JPH10269938A - ディスプレイパネル用の材料基板 - Google Patents
ディスプレイパネル用の材料基板Info
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- JPH10269938A JPH10269938A JP8764397A JP8764397A JPH10269938A JP H10269938 A JPH10269938 A JP H10269938A JP 8764397 A JP8764397 A JP 8764397A JP 8764397 A JP8764397 A JP 8764397A JP H10269938 A JPH10269938 A JP H10269938A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 従来問題としていたファインパターン化、大
画面化を可能としたディスプレイパネル用の材料基板を
提供する。 【解決手段】 本発明のディスプレイパネル用の材料基
板は、隔壁形成層と硬質表皮層とを有し、隔壁形成層は
シリコーンゴムを半硬化でシート状とした半硬化シリコ
ーンシートを出発材料とし、このものをマスター金型に
よりヒートプレスすることによって、微細ストライプ状
または微細格子状の微細パターン条を転写形成して成る
ことなどを特徴とする。そして、このような発明特定事
項を手段として前記課題の解決を図り、重ね刷りするこ
ともなく、一度に所望高さの微細隔壁を得ることができ
る。
画面化を可能としたディスプレイパネル用の材料基板を
提供する。 【解決手段】 本発明のディスプレイパネル用の材料基
板は、隔壁形成層と硬質表皮層とを有し、隔壁形成層は
シリコーンゴムを半硬化でシート状とした半硬化シリコ
ーンシートを出発材料とし、このものをマスター金型に
よりヒートプレスすることによって、微細ストライプ状
または微細格子状の微細パターン条を転写形成して成る
ことなどを特徴とする。そして、このような発明特定事
項を手段として前記課題の解決を図り、重ね刷りするこ
ともなく、一度に所望高さの微細隔壁を得ることができ
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネルにおける基板やその他のディスプレイパネル
で必要とされる微細隔壁を形成した材料基板に関するも
のである。
レイパネルにおける基板やその他のディスプレイパネル
で必要とされる微細隔壁を形成した材料基板に関するも
のである。
【０００２】
【発明の背景】例えば、プラズマディスプレイパネル
は、簡単には第５図に示すように、前面パネルＡと背面
パネルＢとを、両パネルにそれぞれ形成したストライプ
状電極Ａ１、Ｂ１が互いに直角に対向するよう重ね合わ
せ、その交点におけるストライプ状または格子状の隔壁
Ｃ内で放電を起こすことにより発光する。ストライプ状
または格子状の隔壁Ｃは、光のクロストークを防ぐとと
もに画面のコントラストを作るために設けられている。
この隔壁は非常に微細なものであり、例えば、ストライ
プ状のものにあっては、今や、幅約３０μｍ、高さ約２
００μｍ程度で、１００μｍ程度の間隔でパネル全面に
わたって形成されることが要求されている。
は、簡単には第５図に示すように、前面パネルＡと背面
パネルＢとを、両パネルにそれぞれ形成したストライプ
状電極Ａ１、Ｂ１が互いに直角に対向するよう重ね合わ
せ、その交点におけるストライプ状または格子状の隔壁
Ｃ内で放電を起こすことにより発光する。ストライプ状
または格子状の隔壁Ｃは、光のクロストークを防ぐとと
もに画面のコントラストを作るために設けられている。
この隔壁は非常に微細なものであり、例えば、ストライ
プ状のものにあっては、今や、幅約３０μｍ、高さ約２
００μｍ程度で、１００μｍ程度の間隔でパネル全面に
わたって形成されることが要求されている。
【０００３】この隔壁は、一般にスクリーン印刷によっ
て形成するのであるが、ガラスペーストの印刷、乾燥
を、毎回位置合わせして１０回程度繰り返す、所謂重ね
刷りをして得ている。この他の方法として、ガラスペー
ストをガラス基板の全面に塗布、フォトレジストで被
覆、露光、現像の後、レジストパターンに被覆されない
部分をサンドブラストし、その後に焼成して得る方法等
が試みられている。
て形成するのであるが、ガラスペーストの印刷、乾燥
を、毎回位置合わせして１０回程度繰り返す、所謂重ね
刷りをして得ている。この他の方法として、ガラスペー
ストをガラス基板の全面に塗布、フォトレジストで被
覆、露光、現像の後、レジストパターンに被覆されない
部分をサンドブラストし、その後に焼成して得る方法等
が試みられている。
【０００４】しかしながら、前者のスクリーン印刷によ
る隔壁形成の方法では、毎回の位置合わせとスクリーン
の歪みとが、ファインパターン化、大画面化に際しての
大きな障害となっている。また、後者のサンドブラスト
による方法では、ブラスト深さに不均一を生じ易いこと
が、ファインパターン化、大画面化に際しての大きな障
害となっている。そして、両者ともコスト的に優れるも
のでもなかった。
る隔壁形成の方法では、毎回の位置合わせとスクリーン
の歪みとが、ファインパターン化、大画面化に際しての
大きな障害となっている。また、後者のサンドブラスト
による方法では、ブラスト深さに不均一を生じ易いこと
が、ファインパターン化、大画面化に際しての大きな障
害となっている。そして、両者ともコスト的に優れるも
のでもなかった。
【０００５】
【解決を試みた技術的事項】そこで、本出願人は、ディ
スプレイパネル用基板における微細隔壁を型押しによる
層として得てしまおうとの考えから、種々試行した結
果、本発明をするに至ったものであり、従来問題とされ
ていたファインパターン化、大画面化を可能とし、コス
ト的にも優位なディスプレイパネル用の材料基板を提供
しようとするものである。
スプレイパネル用基板における微細隔壁を型押しによる
層として得てしまおうとの考えから、種々試行した結
果、本発明をするに至ったものであり、従来問題とされ
ていたファインパターン化、大画面化を可能とし、コス
ト的にも優位なディスプレイパネル用の材料基板を提供
しようとするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】すなわち、請求項１記載
のディスプレイパネル用の材料基板は、隔壁形成層と硬
質表皮層とを有するディスプレイパネル用の材料基板で
あって、隔壁形成層はシリコーンゴムを半硬化でシート
状とした半硬化シリコーンシートを出発材料とし、この
ものをマスター金型によりヒートプレスすることによっ
て、微細ストライプ状または微細格子状の微細パターン
条を転写形成して成ることを特徴とするものである。そ
して、このような発明特定事項を手段とすることによっ
て、微細隔壁は、隔壁形成層の一部としての微細パター
ン条として存在するようになり、また、半硬化シリコー
ンシートを出発材料とし、このものをマスター金型によ
りヒートプレスすることによって得るので、幾つでも簡
単に複製的に得られるようになり、量産性を確保した上
で、前記課題の解決が図られるのである。
のディスプレイパネル用の材料基板は、隔壁形成層と硬
質表皮層とを有するディスプレイパネル用の材料基板で
あって、隔壁形成層はシリコーンゴムを半硬化でシート
状とした半硬化シリコーンシートを出発材料とし、この
ものをマスター金型によりヒートプレスすることによっ
て、微細ストライプ状または微細格子状の微細パターン
条を転写形成して成ることを特徴とするものである。そ
して、このような発明特定事項を手段とすることによっ
て、微細隔壁は、隔壁形成層の一部としての微細パター
ン条として存在するようになり、また、半硬化シリコー
ンシートを出発材料とし、このものをマスター金型によ
りヒートプレスすることによって得るので、幾つでも簡
単に複製的に得られるようになり、量産性を確保した上
で、前記課題の解決が図られるのである。
【０００７】また、請求項２記載のディスプレイパネル
用の材料基板は、前記要件に加え、前記シリコーンゴム
は、湿式法による疎水性シリカを含有するシリコーンゴ
ムであることを特徴とするものである。そして、このよ
うな発明特定事項を手段とすることによって、ガラスペ
ーストでなくとも耐久性のある微細隔壁とすることがで
きて、量産性を確保した上で、前記課題の解決が図られ
るのである。
用の材料基板は、前記要件に加え、前記シリコーンゴム
は、湿式法による疎水性シリカを含有するシリコーンゴ
ムであることを特徴とするものである。そして、このよ
うな発明特定事項を手段とすることによって、ガラスペ
ーストでなくとも耐久性のある微細隔壁とすることがで
きて、量産性を確保した上で、前記課題の解決が図られ
るのである。
【０００８】また、請求項３記載のディスプレイパネル
用の材料基板は、前記要件に加え、前記硬質表皮層は、
微細ストライプ状または微細格子状の微細パターン条が
転写形成された硬化シリコーンシートにガラス板が積層
されて成ることを特徴とするものである。そして、この
ような発明特定事項を手段とすることによって、従来と
全く同等の、擦過傷等を心配することのない表面が得ら
れ、量産性を確保した上で、前記課題の解決が図られる
のである。
用の材料基板は、前記要件に加え、前記硬質表皮層は、
微細ストライプ状または微細格子状の微細パターン条が
転写形成された硬化シリコーンシートにガラス板が積層
されて成ることを特徴とするものである。そして、この
ような発明特定事項を手段とすることによって、従来と
全く同等の、擦過傷等を心配することのない表面が得ら
れ、量産性を確保した上で、前記課題の解決が図られる
のである。
【０００９】また、請求項４記載のディスプレイパネル
用の材料基板は、前記要件に加え、前記硬質表皮層は、
微細ストライプ状または微細格子状の微細パターン条が
転写形成された硬化シリコーンシートにガラス質コーテ
ィングを施して成ることを特徴とするものである。そし
て、このような発明特定事項を手段とすることによっ
て、擦過傷等の心配がなく軽量化した上で、前記課題の
解決が図られるのである。
用の材料基板は、前記要件に加え、前記硬質表皮層は、
微細ストライプ状または微細格子状の微細パターン条が
転写形成された硬化シリコーンシートにガラス質コーテ
ィングを施して成ることを特徴とするものである。そし
て、このような発明特定事項を手段とすることによっ
て、擦過傷等の心配がなく軽量化した上で、前記課題の
解決が図られるのである。
【００１０】また、請求項５記載のディスプレイパネル
用の材料基板は、前記要件に加え、前記隔壁形成層に対
して、ガラス質コーティングを施して成ることを特徴と
するものである。そして、このような発明特定事項を手
段とすることによって、従来のガラスペーストと同等の
耐久性等ある隔壁とすることができて、前記課題の解決
が図られるのである。
用の材料基板は、前記要件に加え、前記隔壁形成層に対
して、ガラス質コーティングを施して成ることを特徴と
するものである。そして、このような発明特定事項を手
段とすることによって、従来のガラスペーストと同等の
耐久性等ある隔壁とすることができて、前記課題の解決
が図られるのである。
【００１１】更にまた、請求項６に記載のディスプレイ
パネル用の材料基板は、前記要件に加え、前記ガラス質
コーティンの材料として、メチル基もしくはフェニル基
を有するオルガノポリシロキサンを主剤とし、アルコキ
シ基、アシロキシ基、オキシム基等の官能性側鎖を有す
るオルガノシロキサンを架橋剤とし、これに硬化触媒を
加えたものを使用することを特徴とするものである。そ
して、このような発明特定事項を手段とすることによっ
て、良好な作業性と比較的低温でガラス化した表面が得
られ、前記課題の解決が図られるのである。
パネル用の材料基板は、前記要件に加え、前記ガラス質
コーティンの材料として、メチル基もしくはフェニル基
を有するオルガノポリシロキサンを主剤とし、アルコキ
シ基、アシロキシ基、オキシム基等の官能性側鎖を有す
るオルガノシロキサンを架橋剤とし、これに硬化触媒を
加えたものを使用することを特徴とするものである。そ
して、このような発明特定事項を手段とすることによっ
て、良好な作業性と比較的低温でガラス化した表面が得
られ、前記課題の解決が図られるのである。
【００１２】更にまた、請求項７に記載のディスプレイ
パネル用の材料基板は、同様に、前記ガラス質コーティ
ンの材料として、ペルヒドロポリシラザンを使用するこ
とを特徴とするものである。そして、このような発明特
定事項を手段とすることによっても、同様に良好な作業
性と比較的低温でガラス化した表面が得られ、前記課題
の解決が図られるのである。
パネル用の材料基板は、同様に、前記ガラス質コーティ
ンの材料として、ペルヒドロポリシラザンを使用するこ
とを特徴とするものである。そして、このような発明特
定事項を手段とすることによっても、同様に良好な作業
性と比較的低温でガラス化した表面が得られ、前記課題
の解決が図られるのである。
【００１３】更にまた、請求項８に記載のディスプレイ
パネル用の材料基板は、前記要件に加え、プラズマディ
スプレイパネル用の材料基板であることを特徴とするも
のである。そして、このような発明特定事項を手段とす
ることによって、プラズマディスプレイパネルにおける
微細隔壁を、重ね刷りすることなく一度で所望高さにし
たものとして得ることができて、前記課題の解決が図ら
れるのである。
パネル用の材料基板は、前記要件に加え、プラズマディ
スプレイパネル用の材料基板であることを特徴とするも
のである。そして、このような発明特定事項を手段とす
ることによって、プラズマディスプレイパネルにおける
微細隔壁を、重ね刷りすることなく一度で所望高さにし
たものとして得ることができて、前記課題の解決が図ら
れるのである。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、本発明ディスプレイパネル
用の材料基板を、図示の実施の形態を例にとり、その製
造方法の一例と合わせて説明する。図１に示すディスプ
レイパネル用の材料基板１０おいて、２が微細ストライ
プ状の隔壁を形成した隔壁形成層であり、３は硬質表皮
層であり、この例ではガラス板３０を隔壁形成層２に密
着積層して硬質表皮層としている。この隔壁形成層２
は、シリコーンゴムを半硬化でシート状とした半硬化シ
リコーンシートを出発材料とし、このものをマスター金
型によりヒートプレスすることによって、微細ストライ
プ状の微細パターン条２１を転写形成して成り、微細パ
ターン条２１が隔壁として機能する。すなわち、この例
では、幅６０μｍ、高さ２００μｍ、間隔１６０μｍに
て微細ストライプ状の隔壁が隔壁形成層２上に形成され
ていることとなる。
用の材料基板を、図示の実施の形態を例にとり、その製
造方法の一例と合わせて説明する。図１に示すディスプ
レイパネル用の材料基板１０おいて、２が微細ストライ
プ状の隔壁を形成した隔壁形成層であり、３は硬質表皮
層であり、この例ではガラス板３０を隔壁形成層２に密
着積層して硬質表皮層としている。この隔壁形成層２
は、シリコーンゴムを半硬化でシート状とした半硬化シ
リコーンシートを出発材料とし、このものをマスター金
型によりヒートプレスすることによって、微細ストライ
プ状の微細パターン条２１を転写形成して成り、微細パ
ターン条２１が隔壁として機能する。すなわち、この例
では、幅６０μｍ、高さ２００μｍ、間隔１６０μｍに
て微細ストライプ状の隔壁が隔壁形成層２上に形成され
ていることとなる。
【００１５】ここで、隔壁形成層２の出発材料は、シリ
コーンゴムを半硬化でシート状とした半硬化シリコーン
シート２０であり、この半硬化シリコーンシート２０の
段階では可塑状態であるが、その後の加熱により完全硬
化してゴム状弾性体となる。また、この半硬化シリコー
ンシート２０は、これに何らかの微細凹凸面を押し当て
て加熱硬化させると、その微細凹凸を精密、精緻に反転
複製できるものであり、そのような性質を利用して、マ
スター金型に予め形成した微細パターンを微細パターン
条２１として転写形成させるのである。このような半硬
化シリコーンシート２０の好適なものに、東レ・ダウコ
ーニング・シリコーン株式会社販売のＳＯＴＥＦＡ（ソ
テファ−商品名−）がある。このものは、０．６〜２ｍ
ｍ程度の半硬化シート状であるとともに、接着性があっ
て、フィルム状高透明シリコーンゴム接着剤として販売
されており、ＳＯＴＥＦＡ−７０なるものは、１３０
℃、２０〜３０分で、ＪＩＳ Ａ硬度で７０程度に硬化
するものとされている。また、このものは、特公昭６１
−５６２５５号や特公昭６２−２４０１３号に開示され
るごとく、湿式法による疎水性シリカを含有して、高透
明で、物性強化されたシリコーンゴムとなっている。
コーンゴムを半硬化でシート状とした半硬化シリコーン
シート２０であり、この半硬化シリコーンシート２０の
段階では可塑状態であるが、その後の加熱により完全硬
化してゴム状弾性体となる。また、この半硬化シリコー
ンシート２０は、これに何らかの微細凹凸面を押し当て
て加熱硬化させると、その微細凹凸を精密、精緻に反転
複製できるものであり、そのような性質を利用して、マ
スター金型に予め形成した微細パターンを微細パターン
条２１として転写形成させるのである。このような半硬
化シリコーンシート２０の好適なものに、東レ・ダウコ
ーニング・シリコーン株式会社販売のＳＯＴＥＦＡ（ソ
テファ−商品名−）がある。このものは、０．６〜２ｍ
ｍ程度の半硬化シート状であるとともに、接着性があっ
て、フィルム状高透明シリコーンゴム接着剤として販売
されており、ＳＯＴＥＦＡ−７０なるものは、１３０
℃、２０〜３０分で、ＪＩＳ Ａ硬度で７０程度に硬化
するものとされている。また、このものは、特公昭６１
−５６２５５号や特公昭６２−２４０１３号に開示され
るごとく、湿式法による疎水性シリカを含有して、高透
明で、物性強化されたシリコーンゴムとなっている。
【００１６】また、硬質表皮層３たるガラス板３０は、
通常ディスプレイパネル用に用いられるガラス板と多少
薄めものでも使用できる以外に格別異なるものではな
く、半硬化シリコーンシート２０に密着積層してその剛
性等を付与するととも、表面への傷付き等を防止する。
なお、このディスプレイパネル用の材料基板１０上に
は、この後、図示しないアドレス用電極や蛍光体を塗布
する等、常法の構成を施してディスプレイパネル用基板
ないしディスプレイパネルとする。
通常ディスプレイパネル用に用いられるガラス板と多少
薄めものでも使用できる以外に格別異なるものではな
く、半硬化シリコーンシート２０に密着積層してその剛
性等を付与するととも、表面への傷付き等を防止する。
なお、このディスプレイパネル用の材料基板１０上に
は、この後、図示しないアドレス用電極や蛍光体を塗布
する等、常法の構成を施してディスプレイパネル用基板
ないしディスプレイパネルとする。
【００１７】図２は、このディスプレイパネル用の材料
基板１０を製造する方法の一例を示すもので、６がマス
ター金型であり、このマスター金型６には隔壁たる微細
パターン条２１の凹凸反転像としての微細パターン６１
が刻設されて成る。なお、このマスター金型６には、耐
錆性、加工性、仕上がり性、寸法精度等に優れる金属が
使用され、精密な切削加工や放電加工等により加工され
る。この微細パターン６１は、例えば、深さ２００μ
ｍ、幅６０μｍ、間隔１６０μｍの微細ストライプ状の
溝に形成される。なお、格子状の微細隔壁を必要とする
場合には、微細ストライプ状に代えて、これを直交させ
た交点のような微細ドット状の微細パターンを形成した
マスター金型を用意することとなる。また、このマスタ
ー金型６の表面には、その離型性を良くするために、サ
ブミクロンのフッ素系樹脂の粒子を分散したメッキ層、
例えば、株式会社ヒキフネや大阪ガスケミカル株式会社
による無電解ニッケル−ＰＴＦＥ分散メッキを施すのが
望ましい。なお、ガラス板３０には、半硬化シリコーン
シート２０との接合を強化するため、プライマー処理等
をしてもよい。
基板１０を製造する方法の一例を示すもので、６がマス
ター金型であり、このマスター金型６には隔壁たる微細
パターン条２１の凹凸反転像としての微細パターン６１
が刻設されて成る。なお、このマスター金型６には、耐
錆性、加工性、仕上がり性、寸法精度等に優れる金属が
使用され、精密な切削加工や放電加工等により加工され
る。この微細パターン６１は、例えば、深さ２００μ
ｍ、幅６０μｍ、間隔１６０μｍの微細ストライプ状の
溝に形成される。なお、格子状の微細隔壁を必要とする
場合には、微細ストライプ状に代えて、これを直交させ
た交点のような微細ドット状の微細パターンを形成した
マスター金型を用意することとなる。また、このマスタ
ー金型６の表面には、その離型性を良くするために、サ
ブミクロンのフッ素系樹脂の粒子を分散したメッキ層、
例えば、株式会社ヒキフネや大阪ガスケミカル株式会社
による無電解ニッケル−ＰＴＦＥ分散メッキを施すのが
望ましい。なお、ガラス板３０には、半硬化シリコーン
シート２０との接合を強化するため、プライマー処理等
をしてもよい。
【００１８】そこで、これらをヒートプレス機Ｐの固定
盤Ｐ１と可動盤Ｐ２との間に、下からマスター金型６、
半硬化シリコーンシート２０、ガラス板３０の順で配し
た後、可動盤Ｐ２を降下させ、例えば、圧力５０ｇｆ／
ｃｍ2、温度１３０℃下に、２５分間程放置して半硬化
シリコーンシート２０を完全硬化させる。なお、図示し
ないが、これらを均一に押圧できるように、熱伝導性の
良いクッション材を、固定盤Ｐ１や可動盤Ｐ２の間に挟
むようにしてもよい。また、これらマスター金型６、半
硬化シリコーンシート２０、ガラス板３０の間の空気を
完全に排除できないと、気泡痕を形成してしまうので、
これらを重ね合わせるに際して、一端から他端に向けて
徐々に空気を排除しながら重ね合わせるようにしたり、
その後に乾燥除去できる水のような影響の無い液体等を
介在させて、空気を排除するのがよい。その後、可動盤
Ｐ２を上昇させて接合状態となったそれらを取り出し、
マスター金型６と半硬化シリコーンシート２０とが密着
した間を剥がす。この際、両者は強く密着しているの
で、ガラス板３０を割らないように剥がす必要があり、
これには減圧下ないし真空下で行うようにすると剥がし
易くなる。
盤Ｐ１と可動盤Ｐ２との間に、下からマスター金型６、
半硬化シリコーンシート２０、ガラス板３０の順で配し
た後、可動盤Ｐ２を降下させ、例えば、圧力５０ｇｆ／
ｃｍ2、温度１３０℃下に、２５分間程放置して半硬化
シリコーンシート２０を完全硬化させる。なお、図示し
ないが、これらを均一に押圧できるように、熱伝導性の
良いクッション材を、固定盤Ｐ１や可動盤Ｐ２の間に挟
むようにしてもよい。また、これらマスター金型６、半
硬化シリコーンシート２０、ガラス板３０の間の空気を
完全に排除できないと、気泡痕を形成してしまうので、
これらを重ね合わせるに際して、一端から他端に向けて
徐々に空気を排除しながら重ね合わせるようにしたり、
その後に乾燥除去できる水のような影響の無い液体等を
介在させて、空気を排除するのがよい。その後、可動盤
Ｐ２を上昇させて接合状態となったそれらを取り出し、
マスター金型６と半硬化シリコーンシート２０とが密着
した間を剥がす。この際、両者は強く密着しているの
で、ガラス板３０を割らないように剥がす必要があり、
これには減圧下ないし真空下で行うようにすると剥がし
易くなる。
【００１９】半硬化シリコーンシート２０が完全硬化し
た硬化シリコーンシートには、マスター金型６の微細パ
ターンがその反転像として転写され、微細ストライプ状
の微細パターン条２１が形成され、その条の部分におい
て隔壁２１として機能する隔壁形成層２が得られること
となる。また同時に、硬化シリコーンシートたる隔壁形
成層２はガラス板３０とも接着された状態となってお
り、図１に示すとおり、微細ストライプ状の微細パター
ン条２１が形成された隔壁形成層２とガラス板３０によ
る硬質表皮層３とが密着積層した一体のディスプレイパ
ネル用の材料基板１０が得られることとなる。
た硬化シリコーンシートには、マスター金型６の微細パ
ターンがその反転像として転写され、微細ストライプ状
の微細パターン条２１が形成され、その条の部分におい
て隔壁２１として機能する隔壁形成層２が得られること
となる。また同時に、硬化シリコーンシートたる隔壁形
成層２はガラス板３０とも接着された状態となってお
り、図１に示すとおり、微細ストライプ状の微細パター
ン条２１が形成された隔壁形成層２とガラス板３０によ
る硬質表皮層３とが密着積層した一体のディスプレイパ
ネル用の材料基板１０が得られることとなる。
【００２０】この後、このディスプレイパネル用の材料
基板１０には、アドレス用電極や蛍光体を塗布する等、
常法の構成を施すのであるが、例えば、アドレス用電極
の形成は、微細パターン条２１の部分をマスキングして
その谷の部位に金属蒸着やＣＶＤ、凸版印刷、更には、
微細パターン条より高い突条を形成した硬化シリコーン
シートをゴム版として用意し、これで導電性インクをス
タンピングするようにして行うなどできる。脱型したマ
スター金型６は、不意の傷付け等を生じなければ、何度
も反復使用が可能となるため、このマスター金型６の仕
上がりにおいて最良としておけば、常に高品質のディス
プレイパネル用の材料基板が得られることとなる。すな
わち、マスター金型の精度、大きさ次第で、ファインパ
ターン、大画面のディスプレイパネル用の材料基板が、
幾つでも簡単に複製的に得られるようになる。
基板１０には、アドレス用電極や蛍光体を塗布する等、
常法の構成を施すのであるが、例えば、アドレス用電極
の形成は、微細パターン条２１の部分をマスキングして
その谷の部位に金属蒸着やＣＶＤ、凸版印刷、更には、
微細パターン条より高い突条を形成した硬化シリコーン
シートをゴム版として用意し、これで導電性インクをス
タンピングするようにして行うなどできる。脱型したマ
スター金型６は、不意の傷付け等を生じなければ、何度
も反復使用が可能となるため、このマスター金型６の仕
上がりにおいて最良としておけば、常に高品質のディス
プレイパネル用の材料基板が得られることとなる。すな
わち、マスター金型の精度、大きさ次第で、ファインパ
ターン、大画面のディスプレイパネル用の材料基板が、
幾つでも簡単に複製的に得られるようになる。
【００２１】なお、隔壁形成層２であるところの半硬化
シリコーンシート２０が硬化した硬化シリコーンシート
において十分な剛性が確保されれば、図３に示すディス
プレイパネル用の材料基板１２とすることができる。す
なわち、ディスプレイパネル用の材料基板１２は、隔壁
形成層２にガラス板３０を積層しておらず、隔壁形成層
２に直接に硬質表皮層３としてのガラス質コーティング
層３１を施したものである。
シリコーンシート２０が硬化した硬化シリコーンシート
において十分な剛性が確保されれば、図３に示すディス
プレイパネル用の材料基板１２とすることができる。す
なわち、ディスプレイパネル用の材料基板１２は、隔壁
形成層２にガラス板３０を積層しておらず、隔壁形成層
２に直接に硬質表皮層３としてのガラス質コーティング
層３１を施したものである。
【００２２】ここで、このガラス質コーティング層３１
として好適なものにホーマーテクノロジー株式会社販売
のヒートレスガラス（ＨＥＡＴＬＥＳＳ ＧＬＡＳＳ−
商品名−）がある。ヒートレスガラスは、言わば一液タ
イプのシリカ溶液で、低温加熱や常温乾燥でも各種基材
に硬質で密着性に優れた非晶質なセラミックス層を形成
するものである。そして、このものは、主剤、架橋剤、
硬化触媒の三者で構成されており、含有珪素成分（Ｓｉ
Ｏ2）が換算で４０％以上含有し、また、溶剤、水もし
くは水酸基を含有しないものである。なお、主剤はメチ
ル基もしくはフェニル基を有するオルガノポリシロキサ
ンであり、架橋剤はアルコキシ基、アシロキシ基、オキ
シム基等の官能性側鎖を有するオルガノシロキサンであ
り、硬化触媒はＺｎ、Ａｌ、Ｃｏ、Ｓｎ等の含金属有機
化合物およびハロゲンである。また、その硬化機構は、
主剤オルガノポリシロキサンの官能基が、まず空気中の
水分により加水分解を受けて水酸基に変化し、次に該オ
ルガノポリシロキサンの水酸基を架橋剤オルガノシロキ
サンの官能基がアタックし、硬化触媒の作用も受けて脱
アルコール反応を起こし、三次元構造の高分子化合物た
るポリシロキサン硬化体を形成すると考えられている。
所謂ゾル−ゲル法による金属アルコキシド縮合物とな
る。
として好適なものにホーマーテクノロジー株式会社販売
のヒートレスガラス（ＨＥＡＴＬＥＳＳ ＧＬＡＳＳ−
商品名−）がある。ヒートレスガラスは、言わば一液タ
イプのシリカ溶液で、低温加熱や常温乾燥でも各種基材
に硬質で密着性に優れた非晶質なセラミックス層を形成
するものである。そして、このものは、主剤、架橋剤、
硬化触媒の三者で構成されており、含有珪素成分（Ｓｉ
Ｏ2）が換算で４０％以上含有し、また、溶剤、水もし
くは水酸基を含有しないものである。なお、主剤はメチ
ル基もしくはフェニル基を有するオルガノポリシロキサ
ンであり、架橋剤はアルコキシ基、アシロキシ基、オキ
シム基等の官能性側鎖を有するオルガノシロキサンであ
り、硬化触媒はＺｎ、Ａｌ、Ｃｏ、Ｓｎ等の含金属有機
化合物およびハロゲンである。また、その硬化機構は、
主剤オルガノポリシロキサンの官能基が、まず空気中の
水分により加水分解を受けて水酸基に変化し、次に該オ
ルガノポリシロキサンの水酸基を架橋剤オルガノシロキ
サンの官能基がアタックし、硬化触媒の作用も受けて脱
アルコール反応を起こし、三次元構造の高分子化合物た
るポリシロキサン硬化体を形成すると考えられている。
所謂ゾル−ゲル法による金属アルコキシド縮合物とな
る。
【００２３】このヒートレスガラスを用いてガラス質コ
ーティング層３１を形成するにあたっては、常法のスピ
ンコート等の均一塗布手段をとることができる。ガラス
質コーティング層３１をもって硬質表皮層３とした場合
には、その層を薄くすることができて、ディスプレイパ
ネル用の材料基板１２の軽量化に寄与できる。また、隔
壁形成層２の形成にあたっては、図２におけるガラス板
３０に代えて平滑で剛性があって離型性に優れる板状金
型を用いてヒートプレスを行い、マスター金型６と半硬
化シリコーンシート２０とが硬化して密着した間を剥が
した後に、この板状金型との間を剥がして隔壁形成層２
を得る。
ーティング層３１を形成するにあたっては、常法のスピ
ンコート等の均一塗布手段をとることができる。ガラス
質コーティング層３１をもって硬質表皮層３とした場合
には、その層を薄くすることができて、ディスプレイパ
ネル用の材料基板１２の軽量化に寄与できる。また、隔
壁形成層２の形成にあたっては、図２におけるガラス板
３０に代えて平滑で剛性があって離型性に優れる板状金
型を用いてヒートプレスを行い、マスター金型６と半硬
化シリコーンシート２０とが硬化して密着した間を剥が
した後に、この板状金型との間を剥がして隔壁形成層２
を得る。
【００２４】なお、以上の説明では、ガラス質コーティ
ング層を形成する材料材としてヒートレスガラスを使用
するものとして説明したが、例えば、ペルヒドロポリシ
ラザン等の無機ポリマーも使用することもできる。ペル
ヒドロポリシラザンは、構造式が［ＳｉＨaＮＨb］
n（但し、aは１〜３、bは０または１）で表される熱硬
化性の無機シラザン（セラミックス前駆体ポリマー）で
あり、所定の雰囲気と温度で焼成してセラミックスの硬
質層となる。なお、このようなペルヒドロポリシラザン
としては東燃株式会社販売の東燃ポリシラザン（商標
名）がある。勿論、これらに限られるものでなく、その
他のセラミック前駆体ポリマー等も使用することができ
る。
ング層を形成する材料材としてヒートレスガラスを使用
するものとして説明したが、例えば、ペルヒドロポリシ
ラザン等の無機ポリマーも使用することもできる。ペル
ヒドロポリシラザンは、構造式が［ＳｉＨaＮＨb］
n（但し、aは１〜３、bは０または１）で表される熱硬
化性の無機シラザン（セラミックス前駆体ポリマー）で
あり、所定の雰囲気と温度で焼成してセラミックスの硬
質層となる。なお、このようなペルヒドロポリシラザン
としては東燃株式会社販売の東燃ポリシラザン（商標
名）がある。勿論、これらに限られるものでなく、その
他のセラミック前駆体ポリマー等も使用することができ
る。
【００２５】図４は、隔壁形成層２における微細パター
ン条２１の面に対して、上記ヒートレスガラスによるガ
ラス質コーティング層３２を形成したディスプレイパネ
ル用の材料基板１３を示す。すなわち、微細パターン条
２１が形成された隔壁形成層２には、この後、アドレス
用電極を形成したり、蛍光体を塗布したりするが、隔壁
形成層２はその材質が半硬化シリコーンシートを出発材
料とするものであるため、それら後の工程において硬化
シリコーンシートの低分子分が揮発等して、工程内容に
よっては支障を生ずる可能性がないわけではない。この
ディスプレイパネル用の材料基板１３は、そのような場
合に備えた構成のものであって、隔壁形成層２における
微細パターン条２１の凹凸に従い、その全面にガラス質
コーティング層３２が施されているので、このガラス質
コーティング層３２により従来と全く同様の後工程が行
えるようにしているのである。
ン条２１の面に対して、上記ヒートレスガラスによるガ
ラス質コーティング層３２を形成したディスプレイパネ
ル用の材料基板１３を示す。すなわち、微細パターン条
２１が形成された隔壁形成層２には、この後、アドレス
用電極を形成したり、蛍光体を塗布したりするが、隔壁
形成層２はその材質が半硬化シリコーンシートを出発材
料とするものであるため、それら後の工程において硬化
シリコーンシートの低分子分が揮発等して、工程内容に
よっては支障を生ずる可能性がないわけではない。この
ディスプレイパネル用の材料基板１３は、そのような場
合に備えた構成のものであって、隔壁形成層２における
微細パターン条２１の凹凸に従い、その全面にガラス質
コーティング層３２が施されているので、このガラス質
コーティング層３２により従来と全く同様の後工程が行
えるようにしているのである。
【００２６】なお、上記のディスプレイパネル用の材料
基板を製造する際に半硬化シリコーンシートとして通常
のＳＯＴＥＦＡを用いたときには、これがフィルム状高
透明シリコーンゴム接着剤として販売されていることも
あって、隔壁の部分も透明に近く構成され、特にコント
ラストを得る上で不利であるため、隔壁形成層の出発材
料としての半硬化シリコーンシートに黒色等の暗色に着
色されたものを用いてもよいし、上記ガラス質コーティ
ング層３２におけるヒートレスガラス等に黒色顔料等を
添加して着色するようにしてもよい。
基板を製造する際に半硬化シリコーンシートとして通常
のＳＯＴＥＦＡを用いたときには、これがフィルム状高
透明シリコーンゴム接着剤として販売されていることも
あって、隔壁の部分も透明に近く構成され、特にコント
ラストを得る上で不利であるため、隔壁形成層の出発材
料としての半硬化シリコーンシートに黒色等の暗色に着
色されたものを用いてもよいし、上記ガラス質コーティ
ング層３２におけるヒートレスガラス等に黒色顔料等を
添加して着色するようにしてもよい。
【００２７】
【発明の効果】本発明のディスプレイパネル用の材料基
板は、以上述べた実施の形態によって具現化される請求
項１〜８に記載された発明特定事項を有することによっ
て成るものであって、このような発明特定事項を有する
ことによって以下述べるような種々の効果が発揮され
る。すなわち、請求項１記載に記載された発明特定事項
では、微細隔壁は、隔壁形成層の一部としての微細パタ
ーン条として存在するようになり、また、半硬化シリコ
ーンシートを出発材料とし、このものをマスター金型に
よりヒートプレスすることによって得るので、幾つでも
簡単に複製的に得られ、量産性を確保した上で、ファイ
ンパターン、大画面のディスプレイパネル用の材料基板
として提供することができる。
板は、以上述べた実施の形態によって具現化される請求
項１〜８に記載された発明特定事項を有することによっ
て成るものであって、このような発明特定事項を有する
ことによって以下述べるような種々の効果が発揮され
る。すなわち、請求項１記載に記載された発明特定事項
では、微細隔壁は、隔壁形成層の一部としての微細パタ
ーン条として存在するようになり、また、半硬化シリコ
ーンシートを出発材料とし、このものをマスター金型に
よりヒートプレスすることによって得るので、幾つでも
簡単に複製的に得られ、量産性を確保した上で、ファイ
ンパターン、大画面のディスプレイパネル用の材料基板
として提供することができる。
【００２８】また、請求項２に記載された発明特定事項
では、ガラスペーストでなくとも耐久性のある微細隔壁
とすることができて、量産性を確保した上で、ファイン
パターン、大画面のディスプレイパネル用の材料基板と
して提供することができる。
では、ガラスペーストでなくとも耐久性のある微細隔壁
とすることができて、量産性を確保した上で、ファイン
パターン、大画面のディスプレイパネル用の材料基板と
して提供することができる。
【００２９】更にまた、請求項３に記載された発明特定
事項では、従来と全く同等の、擦過傷等を心配すること
のない表面が得られ、量産性を確保した上で、ファイン
パターン、大画面のディスプレイパネル用の材料基板と
して提供することができる。
事項では、従来と全く同等の、擦過傷等を心配すること
のない表面が得られ、量産性を確保した上で、ファイン
パターン、大画面のディスプレイパネル用の材料基板と
して提供することができる。
【００３０】更にまた、請求項４に記載された発明特定
事項では、擦過傷等の心配がなく軽量化した上で、ファ
インパターン、大画面のディスプレイパネル用の材料基
板として提供することができる。
事項では、擦過傷等の心配がなく軽量化した上で、ファ
インパターン、大画面のディスプレイパネル用の材料基
板として提供することができる。
【００３１】更にまた、請求項５に記載された発明特定
事項では、従来のガラスペーストと同等の耐久性等ある
隔壁とすることができて、しかもファインパターン、大
画面のディスプレイパネル用の材料基板として提供する
ことができる。
事項では、従来のガラスペーストと同等の耐久性等ある
隔壁とすることができて、しかもファインパターン、大
画面のディスプレイパネル用の材料基板として提供する
ことができる。
【００３２】更にまた、請求項６に記載された発明特定
事項では、良好な作業性と比較的低温でガラス化した表
面が得られ、ファインパターン、大画面のディスプレイ
パネル用の材料基板として提供することができる。
事項では、良好な作業性と比較的低温でガラス化した表
面が得られ、ファインパターン、大画面のディスプレイ
パネル用の材料基板として提供することができる。
【００３３】更にまた、請求項７に記載された発明特定
事項では、同様に良好な作業性と比較的低温でガラス化
した表面が得られ、ファインパターン、大画面のディス
プレイパネル用の材料基板として提供することができ
る。
事項では、同様に良好な作業性と比較的低温でガラス化
した表面が得られ、ファインパターン、大画面のディス
プレイパネル用の材料基板として提供することができ
る。
【００３４】更にまた、請求項８に記載された発明特定
事項では、プラズマディスプレイパネルにおける微細隔
壁を、重ね刷りすることなく一度で所望高さにしたもの
として得ることができて、ファインパターン、大画面の
ディスプレイパネル用の材料基板として提供することが
できる。
事項では、プラズマディスプレイパネルにおける微細隔
壁を、重ね刷りすることなく一度で所望高さにしたもの
として得ることができて、ファインパターン、大画面の
ディスプレイパネル用の材料基板として提供することが
できる。
【００３５】なお、以上プラズマディスプレイパネルを
例にあげて説明したが、本発明はプラズマディスプレイ
パネル用に限らず、微細パターンでの隔壁を必要とする
ものには同様に施用できること勿論である。
例にあげて説明したが、本発明はプラズマディスプレイ
パネル用に限らず、微細パターンでの隔壁を必要とする
ものには同様に施用できること勿論である。
【図１】本発明ディスプレイパネル用の材料基板の一実
施例の側面図である。
施例の側面図である。
【図２】同材料基板の製造方法の一例を示す概略図であ
る。
る。
【図３】本発明ディスプレイパネル用の材料基板の他の
実施例の側面図である。
実施例の側面図である。
【図４】本発明ディスプレイパネル用の材料基板の更に
他の実施例の側面図である。
他の実施例の側面図である。
【図５】プラズマディスプレイパネルの構造の一例を示
す概略斜視図である。
す概略斜視図である。
Ａ 前面パネル Ａ１ ストライプ状電極 Ｂ 背面パネル Ｂ１ ストライプ状電極 Ｃ 隔壁 Ｐ ヒートプレス機 Ｐ１ 固定盤 Ｐ２ 可動盤 １０ ディスプレイパネル用の材料基板 １２ ディスプレイパネル用の材料基板 １３ ディスプレイパネル用の材料基板 ２ 隔壁形成層 ２０ 半硬化シリコーンシート ２１ 微細パターン条 ３ 硬質表皮層 ３０ ガラス板 ３１ 硬質表皮層としてのガラス質コーティング層 ３２ 微細パターン条上のガラス質コーティング層 ６ マスター金型
Claims (8)
- 【請求項１】 隔壁形成層と硬質表皮層とを有するディ
スプレイパネル用の材料基板であって、隔壁形成層はシ
リコーンゴムを半硬化でシート状とした半硬化シリコー
ンシートを出発材料とし、このものをマスター金型によ
りヒートプレスすることによって、微細ストライプ状ま
たは微細格子状の微細パターン条を転写形成して成るこ
とを特徴とするディスプレイパネル用の材料基板。 - 【請求項２】 前記シリコーンゴムは、湿式法による疎
水性シリカを含有するシリコーンゴムであることを特徴
とする請求項１記載のディスプレイパネル用の材料基
板。 - 【請求項３】 前記硬質表皮層は、微細ストライプ状ま
たは微細格子状の微細パターン条が転写形成された硬化
シリコーンシートにガラス板が積層されて成ることを特
徴とする請求項１または２記載のディスプレイパネル用
の材料基板。 - 【請求項４】 前記硬質表皮層は、微細ストライプ状ま
たは微細格子状の微細パターン条が転写形成された硬化
シリコーンシートにガラス質コーティングを施して成る
ことを特徴とする請求項１または２記載のディスプレイ
パネル用の材料基板。 - 【請求項５】 前記隔壁形成層に対して、ガラス質コー
ティングを施して成ることを特徴とする請求項１、２、
３または４記載のディスプレイパネル用の材料基板。 - 【請求項６】 前記ガラス質コーティングの材料とし
て、メチル基もしくはフェニル基を有するオルガノポリ
シロキサンを主剤とし、アルコキシ基、アシロキシ基、
オキシム基等の官能性側鎖を有するオルガノシロキサン
を架橋剤とし、これに硬化触媒を加えたものを使用して
成ることを特徴とする請求項１、２、３、４または５記
載のディスプレイパネル用の材料基板。 - 【請求項７】 前記ガラス質コーティングの材料とし
て、ペルヒドロポリシラザンを使用して成ることを特徴
とする請求項１、２、３、４または５記載のディスプレ
イパネル用の材料基板。 - 【請求項８】 前記ディスプレイパネル用の材料基板
は、プラズマディスプレイパネル用の材料基板であるこ
とを特徴とする請求項１、２、３、４、５、６または７
記載のディスプレイパネル用の材料基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8764397A JP3594761B2 (ja) | 1997-03-21 | 1997-03-21 | ディスプレイパネル用の材料基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8764397A JP3594761B2 (ja) | 1997-03-21 | 1997-03-21 | ディスプレイパネル用の材料基板 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10269938A true JPH10269938A (ja) | 1998-10-09 |
| JP3594761B2 JP3594761B2 (ja) | 2004-12-02 |
Family
ID=13920674
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8764397A Expired - Fee Related JP3594761B2 (ja) | 1997-03-21 | 1997-03-21 | ディスプレイパネル用の材料基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3594761B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002031853A1 (fr) * | 2000-10-10 | 2002-04-18 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Ecran plasma, procede de fabrication, et dispositif pour retablir les dielectiques |
| US6632116B2 (en) | 1999-02-12 | 2003-10-14 | Toppan Printing Co., Ltd. | Plasma display panel, manufacturing method and manufacturing apparatus of the same |
| WO2005051636A1 (en) * | 2003-11-17 | 2005-06-09 | Dow Corning Corporation | Method of embossing cured silicone resin substrates |
| WO2015012161A1 (ja) * | 2013-07-23 | 2015-01-29 | 旭硝子株式会社 | 第１モールドの凹凸パターンを転写した第２モールド、第２モールドの製造方法、第２モールドを用いた物品の製造方法、光学パネルの製造方法、および光学素子の製造方法 |
| JP2016027963A (ja) * | 2015-11-09 | 2016-02-25 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | 液浸インプリント方法 |
-
1997
- 1997-03-21 JP JP8764397A patent/JP3594761B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6632116B2 (en) | 1999-02-12 | 2003-10-14 | Toppan Printing Co., Ltd. | Plasma display panel, manufacturing method and manufacturing apparatus of the same |
| WO2002031853A1 (fr) * | 2000-10-10 | 2002-04-18 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Ecran plasma, procede de fabrication, et dispositif pour retablir les dielectiques |
| WO2005051636A1 (en) * | 2003-11-17 | 2005-06-09 | Dow Corning Corporation | Method of embossing cured silicone resin substrates |
| JP4654200B2 (ja) * | 2003-11-17 | 2011-03-16 | ダウ・コーニング・コーポレイション | 硬化されたシリコーン樹脂基材のエンボス加工方法 |
| WO2015012161A1 (ja) * | 2013-07-23 | 2015-01-29 | 旭硝子株式会社 | 第１モールドの凹凸パターンを転写した第２モールド、第２モールドの製造方法、第２モールドを用いた物品の製造方法、光学パネルの製造方法、および光学素子の製造方法 |
| JP2016027963A (ja) * | 2015-11-09 | 2016-02-25 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | 液浸インプリント方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3594761B2 (ja) | 2004-12-02 |
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