JP3801001B2 - Manufacturing method and manufacturing apparatus for liquid crystal device - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method and a device for manufacturing a liquid crystal device wherein appropriate rubbing treatment can be realized by promptly removing a foreign matter generated by rubbing. SOLUTION: A groove or a hole is formed at a table for placing and rubbing a substrate for the liquid crystal device along the edge of the substrate or along the edge of a pallet on which the substrate is mounted to perform rubbing. A sucking hole is provided at the groove or the hole or in the vicinity of the groove or the hole.

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶装置の製造方法及び製造装置に関し、特にラビング処理に関する液晶装置の製造方法及び製造装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶ライトバルブ等の液晶装置は、ガラス基板、石英基板等の２枚の基板間に液晶を封入して構成される。液晶ライトバルブでは、一方の基板に、例えば薄膜トランジスタ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ。以下、ＴＦＴという）等の能動素子をマトリックス状に配置し、他方の基板に対向電極を配置する。両基板間に封止された液晶層の光学特性を画像信号に応じて変化されることによって、画像表示が行われる。
【０００３】
ＴＦＴを配置したＴＦＴ基板と、ＴＦＴ基板に対向して配置される対向基板とは、別々に製造され、パネル組み立て工程において、高精度に貼り合わされた後に、ＴＦＴ基板と対向基板の間に液晶が封入される。
【０００４】
パネル組み立て工程においては、まず、各基板工程において、夫々製造されたＴＦＴ基板と対向基板との対向面上、すなわち対向基板およびＴＦＴ基板の液晶層と接する面上に配向膜が形成され、次いでラビング処理が行われる。次に、一方の基板上の端辺に接着剤となるシール部が形成される。ＴＦＴ基板と対向基板とをシール部を用いて貼り合わせ、アライメントを施しながら圧着硬化させる。シール部の一部には切り欠きが設けられており、この切り欠きを介して液晶を封入する。
【０００５】
配向膜表面にラビング処理を施すことで、電圧無印加時の液晶分子の配列が決定される。配向膜は、例えばポリイミド（ＰＩ）を約数十ナノメーターの厚さで塗布することにより形成される。液晶層に対向する両基板の面上に配向膜を形成することで、液晶分子を基板面に沿って配向処理することができる。ラビング処理は、配向膜表面に細かい溝を形成する、あるいは高分子側鎖を一方向に揃えることにより配向異方性の膜にするものであり、配向膜に一定方向のラビング処理を施すことで、液晶分子の配列を規定することができる。図２１は、通常のラビング装置を示す模式図である。
【０００６】
パレット１００上には複数の液晶基板１０１が載置されている。載置台１０５に搭載されたパレット１００は、矢印で示す水平方向に移動して基板１０１を搬送する。パレット１００の搬送路の上方にはラビングロール１０２が配設されている。ラビングロール１０２は周面にレーヨンのラビング布１０３が設けられている。ラビングロール１０２を矢印で示す方向に回転させながらパレット１００を搬送させて、ラビングロール１０２の回転及びパレット１００の搬送によって、ラビング布１０３で基板全面を擦ってラビング処理を行う。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、ラビング布１０３の表面では、レーヨンの毛先１０４が例えば１．０〜２．０ｍｍ程度伸びている。適宜のラビング圧を加えるために必要な距離にラビングロール１０２と基板１０１との間隔を設定し、ラビング布を回転させながらパレット１００を搬送すると、毛先１０４は基板１０１あるいはパレット１００に当たってラビングが行われる。
【０００８】
しかし、毛先１０４が基板１０１等に当たるため、ラビング時に配向膜の削りかす、毛先１０４の繊維等の異物１０６が、載置台１０５上のパレット１００の周辺部に堆積することがある。ラビング処理が複数の基板に対して連続して行われると、前の基板のラビング処理で発生した異物１０６上に、次の基板が搭載されることになる。図２２は、図２１のラビング装置において、不具合が生じる場合を説明するための図である。すなわち、図２２に示すように、異物１０６上にパレット１００が載る。その結果、基板１０１に対するラビングロール１０２の所謂ロール押し込み量が、同一基板上で異なってしまい、異物１０６上の部分は、異物のない部分よりもラビング強度が大きくなる。
【０００９】
基板表面でのラビング強度の違いは、リバースツイストドメインの発生だけでなく、透過率、コントラスト、ＴＶ特性等、表示品質のばらつきを生じる。
【００１０】
また、異物自体が浮遊等すると、液晶基板に付着して異物不良を生じたり、異物が基板間に挟まれてギャップ不良が生じたり、ラビングロールへ付着して不均一なラビング強度となってスジむらが発生したりして、適切にラビング処理が行なわれず、結果として、表示不良に繋がっていた。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであって、ラビングで発生する異物を速やかに排除して、適切なラビング処理が実現できる液晶装置の製造方法および製造装置を提供することを目的とする。
【００１２】
本発明の液晶装置の製造方法は、液晶装置用の基板を搭載してラビングするテーブルに、基板の縁に沿って又は基板を搭載したパレットの縁に沿って、溝又は孔を形成しラビングを行うことが好ましい。
【００１３】
本発明の液晶装置の製造装置は、液晶装置用の基板を搭載してラビングするテーブルに、基板の縁に沿って又は基板を搭載したパレットの縁に沿って形成された溝又は孔を有することが好ましい。
【００１４】
このような構成によれば、ラビングで発生する異物を速やかに排除して、適切なラビング処理が実現することができる。
【００１５】
本発明の液晶装置の製造方法は、さらに、溝又は孔あるいは溝又は孔の近傍に吸引口を設けることが望ましい。
【００１６】
本発明の液晶装置の製造装置は、さらに、溝又は孔あるいは溝又は孔の近傍に吸引口を有することが望ましい。
【００１７】
このような構成によれば、吸引によりさらに確実に異物を排除することができる。
【００１８】
本発明の液晶装置の製造方法は、溝又は孔は、少なくともラビングロールに対する基板の搬送方向と反対方向の側に形成されていることが望ましい。
【００１９】
本発明の液晶装置の製造装置は、溝又は孔は、少なくともラビングロールに対する基板の搬送方向と反対方向の側に形成されていることが望ましい。
【００２０】
このような構成によれば、異物が最も堆積し易い部分において、異物の排除を十分に行うことができる。
【００２１】
本発明の液晶装置の製造方法は、溝又は孔は、基板又はパレットの縁の全周に亘って設けられていることが望ましい。
【００２２】
本発明の液晶装置の製造装置は、溝又は孔は、基板又はパレットの縁の全周に亘って設けられていることが望ましい。
【００２３】
このような構成によれば、異物が堆積する基板又はパレットの周囲全てに亘って、異物の排除を行うことができる。
【００２４】
本発明の液晶装置の製造方法は、縁に沿って形成された溝又は孔の側壁であって縁側に近い側の側壁の面は、縁の面と面一となっていることが望ましい。
【００２５】
本発明の液晶装置の製造装置は、縁に沿って形成された溝又は孔の側壁であって縁側に近い側の側壁の面は、縁の面と面一となっていることが望ましい。
【００２６】
このような構成によれば、異物がテーブル上に堆積することなく、異物を確実に溝に落とすことができる。
【００２７】
本発明の液晶装置の製造方法は、液晶装置用の基板を搭載してラビングするテーブルに、基板の縁又は基板を搭載したパレットの縁の近傍に、吸引口を形成し、吸引口から吸引を行いながらラビングを行うことが好ましい。
【００２８】
本発明の液晶装置の製造装置は、液晶装置用の基板を搭載してラビングするテーブルに、基板の縁又は基板を搭載したパレットの縁の近傍に、形成された吸引口を有することが好ましい。
【００２９】
このような構成によれば、ラビングによって発生する基板又はパレットの近傍に生じる異物を確実に排除することができる。
【００３０】
本発明の液晶装置の製造方法は、液晶装置の製造方法であって、液晶装置用の基板の縁に沿うように又は前記基板を搭載するパレットの縁に沿うように形成された縁を備えるテーブルに前記基板を搭載してラビングし、前記テーブルの周囲に設けられた捕獲板によって異物を捕獲する。
【００３１】
本発明の液晶装置の製造装置は、液晶装置の製造装置であって、液晶装置用の基板を搭載するためのテーブルと、前記テーブルの周囲に設けられ異物を捕獲する捕獲板とを有し、前記テーブルの縁は、前記基板の縁に沿うように又は前記基板を搭載したパレットの縁に沿うように形成されている。
【００３２】
このような構成によれば、ラビングによって発生する基板又はパレットの近傍に生じる異物を確実に排除することができる。
【００３３】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。
【００３４】
以下、図１から図１６の図面を参照して、本発明に係る第一の実施の形態について詳細に説明する。
【００３５】
本実施の形態は、液晶装置用基板をラビング処理する場合に、液晶装置用の基板を搭載してラビングするテーブルに、基板の縁に沿って溝を形成し、ラビングを行うことようにしたものである。
【００３６】
先ず、図２乃至図５を参照して、液晶パネルの構造について説明する。
【００３７】
図２は、本発明の第一の実施の形態に係る液晶装置の画素領域を構成する複数の画素における各種素子、配線等の等価回路図である。図３は、本発明の第一の実施の形態に係るＴＦＴ基板等の素子基板をその上に形成された各構成要素と共に対向基板側から見た平面図である。図４は、本発明の第一の実施の形態に係る素子基板と対向基板とを貼り合わせて液晶を封入する組立工程終了後の液晶装置を、図３のＨ−Ｈ'線の位置で切断して示す断面図である。また、図５は、本発明の第一の実施の形態に係る液晶装置を詳細に示す断面図である。図６は、本発明の第一の実施の形態に係るパネル組立工程を示すフローチャートである。
【００３８】
液晶パネルは、図３及び図４に示すように、ＴＦＴ基板等の素子基板１０と対向基板２０との間に液晶５０を封入して構成される。素子基板１０上には画素を構成する画素電極等がマトリクス状に配置される。図２は画素を構成する素子基板１０上の素子の等価回路を示している。
【００３９】
図２に示すように、画素領域においては、複数本の走査線３ａと複数本のデータ線６ａとが交差するように配線され、走査線３ａとデータ線６ａとで区画された領域に画素電極９ａがマトリクス状に配置される。そして、走査線３ａとデータ線６ａの各交差部分に対応してＴＦＴ３０が設けられ、このＴＦＴ３０に画素電極９ａが接続される。
【００４０】
ＴＦＴ３０は走査線３ａのＯＮ信号によってオンとなり、これにより、データ線６ａに供給された画像信号が画素電極９ａに供給される。この画素電極９ａと対向基板２０に設けられた対向電極２１との間の電圧が液晶５０に印加される。また、画素電極９ａと並列に蓄積容量７０が設けられており、蓄積容量７０によって、画素電極９ａの電圧はソース電圧が印加された時間よりも例えば３桁も長い時間の保持が可能となる。蓄積容量７０によって、電圧保持特性が改善され、コントラスト比の高い画像表示が可能となる。
【００４１】
図５は、一つの画素に着目した液晶パネルの模式的断面図である。
【００４２】
ガラスや石英等の素子基板１０には、ＬＤＤ構造をなすＴＦＴ３０が設けられている。ＴＦＴ３０は、チャネル領域１ａ、ソース領域１ｄ、ドレイン領域１ｅが形成された半導体層に絶縁膜２を介してゲート電極をなす走査線３ａが設けられてなる。ＴＦＴ３０上には第１層間絶縁膜４を介してデータ線６ａが積層され、データ線６ａはコンタクトホール５を介してソース領域１ｄに電気的に接続される。データ線６ａ上には第２層間絶縁膜７を介して画素電極９ａが積層され、画素電極９ａはコンタクトホール８を介してドレイン領域１ｅに電気的に接続される。
【００４３】
走査線３ａ（ゲート電極）にＯＮ信号が供給されることで、チャネル領域１ａが導通状態となり、ソース領域１ｄとドレイン領域１ｅとが接続されて、データ線６ａに供給された画像信号が画素電極９ａに与えられる。
【００４４】
また、半導体層にはドレイン領域１ｅから延びる蓄積容量電極１ｆが形成されている。蓄積容量電極１ｆは、誘電体膜である絶縁膜２を介して容量線３ｂが対向配置され、これにより蓄積容量７０を構成している。画素電極９ａ上にはポリイミド系の高分子樹脂からなる配向膜１６が積層され、所定方向にラビング処理されている。
【００４５】
一方、対向基板２０には、ＴＦＴアレイ基板のデータ線６ａ、走査線３ａ及びＴＦＴ３０の形成領域に対向する領域、即ち各画素の非表示領域において第１遮光膜２３が設けられている。この第１遮光膜２３によって、対向基板２０側からの入射光がＴＦＴ３０のチャネル領域１ａ、ソース領域１ｄ及びドレイン領域１ｅに入射することが防止される。第１遮光膜２３上に、対向電極（共通電極）２１が基板２０全面に亘って形成されている。対向電極２１上にポリイミド系の高分子樹脂からなる配向膜２２が積層され、所定方向にラビング処理されている。
【００４６】
そして、素子基板１０と対向基板２０との間に液晶５０が封入されている。これにより、ＴＦＴ３０は所定のタイミングでデータ線６ａから供給される画像信号を画素電極９ａに書き込む。書き込まれた画素電極９ａと対向電極２１との電位差に応じて液晶５０の分子集合の配向や秩序が変化して、光を変調し、階調表示を可能にする。
【００４７】
図３及び図４に示すように、対向基板２０には表示領域を区画する額縁としての第２遮光膜４２が設けられている。第２遮光膜４２は例えば第１遮光膜２３と同一又は異なる遮光性材料によって形成されている。
【００４８】
第２遮光膜４２の外側の領域に液晶を封入するシール材４１が、素子基板１０と対向基板２０間に形成されている。シール材４１は対向基板２０の輪郭形状に略一致するように配置され、素子基板１０と対向基板２０を相互に固着する。シール材４１は、素子基板１０の１辺の一部において欠落しており、貼り合わされた素子基板１０及び対向基板２０相互の間隙には、液晶５０を注入するための液晶注入口７８が形成される。液晶注入口７８より液晶が注入された後、液晶注入口７８を封止材７９で封止するようになっている。
【００４９】
素子基板１０のシール材４１の外側の領域には、データ線駆動回路６１及び実装端子６２が素子基板１０の一辺に沿って設けられており、この一辺に隣接する２辺に沿って、走査線駆動回路６３が設けられている。素子基板１０の残る一辺には、画面表示領域の両側に設けられた走査線駆動回路６３間を接続するための複数の配線６４が設けられている。また、対向基板２０のコーナー部の少なくとも１箇所においては、素子基板１０と対向基板２０との間を電気的に導通させるための導通材６５が設けられている。
【００５０】
次に、図６を参照してパネル組立工程について説明する。素子基板１０（ＴＦＴ基板）と対向基板２０とは、別々に製造される。ステップＳ1 ，Ｓ6 で夫々用意されたＴＦＴ基板及び対向基板２０に対して、次のステップＳ2 ，Ｓ7 では、配向膜１６、２２となるポリイミド（PI）を塗布等して配向膜１６，２２を形成する。次に、ステップＳ3 ，Ｓ8 において、素子基板１０表面の配向膜１６及び対向基板２０表面の配向膜２２に対して、ラビング処理を施す。
【００５１】
次に、ステップＳ4 ，Ｓ9 において、洗浄工程を行う。この洗浄工程は、ラビング処理によって生じた塵埃を除去するためのものである。
【００５２】
洗浄工程が終了すると、ステップＳ5 において、シール材４１、及び導通材６５（図３参照）を形成する。なお、シール材及び導通材は対向基板側に形成しても良い。次に、ステップＳ10で、素子基板１０と対向基板２０とを貼り合わせ、ステップＳ11でアライメントを施しながら圧着し、シール材４１を硬化させる。最後に、ステップＳ12において、シール材４１の一部に設けた切り欠きから液晶を封入し、切り欠きを塞いで液晶を封止する。そして、複数の液晶装置が搭載されたマザーガラス基板を、各液晶装置毎に分断する（Ｓ１３）。
【００５３】
図６のＳ３およびＳ８において、各液晶装置用基板がラビング処理されるが、図１を用いて、その装置構成について説明する。図１は、本発明の第一の実施の形態に係る液晶装置の製造装置の構成を示す構成図である。
【００５４】
図１において、１１は、ラビングロールであり、矢印で示す方向に回転する。１２は、液晶基板であり、１３は、液晶基板１２が載置されたパレットである。パレット１３は、載置台であるテーブル１４上に載置され、テーブル１４上の設けられた孔（図示せず）から吸引されて、テーブル１４の表面に吸着している。テーブル１４は、矢印で示す方向（以下、搬送方向ともいう）に水平に搬送され、回転しているラビングロール１１によって、液晶基板１２の表面がラビングされる。なお、テーブル１４が固定され、矢印で示す方向とは反対方向にラビングロール１１が搬送されるようにしてもよく。さらに、テーブル１４とラビングロール１１の両方が移動して、テーブル１４が相対的に図１に示す方向に搬送されるようになっていてもよい。
【００５５】
テーブル１４の上面には、液晶基板１２を搭載したパレット１３の縁に沿って、すなわち周囲形状に沿って、溝１５が形成され設けられている。溝１５は、ラビングロールに対する液晶基板の搬送方向と反対方向の側に形成されている。溝１５はテーブル１４の搬送方向において二つの側壁１５ａと１５ｃを有する。テーブル１４の搬送方向側の溝１５の側壁１５ｃの面と、テーブル１４の搬送方向と反対側のパレット１３の側壁１３ａの面は、面一になるように、ロボットアーム等の図示しない搬送手段によってパレット１３がテーブル１４上に載置される。言い換えれば、溝の側壁のうちパレット１３の縁に近い側の側壁面は、パレット１３の側壁面と面一になっている。
【００５６】
このような構成により、ラビングロール１１が液晶基板１２をラビングして発生したレーヨンの毛先１０４等の異物は、液晶基板１２の表面及びパレット１３の表面から溝１５の中に落ち、溝１５の底面１５ｂ上に堆積する。よって、次の液晶基板がラビングされるとき、異物は溝１５の中に堆積しているため、テーブル１４の表面に異物は残ることがない。特に、異物が最も堆積しやすい基板又はパレットの搬送方向と反対側に溝が形成されているので、テーブル面からの異物の排除を十分に行うことができる。
【００５７】
溝１５の深さを深くすることによって、底面１５ｂに堆積できる異物量を多くすることができる。さらに溝を深くして、テーブル１４の底面まで貫通されることによって、テーブル１４の下に異物用の受け皿（図示せず）上に異物を落とすことができる。図７は、本発明の第一の実施の形態に係る液晶装置の製造装置の他の構成を示す構成図である。図７では、溝をさらに深くして、テーブルを貫通する孔にした例を示す。
【００５８】
載置台であるテーブル１６には、孔１７が液晶基板１２を搭載したパレット１３の縁に沿って、すなわちパレットの周囲形状に沿って形成され設けられている。孔１７は、テーブル１６の搬送方向において二つの内周面である側壁面１７ｃと１７ｄを有する。テーブル１６の搬送方向側の側壁１７ｄの面と、テーブル１６の搬送方向と反対側のパレット１３の側壁１３ａの面は、面一になるように、ロボットアーム等の図示しない搬送手段によってパレット１３がテーブル１４上に載置される。言い換えれば、孔の溝の側壁のうちパレット１３の縁に近い側の側壁面は、パレット１３の側壁面と面一になっている。
【００５９】
このような構成により、ラビングロール１１が液晶基板１２をラビングして発生したレーヨンの毛先１０４等の異物は、液晶基板１２の表面及びパレット１３の表面から孔１７の一方の口である入口１７ａから入り、他方の出口１７ｂから排出される。よって、次の液晶基板がラビングされるとき、異物は孔１７の中に落ちていくため、テーブル１６の表面に異物は残ることがない。特に、異物が最も堆積しやすい基板又はパレットの搬送方向と反対側に孔が形成されているので、テーブル面からの異物の排除を十分に行うことができる。
【００６０】
図１に示すような溝に、異物を溝の底面に堆積させるのではなく、吸引口を設け、堆積した異物の全部あるいは一部を吸引して排出するようにしてもよい。図８は、本発明の第一の実施の形態に係る液晶装置の製造装置のさらに他の構成を示す構成図である。図８は、溝に吸引口を設けた例を示す。
【００６１】
テーブル１８の上面には、溝１９が液晶基板１２を搭載したパレット１３の縁に沿って、すなわちパレットの周囲形状に沿って形成され設けられている。溝１９は、ラビングロールに対する液晶基板の搬送方向と反対方向の側に形成されている。溝１９はテーブル１８の搬送方向において二つの側壁１９ａと１９ｃを有する。テーブル１８の搬送方向側の溝１９の側壁１９ｃの面と、テーブル１８の搬送方向と反対側のパレット１３の側壁１３ａの面は、面一になるように、ロボットアーム等の図示しない搬送手段によってパレット１３がテーブル１８上に載置される。言い換えれば、溝の側壁のうちパレット１３の縁に近い側の側壁面は、パレット１３の側壁面と面一になっている。
【００６２】
さらに、溝１９の底面１９ｂには、吸引のための孔である吸引孔２５が設けられている。吸引孔２５は、テーブル１８の下面の開口部である排出口２５ｂから図示しない吸引手段により吸引されている。従って、異物は、溝１９に落ちた後、吸引孔２５の上部の開口部である吸引口２５ａから吸引孔２５に吸引され、吸引孔２５の下面の排出口２５ｂから排出される。ラビング処理中、吸引は常に行われるようにしてもよいし、あるいはラビングロールが基板あるいはパレットに接触してから離れるまでの間等、必要なときに、吸引するようにしてもよい。
【００６３】
このような構成により、ラビングロール１１が液晶基板１２をラビングして発生したレーヨンの毛先１０４等の異物は、液晶基板１２の表面及びパレット１３の表面から溝１９の中に落ち、さらに、吸引口２５ａに吸引され、吸引孔２５を通って下面の排出口２５ｂから排出され、図示しない異物収容器に収容される。よって、次の液晶基板がラビングされるとき、異物は溝１９に落ちた後、吸引されるので、テーブル１４の表面に異物は残ることがない。なお、吸引孔２５の吸引口は、溝の底面ではなく、溝の側面に設けてもよい。特に、異物が最も堆積しやすい基板又はパレットの搬送方向と反対側に溝が形成されているので、テーブル面からの異物の排除を十分に行うことができる。
【００６４】
図９は、溝１５を設けたときの図１の構成例の斜視図である。なお、ここでは、パレット１３上に搭載された液晶基板、例えば対向基板は図示していない。図１０以下の説明において、説明を簡単にするため、同様にパレット上の液晶基板は図示しない。図９において、溝１５は、搬送方向に直角な方向におけるパレット１３の幅長さよりも長い溝で、パレット１３の縁に沿って形成され設けられている。溝の幅は、異物が落ちるにも充分な幅である。幅は、例えば、ラビングにより発生する毛先１０４の繊維等の大きさ（最大長）よりも大きな長さであることが望ましい。
【００６５】
少なくともラビングロールに対する基板の搬送方向と反対方向の側に溝が形成されているので、異物が最も堆積し易い部分において、異物の排除を十分に行うことができる。
【００６６】
図１０は、図１の装置構成に係る他の例の斜視図である。図１０は、溝１５が、パレット１３の搬送方向と反対側のパレット１３の側壁１３ａの面の側だけでなく、搬送方向と直角な方向におけるパレット１３の側壁面側１３ｂ、１３ｃにも設けられている例である。ここでは、側壁１３ｂ、１３ｃの半分、それも搬送方向とは逆方向の半分側の側壁の対応して溝１５Ｂと溝１５Ａが、パレット１３の縁に沿って形成され設けられている。側壁１３ｂ、１３ｃの面と、溝の内側の面は、面一になっている。
【００６７】
このような構成により、ラビングロール１１が液晶基板１２をラビングして発生したレーヨンの毛先１０４等の異物は、液晶基板１２の表面及びパレット１３の表面から搬送方向において後ろ側の溝１５、１５Ａ、１５Ｂの中に落ち、溝１５の底面１５ｂ上に堆積する。よって、次の液晶基板がラビングされるとき、異物は溝１５の中に堆積しているため、テーブル１４の表面に異物は残ることがない。
【００６８】
なお、溝１５Ａ及び溝１５Ｂは、搬送方向と直角な方向におけるパレット１３の側壁面側１３ｂ、１３ｃの幅全体に亘って形成されていてもよい。さらに、パレット１３の側壁面全周に亘って、すなわちパレット１３の周囲に溝を形成するようにしてもよい。溝は、パレット１３の搬送方向側のパレット１３の側壁面側１３ｄにも設けられ、その場合も、側壁１３ｄの面と、溝の搬送方向と反対側の側壁面は、面一になっている。溝を全周に設けると、異物が堆積する基板又はパレットの周囲全てに亘って異物の排除を行うことができる。
【００６９】
このように、パレット１３の搬送方向側のパレット１３の側壁面側１３ｄに設けられた溝には、レーヨンの毛先１０４がパレット１３の側壁１３ｄに当たって落ちたもの等が堆積することになる。
【００７０】
図１１は、図７の装置構成に係る斜視図である。図１１において、孔１７は、その長手方向の長さが搬送方向に直角な方向におけるパレット１３の幅長よりも長い長孔で、パレット１３の縁に沿って形成され設けられている。長孔の幅は、異物が落ちるにも充分な幅である。幅は、例えば、ラビングにより発生する毛先１０４の繊維等の大きさ（最大長）よりも大きな長さであることが望ましい。
【００７１】
このような構成により、ラビングロール１１が液晶基板１２をラビングして発生したレーヨンの毛先１０４等の異物は、液晶基板１２の表面及びパレット１３の表面から搬送方向において後ろ側の孔１７の中に落ちる。よって、次の液晶基板がラビングされるとき、異物は孔１７の中に落ちるため、テーブル１６の表面に異物は残ることがない。特に、異物が最も堆積しやすい基板又はパレットの搬送方向と反対側に孔が形成されているので、テーブル面からの異物の排除を十分に行うことができる。
【００７２】
なお、ここでは図示しないが、図１０と同じように、孔１７が、パレット１３の搬送方向と反対側のパレット１３の側壁１３ａの面の側だけでなく、搬送方向と直角な方向におけるパレット１３の側壁面側１３ｂ、１３ｃにも設けてもよい。側壁１３ｂ、１３ｃの半分、それも搬送方向とは逆方向の半分側の側壁の対応して、あるいは側壁面側１３ｂ、１３ｃの幅全体に亘って、孔が形成されていてもよい。その場合も、側壁１３ｂ、１３ｃの面と、搬送方向側の孔の内壁面は、面一になっている。
【００７３】
さらに、パレット１３の側壁面全体に亘って、すなわちパレット１３の周囲に亘って孔を形成するようにしてもよい。孔は、パレット１３の搬送方向側のパレット１３の側壁面側１３ｄにも設けられ、その場合も、側壁１３ｄの面と、孔の搬送方向と反対側の側壁面は、面一になっている。
【００７４】
このように、パレット１３の搬送方向側のパレット１３の側壁面側１３ｄに設けられた孔には、レーヨンの毛先１０４がパレット１３の側壁１３ｄに当たって生じた異物が孔へ入ることになる。
【００７５】
図１２は、図８の装置構成に係る斜視図である。図１２において、溝１９と孔２５は、パレット１３の周囲に形成されている。溝１９は、パレット１３の縁に沿って、すなわちパレット１３の周囲形状に沿って形成され設けられている。溝１９の幅は、異物が落ちるにも充分な幅である。幅は、例えば、ラビングにより発生する毛先１０４の繊維等の大きさ（最大長）よりも大きな長さであることが望ましい。吸引孔２５の開口部である吸引口２５ａが、溝の底面に設けられている。なお、吸引孔２５の吸引口は、溝の底面ではなく、溝の側壁面に設けてもよい。
【００７６】
なお、ここでは図示しないが、図１、図７と同じように、溝１９と吸引孔２５をパレット１３の搬送方向と反対側のパレット１３の側壁１３ａの面の側にのみ設けてもよい。あるいは、搬送方向と反対側のパレット１３の側壁１３ａの面側と、搬送方向と直角な方向におけるパレット１３の側壁面側１３ｂ、１３ｃに設けるようにしてもよい。側壁面１３ｂ、１３ｃ側に溝と孔を設けるときは、側壁１３ｂ、１３ｃの半分、それも搬送方向とは逆方向の半分側の側壁の対応して、あるいは側壁面側１３ｂ、１３ｃの幅全体に亘って、溝と孔が形成されていてもよい。その場合も、側壁１３ｂ、１３ｃの面と、搬送方向と直角方向の溝の内側の内壁面は、面一になっている。
【００７７】
ここでは、溝１９と吸引孔２５は、パレット１３の搬送方向側のパレット１３の側壁面側１３ｄにも設けられている。その場合も、側壁１３ｄの面と、溝１９の搬送方向と反対側の側壁面は、面一になっている。
【００７８】
このような構成により、ラビングロール１１が液晶基板１２をラビングして発生したレーヨンの毛先１０４等の異物は、液晶基板１２の表面及びパレット１３の表面から溝１９の中に落ち、さらに、吸引孔２５によって吸引される。よって、次の液晶基板がラビングされるとき、テーブル１８の表面に異物は残ることがない。
【００７９】
図１３は、図１の装置構成に係るさらに他の例の斜視図である。図１３では、液晶基板がディスク状の場合にテーブル上に形成される溝の例を示す斜視図である。ＴＦＴ基板等の素子基板はウエハ状に形成されるので、そのディスク状の液晶基板の場合の溝の形成例を説明する。
【００８０】
図１３では、図１の溝１５はディスク状の液晶基板１２の側壁面１２ａの形状に合わせて、すなわち液晶基板１２の縁に沿って、形成され設けられている。図１３において、溝１５は、搬送方向に反対の方向における液晶基板１２の側壁面１２ａの形状に合わせて形成された溝である。ここでは、ディスク状の液晶基板１２の円周の半分の長さ分の溝が、テーブル上に形成されている。溝の幅は、異物が落ちるにも充分な幅である。幅は、例えば、ラビングにより発生する毛先１０４の繊維等の大きさ（最大長）よりも大きな長さであることが望ましい。
【００８１】
図１４は、図１３の装置構成に係る他の例の斜視図である。図１４は、溝１５が、液晶基板１２の搬送方向と反対側の側壁１２ａの面の側だけでなく、搬送方向と同じ方向における液晶基板１２の側壁面側１２ｂにも、液晶基板１２の側壁面１２ａ、１２ｂの周囲形状に合わせて、すなわち液晶基板１２の縁に沿って形成され設けられている例である。側壁面１２ａ、１２ｂの面と、溝１５の内側の面１５ｃは、面一になっている。
【００８２】
このような構成により、ラビングロール１１が液晶基板１２をラビングして発生したレーヨンの毛先１０４等の異物は、液晶基板１２の表面から溝１５の中に落ち、溝１５の底面１５ｂ上に堆積する。よって、次の液晶基板がラビングされるとき、異物は溝１５の中に堆積しているため、テーブル１４の表面に異物は残ることがない。
【００８３】
図１５は、図７の装置構成に係るさらに他の例の斜視図である。液晶基板がディスク状の場合にテーブル上に形成される孔の例を示す斜視図である。
【００８４】
図１５では、図７の孔１７はディスク状の液晶基板１２の側壁面の形状に合わせて、すなわち液晶基板１２の縁に沿って形成され設けられている。図１５において、孔１７は、液晶基板１２の側壁面の全周形状に合わせて形成された孔の例である。なお、図１３の場合と同様に、ディスク状の液晶基板１２の円周の半分の長さ分の孔がテーブル上に形成されるようにしてもよい。孔の幅は、異物が落ちるにも充分な幅である。幅は、例えば、ラビングにより発生する毛先１０４の繊維等の大きさ（最大長）よりも大きな長さであることが望ましい。液晶基板１２の側壁面の面と、孔１７の内周側の内壁面の面は、面一になっている。
【００８５】
このような構成により、ラビングロール１１が液晶基板１２をラビングして発生したレーヨンの毛先１０４等の異物は、液晶基板１２の表面から孔１７の中に落ち、テーブル１６の下面の開口部１７ａから落ち、収集することもできる。よって、次の液晶基板がラビングされるとき、異物は孔１７から落ちているため、テーブル１６の表面に異物は残ることがない。
【００８６】
図１６は、図８の装置構成に係るさらに他の例の斜視図である。図１６は、液晶基板がディスク状の場合に溝と孔がテーブル上に形成された例を示す斜視図である。
【００８７】
図１６では、図８の溝１９と孔２５はディスク状の液晶基板１２の側壁面の形状に合わせて、すなわち液晶基板１２の縁に沿って形成され設けられている。図１６において、溝１９は、液晶基板１２の側壁面の全周形状に合わせて形成された溝の例である。なお、図１３の場合と同様に、ディスク状の液晶基板１２の円周の半分の長さ分の溝がテーブル上に形成されるようにしてもよい。溝の幅は、異物が落ちるにも充分な幅である。幅は、例えば、ラビングにより発生する毛先１０４の繊維等の大きさ（最大長）よりも大きな長さであることが望ましい。さらに、溝１９の底面１９ｂには、孔２５が複数設けられている。なお、吸引孔２５の吸引用の吸引口２５ａは、溝底面ではなく、溝の側面に設けてもよい。各孔２５は、テーブル１８の下面の排出口２５ｂから図示しない吸引手段により吸引されている。
【００８８】
従って、溝１９の底面１９ｂに堆積した異物は、吸引口２５ａから吸引されて孔２５を通り排出口２５ｂから排出される。なお、液晶基板１２の側壁面の面と、溝１９の内周側の側壁面の面は、面一になっている。
【００８９】
このような構成により、ラビングロール１１が液晶基板１２をラビングして発生したレーヨンの毛先１０４等の異物は、液晶基板１２の表面から溝１９の中に落ち、さらに吸引されて孔２５を通り、テーブル１８の下面の排出口２５ｂから排出され、収集することもできる。よって、次の液晶基板がラビングされるとき、テーブル１８の表面に異物は残ることがない。
【００９０】
次に第二の実施の形態につき説明する。
【００９１】
第二の実施の形態は、液晶基板のラビング時に異物を吸引する吸引手段をテーブル上に設けたものである。
【００９２】
図１７は、本発明の第二の実施の形態に係る液晶装置の製造装置の構成を示す斜視図である。ラビング処理される液晶基板１２は、図示しないロボットアーム等の搬送手段により、図１７に示すようにテーブル２４上に載置され、テーブル２４に、液晶基板１２は真空吸着される。図１７において、テーブル２４上に載置された素子基板１２の周囲に、吸引ダクト２７が複数設けられている。吸引ダクト２７の吸引口２７ａは、素子基板１２の近傍に接近して設けられている。図示しない吸引手段によって排出口２７ｂから吸引されるので、異物は、吸引口２７ａから吸い込まれ、排出口２７ｂから排出される。図１８は、図１７の装置の部分側面図である。図１８に示すように、ダクトの高さｄ１は、液晶基板１２の高さより低くなっている。なお、ここでは、素子基板で説明したが、パレットに搭載された液晶基板の場合、パレットの近傍に設けられるダクトの高さｄ１は、パレット上に搭載された液晶基板の高さよりも低い。ラビング処理中、吸引は常に行われるようにしてもよいし、あるいはラビングロールが基板あるいはパレットに接触してから離れるまでの間等、必要なときに吸引するようにしてもよい。
【００９３】
なお、吸引ダクト２７の吸引口２７ａは、液晶基板１２の搬送方向とは反対側にのみ設けてもよい。さらに加えて、搬送方向と直角な方向にも吸引ダクト２７の吸引口２７ａを設けるようにしてもよい。吸引を確実にするために、吸引口２７ａの形状は、液晶基板又はパレットの形状に合わせて、すなわち液晶基板又はパレットの縁に沿って形成されて、液晶基板又はパレットの近傍に設けられる。
【００９４】
このような構成により、ラビングロール１１が液晶基板１２をラビングして発生したレーヨンの毛先１０４等の異物は、液晶基板１２の表面から吸引ダクトにより吸引される。よって、次の液晶基板がラビングされるとき、テーブル１８の表面に異物は残ることがなく、異物は確実に排除される。
【００９５】
次に第三の実施の形態につき説明する。
【００９６】
第三の実施の形態は、テーブルの周囲形状をパレットあるいは液晶基板の縁すなわち周囲形状と同一あるいはほぼ同一に合わせ、かつテーブルの周囲に異物を捕獲する捕獲手段を設けたものである。
【００９７】
図１９は、本発明の第三の実施の形態に係る液晶装置の製造装置の構成を示す構成図である。図１９において、パレット１３の周囲形状に合わせて載置台であるテーブル２８の側面が形成されている。テーブル２８の側面の周囲には、上方が開いた異物捕獲用の捕獲板が設けられている。ラビング時に発生する異物は、テーブル２８の周囲から落ち、捕獲板２６によって捕獲され、テーブル２８と捕獲板２６の間の下から排出される。なお、捕獲板は、パレットを囲むようにテーブル２６の全周に亘って設けてもよい。あるいは、捕獲板を、搬送方向と反対側の側面のみに設けてもよい。さらに、捕獲板は、搬送方向と反対側の側面と、搬送方向と直角方向の両側側面に設けるようにしてもよい。
【００９８】
図２０は、本発明の第三の実施の形態に係る液晶装置の製造装置の構成の他の例を示す構成図である。図２０において、パレット１３の周囲形状に合わせて載置台であるテーブル２８の側面が形成されているが、テーブル２８の上面形状は、わずかに、ここではｄ３で示す分だけパレット１３の形状よりも大きく形成されている。ｄ３は、ほとんどの異物がテーブル２８から落ちるようなほどのオフセット量である。その他の構成は、図１９と同じであるので、説明は省略する。
【００９９】
このような構成によれば、ラビングロール１１が液晶基板１２をラビングして発生したレーヨンの毛先１０４等の異物は、テーブルから落ちて、捕獲板２６で捕獲される。よって、次の液晶基板がラビングされるとき、テーブル１８の表面に異物は残ることがなく、異物は確実に排除される。
【０１００】
なお、異物の捕獲をさらに確実なものとするため、図１９及び図２０において、捕獲板の下部から吸引手段により吸引するようにしてもよい。ラビング処理中、吸引は常に行われるようにしてもよいし、あるいはラビングロールが基板あるいはパレットに接触してから離れるまでの間等必要なときに、吸引してもよい。
【０１０１】
このように、液晶基板又はパレットの縁すなわち周囲形状に合わせてテーブルの側面を形成することによって、ラビング時に発生する異物が確実に捕獲される。
【０１０２】
以上、この発明の好適な実施の形態を説明したが、現在および将来において、この発明の趣旨および範囲内で種々の改良、変更を行うことができる。従って、当業者によりなされる同等の改良例等も、本発明の範囲内である。
【０１０３】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、ラビングで発生する異物を速やかに排除して、適切なラビング処理が実現できる液晶装置の製造方法および製造装置を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第一の実施の形態に係る液晶装置の製造装置の構成を示す構成図である。
【図２】本発明の第一の実施の形態に係る液晶装置の画素領域を構成する複数の画素における各種素子、配線等の等価回路図である。
【図３】本発明の第一の実施の形態に係るＴＦＴ基板等の素子基板をその上に形成された各構成要素と共に対向基板側から見た平面図である。
【図４】本発明の第一の実施の形態に係る素子基板と対向基板とを貼り合わせて液晶を封入する組立工程終了後の液晶装置を、図３のＨ−Ｈ'線の位置で切断して示す断面図である。
【図５】本発明の第一の実施の形態に係る液晶装置を詳細に示す断面図である。
【図６】本発明の第一の実施の形態に係るパネル組立工程を示すフローチャートである。
【図７】本発明の第一の実施の形態に係る液晶装置の製造装置の他の構成を示す構成図である。
【図８】本発明の第一の実施の形態に係る液晶装置の製造装置のさらに他の構成を示す構成図である。
【図９】図１の装置構成に係る斜視図である。
【図１０】図１の装置構成に係る他の例の斜視図である。
【図１１】図７の装置構成に係る斜視図である。
【図１２】図８の装置構成に係る斜視図である。
【図１３】図１の装置構成に係るさらに他の例の斜視図である。
【図１４】図１３の装置構成に係る他の例の斜視図である。
【図１５】図７の装置構成に係るさらに他の例の斜視図である。
【図１６】図８の装置構成に係るさらに他の例の斜視図である。
【図１７】本発明の第二の実施の形態に係る液晶装置の製造装置の構成を示す斜視図である。
【図１８】図１７の装置の部分側面図である。
【図１９】本発明の第三の実施の形態に係る液晶装置の製造装置の構成を示す構成図である。
【図２０】本発明の第三の実施の形態に係る液晶装置の製造装置の構成の他の例を示す構成図である。
【図２１】通常のラビング装置を示す模式図である。
【図２２】図２１のラビング装置において、不具合を生じた場合を説明するための図である。
【符号の説明】
１１・・・ラビングロール
１２・・・液晶基板
１４、１６、１８，２４，２８・・・テーブル
１５、１９・・・溝
１７・・・孔
２５・・・吸引孔
２５ａ、２７ａ・・・吸引口
２５ｂ、２７ｂ・・・排出口
２６・・・捕獲板
２７・・・吸引ダクト[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a method and apparatus for manufacturing a liquid crystal device, and more particularly to a method and apparatus for manufacturing a liquid crystal device related to rubbing processing.
[0002]
[Prior art]
A liquid crystal device such as a liquid crystal light valve is configured by sealing liquid crystal between two substrates such as a glass substrate and a quartz substrate. In a liquid crystal light valve, active elements such as thin film transistors (hereinafter referred to as TFTs) are arranged in a matrix on one substrate, and a counter electrode is arranged on the other substrate. Image display is performed by changing the optical characteristics of the liquid crystal layer sealed between the two substrates in accordance with the image signal.
[0003]
The TFT substrate on which the TFT is disposed and the counter substrate disposed to face the TFT substrate are manufactured separately, and after being bonded with high accuracy in the panel assembly process, liquid crystal is formed between the TFT substrate and the counter substrate. Enclosed.
[0004]
In the panel assembling process, first, in each substrate process, an alignment film is formed on the opposing surface of the manufactured TFT substrate and the opposing substrate, that is, on the surface in contact with the liquid crystal layer of the opposing substrate and the TFT substrate, and then rubbing. Processing is performed. Next, a seal portion serving as an adhesive is formed on the edge of one substrate. The TFT substrate and the counter substrate are bonded together using a seal portion, and are cured by pressure bonding while performing alignment. A part of the seal part is provided with a notch, and the liquid crystal is sealed through the notch.
[0005]
By subjecting the alignment film surface to a rubbing treatment, the alignment of liquid crystal molecules when no voltage is applied is determined. The alignment film is formed, for example, by applying polyimide (PI) with a thickness of about several tens of nanometers. By forming an alignment film on the surfaces of both substrates facing the liquid crystal layer, the liquid crystal molecules can be aligned along the substrate surface. In the rubbing process, fine grooves are formed on the surface of the alignment film, or the polymer side chains are aligned in one direction to make an alignment anisotropic film. By rubbing the alignment film in a certain direction, The arrangement of liquid crystal molecules can be defined. FIG. 21 is a schematic diagram showing a normal rubbing apparatus.
[0006]
A plurality of liquid crystal substrates 101 are placed on the pallet 100. The pallet 100 mounted on the mounting table 105 moves in the horizontal direction indicated by the arrow and transports the substrate 101. A rubbing roll 102 is disposed above the conveyance path of the pallet 100. The rubbing roll 102 is provided with a rayon rubbing cloth 103 on its peripheral surface. The pallet 100 is conveyed while rotating the rubbing roll 102 in the direction indicated by the arrow, and the entire surface of the substrate is rubbed with the rubbing cloth 103 by the rotation of the rubbing roll 102 and the conveyance of the pallet 100.
[0007]
[Problems to be solved by the invention]
By the way, on the surface of the rubbing cloth 103, the hair tip 104 of the rayon extends, for example, by about 1.0 to 2.0 mm. When the distance between the rubbing roll 102 and the substrate 101 is set to a distance necessary for applying an appropriate rubbing pressure, and the pallet 100 is conveyed while rotating the rubbing cloth, the bristle tip 104 hits the substrate 101 or the pallet 100 and the rubbing is performed. Is called.
[0008]
However, since the bristle tip 104 hits the substrate 101 or the like, foreign matter 106 such as the fibers of the bristle tip 104 or scraps of the alignment film during rubbing may accumulate on the periphery of the pallet 100 on the mounting table 105. When the rubbing process is continuously performed on a plurality of substrates, the next substrate is mounted on the foreign matter 106 generated by the rubbing process on the previous substrate. FIG. 22 is a diagram for explaining a case where a defect occurs in the rubbing apparatus of FIG. That is, as shown in FIG. 22, the pallet 100 is placed on the foreign material 106. As a result, the so-called roll push amount of the rubbing roll 102 with respect to the substrate 101 differs on the same substrate, and the portion on the foreign matter 106 has a higher rubbing strength than the portion without the foreign matter.
[0009]
The difference in the rubbing intensity on the substrate surface causes not only the occurrence of the reverse twist domain, but also variations in display quality such as transmittance, contrast, and TV characteristics.
[0010]
In addition, if the foreign matter itself floats, it adheres to the liquid crystal substrate and causes a foreign matter defect, or the foreign matter is sandwiched between the substrates to cause a gap failure, or adheres to the rubbing roll and causes uneven rubbing strength. Unevenness occurred, the rubbing process was not properly performed, and as a result, display defects were caused.
[0011]
[Means for Solving the Problems]
The present invention has been made in view of such problems, and it is an object of the present invention to provide a liquid crystal device manufacturing method and a manufacturing apparatus capable of quickly removing foreign matter generated by rubbing and realizing appropriate rubbing processing. To do.
[0012]
The method of manufacturing a liquid crystal device according to the present invention includes forming a groove or a hole on a table on which a substrate for a liquid crystal device is mounted and rubbing, along the edge of the substrate or along the edge of the pallet on which the substrate is mounted. Preferably it is done.
[0013]
The liquid crystal device manufacturing apparatus of the present invention has a groove or a hole formed along the edge of the substrate or along the edge of the pallet on which the substrate is mounted on the table on which the substrate for the liquid crystal device is mounted and rubbed. Is preferred.
[0014]
According to such a configuration, it is possible to quickly remove foreign matters generated by rubbing and to realize an appropriate rubbing process.
[0015]
In the method for manufacturing a liquid crystal device of the present invention, it is further desirable to provide a suction port in the vicinity of the groove or hole or the groove or hole.
[0016]
The liquid crystal device manufacturing apparatus of the present invention preferably further has a suction port in the vicinity of the groove or hole or the groove or hole.
[0017]
According to such a configuration, foreign matters can be more reliably removed by suction.
[0018]
In the method for manufacturing a liquid crystal device according to the present invention, it is desirable that the grooves or holes are formed at least on the side opposite to the direction in which the substrate is conveyed with respect to the rubbing roll.
[0019]
In the liquid crystal device manufacturing apparatus according to the present invention, it is desirable that the groove or hole is formed at least on the side opposite to the direction in which the substrate is conveyed with respect to the rubbing roll.
[0020]
According to such a configuration, the foreign matter can be sufficiently removed from the portion where the foreign matter is most easily accumulated.
[0021]
In the method for manufacturing a liquid crystal device of the present invention, it is desirable that the groove or hole is provided over the entire circumference of the edge of the substrate or pallet.
[0022]
In the liquid crystal device manufacturing apparatus of the present invention, it is desirable that the groove or hole is provided over the entire circumference of the edge of the substrate or pallet.
[0023]
According to such a configuration, the foreign matter can be removed over the entire periphery of the substrate or pallet on which the foreign matter is deposited.
[0024]
In the method for manufacturing a liquid crystal device according to the present invention, it is preferable that the side wall surface of the groove or hole formed along the edge and close to the edge side is flush with the edge surface.
[0025]
In the liquid crystal device manufacturing apparatus of the present invention, it is desirable that the side wall surface of the groove or hole formed along the edge and close to the edge side is flush with the edge surface.
[0026]
According to such a configuration, the foreign matter can be reliably dropped into the groove without the foreign matter accumulating on the table.
[0027]
In the method for manufacturing a liquid crystal device according to the present invention, a suction port is formed in the vicinity of the edge of the substrate or the pallet on which the substrate is mounted on the table on which the substrate for the liquid crystal device is mounted and rubbed, and suction is performed from the suction port. It is preferable to rub while performing.
[0028]
In the liquid crystal device manufacturing apparatus of the present invention, it is preferable that a table for mounting and rubbing a substrate for the liquid crystal device has a suction port formed in the vicinity of the edge of the substrate or the edge of the pallet on which the substrate is mounted.
[0029]
According to such a structure, the foreign material which arises in the vicinity of the board | substrate or pallet which generate | occur | produces by rubbing can be excluded reliably.
[0030]
The method for manufacturing a liquid crystal device according to the present invention is a method for manufacturing a liquid crystal device, and a table having an edge formed along the edge of a substrate for the liquid crystal device or along the edge of a pallet on which the substrate is mounted. The substrate is mounted and rubbed, and foreign matter is captured by a capture plate provided around the table.
[0031]
An apparatus for manufacturing a liquid crystal device of the present invention is an apparatus for manufacturing a liquid crystal device, and includes a table for mounting a substrate for the liquid crystal device, and a capture plate that is provided around the table and captures foreign matter. The edge of the table is formed along the edge of the substrate or along the edge of the pallet on which the substrate is mounted.
[0032]
According to such a structure, the foreign material which arises in the vicinity of the board | substrate or pallet which generate | occur | produces by rubbing can be excluded reliably.
[0033]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
[0034]
Hereinafter, a first embodiment according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings of FIGS.
[0035]
In this embodiment, when a substrate for a liquid crystal device is rubbed, a groove is formed along the edge of the substrate on the table on which the substrate for the liquid crystal device is mounted and rubbed so as to perform the rubbing. It is.
[0036]
First, the structure of the liquid crystal panel will be described with reference to FIGS.
[0037]
FIG. 2 is an equivalent circuit diagram of various elements, wirings and the like in a plurality of pixels constituting the pixel region of the liquid crystal device according to the first embodiment of the present invention. FIG. 3 is a plan view of an element substrate such as a TFT substrate according to the first embodiment of the present invention as viewed from the counter substrate side together with each component formed thereon. FIG. 4 shows the liquid crystal device after the assembly process in which the element substrate and the counter substrate according to the first embodiment of the present invention are bonded to each other and the liquid crystal is sealed is cut at the position of the line HH ′ in FIG. It is sectional drawing shown. FIG. 5 is a cross-sectional view showing in detail the liquid crystal device according to the first embodiment of the present invention. FIG. 6 is a flowchart showing a panel assembling process according to the first embodiment of the present invention.
[0038]
As shown in FIGS. 3 and 4, the liquid crystal panel is configured by sealing a liquid crystal 50 between an element substrate 10 such as a TFT substrate and a counter substrate 20. On the element substrate 10, pixel electrodes and the like constituting pixels are arranged in a matrix. FIG. 2 shows an equivalent circuit of elements on the element substrate 10 constituting the pixel.
[0039]
As shown in FIG. 2, in the pixel region, a plurality of scanning lines 3a and a plurality of data lines 6a are wired so as to cross each other, and a pixel electrode is formed in a region partitioned by the scanning lines 3a and the data lines 6a. 9a are arranged in a matrix. A TFT 30 is provided corresponding to each intersection of the scanning line 3 a and the data line 6 a, and the pixel electrode 9 a is connected to the TFT 30.
[0040]
The TFT 30 is turned on by the ON signal of the scanning line 3a, whereby the image signal supplied to the data line 6a is supplied to the pixel electrode 9a. A voltage between the pixel electrode 9 a and the counter electrode 21 provided on the counter substrate 20 is applied to the liquid crystal 50. In addition, a storage capacitor 70 is provided in parallel with the pixel electrode 9a, and the storage capacitor 70 makes it possible to hold the voltage of the pixel electrode 9a for a time that is, for example, three orders of magnitude longer than the time when the source voltage is applied. The storage capacitor 70 improves the voltage holding characteristic and enables image display with a high contrast ratio.
[0041]
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of a liquid crystal panel focusing on one pixel.
[0042]
An element substrate 10 such as glass or quartz is provided with a TFT 30 having an LDD structure. The TFT 30 includes a scanning line 3a that forms a gate electrode through an insulating film 2 on a semiconductor layer in which a channel region 1a, a source region 1d, and a drain region 1e are formed. A data line 6 a is stacked on the TFT 30 via the first interlayer insulating film 4, and the data line 6 a is electrically connected to the source region 1 d via the contact hole 5. A pixel electrode 9 a is stacked on the data line 6 a via a second interlayer insulating film 7, and the pixel electrode 9 a is electrically connected to the drain region 1 e via a contact hole 8.
[0043]
When the ON signal is supplied to the scanning line 3a (gate electrode), the channel region 1a becomes conductive, the source region 1d and the drain region 1e are connected, and the image signal supplied to the data line 6a becomes the pixel electrode. 9a.
[0044]
A storage capacitor electrode 1f extending from the drain region 1e is formed in the semiconductor layer. The storage capacitor electrode 1f is disposed so that the capacitor line 3b faces the insulating film 2 as a dielectric film, thereby forming a storage capacitor 70. On the pixel electrode 9a, an alignment film 16 made of polyimide polymer resin is laminated and rubbed in a predetermined direction.
[0045]
On the other hand, the counter substrate 20 is provided with a first light-shielding film 23 in a region facing the data line 6a, scanning line 3a, and TFT 30 formation region of the TFT array substrate, that is, in a non-display region of each pixel. The first light shielding film 23 prevents incident light from the counter substrate 20 side from entering the channel region 1 a, the source region 1 d, and the drain region 1 e of the TFT 30. A counter electrode (common electrode) 21 is formed over the entire surface of the substrate 20 on the first light shielding film 23. An alignment film 22 made of a polyimide-based polymer resin is laminated on the counter electrode 21 and rubbed in a predetermined direction.
[0046]
A liquid crystal 50 is sealed between the element substrate 10 and the counter substrate 20. Thereby, the TFT 30 writes the image signal supplied from the data line 6a to the pixel electrode 9a at a predetermined timing. Depending on the potential difference between the written pixel electrode 9a and the counter electrode 21, the orientation and order of the molecular assembly of the liquid crystal 50 change, and light is modulated to enable gradation display.
[0047]
As shown in FIGS. 3 and 4, the counter substrate 20 is provided with a second light shielding film 42 as a frame for partitioning the display area. The second light shielding film 42 is formed of, for example, the same or different light shielding material as the first light shielding film 23.
[0048]
A sealing material 41 that encloses liquid crystal in a region outside the second light shielding film 42 is formed between the element substrate 10 and the counter substrate 20. The sealing material 41 is disposed so as to substantially match the contour shape of the counter substrate 20, and fixes the element substrate 10 and the counter substrate 20 to each other. The sealing material 41 is missing in a part of one side of the element substrate 10, and a liquid crystal injection port 78 for injecting the liquid crystal 50 is formed in the gap between the bonded element substrate 10 and the counter substrate 20. The After the liquid crystal is injected from the liquid crystal injection port 78, the liquid crystal injection port 78 is sealed with a sealing material 79.
[0049]
A data line driving circuit 61 and a mounting terminal 62 are provided along one side of the element substrate 10 in a region outside the sealing material 41 of the element substrate 10, and scanning lines are provided along two sides adjacent to the one side. A drive circuit 63 is provided. On the remaining side of the element substrate 10, a plurality of wirings 64 are provided for connecting between the scanning line driving circuits 63 provided on both sides of the screen display area. In addition, a conductive material 65 for electrically connecting the element substrate 10 and the counter substrate 20 is provided in at least one corner of the counter substrate 20.
[0050]
Next, the panel assembly process will be described with reference to FIG. The element substrate 10 (TFT substrate) and the counter substrate 20 are manufactured separately. In the next steps S2 and S7, polyimide (PI) to be the alignment films 16 and 22 is applied to the TFT substrate and the counter substrate 20 respectively prepared in steps S1 and S6 to form the alignment films 16 and 22. To do. Next, in steps S3 and S8, the alignment film 16 on the surface of the element substrate 10 and the alignment film 22 on the surface of the counter substrate 20 are rubbed.
[0051]
Next, a cleaning process is performed in steps S4 and S9. This cleaning process is for removing dust generated by the rubbing process.
[0052]
When the cleaning process is completed, a sealing material 41 and a conductive material 65 (see FIG. 3) are formed in step S5. Note that the sealing material and the conductive material may be formed on the counter substrate side. Next, in step S10, the element substrate 10 and the counter substrate 20 are bonded together, and in step S11, pressure bonding is performed while alignment is performed, and the sealing material 41 is cured. Finally, in step S12, liquid crystal is sealed from a notch provided in a part of the sealing material 41, and the notch is closed to seal the liquid crystal. Then, the mother glass substrate on which the plurality of liquid crystal devices are mounted is divided for each liquid crystal device (S13).
[0053]
In S3 and S8 of FIG. 6, each liquid crystal device substrate is rubbed, and the configuration of the device will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a configuration diagram showing a configuration of a liquid crystal device manufacturing apparatus according to a first embodiment of the present invention.
[0054]
In FIG. 1, 11 is a rubbing roll, which rotates in the direction indicated by the arrow. Reference numeral 12 denotes a liquid crystal substrate, and reference numeral 13 denotes a pallet on which the liquid crystal substrate 12 is placed. The pallet 13 is placed on a table 14 which is a placing table, and is sucked from a hole (not shown) provided on the table 14 and adsorbed on the surface of the table 14. The table 14 is transported horizontally in the direction indicated by the arrow (hereinafter also referred to as transport direction), and the surface of the liquid crystal substrate 12 is rubbed by the rotating rubbing roll 11. The table 14 may be fixed and the rubbing roll 11 may be conveyed in the direction opposite to the direction indicated by the arrow. Further, both the table 14 and the rubbing roll 11 may be moved so that the table 14 is relatively conveyed in the direction shown in FIG.
[0055]
Grooves 15 are formed on the upper surface of the table 14 along the edge of the pallet 13 on which the liquid crystal substrate 12 is mounted, that is, along the peripheral shape. The groove 15 is formed on the side opposite to the transport direction of the liquid crystal substrate with respect to the rubbing roll. The groove 15 has two side walls 15 a and 15 c in the conveying direction of the table 14. The surface of the side wall 15c of the groove 15 on the conveying direction side of the table 14 and the surface of the side wall 13a of the pallet 13 opposite to the conveying direction of the table 14 are flush with each other by a conveying means (not shown) such as a robot arm. The pallet 13 is placed on the table 14. In other words, the side wall surface near the edge of the pallet 13 among the side walls of the groove is flush with the side wall surface of the pallet 13.
[0056]
With such a configuration, foreign matter such as the hair tips 104 of the rayon generated by the rubbing roll 11 rubbing the liquid crystal substrate 12 falls into the grooves 15 from the surface of the liquid crystal substrate 12 and the surface of the pallet 13, and the grooves 15 Deposited on the bottom surface 15b. Therefore, when the next liquid crystal substrate is rubbed, the foreign matter is accumulated in the groove 15, so that no foreign matter remains on the surface of the table 14. In particular, since the groove is formed on the side opposite to the substrate or pallet transport direction where foreign matter is most likely to accumulate, foreign matter can be sufficiently removed from the table surface.
[0057]
By increasing the depth of the groove 15, the amount of foreign matter that can be deposited on the bottom surface 15b can be increased. By further deepening the groove and penetrating to the bottom surface of the table 14, the foreign material can be dropped on a foreign material tray (not shown) under the table 14. FIG. 7 is a block diagram showing another configuration of the liquid crystal device manufacturing apparatus according to the first embodiment of the present invention. FIG. 7 shows an example in which the groove is further deepened to form a hole penetrating the table.
[0058]
Holes 17 are formed in the table 16 as a mounting table along the edge of the pallet 13 on which the liquid crystal substrate 12 is mounted, that is, along the peripheral shape of the pallet. The hole 17 has side wall surfaces 17c and 17d which are two inner peripheral surfaces in the conveying direction of the table 16. The pallet 13 is moved by a conveying means (not shown) such as a robot arm so that the surface of the side wall 17d on the conveying direction side of the table 16 and the surface of the side wall 13a of the pallet 13 opposite to the conveying direction of the table 16 are flush with each other. Placed on the table 14. In other words, the side wall surface near the edge of the pallet 13 among the side walls of the groove groove is flush with the side wall surface of the pallet 13.
[0059]
With such a configuration, foreign matter such as the hair tips 104 of the rayon generated by the rubbing roll 11 rubbing the liquid crystal substrate 12 is allowed to enter the inlet 17a which is one of the holes 17 from the surface of the liquid crystal substrate 12 and the surface of the pallet 13. And is discharged from the other outlet 17b. Therefore, when the next liquid crystal substrate is rubbed, the foreign matter falls into the hole 17, so that no foreign matter remains on the surface of the table 16. In particular, since the hole is formed on the opposite side of the substrate or pallet carrying direction in which foreign matter is most likely to accumulate, foreign matter can be sufficiently removed from the table surface.
[0060]
Instead of depositing foreign matter on the bottom surface of the groove in the groove as shown in FIG. 1, a suction port may be provided so that all or part of the deposited foreign matter is sucked and discharged. FIG. 8 is a configuration diagram showing still another configuration of the liquid crystal device manufacturing apparatus according to the first embodiment of the present invention. FIG. 8 shows an example in which a suction port is provided in the groove.
[0061]
On the upper surface of the table 18, grooves 19 are formed along the edge of the pallet 13 on which the liquid crystal substrate 12 is mounted, that is, along the peripheral shape of the pallet. The groove 19 is formed on the side opposite to the conveyance direction of the liquid crystal substrate with respect to the rubbing roll. The groove 19 has two side walls 19 a and 19 c in the conveying direction of the table 18. The surface of the side wall 19c of the groove 19 on the conveyance direction side of the table 18 and the surface of the side wall 13a of the pallet 13 opposite to the conveyance direction of the table 18 are flush with each other by conveyance means (not shown) such as a robot arm. The pallet 13 is placed on the table 18. In other words, the side wall surface near the edge of the pallet 13 among the side walls of the groove is flush with the side wall surface of the pallet 13.
[0062]
Further, the bottom surface 19b of the groove 19 is provided with a suction hole 25 that is a hole for suction. The suction hole 25 is sucked from a discharge port 25b which is an opening on the lower surface of the table 18 by a suction means (not shown). Therefore, after falling into the groove 19, the foreign matter is sucked into the suction hole 25 from the suction port 25 a that is the upper opening of the suction hole 25 and discharged from the discharge port 25 b on the lower surface of the suction hole 25. During the rubbing process, suction may be always performed, or suction may be performed when necessary, for example, until the rubbing roll comes into contact with the substrate or the pallet and then leaves.
[0063]
With such a configuration, foreign matter such as the hair tips 104 of the rayon generated by the rubbing roll 11 rubbing the liquid crystal substrate 12 falls into the grooves 19 from the surface of the liquid crystal substrate 12 and the surface of the pallet 13 and is further sucked. It is sucked into the mouth 25a, passes through the suction hole 25, is discharged from the discharge port 25b on the lower surface, and is stored in a foreign matter container (not shown). Therefore, when the next liquid crystal substrate is rubbed, the foreign matter falls into the groove 19 and is then sucked, so that no foreign matter remains on the surface of the table 14. The suction port of the suction hole 25 may be provided on the side surface of the groove instead of the bottom surface of the groove. In particular, since the groove is formed on the side opposite to the substrate or pallet transport direction where foreign matter is most likely to accumulate, foreign matter can be sufficiently removed from the table surface.
[0064]
FIG. 9 is a perspective view of the configuration example of FIG. 1 when the groove 15 is provided. Here, a liquid crystal substrate mounted on the pallet 13, for example, a counter substrate is not shown. In the description of FIG. 10 and subsequent figures, the liquid crystal substrate on the pallet is not shown for the sake of simplicity. In FIG. 9, the groove 15 is a groove that is longer than the width of the pallet 13 in the direction perpendicular to the conveying direction, and is formed along the edge of the pallet 13. The width of the groove is sufficient for foreign matter to fall. For example, the width is preferably larger than the size (maximum length) of the fibers of the hair tips 104 generated by rubbing.
[0065]
Since the groove is formed at least on the side opposite to the direction in which the substrate is conveyed with respect to the rubbing roll, the foreign matter can be sufficiently removed in the portion where the foreign matter is most easily deposited.
[0066]
FIG. 10 is a perspective view of another example of the apparatus configuration of FIG. In FIG. 10, the groove 15 is provided not only on the side of the side wall 13a of the pallet 13 opposite to the conveying direction of the pallet 13, but also on the side wall surface sides 13b and 13c of the pallet 13 in the direction perpendicular to the conveying direction. This is an example. Here, a groove 15B and a groove 15A are formed along the edge of the pallet 13 corresponding to the half of the side walls 13b and 13c and the side wall on the half side opposite to the conveying direction. The surfaces of the side walls 13b and 13c are flush with the inner surface of the groove.
[0067]
With such a configuration, foreign matter such as the hair tip 104 of the rayon generated by rubbing the liquid crystal substrate 12 by the rubbing roll 11 is transferred from the surface of the liquid crystal substrate 12 and the surface of the pallet 13 to the rear grooves 15 and 15A in the conveying direction. , 15B, and deposited on the bottom surface 15b of the groove 15. Therefore, when the next liquid crystal substrate is rubbed, the foreign matter is accumulated in the groove 15, so that no foreign matter remains on the surface of the table 14.
[0068]
The grooves 15A and the grooves 15B may be formed over the entire width of the side wall surface sides 13b and 13c of the pallet 13 in the direction perpendicular to the transport direction. Further, a groove may be formed over the entire circumference of the side wall surface of the pallet 13, that is, around the pallet 13. The groove is also provided on the side wall surface side 13d of the pallet 13 on the conveyance direction side of the pallet 13. In this case also, the surface of the side wall 13d and the side wall surface opposite to the groove conveyance direction are flush with each other. . When the groove is provided on the entire circumference, the foreign matter can be removed all around the substrate or pallet on which the foreign matter is deposited.
[0069]
In this way, in the grooves provided on the side wall surface side 13 d of the pallet 13 on the conveyance direction side of the pallet 13, what has fallen due to the hair tips 104 of the rayon hitting the side wall 13 d of the pallet 13 is accumulated.
[0070]
FIG. 11 is a perspective view of the apparatus configuration of FIG. In FIG. 11, the hole 17 is a long hole whose length in the longitudinal direction is longer than the width of the pallet 13 in the direction perpendicular to the conveying direction, and is formed along the edge of the pallet 13. The width of the long hole is sufficient for foreign matter to fall. For example, the width is preferably larger than the size (maximum length) of the fibers of the hair tips 104 generated by rubbing.
[0071]
With such a configuration, foreign matter such as the hair tips 104 of the rayon generated by the rubbing roll 11 rubbing the liquid crystal substrate 12 is transferred from the surface of the liquid crystal substrate 12 and the surface of the pallet 13 into the rear hole 17 in the transport direction. fall into. Therefore, when the next liquid crystal substrate is rubbed, the foreign matter falls into the hole 17, so that no foreign matter remains on the surface of the table 16. In particular, since the hole is formed on the opposite side of the substrate or pallet carrying direction in which foreign matter is most likely to accumulate, foreign matter can be sufficiently removed from the table surface.
[0072]
Although not shown here, as in FIG. 10, the hole 17 is not only on the side of the side wall 13 a of the pallet 13 opposite to the conveying direction of the pallet 13, but also in the direction perpendicular to the conveying direction. It may also be provided on the side wall surface sides 13b and 13c. A hole may be formed corresponding to the half of the side walls 13b and 13c, the side wall on the half side opposite to the conveying direction, or over the entire width of the side wall surface sides 13b and 13c. Also in this case, the surfaces of the side walls 13b and 13c and the inner wall surface of the hole on the transport direction side are flush with each other.
[0073]
Further, a hole may be formed over the entire side wall surface of the pallet 13, that is, around the pallet 13. The hole is also provided on the side wall surface side 13d of the pallet 13 on the conveyance direction side of the pallet 13. In this case also, the surface of the side wall 13d and the side wall surface opposite to the conveyance direction of the hole are flush with each other. .
[0074]
In this way, foreign matter generated when the tip of the rayon 104 hits the side wall 13 d of the pallet 13 enters the hole in the hole provided on the side wall surface side 13 d of the pallet 13 on the conveyance direction side of the pallet 13.
[0075]
FIG. 12 is a perspective view of the apparatus configuration of FIG. In FIG. 12, the groove 19 and the hole 25 are formed around the pallet 13. The groove 19 is formed and provided along the edge of the pallet 13, that is, along the peripheral shape of the pallet 13. The width of the groove 19 is sufficient for foreign matter to fall. For example, the width is preferably larger than the size (maximum length) of the fibers of the hair tips 104 generated by rubbing. A suction port 25a that is an opening of the suction hole 25 is provided on the bottom surface of the groove. The suction port of the suction hole 25 may be provided not on the bottom surface of the groove but on the side wall surface of the groove.
[0076]
Although not shown here, as in FIGS. 1 and 7, the grooves 19 and the suction holes 25 may be provided only on the side of the side wall 13 a of the pallet 13 opposite to the conveying direction of the pallet 13. Or you may make it provide in the side surface 13b and 13c of the pallet 13 in the direction orthogonal to a conveyance direction and the side of the side wall 13a of the pallet 13 on the opposite side to a conveyance direction. When grooves and holes are provided on the side wall surfaces 13b and 13c, half of the side walls 13b and 13c, corresponding to the side wall on the half side opposite to the conveying direction, or the entire width of the side wall surface sides 13b and 13c A groove and a hole may be formed. Also in this case, the surfaces of the side walls 13b and 13c and the inner wall surface inside the groove perpendicular to the transport direction are flush with each other.
[0077]
Here, the groove 19 and the suction hole 25 are also provided on the side wall surface side 13 d of the pallet 13 on the pallet 13 conveyance direction side. Also in that case, the surface of the side wall 13d and the side wall surface opposite to the conveying direction of the groove 19 are flush with each other.
[0078]
With such a configuration, foreign matter such as the hair tips 104 of the rayon generated by the rubbing roll 11 rubbing the liquid crystal substrate 12 falls into the grooves 19 from the surface of the liquid crystal substrate 12 and the surface of the pallet 13 and is further sucked. It is sucked by the hole 25. Therefore, no foreign matter remains on the surface of the table 18 when the next liquid crystal substrate is rubbed.
[0079]
FIG. 13 is a perspective view of still another example of the apparatus configuration of FIG. FIG. 13 is a perspective view showing an example of grooves formed on the table when the liquid crystal substrate is disk-shaped. Since an element substrate such as a TFT substrate is formed in a wafer shape, an example of forming grooves in the case of the disk-shaped liquid crystal substrate will be described.
[0080]
In FIG. 13, the groove 15 of FIG. 1 is formed and provided in accordance with the shape of the side wall surface 12 a of the disk-shaped liquid crystal substrate 12, that is, along the edge of the liquid crystal substrate 12. In FIG. 13, the groove 15 is a groove formed in accordance with the shape of the side wall surface 12 a of the liquid crystal substrate 12 in the direction opposite to the transport direction. Here, grooves corresponding to half the circumference of the disk-shaped liquid crystal substrate 12 are formed on the table. The width of the groove is sufficient for foreign matter to fall. For example, the width is preferably larger than the size (maximum length) of the fibers of the hair tips 104 generated by rubbing.
[0081]
FIG. 14 is a perspective view of another example according to the apparatus configuration of FIG. In FIG. 14, the groove 15 is not only on the side of the side wall 12 a opposite to the transport direction of the liquid crystal substrate 12, but also on the side surface 12 b of the liquid crystal substrate 12 in the same direction as the transport direction. This is an example of being formed and provided in accordance with the peripheral shape of the wall surfaces 12 a and 12 b, that is, along the edge of the liquid crystal substrate 12. The surfaces of the side wall surfaces 12a and 12b and the inner surface 15c of the groove 15 are flush with each other.
[0082]
With such a configuration, foreign matter such as the hair tips 104 of rayon generated by the rubbing roll 11 rubbing the liquid crystal substrate 12 falls from the surface of the liquid crystal substrate 12 into the groove 15 and accumulates on the bottom surface 15 b of the groove 15. To do. Therefore, when the next liquid crystal substrate is rubbed, the foreign matter is accumulated in the groove 15, so that no foreign matter remains on the surface of the table 14.
[0083]
FIG. 15 is a perspective view of still another example of the apparatus configuration of FIG. It is a perspective view which shows the example of the hole formed on a table when a liquid crystal substrate is disk shape.
[0084]
In FIG. 15, the holes 17 in FIG. 7 are formed and provided in accordance with the shape of the side wall surface of the disk-shaped liquid crystal substrate 12, that is, along the edge of the liquid crystal substrate 12. In FIG. 15, a hole 17 is an example of a hole formed in accordance with the entire peripheral shape of the side wall surface of the liquid crystal substrate 12. Similarly to the case of FIG. 13, holes corresponding to half the circumference of the disk-shaped liquid crystal substrate 12 may be formed on the table. The width of the hole is sufficient for foreign matter to fall. For example, the width is preferably larger than the size (maximum length) of the fibers of the hair tips 104 generated by rubbing. The surface of the side wall surface of the liquid crystal substrate 12 and the surface of the inner wall surface on the inner peripheral side of the hole 17 are flush with each other.
[0085]
With such a configuration, foreign matter such as rayon hair tips 104 generated by the rubbing roll 11 rubbing the liquid crystal substrate 12 falls into the holes 17 from the surface of the liquid crystal substrate 12, and the openings 17 a on the lower surface of the table 16. You can also fall and collect. Therefore, when the next liquid crystal substrate is rubbed, the foreign matter has fallen from the hole 17, so that no foreign matter remains on the surface of the table 16.
[0086]
FIG. 16 is a perspective view of still another example of the apparatus configuration of FIG. FIG. 16 is a perspective view showing an example in which grooves and holes are formed on a table when the liquid crystal substrate has a disk shape.
[0087]
In FIG. 16, the groove 19 and the hole 25 in FIG. 8 are formed and provided in accordance with the shape of the side wall surface of the disk-shaped liquid crystal substrate 12, that is, along the edge of the liquid crystal substrate 12. In FIG. 16, the groove 19 is an example of a groove formed in accordance with the entire peripheral shape of the side wall surface of the liquid crystal substrate 12. As in the case of FIG. 13, a groove corresponding to half the circumference of the disk-shaped liquid crystal substrate 12 may be formed on the table. The width of the groove is sufficient for foreign matter to fall. For example, the width is preferably larger than the size (maximum length) of the fibers of the hair tips 104 generated by rubbing. Further, a plurality of holes 25 are provided in the bottom surface 19 b of the groove 19. The suction port 25a for suction of the suction hole 25 may be provided on the side surface of the groove instead of the groove bottom surface. Each hole 25 is sucked by a suction means (not shown) from a discharge port 25 b on the lower surface of the table 18.
[0088]
Accordingly, the foreign matter deposited on the bottom surface 19b of the groove 19 is sucked from the suction port 25a, passes through the hole 25, and is discharged from the discharge port 25b. The surface of the side wall surface of the liquid crystal substrate 12 and the surface of the side wall surface on the inner peripheral side of the groove 19 are flush with each other.
[0089]
With this configuration, foreign matter such as the hair tips 104 of rayon generated by rubbing the liquid crystal substrate 12 by the rubbing roll 11 falls into the groove 19 from the surface of the liquid crystal substrate 12 and is further sucked through the holes 25. It can be discharged from the outlet 25b on the lower surface of the table 18 and collected. Therefore, no foreign matter remains on the surface of the table 18 when the next liquid crystal substrate is rubbed.
[0090]
Next, a second embodiment will be described.
[0091]
In the second embodiment, suction means for sucking foreign matters when the liquid crystal substrate is rubbed is provided on the table.
[0092]
FIG. 17 is a perspective view showing a configuration of a liquid crystal device manufacturing apparatus according to the second embodiment of the present invention. The liquid crystal substrate 12 to be rubbed is placed on a table 24 as shown in FIG. 17 by a conveying means such as a robot arm (not shown), and the liquid crystal substrate 12 is vacuum-sucked to the table 24. In FIG. 17, a plurality of suction ducts 27 are provided around the element substrate 12 placed on the table 24. The suction port 27 a of the suction duct 27 is provided close to the vicinity of the element substrate 12. Since the suction means (not shown) sucks the discharge port 27b, the foreign matter is sucked from the suction port 27a and discharged from the discharge port 27b. 18 is a partial side view of the apparatus of FIG. As shown in FIG. 18, the height d1 of the duct is lower than the height of the liquid crystal substrate 12. Here, the element substrate is described, but in the case of the liquid crystal substrate mounted on the pallet, the height d1 of the duct provided in the vicinity of the pallet is lower than the height of the liquid crystal substrate mounted on the pallet. During the rubbing process, suction may be always performed, or suction may be performed when necessary, for example, until the rubbing roll contacts the substrate or the pallet and then leaves.
[0093]
Note that the suction port 27 a of the suction duct 27 may be provided only on the side opposite to the transport direction of the liquid crystal substrate 12. In addition, the suction port 27a of the suction duct 27 may be provided in a direction perpendicular to the transport direction. In order to ensure suction, the shape of the suction port 27a is provided in the vicinity of the liquid crystal substrate or pallet so as to match the shape of the liquid crystal substrate or pallet, that is, along the edge of the liquid crystal substrate or pallet.
[0094]
With such a configuration, foreign matter such as the hair tip 104 of the rayon generated by rubbing the liquid crystal substrate 12 by the rubbing roll 11 is sucked from the surface of the liquid crystal substrate 12 by the suction duct. Therefore, when the next liquid crystal substrate is rubbed, no foreign matter remains on the surface of the table 18, and the foreign matter is reliably removed.
[0095]
Next, a third embodiment will be described.
[0096]
In the third embodiment, the peripheral shape of the table is set to be the same as or substantially the same as the edge of the pallet or the liquid crystal substrate, that is, the peripheral shape, and a capturing means for capturing foreign matter is provided around the table.
[0097]
FIG. 19 is a block diagram showing the configuration of the liquid crystal device manufacturing apparatus according to the third embodiment of the present invention. In FIG. 19, the side surface of the table 28 which is a mounting table is formed in accordance with the peripheral shape of the pallet 13. Around the side surface of the table 28, there is provided a capturing plate for capturing foreign matter that opens upward. Foreign matter generated during rubbing falls from the periphery of the table 28, is captured by the capture plate 26, and is discharged from below between the table 28 and the capture plate 26. The capture plate may be provided over the entire circumference of the table 26 so as to surround the pallet. Or you may provide a capture plate only in the side surface on the opposite side to a conveyance direction. Further, the capture plate may be provided on the side surface opposite to the transport direction and on both side surfaces in the direction perpendicular to the transport direction.
[0098]
FIG. 20 is a configuration diagram showing another example of the configuration of the manufacturing apparatus of the liquid crystal device according to the third embodiment of the present invention. In FIG. 20, the side surface of the table 28 which is a mounting table is formed in accordance with the peripheral shape of the pallet 13, but the upper surface shape of the table 28 is slightly smaller than the shape of the pallet 13 here by the amount indicated by d3. Largely formed. d3 is an offset amount such that almost all foreign matter falls from the table 28. Other configurations are the same as those in FIG.
[0099]
According to such a configuration, foreign matter such as the hair tips 104 of rayon generated by rubbing the liquid crystal substrate 12 by the rubbing roll 11 falls from the table and is captured by the capture plate 26. Therefore, when the next liquid crystal substrate is rubbed, no foreign matter remains on the surface of the table 18, and the foreign matter is reliably removed.
[0100]
In order to further ensure the capture of the foreign matter, in FIG. 19 and FIG. 20, suction may be performed from the lower portion of the capture plate by the suction means. During the rubbing process, suction may be always performed, or suction may be performed when necessary, for example, until the rubbing roll contacts the substrate or the pallet and then leaves.
[0101]
In this way, by forming the side surface of the table in accordance with the edge of the liquid crystal substrate or pallet, that is, the surrounding shape, foreign matter generated during rubbing is reliably captured.
[0102]
The preferred embodiments of the present invention have been described above, but various improvements and modifications can be made within the spirit and scope of the present invention at present and in the future. Accordingly, equivalent improvements made by those skilled in the art are also within the scope of the present invention.
[0103]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, it is possible to realize a method and an apparatus for manufacturing a liquid crystal device that can quickly eliminate foreign matters generated by rubbing and realize an appropriate rubbing process.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a configuration diagram showing a configuration of a liquid crystal device manufacturing apparatus according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is an equivalent circuit diagram of various elements, wirings, and the like in a plurality of pixels constituting the pixel region of the liquid crystal device according to the first embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a plan view of an element substrate such as a TFT substrate according to the first embodiment of the present invention as viewed from the counter substrate side together with each component formed thereon.
4 is a cross-sectional view of the liquid crystal device after completion of an assembly process in which the element substrate and the counter substrate according to the first embodiment of the present invention are bonded together to enclose the liquid crystal at the position of the line HH ′ in FIG. It is sectional drawing shown.
FIG. 5 is a cross-sectional view showing in detail the liquid crystal device according to the first embodiment of the present invention.
FIG. 6 is a flowchart showing a panel assembling process according to the first embodiment of the present invention.
FIG. 7 is a configuration diagram showing another configuration of the manufacturing apparatus of the liquid crystal device according to the first embodiment of the present invention.
FIG. 8 is a configuration diagram showing still another configuration of the liquid crystal device manufacturing apparatus according to the first embodiment of the present invention.
9 is a perspective view according to the apparatus configuration of FIG. 1. FIG.
10 is a perspective view of another example according to the apparatus configuration of FIG. 1; FIG.
11 is a perspective view according to the device configuration of FIG. 7;
12 is a perspective view according to the device configuration of FIG. 8. FIG.
13 is a perspective view of still another example according to the apparatus configuration of FIG. 1. FIG.
14 is a perspective view of another example according to the apparatus configuration of FIG. 13;
15 is a perspective view of still another example according to the apparatus configuration of FIG. 7. FIG.
16 is a perspective view of still another example related to the apparatus configuration of FIG. 8. FIG.
FIG. 17 is a perspective view showing a configuration of a liquid crystal device manufacturing apparatus according to a second embodiment of the present invention.
18 is a partial side view of the apparatus of FIG.
FIG. 19 is a configuration diagram showing a configuration of a liquid crystal device manufacturing apparatus according to a third embodiment of the present invention.
FIG. 20 is a configuration diagram showing another example of the configuration of the liquid crystal device manufacturing apparatus according to the third embodiment of the present invention.
FIG. 21 is a schematic view showing a normal rubbing apparatus.
22 is a diagram for explaining a case where a failure occurs in the rubbing apparatus of FIG. 21. FIG.
[Explanation of symbols]
11 ... rubbing roll
12 ... Liquid crystal substrate
14, 16, 18, 24, 28 ... table
15, 19 ... groove
17 ... hole
25 ... Suction hole
25a, 27a ... suction port
25b, 27b ... discharge port
26 ... Capture plate
27 ... Suction duct

Claims (2)

液晶装置の製造方法であって、
液晶装置用の基板の縁に沿うように又は前記基板を搭載するパレットの縁に沿うように形成された縁を備えるテーブルに前記基板を搭載してラビングし、
前記テーブルの周囲に設けられた捕獲板によって異物を捕獲することを特徴とする液晶装置の製造方法。A method of manufacturing a liquid crystal device,
Mounting and rubbing the substrate on a table having an edge formed along the edge of the substrate for the liquid crystal device or along the edge of the pallet on which the substrate is mounted;
A method of manufacturing a liquid crystal device, wherein foreign matter is captured by a capture plate provided around the table. 液晶装置の製造装置であって、
液晶装置用の基板を搭載するためのテーブルと、前記テーブルの周囲に設けられ異物を捕獲する捕獲板とを有し、
前記テーブルの縁は、前記基板の縁に沿うように又は前記基板を搭載したパレットの縁に沿うように形成されていることを特徴とする液晶装置の製造装置。An apparatus for manufacturing a liquid crystal device,
A table for mounting a substrate for a liquid crystal device, and a capture plate provided around the table for capturing foreign matter,
An apparatus for manufacturing a liquid crystal device, wherein an edge of the table is formed along an edge of the substrate or along an edge of a pallet on which the substrate is mounted.
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