JPH10253961A - Method and device for rubbing substrate - Google Patents

Method and device for rubbing substrate

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JPH10253961A
JPH10253961A JP189498A JP189498A JPH10253961A JP H10253961 A JPH10253961 A JP H10253961A JP 189498 A JP189498 A JP 189498A JP 189498 A JP189498 A JP 189498A JP H10253961 A JPH10253961 A JP H10253961A
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rubbing
substrate
suction
roller
suction port
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Takashi Makiuchi
孝 牧内
Seiji Sakai
清治 酒井
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To make it possible to prevent various influences caused by fine particles and to easily manufacture a high quality element, by performing rubbing processing while sucking the fine particles caused from at least one side between a substrate and a rubbing processing member. SOLUTION: A part of an oriented film or a hair, etc., of cloth material 22 are generated from a contact part between the substrate 20 and a rubbing roller 21 as the fine particles. A sucking member 23 arranging a sucking hole 23a upward and the left side of the contact part is provided to suck the fine particles generated in the contact part from the sucking hole 23a and to eject them out of a system. As the sucking member 23, though it may be one forcedly sucking air by a sucking fan, etc., an outlet is preferred to be provided out of doors since the necessity that a high density filter, etc., is provided exists when the outlet is provided in a clean room. At this time, the sucking hole 23a is provided with a shape prolonged in the axial direction of the rubbing roller 21, and is provided with an opening position arranged nearly parallel to the contact part between the substrate 20 and the rubbing roller 21.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は基板のラビング方法
及びラビング装置に係り、特に、液晶電気光学素子を形
成するための基板の表面にラビング処理を施す場合の方
法及び装置に関する。
The present invention relates to a method and apparatus for rubbing a substrate, and more particularly to a method and apparatus for rubbing a surface of a substrate for forming a liquid crystal electro-optical element.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶電気光学素子は、液晶表示装置等の
種々の応用分野において盛んに使用されているものであ
るが、多くの場合、2枚の基板の間に液晶を挟み込み、
この液晶の光学状態を電気的に制御する構造となってい
る。ここで、基板の表面には、液晶と接触した際に液晶
分子が所定の方向に整列して指向性を発揮するように制
御するためのラビング処理が施される場合がある。
2. Description of the Related Art A liquid crystal electro-optical element is widely used in various application fields such as a liquid crystal display device. In many cases, a liquid crystal is sandwiched between two substrates.
The optical state of the liquid crystal is electrically controlled. Here, the surface of the substrate may be subjected to a rubbing process for controlling the liquid crystal molecules to be aligned in a predetermined direction and exhibit directivity when the substrate comes into contact with the liquid crystal.

【0003】ラビング処理は、通常、基板上にポリイミ
ド、ポリビニルアルコール等の配向膜を形成し、この配
向膜の表面を布等によって所定の方向に擦ることにより
行われる。擦られた配向膜の表面には多数の微細な傷が
所定の方向に伸びるように形成され、この傷の伸びる方
向に液晶分子が配向する。
The rubbing treatment is usually performed by forming an alignment film such as polyimide or polyvinyl alcohol on a substrate and rubbing the surface of the alignment film in a predetermined direction with a cloth or the like. Many fine scratches are formed on the rubbed surface of the alignment film so as to extend in a predetermined direction, and the liquid crystal molecules are aligned in the direction in which the scratches extend.

【0004】図15は、上記ラビング処理を行うための
装置の概略図である。この図に示すように、ラビング装
置には、予め基板を導入する導入面10が設けられ、こ
の導入面10に沿って複数の搬送ローラ11が並列され
ている。搬送ローラ11は、図示しない駆動手段によっ
てそれぞれ基板20を図示右側に搬送するように回転駆
動される。
FIG. 15 is a schematic view of an apparatus for performing the rubbing process. As shown in this figure, the rubbing device is provided with an introduction surface 10 for introducing a substrate in advance, and a plurality of transport rollers 11 are arranged in parallel along the introduction surface 10. The transport rollers 11 are rotationally driven by drive means (not shown) to transport the substrate 20 to the right side in the figure.

【0005】導入面10の上方にはラビングローラ21
が軸支されており、このラビングローラ21は図示しな
い駆動手段によって図示時計周りに回転するようになっ
ている。ラビングローラ21の周面上にはクロス材22
が貼り付けられている。このクロス材22はナイロンや
レーヨン等の繊維によって織られたものであり、表面に
多数の微少な毛足部が密生している。
A rubbing roller 21 is provided above the introduction surface 10.
The rubbing roller 21 is configured to rotate clockwise by driving means (not shown). A cloth material 22 is provided on the peripheral surface of the rubbing roller 21.
Is pasted. The cloth material 22 is woven with a fiber such as nylon or rayon, and many fine hair feet are densely formed on the surface.

【0006】ラビング処理は、表面に配向膜を形成した
ガラス基板等からなる基板20を搬送ローラ11によっ
て図示左側から右側へと搬送し、ラビングローラ21の
周面上に貼着されたクロス材22によって配向膜を擦る
ことによって行われる。ラビングローラ21は、図示し
ない圧力付与機構によって基板20に対して所定の圧力
で押し付けられながら、基板20の表面を擦っていく。
In the rubbing treatment, a substrate 20 made of a glass substrate or the like having an alignment film formed on the surface thereof is transported from the left to the right by a transport roller 11, and a cloth material 22 adhered on the peripheral surface of a rubbing roller 21 is provided. This is performed by rubbing the alignment film. The rubbing roller 21 rubs the surface of the substrate 20 while being pressed against the substrate 20 by a predetermined pressure by a pressure applying mechanism (not shown).

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記のよう
にラビング処理を行うと、基板20の表面からは、クロ
ス材22で擦られることによって配向膜が削れて細かな
粉塵が発生するととともに、クロス材22の表面からは
該クロス材22の削れによるパーティクル等の細かな粉
塵が発生し、これらの粉塵はクロス材22の表面上に付
着するとともに、基板20の表面上にも付着する。粉塵
のクロス材22への付着はその後におけるラビング処理
においてラビング状態に影響を与え、粉塵の基板20へ
の付着は基板20の表面状態に影響を与えるため、いず
れも液晶表示装置等の表示品位を劣化させる原因とな
る。
By the way, when the rubbing treatment is performed as described above, the alignment film is scraped off from the surface of the substrate 20 by being rubbed with the cloth material 22, and fine dust is generated. Fine dust such as particles is generated from the surface of the cloth material 22 due to the scraping of the cloth material 22, and the dust adheres to the surface of the cloth material 22 and also to the surface of the substrate 20. The adhesion of dust to the cloth material 22 affects the rubbing state in the subsequent rubbing process, and the adhesion of dust to the substrate 20 affects the surface state of the substrate 20. It causes deterioration.

【0008】基板20に付着した粉塵の除去は、ラビン
グ工程の後の洗浄工程において行われるが、洗浄によっ
て粉塵を完全に除去することは困難であり、また、クロ
ス材22への粉塵の付着によってラビング状態に影響が
生じた場合には、洗浄によっては回復させることができ
ない。
The removal of the dust adhering to the substrate 20 is performed in a cleaning step after the rubbing step. However, it is difficult to completely remove the dust by the cleaning, and the dust adheres to the cloth material 22. When the rubbing state is affected, it cannot be recovered by cleaning.

【0009】また、一般的に液晶表示装置の製造工程で
はきわめて精密なクリーン度の管理が必要であり、上記
ラビング処理においては、ラビング装置内及び装置の周
辺にも粉塵が分散されることとなるため、その他の製造
工程に対してクリーン度の低下による影響を与えないよ
うに、ラビング工程及洗浄工程をその他の製造工程とは
仕切られた特別な環境で行わなければならないという問
題点がある。
In general, in a manufacturing process of a liquid crystal display device, it is necessary to control the degree of cleanness very precisely. In the rubbing treatment, dust is dispersed in and around the rubbing device. Therefore, there is a problem that the rubbing step and the cleaning step must be performed in a special environment separated from the other manufacturing steps so that the other manufacturing steps are not affected by the reduction in cleanliness.

【0010】本発明はかかる問題点を解決するためにな
されたものであり、ラビング処理によって発生する粉塵
に起因する種々の影響を防止し、高品位の液晶電気光学
素子を容易に製造することができる基板のラビング方法
及び装置を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve such problems, and it is possible to prevent various effects caused by dust generated by a rubbing process and easily manufacture a high-quality liquid crystal electro-optical element. It is an object of the present invention to provide a method and apparatus for rubbing a substrate that can be performed.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】かかる目的を達成するた
めに、請求項1に係る基板のラビング方法は、液晶電気
光学素子に使用する基板の表面をラビング処理部材によ
って擦るようにした基板のラビング方法において、前記
基板と前記ラビング処理部材の少なくとも一方から発生
する粉塵を吸引しながらラビング処理を行うことを特徴
とする。
In order to achieve the above object, a rubbing method for a substrate according to the first aspect of the present invention is a method for rubbing a substrate, wherein the surface of the substrate used for a liquid crystal electro-optical element is rubbed by a rubbing member. The method is characterized in that rubbing is performed while sucking dust generated from at least one of the substrate and the rubbing member.

【0012】この手段によれば、基板表面をラビング処
理部材で擦った際に発生する粉塵を吸引するようにして
いるので、粉塵が基板表面に堆積したり、ラビング処理
部材に付着したりすることが抑制され、液晶電気光学素
子の表示品位を高めることができる。
According to this means, the dust generated when the substrate surface is rubbed with the rubbing member is sucked, so that the dust is deposited on the substrate surface or adheres to the rubbing member. Is suppressed, and the display quality of the liquid crystal electro-optical element can be improved.

【0013】請求項2に係る基板のラビング方法は、請
求項1において、前記吸引を前記粉塵の発生部において
行うことを特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, there is provided the substrate rubbing method according to the first aspect, wherein the suction is performed in the dust generating section.

【0014】この手段によれば、粉塵の吸引を該粉塵の
発生部において行うようにしたので、粉塵が周囲環境に
撒き散らされることがなく、製造工程におけるクリーン
度の管理も容易になる。
According to this means, since the dust is sucked in the dust generating portion, the dust is not scattered to the surrounding environment, and the control of the cleanliness in the manufacturing process is facilitated.

【0015】請求項3に係る基板のラビング装置は、液
晶電気光学素子に用いる基板の表面を擦るためのラビン
グ処理部材と、前記基板と前記ラビング処理部材とを相
対的に動作させて前記基板の表面を前記ラビング処理部
材によって擦るように駆動する駆動手段とを備えた基板
のラビング装置において、前記基板と前記ラビング処理
部材の少なくとも一方から発生する粉塵を吸引する吸引
手段を備えたことを特徴とする。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a substrate rubbing device for rubbing a surface of a substrate used for a liquid crystal electro-optical element, and moving the substrate and the rubbing member relatively to each other. A rubbing device for a substrate, comprising: a driving unit for driving a surface to be rubbed by the rubbing member; and a suction unit for sucking dust generated from at least one of the substrate and the rubbing member. I do.

【0016】この手段によれば、請求項1と同様に、粉
塵が基板表面に堆積したり、ラビング処理部材に付着し
たりすることが抑制されるため、液晶電気光学素子の表
示品位を高めることができる。
According to this means, as in the first aspect, the accumulation of dust on the surface of the substrate and the adhesion to the rubbing member are suppressed, thereby improving the display quality of the liquid crystal electro-optical element. Can be.

【0017】請求項4に係るラビング装置は、請求項3
において、前記吸引手段は、前記基板と前記ラビング処
理部材との接触部に向かって開口した吸引口を有する吸
引部材を備えたことを特徴とする。
A rubbing device according to a fourth aspect is the rubbing device according to the third aspect.
, The suction means includes a suction member having a suction port opened toward a contact portion between the substrate and the rubbing processing member.

【0018】この手段によれば、基板とラビング処理部
材との接触部が粉塵の発生部にあたるため、請求項2と
同様に、周囲環境に粉塵が撒き散らされることがなく、
製造工程におけるクリーン度の管理も容易になる。
According to this means, since the contact portion between the substrate and the rubbing member corresponds to the dust generating portion, the dust is not scattered to the surrounding environment as in the second aspect.
Management of cleanliness in the manufacturing process is also facilitated.

【0019】請求項5に係る基板のラビング装置は、請
求項4において、前記ラビング処理部材は前記基板に対
して回転するラビングローラであり、前記吸引口は、前
記基板と前記ラビングローラとの接触部に向かって開口
していることを特徴とする。この手段によれば、簡易な
構造のラビングローラによってラビング処理を行うこと
ができるとともに、基板とラビングローラとの接触部は
ラビングローラに対して常時一定の位置にあるので、吸
引部材を容易に配置することができる。
According to a fifth aspect of the present invention, in the rubbing apparatus for a substrate according to the fourth aspect, the rubbing member is a rubbing roller rotating with respect to the substrate, and the suction port is provided for contacting the substrate with the rubbing roller. It is characterized by being open toward the part. According to this means, the rubbing process can be performed by the rubbing roller having a simple structure, and the contact portion between the substrate and the rubbing roller is always at a fixed position with respect to the rubbing roller, so that the suction member can be easily arranged. can do.

【0020】請求項6に係る基板のラビング装置は、請
求項5において、前記吸引部材は、前記基板と前記ラビ
ングローラとの接触部に向かって絞られた形状とされ、
その先端部に前記吸引口が形成されていることを特徴と
する。
According to a sixth aspect of the present invention, in the rubbing apparatus for a substrate according to the fifth aspect, the suction member has a shape narrowed toward a contact portion between the substrate and the rubbing roller.
The suction port is formed at a tip portion thereof.

【0021】この手段によれば、吸引部材は先端に向か
って絞られた形状に形成されているので、基板とラビン
グローラとの接触部により近い位置に吸引口を配置する
ことができるとともに、吸引口が絞られた先端に形成さ
れていることによって吸引力を高めることができる。
According to this means, since the suction member is formed in a shape narrowed toward the front end, the suction port can be arranged at a position closer to the contact portion between the substrate and the rubbing roller, and the suction member can be arranged. The suction force can be increased by forming the mouth at the narrowed tip.

【0022】請求項7に係る基板のラビング装置は、請
求項5又は請求項6において、前記吸引部材は、前記ラ
ビングローラの軸線方向に複数に分割された吸引経路を
備え、該吸引経路の先端部にそれぞれ前記吸引口が形成
されていることを特徴とする。
According to a seventh aspect of the present invention, in the substrate rubbing device according to the fifth or sixth aspect, the suction member has a plurality of suction paths divided in an axial direction of the rubbing roller, and a tip of the suction path. The suction port is formed in each of the portions.

【0023】この手段によれば、分割された吸引経路の
先端部にそれぞれ吸引口を設けているため、吸引口にお
ける吸引力を高めることができるとともに、ラビングロ
ーラの軸線方向に亘って確実に粉塵を吸引することがで
きる。
According to this means, since the suction port is provided at each of the distal ends of the divided suction paths, the suction force at the suction port can be increased, and the dust can be reliably formed along the axial direction of the rubbing roller. Can be sucked.

【0024】請求項8に係る基板のラビング装置は、請
求項5において、前記吸引部材は、前記ラビングローラ
を包囲するように形成され、前記ラビングローラの周面
部に対向する吸引口を備えていることを特徴とする。
According to an eighth aspect of the present invention, in the substrate rubbing apparatus according to the fifth aspect, the suction member is formed so as to surround the rubbing roller, and has a suction port facing a peripheral surface of the rubbing roller. It is characterized by the following.

【0025】この手段によれば、ラビングローラに付着
している粉塵の除去をより確実に行うことができるとと
もに、吸引部材がラビングローラを包囲するように形成
されていることによって装置の小型化を図ることができ
る。
According to this means, dust adhering to the rubbing roller can be more reliably removed, and the size of the apparatus can be reduced by forming the suction member so as to surround the rubbing roller. Can be planned.

【0026】請求項9に係る基板のラビング装置は、請
求項4において、前記ラビング処理部材又は前記基板に
対して流体を吹き付ける吹付手段を設け、前記吸引口の
近傍に前記吹付手段の吹付位置を設定したことを特徴と
する。
In a rubbing apparatus for a substrate according to a ninth aspect of the present invention, the rubbing processing member or the substrate is provided with a spraying means for spraying a fluid to the substrate, and the spraying position of the spraying means is set near the suction port. It is characterized by having been set.

【0027】この手段によれば、吹付手段によってラビ
ング処理部材又は基板に流体を吹付けて粉塵を離反させ
た後に、吸引部材の吸引口から粉塵を吸引することがで
きるので、ラビング処理部材又は基板に付着している粉
塵をより確実に除去することができる。
According to this means, the dust can be sucked from the suction port of the suction member after the fluid is sprayed on the rubbing member or the substrate by the spraying means to separate the dust, so that the rubbing member or the substrate can be sucked. It is possible to more reliably remove dust adhering to the surface.

【0028】請求項10に係る基板のラビング装置は、
請求項3において、前記ラビング処理部材は、前記基板
に対して回転するラビングローラであり、前記吸引手段
は、その吸引口の周縁部を前記ラビングローラの毛足部
に接触させた状態で該ラビングローラの外周部に配置さ
れた吸引ノズルを備えたことを特徴とする。
A rubbing apparatus for a substrate according to claim 10 is
4. The rubbing device according to claim 3, wherein the rubbing processing member is a rubbing roller that rotates with respect to the substrate, and wherein the suction unit is configured to contact a rim of the rubbing roller with a peripheral edge of the suction port. It is characterized by having a suction nozzle arranged on the outer periphery of the roller.

【0029】この手段によれば、吸引ノズルの吸引口の
周縁部がラビングローラの毛足部に接触しているので、
ラビングローラの外周部に付着した粉塵を該外周部が基
板に接触する前に強力な吸引力で吸引除去することがで
き、この結果、ラビングローラの外周部が常にクリーン
な状態で基板を擦ることが可能になって、基板への粉塵
の付着を防止することができる。
According to this means, since the peripheral portion of the suction port of the suction nozzle is in contact with the bristle feet of the rubbing roller,
Dust adhered to the outer peripheral portion of the rubbing roller can be removed by a strong suction force before the outer peripheral portion comes into contact with the substrate, and as a result, the substrate can be rubbed with the outer peripheral portion of the rubbing roller always clean. This makes it possible to prevent dust from adhering to the substrate.

【0030】請求項11に係る基板のラビング装置は、
請求項3において、前記ラビング処理部材は、前記基板
に対して回転するラビングローラであり、前記吸引手段
は、その吸引口の周縁部を前記ラビングローラの毛足部
に接触させた状態で該ラビングローラの外周部に配置さ
れた吸引ノズルと、前記基板と前記ラビング処理部材と
の接触部に向かって開口した吸引口を有する吸引部材と
を備えたことを特徴とする。
A rubbing device for a substrate according to claim 11 is
4. The rubbing device according to claim 3, wherein the rubbing processing member is a rubbing roller that rotates with respect to the substrate, and wherein the suction unit is configured to contact a rim of the rubbing roller with a peripheral edge of the suction port. It is characterized by comprising a suction nozzle arranged on an outer peripheral portion of a roller, and a suction member having a suction port opened toward a contact portion between the substrate and the rubbing processing member.

【0031】この手段によれば、請求項10と同様に、
ラビングローラの外周部に付着した粉塵を該外周部が基
板に接触する前に強力な吸引力で吸引除去することがで
きるので、ラビングローラの外周部が常にクリーンな状
態で基板を擦ることが可能になって、基板への粉塵の付
着を防止することができ、しかも、吸引部材の吸引口か
らも基板とラビング処理部材との接触部で発生した粉塵
が吸引除去されるので、周囲環境に粉塵が撒き散らされ
るのを防止することができるとともに、該粉塵が基板表
面に堆積したり、ラビング処理部材に付着したりするの
を抑制することができ、この結果、液晶電気光学素子の
表示品位を更に高めることができるとともに、製造工程
におけるクリーン度の管理についても更に容易にするこ
とができる。
According to this means, as in the tenth aspect,
Dust adhering to the outer peripheral portion of the rubbing roller can be removed with a strong suction force before the outer peripheral portion contacts the substrate, so the substrate can be rubbed with the outer peripheral portion of the rubbing roller always clean. As a result, the adhesion of dust to the substrate can be prevented, and the dust generated at the contact portion between the substrate and the rubbing processing member is also suctioned and removed from the suction port of the suction member. Can be prevented from being scattered, and the dust can be prevented from accumulating on the substrate surface or adhering to the rubbing member. As a result, the display quality of the liquid crystal electro-optical element can be reduced. It is possible to further increase the cleanliness and to further easily manage the cleanliness in the manufacturing process.

【0032】請求項12に係る基板のラビング装置は、
請求項10又は11において、前記吸引ノズルを前記ラ
ビングローラの外周部に対して接近離間移動可能に配置
し、更に、前記基板の表面を前記ラビング処理部材によ
って擦っているときに前記吸引ノズルを前記ラビングロ
ーラの外周部に接近移動させ、擦っていないときに前記
吸引ノズルを前記ラビングローラの外周部から離間移動
させる駆動手段を備えたことを特徴とする。
A rubbing apparatus for a substrate according to claim 12 is
The suction nozzle according to claim 10 or 11, wherein the suction nozzle is arranged so as to be able to move closer to and away from an outer peripheral portion of the rubbing roller, and further, when the surface of the substrate is rubbed by the rubbing processing member, the suction nozzle is moved. Driving means for moving the suction nozzle closer to the outer peripheral portion of the rubbing roller and moving the suction nozzle away from the outer peripheral portion of the rubbing roller when not rubbing is provided.

【0033】この手段によれば、基板の表面がラビング
ローラによって擦られていないときは、吸引ノズルがラ
ビングローラの外周部から離間配置されて該吸引ノズル
の吸引口の周縁部とラビングローラの毛足部との接触が
なくなるため、該周縁部と毛足部との接触による熱影響
及び該接触によるラビングローラの劣化を軽減すること
ができる。
According to this means, when the surface of the substrate is not rubbed by the rubbing roller, the suction nozzle is spaced apart from the outer peripheral portion of the rubbing roller, so that the peripheral edge of the suction port of the suction nozzle and the bristle of the rubbing roller. Since there is no contact with the foot portion, it is possible to reduce the thermal effect due to the contact between the peripheral edge portion and the hair foot portion and the deterioration of the rubbing roller due to the contact.

【0034】請求項13に係る基板のラビング装置は、
請求項10〜12のいずれか一項において、前記吸引ノ
ズルの吸引口の周縁部は、前記毛足部の先端から該毛足
部の長さの1/2までの範囲で前記毛足部に接触してい
ることを特徴とする。
A rubbing device for a substrate according to claim 13 is
The peripheral edge portion of the suction port of the suction nozzle according to any one of claims 10 to 12, wherein the peripheral portion of the suction port extends from a tip of the hair foot portion to half of a length of the hair foot portion. It is characterized by being in contact.

【0035】この手段によれば、吸引ノズルの吸引口の
周縁部のラビングローラの毛足部への接触を確保しつ
つ、該吸引口の周縁部のラビングローラの地肌への接触
を確実に回避して該地肌が吸引口の周縁部によって削り
取られないようにすることができる。
According to this means, it is ensured that the peripheral edge of the suction port of the suction nozzle is in contact with the bristle feet of the rubbing roller, while the peripheral edge of the suction port is prevented from coming into contact with the ground of the rubbing roller. Thus, the ground can be prevented from being scraped off by the peripheral portion of the suction port.

【0036】請求項14に係る基板のラビング装置は、
請求項10〜13のいずれか一項において、前記吸引ノ
ズルの吸引口に、前記ラビングローラの毛足部に接触す
る櫛部を設けたことを特徴とする。
A rubbing device for a substrate according to claim 14 is
In any one of claims 10 to 13, the suction port of the suction nozzle is provided with a comb portion that comes into contact with the bristle feet of the rubbing roller.

【0037】この手段によれば、櫛部によってラビング
ローラの毛足部の毛並みを揃えつつ、該毛足部に付着し
た粉塵をたたき出して吸引口からの粉塵の吸引効果を高
めることができる。
According to this means, it is possible to enhance the effect of sucking the dust from the suction port by hitting the dust adhering to the bristle feet while aligning the fur of the bristle feet of the rubbing roller with the comb part.

【0038】請求項15に係る基板のラビング装置は、
請求項10〜14のいずれか一項において、前記吸引ノ
ズルは、少なくとも前記吸引口の周縁部の前記ラビング
ローラの毛足部に接触する部分が非導電材で形成されて
いることを特徴とする。
A rubbing device for a substrate according to claim 15 is
The suction nozzle according to any one of claims 10 to 14, wherein at least a portion of the suction port, which is in contact with a bristle portion of the rubbing roller, at a peripheral edge of the suction port is formed of a non-conductive material. .

【0039】この手段によれば、吸引ノズルの吸引口の
周縁部とラビングローラの毛足部とが長期間に渡って接
触することによって万が一に該周縁部が削れた場合に、
落下した削り屑が基板表面に付着した状態で液晶が封入
されて製品化されたとしても、該削り屑が非導電材であ
るため製品使用時のショートを防止することができる。
According to this means, when the peripheral portion of the suction port of the suction nozzle and the bristle portion of the rubbing roller are in contact with each other for a long period of time, if the peripheral portion is scraped by any chance,
Even if liquid crystal is sealed and commercialized with the dropped shavings attached to the substrate surface, short-circuiting during use of the product can be prevented because the shavings are non-conductive materials.

【0040】請求項16に係る基板のラビング装置は、
請求項15において、前記非導電材が、ガラス又は石英
であることを特徴とする。
A rubbing device for a substrate according to claim 16 is
In claim 15, the non-conductive material is glass or quartz.

【0041】この手段によれば、請求項15と同様に、
吸引口の削り屑が基板表面に付着した状態で液晶が封入
されて製品化されたとしても、使用時のショートを防止
することができ、しかも、毛足部に接触する吸引口周縁
部の耐久性の向上を図ることができるとともに、該周縁
部を容易に鏡面形状とすることができる。
According to this means, similar to claim 15,
Even if the liquid crystal is sealed and the product is produced with the shavings from the suction port adhered to the substrate surface, a short circuit during use can be prevented, and the peripheral edge of the suction port that comes in contact with the bristle feet is durable. Performance can be improved, and the peripheral portion can be easily formed into a mirror-like shape.

【0042】[0042]

【発明の実施の形態】次に、添付図面を参照して本発明
に係る実施形態について説明する。
Next, an embodiment according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

【0043】まず、図12及び図13を参照してTFT
液晶パネルについて説明する。図12に示すように、T
FTアレイ基板20の上には、シール材101がその縁
に沿って設けられており、その内側に並行して、例えば
ブラックマトリクス109と同じ或いは異なる材料から
なる遮光性の周辺見切り102が設けられている。シー
ル材101の外側の領域には、データ線駆動回路103
及び実装端子104がTFTアレイ基板20の一辺に沿
って設けられており、走査線駆動回路105が、この一
辺に隣接する二辺に沿って設けられている。更に、TF
Tアレイ基板20の残る一辺には、画面表示領域の両側
に設けられた走査線駆動回路105間をつなぐための複
数の配線106が設けられている。また、シール材10
1の四隅には、TFTアレイ基板20と対向基板108
との間で電気的導通をとるための導通材からなる銀点1
07が設けられている。そして、図13に示すように、
図12に示したシール材101とほぼ同じ輪郭を持つ対
向基板108が該シール材101を介してTFTアレイ
基板20に固着されている。
First, referring to FIG. 12 and FIG.
The liquid crystal panel will be described. As shown in FIG.
On the FT array substrate 20, a sealing material 101 is provided along the edge thereof, and a light-shielding peripheral partition 102 made of, for example, the same or different material as the black matrix 109 is provided inside the sealing material 101 in parallel. ing. A data line driving circuit 103 is provided in a region outside the sealing material 101.
The mounting terminals 104 are provided along one side of the TFT array substrate 20, and the scanning line driving circuit 105 is provided along two sides adjacent to the one side. Furthermore, TF
On one remaining side of the T array substrate 20, a plurality of wirings 106 are provided for connecting between the scanning line driving circuits 105 provided on both sides of the screen display area. In addition, the sealing material 10
The TFT array substrate 20 and the opposing substrate 108
Silver point 1 made of conductive material for establishing electrical continuity between
07 is provided. Then, as shown in FIG.
A counter substrate 108 having substantially the same contour as the sealing material 101 shown in FIG. 12 is fixed to the TFT array substrate 20 via the sealing material 101.

【0044】データ線駆動回路103及び走査線駆動回
路105は、配線を介してソース電極としてのデータ線
及びゲート電極としての走査線(共に図示せず。)にそ
れぞれ電気的に接続されている。データ線駆動回路10
3には、制御回路(図示せず。)から即時表示可能な形
式に変換された画像信号が入力され、走査線駆動回路1
05がパルス的に走査線に順番にゲート電圧を送るのに
合わせて、データ線駆動回路103は画像信号に応じた
信号電圧をデータ線(ソース電極)に送る。この実施の
形態では特に、TFT111はp−Si(ポリシリコ
ン)タイプのTFTであるので、TFT111の形成時
に同一工程で、データ線駆動回路103及び走査線駆動
回路105を形成することも可能であり、製造上有利で
ある。
The data line driving circuit 103 and the scanning line driving circuit 105 are electrically connected to a data line as a source electrode and a scanning line (both not shown) as a gate electrode via wiring. Data line drive circuit 10
An image signal converted into a format that can be immediately displayed from a control circuit (not shown) is input to the scanning line driving circuit 1.
The data line driving circuit 103 sends a signal voltage corresponding to the image signal to the data line (source electrode) in accordance with the step 05 in which the gate voltage is sequentially sent to the scanning line in a pulsed manner. Particularly in this embodiment, since the TFT 111 is a p-Si (polysilicon) type TFT, the data line driving circuit 103 and the scanning line driving circuit 105 can be formed in the same step when the TFT 111 is formed. This is advantageous in manufacturing.

【0045】図14を参照して、上記TFT液晶パネル
の組立工程の一例を簡単に説明すると、TFTアレイ基
板(素子基板)20及び対向基板108を受入れ洗浄し
た後、両基板20,106の表面にポリイミド、ポリビ
ニルアルコール等の配向膜をそれぞれ形成し、次いで、
この配向膜の表面にレーヨン或いはナイロン等のクロス
材22を用いてラビングを施した後、洗浄する。次い
で、TFTアレイ基板20側に上述したシール材101
をスクリーン印刷等で形成するとともに、導通材である
銀点107を塗布する。
Referring to FIG. 14, an example of an assembling process of the above-mentioned TFT liquid crystal panel will be briefly described. After receiving and cleaning the TFT array substrate (element substrate) 20 and the opposing substrate 108, the surfaces of both substrates 20 and 106 are cleaned. Polyimide, to form an alignment film such as polyvinyl alcohol, respectively,
After rubbing the surface of the alignment film using a cloth material 22 such as rayon or nylon, the surface is washed. Next, the above-described sealing material 101 is provided on the TFT array substrate 20 side.
Is formed by screen printing or the like, and a silver dot 107 as a conductive material is applied.

【0046】次に、両基板20,108をシール材10
1を介して貼り合わせ、セルギャップ等のアライメント
を行った後、ある程度の圧力を加えて両基板20,10
8を圧着させる。次いで、シール材101が光硬化性を
備えている場合には、光を照射して硬化させ、かかる硬
化後に両基板20,108間に液晶112を注入し、注
入完了後、注入口を封止材110によって封止する。次
いで、洗浄を施した後、所定の検査をし、合格したもの
が実装に供される。
Next, both substrates 20 and 108 are sealed with sealing material 10.
After performing the alignment such as the cell gap, the substrates 20 and 10 are applied with a certain pressure.
8 is crimped. Next, when the sealing material 101 has photocurability, it is cured by irradiating light, and after the curing, the liquid crystal 112 is injected between the substrates 20 and 108, and after the injection is completed, the injection port is sealed. It is sealed with a material 110. Next, after performing cleaning, a predetermined inspection is performed, and those that pass are provided for mounting.

【0047】ここで、この実施の形態では、上述した両
基板20,108に対するラビング処理を次のようにし
て行っている。なお、以下に示す第1〜第9の実施形態
ではTFTアレイ基板20(以下、単に基板20とい
う。)のみを例に採って説明するが、これに限られるも
のではない。また、各実施形態については、基板20の
表面を擦るためのラビング処理部材として、従来例と同
様に基板20に対して回転するラビングローラ21を例
にとり、更に、従来例(図15)と重複する部分には同
一符号を付してその説明を省略する。
Here, in this embodiment, the above-described rubbing process is performed on both substrates 20 and 108 as follows. In the following first to ninth embodiments, only the TFT array substrate 20 (hereinafter, simply referred to as the substrate 20) will be described as an example, but the present invention is not limited to this. In each embodiment, a rubbing roller 21 that rotates with respect to the substrate 20 is used as an example of a rubbing processing member for rubbing the surface of the substrate 20 as in the conventional example. The same reference numerals are given to the same parts and the description thereof is omitted.

【0048】(第1実施形態)図1は本発明に係るラビ
ング方法及びラビング装置の第1実施形態を説明するた
めの概略説明図である。
(First Embodiment) FIG. 1 is a schematic explanatory view for explaining a first embodiment of a rubbing method and a rubbing apparatus according to the present invention.

【0049】基板20とラビングローラ21との接触部
分から配向膜の一部若しくはクロス材(ラビング布)2
2の毛(パーティクル)等が粉塵として発生する。この
粉塵は、上述のような基板20の搬送方向及びラビング
ローラ21の回転方向を採用した場合、基板20とラビ
ングローラ21との接触部分に対して図示左側に多く発
生する。
From the contact portion between the substrate 20 and the rubbing roller 21, a part of the alignment film or a cloth material (rubbing cloth) 2
2 hairs (particles) and the like are generated as dust. When the above-described conveyance direction of the substrate 20 and the rotation direction of the rubbing roller 21 are employed, the dust is generated more on the left side in the drawing than the contact portion between the substrate 20 and the rubbing roller 21.

【0050】この実施形態では、上記接触部分の左側上
方に吸引口23aを配置した吸引部材23を設け、吸引
口23aから上記接触部分で発生した粉塵を吸引して系
外に排出するものである。吸引部材23としては、図示
しない吸引ファン等によって強制的に空気を吸引するも
のでよいが、排気口をクリーンルーム内に設ける場合に
は高密度フィルタ等を備える必要があるため、排気口は
室外に設けることが好ましい。ここで、吸引口23aは
ラビングローラ21の軸線方向に延長された形状を備え
ており、基板20とラビングローラ21との接触部分に
対し、ほぼ平行に配置された開口位置を備えている。
In this embodiment, a suction member 23 having a suction port 23a disposed on the upper left side of the contact portion is provided, and the dust generated in the contact portion is sucked from the suction port 23a and discharged out of the system. . The suction member 23 may be a member that forcibly sucks air by a suction fan or the like (not shown). However, when the exhaust port is provided in a clean room, it is necessary to provide a high-density filter or the like. Preferably, it is provided. Here, the suction port 23 a has a shape extended in the axial direction of the rubbing roller 21, and has an opening position substantially parallel to a contact portion between the substrate 20 and the rubbing roller 21.

【0051】この実施形態では、吸引口23aから空気
を吸入することによって、ラビングローラ21によって
巻き上げられた粉塵が吸引され、排出されるので、周囲
環境に粉塵が撒き散らされるのを防止することができる
とともに、粉塵がクロス材22や基板20の表面上に堆
積して悪影響を及ぼすことを防止できる。また、一旦基
板20及びクロス材22の表面に付着した粉塵も、吸引
口23aが基板20の表面及びクロス材22の表面に対
向して設けられているため、吸引力によってある程度引
き離され、吸引される。
In this embodiment, dust sucked up by the rubbing roller 21 is sucked and discharged by sucking air from the suction port 23a, so that dust is prevented from being scattered and dispersed in the surrounding environment. In addition, dust can be prevented from being deposited on the cloth material 22 and the surface of the substrate 20 and adversely affecting the dust. Further, the dust once adhered to the surface of the substrate 20 and the cloth material 22 is also separated to some extent by the suction force and sucked because the suction port 23a is provided to face the surface of the substrate 20 and the surface of the cloth material 22. You.

【0052】( 第2実施形態)図2は本発明に係る第2
実施形態を説明するための概略説明図である。
(Second Embodiment) FIG. 2 shows a second embodiment according to the present invention.
It is a schematic explanatory view for explaining an embodiment.

【0053】この実施形態においては、上記第1実施形
態と同様に吸引部材24の先端部に吸引口24aが形成
され、吸引口24aから粉塵を吸引するようになってい
るが、吸引部材24の先端寄りに、少なくとも図2に示
す縦断面上において絞られた形状として形成された先端
部24bが設けられ、その最先端に吸引口24aが形成
されている点で異なる。
In this embodiment, as in the first embodiment, a suction port 24a is formed at the distal end of the suction member 24, and dust is sucked from the suction port 24a. A difference is that a tip portion 24b formed as a shape narrowed at least on the vertical cross section shown in FIG. 2 is provided near the tip, and a suction port 24a is formed at the tip of the tip portion 24b.

【0054】この実施形態では、吸引部材24の先端部
24bが絞られた形状となっているため、基板20とラ
ビングローラ21との接触部分(すなわち粉塵の発生
部)により近い部分に吸引口24aを配置することがで
きるとともに、絞り込んだ先に吸引口24aを形成して
いるので、吸引力を高めることができ、より確実に粉塵
を吸引でき、かつ、より強力に粉塵を基板20及びクロ
ス材22の表面から離反させることができる。
In this embodiment, since the distal end portion 24b of the suction member 24 has a narrowed shape, the suction port 24a is located closer to the contact portion between the substrate 20 and the rubbing roller 21 (ie, the portion where dust is generated). And the suction port 24a is formed at the narrowed end, so that the suction force can be increased, the dust can be more reliably sucked, and the dust can be more strongly applied to the substrate 20 and the cloth material. 22 can be separated from the surface.

【0055】ここで、吸引部材24は上記第1実施形態
と同様の吸引ファン等に接続されていてもよいが、特
に、真空ポンプ等に接続された排気系に接続することに
よって強力な吸引力を発揮することができる。
Here, the suction member 24 may be connected to a suction fan or the like as in the first embodiment, but in particular, it is connected to an exhaust system connected to a vacuum pump or the like to provide a strong suction force. Can be demonstrated.

【0056】この実施形態では、吸引口24aは、ラビ
ングローラ21の表面よりも基板20の表面に向けて開
口しており、基板20の表面上に堆積した粉塵をより確
実に吸引できるようになっている。
In this embodiment, the suction port 24a is opened more toward the surface of the substrate 20 than the surface of the rubbing roller 21, so that the dust accumulated on the surface of the substrate 20 can be sucked more reliably. ing.

【0057】(第3実施形態)図3は本発明に係る第3
実施形態の構造を示す概略斜視図である。
(Third Embodiment) FIG. 3 shows a third embodiment according to the present invention.
It is a schematic perspective view showing the structure of an embodiment.

【0058】この実施形態においては、上記第2実施形
態とほぼ同様の吸引部材25を備えている。吸引部材の
先端寄りには絞られた形状の先端部25bが形成され、
この先端部25bの最先端に開口した吸引口25aが形
成されている。なお、吸引部材25の上端に設けられた
接続管25cは、図示しない排気系に接続されるように
なっている。
In this embodiment, a suction member 25 substantially the same as in the second embodiment is provided. A narrowed tip portion 25b is formed near the tip of the suction member,
A suction port 25a opened at the tip of the tip 25b is formed. The connection pipe 25c provided at the upper end of the suction member 25 is connected to an exhaust system (not shown).

【0059】この実施形態では、先端部25bの先端に
形成された吸引口25aはややラビングローラ21の周
面側に向けて開口しており、基板20とクロス材22と
の接触部分において発生した粉塵を吸引するとともに、
主としてクロス材22の表面に付着した粉塵を吸引する
ように構成されている。
In this embodiment, the suction port 25a formed at the front end of the front end portion 25b is opened slightly toward the peripheral surface of the rubbing roller 21, and is generated at the contact portion between the substrate 20 and the cloth material 22. While sucking dust,
It is configured to mainly suck dust adhering to the surface of the cloth material 22.

【0060】(第4実施形態)図4に示すものは本発明
に係る第4実施形態である。
(Fourth Embodiment) FIG. 4 shows a fourth embodiment according to the present invention.

【0061】この実施形態においては、吸引部材26が
ラビングローラ21の軸線方向に並列した複数の分割吸
引部26dに分割されている。各分割吸引部26dの先
端寄りには、第2及び第3実施形態と同様に絞られた形
状の先端部26bが形成され、その最先端に開口部を持
つ吸引口26aがそれぞれ形成されている。接続管26
cは図示しない排気系に接続されるためのものである。
In this embodiment, the suction member 26 is divided into a plurality of divided suction portions 26d arranged in parallel in the axial direction of the rubbing roller 21. Near the front end of each divided suction portion 26d, a front end portion 26b having a narrowed shape is formed as in the second and third embodiments, and a suction port 26a having an opening at the foremost end thereof is formed. . Connection pipe 26
“c” is for connection to an exhaust system (not shown).

【0062】この実施形態では、吸引口26aを分割す
ることによって、全体としても吸引口26aの開口面積
を低減し、各吸引口26aにおける吸引力を高めるよう
にしている。この結果、単に大気中に巻き上げられた粉
塵のみではなく、基板20の表面やクロス材22の表面
に付着した粉塵をも離反させ、吸引除去する能力を高め
ることができる。
In this embodiment, by dividing the suction port 26a, the opening area of the suction port 26a is reduced as a whole, and the suction force at each suction port 26a is increased. As a result, it is possible to separate not only the dust wound up into the atmosphere, but also the dust adhering to the surface of the substrate 20 and the surface of the cloth material 22, thereby improving the ability to remove by suction.

【0063】(第5実施形態)図5は本発明に係る第5
実施形態の全体構造を示す概略斜視図である。
(Fifth Embodiment) FIG. 5 shows a fifth embodiment according to the present invention.
It is a schematic perspective view showing the whole structure of an embodiment.

【0064】この実施形態においては、ラビングローラ
21の周面をほぼ全面的に包囲するように、一部切り欠
き部を備えた円筒形状に形成された吸引部材27が設け
られている。この吸引部材27には、基板20とラビン
グローラ21との接触部分に対して基板20の移動方向
の前側及び後側に位置する吸引口27a,27bと、ラ
ビングローラ21の周面に貼着されたクロス材22に対
向する吸引口27cとが設けられている。
In this embodiment, a cylindrical suction member 27 having a cutout portion is provided so as to substantially entirely surround the peripheral surface of the rubbing roller 21. The suction member 27 is attached to suction ports 27 a and 27 b located on the front side and the rear side in the moving direction of the substrate 20 with respect to the contact portion between the substrate 20 and the rubbing roller 21, and adheres to the peripheral surface of the rubbing roller 21. And a suction port 27c facing the cloth material 22.

【0065】ここで、ラビングローラ21の周面に対向
する吸引口27cは、ラビングローラ21の周面に対向
する面全体が開口した構造となっていてもよく、或いは
細かい吸引口を多数分散配置させた構造となっていても
よい。なお、接続管27dは図示しない排気系への接続
部を構成するものである。この実施形態によれば、基板
20とラビングローラ21の接触部分の前後に加えて、
ラビングローラ21の周面のほぼ全体から吸引を行うよ
うになっているため、粉塵を確実に捕捉することがで
き、特にクロス材22から粉塵を効果的に除去すること
ができる。また、この実施形態では、吸引部材27がラ
ビングローラ21を包囲するように配置されているた
め、吸引部材がラビングローラ21から離れて突出する
こともないから、装置全体を小型化することができる。
Here, the suction port 27c facing the peripheral surface of the rubbing roller 21 may have a structure in which the entire surface facing the peripheral surface of the rubbing roller 21 is open, or a large number of fine suction ports are dispersed. The structure may be made to have. The connection pipe 27d constitutes a connection to an exhaust system (not shown). According to this embodiment, in addition to before and after the contact portion between the substrate 20 and the rubbing roller 21,
Since suction is performed from almost the entire peripheral surface of the rubbing roller 21, dust can be reliably captured, and in particular, dust can be effectively removed from the cloth material 22. Further, in this embodiment, since the suction member 27 is disposed so as to surround the rubbing roller 21, the suction member does not protrude away from the rubbing roller 21, so that the entire apparatus can be downsized. .

【0066】(第6実施形態)図6は本発明に係る第6
実施形態の全体構成を示す概略斜視図、図7はこの実施
形態の吸引口近傍を示す拡大断面図である。
(Sixth Embodiment) FIG. 6 shows a sixth embodiment according to the present invention.
FIG. 7 is an enlarged cross-sectional view showing the vicinity of a suction port of this embodiment.

【0067】この実施形態では、基板20とラビングロ
ーラ21との接触部分の一側に、吸引部材28の吸引口
28aを配置し、その吸引口28aの近傍に、ラビング
ローラ21の周面に対してエアを吹き付けるための吹付
部材29の吹付口29aを配置している。
In this embodiment, the suction port 28a of the suction member 28 is arranged on one side of the contact portion between the substrate 20 and the rubbing roller 21, and the suction port 28a is located near the suction port 28a with respect to the peripheral surface of the rubbing roller 21. A blowing port 29a of the blowing member 29 for blowing air is disposed.

【0068】吸引口28aは、上記各実施形態と同様に
先端側がやや絞られた吸引部材28の先端に形成され、
上記接触部分から発生する粉塵を吸引するとともに、ラ
ビングローラ21の周面のクロス材22に付着した粉塵
をも吸引できるように構成されている。
The suction port 28a is formed at the front end of the suction member 28 whose front end is slightly narrowed as in the above embodiments.
The dust generated from the contact portion is sucked, and the dust adhering to the cloth member 22 on the peripheral surface of the rubbing roller 21 can also be sucked.

【0069】吹付部材29の内部には、簡略化して示す
イオン化電極29b,29cが設置されており、このイ
オン化電極29bと29cとの間に高周波電圧を印加す
ることによって、図示しないエアコンプレッサ等からな
る給気装置から送られるエアをイオン化するようになっ
ている。イオン化されたエアは吹付口29aからクロス
材22の表面へと吹き付けられ、付着している粉塵をク
ロス材22から離反させる。クロス材22から離反され
た粉塵は、上記吸引口28aから吸引され、排出され
る。
Inside the spraying member 29, ionization electrodes 29b and 29c, which are shown in a simplified manner, are installed. By applying a high-frequency voltage between the ionization electrodes 29b and 29c, an air compressor (not shown) is used. The air sent from the air supply device is ionized. The ionized air is blown from the blowing port 29a to the surface of the cloth material 22, and the attached dust is separated from the cloth material 22. The dust separated from the cloth material 22 is sucked from the suction port 28a and discharged.

【0070】上記吸引部材28及び吹付部材29の両側
(ラビングローラ21の回転方向の前後両側)には、気
流制御板31,32がそれぞれ配置されている。これら
の気流制御板31,32は、吹付部材29から吹き付け
られたエアを周囲に広げることなく、効率的に吸引口2
8aから排出されるようにするためのものである。これ
らの気流制御板31,32によって、吸引部材28に吸
込まれない粉塵が周囲に撒き散らされることを防止でき
る。
Air flow control plates 31 and 32 are disposed on both sides of the suction member 28 and the blowing member 29 (on both front and rear sides in the rotation direction of the rubbing roller 21). These air flow control plates 31 and 32 efficiently control the suction port 2 without spreading the air blown from the blowing member 29 to the surroundings.
8a. These airflow control plates 31 and 32 can prevent dust that is not sucked into the suction member 28 from being scattered around.

【0071】上記吹付部材29にはイオン化電極を設
け、エアをイオン化して吹き付けるようにすることによ
って、粉塵の離反を促進させている。しかし、エアのイ
オン化手段を設けなくても、吹付力によってある程度の
粉塵を離反させることは可能である。
The spraying member 29 is provided with an ionization electrode to ionize the air and blow the air to promote separation of the dust. However, it is possible to separate a certain amount of dust by the blowing force without providing air ionizing means.

【0072】吹付手段において吹き付けるものとして
は、エアに限らず、不活性ガスや純水等の、被処理物に
影響を与えないものでありさえすれば、種々の他の流体
を用いることができる。
The spraying means in the spraying means is not limited to air, and various other fluids can be used as long as they do not affect the object to be processed, such as inert gas and pure water. .

【0073】上記吹付手段及び吸引手段は、粉塵の発生
部である、基板20とラビングローラ21との接触部分
に対して設けることが最も効果的であるが、ラビングロ
ーラ21の表面に対しても、さらにはラビング処理後の
基板表面に対しても作用するように、一体に、或いは、
それぞれ適用部位毎に別体のものとして設けることが好
ましい。
It is most effective that the spraying means and the suction means are provided at a contact portion between the substrate 20 and the rubbing roller 21 which is a dust generating portion, but also at the surface of the rubbing roller 21. To further act on the substrate surface after the rubbing treatment,
It is preferable to provide them separately for each application site.

【0074】なお、上記各実施形態においては、ラビン
グローラ21に貼着されたクロス材22によって基板2
0の表面を擦るラビング処理に対して説明を行ってきた
が、、その他の種々のラビング処理部材によって擦る方
法により行うラビング方法及び装置に広く適用できるの
は勿論である。
In each of the above embodiments, the substrate 2 is formed by the cloth material 22 adhered to the rubbing roller 21.
Although the rubbing treatment of rubbing the surface of No. 0 has been described, it is needless to say that the present invention can be widely applied to a rubbing method and an apparatus rubbed by various other rubbing members.

【0075】(第7実施形態)図8は本発明に係る第7
実施形態を説明するための概略説明図、図9は図8を部
分的に拡大した概略断面図である。
(Seventh Embodiment) FIG. 8 shows a seventh embodiment according to the present invention.
FIG. 9 is a schematic explanatory view for explaining the embodiment, and FIG. 9 is a schematic sectional view in which FIG. 8 is partially enlarged.

【0076】この実施形態では、基板20とラビングロ
ーラ21との接触部分の図示右側上方に吸引口50aを
配置した吸引ノズル50を設け、吸引口50aからラビ
ングローラ21のクロス材22に付着した粉塵を吸引し
て系外に排出するものである。吸引ノズル50として
は、例えば、図示しない真空ポンプ等によって強制的に
空気を真空吸引するものでよいが、排気口をクリーンル
ーム内に設ける場合には高密度フィルタ等を備える必要
があるため、排気口は室外に設けることが好ましい。
In this embodiment, a suction nozzle 50 having a suction port 50a is provided on the upper right side of the contact portion between the substrate 20 and the rubbing roller 21, and the dust adhering to the cloth material 22 of the rubbing roller 21 from the suction port 50a. Is sucked and discharged out of the system. For example, the suction nozzle 50 may be a device that forcibly sucks air by a vacuum pump or the like (not shown). However, when an exhaust port is provided in a clean room, it is necessary to provide a high-density filter or the like. Is preferably provided outside the room.

【0077】吸引口50aはラビングローラ21の軸線
方向に沿って延在され、且つ、基板20とラビングロー
ラ21との接触部分に対してほぼ平行に配置されたスリ
ット状の開口を備える。また、吸引口50aの周縁部に
は、石英又はガラス等の非導電材層51がコーティング
されている。
The suction port 50 a has a slit-like opening extending along the axial direction of the rubbing roller 21 and arranged substantially parallel to the contact portion between the substrate 20 and the rubbing roller 21. In addition, a non-conductive material layer 51 such as quartz or glass is coated on a peripheral portion of the suction port 50a.

【0078】吸引ノズル50はラビングローラ21の外
周部に向けて接近離間移動可能に配置されており、図示
しない駆動手段によってラビングローラ21の外周部に
対しての接近離間移動がなされる。具体的には、基板2
0の表面をラビングローラ21によって擦っているとき
には、駆動手段が吸引ノズル50をラビングローラ21
の外周部に接近移動させ、擦っていないときには吸引ノ
ズル50をラビングローラ21の外周部から離間移動さ
せる。
The suction nozzle 50 is arranged so as to be able to move toward and away from the outer peripheral portion of the rubbing roller 21, and is moved toward and away from the outer peripheral portion of the rubbing roller 21 by driving means (not shown). Specifically, the substrate 2
When the rubbing roller 21 is rubbing the surface of the rubbing roller 21, the driving means
The suction nozzle 50 is moved away from the outer peripheral portion of the rubbing roller 21 when it is not rubbed.

【0079】ここで、吸引ノズル50がラビングローラ
21に接近移動する際には、該吸引ノズル50の吸引口
50aの周縁部(非導電材層51)がラビングローラ2
1のクロス材22の毛足部22aに接触する位置で吸引
ノズル50の移動が停止される。この場合、図9に示す
ように、毛足部22aに接触する吸引口50a周縁部の
位置が、クロス材22の毛足部22aの長さをLとした
場合に該毛足部22aの先端部からL/2までの範囲内
で吸引ノズル50の移動が停止されるようにするのが好
ましい。
When the suction nozzle 50 moves closer to the rubbing roller 21, the peripheral portion (non-conductive material layer 51) of the suction port 50 a of the suction nozzle 50 is moved to the rubbing roller 2.
The movement of the suction nozzle 50 is stopped at a position where the suction member 50 contacts the bristle feet 22a of the first cloth member 22. In this case, as shown in FIG. 9, the position of the peripheral edge of the suction port 50a in contact with the bristle feet 22a is the tip of the bristle feet 22a when the length of the bristle feet 22a of the cloth material 22 is L. It is preferable that the movement of the suction nozzle 50 be stopped within a range from the part to L / 2.

【0080】この実施形態では、ラビング時においては
吸引ノズル50の吸引口50aの周縁部がラビングロー
ラ21の外周部のクロス材22の毛足部22aに接触し
て配置されているため、クロス材22に付着した粉塵
が、該クロス材22が基板20に接触する前に強力な吸
引力で吸引除去される。この結果、クロス材22が基板
20に接触する前において該クロス材22は常にクリー
ンな状態とされ、この状態で基板20を擦ることが可能
になって、基板20への粉塵の付着が良好に防止され
る。
In this embodiment, at the time of rubbing, the periphery of the suction port 50a of the suction nozzle 50 is arranged in contact with the bristle feet 22a of the cloth material 22 on the outer periphery of the rubbing roller 21, so that the cloth material The dust adhering to the substrate 22 is removed by a strong suction force before the cloth member 22 contacts the substrate 20. As a result, before the cloth material 22 comes into contact with the substrate 20, the cloth material 22 is always kept in a clean state. In this state, the substrate 20 can be rubbed, and the adhesion of dust to the substrate 20 can be improved. Is prevented.

【0081】また、毛足部22aの先端部から該毛足部
22aの長さLの1/2までの範囲内に吸引ノズル50
の吸引口50aの周縁部を位置させることにより、吸引
口50aの周縁部のクロス材22の地肌への不用意な接
触が回避されるため、吸引口50aの周縁部の毛足部2
2aへの接触を確保して強力な吸引力を維持する一方に
おいて、クロス材22の地肌が吸引口50aの周縁部に
よって削り取られて基板20上に落下するのを確実に防
止することができる。
The suction nozzle 50 is positioned within a range from the tip of the hair foot 22a to half the length L of the hair foot 22a.
By locating the peripheral edge of the suction port 50a, careless contact of the cloth material 22 at the peripheral edge of the suction port 50a with the ground is avoided, and the hair foot 2 at the peripheral edge of the suction port 50a is prevented.
While maintaining a strong suction force by ensuring contact with 2a, it is possible to reliably prevent the background of the cloth material 22 from being scraped off by the peripheral edge of the suction port 50a and falling onto the substrate 20.

【0082】更に、基板20の表面がラビングローラ2
1によって擦られていないときは、吸引ノズル50がラ
ビングローラ21の外周部から離間配置されて該吸引ノ
ズル50の吸引口50aの周縁部と毛足部22aとの接
触がなくなるため、該周縁部と毛足部22aとの接触
(摩擦)による熱影響及び該接触によるラビングローラ
21の劣化を軽減することができ、この結果、ラビング
ローラ21の寿命向上を図ることができる。
Further, the surface of the substrate 20 is
1 is not rubbed, the suction nozzle 50 is spaced apart from the outer peripheral portion of the rubbing roller 21 so that the peripheral portion of the suction port 50a of the suction nozzle 50 does not come into contact with the bristle feet 22a. The thermal effect due to the contact (friction) between the rubbing roller 22a and the rubbing roller 22 can be reduced, and as a result, the life of the rubbing roller 21 can be improved.

【0083】更に、吸引口50aの周縁部には非導電材
層51が配置されているため、吸引口50aの周縁部と
毛足部22aとが長期間に渡って接触して万が一に該周
縁部が削れた場合に、落下した削り屑が基板20の表面
に付着した状態で液晶が封入されて製品化されたとして
も、該削り屑が非導電材であるため製品使用時のショー
トを確実に防止することができる。この場合、非導電材
層51を石英又はガラスで構成することにより、吸引口
50aの周縁部の耐久性の向上を図るとができるととも
に、該周縁部に容易に鏡面部を形成することができる。
Further, since the non-conductive material layer 51 is disposed at the peripheral portion of the suction port 50a, the peripheral portion of the suction port 50a and the bristle feet 22a come into contact over a long period of time, and Even if the liquid crystal is encapsulated in a state in which the shavings that have fallen and the falling shavings adhere to the surface of the substrate 20 and the liquid crystal is encapsulated, the shavings are non-conductive materials, so that short-circuiting when using the product is ensured. Can be prevented. In this case, by forming the non-conductive material layer 51 from quartz or glass, the durability of the peripheral portion of the suction port 50a can be improved, and a mirror surface portion can be easily formed on the peripheral portion. .

【0084】なお、この実施の形態では、吸引ノズル5
0を基板20とラビングローラ21との接触部分の図示
右側上方に配置して吸引口50aをクロス材22の毛足
部22aに接触させているが、これに限定されず、吸引
ノズル50を基板20とラビングローラ21との接触部
分の図示左側上方或いは図示中央部上方に配置して吸引
口50aをクロス材22の毛足部22aに接触させるよ
うにしてもよい。
In this embodiment, the suction nozzle 5
0 is disposed on the upper right side of the contact portion between the substrate 20 and the rubbing roller 21 so that the suction port 50a is in contact with the bristle feet 22a of the cloth material 22, but the present invention is not limited to this. The suction port 50a may be arranged to be in contact with the bristle feet 22a of the cloth material 22 by disposing the suction port 50a above the left side of the contact portion between the rubbing roller 21 and the central portion in the figure.

【0085】(第8実施形態)図10は本発明に係る第
8実施形態を説明するための概略説明図である。
(Eighth Embodiment) FIG. 10 is a schematic explanatory view for explaining an eighth embodiment according to the present invention.

【0086】この実施形態は、第7実施形態の吸引ノズ
ル50の吸引口50aに櫛部60を配置した点の除いて
その構成が第7実施形態と同一であるため、第7実施形
態と重複する部分については同一符号を付してその説明
を省略し、相違点を説明する。
This embodiment is the same as the seventh embodiment except that the comb portion 60 is arranged at the suction port 50a of the suction nozzle 50 of the seventh embodiment. Portions are denoted by the same reference numerals, description thereof will be omitted, and differences will be described.

【0087】吸引ノズル50の吸引口50aにはクロス
材22の毛足部22aに接触する櫛部60が取り付けら
れており、該櫛部60は吸引口50aと同様にラビング
ローラ21の軸線方向に沿って延在されるとともに、基
板20とラビングローラ21との接触部分に対してほぼ
平行に配置され、且つ、先端部が吸引口50aの周縁部
と略面一とされている。
A comb portion 60 that comes into contact with the bristle feet 22a of the cloth material 22 is attached to the suction port 50a of the suction nozzle 50. The comb portion 60 extends along the axial direction of the rubbing roller 21 similarly to the suction port 50a. It extends and is arranged substantially in parallel with the contact portion between the substrate 20 and the rubbing roller 21, and its tip is substantially flush with the peripheral edge of the suction port 50 a.

【0088】この実施の形態では、ラビング時におい
て、吸引口50aに設けられた櫛部60によって毛足部
22aの毛並みが揃えられるとともに、該櫛部60が毛
足部22aに付着した粉塵をたたき出すため吸引口50
aからの粉塵の吸引効果を高めることができる。なお、
その他の作用効果は上述した第7実施形態と同様である
のでその説明を省略する。
In this embodiment, at the time of rubbing, the combs 60 provided in the suction port 50a align the hairs of the hair feet 22a, and the combs 60 strike out dust attached to the hair feet 22a. Mouth 50
The effect of sucking dust from a can be increased. In addition,
Other functions and effects are the same as those of the above-described seventh embodiment, and thus description thereof will be omitted.

【0089】(第9実施形態)図11は本発明に係る第
9実施形態を説明するための概略説明図である。
(Ninth Embodiment) FIG. 11 is a schematic explanatory view for explaining a ninth embodiment according to the present invention.

【0090】この実施形態は、第1実施形態(図1参
照)の吸引部材23を基板20とラビングローラ21と
の接触部分の図示左側(粉塵が多く発生する側)上方に
配置するとともに、第7実施形態(図8及び図9参照)
の吸引ノズル50を該接触部分の図示右側上方に配置し
たものである。なお、吸引部材23及び吸引ノズル50
はそれぞれ第1実施形態及び第7実施形態で説明済であ
るため、重複する部分に同一符号を付してその説明を省
略する。
In this embodiment, the suction member 23 of the first embodiment (see FIG. 1) is arranged above the contact portion between the substrate 20 and the rubbing roller 21 on the left side in the figure (on the side where a large amount of dust is generated). Seventh Embodiment (see FIGS. 8 and 9)
Is arranged above the right side of the contact portion in the figure. The suction member 23 and the suction nozzle 50
Has already been described in the first embodiment and the seventh embodiment, and the same reference numerals are given to the overlapping portions, and the description thereof is omitted.

【0091】この実施形態では、ラビング時において、
ラビングローラ21によって巻き上げられた粉塵が吸引
部材23の吸引口23aから吸引されて排出されるの
で、周囲環境に粉塵が撒き散らされるのを防止すること
ができるとともに、粉塵がクロス材22や基板20の表
面上に堆積して悪影響を及ぼすことを防止でき、更に、
一旦基板20及びクロス材22の表面に付着した粉塵
も、吸引口23aが基板20の表面及びクロス材22の
表面に対向して設けられていることにより、吸引力によ
ってある程度引き離されて吸引され、しかも、吸引ノズ
ル50によってクロス材22に付着した粉塵が、該クロ
ス材22が基板20に接触する前に強力な吸引力で吸引
除去されるので、ラビングローラ21の外周部を常にク
リーンな状態にして基板20を擦ることが可能になって
基板20への粉塵の付着を防止することができる。この
結果、TFTの品質を更に高めることができるととも
に、製造工程におけるクリーン度の管理についても、従
来必要であったラビング工程及洗浄工程とその他の製造
工程との環境仕切りを不要にすることが可能になった。
なお、その他の作用効果については、第7実施形態と同
様であるのでその説明を省略する。
In this embodiment, at the time of rubbing,
Since the dust wound up by the rubbing roller 21 is sucked and discharged from the suction port 23a of the suction member 23, the dust can be prevented from being scattered in the surrounding environment, and the dust can be removed from the cloth material 22 or the substrate 20. Can be prevented from accumulating on the surface of
Dust once adhered to the surfaces of the substrate 20 and the cloth material 22 is also sucked by being separated to some extent by the suction force, because the suction port 23a is provided to face the surface of the substrate 20 and the surface of the cloth material 22, In addition, since the dust adhering to the cloth material 22 by the suction nozzle 50 is suctioned and removed by a strong suction force before the cloth material 22 comes into contact with the substrate 20, the outer peripheral portion of the rubbing roller 21 is always kept in a clean state. Thus, the substrate 20 can be rubbed, so that the adhesion of dust to the substrate 20 can be prevented. As a result, it is possible to further improve the quality of the TFT, and to eliminate the need for an environmental partition between the rubbing step, the cleaning step, and other manufacturing steps, which was required in the past, for the management of cleanliness in the manufacturing process. Became.
The other operation and effects are the same as those of the seventh embodiment, and thus description thereof is omitted.

【0092】[0092]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば以下
の効果を奏する。
As described above, according to the present invention, the following effects can be obtained.

【0093】請求項1又は3の発明では、基板表面をラ
ビング処理部材で擦った際に発生する粉塵を吸引するよ
うにしているので、粉塵が基板表面に堆積したり、ラビ
ング処理部材に付着したりすることが抑制され、液晶電
気光学素子の表示品位を高めることができるという効果
が得られる。
In the first or third aspect of the present invention, the dust generated when the substrate surface is rubbed with the rubbing member is sucked, so that the dust is deposited on the substrate surface or adheres to the rubbing member. Is suppressed, and the display quality of the liquid crystal electro-optical element can be improved.

【0094】請求項2又は4の発明では、請求項1又は
3の発明に加えて、粉塵の吸引を該粉塵の発生部におい
て行うようにしたので、粉塵が周囲環境に撒き散らされ
ることがなく、製造工程におけるクリーン度の管理を容
易に行うことができるという効果が得られる。
According to the second or fourth aspect of the present invention, in addition to the first or third aspect of the present invention, the dust is sucked at the dust generating portion, so that the dust is not scattered to the surrounding environment. In addition, it is possible to easily control the cleanliness in the manufacturing process.

【0095】請求項5の発明では、請求項4の発明に加
えて、簡易な構造のラビングローラによってラビング処
理を行うことができるとともに、基板とラビングローラ
との接触部はラビングローラに対して常時一定の位置に
あるので、吸引部材の配置を容易に行うことができると
いう効果が得られる。
According to the fifth aspect of the present invention, in addition to the fourth aspect of the present invention, the rubbing process can be performed by a rubbing roller having a simple structure, and the contact portion between the substrate and the rubbing roller is always in contact with the rubbing roller. Since the suction member is located at a certain position, an effect is obtained that the suction member can be easily arranged.

【0096】請求項6の発明では、請求項5の発明に加
えて、吸引部材は先端に向かって絞られた形状に形成さ
れているので、基板とラビングローラとの接触部により
近い位置に吸引口を配置することができるとともに、吸
引口が絞られた先端に形成されていることによって吸引
力を高めることができるという効果が得られる。
According to the sixth aspect of the present invention, in addition to the fifth aspect of the present invention, since the suction member is formed in a shape narrowed toward the tip, the suction member is located closer to the contact portion between the substrate and the rubbing roller. The effect of being able to arrange the mouth and increasing the suction force by forming the suction port at the narrowed tip is obtained.

【0097】請求項7の発明では、請求項5又は6の発
明に加えて、分割された吸引経路の先端部にそれぞれ吸
引口を設けているため、吸引口における吸引力を高める
ことができるとともに、ラビングローラの軸線方向に亘
って確実に粉塵を吸引することができるという効果が得
られる。
According to the seventh aspect of the present invention, in addition to the fifth or sixth aspect of the present invention, the suction port is provided at each of the distal ends of the divided suction paths, so that the suction force at the suction port can be increased. Thus, an effect is obtained that dust can be reliably sucked in the axial direction of the rubbing roller.

【0098】請求項8の発明では、請求項5の発明に加
えて、ラビングローラに付着している粉塵の除去をより
確実に行うことができるとともに、吸引部材がラビング
ローラを包囲するように形成されていることによって装
置の小型化を図ることができるという効果が得られる。
According to the invention of claim 8, in addition to the invention of claim 5, dust adhering to the rubbing roller can be more reliably removed, and the suction member is formed so as to surround the rubbing roller. By doing so, the effect that the size of the device can be reduced can be obtained.

【0099】請求項9の発明では、請求項4の発明に加
えて、吹付手段によってラビング処理部材又は基板に流
体を吹付けて粉塵を離反させた後に、吸引部材の吸引口
から粉塵を吸引することができるので、ラビング処理部
材又は基板に付着している粉塵をより確実に除去するこ
とができるという効果が得られる。
According to the ninth aspect of the present invention, in addition to the fourth aspect of the present invention, the dust is sucked from the suction port of the suction member after the dust is separated by spraying a fluid on the rubbing member or the substrate by the spraying means. Therefore, it is possible to obtain an effect that dust adhering to the rubbing member or the substrate can be more reliably removed.

【0100】請求項10の発明では、請求項3の発明に
加えて、吸引ノズルの吸引口の周縁部がラビングローラ
の毛足部に接触しているので、ラビングローラの外周部
に付着した粉塵を該外周部が基板に接触する前に強力な
吸引力で吸引除去することができ、この結果、常にクリ
ーンな状態のラビングローラの外周部で基板を擦ること
が可能になって、基板への粉塵の付着を防止することが
できるという効果が得られる。
According to the tenth aspect of the present invention, in addition to the third aspect of the present invention, since the peripheral edge of the suction port of the suction nozzle is in contact with the bristle feet of the rubbing roller, the dust adhering to the outer peripheral portion of the rubbing roller is improved. Can be removed by a strong suction force before the outer peripheral portion contacts the substrate, and as a result, the substrate can be constantly rubbed with the outer peripheral portion of the rubbing roller in a clean state. The effect is obtained that the adhesion of dust can be prevented.

【0101】請求項11の発明では、請求項3の発明に
加えて、ラビングローラの外周部に付着した粉塵を該外
周部が基板に接触する前に強力な吸引力で吸引除去する
ことができるので、常にクリーンな状態のラビングロー
ラの外周部で基板を擦ることが可能になって、基板への
粉塵の付着を防止することができるとともに、吸引部材
の吸引口からも基板とラビング処理部材との接触部で発
生した粉塵が吸引除去されるので、周囲環境に粉塵が撒
き散らされるのを防止することができ、この結果、液晶
電気光学素子の表示品位を更に高めることができるとと
もに、製造工程におけるクリーン度の管理についても更
に容易にすることができるという効果が得られる。
According to the eleventh aspect, in addition to the third aspect, dust adhering to the outer peripheral portion of the rubbing roller can be suctioned and removed by a strong suction force before the outer peripheral portion contacts the substrate. Therefore, the substrate can always be rubbed with the outer peripheral portion of the rubbing roller in a clean state, so that dust can be prevented from adhering to the substrate. Since dust generated at the contact portion of the liquid crystal device is sucked and removed, it is possible to prevent the dust from being scattered in the surrounding environment. As a result, the display quality of the liquid crystal electro-optical element can be further improved, and the manufacturing process can be improved. Thus, the effect that the management of the degree of cleanliness in can be further facilitated.

【0102】請求項12の発明では、請求項10又は1
1の発明に加えて、基板の表面がラビングローラによっ
て擦られていないときは、吸引ノズルがラビングローラ
の外周部から離間配置されて該吸引ノズルの吸引口の周
縁部とラビングローラの毛足部との接触がなくなるた
め、該周縁部と毛足部との接触による熱影響及び該接触
によるラビングローラの劣化を軽減することができると
いう効果が得られる。
According to the twelfth aspect of the present invention, the tenth aspect or the first aspect
In addition to the first aspect, when the surface of the substrate is not rubbed by the rubbing roller, the suction nozzle is disposed apart from the outer peripheral portion of the rubbing roller, and the peripheral portion of the suction port of the suction nozzle and the bristle feet of the rubbing roller. Since there is no contact with the rubbing roller, it is possible to reduce the influence of heat caused by the contact between the peripheral edge and the hair foot and the deterioration of the rubbing roller due to the contact.

【0103】請求項13の発明では、請求項10〜12
のいずれか一項の発明に加えて、吸引ノズルの吸引口の
周縁部のラビングローラの毛足部への接触を確保しつ
つ、該吸引口の周縁部のラビングローラの地肌への接触
を確実に回避して該地肌が吸引口の周縁部によって削り
取られないようにすることができるという効果が得られ
る。
According to the thirteenth aspect, the tenth to twelfth aspects are described.
In addition to the invention of any one of the above, while ensuring the contact of the peripheral edge of the suction port of the suction nozzle to the bristle feet of the rubbing roller, the contact of the peripheral edge of the suction port with the ground of the rubbing roller is ensured. And the background can be prevented from being scraped off by the peripheral portion of the suction port.

【0104】請求項14の発明では、請求項10〜13
のいずれか一項の発明に加えて、櫛部によってラビング
ローラの毛足部の毛並みを揃えつつ、該毛足部に付着し
た粉塵をたたき出して吸引口からの粉塵の吸引効果を高
めることができるという効果が得られる。
According to the fourteenth aspect, the tenth to thirteenth aspects are described.
In addition to the invention according to any one of the above, it is possible to enhance the effect of sucking the dust adhered to the bristle feet to strike out the dust attached to the bristle feet while aligning the fur of the bristle feet of the rubbing roller with the comb part. The effect is obtained.

【0105】請求項15の発明では、請求項10〜14
のいずれか一項の発明に加えて、吸引ノズルの吸引口の
周縁部とラビングローラの毛足部とが長期間に渡って接
触することによって万が一に該周縁部が削れた場合に、
落下した削り屑が基板表面に付着した状態で液晶が封入
されて製品化されたとしても、該削り屑が非導電材であ
るため製品使用時のショートを確実に防止することがで
きるという効果が得られる。
According to the fifteenth aspect, the tenth to fourteenth aspects are described.
In addition to the invention of any one of the above, in the event that the peripheral edge of the suction port of the suction nozzle and the bristle feet of the rubbing roller contact for a long period of time, the peripheral edge is shaved,
Even when the liquid crystal is sealed and commercialized with the dropped shavings attached to the substrate surface, the shavings are non-conductive materials, so that an effect of reliably preventing a short circuit during use of the product can be obtained. can get.

【0106】請求項16の発明では、請求項15の発明
に加えて、毛足部に接触する吸引口周縁部の耐久性の向
上を図ることができるとともに、該周縁部を容易に鏡面
形状とすることができるという効果が得られる。
According to the sixteenth aspect of the invention, in addition to the fifteenth aspect, it is possible to improve the durability of the peripheral portion of the suction port that comes into contact with the bristle feet, and to easily form the peripheral portion into a mirror-like shape. The effect is obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る第1実施形態の説明を行うための
概略断面図である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view for describing a first embodiment according to the present invention.

【図2】本発明に係る第2実施形態の説明を行うための
概略断面図である。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view for explaining a second embodiment according to the present invention.

【図3】本発明に係る第3実施形態の説明を行うための
概略斜視図である。
FIG. 3 is a schematic perspective view for explaining a third embodiment according to the present invention.

【図4】本発明に係る第4実施形態の説明を行うための
概略斜視図である。
FIG. 4 is a schematic perspective view for explaining a fourth embodiment according to the present invention.

【図5】本発明に係る第5実施形態の説明を行うための
概略斜視図である。
FIG. 5 is a schematic perspective view for explaining a fifth embodiment according to the present invention.

【図6】本発明に係る第6実施形態の説明を行うための
概略斜視図である。
FIG. 6 is a schematic perspective view for explaining a sixth embodiment according to the present invention.

【図7】第6実施形態の構造を示す拡大断面図である。FIG. 7 is an enlarged sectional view showing the structure of a sixth embodiment.

【図8】本発明に係る第7実施形態の説明を行うための
概略断面図である。
FIG. 8 is a schematic cross-sectional view for explaining a seventh embodiment according to the present invention.

【図9】ラビングローラの外周部を部分的に拡大した概
略断面図である。
FIG. 9 is a schematic cross-sectional view in which an outer peripheral portion of a rubbing roller is partially enlarged.

【図10】本発明に係る第8実施形態の説明を行うため
の概略断面図である。
FIG. 10 is a schematic cross-sectional view for explaining an eighth embodiment according to the present invention.

【図11】本発明に係る第9実施形態の説明を行うため
の概略断面図である。
FIG. 11 is a schematic sectional view for explaining a ninth embodiment according to the present invention.

【図12】TFTの概略透視平面図である。FIG. 12 is a schematic perspective plan view of a TFT.

【図13】図12のH−H′線断面図である。FIG. 13 is a sectional view taken along line HH ′ of FIG.

【図14】液晶表示装置の組み立て工程を説明するため
のフローチャート図である。
FIG. 14 is a flowchart for explaining an assembling process of the liquid crystal display device.

【図15】従来のラビング処理の状況を説明するための
概略断面図である。
FIG. 15 is a schematic cross-sectional view for explaining the state of a conventional rubbing process.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 搬送ローラ 20 基板 21 ラビングローラ 22 クロス材 22a 毛足部 23,24,25,26,27,28 吸引部材 23a,24a,25a,26a,27a,28a 吸
引口 29 吹付部材 29a 吹付口 29b,29c イオン化電極 50 吸引ノズル 50a 吸引口 51 非導電材 60 櫛部 L 毛足部の長さ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Conveyance roller 20 Substrate 21 Rubbing roller 22 Cloth material 22a Bristle feet 23, 24, 25, 26, 27, 28 Suction member 23a, 24a, 25a, 26a, 27a, 28a Suction port 29 Spray member 29a Spray port 29b, 29c Ionization electrode 50 Suction nozzle 50a Suction port 51 Non-conductive material 60 Comb part L Length of hair foot part

Claims (16)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 液晶電気光学素子に使用する基板の表面
をラビング処理部材によって擦るようにした基板のラビ
ング方法において、 前記基板と前記ラビング処理部材の少なくとも一方から
発生する粉塵を吸引しながらラビング処理を行う基板の
ラビング方法。
1. A rubbing method for a substrate in which a surface of a substrate used for a liquid crystal electro-optical element is rubbed by a rubbing member, wherein a rubbing process is performed while sucking dust generated from at least one of the substrate and the rubbing member. Rubbing method for a substrate.
【請求項2】 請求項1において、前記吸引を前記粉塵
の発生部において行うことを特徴とする基板のラビング
方法。
2. The rubbing method for a substrate according to claim 1, wherein the suction is performed in the dust generating section.
【請求項3】 液晶電気光学素子に用いる基板の表面を
擦るためのラビング処理部材と、前記基板と前記ラビン
グ処理部材とを相対的に動作させて前記基板の表面を前
記ラビング処理部材によって擦るように駆動する駆動手
段とを備えた基板のラビング装置において、 前記基板と前記ラビング処理部材の少なくとも一方から
発生する粉塵を吸引する吸引手段を備えたことを特徴と
する基板のラビング装置。
3. A rubbing member for rubbing the surface of a substrate used for a liquid crystal electro-optical element, and the substrate and the rubbing member are relatively operated to rub the surface of the substrate with the rubbing member. A rubbing device for a substrate, comprising: a driving means for driving the substrate; and a suction means for suctioning dust generated from at least one of the substrate and the rubbing member.
【請求項4】 請求項3において、前記吸引手段は、前
記基板と前記ラビング処理部材との接触部に向かって開
口した吸引口を有する吸引部材を備えたことを特徴とす
る基板のラビング装置。
4. The substrate rubbing apparatus according to claim 3, wherein the suction means includes a suction member having a suction port opened toward a contact portion between the substrate and the rubbing member.
【請求項5】 請求項4において、前記ラビング処理部
材は前記基板に対して回転するラビングローラであり、
前記吸引口は、前記基板と前記ラビングローラとの接触
部に向かって開口していることを特徴とする基板のラビ
ング装置。
5. The rubbing processing member according to claim 4, wherein the rubbing member is a rubbing roller that rotates with respect to the substrate.
A rubbing device for a substrate, wherein the suction port is opened toward a contact portion between the substrate and the rubbing roller.
【請求項6】 請求項5において、前記吸引部材は、前
記基板と前記ラビングローラとの接触部に向かって絞ら
れた形状を備え、その先端部に前記吸引口が形成されて
いることを特徴とする基板のラビング装置。
6. The suction member according to claim 5, wherein the suction member has a shape narrowed toward a contact portion between the substrate and the rubbing roller, and the suction port is formed at a tip portion thereof. Substrate rubbing device.
【請求項7】 請求項5又は請求項6において、前記吸
引部材は、前記ラビングローラの軸線方向に複数に分割
された吸引経路を備え、該吸引経路の先端部にそれぞれ
前記吸引口が形成されていることを特徴とする基板のラ
ビング装置。
7. The suction member according to claim 5, wherein the suction member has a plurality of suction paths divided in an axial direction of the rubbing roller, and the suction port is formed at a tip end of the suction path. A rubbing device for a substrate, comprising:
【請求項8】 請求項5において、前記吸引部材は、前
記ラビングローラを包囲するように形成され、前記ラビ
ングローラの周面部に対向する吸引口を備えていること
を特徴とする基板のラビング装置。
8. The substrate rubbing device according to claim 5, wherein the suction member is formed so as to surround the rubbing roller, and has a suction port facing a peripheral surface of the rubbing roller. .
【請求項9】 請求項4において、前記ラビング処理部
材又は前記基板に対して流体を吹き付ける吹付手段を設
け、前記吸引口の近傍に前記吹付手段の吹付位置を設定
したことを特徴とする基板のラビング装置。
9. The method according to claim 4, wherein a spraying means for spraying a fluid to the rubbing member or the substrate is provided, and a spraying position of the spraying means is set near the suction port. Rubbing equipment.
【請求項10】 請求項3において、前記ラビング処理
部材は、前記基板に対して回転するラビングローラであ
り、前記吸引手段は、その吸引口の周縁部を前記ラビン
グローラの毛足部に接触させた状態で該ラビングローラ
の外周部に配置された吸引ノズルを備えたことを特徴と
する基板のラビング装置。
10. The rubbing processing member according to claim 3, wherein the rubbing processing member is a rubbing roller that rotates with respect to the substrate, and the suction unit causes a peripheral edge of the suction port to contact a bristle portion of the rubbing roller. A rubbing device for a substrate, comprising: a suction nozzle disposed on an outer peripheral portion of the rubbing roller in a state where the rubbing roller is in a rubbed state.
【請求項11】 請求項3において、前記ラビング処理
部材は、前記基板に対して回転するラビングローラであ
り、前記吸引手段は、その吸引口の周縁部を前記ラビン
グローラの毛足部に接触させた状態で該ラビングローラ
の外周部に配置された吸引ノズルと、前記基板と前記ラ
ビング処理部材との接触部に向かって開口した吸引口を
有する吸引部材とを備えたことを特徴とする基板のラビ
ング装置。
11. The rubbing processing member according to claim 3, wherein the rubbing processing member is a rubbing roller that rotates with respect to the substrate, and the suction unit causes a peripheral edge of the suction port to contact a bristle foot of the rubbing roller. A suction nozzle disposed on an outer peripheral portion of the rubbing roller in a state in which the rubbing processing member is provided, and a suction member having a suction port opened toward a contact portion between the substrate and the rubbing processing member. Rubbing equipment.
【請求項12】 請求項10又は11において、前記吸
引ノズルを前記ラビングローラの外周部に対して接近離
間移動可能に配置し、更に、前記基板の表面を前記ラビ
ング処理部材によって擦っているときに前記吸引ノズル
を前記ラビングローラの外周部に接近移動させ、擦って
いないときに前記吸引ノズルを前記ラビングローラの外
周部から離間移動させる駆動手段を備えたことを特徴と
する基板のラビング装置。
12. The rubbing processing device according to claim 10, wherein the suction nozzle is arranged so as to be able to move toward and away from an outer peripheral portion of the rubbing roller, and further, the surface of the substrate is rubbed by the rubbing member. A rubbing apparatus for a substrate, comprising: driving means for moving the suction nozzle close to the outer peripheral portion of the rubbing roller, and moving the suction nozzle away from the outer peripheral portion of the rubbing roller when not rubbing.
【請求項13】 請求項10〜12のいずれか一項にお
いて、前記吸引ノズルの吸引口の周縁部は、前記毛足部
の先端から該毛足部の長さの1/2までの範囲で前記毛
足部に接触していることを特徴とする基板のラビング装
置。
13. The hair nozzle according to claim 10, wherein a peripheral edge of the suction port of the suction nozzle is in a range from a tip of the hair foot to a half of a length of the hair foot. A rubbing device for a substrate, wherein said rubbing device is in contact with said bristle feet.
【請求項14】 請求項10〜13のいずれか一項にお
いて、前記吸引ノズルの吸引口に、前記ラビングローラ
の毛足部に接触する櫛部を設けたことを特徴とする基板
のラビング装置。
14. The rubbing device for a substrate according to claim 10, wherein a comb portion is provided at a suction port of the suction nozzle so as to be in contact with a bristle portion of the rubbing roller.
【請求項15】 請求項10〜14のいずれか一項にお
いて、前記吸引ノズルは、少なくとも前記吸引口の周縁
部の前記ラビングローラの毛足部に接触する部分が非導
電材で形成されていることを特徴とする基板のラビング
装置。
15. The suction nozzle according to any one of claims 10 to 14, wherein at least a portion of the suction nozzle, which is in contact with the bristle feet of the rubbing roller, at a peripheral portion of the suction port is formed of a non-conductive material. A rubbing device for a substrate, comprising:
【請求項16】 請求項15において、前記非導電材
が、ガラス又は石英であることを特徴とする基板のラビ
ング装置。
16. The rubbing device for a substrate according to claim 15, wherein the non-conductive material is glass or quartz.
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CN100394280C (en) * 2004-07-05 2008-06-11 友达光电股份有限公司 Liquid crystal guide rod cleaning device and its cleaning method
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CN114633498A (en) * 2022-05-18 2022-06-17 溧阳卓越新材料科技有限公司 Film surface treatment process and device

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