JPH1026515A - 段差測定装置 - Google Patents

段差測定装置

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JPH1026515A
JPH1026515A JP18354996A JP18354996A JPH1026515A JP H1026515 A JPH1026515 A JP H1026515A JP 18354996 A JP18354996 A JP 18354996A JP 18354996 A JP18354996 A JP 18354996A JP H1026515 A JPH1026515 A JP H1026515A
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JP
Japan
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measurement
signal
focus detection
measuring
light intensity
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Withdrawn
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JP18354996A
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English (en)
Inventor
Osamu Ono
修 大野
Hirohisa Fujimoto
洋久 藤本
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Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Optical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】簡単な測定方法によって連続的且つ短時間に段
差を測定することが可能な段差測定装置を提供する。 【解決手段】測定基準面に対して所定の高さを有する複
数の段差が形成された測定対象物4の測定面4aにレー
ザー光を照射可能な拡大光学系と、測定面からの反射光
の光強度を検出することによって測定基準面に対する拡
大光学系の焦点位置Sを検出する焦点検出系と、この焦
点検出系からの焦点検出信号Tに基づいて焦点位置を測
定基準面に位置付ける合焦制御機構と、レーザー光を測
定面に沿って走査させた際、測定面からの反射光の光強
度信号Vを出力可能な光強度検出系36と、光強度信号
を微分した微分信号と光強度信号とに基づいたタイミン
グ信号が出力された際、焦点検出信号を検出し、この焦
点検出信号から複数の段差を連続的に測定する信号処理
装置38とを備えている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、測定対象
物の測定面に規則的に形成された段差の高さを連続的に
測定することが可能な段差測定装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、この種の段差測定装置では、ステ
ージ上に載置された測定対象物の測定面を拡大光学系に
よって拡大観察しながら、測定面上に形成された段差の
高さを測定している。
【0003】例えば、図5に示すように、ステージ2上
に載置された測定対象物4を照明系(図示しない)によ
って照明しながら、この測定対象物4の測定面4aに形
成された段差(図示しない)を測定する段差測定装置
(以下、従来技術という)が知られている。
【0004】この従来技術の段差測定装置において、半
導体レーザ6から出射した測定光即ちレーザー光は、偏
光ビームスプリッタ8から反射した後、λ/4板10及
び対物レンズ12を介して測定対象物4に照射される。
このとき、測定対象物4の測定面4aから反射した反射
光は、再び、対物レンズ12及びλ/4板10を介して
偏光ビームスプリッタ8に伝波された後、第1のビーム
スプリッタ14から焦点検出系に反射される。
【0005】焦点検出系には、第1のビームスプリッタ
14から反射した反射光を2方向に振り分ける第2のビ
ームスプリッタ16と、この第2のビームスプリッタ1
6によって2方向に振り分けられた夫々の光の光強度を
検出する第1及び第2の検出光学系18,20と、これ
ら第1及び第2の検出光学系18,20から出力された
電気信号A,Bに所定の演算を施すことによって対物レ
ンズ12を所定量だけ移動させるための移動制御信号J
を出力する焦点検出回路22とが設けられている。な
お、第1の検出光学系18には、焦点位置Pよりも物体
側に配置された第1の絞り手段18aと、この第1の絞
り手段18aを通過した光を受光する第1の受光素子1
8bとが設けられており、また、第2の検出光学系20
には、焦点位置Pよりも像側に配置された第2の絞り手
段20aと、この第2の絞り手段20aを通過した光を
受光する第2の受光素子20bとが設けられている。
【0006】このような構成において、第2のビームス
プリッタ16を透過した光は、第1の絞り手段18aを
通過した後、第1の受光素子18bによって所定の電気
信号Aに変換される。また、第2のビームスプリッタ1
6から反射した光は、第2の絞り手段20aを通過した
後、第2の受光素子20bによって所定の電気信号Bに
変換される。
【0007】第1及び第2の受光素子18b,20bか
ら出力された電気信号A,Bは、焦点検出回路22によ
って、所定の演算処理が施される。具体的には、焦点検
出回路22において、電気信号A,Bには、(A−B)
/(A+B)なる信号処理が施される。この結果、図6
に示すような焦点検出信号が算出される。
【0008】ここで、図6において、焦点位置は、電気
信号A,Bの出力が同じになったときであるから、原点
0であることが分かる。このとき、焦点検出回路22
は、焦点検出信号(図6参照)に基づいて、対物レンズ
12を所定量だけ移動させるための移動制御信号Jを合
焦制御機構に出力する。
【0009】合焦制御機構は、駆動回路24と対物レン
ズ駆動用モータ26とを備えており、移動制御信号Jに
基づいて、駆動回路24が対物レンズ駆動用モータ26
を駆動制御することによって、対物レンズ12を光軸L
に沿って移動させるように制御されている。この結果、
対物レンズ12と測定対象物4の測定面4aとの間の距
離を相対的に変化させることが可能となる。
【0010】この場合、対物レンズ12の移動状態は、
例えばスケール等の測定器28によって常時測定されて
おり、測定器28から出力された移動信号に基づいて、
移動量カウンタ30が、対物レンズ12の移動量を計数
するようになっている。
【0011】以下、このような段差測定装置を用いて、
測定対象物4の測定面4a上に規則的に形成されている
段差(図示しない)を測定する方法について説明する。
まず、ステージ駆動回路32から出力した駆動信号に基
づいて、ステージ駆動用モータ34を駆動させることに
よって、ステージ2を所定の方向に移動させて、対物レ
ンズ12の焦点位置Sを測定対象物4の測定面4aに位
置付ける(第1の測定工程)。
【0012】続いて、ステージ2を所定方向に移動させ
ることによって、対物レンズ12の焦点位置Sを測定面
4aの段差部分に移動させる(第2の測定工程)。次
に、焦点検出回路22から駆動回路24に出力した移動
制御信号Jに基づいて、対物レンズ駆動用モータ26を
駆動させることによって、対物レンズ12の焦点位置S
を段差の上面(図示しない)に位置付ける(第3の測定
工程)。
【0013】そして、測定面4aから段差の上面に焦点
位置Sを移動させた際、測定器28から移動量カウンタ
30に出力された移動信号に基づいて、対物レンズ12
の移動量を計数する(第4の測定工程)。このような工
程を繰り返し行うことによって、測定面4aに規則的に
形成されている段差の高さが測定されることになる。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
段差測定装置を用いて各段差の高さを測定する場合、ス
テージ2を各段差部分(測定ポイント)で一時的に停止
させた状態で、対物レンズ12を上下動させることによ
って焦点合わせを行わなければならない。このため、測
定に要する工程数が増加して測定時間が増大してしまう
といった問題が生じる。更に、各測定ポイントにおいて
一時的にステージ2を停止させなければならないため、
断続的な測定方法しか適用することができないといった
問題も生じる。従って、簡単な方法によって連続的且つ
短時間に段差を測定することが可能な段差測定装置の開
発が望まれている。
【0015】本発明は、このような要望に答えるために
成されており、その目的は、簡単な測定方法によって連
続的且つ短時間に段差を測定することが可能な段差測定
装置を提供することにある。
【0016】
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明の段差測定装置は、測定基準面に対し
て所定の高さを有する複数の段差が形成された測定対象
物の測定面に測定光を照射可能であると共に、前記測定
面から反射した反射光を集光させる拡大光学系と、前記
反射光の光強度を検出することによって、前記測定基準
面に対する拡大光学系の焦点位置を検出する焦点検出系
と、この焦点検出系によって検出された焦点検出信号に
基づいて、前記拡大光学系の焦点位置を前記測定基準面
に位置付ける合焦制御機構と、前記測定光を前記測定面
に沿って走査させた際、前記測定面から反射した反射光
の光強度信号を出力可能な光強度検出系と、前記光強度
信号に所定の演算を施した演算結果と前記光強度信号と
に基づいたタイミング信号が出力された際、前記焦点検
出信号を検出し、この焦点検出信号から前記複数の段差
を連続的に測定する信号処理装置とを備えている。
【0017】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態に係
る段差測定装置について、図1〜図4を参照して説明す
る。なお、本実施の形態の説明に際し、上記従来技術の
段差測定装置(図5参照)と同一の構成には、同一符号
を付して、その説明を省略する。
【0018】図1及び図2に示すように、本実施の形態
の段差測定装置は、複数の段差4b(図2参照)が形成
された測定対象物4の測定面4aに測定光即ちレーザー
光を照射可能であると共に、測定対象物4の測定面4a
から反射した反射光を集光させる拡大光学系と、前記反
射光の光強度を検出することによって、測定面4a上の
測定基準面4c(図2参照)に対する拡大光学系の焦点
位置Sを検出する焦点検出系と、この焦点検出系によっ
て検出された焦点検出信号T(図4参照)に基づいて、
拡大光学系の焦点位置Sを測定基準面4cに位置付ける
合焦制御機構と、前記測定光を前記測定面4aに沿って
走査させた際、測定面4aから反射した反射光の光強度
信号V(図3(b)参照)を出力可能な光強度検出系3
6と、光強度信号Vに所定の演算を施した演算結果V′
(図3(c)参照)と光強度信号Vとに基づいたタイミ
ング信号が出力された際、焦点検出信号Tを検出し、こ
の焦点検出信号Tから複数の段差4bを連続的に測定す
る信号処理装置38とを備えている。
【0019】測定対象物4の測定面4aに形成された複
数の段差4bは、測定基準面4cに対して一定の高さH
1(図2参照)を有している。なお、光強度信号V及び
演算結果V′と段差4bとの関係が明らかになるよう
に、図3(a)には、測定対象物4の測定面4aに形成
されている複数の段差4bが模式的に示されている。
【0020】光強度検出系36には、焦点位置Pよりも
像側に配置された光強度検出用絞り手段36aと、この
絞り手段36aを通過した光を受光する光強度検出用受
光素子36bとが設けられている。また、光強度検出用
受光素子36bによって検出された光強度信号Vは、信
号処理装置38に出力されるように構成されている。
【0021】焦点検出系の焦点検出回路22は、T=
(A−B)/(A+B)なる信号処理の結果得られた焦
点検出信号Tを信号処理装置38に出力する。なお、焦
点検出系の他の構成作用は、上記従来技術と同様である
ため、その説明は省略する。
【0022】信号処理装置38は、光強度検出用受光素
子36bからの光強度信号V(図3(b)参照)、及
び、この光強度信号Vを微分した微分信号V′(図3
(c)参照)に夫々任意の閾値Vth1 ,Vth2 (図3
(b),(c)参照)を設定する。そして、光強度信号
Vが閾値Vth1 (図3(b)参照)を越え且つ微分信号
V′が閾値Vth2 (図3(c)参照)内に入ったときに
タイミング信号を出力して焦点検出信号T(図4参照)
を検出する。
【0023】ここで、図3(a)は、測定対象物4の測
定面4aの一例を示しており、同図(b),(c)の信
号波形は、同図(a)の測定面4aに形成された複数の
段差4bに対応している。
【0024】この場合、光強度信号Vの閾値Vth1 は、
測定基準面4c(図2参照)の微分信号V′が検出され
てしまうといった誤作動を防止可能な値に設定されてお
り、一方、微分信号V′の閾値Vth2 は、ノイズ成分に
起因した誤差が補償可能な幅を持たせた値に設定されて
いる。また、閾値Vth1 ,Vth2 は、測定対象物4の材
質や特性及び複数の段差4bの高さH1を考慮した値と
なっており、予め設定することが可能である。
【0025】このような条件の下で検出された焦点検出
信号Tから段差4bを測定することができる。そして、
信号処理装置38の制御に基づいて、レーザー光を測定
面4aに沿って走査させることによって、複数の段差4
bが連続的に測定されることになる。
【0026】なお、合焦制御機構は、上記従来技術と同
様であるため、その説明は省略する。また、本実施の形
態に適用した拡大光学系は、偏光ビームスプリッタ8と
λ/4板10と対物レンズ12と第1のビームスプリッ
タ14とを備えている。
【0027】以下、本実施の形態の動作について、図1
〜図4を参照して説明する。なお、図2には、簡単化を
図るため、本実施の形態の段差測定装置のうち、対物レ
ンズ12及び光強度検出系36のみを示す。
【0028】まず、従来技術と同様に、半導体レーザ6
から出射した測定光即ちレーザー光を対物レンズ12を
介して測定対象物4の測定面4aに照射した状態におい
て、ステージ2を所定の方向に移動させることによっ
て、対物レンズ12の焦点位置Sを測定対象物4の測定
面4aの近くに位置付ける(第1の測定工程)。
【0029】次に、焦点検出回路22から駆動回路24
に出力された移動制御信号Jに基づいて、対物レンズ駆
動用モータ26を駆動することによって、対物レンズ1
2の焦点位置Sを測定面4aの測定基準面4cに位置付
ける(第2の測定工程)。
【0030】なお、上記第2の測定工程に合わせて、測
定基準面4cを焦点位置Sとした焦点検出信号Tを検出
し、図4に示す曲線を信号処理装置38に記憶させるこ
とが有効である。この結果、測定面4aの変位と焦点検
出信号Tとの関係が正確に測定されることになる。
【0031】図4に示す曲線は、測定対象物4の種類に
よって大きく変動しないため、測定対象物4を交換する
度に曲線を更新する必要はないが、高い測定精度が要求
される場合には、その度に曲線を更新することが有効で
ある。また、光強度検出用受光素子36bの感度の経時
変化を考慮して、測定の度に曲線を更新することも有効
である。
【0032】続いて、対物レンズ12の焦点位置Sを測
定基準面4cに位置付けた状態を維持しながらステージ
2を矢印方向(図2参照)に移動させることによって、
レーザー光を測定面4aに沿って走査する(第3の測定
工程)。
【0033】このとき、信号処理装置38は、光強度検
出用受光素子36bからの光強度信号V(図3(b)参
照)を検出し、更に、この光強度信号Vを微分した微分
信号V′(図3(c)参照)を演算する(第4の測定工
程)。
【0034】そして、光強度信号Vが任意に予め設定し
た閾値Vth1 (図3(b)参照)を越え、且つ、微分信
号V′が任意に予め設定した閾値Vth2 (図3(c)参
照)内に入ったとき、信号処理装置38は、タイミング
信号を出力して、焦点検出信号Tを検出する(第5の測
定工程)。
【0035】このとき信号処理装置38によって検出さ
れた焦点検出信号Tの値は、測定基準面4cを原点0と
する図4に示す曲線上にプロットされる(第6の測定工
程)。この結果、測定基準面4cに対する段差4bの高
さH1が測定されることになる。
【0036】この後、ステージ2を矢印方向(図2参
照)に移動させながら、上記第3〜第6の測定工程を繰
り返すことによって、測定面4aに規則的に形成されて
いる複数の段差4bの高さH1が連続的に測定されるこ
とになる。
【0037】このように、本実施の形態の段差測定装置
によれば、ステージ2を停止させること無く、簡単な測
定方法によって連続的且つ短時間に段差を測定すること
が可能となる。
【0038】
【発明の効果】本発明によれば、簡単な測定方法によっ
て連続的且つ短時間に段差を測定することが可能な段差
測定装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態に係る段差測定装置の構
成を示す図。
【図2】測定面に形成された複数の段差を測定している
状態を示す図。
【図3】(a)は、測定対象物の測定面に形成されてい
る複数の段差を模式的に示す図、(b)は、光強度検出
系からの光強度信号の特性を示す図、(c)は、同図
(b)に示された光強度信号を微分した微分信号の特性
を示す図。
【図4】図1に示された段差測定装置の焦点検出回路に
よって算出された焦点検出信号の特性を示す図。
【図5】従来技術の段差測定装置の構成を示す図。
【図6】図5に示された段差測定装置の焦点検出回路に
よって算出された焦点検出信号の特性を示す図。
【符号の説明】
4 測定対象物 4a 測定面 36 光強度検出系 38 信号処理装置 S 焦点位置 T 焦点検出信号 V 光強度信号

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 測定基準面に対して所定の高さを有する
    複数の段差が形成された測定対象物の測定面に測定光を
    照射可能であると共に、前記測定面から反射した反射光
    を集光させる拡大光学系と、 前記反射光の光強度を検出することによって、前記測定
    基準面に対する拡大光学系の焦点位置を検出する焦点検
    出系と、 この焦点検出系によって検出された焦点検出信号に基づ
    いて、前記拡大光学系の焦点位置を前記測定基準面に位
    置付ける合焦制御機構と、 前記測定光を前記測定面に沿って走査させた際、前記測
    定面から反射した反射光の光強度信号を出力可能な光強
    度検出系と、 前記光強度信号に所定の演算を施した演算結果と前記光
    強度信号とに基づいたタイミング信号が出力された際、
    前記焦点検出信号を検出し、この焦点検出信号から前記
    複数の段差を連続的に測定する信号処理装置とを備えて
    いることを特徴とする段差測定装置。
  2. 【請求項2】 前記信号処理装置は、前記光強度信号が
    所定の値を越え、且つ、前記光強度信号の微分値が所定
    の値の範囲に入った際、前記タイミング信号を出力し、
    前記焦点検出信号を検出することを特徴とする請求項1
    に記載の段差測定装置。
  3. 【請求項3】 前記所定の値は、前記測定対象物の材質
    や特性及び前記複数の段差の高さに基づいて、予め規定
    されていることを特徴とする請求項2に記載の段差測定
    装置。
JP18354996A 1996-07-12 1996-07-12 段差測定装置 Withdrawn JPH1026515A (ja)

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JP18354996A JPH1026515A (ja) 1996-07-12 1996-07-12 段差測定装置

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6850332B2 (en) 2000-12-16 2005-02-01 Samsung Electronics Co., Ltd. Method for measuring step difference in a semiconductor device and apparatus for performing the same
CN1301397C (zh) * 2003-03-06 2007-02-21 合肥工业大学 差动离焦并行全场三维检测方法及装置
JP2008292391A (ja) * 2007-05-28 2008-12-04 Mitsutoyo Corp 共焦点光学装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US6850332B2 (en) 2000-12-16 2005-02-01 Samsung Electronics Co., Ltd. Method for measuring step difference in a semiconductor device and apparatus for performing the same
CN1301397C (zh) * 2003-03-06 2007-02-21 合肥工业大学 差动离焦并行全场三维检测方法及装置
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Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20031007