JPH10256416A - 配線基板における導電バンプの構造 - Google Patents
配線基板における導電バンプの構造Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】配線基板上に配線パターンを形成する際に、該
配線パターンを形成する導電リードの一部で導電バンプ
を均一に形成し、配線パターンを狭ピッチで高密度に形
成できる技術を活用して導電バンプを狭ピッチに形成で
きるようにする。 【解決手段】絶縁ベース2の表面に配線パターンを有す
る配線基板1において、上記絶縁ベース2の極部を絶縁
ベース2表面より隆起させて突起を形成し、該突起の表
面を上記配線パターンを形成するリード3の一部で覆っ
て導電バンプ3aを形成する配線基板における導電バン
プの構造。
配線パターンを形成する導電リードの一部で導電バンプ
を均一に形成し、配線パターンを狭ピッチで高密度に形
成できる技術を活用して導電バンプを狭ピッチに形成で
きるようにする。 【解決手段】絶縁ベース2の表面に配線パターンを有す
る配線基板1において、上記絶縁ベース2の極部を絶縁
ベース2表面より隆起させて突起を形成し、該突起の表
面を上記配線パターンを形成するリード3の一部で覆っ
て導電バンプ3aを形成する配線基板における導電バン
プの構造。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明はIC等の電子部品
との接触又は接続に用いる配線基板、殊に上記接触又は
接続に供される配線基板における導電バンプの構造に関
する。
との接触又は接続に用いる配線基板、殊に上記接触又は
接続に供される配線基板における導電バンプの構造に関
する。
【0002】本願明細書において、接触とは接離の自由
な自由接触面を以っての電気的接続、接続とはハンダ等
を以って接離不能に結合する電気的接続を意味する。
な自由接触面を以っての電気的接続、接続とはハンダ等
を以って接離不能に結合する電気的接続を意味する。
【0003】
【従来の技術】従来IC等の電子部品を配線基板に搭載
し電気的に接続する場合、上記配線基板の表面に配線パ
ターンを形成しつつ、この配線パターンを形成するリー
ドの表面に導電ペースト等の異金属を盛り上げて導電バ
ンプを形成し、この導電バンプに上記電子部品の端子を
接触又は接続する方法が採られている。
し電気的に接続する場合、上記配線基板の表面に配線パ
ターンを形成しつつ、この配線パターンを形成するリー
ドの表面に導電ペースト等の異金属を盛り上げて導電バ
ンプを形成し、この導電バンプに上記電子部品の端子を
接触又は接続する方法が採られている。
【0004】又配線基板と配線基板の電気的接続におい
ても、同様に一方の配線基板の配線パターンを形成する
リードの表面に上記導電バンプを形成し、この導電バン
プを以って上記他の配線基板のリード端に形成された端
子と接触又は接続させる方法が採られている。
ても、同様に一方の配線基板の配線パターンを形成する
リードの表面に上記導電バンプを形成し、この導電バン
プを以って上記他の配線基板のリード端に形成された端
子と接触又は接続させる方法が採られている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】然しながら、配線基板
の導電リード上にハンダペースト等の異金属を盛り上げ
て導電バンプを形成する方法は、その形成法の複雑さ
や、位置精度の確保が難しいことや、導電バンプの高さ
の形状のバラツキ等、克服すべき問題点が多く、端子ピ
ッチの狭小化に対応する有効な手段でもあるにも拘ら
ず、これらの問題点がその実用化を妨げている。
の導電リード上にハンダペースト等の異金属を盛り上げ
て導電バンプを形成する方法は、その形成法の複雑さ
や、位置精度の確保が難しいことや、導電バンプの高さ
の形状のバラツキ等、克服すべき問題点が多く、端子ピ
ッチの狭小化に対応する有効な手段でもあるにも拘ら
ず、これらの問題点がその実用化を妨げている。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は上記問題点を適
切に解決し、その実用化を促進する配線基板における導
電バンプの構造を提供するものである。
切に解決し、その実用化を促進する配線基板における導
電バンプの構造を提供するものである。
【0007】即ち、従来例は回路基板の導電リード上に
異金属を盛り上げてバンプを形成しているが、本発明で
は配線基板上にリードを形成する過程において、該リー
ドの一部で導電バンプを形成するようにしたものであ
る。
異金属を盛り上げてバンプを形成しているが、本発明で
は配線基板上にリードを形成する過程において、該リー
ドの一部で導電バンプを形成するようにしたものであ
る。
【0008】具体的には、絶縁ベースの所定位置に、該
ベース表面より隆起する絶縁突起を形成して置き、この
突起の表面を覆うように上記リードを延在させ、この突
起及びこの突起を覆うリード部分で導電バンプを形成す
るようにしたものである。
ベース表面より隆起する絶縁突起を形成して置き、この
突起の表面を覆うように上記リードを延在させ、この突
起及びこの突起を覆うリード部分で導電バンプを形成す
るようにしたものである。
【0009】又は他の具体例として上記リードを形成す
る際に、該リードの一部を極部的に山形に付形し、これ
を絶縁ベースに密着することによって、山形に付形され
た突起と絶縁ベース間に空洞を持つ導電バンプを形成し
たものである。
る際に、該リードの一部を極部的に山形に付形し、これ
を絶縁ベースに密着することによって、山形に付形され
た突起と絶縁ベース間に空洞を持つ導電バンプを形成し
たものである。
【0010】何れの例も配線基板上に配線リードを狭ピ
ッチで配線することができる技術を利用して、導電バン
プを狭ピッチで付設することができると共に、形状付与
や高さ付与に関しても容易且つ均一に設定することがで
きる。
ッチで配線することができる技術を利用して、導電バン
プを狭ピッチで付設することができると共に、形状付与
や高さ付与に関しても容易且つ均一に設定することがで
きる。
【0011】
【発明の実施の形態】図1に示すように、配線基板1は
配線パターンを有し、この配線パターンは絶縁ベース2
の表面に一体に密着して延在せるリード3によって形成
され、このリード3の一端をIC4の搭載領域に集中
し、このリード一端で導電バンプ3aを形成し、このバ
ンプ3aを上記IC4の表面に密着されたパッド(端
子)5との接触又は接続に供する。
配線パターンを有し、この配線パターンは絶縁ベース2
の表面に一体に密着して延在せるリード3によって形成
され、このリード3の一端をIC4の搭載領域に集中
し、このリード一端で導電バンプ3aを形成し、このバ
ンプ3aを上記IC4の表面に密着されたパッド(端
子)5との接触又は接続に供する。
【0012】上記導電バンプ3aの形成手段として、図
2A、図3A,Bに示すように、絶縁ベース2の極部を
該絶縁ベース表面より隆起させて絶縁突起6を形成し、
この突起6の表面を上記リード3の一部で覆って、即ち
リード3を上記突起6を覆うように配線し、リード3の
端部に導電バンプ3aを形成する。
2A、図3A,Bに示すように、絶縁ベース2の極部を
該絶縁ベース表面より隆起させて絶縁突起6を形成し、
この突起6の表面を上記リード3の一部で覆って、即ち
リード3を上記突起6を覆うように配線し、リード3の
端部に導電バンプ3aを形成する。
【0013】この導電バンプ3aは絶縁ベース2の表面
にリード3を形成する技術によって形成されるバンプで
あり、このバンプ3aはリード3の一部を山形に付形す
る場合の空洞を、絶縁ベース2を極部的に隆起させて形
成した突起6で埋め、バックアップしたバンプ構造であ
る。
にリード3を形成する技術によって形成されるバンプで
あり、このバンプ3aはリード3の一部を山形に付形す
る場合の空洞を、絶縁ベース2を極部的に隆起させて形
成した突起6で埋め、バックアップしたバンプ構造であ
る。
【0014】上記導電バンプ3aは例えば図4に示すリ
ード形成法によって実現できる。
ード形成法によって実現できる。
【0015】図4Aに示すように、SUSに代表される
金属板から成る、表面において開口する山形のバンプ成
形用凹所7を設けた転写板8を準備する。
金属板から成る、表面において開口する山形のバンプ成
形用凹所7を設けた転写板8を準備する。
【0016】次に図4Bに示すように上記転写板8の表
面に導電膜10を一体に積層する。この導電膜10は上
記転写板8の全表面を覆いつつ、バンプ成形用凹所7の
存在部において凹所7の内底面に密着して山形に付形さ
れ、導電バンプ3aを形成すると共に、この導電バンプ
3aの内側に凹所7を形成する。
面に導電膜10を一体に積層する。この導電膜10は上
記転写板8の全表面を覆いつつ、バンプ成形用凹所7の
存在部において凹所7の内底面に密着して山形に付形さ
れ、導電バンプ3aを形成すると共に、この導電バンプ
3aの内側に凹所7を形成する。
【0017】次に図4Cに示すように、導電膜10の表
面に絶縁層を成層し、均一な厚みの絶縁ベース2を形成
する。
面に絶縁層を成層し、均一な厚みの絶縁ベース2を形成
する。
【0018】この絶縁層、即ち絶縁ベース2の一部は凹
所7内に充填されて、絶縁ベース2の極部を隆起した絶
縁突起6を成形し、この突起6の表面に一体に密着して
覆う導電バンプ3aを形成する。
所7内に充填されて、絶縁ベース2の極部を隆起した絶
縁突起6を成形し、この突起6の表面に一体に密着して
覆う導電バンプ3aを形成する。
【0019】次に図4Dに示すように、転写板8から絶
縁ベース2を脱型し、次で図4Eに示すように、上記脱
型された絶縁ベース2の表面の導電膜10にエッチング
処理を施して配線パターンを形成する。よってこの配線
パターンを形成するリード3の一部で覆うバンプ3aを
形成したものである。換言するとリード端部又はリード
の延在長の途中に上記突起6をリード3の一部で覆うバ
ンプ3aを形成したものである。
縁ベース2を脱型し、次で図4Eに示すように、上記脱
型された絶縁ベース2の表面の導電膜10にエッチング
処理を施して配線パターンを形成する。よってこの配線
パターンを形成するリード3の一部で覆うバンプ3aを
形成したものである。換言するとリード端部又はリード
の延在長の途中に上記突起6をリード3の一部で覆うバ
ンプ3aを形成したものである。
【0020】図5は図2A、図3A,Bに示すバンプ3
aを形成するための他の方法を示している。
aを形成するための他の方法を示している。
【0021】図5Aに示すように、SUSに代表される
金属板から成る、表面において開口する山形のバンプ成
形用凹所7を設けた転写板8を準備する。
金属板から成る、表面において開口する山形のバンプ成
形用凹所7を設けた転写板8を準備する。
【0022】次に図5Bに示すように、転写板8の表面
にホトレジストを塗布、又はホトレジストをラミネート
し、露光と現像の工程によりパターニングし、レジスト
パターン11を形成する。
にホトレジストを塗布、又はホトレジストをラミネート
し、露光と現像の工程によりパターニングし、レジスト
パターン11を形成する。
【0023】次に図5Cに示すように、メッキ工法によ
り上記レジストパターン11間において転写板8の表面
に配線パターン(リード3)をメッキ成長せしめる。
り上記レジストパターン11間において転写板8の表面
に配線パターン(リード3)をメッキ成長せしめる。
【0024】上記メッキ成長されたリード3はその端部
又は延在長の途中が、上記バンプ成形用凹所7の存在部
において同凹所7の内底面に一体に密着して山形に付形
され導電バンプ3aを形成しつつ、この導電バンプ3a
の内面側に凹所7を形成する。
又は延在長の途中が、上記バンプ成形用凹所7の存在部
において同凹所7の内底面に一体に密着して山形に付形
され導電バンプ3aを形成しつつ、この導電バンプ3a
の内面側に凹所7を形成する。
【0025】次に図5Dに示すように、上記配線パター
ンの表面を覆うように絶縁層を成層し、均一な厚みの絶
縁ベース2を形成する。この絶縁層、即ち絶縁ベース2
の一部は上記バンプ成形用凹所7内に充填されて、絶縁
ベース2の極部を隆起した絶縁突起6を成形する。よっ
てこの絶縁突起6の表面に一体に密着し、同表面を覆う
導電バンプ3aを形成する。
ンの表面を覆うように絶縁層を成層し、均一な厚みの絶
縁ベース2を形成する。この絶縁層、即ち絶縁ベース2
の一部は上記バンプ成形用凹所7内に充填されて、絶縁
ベース2の極部を隆起した絶縁突起6を成形する。よっ
てこの絶縁突起6の表面に一体に密着し、同表面を覆う
導電バンプ3aを形成する。
【0026】次に図5Eに示すように転写板8から絶縁
ベース2を脱型することによって、図2A、図3A,B
に示す導電バンプ構造を持った配線基板1を得る。
ベース2を脱型することによって、図2A、図3A,B
に示す導電バンプ構造を持った配線基板1を得る。
【0027】更に図6は上記導電バンプ3aを絶縁突起
6でバックアップした構造を持つ配線基板の他の製造法
を示す。
6でバックアップした構造を持つ配線基板の他の製造法
を示す。
【0028】図6Aに示すように、前記と同様のバンプ
成形用凹所7を持つ金属製の転写板8を用意し、この転
写板8に銅箔等の導電膜14と、絶縁ベース2とを、導
電膜14を間にして重ね、この重ね合せ体を真空熱プレ
ス機等を用いて熱圧着して一体積層構造にすると同時
に、絶縁ベース2の一部と導電膜14の一部をバンプ成
形用凹所7内に一緒に押し込み、次で脱型することによ
り、図6Bに示すようなバンプ付基板を得ることができ
る。
成形用凹所7を持つ金属製の転写板8を用意し、この転
写板8に銅箔等の導電膜14と、絶縁ベース2とを、導
電膜14を間にして重ね、この重ね合せ体を真空熱プレ
ス機等を用いて熱圧着して一体積層構造にすると同時
に、絶縁ベース2の一部と導電膜14の一部をバンプ成
形用凹所7内に一緒に押し込み、次で脱型することによ
り、図6Bに示すようなバンプ付基板を得ることができ
る。
【0029】上記熱圧着に際して上記絶縁ベース2の極
部と導電膜14の極部をバンプ成形用凹所7内へ一緒に
押し込むことにより、前記絶縁突起6を凹所7にて山形
に成形すると同時に、上記導電膜14の極部を同凹所7
にて山形に成形して導電バンプ3aを形成し、両者3
a,6を一体に密着しつつ導電バンプ3aを絶縁突起6
でバックアップしたバンプ構造を得る。
部と導電膜14の極部をバンプ成形用凹所7内へ一緒に
押し込むことにより、前記絶縁突起6を凹所7にて山形
に成形すると同時に、上記導電膜14の極部を同凹所7
にて山形に成形して導電バンプ3aを形成し、両者3
a,6を一体に密着しつつ導電バンプ3aを絶縁突起6
でバックアップしたバンプ構造を得る。
【0030】次に図4Eと同様に、上記導電膜14にホ
トエッチングプロセス等でパターニングし配線パターン
を形成する。
トエッチングプロセス等でパターニングし配線パターン
を形成する。
【0031】図6に示す実施形態例においては、絶縁ベ
ース2及び導電膜14の極部を上記バンプ成形用凹所7
内へ隙間なく確実に押し込ませる手段として、図6Aに
示すように、絶縁ベース2の表面、即ち凹所7とは反対
側の表面に絶縁バンプ15を設けて置き、この絶縁バン
プ15を前記熱圧着により平らに圧縮することによりベ
ースの一部を凹所7内へ緊密に充填し健全なる絶縁突起
6を成形することができる。
ース2及び導電膜14の極部を上記バンプ成形用凹所7
内へ隙間なく確実に押し込ませる手段として、図6Aに
示すように、絶縁ベース2の表面、即ち凹所7とは反対
側の表面に絶縁バンプ15を設けて置き、この絶縁バン
プ15を前記熱圧着により平らに圧縮することによりベ
ースの一部を凹所7内へ緊密に充填し健全なる絶縁突起
6を成形することができる。
【0032】導電バンプ3aの形状が小さく、狭ピッチ
である場合には、上記の如くベース2よりも比較的硬い
絶縁材から成るバンプ15を絶縁ベース2上に印刷等に
より付成して熱プレスすると、絶縁バンプ15が絶縁ベ
ース2及び導電膜14を凹所7内に押し込む効果が良好
に得られ、導電バンプ3aを凹所7の内面に倣わせて所
定の形状に健全に成形できる。
である場合には、上記の如くベース2よりも比較的硬い
絶縁材から成るバンプ15を絶縁ベース2上に印刷等に
より付成して熱プレスすると、絶縁バンプ15が絶縁ベ
ース2及び導電膜14を凹所7内に押し込む効果が良好
に得られ、導電バンプ3aを凹所7の内面に倣わせて所
定の形状に健全に成形できる。
【0033】一適例として上記導電パンプ3aを絶縁突
起6でバックアップするバンプ構造を持つ配線基板1に
おいては、上記絶縁ベース2の素材としてゴム系の材料
を用いる。これにより導電バンプ3aをゴム系の材料か
ら成る絶縁突起6でバックアップするバンプ構造を形成
でき、図1に示すように、導電バンプ3aを他の配線基
板やIC等の電子部品に接触させる場合、導電バンプ3
aに適当な弾力を付与し、接触圧を高めることができ
る。
起6でバックアップするバンプ構造を持つ配線基板1に
おいては、上記絶縁ベース2の素材としてゴム系の材料
を用いる。これにより導電バンプ3aをゴム系の材料か
ら成る絶縁突起6でバックアップするバンプ構造を形成
でき、図1に示すように、導電バンプ3aを他の配線基
板やIC等の電子部品に接触させる場合、導電バンプ3
aに適当な弾力を付与し、接触圧を高めることができ
る。
【0034】上記図4、図5、図6により得られた配線
基板1は絶縁ベース2の極部を同ベース表面より隆起さ
せて突起6を形成し、配線パターンを形成する際にこの
突起6の表面をリード3の一部で覆って導電バンプ3a
を形成した構造を持つ。
基板1は絶縁ベース2の極部を同ベース表面より隆起さ
せて突起6を形成し、配線パターンを形成する際にこの
突起6の表面をリード3の一部で覆って導電バンプ3a
を形成した構造を持つ。
【0035】図2A、図3A、図4、図5、図6におい
ては、絶縁ベース2の配線パターンを施した側と反対側
の表面に別の配線パターンを形成することを妨げない。
この場合両配線パターンは絶縁ベース2を通して互いに
電気的に接続することができる。
ては、絶縁ベース2の配線パターンを施した側と反対側
の表面に別の配線パターンを形成することを妨げない。
この場合両配線パターンは絶縁ベース2を通して互いに
電気的に接続することができる。
【0036】次に、図3B及び図7A,Bは絶縁ベース
2の表面に配線パターンを有する配線基板1において、
上記配線パターンを形成するリード3の一部でバンプ3
aを形成し、該バンプ3a内に空洞12を形成した配線
基板における導電バンプの構造を示している。
2の表面に配線パターンを有する配線基板1において、
上記配線パターンを形成するリード3の一部でバンプ3
aを形成し、該バンプ3a内に空洞12を形成した配線
基板における導電バンプの構造を示している。
【0037】上記リード3を形成する際に、該リード3
の一部を極部的に山形に付形し、これを絶縁ベース2に
密着することによって、山形に付形された上記突起によ
り該突起と絶縁ベース間に空洞12を持つ導電バンプ3
aを形成したものである。
の一部を極部的に山形に付形し、これを絶縁ベース2に
密着することによって、山形に付形された上記突起によ
り該突起と絶縁ベース間に空洞12を持つ導電バンプ3
aを形成したものである。
【0038】上記導電バンプ3aは空洞12によってバ
ックアップされており、この空洞12は導電バンプ3a
に弾性を付与し、IC4等の電子部品の端子5との接触
圧を向上する手段となる。この空洞12による弾性的接
触圧を確実に得るため、上記絶縁ベース2に空洞12内
へ通ずる抜気孔13を同ベース2の厚み方向に貫設する
ことができる。
ックアップされており、この空洞12は導電バンプ3a
に弾性を付与し、IC4等の電子部品の端子5との接触
圧を向上する手段となる。この空洞12による弾性的接
触圧を確実に得るため、上記絶縁ベース2に空洞12内
へ通ずる抜気孔13を同ベース2の厚み方向に貫設する
ことができる。
【0039】次に上記空洞12によってバックアップさ
れた導電バンプ3aを形成する方法の一例を図8に基づ
いて説明する。
れた導電バンプ3aを形成する方法の一例を図8に基づ
いて説明する。
【0040】図8Aに示すように、SUSに代表される
金属板から成る、表面において開口する山形のバンプ成
形用凹所7を設けた転写板8を準備する。
金属板から成る、表面において開口する山形のバンプ成
形用凹所7を設けた転写板8を準備する。
【0041】次に図8Bに示すように上記転写板8の表
面に導電膜10を一体に積層する。この導電膜10は上
記転写板8の全表面を覆いつつ、バンプ成形用凹所7の
存在部において凹所7の内底面に密着して山形に付形さ
れ、導電バンプ3aを形成すると共に、この導電バンプ
3aの内側に凹所7を形成する。
面に導電膜10を一体に積層する。この導電膜10は上
記転写板8の全表面を覆いつつ、バンプ成形用凹所7の
存在部において凹所7の内底面に密着して山形に付形さ
れ、導電バンプ3aを形成すると共に、この導電バンプ
3aの内側に凹所7を形成する。
【0042】次に図8Cに示すように、導電膜10の表
面に絶縁ベース2を一体に積層する。この絶縁ベース2
の積層によって上記凹所7を密閉し空洞12を形成す
る。
面に絶縁ベース2を一体に積層する。この絶縁ベース2
の積層によって上記凹所7を密閉し空洞12を形成す
る。
【0043】次に図8Dに示すように、転写板8から絶
縁ベース2を脱型し、次で図8Eに示すように、上記脱
型された絶縁ベース2の表面の導電膜10にエッチング
処理を施して配線パターンを形成する。よってこの配線
パターンを形成するリード3の一部、例えばリード端部
又はリードの延在長の途中に空洞12によってバックア
ップされたバンプ3aを形成したものである。
縁ベース2を脱型し、次で図8Eに示すように、上記脱
型された絶縁ベース2の表面の導電膜10にエッチング
処理を施して配線パターンを形成する。よってこの配線
パターンを形成するリード3の一部、例えばリード端部
又はリードの延在長の途中に空洞12によってバックア
ップされたバンプ3aを形成したものである。
【0044】次に図4、図5、図6、図8に示した転写
板8にバンプ成形用凹所7を形成する方法を図10、図
11に基づいて説明する。
板8にバンプ成形用凹所7を形成する方法を図10、図
11に基づいて説明する。
【0045】前記した導電バンプ3aの形状は高さ10
〜50μm、底辺20〜100μm、バンプ間ピッチが
30〜200μm程度と、非常に微細で狭ピッチである
ことが多い。検査用パンプとしてはバンプ形状として略
円錐形であることが望ましく、その形状とピッチは均一
で高精度であることが求められる。
〜50μm、底辺20〜100μm、バンプ間ピッチが
30〜200μm程度と、非常に微細で狭ピッチである
ことが多い。検査用パンプとしてはバンプ形状として略
円錐形であることが望ましく、その形状とピッチは均一
で高精度であることが求められる。
【0046】而して、このような凹所7を転写板8に形
成する方法として、図10、図11A,Bに示すよう
に、円錐形又は略円錐形の工具先17を持った超硬金属
製の工具16を転写板8の表面に垂直に打ち込み、圧痕
を設ける。この圧痕は工具先17の形状に応じた円錐形
又は截頭円錐形であり、上記バンプ成形用凹所7として
供される。
成する方法として、図10、図11A,Bに示すよう
に、円錐形又は略円錐形の工具先17を持った超硬金属
製の工具16を転写板8の表面に垂直に打ち込み、圧痕
を設ける。この圧痕は工具先17の形状に応じた円錐形
又は截頭円錐形であり、上記バンプ成形用凹所7として
供される。
【0047】図10は上記工具先17の形状を円錐形に
し同形状の凹所7を成形した場合を示している。
し同形状の凹所7を成形した場合を示している。
【0048】又図11A,Bは上記工具先17の形状を
截頭円錐形にし、図11Aはその頂面をフラットにし、
図11Bはその頂面に尖った先端を有する複数の歯形1
8を形成した場合を示す。又図11Cは三角柱形の工具
先17を持つ工具16を用いて、同形の凹所7を成形し
た場合を示す。従ってこの凹所7によって成形された導
電バンプ3aは三角柱形を呈し、その尖った陵線をIC
4等の電子部品の端子6との接触又は接続に供する。
截頭円錐形にし、図11Aはその頂面をフラットにし、
図11Bはその頂面に尖った先端を有する複数の歯形1
8を形成した場合を示す。又図11Cは三角柱形の工具
先17を持つ工具16を用いて、同形の凹所7を成形し
た場合を示す。従ってこの凹所7によって成形された導
電バンプ3aは三角柱形を呈し、その尖った陵線をIC
4等の電子部品の端子6との接触又は接続に供する。
【0049】図3に示すように導電バンプ3aを絶縁突
起6でバックアップするバンプ構造、或いは図7に示す
ように導電バンプ3aを空洞12でバックアップするバ
ンプ構造の何れにおいても、図9に示すように導電バン
プ3aのみを他のリード3部分よりも硬質のNi、Cr
等の金属にて形成することができる。
起6でバックアップするバンプ構造、或いは図7に示す
ように導電バンプ3aを空洞12でバックアップするバ
ンプ構造の何れにおいても、図9に示すように導電バン
プ3aのみを他のリード3部分よりも硬質のNi、Cr
等の金属にて形成することができる。
【0050】その形成法は、図4B、図5C、図6A、
図8Bの導電膜10,14或いはリード3のメッキ加工
に先立って、凹所7の内面に硬質金属から成る導電バン
プ3aを成形して置き、次で上記銅又は銅合金等から成
る軟質の導電膜10,14の成層又はリード3のメッキ
成長を行なえば良い。この場合、図9に示すように銅又
は銅合金から成るリードの一部(導電バンプ3a)を硬
質金属で形成するか、又はリード3の一部を凹所7によ
り山形に付形して導電バンプ3aを成形しつつ、この導
電バンプ3aの表面を該バンプよりも硬質の導電金属で
覆い複合構造とすることができる。これらは図4、図
5、図6、図8の製造法の実施態様によって実現でき
る。
図8Bの導電膜10,14或いはリード3のメッキ加工
に先立って、凹所7の内面に硬質金属から成る導電バン
プ3aを成形して置き、次で上記銅又は銅合金等から成
る軟質の導電膜10,14の成層又はリード3のメッキ
成長を行なえば良い。この場合、図9に示すように銅又
は銅合金から成るリードの一部(導電バンプ3a)を硬
質金属で形成するか、又はリード3の一部を凹所7によ
り山形に付形して導電バンプ3aを成形しつつ、この導
電バンプ3aの表面を該バンプよりも硬質の導電金属で
覆い複合構造とすることができる。これらは図4、図
5、図6、図8の製造法の実施態様によって実現でき
る。
【0051】以上述べた配線基板としては、絶縁ベース
2の表面に多数のリード3を並列して設け、この各リー
ド3の端部に上記各バンプ構造を持つ導電バンプ3aを
設け、この導電バンプ3aを液晶表示器等の電子部品の
端子(電極パッド)に加圧接触させる場合を包含するも
のである。
2の表面に多数のリード3を並列して設け、この各リー
ド3の端部に上記各バンプ構造を持つ導電バンプ3aを
設け、この導電バンプ3aを液晶表示器等の電子部品の
端子(電極パッド)に加圧接触させる場合を包含するも
のである。
【0052】
【発明の効果】本発明によれば、配線基板上に配線パタ
ーンを形成する際に、該配線パターンを形成する導電リ
ードの一部で導電バンプを形成することができ、配線パ
ターンを狭ピッチで高密度に形成できる技術を活用して
導電バンプを狭ピッチに形成できる。
ーンを形成する際に、該配線パターンを形成する導電リ
ードの一部で導電バンプを形成することができ、配線パ
ターンを狭ピッチで高密度に形成できる技術を活用して
導電バンプを狭ピッチに形成できる。
【0053】又配線パターンを形成する既知の技術の適
用により、この配線パターンを形成する際に、このパタ
ーン形成面の極部にバンプ成形用凹所を設ける等の手法
を付加するのみで、導電バンプを均一な形状且つピッチ
で高精度に設けることができる。
用により、この配線パターンを形成する際に、このパタ
ーン形成面の極部にバンプ成形用凹所を設ける等の手法
を付加するのみで、導電バンプを均一な形状且つピッチ
で高精度に設けることができる。
【図1】本発明に係る配線基板にIC等の電子部品を搭
載した場合を示す斜視図である。
載した場合を示す斜視図である。
【図2】Aは上記図1の配線基板の断面図であり、導電
バンプを絶縁突起でバックアップしたバンプ構造を示
し、Bは同断面図であり、導電バンプを空洞によってバ
ックアップしたバンプ構造を示す。
バンプを絶縁突起でバックアップしたバンプ構造を示
し、Bは同断面図であり、導電バンプを空洞によってバ
ックアップしたバンプ構造を示す。
【図3】Aは図2Aの拡大断面図、Bは同拡大平面図で
ある。
ある。
【図4】A乃至Eは図2Aに示すバンプ構造を持つ配線
基板の製造法の第1例を工程順に示す断面図である。
基板の製造法の第1例を工程順に示す断面図である。
【図5】A乃至Eは図2Aに示すバンプ構造を持つ配線
基板の製造法の第2例を工程順に示す断面図である。
基板の製造法の第2例を工程順に示す断面図である。
【図6】A,Bは図2Aに示すバンプ構造を持つ配線基
板の製造法の第3例を示す断面図である。
板の製造法の第3例を示す断面図である。
【図7】Aは導電バンプを中空構造にして空洞によりバ
ックアップしたバンプ構造を示す配線基板の断面図、B
は同平面図である。
ックアップしたバンプ構造を示す配線基板の断面図、B
は同平面図である。
【図8】A乃至Eは図7に示す配線基板の製造法の一例
を、工程順に示す断面図である。
を、工程順に示す断面図である。
【図9】導電バンプを硬質金属で形成した例を示す同バ
ンプ部分の拡大断面図である。
ンプ部分の拡大断面図である。
【図10】転写板に上記導電バンプ成形用凹所を加工す
る工具を示す断面図である。
る工具を示す断面図である。
【図11】A,Bは転写板に上記導電バンプ成形用凹所
を加工する工具の他の例を示す側面図、Cは更に他例を
示す同斜視図である。
を加工する工具の他の例を示す側面図、Cは更に他例を
示す同斜視図である。
1 配線基板 2 絶縁ベース 3 リード 3a 導電バンプ 4 IC 6 絶縁突起 12 空洞
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 奥野 敏雄 神奈川県横浜市港北区綱島東4丁目8番29 号 株式会社双晶テック内
Claims (2)
- 【請求項1】絶縁ベースの表面に配線パターンを有する
配線基板において、上記絶縁ベースの極部を絶縁ベース
表面より隆起させて突起を形成し、該突起の表面を上記
配線パターンを形成するリードの一部で覆って導電バン
プを形成している配線基板における導電バンプの構造。 - 【請求項2】絶縁ベースの表面に配線パターンを有する
配線基板において、上記配線パターンを形成するリード
の一部でバンプを形成し、該バンプ内に空洞を形成して
いることを特徴とする配線基板における導電バンプの構
造。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9051951A JP2934202B2 (ja) | 1997-03-06 | 1997-03-06 | 配線基板における導電バンプの形成方法 |
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