JP2003066456A - Method and device for manufacturing liquid crystal device - Google Patents

Method and device for manufacturing liquid crystal device

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JP2003066456A
JP2003066456A JP2001260125A JP2001260125A JP2003066456A JP 2003066456 A JP2003066456 A JP 2003066456A JP 2001260125 A JP2001260125 A JP 2001260125A JP 2001260125 A JP2001260125 A JP 2001260125A JP 2003066456 A JP2003066456 A JP 2003066456A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method and a device for manufacturing a liquid crystal device wherein appropriate rubbing treatment can be realized by promptly removing a foreign matter generated by rubbing. SOLUTION: A groove or a hole is formed at a table for placing and rubbing a substrate for the liquid crystal device along the edge of the substrate or along the edge of a pallet on which the substrate is mounted to perform rubbing. A sucking hole is provided at the groove or the hole or in the vicinity of the groove or the hole.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶装置の製造方
法及び製造装置に関し、特にラビング処理に関する液晶
装置の製造方法及び製造装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method and an apparatus for manufacturing a liquid crystal device, and more particularly to a method and an apparatus for manufacturing a liquid crystal device relating to a rubbing process.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶ライトバルブ等の液晶装置は、ガラ
ス基板、石英基板等の2枚の基板間に液晶を封入して構
成される。液晶ライトバルブでは、一方の基板に、例え
ば薄膜トランジスタ(Thin Film Transi
stor。以下、TFTという)等の能動素子をマトリ
ックス状に配置し、他方の基板に対向電極を配置する。
両基板間に封止された液晶層の光学特性を画像信号に応
じて変化されることによって、画像表示が行われる。
2. Description of the Related Art A liquid crystal device such as a liquid crystal light valve is constructed by enclosing a liquid crystal between two substrates such as a glass substrate and a quartz substrate. In a liquid crystal light valve, for example, a thin film transistor (Thin Film Transi) is provided on one substrate.
store. Hereinafter, active elements such as TFTs) are arranged in a matrix, and a counter electrode is arranged on the other substrate.
Image display is performed by changing the optical characteristics of the liquid crystal layer sealed between both substrates according to an image signal.

【0003】TFTを配置したTFT基板と、TFT基
板に対向して配置される対向基板とは、別々に製造さ
れ、パネル組み立て工程において、高精度に貼り合わさ
れた後に、TFT基板と対向基板の間に液晶が封入され
る。
The TFT substrate on which the TFTs are arranged and the counter substrate arranged so as to face the TFT substrate are manufactured separately, and are bonded together with high precision in the panel assembling process, and then, between the TFT substrate and the counter substrate. Liquid crystal is sealed in.

【0004】パネル組み立て工程においては、まず、各
基板工程において、夫々製造されたTFT基板と対向基
板との対向面上、すなわち対向基板およびTFT基板の
液晶層と接する面上に配向膜が形成され、次いでラビン
グ処理が行われる。次に、一方の基板上の端辺に接着剤
となるシール部が形成される。TFT基板と対向基板と
をシール部を用いて貼り合わせ、アライメントを施しな
がら圧着硬化させる。シール部の一部には切り欠きが設
けられており、この切り欠きを介して液晶を封入する。
In the panel assembling process, first, in each substrate process, an alignment film is formed on the facing surfaces of the TFT substrate and the counter substrate, respectively, that is, on the surfaces of the counter substrate and the TFT substrate in contact with the liquid crystal layer. Then, a rubbing process is performed. Next, a seal portion serving as an adhesive is formed on the edge of one of the substrates. The TFT substrate and the counter substrate are attached to each other using the seal portion, and pressure-bonded and cured while performing alignment. A notch is provided in a part of the seal portion, and the liquid crystal is sealed through this notch.

【0005】配向膜表面にラビング処理を施すことで、
電圧無印加時の液晶分子の配列が決定される。配向膜
は、例えばポリイミド(PI)を約数十ナノメーターの
厚さで塗布することにより形成される。液晶層に対向す
る両基板の面上に配向膜を形成することで、液晶分子を
基板面に沿って配向処理することができる。ラビング処
理は、配向膜表面に細かい溝を形成する、あるいは高分
子側鎖を一方向に揃えることにより配向異方性の膜にす
るものであり、配向膜に一定方向のラビング処理を施す
ことで、液晶分子の配列を規定することができる。図2
1は、通常のラビング装置を示す模式図である。
By rubbing the surface of the alignment film,
The alignment of liquid crystal molecules when no voltage is applied is determined. The alignment film is formed by applying, for example, polyimide (PI) with a thickness of about several tens of nanometers. By forming the alignment films on the surfaces of both substrates facing the liquid crystal layer, the liquid crystal molecules can be aligned along the surfaces of the substrates. The rubbing treatment is to form a fine groove on the surface of the alignment film or to align the polymer side chains in one direction to form a film having orientation anisotropy. , The alignment of liquid crystal molecules can be defined. Figure 2
1 is a schematic view showing a normal rubbing apparatus.

【0006】パレット100上には複数の液晶基板10
1が載置されている。載置台105に搭載されたパレッ
ト100は、矢印で示す水平方向に移動して基板101
を搬送する。パレット100の搬送路の上方にはラビン
グロール102が配設されている。ラビングロール10
2は周面にレーヨンのラビング布103が設けられてい
る。ラビングロール102を矢印で示す方向に回転させ
ながらパレット100を搬送させて、ラビングロール1
02の回転及びパレット100の搬送によって、ラビン
グ布103で基板全面を擦ってラビング処理を行う。
A plurality of liquid crystal substrates 10 are placed on the pallet 100.
1 is placed. The pallet 100 mounted on the mounting table 105 moves in the horizontal direction indicated by the arrow to move the substrate 101.
To transport. A rubbing roll 102 is arranged above the transportation path of the pallet 100. Rubbing roll 10
2 is provided with a rayon rubbing cloth 103 on the peripheral surface. The rubbing roll 1 is moved by rotating the rubbing roll 102 in the direction indicated by the arrow to convey the pallet 100.
By the rotation of 02 and the conveyance of the pallet 100, the entire surface of the substrate is rubbed with the rubbing cloth 103 to perform rubbing processing.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】ところで、ラビング布
103の表面では、レーヨンの毛先104が例えば1.
0〜2.0mm程度伸びている。適宜のラビング圧を加
えるために必要な距離にラビングロール102と基板1
01との間隔を設定し、ラビング布を回転させながらパ
レット100を搬送すると、毛先104は基板101あ
るいはパレット100に当たってラビングが行われる。
On the surface of the rubbing cloth 103, the rayon tips 104 are, for example, 1.
It extends from 0 to 2.0 mm. The rubbing roll 102 and the substrate 1 are placed at a distance required to apply an appropriate rubbing pressure.
When the pallet 100 is conveyed while setting the interval to 01 and rotating the rubbing cloth, the bristle tips 104 contact the substrate 101 or the pallet 100 to perform rubbing.

【0008】しかし、毛先104が基板101等に当た
るため、ラビング時に配向膜の削りかす、毛先104の
繊維等の異物106が、載置台105上のパレット10
0の周辺部に堆積することがある。ラビング処理が複数
の基板に対して連続して行われると、前の基板のラビン
グ処理で発生した異物106上に、次の基板が搭載され
ることになる。図22は、図21のラビング装置におい
て、不具合が生じる場合を説明するための図である。す
なわち、図22に示すように、異物106上にパレット
100が載る。その結果、基板101に対するラビング
ロール102の所謂ロール押し込み量が、同一基板上で
異なってしまい、異物106上の部分は、異物のない部
分よりもラビング強度が大きくなる。
However, since the hair tips 104 contact the substrate 101 and the like, shavings of the alignment film during rubbing and foreign matter 106 such as fibers of the hair tips 104 are pallet 10 on the mounting table 105.
It may be deposited on the periphery of 0. When the rubbing process is continuously performed on the plurality of substrates, the next substrate is mounted on the foreign matter 106 generated by the rubbing process of the previous substrate. FIG. 22 is a diagram for explaining a case where a problem occurs in the rubbing device of FIG. That is, as shown in FIG. 22, the pallet 100 is placed on the foreign matter 106. As a result, the so-called roll pushing amount of the rubbing roll 102 with respect to the substrate 101 is different on the same substrate, and the portion on the foreign matter 106 has a higher rubbing strength than the portion without the foreign matter.

【0009】基板表面でのラビング強度の違いは、リバ
ースツイストドメインの発生だけでなく、透過率、コン
トラスト、TV特性等、表示品質のばらつきを生じる。
The difference in the rubbing intensity on the substrate surface causes not only the occurrence of reverse twist domains but also variations in display quality such as transmittance, contrast and TV characteristics.

【0010】また、異物自体が浮遊等すると、液晶基板
に付着して異物不良を生じたり、異物が基板間に挟まれ
てギャップ不良が生じたり、ラビングロールへ付着して
不均一なラビング強度となってスジむらが発生したりし
て、適切にラビング処理が行なわれず、結果として、表
示不良に繋がっていた。
Further, when the foreign matter itself floats or the like, it adheres to the liquid crystal substrate to cause a foreign matter defect, or the foreign matter is sandwiched between the substrates to cause a gap defect, or adheres to the rubbing roll to cause uneven rubbing strength. As a result, uneven streaks occur, and the rubbing process is not properly performed, resulting in defective display.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明はかかる問題点に
鑑みてなされたものであって、ラビングで発生する異物
を速やかに排除して、適切なラビング処理が実現できる
液晶装置の製造方法および製造装置を提供することを目
的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and a method of manufacturing a liquid crystal device capable of realizing a proper rubbing treatment by promptly eliminating foreign substances generated by rubbing and a rubbing process. An object is to provide a manufacturing apparatus.

【0012】本発明の液晶装置の製造方法は、液晶装置
用の基板を搭載してラビングするテーブルに、基板の縁
に沿って又は基板を搭載したパレットの縁に沿って、溝
又は孔を形成しラビングを行う。
According to the method of manufacturing a liquid crystal device of the present invention, a groove or hole is formed on a table on which a substrate for a liquid crystal device is mounted and rubbed, along the edge of the substrate or along the edge of a pallet on which the substrate is mounted. Then rub.

【0013】本発明の液晶装置の製造装置は、液晶装置
用の基板を搭載してラビングするテーブルに、基板の縁
に沿って又は基板を搭載したパレットの縁に沿って形成
された溝又は孔を有する。
The liquid crystal device manufacturing apparatus according to the present invention has a groove or hole formed along the edge of the substrate or along the edge of a pallet on which the substrate is mounted on a table on which the substrate for the liquid crystal device is mounted and rubbed. Have.

【0014】このような構成によれば、ラビングで発生
する異物を速やかに排除して、適切なラビング処理が実
現することができる。
With such a structure, it is possible to promptly remove the foreign matter generated by rubbing and realize an appropriate rubbing process.

【0015】本発明の液晶装置の製造方法は、さらに、
溝又は孔あるいは溝又は孔の近傍に吸引口を設けること
が望ましい。
The method of manufacturing a liquid crystal device according to the present invention further comprises:
It is desirable to provide a suction port in the groove or hole or in the vicinity of the groove or hole.

【0016】本発明の液晶装置の製造装置は、さらに、
溝又は孔あるいは溝又は孔の近傍に吸引口を有すること
が望ましい。
The liquid crystal device manufacturing apparatus of the present invention further comprises:
It is desirable to have a suction port near the groove or hole or in the vicinity of the groove or hole.

【0017】このような構成によれば、吸引によりさら
に確実に異物を排除することができる。
With such a structure, the foreign matter can be more surely removed by suction.

【0018】本発明の液晶装置の製造方法は、溝又は孔
は、少なくともラビングロールに対する基板の搬送方向
と反対方向の側に形成されていることが望ましい。
In the method of manufacturing a liquid crystal device according to the present invention, it is desirable that the groove or the hole is formed at least on the side opposite to the rubbing roll conveyance direction of the substrate.

【0019】本発明の液晶装置の製造装置は、溝又は孔
は、少なくともラビングロールに対する基板の搬送方向
と反対方向の側に形成されていることが望ましい。
In the liquid crystal device manufacturing apparatus of the present invention, it is desirable that the groove or the hole be formed at least on the side opposite to the rubbing roll conveyance direction of the substrate.

【0020】このような構成によれば、異物が最も堆積
し易い部分において、異物の排除を十分に行うことがで
きる。
According to this structure, the foreign matter can be sufficiently removed at the portion where the foreign matter is most likely to be deposited.

【0021】本発明の液晶装置の製造方法は、溝又は孔
は、基板又はパレットの縁の全周に亘って設けられてい
ることが望ましい。
In the method of manufacturing a liquid crystal device according to the present invention, it is desirable that the groove or the hole is provided over the entire circumference of the edge of the substrate or the pallet.

【0022】本発明の液晶装置の製造装置は、溝又は孔
は、基板又はパレットの縁の全周に亘って設けられてい
ることが望ましい。
In the liquid crystal device manufacturing apparatus of the present invention, it is desirable that the grooves or holes are provided over the entire circumference of the edge of the substrate or pallet.

【0023】このような構成によれば、異物が堆積する
基板又はパレットの周囲全てに亘って、異物の排除を行
うことができる。
According to such a structure, the foreign matter can be eliminated all around the substrate or pallet on which the foreign matter is deposited.

【0024】本発明の液晶装置の製造方法は、縁に沿っ
て形成された溝又は孔の側壁であって縁側に近い側の側
壁の面は、縁の面と面一となっていることが望ましい。
In the method for manufacturing a liquid crystal device of the present invention, the side wall surface of the groove or hole formed along the edge, which is closer to the edge side, is flush with the edge surface. desirable.

【0025】本発明の液晶装置の製造装置は、縁に沿っ
て形成された溝又は孔の側壁であって縁側に近い側の側
壁の面は、縁の面と面一となっていることが望ましい。
In the liquid crystal device manufacturing apparatus of the present invention, the side wall surface of the groove or hole formed along the edge, which is closer to the edge side, is flush with the edge surface. desirable.

【0026】このような構成によれば、異物がテーブル
上に堆積することなく、異物を確実に溝に落とすことが
できる。
According to this structure, the foreign matter can be surely dropped into the groove without being deposited on the table.

【0027】本発明の液晶装置の製造方法は、液晶装置
用の基板を搭載してラビングするテーブルに、基板の縁
又は基板を搭載したパレットの縁の近傍に、吸引口を形
成し、吸引口から吸引を行いながらラビングを行う。
According to the method of manufacturing a liquid crystal device of the present invention, a suction port is formed near the edge of the substrate or the edge of the pallet on which the substrate is mounted on the table on which the substrate for the liquid crystal device is mounted and rubbed. Rub while sucking from.

【0028】本発明の液晶装置の製造装置は、液晶装置
用の基板を搭載してラビングするテーブルに、基板の縁
又は基板を搭載したパレットの縁の近傍に、形成された
吸引口を有する。
The liquid crystal device manufacturing apparatus of the present invention has a suction port formed on the table on which the substrate for the liquid crystal device is mounted and rubbed, near the edge of the substrate or near the edge of the pallet on which the substrate is mounted.

【0029】このような構成によれば、ラビングによっ
て発生する基板又はパレットの近傍に生じる異物を確実
に排除することができる。
According to such a structure, it is possible to reliably eliminate the foreign matter generated in the vicinity of the substrate or the pallet caused by rubbing.

【0030】本発明の液晶装置の製造方法は、液晶装置
用の基板を搭載してラビングするテーブルの縁を、基板
の縁に沿って又は基板を搭載したパレットの縁に沿って
形成し、テーブルの周囲に捕獲板を設けてラビングを行
う。
According to the method of manufacturing a liquid crystal device of the present invention, the edge of the table for mounting and rubbing the substrate for the liquid crystal device is formed along the edge of the substrate or along the edge of the pallet on which the substrate is mounted, and the table is Rubbing is performed by providing a capture plate around the.

【0031】本発明の液晶装置の製造装置は、液晶装置
用の基板を搭載してラビングするテーブルの縁が、基板
の縁に沿って又は基板を搭載したパレットの縁に沿って
形成され、テーブルの周囲に設けられた捕獲板を有す
る。
In the liquid crystal device manufacturing apparatus of the present invention, the edge of the table on which the substrate for the liquid crystal device is mounted and which is rubbed is formed along the edge of the substrate or the edge of the pallet on which the substrate is mounted. Has a capture plate provided around the.

【0032】このような構成によれば、ラビングによっ
て発生する基板又はパレットの近傍に生じる異物を確実
に排除することができる。
According to such a structure, it is possible to reliably eliminate the foreign matter generated by the rubbing, which is generated in the vicinity of the substrate or the pallet.

【0033】[0033]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0034】以下、図1から図16の図面を参照して、
本発明に係る第一の実施の形態について詳細に説明す
る。
Hereinafter, with reference to FIGS. 1 to 16,
The first embodiment according to the present invention will be described in detail.

【0035】本実施の形態は、液晶装置用基板をラビン
グ処理する場合に、液晶装置用の基板を搭載してラビン
グするテーブルに、基板の縁に沿って溝を形成し、ラビ
ングを行うことようにしたものである。
In the present embodiment, when the liquid crystal device substrate is rubbed, a groove is formed along the edge of the substrate on the table on which the liquid crystal device substrate is mounted and rubbed to perform rubbing. It is the one.

【0036】先ず、図2乃至図5を参照して、液晶パネ
ルの構造について説明する。
First, the structure of the liquid crystal panel will be described with reference to FIGS.

【0037】図2は、本発明の第一の実施の形態に係る
液晶装置の画素領域を構成する複数の画素における各種
素子、配線等の等価回路図である。図3は、本発明の第
一の実施の形態に係るTFT基板等の素子基板をその上
に形成された各構成要素と共に対向基板側から見た平面
図である。図4は、本発明の第一の実施の形態に係る素
子基板と対向基板とを貼り合わせて液晶を封入する組立
工程終了後の液晶装置を、図3のH−H'線の位置で切
断して示す断面図である。また、図5は、本発明の第一
の実施の形態に係る液晶装置を詳細に示す断面図であ
る。図6は、本発明の第一の実施の形態に係るパネル組
立工程を示すフローチャートである。
FIG. 2 is an equivalent circuit diagram of various elements, wirings, etc. in a plurality of pixels forming the pixel region of the liquid crystal device according to the first embodiment of the present invention. FIG. 3 is a plan view of an element substrate such as a TFT substrate according to the first embodiment of the present invention as viewed from the counter substrate side together with the respective constituent elements formed thereon. FIG. 4 is a sectional view of the liquid crystal device after the assembly process of bonding the element substrate and the counter substrate according to the first embodiment of the present invention and sealing the liquid crystal at the position of line HH ′ in FIG. FIG. FIG. 5 is a cross-sectional view showing in detail the liquid crystal device according to the first embodiment of the present invention. FIG. 6 is a flowchart showing a panel assembling process according to the first embodiment of the present invention.

【0038】液晶パネルは、図3及び図4に示すよう
に、TFT基板等の素子基板10と対向基板20との間
に液晶50を封入して構成される。素子基板10上には
画素を構成する画素電極等がマトリクス状に配置され
る。図2は画素を構成する素子基板10上の素子の等価
回路を示している。
As shown in FIGS. 3 and 4, the liquid crystal panel is constructed by enclosing the liquid crystal 50 between the element substrate 10 such as a TFT substrate and the counter substrate 20. Pixel electrodes that form pixels are arranged in a matrix on the element substrate 10. FIG. 2 shows an equivalent circuit of the elements on the element substrate 10 which form the pixels.

【0039】図2に示すように、画素領域においては、
複数本の走査線3aと複数本のデータ線6aとが交差す
るように配線され、走査線3aとデータ線6aとで区画
された領域に画素電極9aがマトリクス状に配置され
る。そして、走査線3aとデータ線6aの各交差部分に
対応してTFT30が設けられ、このTFT30に画素
電極9aが接続される。
As shown in FIG. 2, in the pixel area,
The plurality of scanning lines 3a and the plurality of data lines 6a are arranged so as to intersect with each other, and the pixel electrodes 9a are arranged in a matrix in a region partitioned by the scanning lines 3a and the data lines 6a. A TFT 30 is provided corresponding to each intersection of the scanning line 3a and the data line 6a, and the pixel electrode 9a is connected to this TFT 30.

【0040】TFT30は走査線3aのON信号によっ
てオンとなり、これにより、データ線6aに供給された
画像信号が画素電極9aに供給される。この画素電極9
aと対向基板20に設けられた対向電極21との間の電
圧が液晶50に印加される。また、画素電極9aと並列
に蓄積容量70が設けられており、蓄積容量70によっ
て、画素電極9aの電圧はソース電圧が印加された時間
よりも例えば3桁も長い時間の保持が可能となる。蓄積
容量70によって、電圧保持特性が改善され、コントラ
スト比の高い画像表示が可能となる。
The TFT 30 is turned on by the ON signal of the scanning line 3a, whereby the image signal supplied to the data line 6a is supplied to the pixel electrode 9a. This pixel electrode 9
A voltage between a and the counter electrode 21 provided on the counter substrate 20 is applied to the liquid crystal 50. Further, a storage capacitor 70 is provided in parallel with the pixel electrode 9a, and the storage capacitor 70 enables the voltage of the pixel electrode 9a to be retained for a time that is, for example, three digits longer than the time when the source voltage is applied. The storage capacitor 70 improves the voltage holding characteristic and enables image display with a high contrast ratio.

【0041】図5は、一つの画素に着目した液晶パネル
の模式的断面図である。
FIG. 5 is a schematic sectional view of a liquid crystal panel focusing on one pixel.

【0042】ガラスや石英等の素子基板10には、LD
D構造をなすTFT30が設けられている。TFT30
は、チャネル領域1a、ソース領域1d、ドレイン領域
1eが形成された半導体層に絶縁膜2を介してゲート電
極をなす走査線3aが設けられてなる。TFT30上に
は第1層間絶縁膜4を介してデータ線6aが積層され、
データ線6aはコンタクトホール5を介してソース領域
1dに電気的に接続される。データ線6a上には第2層
間絶縁膜7を介して画素電極9aが積層され、画素電極
9aはコンタクトホール8を介してドレイン領域1eに
電気的に接続される。
The element substrate 10 made of glass or quartz is provided with an LD.
A TFT 30 having a D structure is provided. TFT30
Is provided with a scanning line 3a forming a gate electrode via an insulating film 2 in a semiconductor layer in which a channel region 1a, a source region 1d and a drain region 1e are formed. A data line 6a is laminated on the TFT 30 via the first interlayer insulating film 4,
The data line 6a is electrically connected to the source region 1d through the contact hole 5. A pixel electrode 9a is stacked on the data line 6a via a second interlayer insulating film 7, and the pixel electrode 9a is electrically connected to the drain region 1e via a contact hole 8.

【0043】走査線3a(ゲート電極)にON信号が供
給されることで、チャネル領域1aが導通状態となり、
ソース領域1dとドレイン領域1eとが接続されて、デ
ータ線6aに供給された画像信号が画素電極9aに与え
られる。
When the ON signal is supplied to the scanning line 3a (gate electrode), the channel region 1a becomes conductive,
The source region 1d and the drain region 1e are connected to each other, and the image signal supplied to the data line 6a is applied to the pixel electrode 9a.

【0044】また、半導体層にはドレイン領域1eから
延びる蓄積容量電極1fが形成されている。蓄積容量電
極1fは、誘電体膜である絶縁膜2を介して容量線3b
が対向配置され、これにより蓄積容量70を構成してい
る。画素電極9a上にはポリイミド系の高分子樹脂から
なる配向膜16が積層され、所定方向にラビング処理さ
れている。
A storage capacitor electrode 1f extending from the drain region 1e is formed in the semiconductor layer. The storage capacitance electrode 1f is connected to the capacitance line 3b via the insulating film 2 which is a dielectric film.
Are arranged so as to face each other, and thereby a storage capacitor 70 is formed. An alignment film 16 made of a polyimide-based polymer resin is laminated on the pixel electrode 9a, and is rubbed in a predetermined direction.

【0045】一方、対向基板20には、TFTアレイ基
板のデータ線6a、走査線3a及びTFT30の形成領
域に対向する領域、即ち各画素の非表示領域において第
1遮光膜23が設けられている。この第1遮光膜23に
よって、対向基板20側からの入射光がTFT30のチ
ャネル領域1a、ソース領域1d及びドレイン領域1e
に入射することが防止される。第1遮光膜23上に、対
向電極(共通電極)21が基板20全面に亘って形成さ
れている。対向電極21上にポリイミド系の高分子樹脂
からなる配向膜22が積層され、所定方向にラビング処
理されている。
On the other hand, the counter substrate 20 is provided with the first light-shielding film 23 in a region opposed to the data line 6a, the scanning line 3a and the TFT 30 forming region of the TFT array substrate, that is, in the non-display region of each pixel. . Due to the first light-shielding film 23, incident light from the counter substrate 20 side allows the channel region 1a, the source region 1d and the drain region 1e of the TFT 30 to be incident.
Is prevented from entering. A counter electrode (common electrode) 21 is formed on the first light-shielding film 23 over the entire surface of the substrate 20. An alignment film 22 made of a polyimide-based polymer resin is laminated on the counter electrode 21 and rubbed in a predetermined direction.

【0046】そして、素子基板10と対向基板20との
間に液晶50が封入されている。これにより、TFT3
0は所定のタイミングでデータ線6aから供給される画
像信号を画素電極9aに書き込む。書き込まれた画素電
極9aと対向電極21との電位差に応じて液晶50の分
子集合の配向や秩序が変化して、光を変調し、階調表示
を可能にする。
Liquid crystal 50 is sealed between the element substrate 10 and the counter substrate 20. As a result, the TFT3
0 writes the image signal supplied from the data line 6a to the pixel electrode 9a at a predetermined timing. Depending on the written potential difference between the pixel electrode 9a and the counter electrode 21, the orientation or order of the molecular assembly of the liquid crystal 50 is changed to modulate light and enable gradation display.

【0047】図3及び図4に示すように、対向基板20
には表示領域を区画する額縁としての第2遮光膜42が
設けられている。第2遮光膜42は例えば第1遮光膜2
3と同一又は異なる遮光性材料によって形成されてい
る。
As shown in FIGS. 3 and 4, the counter substrate 20
A second light-shielding film 42 is provided as a frame for partitioning the display area. The second light shielding film 42 is, for example, the first light shielding film 2
It is made of the same or different light-shielding material as 3.

【0048】第2遮光膜42の外側の領域に液晶を封入
するシール材41が、素子基板10と対向基板20間に
形成されている。シール材41は対向基板20の輪郭形
状に略一致するように配置され、素子基板10と対向基
板20を相互に固着する。シール材41は、素子基板1
0の1辺の一部において欠落しており、貼り合わされた
素子基板10及び対向基板20相互の間隙には、液晶5
0を注入するための液晶注入口78が形成される。液晶
注入口78より液晶が注入された後、液晶注入口78を
封止材79で封止するようになっている。
A sealing material 41 for enclosing the liquid crystal in a region outside the second light-shielding film 42 is formed between the element substrate 10 and the counter substrate 20. The sealing material 41 is arranged so as to substantially match the contour shape of the counter substrate 20, and fixes the element substrate 10 and the counter substrate 20 to each other. The sealing material 41 is the element substrate 1
A part of one side of 0 is missing, and the liquid crystal 5 is provided in a gap between the bonded element substrate 10 and counter substrate 20.
A liquid crystal injection port 78 for injecting 0 is formed. After the liquid crystal is injected from the liquid crystal injection port 78, the liquid crystal injection port 78 is sealed with a sealing material 79.

【0049】素子基板10のシール材41の外側の領域
には、データ線駆動回路61及び実装端子62が素子基
板10の一辺に沿って設けられており、この一辺に隣接
する2辺に沿って、走査線駆動回路63が設けられてい
る。素子基板10の残る一辺には、画面表示領域の両側
に設けられた走査線駆動回路63間を接続するための複
数の配線64が設けられている。また、対向基板20の
コーナー部の少なくとも1箇所においては、素子基板1
0と対向基板20との間を電気的に導通させるための導
通材65が設けられている。
A data line driving circuit 61 and mounting terminals 62 are provided along one side of the element substrate 10 in a region outside the sealing material 41 of the element substrate 10, and along two sides adjacent to the one side. , A scanning line drive circuit 63 is provided. A plurality of wirings 64 for connecting the scanning line drive circuits 63 provided on both sides of the screen display area are provided on the remaining side of the element substrate 10. The element substrate 1 is provided at least at one corner of the counter substrate 20.
A conductive material 65 is provided to electrically connect 0 and the counter substrate 20.

【0050】次に、図6を参照してパネル組立工程につ
いて説明する。素子基板10(TFT基板)と対向基板
20とは、別々に製造される。ステップS1 ,S6 で夫
々用意されたTFT基板及び対向基板20に対して、次
のステップS2 ,S7 では、配向膜16、22となるポ
リイミド(PI)を塗布等して配向膜16,22を形成す
る。次に、ステップS3 ,S8 において、素子基板10
表面の配向膜16及び対向基板20表面の配向膜22に
対して、ラビング処理を施す。
Next, the panel assembling process will be described with reference to FIG. The element substrate 10 (TFT substrate) and the counter substrate 20 are manufactured separately. In the next steps S2 and S7, the alignment films 16 and 22 are formed by applying polyimide (PI) to be the alignment films 16 and 22 to the TFT substrate and the counter substrate 20 prepared in steps S1 and S6, respectively. To do. Next, in steps S3 and S8, the element substrate 10 is
A rubbing process is performed on the alignment film 16 on the surface and the alignment film 22 on the surface of the counter substrate 20.

【0051】次に、ステップS4 ,S9 において、洗浄
工程を行う。この洗浄工程は、ラビング処理によって生
じた塵埃を除去するためのものである。
Next, in steps S4 and S9, a cleaning process is performed. This cleaning step is for removing dust generated by the rubbing process.

【0052】洗浄工程が終了すると、ステップS5 にお
いて、シール材41、及び導通材65(図3参照)を形
成する。なお、シール材及び導通材は対向基板側に形成
しても良い。次に、ステップS10で、素子基板10と対
向基板20とを貼り合わせ、ステップS11でアライメン
トを施しながら圧着し、シール材41を硬化させる。最
後に、ステップS12において、シール材41の一部に設
けた切り欠きから液晶を封入し、切り欠きを塞いで液晶
を封止する。そして、複数の液晶装置が搭載されたマザ
ーガラス基板を、各液晶装置毎に分断する(S13)。
After the cleaning process is completed, the seal material 41 and the conductive material 65 (see FIG. 3) are formed in step S5. Note that the sealing material and the conductive material may be formed on the counter substrate side. Next, in step S10, the element substrate 10 and the counter substrate 20 are bonded together, and in step S11, they are pressure-bonded while being aligned, and the sealing material 41 is cured. Finally, in step S12, the liquid crystal is sealed from the notch provided in a part of the sealing material 41, and the notch is closed to seal the liquid crystal. Then, the mother glass substrate on which the plurality of liquid crystal devices are mounted is divided for each liquid crystal device (S13).

【0053】図6のS3およびS8において、各液晶装
置用基板がラビング処理されるが、図1を用いて、その
装置構成について説明する。図1は、本発明の第一の実
施の形態に係る液晶装置の製造装置の構成を示す構成図
である。
In S3 and S8 of FIG. 6, each liquid crystal device substrate is rubbed, and the device configuration will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a configuration diagram showing a configuration of a liquid crystal device manufacturing apparatus according to a first embodiment of the present invention.

【0054】図1において、11は、ラビングロールで
あり、矢印で示す方向に回転する。12は、液晶基板で
あり、13は、液晶基板12が載置されたパレットであ
る。パレット13は、載置台であるテーブル14上に載
置され、テーブル14上の設けられた孔(図示せず)か
ら吸引されて、テーブル14の表面に吸着している。テ
ーブル14は、矢印で示す方向(以下、搬送方向ともい
う)に水平に搬送され、回転しているラビングロール1
1によって、液晶基板12の表面がラビングされる。な
お、テーブル14が固定され、矢印で示す方向とは反対
方向にラビングロール11が搬送されるようにしてもよ
く。さらに、テーブル14とラビングロール11の両方
が移動して、テーブル14が相対的に図1に示す方向に
搬送されるようになっていてもよい。
In FIG. 1, 11 is a rubbing roll, which rotates in the direction indicated by the arrow. Reference numeral 12 is a liquid crystal substrate, and 13 is a pallet on which the liquid crystal substrate 12 is placed. The pallet 13 is placed on a table 14 which is a placing table, sucked from holes (not shown) provided on the table 14 and adsorbed on the surface of the table 14. The table 14 is horizontally conveyed in a direction indicated by an arrow (hereinafter, also referred to as a conveyance direction) and is rotated by the rubbing roll 1.
1, the surface of the liquid crystal substrate 12 is rubbed. The table 14 may be fixed and the rubbing roll 11 may be conveyed in a direction opposite to the direction indicated by the arrow. Furthermore, both the table 14 and the rubbing roll 11 may move so that the table 14 is relatively conveyed in the direction shown in FIG.

【0055】テーブル14の上面には、液晶基板12を
搭載したパレット13の縁に沿って、すなわち周囲形状
に沿って、溝15が形成され設けられている。溝15
は、ラビングロールに対する液晶基板の搬送方向と反対
方向の側に形成されている。溝15はテーブル14の搬
送方向において二つの側壁15aと15cを有する。テ
ーブル14の搬送方向側の溝15の側壁15cの面と、
テーブル14の搬送方向と反対側のパレット13の側壁
13aの面は、面一になるように、ロボットアーム等の
図示しない搬送手段によってパレット13がテーブル1
4上に載置される。言い換えれば、溝の側壁のうちパレ
ット13の縁に近い側の側壁面は、パレット13の側壁
面と面一になっている。
Grooves 15 are formed on the upper surface of the table 14 along the edge of the pallet 13 on which the liquid crystal substrate 12 is mounted, that is, along the peripheral shape. Groove 15
Is formed on the side opposite to the direction in which the liquid crystal substrate is conveyed with respect to the rubbing roll. The groove 15 has two side walls 15a and 15c in the transport direction of the table 14. The surface of the side wall 15c of the groove 15 on the conveyance direction side of the table 14,
The surface of the side wall 13a of the pallet 13 on the side opposite to the carrying direction of the table 14 is flush with the table 1 by a carrying means (not shown) such as a robot arm.
4. In other words, the side wall surface of the side wall of the groove near the edge of the pallet 13 is flush with the side wall surface of the pallet 13.

【0056】このような構成により、ラビングロール1
1が液晶基板12をラビングして発生したレーヨンの毛
先104等の異物は、液晶基板12の表面及びパレット
13の表面から溝15の中に落ち、溝15の底面15b
上に堆積する。よって、次の液晶基板がラビングされる
とき、異物は溝15の中に堆積しているため、テーブル
14の表面に異物は残ることがない。特に、異物が最も
堆積しやすい基板又はパレットの搬送方向と反対側に溝
が形成されているので、テーブル面からの異物の排除を
十分に行うことができる。
With such a structure, the rubbing roll 1
Foreign matter such as rayon hair tips 104 generated by rubbing 1 on the liquid crystal substrate 12 falls into the groove 15 from the surface of the liquid crystal substrate 12 and the surface of the pallet 13, and the bottom surface 15b of the groove 15 is formed.
Deposit on top. Therefore, when the next liquid crystal substrate is rubbed, the foreign matter is accumulated in the groove 15, so that the foreign matter does not remain on the surface of the table 14. In particular, since the groove is formed on the opposite side of the substrate or pallet carrying direction where foreign matter is most likely to be deposited, the foreign matter can be sufficiently removed from the table surface.

【0057】溝15の深さを深くすることによって、底
面15bに堆積できる異物量を多くすることができる。
さらに溝を深くして、テーブル14の底面まで貫通され
ることによって、テーブル14の下に異物用の受け皿
(図示せず)上に異物を落とすことができる。図7は、
本発明の第一の実施の形態に係る液晶装置の製造装置の
他の構成を示す構成図である。図7では、溝をさらに深
くして、テーブルを貫通する孔にした例を示す。
By increasing the depth of the groove 15, the amount of foreign matter that can be deposited on the bottom surface 15b can be increased.
By further deepening the groove and penetrating to the bottom surface of the table 14, the foreign matter can be dropped on a foreign matter tray (not shown) under the table 14. Figure 7
It is a block diagram which shows the other structure of the manufacturing apparatus of the liquid crystal device which concerns on 1st embodiment of this invention. FIG. 7 shows an example in which the groove is further deepened to form a hole penetrating the table.

【0058】載置台であるテーブル16には、孔17が
液晶基板12を搭載したパレット13の縁に沿って、す
なわちパレットの周囲形状に沿って形成され設けられて
いる。孔17は、テーブル16の搬送方向において二つ
の内周面である側壁面17cと17dを有する。テーブ
ル16の搬送方向側の側壁17dの面と、テーブル16
の搬送方向と反対側のパレット13の側壁13aの面
は、面一になるように、ロボットアーム等の図示しない
搬送手段によってパレット13がテーブル14上に載置
される。言い換えれば、孔の溝の側壁のうちパレット1
3の縁に近い側の側壁面は、パレット13の側壁面と面
一になっている。
The table 16, which is a mounting table, is provided with holes 17 formed along the edge of the pallet 13 on which the liquid crystal substrate 12 is mounted, that is, along the peripheral shape of the pallet. The hole 17 has side wall surfaces 17c and 17d which are two inner peripheral surfaces in the transport direction of the table 16. The surface of the side wall 17d of the table 16 on the transport direction side and the table 16
The pallet 13 is placed on the table 14 by a transporting means (not shown) such as a robot arm so that the surface of the side wall 13a of the pallet 13 on the side opposite to the transporting direction is parallel. In other words, the pallet 1 on the side wall of the groove of the hole
The side wall surface near the edge of 3 is flush with the side wall surface of the pallet 13.

【0059】このような構成により、ラビングロール1
1が液晶基板12をラビングして発生したレーヨンの毛
先104等の異物は、液晶基板12の表面及びパレット
13の表面から孔17の一方の口である入口17aから
入り、他方の出口17bから排出される。よって、次の
液晶基板がラビングされるとき、異物は孔17の中に落
ちていくため、テーブル16の表面に異物は残ることが
ない。特に、異物が最も堆積しやすい基板又はパレット
の搬送方向と反対側に孔が形成されているので、テーブ
ル面からの異物の排除を十分に行うことができる。
With this structure, the rubbing roll 1
Foreign matter such as rayon hair tips 104 generated by rubbing the liquid crystal substrate 12 by 1 enters from the surface of the liquid crystal substrate 12 and the surface of the pallet 13 through an inlet 17a, which is one opening of the hole 17, and through an outlet 17b of the other. Is discharged. Therefore, when the next liquid crystal substrate is rubbed, the foreign substances fall into the holes 17, so that the foreign substances do not remain on the surface of the table 16. In particular, since the holes are formed on the side opposite to the transport direction of the substrate or the pallet where foreign matter is most likely to be deposited, the foreign matter can be sufficiently removed from the table surface.

【0060】図1に示すような溝に、異物を溝の底面に
堆積させるのではなく、吸引口を設け、堆積した異物の
全部あるいは一部を吸引して排出するようにしてもよ
い。図8は、本発明の第一の実施の形態に係る液晶装置
の製造装置のさらに他の構成を示す構成図である。図8
は、溝に吸引口を設けた例を示す。
Instead of depositing foreign matter on the bottom surface of the groove in the groove as shown in FIG. 1, a suction port may be provided to suck and discharge all or part of the deposited foreign matter. FIG. 8 is a configuration diagram showing still another configuration of the liquid crystal device manufacturing apparatus according to the first embodiment of the present invention. Figure 8
Shows an example in which a suction port is provided in the groove.

【0061】テーブル18の上面には、溝19が液晶基
板12を搭載したパレット13の縁に沿って、すなわち
パレットの周囲形状に沿って形成され設けられている。
溝19は、ラビングロールに対する液晶基板の搬送方向
と反対方向の側に形成されている。溝19はテーブル1
8の搬送方向において二つの側壁19aと19cを有す
る。テーブル18の搬送方向側の溝19の側壁19cの
面と、テーブル18の搬送方向と反対側のパレット13
の側壁13aの面は、面一になるように、ロボットアー
ム等の図示しない搬送手段によってパレット13がテー
ブル18上に載置される。言い換えれば、溝の側壁のう
ちパレット13の縁に近い側の側壁面は、パレット13
の側壁面と面一になっている。
Grooves 19 are formed on the upper surface of the table 18 along the edges of the pallet 13 on which the liquid crystal substrate 12 is mounted, that is, along the peripheral shape of the pallet.
The groove 19 is formed on the opposite side of the rubbing roll from the direction in which the liquid crystal substrate is conveyed. Groove 19 is table 1
8 has two side walls 19a and 19c in the transport direction. The surface of the side wall 19c of the groove 19 on the table 18 in the carrying direction and the pallet 13 on the side opposite to the table 18 in the carrying direction.
The pallet 13 is placed on the table 18 by a transfer means (not shown) such as a robot arm so that the surface of the side wall 13a of the pallet 13 is flush. In other words, of the side walls of the groove, the side wall surface on the side closer to the edge of the pallet 13 is the pallet 13
It is flush with the side wall surface of.

【0062】さらに、溝19の底面19bには、吸引の
ための孔である吸引孔25が設けられている。吸引孔2
5は、テーブル18の下面の開口部である排出口25b
から図示しない吸引手段により吸引されている。従っ
て、異物は、溝19に落ちた後、吸引孔25の上部の開
口部である吸引口25aから吸引孔25に吸引され、吸
引孔25の下面の排出口25bから排出される。ラビン
グ処理中、吸引は常に行われるようにしてもよいし、あ
るいはラビングロールが基板あるいはパレットに接触し
てから離れるまでの間等、必要なときに、吸引するよう
にしてもよい。
Further, the bottom surface 19b of the groove 19 is provided with a suction hole 25 which is a hole for suction. Suction hole 2
5 is an outlet 25b which is an opening on the lower surface of the table 18.
Is sucked by suction means (not shown). Therefore, the foreign matter is dropped into the groove 19 and then sucked into the suction hole 25 through the suction port 25a, which is the upper opening of the suction hole 25, and discharged through the discharge port 25b on the lower surface of the suction hole 25. Suction may be performed constantly during the rubbing process, or may be performed when necessary, such as from the time when the rubbing roll comes into contact with the substrate or the pallet to the time when the rubbing roll comes off.

【0063】このような構成により、ラビングロール1
1が液晶基板12をラビングして発生したレーヨンの毛
先104等の異物は、液晶基板12の表面及びパレット
13の表面から溝19の中に落ち、さらに、吸引口25
aに吸引され、吸引孔25を通って下面の排出口25b
から排出され、図示しない異物収容器に収容される。よ
って、次の液晶基板がラビングされるとき、異物は溝1
9に落ちた後、吸引されるので、テーブル14の表面に
異物は残ることがない。なお、吸引孔25の吸引口は、
溝の底面ではなく、溝の側面に設けてもよい。特に、異
物が最も堆積しやすい基板又はパレットの搬送方向と反
対側に溝が形成されているので、テーブル面からの異物
の排除を十分に行うことができる。
With such a structure, the rubbing roll 1
The foreign matter such as the ray tips 104 of the rayon generated by rubbing the liquid crystal substrate 12 by 1 drops into the groove 19 from the surface of the liquid crystal substrate 12 and the surface of the pallet 13, and further the suction port 25
a through the suction hole 25 and the discharge port 25b on the lower surface.
And is stored in a foreign matter container (not shown). Therefore, when the next liquid crystal substrate is rubbed, the foreign matter is removed from the groove 1.
No foreign matter remains on the surface of the table 14 because it is sucked after dropping to 9. The suction port of the suction hole 25 is
It may be provided on the side surface of the groove instead of the bottom surface of the groove. In particular, since the groove is formed on the opposite side of the substrate or pallet carrying direction where foreign matter is most likely to be deposited, the foreign matter can be sufficiently removed from the table surface.

【0064】図9は、溝15を設けたときの図1の構成
例の斜視図である。なお、ここでは、パレット13上に
搭載された液晶基板、例えば対向基板は図示していな
い。図10以下の説明において、説明を簡単にするた
め、同様にパレット上の液晶基板は図示しない。図9に
おいて、溝15は、搬送方向に直角な方向におけるパレ
ット13の幅長さよりも長い溝で、パレット13の縁に
沿って形成され設けられている。溝の幅は、異物が落ち
るにも充分な幅である。幅は、例えば、ラビングにより
発生する毛先104の繊維等の大きさ(最大長)よりも
大きな長さであることが望ましい。
FIG. 9 is a perspective view of the configuration example of FIG. 1 when the groove 15 is provided. Here, the liquid crystal substrate mounted on the pallet 13, for example, the counter substrate is not shown. In the following description of FIG. 10, the liquid crystal substrate on the pallet is not shown for the sake of simplicity. In FIG. 9, the groove 15 is a groove longer than the width length of the pallet 13 in the direction perpendicular to the transport direction, and is formed along the edge of the pallet 13. The width of the groove is wide enough for foreign matter to fall. The width is preferably larger than the size (maximum length) of the fibers or the like of the bristle tips 104 generated by rubbing.

【0065】少なくともラビングロールに対する基板の
搬送方向と反対方向の側に溝が形成されているので、異
物が最も堆積し易い部分において、異物の排除を十分に
行うことができる。
Since the groove is formed at least on the side of the rubbing roll in the direction opposite to the conveying direction of the substrate, the foreign matter can be sufficiently removed at the portion where the foreign matter is most likely to be deposited.

【0066】図10は、図1の装置構成に係る他の例の
斜視図である。図10は、溝15が、パレット13の搬
送方向と反対側のパレット13の側壁13aの面の側だ
けでなく、搬送方向と直角な方向におけるパレット13
の側壁面側13b、13cにも設けられている例であ
る。ここでは、側壁13b、13cの半分、それも搬送
方向とは逆方向の半分側の側壁の対応して溝15Bと溝
15Aが、パレット13の縁に沿って形成され設けられ
ている。側壁13b、13cの面と、溝の内側の面は、
面一になっている。
FIG. 10 is a perspective view of another example of the apparatus configuration of FIG. In FIG. 10, the groove 15 is formed not only on the side of the side wall 13a of the pallet 13 opposite to the conveying direction of the pallet 13 but also in the direction perpendicular to the conveying direction.
In this example, the side wall surfaces 13b and 13c are also provided. Here, the grooves 15B and 15A are formed along the edge of the pallet 13 so as to correspond to half of the side walls 13b and 13c, that is, the side wall on the half side in the opposite direction to the transport direction. The surfaces of the side walls 13b and 13c and the inner surface of the groove are
It's flush.

【0067】このような構成により、ラビングロール1
1が液晶基板12をラビングして発生したレーヨンの毛
先104等の異物は、液晶基板12の表面及びパレット
13の表面から搬送方向において後ろ側の溝15、15
A、15Bの中に落ち、溝15の底面15b上に堆積す
る。よって、次の液晶基板がラビングされるとき、異物
は溝15の中に堆積しているため、テーブル14の表面
に異物は残ることがない。
With such a structure, the rubbing roll 1
The foreign matter such as the ray tips 104 of the rayon generated by the rubbing of the liquid crystal substrate 12 with the grooves 1 and 15 on the rear side in the transport direction from the surface of the liquid crystal substrate 12 and the surface of the pallet 13.
It falls into A and 15B and is deposited on the bottom surface 15b of the groove 15. Therefore, when the next liquid crystal substrate is rubbed, the foreign matter is accumulated in the groove 15, so that the foreign matter does not remain on the surface of the table 14.

【0068】なお、溝15A及び溝15Bは、搬送方向
と直角な方向におけるパレット13の側壁面側13b、
13cの幅全体に亘って形成されていてもよい。さら
に、パレット13の側壁面全周に亘って、すなわちパレ
ット13の周囲に溝を形成するようにしてもよい。溝
は、パレット13の搬送方向側のパレット13の側壁面
側13dにも設けられ、その場合も、側壁13dの面
と、溝の搬送方向と反対側の側壁面は、面一になってい
る。溝を全周に設けると、異物が堆積する基板又はパレ
ットの周囲全てに亘って異物の排除を行うことができ
る。
The grooves 15A and 15B are formed on the side wall surface 13b of the pallet 13 in the direction perpendicular to the carrying direction.
It may be formed over the entire width of 13c. Further, grooves may be formed over the entire circumference of the side wall surface of the pallet 13, that is, around the pallet 13. The groove is also provided on the side wall surface side 13d of the pallet 13 on the transfer direction side of the pallet 13, and in this case as well, the surface of the side wall 13d and the side wall surface on the side opposite to the transfer direction of the groove are flush with each other. . When the groove is provided on the entire circumference, the foreign matter can be eliminated over the entire circumference of the substrate or pallet on which the foreign matter is deposited.

【0069】このように、パレット13の搬送方向側の
パレット13の側壁面側13dに設けられた溝には、レ
ーヨンの毛先104がパレット13の側壁13dに当た
って落ちたもの等が堆積することになる。
As described above, in the groove provided on the side wall surface side 13d of the pallet 13 on the conveying direction side of the pallet 13, the rayon tips 104 hitting the side wall 13d of the pallet 13 are deposited. Become.

【0070】図11は、図7の装置構成に係る斜視図で
ある。図11において、孔17は、その長手方向の長さ
が搬送方向に直角な方向におけるパレット13の幅長よ
りも長い長孔で、パレット13の縁に沿って形成され設
けられている。長孔の幅は、異物が落ちるにも充分な幅
である。幅は、例えば、ラビングにより発生する毛先1
04の繊維等の大きさ(最大長)よりも大きな長さであ
ることが望ましい。
FIG. 11 is a perspective view of the apparatus configuration of FIG. In FIG. 11, the hole 17 is a long hole whose length in the longitudinal direction is longer than the width of the pallet 13 in the direction perpendicular to the transport direction, and is formed along the edge of the pallet 13. The width of the long hole is wide enough for foreign matter to fall. The width is, for example, a hair tip 1 generated by rubbing.
It is desirable that the length is larger than the size (maximum length) of the fiber No. 04.

【0071】このような構成により、ラビングロール1
1が液晶基板12をラビングして発生したレーヨンの毛
先104等の異物は、液晶基板12の表面及びパレット
13の表面から搬送方向において後ろ側の孔17の中に
落ちる。よって、次の液晶基板がラビングされるとき、
異物は孔17の中に落ちるため、テーブル16の表面に
異物は残ることがない。特に、異物が最も堆積しやすい
基板又はパレットの搬送方向と反対側に孔が形成されて
いるので、テーブル面からの異物の排除を十分に行うこ
とができる。
With such a structure, the rubbing roll 1
Foreign matter such as rayon hair tips 104 generated by rubbing the liquid crystal substrate 12 by 1 falls from the surface of the liquid crystal substrate 12 and the surface of the pallet 13 into the hole 17 on the rear side in the transport direction. Therefore, when the next liquid crystal substrate is rubbed,
Since the foreign matter falls into the hole 17, the foreign matter does not remain on the surface of the table 16. In particular, since the holes are formed on the side opposite to the transport direction of the substrate or the pallet where foreign matter is most likely to be deposited, the foreign matter can be sufficiently removed from the table surface.

【0072】なお、ここでは図示しないが、図10と同
じように、孔17が、パレット13の搬送方向と反対側
のパレット13の側壁13aの面の側だけでなく、搬送
方向と直角な方向におけるパレット13の側壁面側13
b、13cにも設けてもよい。側壁13b、13cの半
分、それも搬送方向とは逆方向の半分側の側壁の対応し
て、あるいは側壁面側13b、13cの幅全体に亘っ
て、孔が形成されていてもよい。その場合も、側壁13
b、13cの面と、搬送方向側の孔の内壁面は、面一に
なっている。
Although not shown here, as in the case of FIG. 10, the holes 17 are formed not only on the side of the side wall 13a of the pallet 13 opposite to the conveying direction of the pallet 13 but also in the direction perpendicular to the conveying direction. Side wall surface 13 of pallet 13 in
It may also be provided in b and 13c. Holes may be formed in the half of the side walls 13b and 13c, corresponding to the side wall on the half side in the opposite direction to the transport direction, or over the entire width of the side wall surface sides 13b and 13c. Also in that case, the side wall 13
The surfaces of b and 13c are flush with the inner wall surface of the hole on the transport direction side.

【0073】さらに、パレット13の側壁面全体に亘っ
て、すなわちパレット13の周囲に亘って孔を形成する
ようにしてもよい。孔は、パレット13の搬送方向側の
パレット13の側壁面側13dにも設けられ、その場合
も、側壁13dの面と、孔の搬送方向と反対側の側壁面
は、面一になっている。
Further, holes may be formed over the entire side wall surface of the pallet 13, that is, around the pallet 13. The hole is also provided on the side wall surface side 13d of the pallet 13 on the transport direction side of the pallet 13, and in this case as well, the surface of the side wall 13d and the side wall surface on the side opposite to the transport direction of the hole are flush with each other. .

【0074】このように、パレット13の搬送方向側の
パレット13の側壁面側13dに設けられた孔には、レ
ーヨンの毛先104がパレット13の側壁13dに当た
って生じた異物が孔へ入ることになる。
As described above, foreign matter generated when the tip 104 of rayon hits the side wall 13d of the pallet 13 enters the hole in the side wall surface side 13d of the pallet 13 on the conveying direction side of the pallet 13. Become.

【0075】図12は、図8の装置構成に係る斜視図で
ある。図12において、溝19と孔25は、パレット1
3の周囲に形成されている。溝19は、パレット13の
縁に沿って、すなわちパレット13の周囲形状に沿って
形成され設けられている。溝19の幅は、異物が落ちる
にも充分な幅である。幅は、例えば、ラビングにより発
生する毛先104の繊維等の大きさ(最大長)よりも大
きな長さであることが望ましい。吸引孔25の開口部で
ある吸引口25aが、溝の底面に設けられている。な
お、吸引孔25の吸引口は、溝の底面ではなく、溝の側
壁面に設けてもよい。
FIG. 12 is a perspective view of the apparatus configuration of FIG. In FIG. 12, the groove 19 and the hole 25 correspond to the pallet 1
It is formed around 3. The groove 19 is formed and provided along the edge of the pallet 13, that is, along the peripheral shape of the pallet 13. The width of the groove 19 is wide enough for foreign matter to fall. The width is preferably larger than the size (maximum length) of the fibers or the like of the bristle tips 104 generated by rubbing. A suction port 25a, which is an opening of the suction hole 25, is provided on the bottom surface of the groove. The suction port of the suction hole 25 may be provided not on the bottom surface of the groove but on the side wall surface of the groove.

【0076】なお、ここでは図示しないが、図1、図7
と同じように、溝19と吸引孔25をパレット13の搬
送方向と反対側のパレット13の側壁13aの面の側に
のみ設けてもよい。あるいは、搬送方向と反対側のパレ
ット13の側壁13aの面側と、搬送方向と直角な方向
におけるパレット13の側壁面側13b、13cに設け
るようにしてもよい。側壁面13b、13c側に溝と孔
を設けるときは、側壁13b、13cの半分、それも搬
送方向とは逆方向の半分側の側壁の対応して、あるいは
側壁面側13b、13cの幅全体に亘って、溝と孔が形
成されていてもよい。その場合も、側壁13b、13c
の面と、搬送方向と直角方向の溝の内側の内壁面は、面
一になっている。
Although not shown here, FIG. 1 and FIG.
Similarly, the groove 19 and the suction hole 25 may be provided only on the side of the side wall 13a of the pallet 13 opposite to the conveying direction of the pallet 13. Alternatively, it may be provided on the surface side of the side wall 13a of the pallet 13 opposite to the carrying direction and on the side wall surface sides 13b and 13c of the pallet 13 in the direction perpendicular to the carrying direction. When the grooves and holes are provided on the side wall surfaces 13b and 13c, half of the side walls 13b and 13c, corresponding to the side wall on the half side opposite to the transport direction, or the entire width of the side wall surfaces 13b and 13c. Grooves and holes may be formed over the entire length. Also in that case, the side walls 13b and 13c
And the inner wall surface inside the groove in the direction perpendicular to the transport direction are flush with each other.

【0077】ここでは、溝19と吸引孔25は、パレッ
ト13の搬送方向側のパレット13の側壁面側13dに
も設けられている。その場合も、側壁13dの面と、溝
19の搬送方向と反対側の側壁面は、面一になってい
る。
Here, the groove 19 and the suction hole 25 are also provided on the side wall surface side 13d of the pallet 13 on the conveying direction side of the pallet 13. Also in this case, the surface of the side wall 13d and the side wall surface of the groove 19 on the side opposite to the conveying direction are flush with each other.

【0078】このような構成により、ラビングロール1
1が液晶基板12をラビングして発生したレーヨンの毛
先104等の異物は、液晶基板12の表面及びパレット
13の表面から溝19の中に落ち、さらに、吸引孔25
によって吸引される。よって、次の液晶基板がラビング
されるとき、テーブル18の表面に異物は残ることがな
い。
With this structure, the rubbing roll 1
The foreign matter such as the rayon hair tips 104 generated by rubbing the liquid crystal substrate 12 by 1 drops into the groove 19 from the surface of the liquid crystal substrate 12 and the surface of the pallet 13, and further the suction hole 25
Sucked by. Therefore, when the next liquid crystal substrate is rubbed, no foreign matter remains on the surface of the table 18.

【0079】図13は、図1の装置構成に係るさらに他
の例の斜視図である。図13では、液晶基板がディスク
状の場合にテーブル上に形成される溝の例を示す斜視図
である。TFT基板等の素子基板はウエハ状に形成され
るので、そのディスク状の液晶基板の場合の溝の形成例
を説明する。
FIG. 13 is a perspective view of still another example of the apparatus configuration of FIG. FIG. 13 is a perspective view showing an example of a groove formed on the table when the liquid crystal substrate has a disk shape. Since the element substrate such as the TFT substrate is formed in a wafer shape, an example of forming the groove in the case of the disk-shaped liquid crystal substrate will be described.

【0080】図13では、図1の溝15はディスク状の
液晶基板12の側壁面12aの形状に合わせて、すなわ
ち液晶基板12の縁に沿って、形成され設けられてい
る。図13において、溝15は、搬送方向に反対の方向
における液晶基板12の側壁面12aの形状に合わせて
形成された溝である。ここでは、ディスク状の液晶基板
12の円周の半分の長さ分の溝が、テーブル上に形成さ
れている。溝の幅は、異物が落ちるにも充分な幅であ
る。幅は、例えば、ラビングにより発生する毛先104
の繊維等の大きさ(最大長)よりも大きな長さであるこ
とが望ましい。
In FIG. 13, the groove 15 of FIG. 1 is formed so as to match the shape of the side wall surface 12a of the disk-shaped liquid crystal substrate 12, that is, along the edge of the liquid crystal substrate 12. In FIG. 13, the groove 15 is a groove formed according to the shape of the side wall surface 12a of the liquid crystal substrate 12 in the direction opposite to the transport direction. Here, a groove having a length half the circumference of the disk-shaped liquid crystal substrate 12 is formed on the table. The width of the groove is wide enough for foreign matter to fall. The width is, for example, the tip 104 formed by rubbing.
It is desirable that the length is larger than the size (maximum length) of the fibers or the like.

【0081】図14は、図13の装置構成に係る他の例
の斜視図である。図14は、溝15が、液晶基板12の
搬送方向と反対側の側壁12aの面の側だけでなく、搬
送方向と同じ方向における液晶基板12の側壁面側12
bにも、液晶基板12の側壁面12a、12bの周囲形
状に合わせて、すなわち液晶基板12の縁に沿って形成
され設けられている例である。側壁面12a、12bの
面と、溝15の内側の面15cは、面一になっている。
FIG. 14 is a perspective view of another example of the device configuration of FIG. In FIG. 14, the groove 15 is formed not only on the side of the side surface of the side wall 12a opposite to the transport direction of the liquid crystal substrate 12 but also on the side surface 12 of the liquid crystal substrate 12 in the same direction as the transport direction.
This is also an example in which b is also formed in conformity with the peripheral shape of the side wall surfaces 12a and 12b of the liquid crystal substrate 12, that is, along the edge of the liquid crystal substrate 12. The surfaces of the side wall surfaces 12a and 12b and the inner surface 15c of the groove 15 are flush with each other.

【0082】このような構成により、ラビングロール1
1が液晶基板12をラビングして発生したレーヨンの毛
先104等の異物は、液晶基板12の表面から溝15の
中に落ち、溝15の底面15b上に堆積する。よって、
次の液晶基板がラビングされるとき、異物は溝15の中
に堆積しているため、テーブル14の表面に異物は残る
ことがない。
With this structure, the rubbing roll 1
Foreign matter such as rayon tips 104 generated by rubbing the liquid crystal substrate 12 by 1 drops into the groove 15 from the surface of the liquid crystal substrate 12 and is deposited on the bottom surface 15b of the groove 15. Therefore,
When the next liquid crystal substrate is rubbed, the foreign matter is accumulated in the groove 15, so that the foreign matter does not remain on the surface of the table 14.

【0083】図15は、図7の装置構成に係るさらに他
の例の斜視図である。液晶基板がディスク状の場合にテ
ーブル上に形成される孔の例を示す斜視図である。
FIG. 15 is a perspective view of still another example of the apparatus configuration of FIG. It is a perspective view showing an example of a hole formed on a table when a liquid crystal substrate is disk-shaped.

【0084】図15では、図7の孔17はディスク状の
液晶基板12の側壁面の形状に合わせて、すなわち液晶
基板12の縁に沿って形成され設けられている。図15
において、孔17は、液晶基板12の側壁面の全周形状
に合わせて形成された孔の例である。なお、図13の場
合と同様に、ディスク状の液晶基板12の円周の半分の
長さ分の孔がテーブル上に形成されるようにしてもよ
い。孔の幅は、異物が落ちるにも充分な幅である。幅
は、例えば、ラビングにより発生する毛先104の繊維
等の大きさ(最大長)よりも大きな長さであることが望
ましい。液晶基板12の側壁面の面と、孔17の内周側
の内壁面の面は、面一になっている。
In FIG. 15, the holes 17 of FIG. 7 are formed so as to match the shape of the side wall surface of the disk-shaped liquid crystal substrate 12, that is, along the edge of the liquid crystal substrate 12. Figure 15
In the above, the hole 17 is an example of a hole formed in conformity with the entire peripheral shape of the side wall surface of the liquid crystal substrate 12. Note that, as in the case of FIG. 13, holes may be formed on the table for half the length of the circumference of the disk-shaped liquid crystal substrate 12. The width of the hole is wide enough for foreign matter to fall. The width is preferably larger than the size (maximum length) of the fibers or the like of the bristle tips 104 generated by rubbing. The surface of the side wall surface of the liquid crystal substrate 12 and the surface of the inner wall surface on the inner peripheral side of the hole 17 are flush with each other.

【0085】このような構成により、ラビングロール1
1が液晶基板12をラビングして発生したレーヨンの毛
先104等の異物は、液晶基板12の表面から孔17の
中に落ち、テーブル16の下面の開口部17aから落
ち、収集することもできる。よって、次の液晶基板がラ
ビングされるとき、異物は孔17から落ちているため、
テーブル16の表面に異物は残ることがない。
With this structure, the rubbing roll 1
A foreign substance such as the ray tip 104 of the rayon generated by rubbing the liquid crystal substrate 12 by 1 drops into the hole 17 from the surface of the liquid crystal substrate 12 and drops from the opening 17a on the lower surface of the table 16 and can be collected. . Therefore, when the next liquid crystal substrate is rubbed, the foreign matters fall from the holes 17,
No foreign matter remains on the surface of the table 16.

【0086】図16は、図8の装置構成に係るさらに他
の例の斜視図である。図16は、液晶基板がディスク状
の場合に溝と孔がテーブル上に形成された例を示す斜視
図である。
FIG. 16 is a perspective view of still another example of the apparatus configuration of FIG. FIG. 16 is a perspective view showing an example in which a groove and a hole are formed on a table when the liquid crystal substrate has a disk shape.

【0087】図16では、図8の溝19と孔25はディ
スク状の液晶基板12の側壁面の形状に合わせて、すな
わち液晶基板12の縁に沿って形成され設けられてい
る。図16において、溝19は、液晶基板12の側壁面
の全周形状に合わせて形成された溝の例である。なお、
図13の場合と同様に、ディスク状の液晶基板12の円
周の半分の長さ分の溝がテーブル上に形成されるように
してもよい。溝の幅は、異物が落ちるにも充分な幅であ
る。幅は、例えば、ラビングにより発生する毛先104
の繊維等の大きさ(最大長)よりも大きな長さであるこ
とが望ましい。さらに、溝19の底面19bには、孔2
5が複数設けられている。なお、吸引孔25の吸引用の
吸引口25aは、溝底面ではなく、溝の側面に設けても
よい。各孔25は、テーブル18の下面の排出口25b
から図示しない吸引手段により吸引されている。
In FIG. 16, the groove 19 and the hole 25 of FIG. 8 are provided so as to match the shape of the side wall surface of the disk-shaped liquid crystal substrate 12, that is, along the edge of the liquid crystal substrate 12. In FIG. 16, the groove 19 is an example of a groove formed in conformity with the entire peripheral shape of the side wall surface of the liquid crystal substrate 12. In addition,
As in the case of FIG. 13, a groove having a length half the circumference of the disk-shaped liquid crystal substrate 12 may be formed on the table. The width of the groove is wide enough for foreign matter to fall. The width is, for example, the tip 104 formed by rubbing.
It is desirable that the length is larger than the size (maximum length) of the fibers or the like. Further, the bottom surface 19b of the groove 19 has holes 2
A plurality of 5 are provided. The suction port 25a for suction of the suction hole 25 may be provided on the side surface of the groove instead of the bottom surface of the groove. Each hole 25 is a discharge port 25b on the lower surface of the table 18.
Is sucked by suction means (not shown).

【0088】従って、溝19の底面19bに堆積した異
物は、吸引口25aから吸引されて孔25を通り排出口
25bから排出される。なお、液晶基板12の側壁面の
面と、溝19の内周側の側壁面の面は、面一になってい
る。
Therefore, the foreign matter deposited on the bottom surface 19b of the groove 19 is sucked from the suction port 25a, passes through the hole 25, and is discharged from the discharge port 25b. The side wall surface of the liquid crystal substrate 12 and the side wall surface on the inner peripheral side of the groove 19 are flush with each other.

【0089】このような構成により、ラビングロール1
1が液晶基板12をラビングして発生したレーヨンの毛
先104等の異物は、液晶基板12の表面から溝19の
中に落ち、さらに吸引されて孔25を通り、テーブル1
8の下面の排出口25bから排出され、収集することも
できる。よって、次の液晶基板がラビングされるとき、
テーブル18の表面に異物は残ることがない。
With such a structure, the rubbing roll 1
Foreign matter such as rayon hair tips 104 generated by rubbing 1 on the liquid crystal substrate 12 falls into the groove 19 from the surface of the liquid crystal substrate 12, is further sucked and passes through the hole 25, and the table 1
It can also be discharged and collected from the discharge port 25b on the lower surface of No. 8. Therefore, when the next liquid crystal substrate is rubbed,
No foreign matter remains on the surface of the table 18.

【0090】次に第二の実施の形態につき説明する。Next, a second embodiment will be described.

【0091】第二の実施の形態は、液晶基板のラビング
時に異物を吸引する吸引手段をテーブル上に設けたもの
である。
In the second embodiment, a suction means for sucking foreign matter when rubbing the liquid crystal substrate is provided on the table.

【0092】図17は、本発明の第二の実施の形態に係
る液晶装置の製造装置の構成を示す斜視図である。ラビ
ング処理される液晶基板12は、図示しないロボットア
ーム等の搬送手段により、図17に示すようにテーブル
24上に載置され、テーブル24に、液晶基板12は真
空吸着される。図17において、テーブル24上に載置
された素子基板12の周囲に、吸引ダクト27が複数設
けられている。吸引ダクト27の吸引口27aは、素子
基板12の近傍に接近して設けられている。図示しない
吸引手段によって排出口27bから吸引されるので、異
物は、吸引口27aから吸い込まれ、排出口27bから
排出される。図18は、図17の装置の部分側面図であ
る。図18に示すように、ダクトの高さd1は、液晶基
板12の高さより低くなっている。なお、ここでは、素
子基板で説明したが、パレットに搭載された液晶基板の
場合、パレットの近傍に設けられるダクトの高さd1
は、パレット上に搭載された液晶基板の高さよりも低
い。ラビング処理中、吸引は常に行われるようにしても
よいし、あるいはラビングロールが基板あるいはパレッ
トに接触してから離れるまでの間等、必要なときに吸引
するようにしてもよい。
FIG. 17 is a perspective view showing the structure of a liquid crystal device manufacturing apparatus according to the second embodiment of the present invention. The liquid crystal substrate 12 to be rubbed is placed on a table 24 as shown in FIG. 17 by a transport means such as a robot arm (not shown), and the liquid crystal substrate 12 is vacuum-sucked to the table 24. In FIG. 17, a plurality of suction ducts 27 are provided around the element substrate 12 placed on the table 24. The suction port 27 a of the suction duct 27 is provided close to the vicinity of the element substrate 12. Since foreign matter is sucked through the discharge port 27b by a suction means (not shown), the foreign matter is sucked through the suction port 27a and discharged through the discharge port 27b. 18 is a partial side view of the device of FIG. As shown in FIG. 18, the height d1 of the duct is lower than the height of the liquid crystal substrate 12. It should be noted that here, although the description has been given with respect to the element substrate, in the case of the liquid crystal substrate mounted on the pallet, the height d1 of the duct provided in the vicinity of the pallet.
Is lower than the height of the liquid crystal substrate mounted on the pallet. Suction may be performed constantly during the rubbing process, or may be performed when necessary, such as from the time when the rubbing roll contacts the substrate or the pallet to the time when the rubbing roll leaves the substrate or pallet.

【0093】なお、吸引ダクト27の吸引口27aは、
液晶基板12の搬送方向とは反対側にのみ設けてもよ
い。さらに加えて、搬送方向と直角な方向にも吸引ダク
ト27の吸引口27aを設けるようにしてもよい。吸引
を確実にするために、吸引口27aの形状は、液晶基板
又はパレットの形状に合わせて、すなわち液晶基板又は
パレットの縁に沿って形成されて、液晶基板又はパレッ
トの近傍に設けられる。
The suction port 27a of the suction duct 27 is
The liquid crystal substrate 12 may be provided only on the side opposite to the transport direction. In addition, the suction port 27a of the suction duct 27 may be provided in the direction perpendicular to the transport direction. In order to ensure suction, the shape of the suction port 27a is formed in conformity with the shape of the liquid crystal substrate or pallet, that is, along the edge of the liquid crystal substrate or pallet, and is provided near the liquid crystal substrate or pallet.

【0094】このような構成により、ラビングロール1
1が液晶基板12をラビングして発生したレーヨンの毛
先104等の異物は、液晶基板12の表面から吸引ダク
トにより吸引される。よって、次の液晶基板がラビング
されるとき、テーブル18の表面に異物は残ることがな
く、異物は確実に排除される。
With this structure, the rubbing roll 1
The foreign matter such as the rayon tips 104 generated by rubbing the liquid crystal substrate 12 by 1 is sucked from the surface of the liquid crystal substrate 12 by the suction duct. Therefore, when the next liquid crystal substrate is rubbed, no foreign matter remains on the surface of the table 18, and the foreign matter is reliably removed.

【0095】次に第三の実施の形態につき説明する。Next, a third embodiment will be described.

【0096】第三の実施の形態は、テーブルの周囲形状
をパレットあるいは液晶基板の縁すなわち周囲形状と同
一あるいはほぼ同一に合わせ、かつテーブルの周囲に異
物を捕獲する捕獲手段を設けたものである。
In the third embodiment, the peripheral shape of the table is made to be the same as or substantially the same as the edge of the pallet or the liquid crystal substrate, that is, the peripheral shape, and a trapping means for trapping foreign matters is provided around the table. .

【0097】図19は、本発明の第三の実施の形態に係
る液晶装置の製造装置の構成を示す構成図である。図1
9において、パレット13の周囲形状に合わせて載置台
であるテーブル28の側面が形成されている。テーブル
28の側面の周囲には、上方が開いた異物捕獲用の捕獲
板が設けられている。ラビング時に発生する異物は、テ
ーブル28の周囲から落ち、捕獲板26によって捕獲さ
れ、テーブル28と捕獲板26の間の下から排出され
る。なお、捕獲板は、パレットを囲むようにテーブル2
6の全周に亘って設けてもよい。あるいは、捕獲板を、
搬送方向と反対側の側面のみに設けてもよい。さらに、
捕獲板は、搬送方向と反対側の側面と、搬送方向と直角
方向の両側側面に設けるようにしてもよい。
FIG. 19 is a block diagram showing the structure of a liquid crystal device manufacturing apparatus according to the third embodiment of the present invention. Figure 1
9, the side surface of the table 28, which is a mounting table, is formed according to the peripheral shape of the pallet 13. Around the side surface of the table 28, there is provided a trap plate for trapping foreign matter, which is open upward. Foreign matter generated during rubbing falls from the periphery of the table 28, is captured by the capture plate 26, and is discharged from below between the table 28 and the capture plate 26. In addition, the capture plate is placed on the table 2 so as to surround the pallet.
It may be provided over the entire circumference of 6. Or a capture plate,
It may be provided only on the side surface opposite to the carrying direction. further,
The capture plates may be provided on the side surface on the side opposite to the carrying direction and on the side surfaces on both sides perpendicular to the carrying direction.

【0098】図20は、本発明の第三の実施の形態に係
る液晶装置の製造装置の構成の他の例を示す構成図であ
る。図20において、パレット13の周囲形状に合わせ
て載置台であるテーブル28の側面が形成されている
が、テーブル28の上面形状は、わずかに、ここではd
3で示す分だけパレット13の形状よりも大きく形成さ
れている。d3は、ほとんどの異物がテーブル28から
落ちるようなほどのオフセット量である。その他の構成
は、図19と同じであるので、説明は省略する。
FIG. 20 is a configuration diagram showing another example of the configuration of the liquid crystal device manufacturing apparatus according to the third embodiment of the present invention. In FIG. 20, the side surface of the table 28, which is a mounting table, is formed in accordance with the peripheral shape of the pallet 13, but the shape of the upper surface of the table 28 is slightly, here, d.
It is formed larger than the shape of the pallet 13 by the amount indicated by 3. d3 is an offset amount such that most foreign matter falls off the table 28. The other configuration is the same as that of FIG. 19, and thus the description is omitted.

【0099】このような構成によれば、ラビングロール
11が液晶基板12をラビングして発生したレーヨンの
毛先104等の異物は、テーブルから落ちて、捕獲板2
6で捕獲される。よって、次の液晶基板がラビングされ
るとき、テーブル18の表面に異物は残ることがなく、
異物は確実に排除される。
With such a structure, foreign matter such as the ray tips 104 of rayon generated by rubbing the liquid crystal substrate 12 by the rubbing roll 11 falls off the table and the capturing plate 2
Captured at 6. Therefore, when the next liquid crystal substrate is rubbed, no foreign matter remains on the surface of the table 18,
Foreign matter is reliably eliminated.

【0100】なお、異物の捕獲をさらに確実なものとす
るため、図19及び図20において、捕獲板の下部から
吸引手段により吸引するようにしてもよい。ラビング処
理中、吸引は常に行われるようにしてもよいし、あるい
はラビングロールが基板あるいはパレットに接触してか
ら離れるまでの間等必要なときに、吸引してもよい。
In order to further ensure the capture of foreign matter, in FIG. 19 and FIG. 20, suction may be performed from the lower part of the capture plate by suction means. Suction may be performed constantly during the rubbing process, or may be performed when the rubbing roll comes into contact with the substrate or the pallet and is released when necessary.

【0101】このように、液晶基板又はパレットの縁す
なわち周囲形状に合わせてテーブルの側面を形成するこ
とによって、ラビング時に発生する異物が確実に捕獲さ
れる。
As described above, by forming the side surface of the table in conformity with the edge of the liquid crystal substrate or the pallet, that is, the peripheral shape, the foreign matter generated during rubbing is reliably captured.

【0102】以上、この発明の好適な実施の形態を説明
したが、現在および将来において、この発明の趣旨およ
び範囲内で種々の改良、変更を行うことができる。従っ
て、当業者によりなされる同等の改良例等も、本発明の
範囲内である。
Although the preferred embodiments of the present invention have been described above, various improvements and changes can be made within the spirit and scope of the present invention at present and in the future. Therefore, equivalent improvements made by those skilled in the art are also within the scope of the present invention.

【0103】[0103]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ラビングで発生する異物を速やかに排除して、適切なラ
ビング処理が実現できる液晶装置の製造方法および製造
装置を実現することができる。
As described above, according to the present invention,
It is possible to realize a liquid crystal device manufacturing method and a manufacturing apparatus that can appropriately remove foreign matter generated by rubbing and can realize an appropriate rubbing process.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第一の実施の形態に係る液晶装置の製
造装置の構成を示す構成図である。
FIG. 1 is a configuration diagram showing a configuration of a liquid crystal device manufacturing apparatus according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第一の実施の形態に係る液晶装置の画
素領域を構成する複数の画素における各種素子、配線等
の等価回路図である。
FIG. 2 is an equivalent circuit diagram of various elements, wirings, etc. in a plurality of pixels forming a pixel region of the liquid crystal device according to the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第一の実施の形態に係るTFT基板等
の素子基板をその上に形成された各構成要素と共に対向
基板側から見た平面図である。
FIG. 3 is a plan view of an element substrate such as a TFT substrate according to the first embodiment of the present invention, as viewed from the counter substrate side together with the respective constituent elements formed thereon.

【図4】本発明の第一の実施の形態に係る素子基板と対
向基板とを貼り合わせて液晶を封入する組立工程終了後
の液晶装置を、図3のH−H'線の位置で切断して示す
断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view of the liquid crystal device after the assembly process of bonding the element substrate and the counter substrate according to the first embodiment of the present invention to seal the liquid crystal, and cutting the liquid crystal device at the position of line HH ′ in FIG. FIG.

【図5】本発明の第一の実施の形態に係る液晶装置を詳
細に示す断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view showing in detail the liquid crystal device according to the first embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第一の実施の形態に係るパネル組立工
程を示すフローチャートである。
FIG. 6 is a flowchart showing a panel assembly process according to the first embodiment of the present invention.

【図7】本発明の第一の実施の形態に係る液晶装置の製
造装置の他の構成を示す構成図である。
FIG. 7 is a configuration diagram showing another configuration of the liquid crystal device manufacturing apparatus according to the first embodiment of the present invention.

【図8】本発明の第一の実施の形態に係る液晶装置の製
造装置のさらに他の構成を示す構成図である。
FIG. 8 is a configuration diagram showing still another configuration of the liquid crystal device manufacturing apparatus according to the first embodiment of the present invention.

【図9】図1の装置構成に係る斜視図である。1. FIG. 9 is a perspective view of the device configuration of FIG.

【図10】図1の装置構成に係る他の例の斜視図であ
る。
FIG. 10 is a perspective view of another example of the apparatus configuration of FIG.

【図11】図7の装置構成に係る斜視図である。11 is a perspective view of the device configuration of FIG. 7. FIG.

【図12】図8の装置構成に係る斜視図である。12 is a perspective view of the device configuration of FIG.

【図13】図1の装置構成に係るさらに他の例の斜視図
である。
FIG. 13 is a perspective view of still another example of the apparatus configuration of FIG.

【図14】図13の装置構成に係る他の例の斜視図であ
る。
14 is a perspective view of another example of the device configuration of FIG.

【図15】図7の装置構成に係るさらに他の例の斜視図
である。
FIG. 15 is a perspective view of still another example of the apparatus configuration of FIG.

【図16】図8の装置構成に係るさらに他の例の斜視図
である。
16 is a perspective view of still another example of the apparatus configuration of FIG.

【図17】本発明の第二の実施の形態に係る液晶装置の
製造装置の構成を示す斜視図である。
FIG. 17 is a perspective view showing a configuration of a liquid crystal device manufacturing apparatus according to a second embodiment of the present invention.

【図18】図17の装置の部分側面図である。FIG. 18 is a partial side view of the device of FIG.

【図19】本発明の第三の実施の形態に係る液晶装置の
製造装置の構成を示す構成図である。
FIG. 19 is a configuration diagram showing a configuration of a liquid crystal device manufacturing apparatus according to a third embodiment of the present invention.

【図20】本発明の第三の実施の形態に係る液晶装置の
製造装置の構成の他の例を示す構成図である。
FIG. 20 is a configuration diagram showing another example of the configuration of the liquid crystal device manufacturing apparatus according to the third embodiment of the invention.

【図21】通常のラビング装置を示す模式図である。FIG. 21 is a schematic view showing a normal rubbing device.

【図22】図21のラビング装置において、不具合を生
じた場合を説明するための図である。
22 is a diagram for explaining a case where a problem occurs in the rubbing device in FIG. 21.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11・・・ラビングロール 12・・・液晶基板 14、16、18,24,28・・・テーブル 15、19・・・溝 17・・・孔 25・・・吸引孔 25a、27a・・・吸引口 25b、27b・・・排出口 26・・・捕獲板 27・・・吸引ダクト 11 ... Rubbing roll 12 ... Liquid crystal substrate 14, 16, 18, 24, 28 ... Table 15, 19 ... Groove 17 ... hole 25 ... Suction hole 25a, 27a ... Suction port 25b, 27b ... Discharge port 26 ... Capture plate 27 ... Suction duct

Claims (14)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】液晶装置の製造方法であって、 液晶装置用の基板を搭載してラビングするテーブルに、
前記基板の縁に沿って、又は前記基板を搭載したパレッ
トの縁に沿って、溝又は孔を形成し、ラビングを行うこ
とを特徴とする液晶装置の製造方法。
1. A method of manufacturing a liquid crystal device, comprising: a table on which a substrate for the liquid crystal device is mounted and which is rubbed.
A method of manufacturing a liquid crystal device, comprising forming a groove or a hole along an edge of the substrate or along an edge of a pallet on which the substrate is mounted and performing rubbing.
【請求項2】さらに、前記溝又は前記孔あるいは前記溝
又は前記孔の近傍に吸引口を設けたことを特徴とする請
求項1に記載の液晶装置の製造方法。
2. The method of manufacturing a liquid crystal device according to claim 1, further comprising a suction port provided in the groove or the hole or in the vicinity of the groove or the hole.
【請求項3】前記溝又は前記孔は、少なくともラビング
ロールに対する前記基板の搬送方向と反対方向の側に形
成されていることを特徴とする請求項1または請求項2
に記載の液晶装置の製造方法。
3. The groove or the hole is formed at least on the side of the rubbing roll opposite to the conveying direction of the substrate.
A method for manufacturing a liquid crystal device according to item 1.
【請求項4】前記溝又は前記孔は、前記基板又は前記パ
レットの縁の全周に亘って設けられていることを特徴と
する請求項1または請求項2に記載の液晶装置の製造方
法。
4. The method of manufacturing a liquid crystal device according to claim 1, wherein the groove or the hole is provided over the entire circumference of the edge of the substrate or the pallet.
【請求項5】前記縁に沿って形成された前記溝又は前記
孔の側壁であって前記縁側に近い側の側壁の面は、前記
縁の面と面一となっていることを特徴とする請求項1な
いし請求項4のいずれかに記載の液晶装置の製造方法。
5. A surface of a side wall of the groove or the hole formed along the edge, the side wall being closer to the edge side, is flush with the edge surface. A method for manufacturing a liquid crystal device according to claim 1.
【請求項6】液晶装置の製造方法であって、 液晶装置用の基板を搭載してラビングするテーブルに、
前記基板の縁又は前記基板を搭載したパレットの縁の近
傍に、吸引口を形成し、該吸引口から吸引を行いながら
ラビングを行うことを特徴とする液晶装置の製造方法。
6. A method of manufacturing a liquid crystal device, comprising: a table on which a substrate for the liquid crystal device is mounted and which is rubbed.
A method for manufacturing a liquid crystal device, comprising forming a suction port near an edge of the substrate or near an edge of a pallet on which the substrate is mounted, and performing rubbing while performing suction from the suction port.
【請求項7】液晶装置の製造方法であって、 液晶装置用の基板を搭載してラビングするテーブルの縁
を、前記基板の縁に沿って又は前記基板を搭載したパレ
ットの縁に沿って形成し、前記テーブルの周囲に捕獲板
を設けてラビングを行うことを特徴とする液晶装置の製
造方法。
7. A method of manufacturing a liquid crystal device, wherein an edge of a table for mounting and rubbing a substrate for the liquid crystal device is formed along an edge of the substrate or an edge of a pallet on which the substrate is mounted. Then, a capture plate is provided around the table to perform rubbing, and a method for manufacturing a liquid crystal device.
【請求項8】液晶装置の製造装置であって、 液晶装置用の基板を搭載してラビングするテーブルに、
前記基板の縁に沿って、又は前記基板を搭載したパレッ
トの縁に沿って、形成された溝又は孔を有することを特
徴とする液晶装置の製造装置。
8. A liquid crystal device manufacturing apparatus, comprising: a table on which a substrate for a liquid crystal device is mounted and which is rubbed,
An apparatus for manufacturing a liquid crystal device, comprising a groove or a hole formed along an edge of the substrate or along an edge of a pallet on which the substrate is mounted.
【請求項9】さらに、前記溝又は前記孔あるいは前記溝
又は前記孔の近傍に吸引口を設けたことを特徴とする請
求項8に記載の液晶装置の製造装置。
9. The apparatus for manufacturing a liquid crystal device according to claim 8, further comprising a suction port provided in the groove or the hole or in the vicinity of the groove or the hole.
【請求項10】前記溝又は前記孔は、少なくともラビン
グロールに対する前記基板の搬送方向と反対方向の側に
形成されていることを特徴とする請求項8または請求項
9に記載の液晶装置の製造装置。
10. The manufacturing of a liquid crystal device according to claim 8, wherein the groove or the hole is formed at least on a side of the rubbing roll opposite to a conveying direction of the substrate. apparatus.
【請求項11】前記溝又は前記孔は、前記基板又は前記
パレットの縁の全周に亘って設けられていることを特徴
とする請求項8または請求項9に記載の液晶装置の製造
装置。
11. The manufacturing apparatus of a liquid crystal device according to claim 8, wherein the groove or the hole is provided over the entire circumference of the edge of the substrate or the pallet.
【請求項12】前記縁に沿って形成された前記溝又は前
記孔の側壁であって前記縁側に近い側の側壁の面は、前
記縁の面と面一となっていることを特徴とする請求項8
ないし請求項11のいずれかに記載の液晶装置の製造装
置。
12. A surface of a side wall of the groove or the hole formed along the edge, which is closer to the edge side, is flush with the edge surface. Claim 8
An apparatus for manufacturing a liquid crystal device according to claim 11.
【請求項13】液晶装置の製造装置であって、 液晶装置用の基板を搭載してラビングするテーブルに、
前記基板の縁又は前記基板を搭載したパレットの縁の近
傍に、形成された吸引口を有することを特徴とする液晶
装置の製造装置。
13. A liquid crystal device manufacturing apparatus, comprising: a table on which a substrate for a liquid crystal device is mounted and which is rubbed.
An apparatus for manufacturing a liquid crystal device, having a suction port formed near an edge of the substrate or an edge of a pallet on which the substrate is mounted.
【請求項14】液晶装置の製造装置であって、 液晶装置用の基板を搭載してラビングするテーブルの縁
は、前記基板の縁に沿って又は前記基板を搭載したパレ
ットの縁に沿って形成され、前記テーブルの周囲に設け
られた捕獲板を有することを特徴とする液晶装置の製造
装置。
14. A liquid crystal device manufacturing apparatus, wherein an edge of a table on which a substrate for a liquid crystal device is mounted and rubbed is formed along an edge of the substrate or an edge of a pallet on which the substrate is mounted. And a capture plate provided around the table, the apparatus for manufacturing a liquid crystal device.
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WO2015027657A1 (en) * 2013-09-02 2015-03-05 深圳市华星光电技术有限公司 Alignment rubbing apparatus and alignment rubbing method
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