JPH10263356A - 排ガスの処理方法 - Google Patents
排ガスの処理方法Info
- Publication number
- JPH10263356A JPH10263356A JP9071921A JP7192197A JPH10263356A JP H10263356 A JPH10263356 A JP H10263356A JP 9071921 A JP9071921 A JP 9071921A JP 7192197 A JP7192197 A JP 7192197A JP H10263356 A JPH10263356 A JP H10263356A
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- JP
- Japan
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- exhaust gas
- treatment
- waste gases
- gas
- treating
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- Treating Waste Gases (AREA)
- Filtering Of Dispersed Particles In Gases (AREA)
- Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】エアレーションタンクから発生する排ガスを比
較的簡単な方法で殺菌する。 【解決手段】 下水などを処理するエアレーションタン
ク１から発生する排ガスをミストセパレータ２により除
湿した後、排ガスを温度２００℃以上で１０秒以上保持
する加熱処理により殺菌処理する。
較的簡単な方法で殺菌する。 【解決手段】 下水などを処理するエアレーションタン
ク１から発生する排ガスをミストセパレータ２により除
湿した後、排ガスを温度２００℃以上で１０秒以上保持
する加熱処理により殺菌処理する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、エアレーションタ
ンクから発生する排ガスの殺菌方法に関するものであっ
て、特に、有害病原菌を含む微生物を殺菌する方法に関
する。
ンクから発生する排ガスの殺菌方法に関するものであっ
て、特に、有害病原菌を含む微生物を殺菌する方法に関
する。
【０００２】
【従来の技術】従来、エアレーションタンクから発生す
る排ガスは、一般的には健康上悪影響があるものではな
いと考えられていた。そのなかでも特に、悪臭が発生す
る処理場の場合には、脱臭を目的とした活性炭処理、薬
品による洗浄処理、生物学的脱臭処理などが行われてい
たが、通常のエアレーションタンクの場合は、格別の処
理をすることなく大気に放出しているケースが多くみら
れる。ところが、エアレーションタンクから発生する排
ガスには、嫌気性細菌、大腸菌、または緑膿菌が含まれ
るときがあることが分かってきた。このような場合は、
排ガス中の有害細菌が環境大気に拡散して、近隣住民が
呼吸したり、皮膚に接触したりして健康上問題となるこ
とも考えられるので、このような好ましくない排ガスを
排出しないシステムの開発が要望されるにいたった。
る排ガスは、一般的には健康上悪影響があるものではな
いと考えられていた。そのなかでも特に、悪臭が発生す
る処理場の場合には、脱臭を目的とした活性炭処理、薬
品による洗浄処理、生物学的脱臭処理などが行われてい
たが、通常のエアレーションタンクの場合は、格別の処
理をすることなく大気に放出しているケースが多くみら
れる。ところが、エアレーションタンクから発生する排
ガスには、嫌気性細菌、大腸菌、または緑膿菌が含まれ
るときがあることが分かってきた。このような場合は、
排ガス中の有害細菌が環境大気に拡散して、近隣住民が
呼吸したり、皮膚に接触したりして健康上問題となるこ
とも考えられるので、このような好ましくない排ガスを
排出しないシステムの開発が要望されるにいたった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の問題
点を解決するためになされたものであり、エアレーショ
ンタンクから発生する排ガスを比較的簡単な方法で殺菌
することが可能となる排ガスの処理方法を提供する。
点を解決するためになされたものであり、エアレーショ
ンタンクから発生する排ガスを比較的簡単な方法で殺菌
することが可能となる排ガスの処理方法を提供する。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記の問題は、第１の発
明である、下水などを処理するエアレーションタンクか
ら発生する排ガスをミストセパレータにより除湿した
後、殺菌処理することを特徴とする排ガス中の微生物を
死滅させるための排ガスの処理方法により解決すること
ができる。
明である、下水などを処理するエアレーションタンクか
ら発生する排ガスをミストセパレータにより除湿した
後、殺菌処理することを特徴とする排ガス中の微生物を
死滅させるための排ガスの処理方法により解決すること
ができる。
【０００５】また、第２の発明である、下水などを処理
するエアレーションタンクから発生する排ガスを殺菌処
理した後、ミストセパレータにより除湿することを特徴
とする排ガス中の微生物を死滅させるための排ガスの処
理方法によっても解決することができる。
するエアレーションタンクから発生する排ガスを殺菌処
理した後、ミストセパレータにより除湿することを特徴
とする排ガス中の微生物を死滅させるための排ガスの処
理方法によっても解決することができる。
【０００６】なお、本発明は、次の各態様に好ましく具
体化することができる。 （１）第１の発明における前記の殺菌処理が、排ガスを
温度２００℃以上で１０秒以上保持する加熱処理である
排ガスの処理方法。 （２）第２の発明における前記の殺菌処理が、塩素化合
物溶液による、残留塩素が０．５ｍｇ／ｌ以上、液ガス
比が２ｌ／ｍ3 （ガス）以上、および接触時間が１０秒
以上に保持される洗浄処理である排ガスの処理方法。
体化することができる。 （１）第１の発明における前記の殺菌処理が、排ガスを
温度２００℃以上で１０秒以上保持する加熱処理である
排ガスの処理方法。 （２）第２の発明における前記の殺菌処理が、塩素化合
物溶液による、残留塩素が０．５ｍｇ／ｌ以上、液ガス
比が２ｌ／ｍ3 （ガス）以上、および接触時間が１０秒
以上に保持される洗浄処理である排ガスの処理方法。
【０００７】（３）第２の発明における前記の殺菌処理
が、オゾン含有水による、オゾン濃度５ｍｇ／ｌ以上、
液ガス比２ｌ／ｍ3 ガス以上、および接触時間が１０秒
以上に保持される洗浄処理である排ガスの処理方法。 （４）第２の発明における前記の殺菌処理が、銅イオン
含有水による、銅イオン濃度１ｍｇ／ｌ以上、液ガス比
２ｌ／ｍ3 ガス以上、および接触時間が３０秒以上に保
持される洗浄処理である排ガスの処理方法。
が、オゾン含有水による、オゾン濃度５ｍｇ／ｌ以上、
液ガス比２ｌ／ｍ3 ガス以上、および接触時間が１０秒
以上に保持される洗浄処理である排ガスの処理方法。 （４）第２の発明における前記の殺菌処理が、銅イオン
含有水による、銅イオン濃度１ｍｇ／ｌ以上、液ガス比
２ｌ／ｍ3 ガス以上、および接触時間が３０秒以上に保
持される洗浄処理である排ガスの処理方法。
【０００８】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施形態について
図１〜図６を参照しながら説明する。本発明の第１の発
明に基づく実施形態は、図１のフロー図により説明され
る。すなわち、下水などを処理するエアレーションタン
ク１において、タンク底部に設けられた散気装置１１に
より処理水中に気泡を放出してエアレーションが行われ
る。その結果、処理水の飛沫を含んだ排ガスが発生する
ことになるが、エアレーションタンク１には適宜な蓋体
を被せておき排ガスが外部に散逸しないよう防止すると
ともに、排ガスをミストセパレータ２に導いて除湿す
る。
図１〜図６を参照しながら説明する。本発明の第１の発
明に基づく実施形態は、図１のフロー図により説明され
る。すなわち、下水などを処理するエアレーションタン
ク１において、タンク底部に設けられた散気装置１１に
より処理水中に気泡を放出してエアレーションが行われ
る。その結果、処理水の飛沫を含んだ排ガスが発生する
ことになるが、エアレーションタンク１には適宜な蓋体
を被せておき排ガスが外部に散逸しないよう防止すると
ともに、排ガスをミストセパレータ２に導いて除湿す
る。
【０００９】本発明は、有害細菌などがエアレーション
により発生した処理水の飛沫とともに外部に排出される
点に着目したものであり、その特徴の一つが、エアレー
ションタンク１で発生した排ガスを先ずミストセパレー
タ２に導いて除湿する点にある。ここで用いられるミス
トセパレータには、例えば、ガラス繊維マットのような
障害物に排ガスを通過させ、含有する液滴をガラス繊維
に衝突させてガスから分離する装置が適当であるが、他
の形式の装置も応用できる。また、ここでいう除湿と
は、主として排ガス中の微細な水滴を除去することを意
味するものである。そして、このミストセパレータの処
理により、有害細菌の約９０％を除去することができる
のである。また、次の加熱処理の前段階で除湿している
ので、加熱炉の熱効率が高く燃料が節約できるという副
次的利点も得られる。
により発生した処理水の飛沫とともに外部に排出される
点に着目したものであり、その特徴の一つが、エアレー
ションタンク１で発生した排ガスを先ずミストセパレー
タ２に導いて除湿する点にある。ここで用いられるミス
トセパレータには、例えば、ガラス繊維マットのような
障害物に排ガスを通過させ、含有する液滴をガラス繊維
に衝突させてガスから分離する装置が適当であるが、他
の形式の装置も応用できる。また、ここでいう除湿と
は、主として排ガス中の微細な水滴を除去することを意
味するものである。そして、このミストセパレータの処
理により、有害細菌の約９０％を除去することができる
のである。また、次の加熱処理の前段階で除湿している
ので、加熱炉の熱効率が高く燃料が節約できるという副
次的利点も得られる。
【００１０】さらに、この実施形態では、前記の除湿を
行った後、適宜な手段で殺菌処理すればよいのである
が、この場合には排ガスを加熱処理するのが好適であ
る。ここに、加熱処理について、加熱温度をパラメータ
として排ガスの保持時間を横軸に、除菌率を縦軸にして
それらの関係を表す１事例を図２のグラフに示す。これ
によれば、除菌率９０％以上を達成しようとすれば、排
ガスを温度２００℃以上で１０秒以上保持する必要があ
ることが分かる。また、加熱炉としては、その形式を問
わないが、できるだけ吹き抜けの生じない構造が好まし
く、処理通路に邪魔板を多数設け、ジクザグ経路にした
構造が適当である。このようにして、有害細菌を除去し
た排ガスは、煙突５を通じて大気に放出される。
行った後、適宜な手段で殺菌処理すればよいのである
が、この場合には排ガスを加熱処理するのが好適であ
る。ここに、加熱処理について、加熱温度をパラメータ
として排ガスの保持時間を横軸に、除菌率を縦軸にして
それらの関係を表す１事例を図２のグラフに示す。これ
によれば、除菌率９０％以上を達成しようとすれば、排
ガスを温度２００℃以上で１０秒以上保持する必要があ
ることが分かる。また、加熱炉としては、その形式を問
わないが、できるだけ吹き抜けの生じない構造が好まし
く、処理通路に邪魔板を多数設け、ジクザグ経路にした
構造が適当である。このようにして、有害細菌を除去し
た排ガスは、煙突５を通じて大気に放出される。
【００１１】次に、この実施形態における排ガス中の菌
数（ＣＦＵ／ｍ3 ）を、エアレーションタンク直後の原
ガス、ミストセパレータ直後、加熱処理後の３段階につ
いて比較した結果を表１に示す。これによれば、最終的
に、健康上問題となり得る有害細菌である嫌気性細菌、
糞便性大腸菌、緑膿菌のいずれについても高い除菌率が
得られている。また、ミストセパレータ直後の菌数をみ
ると、既にこの段階において、原ガスに比較して約９０
％以上除去されていることが分かる。
数（ＣＦＵ／ｍ3 ）を、エアレーションタンク直後の原
ガス、ミストセパレータ直後、加熱処理後の３段階につ
いて比較した結果を表１に示す。これによれば、最終的
に、健康上問題となり得る有害細菌である嫌気性細菌、
糞便性大腸菌、緑膿菌のいずれについても高い除菌率が
得られている。また、ミストセパレータ直後の菌数をみ
ると、既にこの段階において、原ガスに比較して約９０
％以上除去されていることが分かる。
【００１２】
【表１】 注：NDは検出できなかったことを示す。
【００１３】次に本発明の第２の発明に基づく実施形態
を、図３のフロー図により説明する。エアレーションタ
ンク１から発生する処理水の飛沫を含んだ排ガスが外部
に散逸しないよう防止しながら取り出すのは先の場合と
同様である。そして、その排ガスを適宜な湿式の殺菌手
段、例えばスクラバ４内にて薬剤に接触させて殺菌処理
を行った後、その排ガスをミストセパレータ２に導いて
除湿してから煙突５を通じて大気に放出する点で、先の
場合と異なっている。
を、図３のフロー図により説明する。エアレーションタ
ンク１から発生する処理水の飛沫を含んだ排ガスが外部
に散逸しないよう防止しながら取り出すのは先の場合と
同様である。そして、その排ガスを適宜な湿式の殺菌手
段、例えばスクラバ４内にて薬剤に接触させて殺菌処理
を行った後、その排ガスをミストセパレータ２に導いて
除湿してから煙突５を通じて大気に放出する点で、先の
場合と異なっている。
【００１４】この実施形態では、エアレーションタンク
１から導出した排ガスを湿潤状態で殺菌処理するところ
に特徴があり、具体的には、例えば、塩素化合物溶液、
オゾン含有水、オゾン含有水のような殺菌薬剤溶液を散
水して噴霧状態とする容器、例えばスクラバ４に対象排
ガスを導き入れ、これら殺菌薬剤に接触させて殺菌する
方法が好ましく採用され得る。なお、殺菌薬剤溶液との
接触方法としては、スクラバ４による散水式のほか、当
該溶液中に排ガスを散気して気泡状態として接触させる
方法も応用できるのは勿論である。
１から導出した排ガスを湿潤状態で殺菌処理するところ
に特徴があり、具体的には、例えば、塩素化合物溶液、
オゾン含有水、オゾン含有水のような殺菌薬剤溶液を散
水して噴霧状態とする容器、例えばスクラバ４に対象排
ガスを導き入れ、これら殺菌薬剤に接触させて殺菌する
方法が好ましく採用され得る。なお、殺菌薬剤溶液との
接触方法としては、スクラバ４による散水式のほか、当
該溶液中に排ガスを散気して気泡状態として接触させる
方法も応用できるのは勿論である。
【００１５】ここで、前記の殺菌処理が、塩素化合物溶
液による場合には、処理後の残留塩素が０．５ｍｇ／ｌ
以上、液ガス比が２ｌ／ｍ3 （ガス）以上、および接触
時間が１０秒以上に保持される洗浄処理であるのが好適
である。ここに、次亜塩素酸ソーダ水溶液を用いた場
合、残留塩素濃度をパラメータとして除菌率に及ぼす接
触時間の関係を表す事例を図４のグラフに示す。図４の
結果によれば、除菌率９０％以上を達成しようとすれ
ば、残留塩素が０．５ｍｇ／ｌ以上で１０秒以上接触を
保持する必要があることが分かる。また、液ガス比が２
ｌ／ｍ3 （ガス）を下回る場合には、排ガスと塩素化合
物溶液との接触効率が低下して充分な効果が得られなく
なるので避けなければならない。
液による場合には、処理後の残留塩素が０．５ｍｇ／ｌ
以上、液ガス比が２ｌ／ｍ3 （ガス）以上、および接触
時間が１０秒以上に保持される洗浄処理であるのが好適
である。ここに、次亜塩素酸ソーダ水溶液を用いた場
合、残留塩素濃度をパラメータとして除菌率に及ぼす接
触時間の関係を表す事例を図４のグラフに示す。図４の
結果によれば、除菌率９０％以上を達成しようとすれ
ば、残留塩素が０．５ｍｇ／ｌ以上で１０秒以上接触を
保持する必要があることが分かる。また、液ガス比が２
ｌ／ｍ3 （ガス）を下回る場合には、排ガスと塩素化合
物溶液との接触効率が低下して充分な効果が得られなく
なるので避けなければならない。
【００１６】また、前記の殺菌処理が、オゾン含有水に
よるものである場合には、オゾン濃度５ｍｇ／ｌ以上、
液ガス比２ｌ／ｍ3 ガス以上、および接触時間が１０秒
以上に保持される洗浄処理であるのが特に好適である。
ここに、オゾン含有水を用いたときオゾン濃度をパラメ
ータとして、除菌率に及ぼす接触時間の関係を表す事例
を図５のグラフに示す。図５の結果によれば、除菌率９
０％以上を達成しようとすれば、残留オゾン濃度５ｍｇ
／ｌ以上であって接触時間が１０秒以上に保持される必
要があることが分かる。また、先の次亜塩素酸ソーダ水
溶液の場合と同じく、液ガス比が２ｌ／ｍ3 （ガス）を
下回る場合には、排ガスとオゾン含有水との接触効率が
低下して充分な効果が得られなくなる。
よるものである場合には、オゾン濃度５ｍｇ／ｌ以上、
液ガス比２ｌ／ｍ3 ガス以上、および接触時間が１０秒
以上に保持される洗浄処理であるのが特に好適である。
ここに、オゾン含有水を用いたときオゾン濃度をパラメ
ータとして、除菌率に及ぼす接触時間の関係を表す事例
を図５のグラフに示す。図５の結果によれば、除菌率９
０％以上を達成しようとすれば、残留オゾン濃度５ｍｇ
／ｌ以上であって接触時間が１０秒以上に保持される必
要があることが分かる。また、先の次亜塩素酸ソーダ水
溶液の場合と同じく、液ガス比が２ｌ／ｍ3 （ガス）を
下回る場合には、排ガスとオゾン含有水との接触効率が
低下して充分な効果が得られなくなる。
【００１７】さらに、前記の殺菌処理が、銅イオン含有
水によるものである場合には、銅イオン濃度１ｍｇ／ｌ
以上、液ガス比２ｌ／ｍ3 ガス以上、および接触時間が
３０秒以上に保持される洗浄処理であるのが特に好適で
ある。ここに、硫酸銅水溶液を用いたとき銅イオン濃度
をパラメータとして、除菌率に及ぼす接触時間の関係を
表す事例を図６のグラフに示す。この図６の結果によれ
ば、除菌率９０％以上を達成しようとすれば、残留銅イ
オン濃度１ｍｇ／ｌ以上であって接触時間が３０秒以上
に保持される必要があることが分かる。また、先の次亜
塩素酸ソーダ水溶液の場合と同じく、液ガス比が２ｌ／
ｍ3 （ガス）を下回る場合には、排ガスとオゾン含有水
との接触効率が低下して充分な効果が得られなくなる。
水によるものである場合には、銅イオン濃度１ｍｇ／ｌ
以上、液ガス比２ｌ／ｍ3 ガス以上、および接触時間が
３０秒以上に保持される洗浄処理であるのが特に好適で
ある。ここに、硫酸銅水溶液を用いたとき銅イオン濃度
をパラメータとして、除菌率に及ぼす接触時間の関係を
表す事例を図６のグラフに示す。この図６の結果によれ
ば、除菌率９０％以上を達成しようとすれば、残留銅イ
オン濃度１ｍｇ／ｌ以上であって接触時間が３０秒以上
に保持される必要があることが分かる。また、先の次亜
塩素酸ソーダ水溶液の場合と同じく、液ガス比が２ｌ／
ｍ3 （ガス）を下回る場合には、排ガスとオゾン含有水
との接触効率が低下して充分な効果が得られなくなる。
【００１８】次に本発明の第２の発明の特徴は、このよ
うにして排ガスを湿潤状態で殺菌処理した後、排ガスを
ミストセパレータ２に導いて除湿する点にある。ここで
用いられるミストセパレータには、先に述べたものと同
様に各種形式のものが応用できるが、前段階で発生した
水滴、飛沫などのミストが大気に放出されないよう捕集
できる性能のセパレータが選択される。このように、こ
の第２の発明によれば、スクラバを用いた殺菌薬剤の洗
浄処理による殺菌が行われるうえ、処理後にミストセパ
レータによって除湿するので、この段階で、さらに有害
細菌が捕集、除去されるとともに、塩素分、オゾン分、
または銅イオンなどの殺菌薬剤もミストとともに捕集さ
れるから、環境大気に放出されるおそれがない利点があ
る。
うにして排ガスを湿潤状態で殺菌処理した後、排ガスを
ミストセパレータ２に導いて除湿する点にある。ここで
用いられるミストセパレータには、先に述べたものと同
様に各種形式のものが応用できるが、前段階で発生した
水滴、飛沫などのミストが大気に放出されないよう捕集
できる性能のセパレータが選択される。このように、こ
の第２の発明によれば、スクラバを用いた殺菌薬剤の洗
浄処理による殺菌が行われるうえ、処理後にミストセパ
レータによって除湿するので、この段階で、さらに有害
細菌が捕集、除去されるとともに、塩素分、オゾン分、
または銅イオンなどの殺菌薬剤もミストとともに捕集さ
れるから、環境大気に放出されるおそれがない利点があ
る。
【００１９】また、この第２の発明においても、殺菌処
理後のミストセパレータとは別個に、第１の発明のよう
に、殺菌処理の前段階にミストセパレータを介在させて
おけば、、殺菌処理を行う前に除菌対象の細菌数をあら
かじめ９０％程度減少させることができるから、総合除
菌率を高く維持できる、より好適な排ガスの処理方法を
提供することができる。
理後のミストセパレータとは別個に、第１の発明のよう
に、殺菌処理の前段階にミストセパレータを介在させて
おけば、、殺菌処理を行う前に除菌対象の細菌数をあら
かじめ９０％程度減少させることができるから、総合除
菌率を高く維持できる、より好適な排ガスの処理方法を
提供することができる。
【００２０】
【発明の効果】本発明の排ガスの処理方法は、以上に説
明したように構成されているので、エアレーションタン
クから発生する排ガス中の有害細菌を外部に放出するこ
となく、比較的簡単な方法でその大部分を殺菌すること
が可能となり、また、殺菌に用いた薬剤を環境大気に放
出しないという優れた効果がある。よって本発明は従来
の問題点を解消した排ガスの処理方法として、その工業
的価値は極めて大なるものがある。
明したように構成されているので、エアレーションタン
クから発生する排ガス中の有害細菌を外部に放出するこ
となく、比較的簡単な方法でその大部分を殺菌すること
が可能となり、また、殺菌に用いた薬剤を環境大気に放
出しないという優れた効果がある。よって本発明は従来
の問題点を解消した排ガスの処理方法として、その工業
的価値は極めて大なるものがある。
【図１】本発明の１実施形態を説明するためのフロー略
図。
図。
【図２】処理温度、処理時間と除菌率の関係を示すグラ
フ。
フ。
【図３】本発明の他の実施形態を説明するためのフロー
略図。
略図。
【図４】塩素濃度、処理時間と除菌率の関係を示すグラ
フ。
フ。
【図５】オゾン濃度、処理時間と除菌率の関係を示すグ
ラフ。
ラフ。
【図６】銅イオン濃度、処理時間と除菌率の関係を示す
グラフ。
グラフ。
１ エアレーションタンク ２ ミストセパレータ ３ 加熱炉 ４ スクラバ
Claims (6)
- 【請求項１】 下水などを処理するエアレーションタン
クから発生する排ガスをミストセパレータにより除湿し
た後、殺菌処理することを特徴とする排ガス中の微生物
を死滅させるための排ガスの処理方法。 - 【請求項２】 下水などを処理するエアレーションタン
クから発生する排ガスを殺菌処理した後、ミストセパレ
ータにより除湿することを特徴とする排ガス中の微生物
を死滅させるための排ガスの処理方法。 - 【請求項３】 殺菌処理が、排ガスを温度２００℃以上
で１０秒以上保持する加熱処理である請求項１に記載の
排ガスの処理方法。 - 【請求項４】 殺菌処理が、塩素化合物溶液による、残
留塩素が０．５ｍｇ／ｌ以上、液ガス比が２ｌ／ｍ
3 （ガス）以上、および接触時間が１０秒以上に保持さ
れる洗浄処理である請求項２に記載の排ガスの処理方
法。 - 【請求項５】 殺菌処理が、オゾン含有水による、オゾ
ン濃度５ｍｇ／ｌ以上、液ガス比２ｌ／ｍ3 ガス以上、
および接触時間が１０秒以上に保持される洗浄処理であ
る請求項２に記載の排ガスの処理方法。 - 【請求項６】 殺菌処理が、銅イオン含有水による、銅
イオン濃度１ｍｇ／ｌ以上、液ガス比２ｌ／ｍ3 ガス以
上、および接触時間が３０秒以上に保持される洗浄処理
である請求項２に記載の排ガスの処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9071921A JPH10263356A (ja) | 1997-03-25 | 1997-03-25 | 排ガスの処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9071921A JPH10263356A (ja) | 1997-03-25 | 1997-03-25 | 排ガスの処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10263356A true JPH10263356A (ja) | 1998-10-06 |
Family
ID=13474492
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9071921A Pending JPH10263356A (ja) | 1997-03-25 | 1997-03-25 | 排ガスの処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10263356A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2019126764A (ja) * | 2018-01-23 | 2019-08-01 | 三菱日立パワーシステムズ株式会社 | 湿式排ガス脱硫装置及び湿式排ガス脱硫方法 |
| CN113101402A (zh) * | 2021-04-12 | 2021-07-13 | 山东泰和水处理科技股份有限公司 | 微生物发酵过程空气灭菌的方法及其装置 |
-
1997
- 1997-03-25 JP JP9071921A patent/JPH10263356A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2019126764A (ja) * | 2018-01-23 | 2019-08-01 | 三菱日立パワーシステムズ株式会社 | 湿式排ガス脱硫装置及び湿式排ガス脱硫方法 |
| CN113101402A (zh) * | 2021-04-12 | 2021-07-13 | 山东泰和水处理科技股份有限公司 | 微生物发酵过程空气灭菌的方法及其装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20011214 |