JPH10263363A - Ｎｆ３の回収方法および装置 - Google Patents
Ｎｆ３の回収方法および装置Info
- Publication number
- JPH10263363A JPH10263363A JP9073255A JP7325597A JPH10263363A JP H10263363 A JPH10263363 A JP H10263363A JP 9073255 A JP9073255 A JP 9073255A JP 7325597 A JP7325597 A JP 7325597A JP H10263363 A JPH10263363 A JP H10263363A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- adsorbent
- recovering
- gas
- exhaust gas
- adsorption
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Treating Waste Gases (AREA)
- Separation Of Gases By Adsorption (AREA)
- Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ＮＦ３を含む排ガスからＮＦ３を回収
する。 【解決手段】 ＮＦ３を含む排ガスを、該排ガスから
ＮＦ３を選択的に吸着するための吸着剤と接触させ、次
いでＮＦ３を吸着した該吸着剤を再生すると同時に該吸
着剤から脱離したＮＦ３を回収すること、およびその装
置。
する。 【解決手段】 ＮＦ３を含む排ガスを、該排ガスから
ＮＦ３を選択的に吸着するための吸着剤と接触させ、次
いでＮＦ３を吸着した該吸着剤を再生すると同時に該吸
着剤から脱離したＮＦ３を回収すること、およびその装
置。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ＣＶＤ装置のクリ
ーニングや半導体のエッチング工程等で発生したＮＦ３
を含有する排ガスからのＮＦ３の回収方法および装置に
関する。
ーニングや半導体のエッチング工程等で発生したＮＦ３
を含有する排ガスからのＮＦ３の回収方法および装置に
関する。
【０００２】
【従来技術】現在、地球環境に悪影響をもたらすフロン
やＣＯ２などに対して規制が行われていることは周知で
あり、ＮＦ３も自然界ではなかなか分解しない物質であ
る。ＮＦ３ガスは、近年、半導体製造に於いてクリーニ
ングガスとして多量に使用されている。しかし、毒性が
あることから、排ガス中に残存するＮＦ３を除去する必
要がある。
やＣＯ２などに対して規制が行われていることは周知で
あり、ＮＦ３も自然界ではなかなか分解しない物質であ
る。ＮＦ３ガスは、近年、半導体製造に於いてクリーニ
ングガスとして多量に使用されている。しかし、毒性が
あることから、排ガス中に残存するＮＦ３を除去する必
要がある。
【０００３】上記問題を解決する方法に、高温下で活性
炭を充填した充填塔にＮＦ３を含む排ガスを通気する方
法（特開昭６２−２３７９２９号公報）が知られてい
る。しかしながら、この方法では、地球温暖化の原因の
一つとも言われるＣＦ４を放出する結果となる。
炭を充填した充填塔にＮＦ３を含む排ガスを通気する方
法（特開昭６２−２３７９２９号公報）が知られてい
る。しかしながら、この方法では、地球温暖化の原因の
一つとも言われるＣＦ４を放出する結果となる。
【０００４】また、金属酸化物と反応させて除害する方
法（特開平３−１８１３１６号公報）も知られている
が、これも約５００℃の高温下で反応を行うことに加
え、ＮＯｘを生成するという問題がある。さらに、金属
酸化物は反応によって金属フッ化物となりＮＦ３除害能
力を失うので、定期的な金属フッ化物の取り出しと金属
酸化物の充填が必要となり、ランニングコストが高くな
るという欠点がある。
法（特開平３−１８１３１６号公報）も知られている
が、これも約５００℃の高温下で反応を行うことに加
え、ＮＯｘを生成するという問題がある。さらに、金属
酸化物は反応によって金属フッ化物となりＮＦ３除害能
力を失うので、定期的な金属フッ化物の取り出しと金属
酸化物の充填が必要となり、ランニングコストが高くな
るという欠点がある。
【０００５】さらに、高温下でガス状のフッ化物を生成
するような金属を充填した充填塔にＮＦ３を通気する方
法（特開昭６１−２０４０２５号公報）も知られている
が、これによって生成されるガス状のフッ化物の処理設
備が必要であり、装置が大型化する欠点がある。
するような金属を充填した充填塔にＮＦ３を通気する方
法（特開昭６１−２０４０２５号公報）も知られている
が、これによって生成されるガス状のフッ化物の処理設
備が必要であり、装置が大型化する欠点がある。
【０００６】以上の除害方法では除害装置に充填した除
害剤の交換または補充が必要で、そのためにランニング
コストが高くなるという共通の欠点がある。これに対
し、ＮＦ３を触媒の存在下還元性ガスと反応させて除害
する方法が知られており、触媒交換の頻度は前記除害剤
の交換頻度に比べてはるかに低いという利点がある。還
元性ガスとしては水素（特開平２−３０３５２４号公
報）あるいは炭化水素（特開平８−１３１７７４号公
報）が知られている。
害剤の交換または補充が必要で、そのためにランニング
コストが高くなるという共通の欠点がある。これに対
し、ＮＦ３を触媒の存在下還元性ガスと反応させて除害
する方法が知られており、触媒交換の頻度は前記除害剤
の交換頻度に比べてはるかに低いという利点がある。還
元性ガスとしては水素（特開平２−３０３５２４号公
報）あるいは炭化水素（特開平８−１３１７７４号公
報）が知られている。
【０００７】しかし、上記の方法はいずれも除害のため
にＮＦ３を別の物質に変換するもので、ＮＦ３を回収
し、再利用することはできない。本発明者らはＮＦ３の
回収の方法を検討した結果、本発明に到達したものであ
る。
にＮＦ３を別の物質に変換するもので、ＮＦ３を回収
し、再利用することはできない。本発明者らはＮＦ３の
回収の方法を検討した結果、本発明に到達したものであ
る。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、ＮＦ３を含
む排ガスからＮＦ３を回収する方法およびその装置を提
供することことを目的としたものである。
む排ガスからＮＦ３を回収する方法およびその装置を提
供することことを目的としたものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明はＮＦ３を含む排
ガスを、特定の吸着剤を用いて吸着させ、吸着させた吸
着剤から簡単に脱離させＮＦ３を回収する方法を見出し
たものである。
ガスを、特定の吸着剤を用いて吸着させ、吸着させた吸
着剤から簡単に脱離させＮＦ３を回収する方法を見出し
たものである。
【００１０】すなわち、本発明はＮＦ３を含む排ガス
を、該排ガスからＮＦ３を選択的に吸着するための吸着
剤と接触させ、次いでＮＦ３を吸着した該吸着剤を再生
すると同時に該吸着剤から脱離したＮＦ３を回収するこ
とを特徴とするＮＦ３の回収方法、及び請求項１の方法
を実施するための装置であって、ＮＦ３を含む排ガスの
導入口、該排ガスからＮＦ３を選択的に吸着するための
吸着剤が充填された充填塔、およびＮＦ３を吸着した前
記吸着剤を再生すると同時に該吸着剤から脱離したＮＦ
３を回収するための機構からなることを特徴とするＮＦ
３の回収装置に関する。
を、該排ガスからＮＦ３を選択的に吸着するための吸着
剤と接触させ、次いでＮＦ３を吸着した該吸着剤を再生
すると同時に該吸着剤から脱離したＮＦ３を回収するこ
とを特徴とするＮＦ３の回収方法、及び請求項１の方法
を実施するための装置であって、ＮＦ３を含む排ガスの
導入口、該排ガスからＮＦ３を選択的に吸着するための
吸着剤が充填された充填塔、およびＮＦ３を吸着した前
記吸着剤を再生すると同時に該吸着剤から脱離したＮＦ
３を回収するための機構からなることを特徴とするＮＦ
３の回収装置に関する。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、本発明を更に詳細に説明す
る。本発明のＮＦ３の回収方法は超ＬＳＩエッチング装
置からの排ガス、ＣＶＤクリーニングガスの排ガス、Ｎ
Ｆ３容器からの漏洩ガスなど、ＮＦ３を含むガスからの
ＮＦ３の回収に適用される。本発明では最初にＮＦ３を
含む排ガスを該排ガスからＮＦ３を選択的に吸着するた
めの吸着剤と接触させる。
る。本発明のＮＦ３の回収方法は超ＬＳＩエッチング装
置からの排ガス、ＣＶＤクリーニングガスの排ガス、Ｎ
Ｆ３容器からの漏洩ガスなど、ＮＦ３を含むガスからの
ＮＦ３の回収に適用される。本発明では最初にＮＦ３を
含む排ガスを該排ガスからＮＦ３を選択的に吸着するた
めの吸着剤と接触させる。
【００１２】吸着剤はゼオライト、活性炭、シリカゲ
ル、および活性アルミナよりなる群から選ばれる１種以
上が用いられる。ゼオライトとしてはその細孔の有効直
径が０．４５ｎｍ以上で、ＮＦ３を吸着できるものが使
用でき、例としてモレキュラーシーブ５Ａやモレキュラ
ーシーブ１３Ｘが挙げられる。吸着剤の形状は球状、タ
ブレット状、リング状、破砕品（不定型）等、任意の形
状を用いることができる。細孔直径が０．４５ｎｍ未満
のゼオライトではＮＦ３を選択的に吸着する能力が低
く、本発明の目的には好ましくない。
ル、および活性アルミナよりなる群から選ばれる１種以
上が用いられる。ゼオライトとしてはその細孔の有効直
径が０．４５ｎｍ以上で、ＮＦ３を吸着できるものが使
用でき、例としてモレキュラーシーブ５Ａやモレキュラ
ーシーブ１３Ｘが挙げられる。吸着剤の形状は球状、タ
ブレット状、リング状、破砕品（不定型）等、任意の形
状を用いることができる。細孔直径が０．４５ｎｍ未満
のゼオライトではＮＦ３を選択的に吸着する能力が低
く、本発明の目的には好ましくない。
【００１３】本発明では吸着、再生のサイクルを組むこ
とが必要であるが、これには圧力変化により行う方法と
温度変化により行う方法がある。圧力変化により吸着、
再生を行う場合、ＮＦ３の吸着は絶対圧２〜１００Ｋｇ
／ｃｍ２で、吸着剤の再生は１．５Ｋｇ／ｃｍ２以下で
行われる。この時、吸着温度は−３０〜５０℃であるこ
とが望ましい。吸着温度が５０℃を超えると吸着剤が破
過するまでに捕集されるＮＦ３の量が少なくなって頻繁
に再生する必要が生じるので好ましくない。また、吸着
温度が−３０℃未満ではガスの冷却のためのエネルギー
が大きくなって回収コストが増大し、かつ再生時にＮＦ
３が完全に脱離せず、１回の吸着〜再生サイクルでのＮ
Ｆ３回収量が低下するので好ましくない。
とが必要であるが、これには圧力変化により行う方法と
温度変化により行う方法がある。圧力変化により吸着、
再生を行う場合、ＮＦ３の吸着は絶対圧２〜１００Ｋｇ
／ｃｍ２で、吸着剤の再生は１．５Ｋｇ／ｃｍ２以下で
行われる。この時、吸着温度は−３０〜５０℃であるこ
とが望ましい。吸着温度が５０℃を超えると吸着剤が破
過するまでに捕集されるＮＦ３の量が少なくなって頻繁
に再生する必要が生じるので好ましくない。また、吸着
温度が−３０℃未満ではガスの冷却のためのエネルギー
が大きくなって回収コストが増大し、かつ再生時にＮＦ
３が完全に脱離せず、１回の吸着〜再生サイクルでのＮ
Ｆ３回収量が低下するので好ましくない。
【００１４】温度変化により吸着、再生を行う場合、Ｎ
Ｆ３の吸着は０℃以下、再生温度は０〜１５０℃、好ま
しくは５０〜１００℃で行われる。再生温度が１５０℃
を超えるとＮＦ３と吸着剤との反応が起きる恐れがあ
り、ＮＦ３回収という本発明の目的とは相容れなくなる
ので好ましくない。ＮＦ３と吸着剤との反応は例えば、
以下のように進行し、ＮＦ３は他の物質に転換されてし
まう。
Ｆ３の吸着は０℃以下、再生温度は０〜１５０℃、好ま
しくは５０〜１００℃で行われる。再生温度が１５０℃
を超えるとＮＦ３と吸着剤との反応が起きる恐れがあ
り、ＮＦ３回収という本発明の目的とは相容れなくなる
ので好ましくない。ＮＦ３と吸着剤との反応は例えば、
以下のように進行し、ＮＦ３は他の物質に転換されてし
まう。
【００１５】３ＳｉＯ２ ＋ ４ＮＦ３ → ３ＳｉＦ
４ ＋ ２ＮＯ ＋ ２ＮＯ２ Ａｌ２Ｏ３ ＋ ２ＮＦ３ → ２ＡｌＦ３ ＋ ＮＯ
＋ ＮＯ２ ３Ｃ ＋ ４ＮＦ３ → ３ＣＦ４ ＋ ２Ｎ２
４ ＋ ２ＮＯ ＋ ２ＮＯ２ Ａｌ２Ｏ３ ＋ ２ＮＦ３ → ２ＡｌＦ３ ＋ ＮＯ
＋ ＮＯ２ ３Ｃ ＋ ４ＮＦ３ → ３ＣＦ４ ＋ ２Ｎ２
【００１６】一方、再生温度０℃未満では再生時に脱離
するＮＦ３の量が少なく、１回の吸着〜再生サイクルで
のＮＦ３回収量が低下するので好ましくない。温度変化
により吸着〜再生を行う場合の圧力は、通常大気圧付近
が好ましい。吸着の際の空間速度は１００〜１００，０
００ｈｒ−１、好ましくは１，０００〜５０、０００ｈ
ｒ−１が好適である。
するＮＦ３の量が少なく、１回の吸着〜再生サイクルで
のＮＦ３回収量が低下するので好ましくない。温度変化
により吸着〜再生を行う場合の圧力は、通常大気圧付近
が好ましい。吸着の際の空間速度は１００〜１００，０
００ｈｒ−１、好ましくは１，０００〜５０、０００ｈ
ｒ−１が好適である。
【００１７】吸着剤の再生においてはできる限り少ない
パージガス量でＮＦ３を吸着剤から脱離させることが望
ましい。パージガスの空間速度は１００ｈｒ−１以下、
望ましくは１０ｈｒ−１以下が好適である。脱離したＮ
Ｆ３は冷却、液化することによりパージガスから分離、
回収される。ＮＦ３はその使用目的からして高純度が要
求されるため、必要であれば回収されたＮＦ３をさらに
専用の精製設備で精製したうえで用いる。
パージガス量でＮＦ３を吸着剤から脱離させることが望
ましい。パージガスの空間速度は１００ｈｒ−１以下、
望ましくは１０ｈｒ−１以下が好適である。脱離したＮ
Ｆ３は冷却、液化することによりパージガスから分離、
回収される。ＮＦ３はその使用目的からして高純度が要
求されるため、必要であれば回収されたＮＦ３をさらに
専用の精製設備で精製したうえで用いる。
【００１８】以下、本発明の回収方法の装置の説明をす
る。排ガス導入口１から回収装置に入ったＮＦ３含有排
ガスは吸着剤を分離した充填塔２または３に導入され
る。まず排ガスが充填塔２を通過する場合について説明
する。排ガス中のＮＦ３は充填塔２を通過する間に吸着
剤に吸着、補集される。この間、充填塔２は０℃以下の
所定の吸着温度に保たれる。ＮＦ３が吸着、補集された
後の排ガスはガス流路６、８、９を経た後、必要であれ
ば他の排ガス処理設備を通過した後大気放出される。充
填塔２の吸着剤がＮＦ３で飽和したところで排ガスを充
填塔３、ガス流路７、９を通るラインに切り替え、同様
にＮＦ３の吸着を行う。ガスのラインを切り替えた後、
ＮＦ３で飽和した充填塔２の温度を所定の再生温度まで
昇温すると同時に、ガス導入口４からパージガスを導入
する。
る。排ガス導入口１から回収装置に入ったＮＦ３含有排
ガスは吸着剤を分離した充填塔２または３に導入され
る。まず排ガスが充填塔２を通過する場合について説明
する。排ガス中のＮＦ３は充填塔２を通過する間に吸着
剤に吸着、補集される。この間、充填塔２は０℃以下の
所定の吸着温度に保たれる。ＮＦ３が吸着、補集された
後の排ガスはガス流路６、８、９を経た後、必要であれ
ば他の排ガス処理設備を通過した後大気放出される。充
填塔２の吸着剤がＮＦ３で飽和したところで排ガスを充
填塔３、ガス流路７、９を通るラインに切り替え、同様
にＮＦ３の吸着を行う。ガスのラインを切り替えた後、
ＮＦ３で飽和した充填塔２の温度を所定の再生温度まで
昇温すると同時に、ガス導入口４からパージガスを導入
する。
【００１９】吸着剤から離脱したＮＦ３はガス流路６、
１０、１２を経て冷却トラップ１３で再度補集される。
常圧におけるＮＦ３の液化温度は−１２０℃なので、冷
却トラップ１３はそれ以下の温度に保たれる。ＮＦ３を
回収した後のパージガスはガス流路１４を経て、必要で
あれば他の排ガス処理設備を通過した後大気放出され
る。冷却トラップ１３に所定量のＮＦ３が捕集される毎
にＮＦ３含有ガスの通過を停止し、冷却トラップ１３を
加熱・昇温してＮＦ３を気化させる。気化されたＮＦ３
は自身の圧力でガス流路１５を経て粗ＮＦ３ボンベ１６
に充填される。
１０、１２を経て冷却トラップ１３で再度補集される。
常圧におけるＮＦ３の液化温度は−１２０℃なので、冷
却トラップ１３はそれ以下の温度に保たれる。ＮＦ３を
回収した後のパージガスはガス流路１４を経て、必要で
あれば他の排ガス処理設備を通過した後大気放出され
る。冷却トラップ１３に所定量のＮＦ３が捕集される毎
にＮＦ３含有ガスの通過を停止し、冷却トラップ１３を
加熱・昇温してＮＦ３を気化させる。気化されたＮＦ３
は自身の圧力でガス流路１５を経て粗ＮＦ３ボンベ１６
に充填される。
【００２０】
【実施例】以下、実施例及び比較例により本発明を更に
詳細に説明する。なお、ガス濃度の％は容量％を表し、
ガスの容積は０℃、１気圧基準とする。 実施例１ 市販のモレキュラーシーブ５Ａ（１．５ｍｍφペレット
品）を加熱のためのヒーターを備えた長さ１ｍ、内径１
０ｃｍφのＳＵＳ製の充填塔に５Ｌ充填した。モレキュ
ラーシーブ５Ａの活性化処理は窒素気流中で３５０℃、
３ｈ行った。次いで充填塔を−７０℃に冷却し、Ｎ２ガ
スで希釈されたＮＦ３濃度１％のガス５０００Ｌ／ｈを
４ｈ通気した。充填塔出口のガスをガスクロマトグラフ
で分析したが、ＮＦ３は検出されなかった。ガスを５０
Ｌ／ｈのＮ２に変更し、充填塔の再生温度を０℃に昇温
してＮＦ３を脱離させ、液体窒素トラップに導いて回収
を行ったところ、４ｈで合計１００ＬのＮＦ３が回収さ
れた。
詳細に説明する。なお、ガス濃度の％は容量％を表し、
ガスの容積は０℃、１気圧基準とする。 実施例１ 市販のモレキュラーシーブ５Ａ（１．５ｍｍφペレット
品）を加熱のためのヒーターを備えた長さ１ｍ、内径１
０ｃｍφのＳＵＳ製の充填塔に５Ｌ充填した。モレキュ
ラーシーブ５Ａの活性化処理は窒素気流中で３５０℃、
３ｈ行った。次いで充填塔を−７０℃に冷却し、Ｎ２ガ
スで希釈されたＮＦ３濃度１％のガス５０００Ｌ／ｈを
４ｈ通気した。充填塔出口のガスをガスクロマトグラフ
で分析したが、ＮＦ３は検出されなかった。ガスを５０
Ｌ／ｈのＮ２に変更し、充填塔の再生温度を０℃に昇温
してＮＦ３を脱離させ、液体窒素トラップに導いて回収
を行ったところ、４ｈで合計１００ＬのＮＦ３が回収さ
れた。
【００２１】実施例２ ＮＦ３の再生温度を５０℃、１００℃、１５０℃と変化
させた他は実施例１と同様にしてＮＦ３の吸着、回収試
験を行った。それぞれの再生温度で１５０、１９０およ
び１９０ＬのＮＦ３が回収された。
させた他は実施例１と同様にしてＮＦ３の吸着、回収試
験を行った。それぞれの再生温度で１５０、１９０およ
び１９０ＬのＮＦ３が回収された。
【００２２】実施例３ 充填塔を−３０℃に冷却してＮ２ガスで希釈されたＮＦ
３濃度１％のガス５０００Ｌ／ｈを２ｈ通気し、ＮＦ３
の再生温度を１００℃にした他は実施例１と同様にして
ＮＦ３の吸着、再生試験を行った。吸着時において、吸
着塔出口ガスからＮＦ３は検出されなかった。ＮＦ３の
回収量は８０Ｌであった。
３濃度１％のガス５０００Ｌ／ｈを２ｈ通気し、ＮＦ３
の再生温度を１００℃にした他は実施例１と同様にして
ＮＦ３の吸着、再生試験を行った。吸着時において、吸
着塔出口ガスからＮＦ３は検出されなかった。ＮＦ３の
回収量は８０Ｌであった。
【００２３】実施例４ 吸着剤を市販のモレキュラーシーブ１３Ｘ（１．５ｍｍ
φペレット品）とした他は実施例１と同様にしてＮＦ３
の吸着、再生試験を行った。吸着時において、吸着塔出
口ガスからＮＦ３は検出されなかった。ＮＦ３の回収量
は１２０Ｌであった。
φペレット品）とした他は実施例１と同様にしてＮＦ３
の吸着、再生試験を行った。吸着時において、吸着塔出
口ガスからＮＦ３は検出されなかった。ＮＦ３の回収量
は１２０Ｌであった。
【００２４】
【発明の効果】本発明はＮＦ３を含む排ガスを、特定の
吸着剤を用いて吸着させ、吸着させた吸着剤から簡単に
脱離させ、ＮＦ３を回収することにより、ＮＦ３を分解
することなく、回収することができる。
吸着剤を用いて吸着させ、吸着させた吸着剤から簡単に
脱離させ、ＮＦ３を回収することにより、ＮＦ３を分解
することなく、回収することができる。
【００２５】
【００２６】
【図１】 本発明の回収装置の一例
【００２７】
１ 排ガス導入口 ２ 充填塔 ３ 充填塔 ４ ガス導入口 ５ ガス導入口 ６〜１２ ガス流路 １３ 冷却トラップ １４〜１５ ガス流路 １６ 粗ＮＦ３ボンベ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｂ０１Ｊ 20/10 Ｂ０１Ｊ 20/20 Ｚ 20/18 Ｂ０１Ｄ 53/34 ＺＡＢ 20/20 １２８
Claims (9)
- 【請求項１】 ＮＦ３を含む排ガスを、該排ガスから
ＮＦ３を選択的に吸着するための吸着剤と接触させ、次
いでＮＦ３を吸着した該吸着剤を再生すると同時に該吸
着剤から脱離したＮＦ３を回収することを特徴とするＮ
Ｆ３の回収方法。 - 【請求項２】 ＮＦ３を選択的に吸着するための吸着
剤がゼオライト、活性炭、シリカゲル、および活性アル
ミナよりなる群から選ばれる１種以上である請求項１記
載のＮＦ３の回収方法。 - 【請求項３】 ＮＦ３を選択的に吸着するための吸着剤
が直径０．４５ｎｍ以上の細孔を有するゼオライトであ
る請求項１または２項に記載のＮＦ３の回収方法。 - 【請求項４】 ＮＦ３の吸着を絶対圧２〜１００Ｋｇ
／ｃｍ２で行い、吸着剤の再生を１．５Ｋｇ／ｃｍ２以
下で行う請求項１〜３項のいずれか１項に記載のＮＦ３
の回収方法。 - 【請求項５】 ＮＦ３の吸着温度を０℃以下で行い、
吸着剤の再生を０〜１５０℃で行う請求項１〜４項のい
ずれか１項に記載のＮＦ３の回収方法。 - 【請求項６】 少なくとも２基以上の充填塔にＮＦ３
を選択的に吸着するための吸着剤を充填し、該充填塔を
順次切り替えて吸着操作を行う請求項１〜５項のいずれ
か１項に記載のＮＦ３の回収方法。 - 【請求項７】 請求項１の方法を実施するための装置
であって、ＮＦ３を含む排ガスの導入口、該排ガスから
ＮＦ３を選択的に吸着するための吸着剤が充填された充
填塔、およびＮＦ３を吸着した前記吸着剤を再生すると
同時に該吸着剤から脱離したＮＦ３を回収するための機
構からなることを特徴とするＮＦ３の回収装置。 - 【請求項８】 吸着剤を再生すると同時に再生された
ＮＦ３を回収するための設備が圧力スイング設備および
ＮＦ３の冷却捕集設備である請求項７記載のＮＦ３の回
収装置。 - 【請求項９】 吸着剤を再生すると同時に再生された
ＮＦ３を回収するための設備が吸着塔の加熱設備および
ＮＦ３の冷却捕集設備である請求項７または８記載のＮ
Ｆ３の回収装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9073255A JPH10263363A (ja) | 1997-03-26 | 1997-03-26 | Ｎｆ３の回収方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9073255A JPH10263363A (ja) | 1997-03-26 | 1997-03-26 | Ｎｆ３の回収方法および装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10263363A true JPH10263363A (ja) | 1998-10-06 |
Family
ID=13512897
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9073255A Pending JPH10263363A (ja) | 1997-03-26 | 1997-03-26 | Ｎｆ３の回収方法および装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10263363A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005046746A (ja) * | 2003-07-29 | 2005-02-24 | Japan Organo Co Ltd | ガス分離装置 |
| JP2008207139A (ja) * | 2007-02-28 | 2008-09-11 | Hitachi Ltd | 排ガス処理方法及び装置 |
| KR101200109B1 (ko) | 2011-10-27 | 2012-11-12 | 오씨아이머티리얼즈 주식회사 | 삼불화질소 가스의 정제장치 및 정제방법 |
| KR20140109356A (ko) * | 2010-04-15 | 2014-09-15 | 에어 프로덕츠 앤드 케미칼스, 인코오포레이티드 | 흡착 작업으로부터 ｎｆ３를 회수하는 방법 |
-
1997
- 1997-03-26 JP JP9073255A patent/JPH10263363A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005046746A (ja) * | 2003-07-29 | 2005-02-24 | Japan Organo Co Ltd | ガス分離装置 |
| JP2008207139A (ja) * | 2007-02-28 | 2008-09-11 | Hitachi Ltd | 排ガス処理方法及び装置 |
| KR20140109356A (ko) * | 2010-04-15 | 2014-09-15 | 에어 프로덕츠 앤드 케미칼스, 인코오포레이티드 | 흡착 작업으로부터 ｎｆ３를 회수하는 방법 |
| KR101200109B1 (ko) | 2011-10-27 | 2012-11-12 | 오씨아이머티리얼즈 주식회사 | 삼불화질소 가스의 정제장치 및 정제방법 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3594983A (en) | Gas-treating process and system | |
| JP4315666B2 (ja) | 合成ガス精製方法 | |
| US4842621A (en) | Recovery process | |
| JPH10114508A (ja) | 不活性ガス流れを精製する方法 | |
| KR101686085B1 (ko) | 흡착 작업으로부터 ｎｆ３를 회수하는 방법 | |
| JP4185063B2 (ja) | 温度スイング吸着法 | |
| EP0946410B1 (en) | Process for recovering sulfur hexafluoride | |
| NZ248663A (en) | Temperature swing adsorption process for purification of oxygen by cryogenic adsorption | |
| US5626033A (en) | Process for the recovery of perfluorinated compounds | |
| JP4450944B2 (ja) | パーフルオロカーボンの回収方法及び分解方法 | |
| JPH10263363A (ja) | Ｎｆ３の回収方法および装置 | |
| JP4070399B2 (ja) | ヘリウムガスの精製方法 | |
| JPS59116115A (ja) | 一酸化炭素の回収方法 | |
| JP3908819B2 (ja) | フロンの回収方法 | |
| JPS621766B2 (ja) | ||
| JPS62117612A (ja) | 吸着塔の再生方法 | |
| US20070154376A1 (en) | Purification of sulfuryl fluoride | |
| JPH1025102A (ja) | 圧力スイング吸着法における塩素の除去装置及び酸素の分離方法 | |
| JPH06254395A (ja) | Ｃｏ２回収のための圧力スイング吸着における吸着剤の再生法 | |
| JP2000272905A (ja) | クローズドｔｓａ法によるメタノール分解ガス中の有機不純物の除去方法 | |
| JPS62193623A (ja) | 易吸着物質を高純度ガスとして取り出す方法 | |
| AU2022390711A1 (en) | Method for preparing hydrogen from ammonia by using pressure swing adsorption | |
| JPH04363109A (ja) | 塩素ガスの濃縮方法 | |
| JPH10249188A (ja) | 三弗化窒素ガスの除害方法及びその装置 | |
| JPH0938451A (ja) | 溶剤回収処理方法 |