KR101966768B1 - Cleaning apparatus for substrate - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기판 세정장치에 관한 것으로, 특히 기판으로 미세버블을 분사하여 기판을 세정하는 기판 세정장치에 관한 것이다.
본 발명의 특징은 버블젯세정장치를 기판과 평행하게 일정간격 이격하여 위치하며, 버블젯세정장치가 기판의 상부측으로부터 하부측으로 갈수록 기판의 경사면에 대응하여 길이방향의 양단의 상부면과 하부면 사이의 폭이 점차로 줄어드는 형태로 형성하며, 또한, 세정액이 토출부를 통해 미세 입자 형태로 외부로 분사되는 과정에서 미세버블이 생성되도록 하는 것이다.
이를 통해, 기판 상에 세정액이 균일하게 존재하도록 할 수 있으며, 세정액의 손실이 발생하는 것을 방지할 수 있으며, 미세한 입경의 이물을 제거하는데 매우 탁월한 미세버블을 통해 기판을 보다 효과적으로 세정할 수 있다.
또한, 기판 상에 형성된 박막의 손상이 발생하는 것을 방지할 수 있으며, 유기이물질을 세정하는 과정에서 화학적세정액과 플라즈마처리에 비해 친환경적이며, 공정비용을 절감할 수 있다.
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate cleaning apparatus, and more particularly, to a substrate cleaning apparatus for cleaning a substrate by spraying fine bubbles with the substrate.
A feature of the present invention resides in that the bubble jet cleaning apparatus is located at a predetermined distance in parallel with the substrate, and the bubble jet cleaning apparatus has an upper surface and a lower surface at both ends in the longitudinal direction corresponding to the inclined surface of the substrate, And the fine bubbles are generated in the course of spraying the cleaning liquid to the outside in the form of fine particles through the discharge portion.
As a result, the cleaning liquid can be uniformly present on the substrate, the loss of the cleaning liquid can be prevented, and the substrate can be cleaned more effectively through the fine bubbles, which are very excellent for removing fine particles.
In addition, it is possible to prevent the damage of the thin film formed on the substrate, and it is eco-friendly compared to the chemical cleaning liquid and the plasma treatment in the process of cleaning the organic foreign substances, and the process cost can be reduced.

Description

기판 세정장치{Cleaning apparatus for substrate}[0001] The present invention relates to a cleaning apparatus for substrate,
본 발명은 기판 세정장치에 관한 것으로, 특히 기판으로 미세버블을 분사하여 기판을 세정하는 기판 세정장치에 관한 것이다.
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate cleaning apparatus, and more particularly, to a substrate cleaning apparatus for cleaning a substrate by spraying fine bubbles with the substrate.
근래에 들어 사회가 본격적인 정보화 시대로 접어듦에 따라 대량의 정보를 처리 및 표시하는 디스플레이(display) 분야가 급속도로 발전해 왔고, 이에 부응하여 여러 가지 다양한 평판표시장치가 개발되어 각광받고 있다. In recent years, as the society has become a full-fledged information age, a display field for processing and displaying a large amount of information has rapidly developed, and various flat panel display devices have been developed in response to this.
이 같은 평판표시장치의 구체적인 예로는 액정표시장치(Liquid Crystal Display device : LCD), 플라즈마표시장치(Plasma Display Panel device : PDP), 전계방출표시장치(Field Emission Display device : FED), 전기발광표시장치(Electroluminescence Display device : ELD), 유기발광소자(organic light emitting diodes : OLED) 등을 들 수 있는데, 이들 평판표시장치는 박형화, 경량화, 저소비전력화의 우수한 성능을 보여 기존의 브라운관(Cathode Ray Tube : CRT)을 빠르게 대체하고 있다. Specific examples of such flat panel display devices include a liquid crystal display device (LCD), a plasma display panel (PDP), a field emission display (FED) (ELD), organic light emitting diodes (OLED), and the like. These flat panel display devices are excellent in performance of thinning, light weight, and low power consumption, and can be applied to a conventional cathode ray tube ).
한편, 이 같은 평판표시장치 제조공정에는 기판 표면에 소정물질의 박막층을 형성하는 박막증착(deposition)공정, 박막의 선택된 일부를 노출시키는 포토리소그라피(photo lithography)공정, 박막의 노출된 부분을 제거하여 목적하는 형태로 패터닝(patterning) 하는 식각(etching) 공정이 수 차례 반복 포함되며, 그 외에도 세정과 절단 등의 수많은 공정이 수반된다. Meanwhile, in such a flat panel display manufacturing process, a thin film deposition process for forming a thin film layer of a predetermined material on the substrate surface, a photolithography process for exposing a selected portion of the thin film, An etching process for patterning in a desired shape is repeated several times, and numerous processes such as cleaning and cutting are carried out.
이중 세정공정은 그 외 공정에 대한 신뢰도 향상은 물론 불량률 저감을 위해 빼놓을 수 없는 중요한 공정으로서, 평판표시장치 전체 제조공정의 30% 이상의 비중을 차지하며 특히 기판 사이즈(size)가 대면적화 되는 현 추세에 있어서 불량감소에 따른 비용절감 측면을 고려할 경우 갈수록 그 중요성을 더해 가고 있다. The double cleaning process is an important process not only for improving the reliability of other processes but also for reducing the defect rate. It occupies more than 30% of the entire manufacturing process of the flat panel display, and in particular, the present trend in which the substrate size The importance of the cost reduction is getting more and more important.
그리고 이 같은 기판 세정공정은 통상 기판이송과 동시에 진행되는 이른바 인라인(in-line) 방식을 채택하여 시간과 비용의 절감을 꾀하고 있으며, 이러한 인라인 방식은 IPA(Isopropyl Alcohol) 또는 DI(Deionized) 세정액을 기판 상에 분사하여 세정을 한다. Such an in-line cleaning method may be performed by using an IPA (Isopropyl Alcohol) or DI (Deionized) cleaning liquid, for example, an in-line cleaning method, Is sprayed onto the substrate to perform cleaning.
그러나, IPA(Isopropyl Alcohol) 또는 DI(Deionized) 세정액을 분사하여 기판 상의 이물질을 제거하는 세정공정은 기판 상의 미세이물을 제거하기에는 효과적이지 못하다. However, the cleaning process of spraying IPA (Isopropyl Alcohol) or DI (Deionized) cleaning liquid to remove foreign substances on the substrate is not effective for removing micro-objects on the substrate.
따라서, 세정되지 못한 미세이물들이 기판 상에 잔존하게 되고, 이와 같이 잔존하는 미세이물에 의해 후속 공정에 제품의 불량을 유발하게 된다.
Therefore, the uncleaned fine particles remain on the substrate, and the remaining fine particles cause defective products in the subsequent process.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 평판표시장치의 기판 세정공정의 세정력을 더욱 향상시키고자 하는 것을 목적으로 한다.
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to further improve the cleaning power of the substrate cleaning process of a flat panel display.
전술한 바와 같은 목적을 달성하기 위해, 본 발명은 기판을 기울여 이송하는 기판이송유닛과; 상기 기판 상부에 위치하며, 상기 기판과 평행하며 슬릿노즐이 형성된 하부면과, 상기 기판의 상부측에 대응하는 일단으로부터 멀어질수록 상기 하부면과 가까워지는 경사면으로 이루어지는 상부면과, 상기 하부면과 상부면을 연결하며 내부로 가압용해수가 공급되는 공급로를 정의하는 측면으로 이루어지는 버블젯세정장치를 포함하며, 상기 슬릿노즐을 통해 상기 가압용해수를 상기 기판 상에 분사하는 과정에서, 상기 슬릿노즐의 끝단에서 미세버블(micro bubble)이 생성되는 기판 세정장치를 제공한다. In order to achieve the above-mentioned object, the present invention provides a substrate processing apparatus comprising: a substrate transferring unit for transferring a substrate by tilting; An upper surface which is located on the upper surface of the substrate and which is parallel to the substrate and has a slit nozzle formed thereon and an inclined surface which is closer to the lower surface as it goes away from one end corresponding to the upper side of the substrate, And a side surface defining a supply path connecting the upper surface and supplying pressurized dissolution water to the inside of the slit nozzle, wherein in the process of spraying the pressurized dissolution water onto the substrate through the slit nozzle, And a micro bubble is generated at an end of the substrate cleaning apparatus.
이때, 상기 버블젯세정장치는 상기 기판 상부를 가로지르는 바(bar) 형상으로, 상기 가압용해수가 공급되는 상기 공급로와, 상기 가압용해수를 외부로 분사하기 위한 상기 슬릿노즐을 포함하며, 상기 일단을 통해 상기 공급로로 외부로부터 가압용해수를 공급받으며, 상기 버블젯세정장치는 상기 일단으로부터 타단으로 갈수록 상기 슬릿노즐을 통해 분사되는 상기 가압용해수의 분사량이 작아진다.
그리고, 상기 버블젯세정장치의 상기 일단의 폭과 상기 타단의 폭의 비는 0.4 ~ 0.8이며, 상기 가압용해수는 순수(DI)에 공기, N2, H2, CO2 중 적어도 하나가 용해되어 이루어진다.
At this time, the bubble jet cleaning apparatus includes a supply passage through which the pressurized dissolution water is supplied and a slit nozzle for spraying the pressurized dissolving water outward in a bar shape across the upper portion of the substrate, The bubble jet washing apparatus receives the pressurized dissolving water from the outside through the one end of the supply path, and the injection amount of the pressurized dissolution water injected through the slit nozzle decreases from the one end to the other end.
The ratio of the one end width to the other end width of the bubble jet scrubber is 0.4 to 0.8. The pressurized dissolution water dissolves at least one of air, N 2 , H 2 , and CO 2 in pure DI .
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또한, 상기 슬릿노즐은 상기 공급로로부터 상기 가압용해수를 공급받는 유입부와, 상기 가압용해수를 외부로 분사하는 상기 토출부 그리고 상기 유입부와 상기 토출부 사이에 위치하며, 상기 유입부에 비해 작은 직경을 가지며 상기 토출부를 향할수록 점차적으로 직경이 넓어지는 가압부를 포함하며, 상기 미세버블은 수 ~ 수십㎛의 사이즈를 가지며, 상기 유입부와 상기 가압부를 거쳐 상기 토출부를 통해 외부로 토출되는 과정에서, 상기 가압용해수로부터 분리된다.
The slit nozzle may further include an inlet portion for receiving the pressurized dissolving water from the supply passage, the discharge portion for spraying the pressurized dissolving water to the outside, and a discharge portion for discharging the pressurized and dissolved water to the inlet portion Wherein the fine bubbles have a size of several to several tens of micrometers and are discharged to the outside through the inflow portion and the pressurizing portion and through the discharge portion to the outside Is separated from the pressurized dissolving water.
위에 상술한 바와 같이, 본 발명에 따라 버블젯세정장치를 기판과 평행하게 일정간격 이격하여 위치하며, 버블젯세정장치가 기판의 상부측으로부터 하부측으로 갈수록 기판의 경사면에 대응하여 길이방향의 양단의 상부면과 하부면 사이의 폭이 점차로 줄어드는 형태로 형성하며, 또한, 세정액이 토출부를 통해 미세 입자 형태로 외부로 분사되는 과정에서 미세버블이 생성되도록 함으로써, 이를 통해, 기판 상에 세정액이 균일하게 존재하도록 할 수 있는 효과가 있으며, 세정액의 손실이 발생하는 것을 방지할 수 있는 효과가 있으며, 미세한 입경의 이물을 제거하는데 매우 탁월한 미세버블을 통해 기판을 보다 효과적으로 세정할 수 있는 효과가 있다.As described above, according to the present invention, the bubble jet cleaning apparatus is disposed at a predetermined distance in parallel with the substrate, and the bubble jet cleaning apparatus is arranged so as to move from the upper side to the lower side of the substrate, The width of the gap between the upper surface and the lower surface is gradually reduced and fine bubbles are generated in the course of the discharge of the cleaning liquid through the discharge portion in the form of fine particles, whereby the cleaning liquid is uniformly Therefore, it is possible to prevent the loss of the cleaning liquid, and it is possible to more effectively clean the substrate through the fine bubbles which are very excellent for removing fine particles of foreign matter.
또한, 기판 상에 형성된 박막의 손상이 발생하는 것을 방지할 수 있는 효과가 있으며, 유기이물질을 세정하는 과정에서 화학적세정액과 플라즈마처리에 비해 친환경적이며, 공정비용을 절감할 수 있는 효과가 있다.In addition, it is possible to prevent damage to a thin film formed on a substrate, and it is eco-friendly as compared with a chemical cleaning liquid and a plasma treatment in the process of cleaning an organic foreign substance, and the process cost can be reduced.
또한, 미세버블을 생성하기 위한 추가 분사노즐 등을 생략할 수 있어, 미세버블 생성량 감소 및 크기가 증가되는 문제점을 방지할 수 있는 효과가 있으며, 버블젯세정장치의 구성을 단순화할 수 있어, 공정 비용을 절감할 수 있는 효과가 있으며, 공정의 효율성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
Further, it is possible to omit the additional injection nozzle or the like for generating fine bubbles, thereby preventing the problem of the reduction of the fine bubble generation amount and the increase of the size, and the structure of the bubble jet cleaning apparatus can be simplified, There is an effect that the cost can be reduced, and the efficiency of the process can be improved.
도 1은 평판표시장치의 제조공정을 단계적으로 도시한 흐름도.
도 2는 본 발명에 따른 기판 세정공정에 따른 시스템을 간략하게 나타낸 블록도.
도 3a는 본 발명의 실시예에 다른 버블젯세정장치의 구조를 개략적으로 도시한 사시도.
도 3b는 도 3a의 단면도.
도 3c는 도 3a의 정면도.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 버블젯세정장치의 미세버블 형성을 위한 최적의 구성을 형성하기 위한 실험결과.
도 5a ~ 5d는 본 발명의 실시예에 따른 버블젯세정장치의 세정력을 측정한 실험 결과.
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 버블젯세정장치를 포함하는 버블젯 세정유닛을 개략적으로 도시한 단면도.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Fig. 1 is a flow chart showing a step of manufacturing a flat panel display device. Fig.
2 is a simplified block diagram of a system according to a substrate cleaning process in accordance with the present invention;
FIG. 3A is a perspective view schematically showing the structure of a bubble jet cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention; FIG.
FIG. 3B is a sectional view of FIG. 3A. FIG.
Figure 3c is a front view of Figure 3a.
4 is an experimental result for forming an optimal configuration for forming fine bubbles in a bubble jet cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention.
5A to 5D are experimental results of measuring the cleaning power of the bubble jet cleaning apparatus according to the embodiment of the present invention.
6 is a cross-sectional view schematically illustrating a bubble jet cleaning unit including a bubble jet cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention.
이하, 도면을 참조하여 본 발명에 따른 실시예를 상세히 설명한다. Hereinafter, embodiments according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
도 1은 평판표시장치의 제조공정을 단계적으로 도시한 흐름도로, 평판표시장치 중 콘트라스트 비(contrast ratio)가 크고 동화상 표시에 적합하며 소비전력이 적어, 노트북, 모니터, TV 등의 다양한 분야에서 활용되고 있는 액정표시장치를 일예로서 설명하도록 하겠다. FIG. 1 is a flow chart showing a process of manufacturing a flat panel display device in a stepwise manner. The flat panel display device has a high contrast ratio, is suitable for moving picture display, consumes less power, and is used in various fields such as a notebook computer, a monitor, and a TV The liquid crystal display device will be described as an example.
액정표시장치는 먼저, TFT-LCD 셀(cell) 공정(St10)을 진행하는데, 이러한 셀 공정(St10)을 통해 액정셀을 형성한다. First, the liquid crystal display device performs a TFT-LCD cell process (St10), and forms a liquid crystal cell through the cell process St10.
이에 대해 좀더 자세히 살펴보면, TFT-LCD 셀 공정(St10)은 크게 컬러필터기판과 어레이기판 형성(St11), 배향막 형성(St12), 실패턴 및 스페이서 형성(St13), 액정주입(St14), 합착(St15), 절단(St17) 그리고, 검사공정(St17)으로 이루어진다. More specifically, the TFT-LCD cell process (St10) is roughly divided into a color filter substrate and an array substrate formation (St11), an orientation film formation (St12), an actual pattern and a spacer formation (St13), a liquid crystal injection (St14) St15), cutting (St17), and inspection process (St17).
이에, TFT-LCD 셀 공정(St10)의 제 1 단계(St11)는, 컬러필터기판인 상부기판과 어레이기판인 하부기판을 각각 형성하는 단계이다. The first step St11 of the TFT-LCD cell process St10 is a step of forming the upper substrate, which is a color filter substrate, and the lower substrate, which is an array substrate, respectively.
이때, 어레이기판 내면에는 다수의 게이트라인과 데이터라인이 교차하여 화소(pixel)가 정의되고, 각각의 교차점마다 박막트랜지스터(Thin Film Transistor : TFT)가 구비되어 각 화소에 형성된 투명 화소전극과 일대일 대응 연결된다. At this time, a plurality of gate lines and data lines cross each other on the inner surface of the array substrate, pixels are defined, and a thin film transistor (TFT) is provided at each of the intersections to form a one-to-one correspondence with the transparent pixel electrodes .
그리고 컬러필터기판 내면으로는 각 화소에 대응되는 일례로 적(R), 녹(G), 청(B) 컬러의 컬러필터(color filter) 및 이들 각각을 두르며 게이트라인과 데이터라인 그리고 박막트랜지스터 등의 비표시요소를 가리는 블랙매트릭스(black matrix)가 구비되고, 이들을 덮는 투명 공통전극이 구비된다. On the inner surface of the color filter substrate, a color filter of red (R), green (G), and blue (B) colors corresponding to each pixel and a color filter And a transparent common electrode covering the non-display elements are provided on a black matrix.
제 2 단계(St12)는, 컬러필터기판과 어레이기판 상에 배향막을 형성하는 단계이며, 배향막의 도포 및 경화 그리고, 러빙(rubbing)처리 공정이 포함된다. The second step St12 is a step of forming an alignment film on the color filter substrate and the array substrate, and includes a process of applying and curing an alignment film and a rubbing process.
제 3 단계(St13)는, 컬러필터기판과 어레이기판 사이에 개재될 액정이 새지 않도록 실패턴을 인쇄하고, 컬러필터기판과 어레이기판 사이의 갭을 정밀하고 균일하게 유지하기 위해 일정한 크기의 스페이서를 산포하는 공정이다. In the third step St13, a seal pattern is printed so that the liquid crystal interposed between the color filter substrate and the array substrate is not leaked, and spacers having a constant size are formed in order to precisely and uniformly maintain the gap between the color filter substrate and the array substrate. It is the process of scattering.
TFT-LCD 셀 공정(St10)의 제 4 단계(St14)는, 양 기판 중 선택된 한 기판 상에 액정을 적하하는 단계이며, 제 5 단계(St15)는, 컬러필터기판과 어레이기판의 합착공정 단계이며 이후, 기판을 셀 단위로 절단하는 제 6 단계(St16)를 진행한다. The fourth step St14 of the TFT-LCD cell process St10 is a step of dropping liquid crystal onto a selected one of the substrates, and the fifth step St15 is a step of bonding the color filter substrate and the array substrate , And then proceeds to a sixth step (St16) of cutting the substrate on a cell-by-cell basis.
마지막으로 TFT-LCD 셀 공정(St10)의 제 7 단계(St17)는 액정셀의 검사 공정이다. 검사 공정을 거쳐 양질의 액정셀을 선별하게 된다. Finally, the seventh step (St17) of the TFT-LCD cell process (St10) is an inspection process of the liquid crystal cell. Quality liquid crystal cell is selected through an inspection process.
이로써, TFT-LCD 셀(cell) 공정(St10)이 완료되며, 액정셀을 완성하게 된다. As a result, the TFT-LCD cell process (St10) is completed and the liquid crystal cell is completed.
다음으로, 완성된 액정셀의 어레이기판 및 컬러필터기판의 각 외측으로 편광판을 부착하는 편광판 부착공정(St20)을 진행하는데, 편광판은 액정셀을 중심으로 양면에서 광원을 직선광으로 바꿔주는 역할을 한다. Next, the polarizing plate attaching step (St20) for attaching the polarizing plate to each outer side of the array substrate and the color filter substrate of the completed liquid crystal cell is performed. The polarizing plate plays a role of converting the light source into linear light from both surfaces around the liquid crystal cell do.
그리고, 다음으로 구동회로 부착공정(St30)을 진행하는데, 구동회로는 액정셀의 어레이기판과 전기적 신호를 연결하는 구동회로를 테이프 캐리어 패키지(Tape carrier package : TCP) 상에 직접 실장하는 TAB방식으로, 액정셀에 부착한다. Next, the driving circuit attaching step (St30) is performed. The driving circuit is a TAB method in which a driving circuit for connecting an array substrate of the liquid crystal cell and an electric signal is directly mounted on a tape carrier package (TCP) , And adhere to the liquid crystal cell.
이로써, 실제 구동 가능한 액정패널을 완성하게 된다. Thus, a liquid crystal panel that can actually be driven is completed.
이 같은 구동회로는 액정패널의 게이트라인으로 박막트랜지스터의 온/오프(on/off) 신호를 스캔 전달하는 게이트구동회로 그리고 데이터라인으로 프레임별 화상신호를 전달하는 데이터구동회로로 구분되어 액정패널의 서로 인접한 두 가장자리로 위치될 수 있다. Such a driving circuit is divided into a gate driving circuit that scans on / off signals of a thin film transistor as a gate line of a liquid crystal panel, and a data driving circuit that transfers image signals per frame as a data line. Can be located at two adjacent edges.
이에 상술한 구조의 액정패널은 스캔 전달되는 게이트구동회로의 온/오프(on/off) 신호에 의해 각 게이트라인 별로 선택된 박막트랜지스터가 온(on) 되면 데이터구동회로의 신호전압이 데이터라인을 통해서 해당 화소전극으로 전달되고, 이에 따른 화소전극과 공통전극 사이의 전기장에 의해 액정분자의 배열방향이 변화되어 투과율 차이를 나타낸다. In the liquid crystal panel having the structure described above, when the selected thin film transistor is turned on for each gate line by the on / off signal of the gate driving circuit to be scanned, the signal voltage of the data driving circuit flows through the data line And the alignment direction of the liquid crystal molecules is changed by the electric field between the pixel electrode and the common electrode.
다음은 셀 테스트 공정(St40)으로, 셀 테스트 공정은 구동회로까지 부착된 하나의 액정패널이 완성되면 이를 완전히 구동하여 디스플레이 가능한지를 검사한다. Next, a cell test process (St40) is performed. In the cell test process, when one liquid crystal panel attached to the driving circuit is completed, it is fully driven to inspect whether it can be displayed.
이러한 검사 공정을 거쳐 양질의 액정패널을 선별하게 된다. Through this inspection process, a good quality liquid crystal panel is selected.
다음은 백라이트 유닛 조립 및 케이스 조립공정(St50)으로, 백라이트 유닛 조립공정은 액정패널 하면에 광원과, 광원을 가이드 하는 광원가이드와, 광원으로부터 입사된 빛을 액정패널 방향으로 진행하게 하는 도광판 및 다수의 광학시트를 포함한다. The backlight unit assembling process includes a light source on the bottom surface of the liquid crystal panel, a light source guide for guiding the light source, a light guide plate for advancing the light incident from the light source toward the liquid crystal panel, Of the optical sheet.
또는, 이상의 설명에 있어서 도광판을 사용하는 에지(edge)형 방식에 대해 설명하였지만, 도광판을 생략한 상태로 다수개의 광원을 액정패널 하부에 나란하게 배열하는 직하(direct)형도 가능하다. Alternatively, an edge type using a light guide plate has been described in the above description. However, a direct type in which a plurality of light sources are arranged in parallel under the liquid crystal panel in a state in which the light guide plate is omitted may be used.
백라이트 유닛 조립공정 후 케이스 조립을 한다. 케이스 조립은 탑커버과 서포트메인 그리고 커버버툼을 통해 모듈화 되는데, 탑커버는 액정패널의 상면 및 측면 가장자리를 덮도록 단면이"ㄱ"형태로 절곡된 사각테 형상으로, 탑커버의 전면을 개구하여 액정패널에서 구현되는 화상을 표시하도록 구성한다. The case is assembled after the backlight unit assembling process. The case assembly is modularized through a top cover, a support main, and a cover bottom. The top cover is a rectangular frame having a "B" cross section so as to cover the top and side edges of the liquid crystal panel. And displays an image implemented in the panel.
또한, 액정패널 및 백라이트 유닛이 안착하여 액정표시장치모듈 전체 기구물 조립에 기초가 되는 커버버툼은 사각모양의 하나의 판 형상으로 이의 네 가장자리를 소정높이 수직 절곡하여 구성한다. In addition, the cover bottom on which the liquid crystal panel and the backlight unit are mounted and which is the basis for assembling the entire structure of the liquid crystal display device module is formed into a rectangular plate shape and its four edges are vertically bent at a predetermined height.
또한, 이러한 커버버툼 상에 안착되며 액정패널 및 백라이트 유닛의 가장자리를 두르는 서포트메인이 탑커버 및 커버버툼과 조립 체결되어 액정표시장치모듈을 완성한다. Also, a support main body, which is placed on the cover bottom and covers the edges of the liquid crystal panel and the backlight unit, is assembled with the top cover and the cover bottom to complete a liquid crystal display module.
한편, 전술한 바와 같이 본 발명의 액정표시장치는 액정패널을 구성하는 컬러필터기판과 어레이기판은 다수의 기계적, 화학적 처리공정을 수반하므로, 각 공정 이후 표면을 세정하는 세정공정이 필수적으로 뒤따른다. On the other hand, as described above, in the liquid crystal display device of the present invention, since the color filter substrate and the array substrate constituting the liquid crystal panel involve many mechanical and chemical processing steps, a cleaning process for cleaning the surface after each step is essential .
도 2는 본 발명에 따른 기판 세정공정에 따른 시스템을 간략하게 나타낸 블록도이다. 2 is a block diagram briefly showing a system according to a substrate cleaning process according to the present invention.
도시한 바와 같이, 기판 세정시스템은 각각 다른 원리로 세정을 수행하는 다수의 세정유닛이 처리대상물인 기판(111)의 이동경로를 따라 늘어선 인라인(in-line) 방식 형태로 이루어지며, 세정하기 위한 기판(111)은 처음의 로더(110a)로부터 오존(ozone) 세정유닛(112), 브러쉬(brush) 세정유닛(114), 버블젯(bubble jet) 세정유닛(200) 그리고, 소정각도로 회전시키기 위한 상, 하류컨베이어(118), 린싱 세정유닛(120), 드라이(dry) 세정유닛(122)을 차례로 경유한 후 언로더(110b)에 도달된다. As shown in the figure, the substrate cleaning system includes a plurality of cleaning units, each of which performs cleaning on a different principle, in an in-line manner aligned along the movement path of the substrate 111 to be treated, The substrate 111 is transferred from the initial loader 110a to an ozone cleaning unit 112, a brush cleaning unit 114, a bubble jet cleaning unit 200, And then reaches the unloader 110b after passing through the upstream and downstream conveyors 118, the rinse cleaning unit 120 and the dry cleaning unit 122 in order.
각각을 좀더 구체적으로 살펴보면, 먼저 로더(110a)에는 세정을 위한 복수의 기판(111)이 수납된 카세트(cassette)가 놓여지게 되고, 이러한 카세트 내의 기판(111)은 인컨베이어(미도시)에서 본 발명에 따른 세정시스템으로 적재되어 이동한다. First, a cassette containing a plurality of substrates 111 for cleaning is placed on the loader 110a, and the substrate 111 in the cassette is conveyed to a conveyor (not shown) And is loaded and moved by the cleaning system according to the invention.
다음으로 기판(111)은 로더(110a)를 통해 세정시스템 내의 트랙(track)으로 진입되고, 이후 오존 세정유닛(112)에서 기판(111) 상에 엑시머레이저(excimer laser) 등을 통한 자외선(UV)을 조사해서 잔류 유기물 등의 불순물을 1차 세정한다. Subsequently, the substrate 111 enters the track in the cleaning system through the loader 110a and then is irradiated with ultraviolet rays UV (UV) through an excimer laser or the like on the substrate 111 in the ozone cleaning unit 112 ) To clean impurities such as residual organic matter first.
다음으로, 브러쉬 세정유닛(114)을 통해 회전하는 롤 브러쉬(roll brush)로 기판(111) 표면의 청결도를 향상시키는데, 브러쉬 세정유닛(114)은 1차 세정 후에도 남아 있는 기판(111) 상의 오염 물질을 롤 브러쉬를 이용하여 털어내어, 기판(111) 상의 이물질을 2차 세정한 뒤, 버블젯 세정유닛(200)을 통해 기판(111) 표면에 세정액을 분사하여 이물질을 3차 세정하게 된다. Next, the cleaning of the surface of the substrate 111 is improved by a roll brush rotating through the brush cleaning unit 114. The brush cleaning unit 114 is used for cleaning the remaining substrate 111 The material is poured off using a roll brush to secondarily clean the foreign matter on the substrate 111 and spray the cleaning liquid on the surface of the substrate 111 through the bubble jet cleaning unit 200 to clean the foreign matter thirdly.
이때, 본 발명의 기판 세정시스템은 버블젯 세정유닛(200)을 통해 미세버블을 기판(111) 표면에 균일하게 분사하여, 기판(111)을 보다 효과적으로 세정할 수 있으며, 때론 오존 세정유닛(112) 대체로도 적용이 가능하다.At this time, the substrate cleaning system of the present invention can more effectively clean the substrate 111 by uniformly spraying the fine bubbles to the surface of the substrate 111 through the bubble jet cleaning unit 200, and the ozone cleaning unit 112 ) Can be applied in general.
이는 버블젯 세정유닛(200)에 구비되는 버블젯세정장치(210, 도 3a 참조)의 길이방향의 양단의 두께가 다르게 형성하여, 기판(111) 상에 미세버블과 세정액을 균일하게 분사할 수 있으며, 버블젯세정장치(210, 도 3a 참조)에서 세정액이 외부로 분사되는 순간 미세버블을 발생시킴으로써 미세버블을 기판(111) 상에 균일하게 분사할 수 있기 때문이다. 이에 대해 차후 좀더 자세히 살펴보도록 하겠다. This is because the thicknesses of both ends in the longitudinal direction of the bubble jet cleaning apparatus 210 (see FIG. 3A) provided in the bubble jet cleaning unit 200 are different from each other so that fine bubbles and cleaning liquid can be uniformly sprayed on the substrate 111 This is because fine bubbles can be uniformly jetted onto the substrate 111 by generating fine bubbles at the moment the cleaning liquid is ejected from the bubble jet cleaning apparatus 210 (see FIG. 3A). Let me take a closer look at this later.
3차 세정이 끝난 기판은 린싱 세정유닛(120)을 통해 기판(111) 표면에 순수(Deionized Water : DI) 등의 세정액을 분사하여 최종적인 세정을 진행하고, 드라이 세정유닛(122)에서는 기판(111)의 상,하단에서 기판(111)을 향해 각각 고압의 CDA(Clean Dry Air)를 분사하는 에어나이프가 마련되어 이를 통해 기판(111) 앞 뒷면의 잔류수분을 제거하게 된다. The third cleaned substrate is subjected to final cleaning by spraying a cleaning liquid such as DI (Deionized Water) on the surface of the substrate 111 through the rinsing cleaning unit 120. In the dry cleaning unit 122, 111 are provided with air knives for spraying high-pressure clean dry air (CDA) from the upper and lower ends of the substrate 111 toward the substrate 111, thereby removing residual moisture on the front and rear surfaces of the substrate 111.
이후 본 발명에 따른 세정시스템을 거친 기판(111)은 언로더(110b)로 하역되어, 대기 중인 별도의 카세트에 수납한다. Thereafter, the substrate 111 having passed through the cleaning system according to the present invention is unloaded by the unloader 110b and stored in a separate cassette waiting.
도 3a는 본 발명의 실시예에 다른 버블젯세정장치의 구조를 개략적으로 도시한 사시도이며, 도 3b는 도 3a의 단면도이며, 도 3c는 도 3a의 정면도이다. FIG. 3A is a perspective view schematically showing the structure of a bubble jet cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 3B is a sectional view of FIG. 3A, and FIG. 3C is a front view of FIG.
여기서, 도 4는 본 발명의 실시예에 따른 버블젯세정장치의 미세버블 형성을 위한 최적의 구성을 형성하기 위한 실험결과이며, 도 5a ~ 5d는 본 발명의 실시예에 따른 버블젯세정장치의 세정력을 측정한 실험 결과이다. 4A and 4B are experimental results for forming an optimum configuration for forming a fine bubble in the bubble jet cleaning apparatus according to the embodiment of the present invention. This is the experimental result of measuring the washing power.
도시한 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 버블젯세정장치(210)는 처리대상물인 기판(도 2의 111)에 대응되는 길이를 가지고 기판(도 2의 111) 상부를 가로지르는 바(bar) 형상으로, 세정액(310)이 공급되는 공급로(221)와, 공급로(221)를 통해 공급되는 세정액(310)을 외부로 분사하기 위한 슬릿형상의 토출부(226)가 구성된 슬릿노즐(slit nozzle : 220)을 포함한다.2, the bubble jet cleaning apparatus 210 according to the embodiment of the present invention includes a bar (not shown) having a length corresponding to the substrate (111 in FIG. 2) Shaped slit nozzle 226 for discharging the cleaning liquid 310 supplied through the supply path 221 to the outside is formed in the shape of a slit nozzle slit nozzle 220).
여기서, 공급로(221)는 버블젯세정장치(210)의 일단으로부터 외부에 위치하는 세정액(310)을 저장 및 공급하는 저장부(미도시)로부터 세정액(310)을 공급받는다.
이때, 저장부(미도시)에 저장된 세정액(310)은 기체가 용해된 가압용해수로, 순수(DI)에 공기, N2, H2, CO2 중 적어도 하나가 용해되어 이루어질 수 있다.
Here, the supply path 221 receives the cleaning liquid 310 from a storage unit (not shown) that stores and supplies the cleaning liquid 310 located outside from one end of the bubble jet cleaning apparatus 210.
At this time, the cleaning liquid 310 stored in the storage unit (not shown) is pressurized dissolution water in which gas is dissolved, and at least one of air, N 2 , H 2 , and CO 2 is dissolved in pure DI.
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여기서, 본 발명의 실시예에 따른 버블젯세정장치(210)는 슬릿노즐(220)이 형성된 하부면(213)과, 이에 대응되는 상부면(211) 그리고 하부면(213)과 상부면(211)을 연결하며 내부로 세정액(310)이 공급되는 공급로(221)를 정의하는 측면(215)으로 이루어진다. The bubble jet cleaner 210 according to the embodiment of the present invention includes a lower surface 213 on which the slit nozzle 220 is formed and an upper surface 211 and a lower surface 213 corresponding to the lower surface 213, And a side surface 215 defining a supply path 221 through which the cleaning liquid 310 is supplied.
이때, 버블젯세정장치(210)의 하부면(213)은 기판(도 2의 111)과 평행하게 형성되나, 상부면(211)은 저장부(미도시)와 공급로(221)가 연결된 일단으로부터 멀어질수록 점차 하부면(213)과 가까워지는 경사면을 이룬다. The lower surface 213 of the bubble jet cleaner 210 is formed in parallel with the substrate 111. The upper surface 211 of the bubble jet cleaner 210 is connected to a storage portion So that the lower surface 213 gradually becomes closer to the inclined surface.
따라서, 버블젯세정장치(210)는 길이방향의 저장부(미도시)와 공급로(221)가 연결된 일단으로부터 상부면(211)과 하부면(213) 사이의 폭(d1, d2)이 점차적으로 줄어드는 형태로 이루어진다. Therefore, the bubble jet cleaning apparatus 210 is configured such that the widths d1 and d2 between the upper surface 211 and the lower surface 213 from one end where the storage portion (not shown) .
이를 통해, 공급로(221)의 사이즈 또한 저장부(미도시)와 공급로(221)가 연결된 일단으로부터 점차적으로 줄어드는 형태로 이루어져, 슬릿노즐(220)을 통해 외부로 세정액(310)을 분사하는 과정에서 세정액(310)은 버블젯세정장치(210)의 길이방향을 따라 분사량이 다르게 분사된다. The size of the supply path 221 is gradually reduced from one end connected to the storage unit (not shown) and the supply path 221, and the cleaning liquid 310 is sprayed to the outside through the slit nozzle 220 The cleaning liquid 310 is injected with a different injection quantity along the longitudinal direction of the bubble jet cleaner 210.
즉, 공급로(221)의 사이즈가 큰 버블젯세정장치(210)의 일단에서 분사되는 세정액(310)의 분사량에 비해 버블젯세정장치(210)의 타단으로 갈수록 분사되는 세정액(310)의 분사량이 점차 작아지는 것이다. That is, the amount of spraying of the cleaning liquid 310, which is injected toward the other end of the bubble jet cleaning apparatus 210, is smaller than the spray amount of the cleaning liquid 310 sprayed from one end of the bubble jet cleaning apparatus 210, Is gradually becoming smaller.
이는, 기판이송유닛(도 6의 400) 상에 슬라이딩 이동되는 기판(도 2의 111) 상에 분사되는 세정액(310)이 기판(도 2의 111) 밖으로 자연스럽게 흘러내리도록 기판(도 2의 111)이 기울어져 이송되는 과정에서, 기판(도 2의 111)의 상부측에서 하부측으로 흐르는 세정액(310)에 의해 기판(도 2의 111)의 하부측에서는 많은 양의 세정액(310)이 존재하게 되므로, 이의 하부측으로는 상부측으로 분사되는 세정액(310)에 비해 적은 양의 세정액(310)이 분사되도록 하기 위함이다. 2) so that the cleaning liquid 310 sprayed onto the substrate (111 in FIG. 2) sliding on the substrate transfer unit (400 in FIG. 6) flows smoothly out of the substrate (111 in FIG. 2) The cleaning liquid 310 flowing from the upper side to the lower side of the substrate (111 in FIG. 2) has a large amount of the cleaning liquid 310 on the lower side of the substrate (111 in FIG. 2) And a smaller amount of the cleaning liquid 310 is sprayed on the lower side than the cleaning liquid 310 injected to the upper side.
이를 통해, 기판(도 2의 111) 상에는 세정액(310)의 양이 고르게 분배되게 되므로, 기판(도 2의 111)을 전체적으로 균일하게 세정할 수 있다. Thus, the amount of the cleaning liquid 310 is uniformly distributed on the substrate (111 in FIG. 2), so that the substrate (111 in FIG. 2) can be uniformly cleaned as a whole.
그리고, 본 발명의 실시예에 따른 버블젯세정장치(210)는 슬릿노즐(220)을 통해 세정액(310)이 분사되는 순간 미세버블(micro bubble : 320)이 발생되어, 기판(도 2의 111) 상으로는 세정액(310)과 함께 미세버블(320)이 분사되게 된다. In the bubble jet cleaning apparatus 210 according to the embodiment of the present invention, minute bubbles 320 are generated at the moment the cleaning liquid 310 is sprayed through the slit nozzle 220, The fine bubbles 320 are sprayed together with the cleaning liquid 310. As shown in FIG.
여기서, 슬릿노즐(220)은 공급로(221)부터 세정액(310)을 공급받는 유입부(223)와, 유입부(223)에 비해 작은 직경을 가지며 토출부(226)를 향할수록 점차적으로 직경이 넓어지는 가압부(225) 그리고 세정액(310)을 외부로 분사하는 토출부(226)로 이루어진다. The slit nozzle 220 has an inlet 223 for receiving the cleaning liquid 310 from the supply path 221 and a diameter smaller than the diameter of the inlet 223 and gradually increasing in diameter toward the outlet 226 And a discharging portion 226 for discharging the cleaning liquid 310 to the outside.
가압부(225)는 세정액(310)의 유속을 변화시키게 되며, 가압부(225)로부터 점차 직경이 넓어지는 토출부(226)를 통해 세정액(310)을 외부로 확산시켜 기판(도 2의 111) 상에 균일하게 분사되도록 한다. The pressurizing portion 225 changes the flow rate of the cleaning liquid 310 and diffuses the cleaning liquid 310 outward through the discharge portion 226 whose diameter gradually widens from the pressing portion 225, ). ≪ / RTI >
이러한 스프레이 방식의 슬릿노즐(220)은 일반적인 분무기를 생각하면 되는데 즉, 저장부(미도시)에 저장된 세정액(310)은 소정의 압력에 의해 공급로(221)를 통해 슬릿노즐(220)의 유입부(223)로 압송되게 되고, 유입부(223)로 압송된 세정액(310)은 가압부(225)를 거쳐 토출부(226)를 통해 외부로 분사되는 과정에서 미세 입자 형태로 변환되어 외부로 분사되게 된다.The cleaning liquid 310 stored in the storage unit (not shown) may be introduced into the slit nozzle 220 through the supply path 221 by a predetermined pressure, And the cleaning liquid 310 that has been sent to the inlet 223 is converted into fine particles in the process of being sprayed to the outside through the outlet 226 through the pressing portion 225, .
특히, 본 발명의 버블젯세정장치(210)는 세정액(310)이 토출부(226)를 통해 미세 입자 형태로 외부로 분사되는 과정에서, 미세버블(320)이 생성되게 된다. Particularly, in the bubble jet cleaning apparatus 210 of the present invention, the fine bubbles 320 are generated in the process of spraying the cleaning liquid 310 outward in the form of fine particles through the discharge portion 226.
즉, 공급로(221)를 통해 슬릿노즐(220)의 유입부(223)로 압송된 세정액(310)은 유입부(223)에 비해 직경이 작은 가압부(225)로 압송되는 과정에서, 많은 압력을 받게 된다. In other words, the cleaning liquid 310, which is fed to the inlet 223 of the slit nozzle 220 through the supply path 221, is pressed and fed by the pressing unit 225 having a smaller diameter than the inlet 223, Pressure.
그리고, 가압부(225)로 압송된 세정액(310)은, 토출부(226)를 향할수록 점차적으로 직경이 넓어지는 가압부(225)를 통해 유입부(223)로부터 가압부(225)로 압송되는 과정에서 받은 압력이 점차 작아지게 되고, 이를 통해 부피가 급격하게 팽창하게 된다. The cleaning liquid 310 that has been pressed and fed by the pressurizing unit 225 is fed from the inlet 223 to the pressurizing unit 225 through the pressurizing unit 225 whose diameter gradually increases toward the discharging unit 226, The pressure received in the process becomes gradually smaller, which causes the volume to swell rapidly.
이렇게 압력이 작아지고 부피가 급격하게 팽창된 세정액(310)은 토출부(226)를 통해 외부로 토출되는 과정에서 세정액(310)에 용해되어 있던 기체가 세정액(310)으로부터 분리되어 미세버블(320)이 생성되게 되는 것이다.As the pressure of the cleaning liquid 310 is reduced and the volume of the cleaning liquid 310 rapidly expands, the gas dissolved in the cleaning liquid 310 is separated from the cleaning liquid 310 during the discharge of the cleaning liquid 310 through the discharge portion 226, ) Is generated.
이때, 본 발명의 실시예에 따른 버블젯세정장치(210)로부터 생성되는 미세버블(320)은 수 ~ 수십㎛의 사이즈를 가지며, 이러한 미세버블(320)은 팽창/소멸에 따른 충격으로 기판(도 2의 111) 표면의 이물질을 세정하게 되며, 그 입경이 작기 때문에 보다 미세한 입경의 이물을 제거하는데 매우 탁월한 효과를 나타낸다. At this time, the fine bubbles 320 generated from the bubble jet cleaning apparatus 210 according to the embodiment of the present invention have a size of several to several tens of micrometers, and the fine bubbles 320 are deformed by the impact due to the expansion / 111) surface of FIG. 2). Since the particle diameter is small, it is very effective in removing foreign matter having a smaller particle diameter.
이러한 미세버블(320)은 보통의 세정수를 분사하는 세정공정에 비해 그 세정효율이 매우 우수하다. Such fine bubbles 320 are excellent in cleaning efficiency compared with a cleaning process for spraying normal cleaning water.
또한, 이러한 미세버블(320)은 팽창/소멸에 따른 충격으로 기판(도 2의 111) 표면의 이물질을 세정하게 되므로, 세정액(310) 만으로 미세이물을 제거하기 위하여 세정액(310)의 분사압력을 높이지 않아도 됨으로써, 세정액(310)을 강하게 분사하여 분사압에 따른 충격으로 기판(도 2의 111) 표면의 이물질을 세정하는 경우에 비해 기판(도 2의 111) 상에 형성된 박막의 손상이 발생하는 것을 방지할 수 있다.  The micro bubbles 320 are used to clean the foreign substances on the surface of the substrate 111 of FIG. 2 by the impact caused by expansion / extinction. Therefore, in order to remove fine particles only with the cleaning liquid 310, 2), the damage of the thin film formed on the substrate (111 in FIG. 2) is more likely to occur than when the foreign substance on the surface of the substrate (111 in FIG. 2) is cleaned by the impact according to the injection pressure by strongly spraying the cleaning liquid 310 Can be prevented.
일예로 기판(도 2의 111) 상에 러빙축이 형성된 배향막이 형성되어 있으며, 배향막 상부의 미세이물을 제거하고자, 높은 압력으로 세정액(310)을 분사할 경우, 기판(도 2의 111) 상의 미세이물은 제거될 지라도 배향막의 러빙축을 변동시키게 됨으로써, 콘트라스트 특성을 저하시키게 된다. For example, when an alignment film having a rubbing axis formed on a substrate (111 in FIG. 2) is formed and a cleaning liquid 310 is ejected at a high pressure in order to remove minute substances on the alignment film, Even if the fine particles are removed, the rubbing axis of the alignment layer fluctuates, thereby deteriorating the contrast characteristic.
그러나, 본 발명의 실시예에 따른 버블젯세정장치(210)는 보통의 세정액(310)을 분사하는 세정공정에 비해 그 세정효율이 매우 우수한 미세버블(320)을 사용하여 기판(도 2의 111) 상의 미세이물을 제거함으로써, 위와 같은 문제점이 발생하는 것을 방지할 수 있는 것이다. However, in the bubble jet cleaning apparatus 210 according to the embodiment of the present invention, the fine bubbles 320 having a cleaning efficiency higher than that of the cleaning process for spraying the normal cleaning liquid 310 can be used, It is possible to prevent the above-described problems from occurring.
특히, 미세버블(320)을 세정액(310)이 버블젯세정장치(210)의 토출부(226)를 통해 미세 입자 형태로 외부로 분사되는 과정에서 생성함으로써, 기판(도 2의 111) 상에 미세버블(320)이 균일하게 분사되도록 할 수 있다. Particularly, the fine bubbles 320 are formed on the substrate (111 in FIG. 2) by generating the cleaning liquid 310 in the process of being blown out in the form of fine particles through the discharge portion 226 of the bubble jet cleaning device 210, The fine bubbles 320 can be uniformly injected.
이와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 버블젯세정장치(310)는 미세 입자 형태로 세정액(310)을 기판(도 2의 111) 상에 균일하게 분사할 수 있으며, 또한 미세버블(320)을 통해 기판(도 2의 111) 표면의 이물질을 세정함으로써, 기판(도 2의 111)을 보다 효과적으로 세정할 수 있다.As described above, the bubble jet cleaning apparatus 310 according to the embodiment of the present invention can uniformly spray the cleaning liquid 310 on the substrate (111 in FIG. 2) in the form of fine particles, The substrate (111 in Fig. 2) can be cleaned more effectively by cleaning foreign matters on the surface of the substrate (111 in Fig. 2).
여기서, 도 4를 참조하면 기판(도 2의 111)의 상부측에 대응하는 버블젯세정장치(210)의 저장부(미도시)와 공급로(221)가 연결된 일단의 상부면(211)과 하부면(213) 사이의 폭(d1)과 이의 타단의 상부면(211)과 하부면(213) 사이의 폭(d2)의 비(d2/d1)는 0.4 ~ 0.8를 갖도록 형성하는 것이 바람직하다. Referring to FIG. 4, the upper surface 211 of the bubble jet cleaner 210 corresponding to the upper side of the substrate (111 in FIG. 2) is connected to a storage space (not shown) The ratio d2 / d1 of the width d1 between the lower surfaces 213 and the width d2 between the upper surface 211 and the lower surface 213 of the other end is preferably 0.4 to 0.8 .
이는 버블젯세정장치(210)의 저장부(미도시)와 공급로(221)가 연결된 일단의 상부면(211)과 하부면(213) 사이의 폭(d1)과 이의 타단의 상부면(211)과 하부면(213) 사이의 폭(d2)의 비(d2/d1)를 0.4 ~ 0.8을 갖도록 형성함으로써, 버블젯세정장치(210)의 길이방향의 길이(L)가 어떠한 길이를 갖더라도, 미세버블(320)의 생성량이 80% 이상을 갖도록 구현할 수 있기 때문이다.This is because the width d1 between the upper surface 211 and the lower surface 213 of one end of the bubble jet scrubber 210 and the supply path 221 connected thereto and the upper surface 211 The ratio d2 / d1 of the width d2 between the lower surface 213 and the lower surface 213 is set to be 0.4 to 0.8 so that the length L in the longitudinal direction of the bubble jet cleaner 210 , And the amount of the fine bubbles 320 to be generated is 80% or more.
도 5a ~ 5b는 본 발명의 실시예에 따른 버블젯세정장치(210)의 세정력을 측정한 실험 결과로, 도 5a의 그래프를 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 버블젯세정장치(210)의 미세버블(320)을 통해 기판(도 2의 111) 표면의 이물질을 세정할 경우, 세정액(310) 만을 이용하여 기판(도 2의 111) 표면의 이물질을 세정하는 경우에 비해 세정력이 매우 탁월한 것을 확인할 수 있다. 5A and 5B are graphs showing the results of an experiment for measuring the cleaning power of the bubble jet cleaning apparatus 210 according to the embodiment of the present invention. Referring to the graph of FIG. 5A, the bubble jet cleaning apparatus 210 according to the embodiment of the present invention, 2) is cleaned by using only the cleaning liquid 310, as compared with the case where the foreign substance on the surface of the substrate (111 in FIG. 2) is cleaned using only the cleaning liquid 310 .
또한, 본 발명의 실시예에 따른 버블젯세정장치(210)는 유기이물질 세정력 또한 탁월한데, 도 5b의 그래프를 참조하면 본 발명의 실시예에 따른 버블젯세정장치(210)의 미세버블(320)은 유기이물질 세정시 접촉각(contact angle) 특성이 매우 낮게 측정되는 것을 확인할 수 있다. 5b, the micro bubble 320 of the bubble jet cleaning apparatus 210 according to the embodiment of the present invention may be cleaned ), It is confirmed that the contact angle characteristic is very low when the organic foreign matter is cleaned.
이에 대해 좀더 자세히 살펴보면, 유기막 상부에 유기물질로 이루어지는 유기이물질이 존재하게 될 경우, 유기막과 유기이물질은 서로 강한 결합력을 갖게 된다. In more detail, when an organic foreign substance made of an organic material is present on the organic film, the organic film and the organic foreign substance have a strong bonding force with each other.
이때, 본 발명의 실시예에 따른 버블젯세정장치(210)의 미세버블(320)은 접촉각 특성이 낮으므로, 이러한 미세버블(320)을 유기막 상부로 분사하면, 유기막 표면은 미세버블(320)의 낮은 접촉각 특성에 의해 친수성으로 변화하게 됨으로써, 유기막 표면에 존재하는 유기이물질을 유기막으로부터 손쉽게 제거할 수 있는 것이다. Since the micro bubble 320 of the bubble jet cleaning apparatus 210 according to the embodiment of the present invention has a low contact angle characteristic, when the fine bubble 320 is sprayed onto the organic film, 320), the organic foreign substances existing on the surface of the organic film can be easily removed from the organic film.
즉, 본 발명의 실시예에 따른 버블젯세정장치(210)는 유기물 세정력 또한 매우 탁월함을 알 수 있다.That is, it can be seen that the bubble jet cleaning apparatus 210 according to the embodiment of the present invention is also excellent in organic cleaning power.
도 5c와 도 5d를 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 버블젯세정장치(210)는 유기물 세정력은 기존의 유기막 세정을 위한 화학적세정액과 플라즈마처리와 유사한 세정력을 갖는 것을 확인할 수 있다. Referring to FIGS. 5C and 5D, it can be seen that the bubble jet cleaning apparatus 210 according to the embodiment of the present invention has a cleaning power similar to that of a conventional chemical cleaning liquid and a plasma treatment for organic film cleaning.
여기서, 유기막 세정을 위한 화학적세정액은 화학용매(H2SO4, NH4OH, H2O2, HCl)와 순수로 이루어지므로, 이러한 화학적세정액은 폐수로서 환경적으로 유해하다는 단점을 안고 있다. 따라서, 환경처리비용을 발생시키게 된다. Here, since the chemical cleaning liquid for cleaning the organic film is made of chemical solvents (H2SO4, NH4OH, H2O2, HCl) and pure water, such chemical cleaning liquid has a disadvantage that it is environmentally harmful as wastewater. Therefore, environmental processing costs are incurred.
또한, 플라즈마처리는 매우 높은 공정비용을 요하게 되는 단점을 가지나, 본 발명의 실시예에 따른 버블젯세정장치(210)는 유기물 세정력이 화학적세정액과 플라즈마처리와 유사하면서도 친환경적이며, 공정비용을 절감할 수 있다. However, the bubble jet cleaning apparatus 210 according to the embodiment of the present invention is similar to the chemical cleaning liquid and the plasma treatment, and is environment-friendly, and reduces the processing cost. .
또한, 미세버블(320)을 생성하기 위한 추가 분사노즐 등을 생략할 수 있어, 미세버블(320) 생성량 감소 및 크기가 증가되는 문제점을 방지할 수 있다. Further, it is possible to omit the additional injection nozzle or the like for generating the fine bubbles 320, thereby preventing the problem that the amount of the fine bubbles 320 to be generated is reduced and the size thereof is increased.
즉, 버블을 생성하기 위하여 슬릿노즐(220)의 토출구(226)에 별도의 기체주입 노즐을 구비할 경우, 슬릿노즐(220)의 세정액(310)으로 버블 생성을 위해 기체주입 노즐을 통해 기체를 세정액(310)에 주입하므로써 압력을 증가시키게 되면, 버블의 사이즈가 증가되거나, 버블 형성량이 작아지게 된다. That is, when a separate gas injection nozzle is provided at the discharge port 226 of the slit nozzle 220 to generate bubbles, the cleaning liquid 310 of the slit nozzle 220 is supplied with gas through the gas injection nozzle If the pressure is increased by injecting into the cleaning liquid 310, the size of the bubble increases or the bubble forming amount becomes smaller.
이때 생성되는 버블은 수 ~ 수십mm의 사이즈를 갖게 된다. At this time, the generated bubble has a size of several to several tens mm.
또한, 버블 사이즈가 클 경우, 버블을 기판(도 2의 111) 상에 분사하는 과정에서 분사압이 크면 버블이 기판(도 2의 111)에 분사되기도 전에 버블이 소멸되어 버리는 문제점이 발생하므로, 버블 사이즈가 클 경우에는 분사압이 낮아 공정의 속도가 느려지게 된다. In addition, when the bubble size is large, when the injection pressure is large in the process of spraying the bubble on the substrate (111 in FIG. 2), there is a problem that the bubble is destroyed even before the bubble is injected onto the substrate (111 in FIG. 2) When the bubble size is large, the injection pressure is low and the process speed is slowed down.
이에 반해, 본 발명의 실시예에 따른 버블젯세정장치(210)는 기체주입을 위해 별도로 세정액(310)의 압력을 증가하지 않음으로써, 미세버블(320)을 형성할 수 있어 버블의 사이즈가 증가하거나 버블 형성량이 작아지게 되는 문제점을 방지할 수 있는 것이다. In contrast, the bubble jet cleaning apparatus 210 according to the embodiment of the present invention does not increase the pressure of the cleaning liquid 310 separately for injecting gas, so that the fine bubble 320 can be formed, Or the problem that the bubble forming amount becomes small can be prevented.
또한, 버블 사이즈가 작으므로, 버블을 기판(도 2의 111) 상에 분사하는 과정에서 분사압을 높일 수 있어, 공정의 속도가 향상시킬 수 있다. In addition, since the bubble size is small, the injection pressure can be increased in the course of spraying the bubble onto the substrate (111 in Fig. 2), and the speed of the process can be improved.
또한, 본 발명의 실시예에 따른 버블젯세정장치(210)는 별도의 기체주입 노즐을 생략할 수 있으므로, 버블젯세정장치(210)의 구성을 단순화할 수 있어, 공정 비용을 절감할 수 있으며, 공정의 효율성을 향상시킬 수 있다. In addition, since the bubble jet cleaning apparatus 210 according to the embodiment of the present invention can omit a gas injection nozzle, it is possible to simplify the structure of the bubble jet cleaning apparatus 210, , The efficiency of the process can be improved.
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 버블젯세정장치를 포함하는 버블젯 세정유닛을 개략적으로 도시한 단면도이다.6 is a cross-sectional view schematically showing a bubble jet cleaning unit including a bubble jet cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention.
도시한 바와 같이, 버즐젯 세정유닛(200)은 크게 베스(500), 기판이송유닛(400), 버블젯세정장치(210)로 이루어진다. As shown in the figure, the burzlet cleaning unit 200 mainly comprises a bath 500, a substrate transfer unit 400, and a bubble jet cleaning device 210.
여기서, 베스(500)는 버블젯 세정공정이 수행되는 공간으로, 베스(500)는 버블젯 세정공정이 수행되는 동안 처리대상물인 기판(111)이 외부로부터의 오염물질에 노출되지 않도록 외부로부터 차폐하는 역할을 한다.Here, the bath 500 is a space in which the bubble jet cleaning process is performed, and the bath 500 is shielded from the outside so that the substrate 111, which is the object to be treated, is not exposed to contaminants from the outside while the bubble jet cleaning process is performed. .
베스(500)는 기판(111) 상에 분사되는 세정액(310)을 담아내고 이를 배수하는 역할을 한다. 사용된 세정액(310)을 배수하기 위해 베스(500)의 일측에는 배수관이 설치된다.The bath 500 serves to store and discharge the cleaning liquid 310 sprayed onto the substrate 111. A drain pipe is installed at one side of the bath 500 to drain the used cleaning liquid 310.
그리고, 기판이송유닛(400)으로는 일반적으로 롤러(roller) 또는 컨베이어벨트(conveyer belt)이 이용되며, 베스(500) 내부에 구비되어 기판(111)을 지지하는 동시에 일방향으로 이동 시키게 된다. A roller or a conveyer belt is generally used as the substrate transfer unit 400 and is provided inside the bath 500 to support and move the substrate 111 in one direction.
즉, 베스(500)는 통상 양 측면(510)과 바닥면(520)을 구비하여 내부로 소정의 습식 처리공간을 정의하고, 기판이송유닛(400)은 이 같은 처리공간을 관통하도록 설치되며, 기판이송유닛(400)은 회전 가능한 다수의 샤프트축(410)을 서로 나란하게 일렬로 배열시켜 완성되며, 각각의 샤프트축(410)에는 고리형상을 갖는 복수개의 회전롤러(420)가 일정 간격을 유지하도록 둘러 장착되어 있다.That is, the bass 500 generally has two side surfaces 510 and a bottom surface 520 to define a predetermined wet processing space therein, and the substrate transfer unit 400 is installed to pass through the processing space, The substrate transfer unit 400 is completed by arranging a plurality of rotatable shaft shafts 410 in a line and arranging a plurality of rotation rollers 420 having a ring shape at a predetermined interval As shown in Fig.
따라서, 처리대상물인 기판(111)은 각 샤프트축(410)에 장착된 회전롤러(420)에 얹혀져 샤프트축(410)과 회전롤러(420)의 회전에 의해 슬라이딩 방식으로 이동된다. The substrate 111 to be processed is placed on the rotating roller 420 mounted on each shaft shaft 410 and is moved in a sliding manner by the rotation of the shaft shaft 410 and the rotating roller 420.
또한, 버블젯세정장치(210)는 기판(111) 상부를 가로지르는 바(bar) 형상으로, 기판이송유닛(220) 상에서 일방향으로 이송되는 기판(111) 상부에 미세버블(micro bubble : 320)을 포함하는 세정액(310)을 분사하여 기판(111) 상의 미세이물을 제거하게 된다. The bubble jet cleaning apparatus 210 has a bar shape crossing over the substrate 111 and a micro bubble 320 is formed on the substrate 111 to be transferred in one direction on the substrate transfer unit 220. [ So that the fine particles on the substrate 111 are removed.
한편, 이와 같은 버블젯 세정공정을 진행하는 과정에서, 기판(111) 표면으로 분사되는 세정액(310)이 기판(111) 상에 고이게 되는 것을 방지하기 위해 기판이송유닛(400)을 일정 경사면을 이루도록 기울여 형성한다. In order to prevent the cleaning liquid 310 sprayed onto the surface of the substrate 111 from becoming floated on the substrate 111 during the bubble jet cleaning process, the substrate transfer unit 400 may be formed to have a predetermined inclined surface .
따라서, 기판이송유닛(400) 상에 슬라이딩 이동되는 기판(111) 상에 분사되는 세정액(310)이 기판(111) 밖으로 자연스럽게 흘러내리도록 한다.Accordingly, the cleaning liquid 310 sprayed on the substrate 111 slidably moved on the substrate transfer unit 400 flows out of the substrate 111 naturally.
여기서, 경사면을 이루는 기판이송유닛(400) 상에 안착되어 이동되는 기판(111) 역시, 기판이송유닛(400)의 경사면에 의해 기울어진 상태로 슬라이딩 이동되므로 이때, 버블젯세정장치(210)는 미세버블(320)을 포함하는 세정액(310)을 분사하는 슬릿노즐(도 3c의 220)이 기울어진 기판(111)과 평행하게 일정간격 이격하여 위치하도록 하는 것이 바람직하다. Here, the substrate 111, which is mounted on the substrate transfer unit 400 forming the inclined plane, is also slid by the inclined surface of the substrate transfer unit 400, so that the bubble jet cleaning apparatus 210 It is preferable that the slit nozzles (220 in FIG. 3C) for spraying the cleaning liquid 310 including the fine bubbles 320 are spaced apart from each other at a predetermined interval in parallel with the inclined substrate 111.
이때, 기판(111)과 평행하게 일정간격 이격하여 위치하는 버블젯세정장치(210)는 기판(111)의 상부측으로부터 하부측으로 갈수록 기판(111)의 경사면에 대응하여 길이방향의 양단의 상부면(도 3c의 211)과 하부면(도 3c의 213) 사이의 폭(도 3b의 d1, d2)이 점차로 줄어드는 형태로 형성된다. At this time, the bubble jet cleaning apparatus 210 positioned at a predetermined distance in parallel with the substrate 111 is provided with an upper surface at both ends in the longitudinal direction corresponding to the inclined surface of the substrate 111 from the upper side to the lower side of the substrate 111 (D1, d2 in FIG. 3B) between the lower surface (211 in FIG. 3C) and the lower surface (213 in FIG. 3C) gradually decreases.
여기서, 외부의 저장부(미도시)는 기판(111)의 상부측에 대응되는 버블젯세정장치(210)의 공급로(221)와 연결되므로, 기판(111)의 상부측에 대응되는 공급로(221)로 공급된 세정액(310)은 기판(111)의 하부측에 대응되는 공급로로 공급되어, 슬릿노즐(도 3c의 220)을 통해 기판(111)의 전면으로 세정액(310)을 분사하게 된다. Since the external storage unit (not shown) is connected to the supply path 221 of the bubble jet cleaning apparatus 210 corresponding to the upper side of the substrate 111, The cleaning liquid 310 supplied to the substrate 111 is supplied to the supply path corresponding to the lower side of the substrate 111 and the cleaning liquid 310 is sprayed to the front surface of the substrate 111 through the slit nozzle 220 .
이때, 기판(111) 상으로 분사되는 세정액(310)은 기판(111)의 상부측에 대응해서는 기판(111)의 하부측에 대응해서 분사되는 세정액(310)에 비해 많은 양의 세정액이 분사된다. At this time, the cleaning liquid 310 sprayed onto the substrate 111 is sprayed with a larger amount of cleaning liquid than the cleaning liquid 310 sprayed corresponding to the lower side of the substrate 111 corresponding to the upper side of the substrate 111 .
이는, 기판(111)의 상부측으로 분사되는 세정액(310)은 기판(111)의 경사면에 의해 기판(111)의 하부측으로 흘러내리게 되므로, 버블젯세정장치(210)로부터 기판(111)의 전면으로 균일한 양의 세정액(310)이 분사되도록 할 경우, 기판(111)의 하부측으로는 버블젯세정장치(210)를 통해 분사되는 세정액(310)과 함께 상부측으로부터 흘러내리는 세정액(310)까지 기판(111)의 상부층에 분사되는 세정액(310)에 비해 매우 많은 양의 세정액(310)이 존재하게 된다. This is because the cleaning liquid 310 injected toward the upper side of the substrate 111 flows downward to the lower side of the substrate 111 by the inclined surface of the substrate 111 and thus flows from the bubble jet cleaning device 210 to the front surface of the substrate 111 The cleaning liquid 310 injected through the bubble jet cleaner 210 and the cleaning liquid 310 flowing down from the upper side together with the substrate 111 are supplied to the lower side of the substrate 111, An extremely large amount of the cleaning liquid 310 is present in comparison with the cleaning liquid 310 sprayed onto the upper layer of the substrate 111.
이는, 불필요한 많은 양의 세정액(310)의 손실을 야기하게 된다. This results in the loss of a large amount of unnecessary cleaning liquid 310. [
따라서, 본 발명의 실시예에 따른 버블젯세정장치(210)는 기판이송유닛(400) 상에 슬라이딩 이동되는 기판(111) 상에 분사되는 세정액(310)이 기판(111) 밖으로 자연스럽게 흘러내리도록 기판(111)이 기울어져 이송되는 과정에서, 기판(111)의 상부측에서 하부측으로 흐르는 세정액(310)에 의해 기판(111)의 하부측에서는 많은 양의 세정액(310)이 존재하게 되는 것을 감안하여, 이의 하부측으로는 상부측으로 분사되는 세정액(310)에 비해 적은 양의 세정액(310)이 분사되도록 하는 것이다.Therefore, the bubble jet cleaning apparatus 210 according to the embodiment of the present invention is configured such that the cleaning liquid 310 sprayed on the substrate 111 slidably moved on the substrate transfer unit 400 flows smoothly out of the substrate 111 Considering that a large amount of the cleaning liquid 310 is present on the lower side of the substrate 111 by the cleaning liquid 310 flowing from the upper side to the lower side of the substrate 111 in the process of inclining and transporting the substrate 111 And a smaller amount of the cleaning liquid 310 is sprayed on the lower side than the cleaning liquid 310 sprayed to the upper side.
이를 통해, 기판(111) 상에 세정액(310)이 균일하게 존재하도록 할 수 있으며, 세정액(310)의 손실이 발생하는 것을 방지할 수 있다. Accordingly, the cleaning liquid 310 can be uniformly present on the substrate 111, and the loss of the cleaning liquid 310 can be prevented.
그리고, 본 발명의 실시예에 따른 버블젯세정장치(210)는 슬릿노즐(도 3c의 220)을 통해 세정액(310)을 미세 입자 형태로 기판(111) 상에 균일하게 분사할 수 있으며, 또한 세정액(310)이 토출부(도 3c의 226)를 통해 미세 입자 형태로 외부로 분사되는 과정에서 미세버블(320)이 생성되도록 하여, 미세한 입경의 이물을 제거하는데 매우 탁월한 미세버블(320)을 통해 기판(111) 표면의 이물질을 세정함으로써, 기판(111)을 보다 효과적으로 세정할 수 있다.The bubble jet cleaning apparatus 210 according to the embodiment of the present invention can uniformly spray the cleaning liquid 310 on the substrate 111 in the form of fine particles through the slit nozzle (220 in FIG. 3C) The fine bubbles 320 are generated in the process of spraying the cleaning liquid 310 outward in the form of fine particles through the discharging portion 226 of FIG. 3C, and the fine bubbles 320, which are very excellent for removing fine particles, The substrate 111 can be cleaned more effectively by cleaning the foreign matter on the surface of the substrate 111 through the through holes.
또한, 본 발명의 실시예에 따른 버블젯세정장치(210)는 미세버블(320)의 팽창/소멸에 따른 충격으로 기판(111) 표면의 이물질을 세정하게 되므로, 미세이물을 제거하기 위하여 세정액(310)의 분사압력을 높이지 않아도 됨으로써, 세정액(310)을 강하게 분사하여 분사압에 따른 충격으로 기판(111) 표면의 이물질을 세정하는 경우에 비해 기판(111) 상에 형성된 박막의 손상이 발생하는 것을 방지할 수 있다. In addition, the bubble jet cleaning apparatus 210 according to the embodiment of the present invention cleans foreign materials on the surface of the substrate 111 by the impact caused by the expansion / disappearance of the fine bubbles 320, The damage of the thin film formed on the substrate 111 is more likely to occur than when the foreign matter on the surface of the substrate 111 is cleaned by the impact according to the injection pressure by strongly spraying the cleaning liquid 310 Can be prevented.
또한, 본 발명의 실시예에 따른 버블젯세정장치(210)의 미세버블(320)은 유기이물질 세정력 또한 매우 탁월하며, 화학적세정액과 플라즈마처리에 비해 친환경적이며, 공정비용을 절감할 수 있다.In addition, the micro bubble 320 of the bubble jet cleaning apparatus 210 according to the embodiment of the present invention is very excellent in cleaning ability for organic foreign substances, and is eco-friendly compared to the chemical cleaning liquid and the plasma treatment, thereby reducing the processing cost.
또한, 미세버블(320)을 생성하기 위한 추가 분사노즐 등을 생략할 수 있어, 미세버블(320) 생성량 감소 및 크기가 증가되는 문제점을 방지할 수 있으며, 버블젯세정장치(210)의 구성을 단순화할 수 있어, 공정 비용을 절감할 수 있으며, 공정의 효율성을 향상시킬 수 있다. Further, it is possible to omit the additional injection nozzle or the like for generating the fine bubbles 320, thereby preventing the problem that the amount of the fine bubbles 320 to be generated is reduced and the size thereof is increased. The process cost can be reduced, and the efficiency of the process can be improved.
본 발명은 상기 실시예로 한정되지 않고, 본 발명의 취지를 벗어나지 않는 한도 내에서 다양하게 변경하여 실시할 수 있다.
The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications may be made without departing from the spirit of the present invention.
111 : 기판, 200 : 버블젯 세정유닛
210 : 버블젯세정장치
310 : 세정액, 320 : 미세버블
400 : 기판이송유닛(410 : 샤프트, 420 : 롤러)
500 : 베스(510 : 측면, 520 : 바닥면)
111: substrate, 200: bubble jet cleaning unit
210: bubble jet cleaning device
310: cleaning liquid, 320: fine bubble
400: substrate transfer unit (410: shaft, 420: roller)
500: Bass (510: side, 520: bottom)

Claims (7)

  1. 제 1 가장자리는 바닥면으로부터 제 1 높이를 가지며, 상기 제 1 가장자리의 반대측에 위치하는 제 2 가장자리는 상기 바닥면으로부터 상기 제 1 높이 보다 낮은 제 2 높이를 갖도록 기판을 기울여 이송하는 기판이송유닛과;
    상기 기판 상부에 위치하며, 상기 기판과 평행하며 슬릿노즐이 형성된 하부면과, 상기 기판의 상기 제 1 가장자리에 대응하는 일단으로부터 상기 기판의 상기 제 2 가장자리에 대응하는 타단으로 갈수록 상기 하부면과 가까워지는 상부면과, 상기 하부면과 상기 상부면을 연결하는 측면을 포함하며,
    내부로 가압용해수가 공급되는 공급로가 구비되며, 상기 공급로는 사이즈가 상기 일단으로부터 상기 타단으로 갈수록 점차적으로 작아지며, 상기 일단을 통해 외부로부터 가압용해수를 공급받는 버블젯세정장치
    를 포함하며, 상기 슬릿노즐을 통해 상기 가압용해수를 상기 기판 상에 분사하는 과정에서, 상기 슬릿노즐의 끝단에서 미세버블(micro bubble)이 생성되며,
    상기 미세버블은 상기 기판의 상기 제 1 가장자리로부터 상기 제 2 가장자리로 갈수록 분사량이 작아지는 기판 세정장치.
    A substrate transfer unit for tilting and transferring the substrate so that the first edge has a first height from the bottom surface and the second edge positioned on the opposite side of the first edge has a second height lower than the first height from the bottom surface; ;
    A lower surface that is positioned on the substrate and is parallel to the substrate and has a slit nozzle and a lower surface that is closer to the lower surface from one end corresponding to the first edge of the substrate to the other end corresponding to the second edge of the substrate And a side surface connecting the lower surface and the upper surface,
    And a supply passage through which the pressurized dissolving water is supplied to the inside of the supply passage, wherein the supply passage is gradually reduced in size from the one end to the other end, and a bubble jet cleaning device
    Wherein micro bubbles are generated at an end of the slit nozzle in the process of spraying the pressurized dissolving water onto the substrate through the slit nozzle,
    Wherein the fine bubbles have a smaller injection amount from the first edge to the second edge of the substrate.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 버블젯세정장치는 상기 기판 상부를 가로지르는 바(bar) 형상으로, 상기 가압용해수가 공급되는 상기 공급로와, 상기 가압용해수를 외부로 분사하기 위한 상기 슬릿노즐을 포함하는 기판 세정장치.
    The method according to claim 1,
    Wherein the bubble jet cleaning device has a bar shape across the top of the substrate and includes the supply path through which the pressurized dissolution water is supplied and the slit nozzle for ejecting the pressurized dissolution water outward.
  3. 삭제delete
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 버블젯세정장치의 상기 일단의 상기 하부면으로부터 상기 상부면까지의 폭과, 상기 타단의 상기 하부면으로부터 상기 상부면까지의 폭의 비는 0.4 ~ 0.8인 기판 세정장치.
    The method according to claim 1,
    Wherein a ratio of a width from the lower surface of the one end of the bubble jet cleaner to the upper surface and a width from the lower surface of the other end to the upper surface is 0.4 to 0.8.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 가압용해수는 순수(DI)에 N2, H2, CO2 중 적어도 하나가 용해되어 이루어지거나, 공기(air)가 용해되어 이루어지는 기판 세정장치.
    The method according to claim 1,
    Wherein the pressurized dissolution water is formed by dissolving at least one of N 2 , H 2 , and CO 2 in pure water (DI) or dissolving air.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 슬릿노즐은 상기 공급로로부터 상기 가압용해수를 공급받는 유입부와, 상기 가압용해수를 외부로 분사하는 토출부 그리고 상기 유입부와 상기 토출부 사이에 위치하며, 상기 유입부에 비해 작은 직경을 가지며 상기 토출부를 향할수록 점차적으로 직경이 커지는 가압부를 포함하는 기판 세정장치.
    6. The method of claim 5,
    Wherein the slit nozzle includes an inlet portion for receiving the pressurized dissolving water from the supply passage, a discharge portion for spraying the pressurized dissolving water outwardly, and a discharge portion for discharging the pressurized dissolving water outwardly, the discharge portion being located between the inlet portion and the discharge portion, And a pressing portion which gradually increases in diameter toward the discharge portion.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 미세버블은 상기 유입부와 상기 가압부를 거쳐 상기 토출부를 통해 외부로 토출되는 과정에서, 상기 가압용해수로부터 분리되어 형성되는 기판 세정장치.
    The method according to claim 6,
    Wherein the fine bubbles are separated from the pressurized dissolving water in a process of being discharged to the outside through the discharge portion via the inflow portion and the pressurizing portion.
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