従って、本発明の他の目的は、金属粒子の配列
工程の負荷を軽減し、かつ、接続歩留まりの向上を図る
ことにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、電子
部品の電極上にパンプを形成する際に、金属粒子を前記
電極上の所定の場所に配置した後、加圧板により押圧す
るとともに超音波を加えて合金化し、バンプを形成する
ことを特徴とし、これにより、金属粒子を使ったバンプ
が形成でき、メッキなどの方法に比ベ、廃液等が生じな
いので、クリーンな環境で行え、また、WBを利用した
ワイヤーバンピング法に比べ、一括でバンプが形成でき
るようにしたものである。
【0007】請求項2の発明は、請求項1の発明におい
て、前記加圧板の表面を金属粒子を接続させる電極面よ
りも粗面化したことを特徴とし、これにより、超音波を
使って金属粒子をバンプ化する際に、効率良く電極材と
合金化が行えるようにしたものである。
【0008】請求項3の発明は、請求項2の発明におい
て、前記粗面化された加圧板の表面を均一な凹凸とした
ことを特徴とし、これにより、多数個の金属粒子を一括
で接続する際、粒子毎の接続状態に差が生じにくくし、
接続歩留まりを向上させることができるようにしたもの
である。
【0009】請求項4の発明は、請求項1の発明におい
て、前記加圧板の、バンプを形成する位置に対応する場
所に、前記金属粒子の粒径と同等以上の大きさのロート
状のくぼみを有することを特徴とし、これにより、ロー
ト状のくぼみにより金属粒子の初期配置ズレを補正して
バンプ形成が行えるようにし、粒子配列工程の負荷を軽
減出来、また、バンプ精度を向上出来るようにしたもの
である。
【0010】請求項5の発明は、請求項4の発明におい
て、前記加圧板をゆっくりと降下させながら金属粒子を
所定位置に押し出し、位置合わせを行なった後、バンプ
化させることを特徴とし、これにより、粒子の保持を確
実にできるようにしたものである。
【0011】請求項6の発明は、請求項5の発明におい
て、前記加圧板を降下させる途中から振動を加えて金属
粒子を移動し易くすることを特徴とし、これにより、加
圧板の降下時の粒子移動が容易に、かつ、確実に行え、
バンプ形成の歩留まりを向上させるようにしたものであ
る。
【0012】
【発明の実施の形態】図1は、本発明によるバンプ形成
方法の一実施例を説明するための構成図で、図中、1は
半導体チップ等の電子部品、2は電子部品1の電極、3
は金属粒子、4は加圧板で、図示のように、電子部品1
の電極2上に金属粒子3を配列させた後、電極と金属粒
子を合金化させ一括してバンプを形成する。金属粒子3
を所定位置に配置する方法としては、マスクを使った方
法などが前記公開公報においてすでに示されている。
【0013】金属粒子3を加圧板4によって押圧して超
音波振動をかけると、そのエネルギーによって金属粒子
3の表面及び電極2上の酸化膜が破壊され、新生面同士
の接触により合金化がおこりバンプが形成される。1個
1個形成しなくてはならないワイヤーバンピングと異な
り、複数の粒子を同時に一括して接合出来る、また、超
音波のエネルギーを使うので、金属粒子及び電極材表面
の酸化膜が容易に破壊でき、新生面同士の接触により合
金化が得られやすい。
【0014】しかも、図1に示した実施例によると、金
属粒子と加圧板との間で滑りが起こりやすく、超音波エ
ネルギーのロスが大きく、電極面との間で酸化膜破壊が
起こりにくくなる可能性がある。
【0015】図2は、上述のごとき、超音波エネルギー
のロスを小さくするようにした場合の実施例を示す要部
構成図で、加圧板4の金属粒子3と接触面4aを、電極
面よりも粗面化(表面粗さの粗い)したもので、このよ
うな粗面化した加圧板を使えば、金属粒子の保持力が高
くなり、合金化が容易になる。しかし、図2(A)に示
すように、不均一に粗面化したものは金属粒子毎に保持
力が異なる可能性があり、複数バンプの一括接続を考え
ると、条件の設定も難しく、接合状態に差がでて来る。
そこで、図2(B)に示すように、金属粒子一つ一つに
同じ保持力が働くように均一な凹凸をつけたもの、例え
ば、Si基板の異方性エッチングにより均一な溝加工し
たものを使用すると、各金属粒子の保持力がばらつか
ず、多点接続を行う際に、接合状態に差が出てこない。
【0016】図3は、加圧板4にロート状の凹部4bを
設けて金属粒子3のプリアライメント機能を持たせるよ
うにしたもので、図3(A)は、電極上に金属粒子3を
配置した後に加圧板4を降下させ、その際、振動を加え
ながら加圧板4を降下させて粒子の移動を容易としたも
のである。図3(B)は、上述のようにして凹部の中央
に移動した粒子が電極の中心位置で合金化される様子を
示し、このようにすると、バンプ位置の精度が向上す
る。このように、配列板(加圧板)4の、バンプを形成
する位置に対応して金属粒子の粒径と同等以上の大きさ
のロート状にくぼみ4bを設けると、加圧板4を降下さ
せてきた時に金属粒子がそのテーパ部に押されるように
して所定の位置に補正される効果が期待できる。そのプ
ロセス中に加圧板を振動させながら降下させると、振動
により粒子の移動が促進され、金属粒子の位置補正が容
易となる。
【0017】
【発明の効果】
請求項1の効果:電子部品の電極上にパンプを形成する
際に、金属粒子を前記電極上の所定の場所に配置した
後、加圧板により押圧するとともに、超音波を加えて合
金化し、バンプを形成するようにしたので、金属粒子を
使ったバンプが形成でき、メッキなどの方法に比べ、廃
液等が生じず、クリーンな環境で行える。また、WBを
利用したワイヤーバンピング法に比べ、一括してバンプ
が形成でき、微細ピッチに有利である(ワイヤーバンピ
ング法はボールボンディングのメカニズムから、1個づ
すの形成で、かつ、あまり微細化は出来ない)。
【0018】請求項2の効果:請求項1の発明におい
て、前記加圧板の表面を金属粒子を接続させる電極面よ
りも粗面化したので、超音波を使って金属粒子をバンプ
化する際に、効率良く電極材と合金化が行える。
【0019】請求項3の効果:請求項2の発明におい
て、前記粗面化された加圧板の表面を均一な凹凸とした
ので、多数個の金属粒子を一括して接続する際、粒子毎
の接続状態に差が生じにくく、接続歩留まりを向上させ
ることができる。
【0020】請求項4の効果:請求項1の発明におい
て、前記加圧板の、バンプを形成する位置に対応する場
所に、前記金属粒子の粒径と同等以上の大きさのロート
状のくぼみを設けたので、このロート状のくぼみにより
金属粒子の初期配置ズレを補正してバンプの形成を行う
ことができ、粒子配列工程の負荷を軽減出来、また、バ
ンプ精度を向上出来る。
【0021】請求項5の効果:請求項4の発明におい
て、前記加圧板をゆっくりと降下させながら、金属粒子
を所定位置に押し出し、位置合わせを行なった後、バン
プ化させるようにしたので、粒子の保持を確実にでき
る。
【0022】請求項6の効果:請求項5の発明におい
て、前記加圧板を降下させる途中から振動を加えて金属
粒子を移動し易くしたので、加圧板の降下時の粒子移動
が容易に、かつ、確実に行え、バンプ形成の歩留まりを
向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明によるバンプ形成方法の一実施例を説
明するための構成図である。
【図2】 本発明の実施に使用して好適な加圧板の例を
示す図である。
【図3】 本発明の実施に使用して好適な加圧板の他の
例を示す図である。
【符号の説明】 1…電子部品、2…電極、3…金属粒子、4…加圧板、
4a…粗面化面、4b…凹部。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岩渕 寿章 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株式 会社リコー内 (72)発明者 桑崎 聡 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株式 会社リコー内

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 電子部品の電極上にパンプを形成する際
    に、金属粒子を前記電極上の所定の場所に配置した後、
    加圧板により押圧するとともに超音波を加えて合金化
    し、バンプを形成することを特徴とするバンプ形成方
    法。
  2. 【請求項2】 前記加圧板の表面を、金属粒子を接続さ
    せる電極面よりも粗面としたことを特徴とする請求項1
    に記載のバンプ形成方法。
  3. 【請求項3】 前記粗面化された加圧板の表面を均一な
    凹凸としたことを特徴とする請求項2に記載のバンプ形
    成方法。
  4. 【請求項4】 前記加圧板の、バンプを形成する位置に
    対応する場所に、前記金属粒子の粒径と同等以上の大き
    さのロート状のくぼみを有することを特徴とする請求項
    1に記載のバンプ形成方法。
  5. 【請求項5】 前記加圧板をゆっくりと降下させながら
    金属粒子を所定位置に押し出し、位置合わせを行なった
    後、バンプを形成させることを特徴とする請求項4に記
    載のバンプ形成方法。
  6. 【請求項6】 前記加圧板を降下させる途中から振動を
    加えて金属粒子を移動し易くすることを特徴とする請求
    項5に記載のバンプ形成方法。
JP19708696A 1996-07-08 1996-07-08 バンプ形成方法 Pending JPH1027803A (ja)

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