KR20080057496A - Cleaning brush, apparatus and system for cleaning glass comprising the same - Google Patents

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Abstract

A cleaning brush, a device and a system of cleaning a substrate using the same are provided to reduce a maintaining area of the cleaning device. A cleaning brush(210) includes a shaft(211), a cylindrical body(213), a hollow(215), a plurality of external holes(214), and a brush fur(212). The cylindrical body is connected to the shaft. The cylindrical body rotates in a predetermined direction in cooperation with the rotation of the shaft. The hollow penetrates the center of the cylindrical body from two opposite site ends of the shaft. The external hole is formed at a first cleaning area on the surface of the cylindrical body and connected to the central hole. The brush fur is formed at a second cleaning area on the surface of the cylindrical body to perform a cleaning function through the rotation of the cylindrical body.

Description

세정용 브러시, 이를 구비하는 기판 세정 장치 및 기판 세정 시스템{Cleaning brush, apparatus and system for cleaning glass comprising the same}Cleaning brush, apparatus and system for cleaning glass comprising the same

도 1은 종래 기술에 따른 액정 표시 장치의 구성도이다.1 is a configuration diagram of a liquid crystal display according to the prior art.

도 2는 종래 기술에 따른 세정용 브러시의 사시도이다.2 is a perspective view of a cleaning brush according to the prior art.

도 3은 종래 기술에 따른 버블 젯 공정의 설명도이다.3 is an explanatory diagram of a bubble jet process according to the prior art.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 세정용 브러시의 사시도이다.4 is a perspective view of a cleaning brush according to an embodiment of the present invention.

도 5는 도 4의 Ⅰ-Ⅰ'라인을 나타낸 단면도이다.5 is a cross-sectional view illustrating the line II ′ of FIG. 4.

도 6은 도 4 및 도 5의 세정용 브러시를 구비한 기판 세정 장치의 구성도이다.FIG. 6 is a configuration diagram of a substrate cleaning apparatus including the cleaning brush of FIGS. 4 and 5.

도 7은 도 4 및 도 5의 세정용 브러시를 구비한 기판 세정 시스템의 구성도이다.7 is a block diagram of a substrate cleaning system having the cleaning brush of FIGS. 4 and 5.

(도면의 주요부분에 대한 부호의 설명)(Explanation of symbols for the main parts of the drawing)

210: 세정용 브러시 211: 샤프트(shaft)210: cleaning brush 211: shaft

212: 브러시 모 213: 몸체부212: brush bristle 213: body part

214: 외부 홀 215: 중심 홀214: outer hole 215: center hole

본 발명은 세정용 브러시, 이를 구비하는 기판 세정 장치 및 기판 세정 시스템에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 액정 표시 장치용 기판의 세정에 쓰이는 세정용 브러시와 이를 구비하는 기판 세정 장치, 기판 세정 시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a cleaning brush, a substrate cleaning device having the same, and a substrate cleaning system. More particularly, the present invention relates to a cleaning brush used for cleaning a substrate for a liquid crystal display device, a substrate cleaning device having the same, and a substrate cleaning system. will be.

액정 표시 장치는 투명 절연 기판인 어레이 기판과 컬러 필터 기판 사이에 이방성 유전율을 갖는 액정층을 형성한 후, 액정층에 형성되는 전계의 세기를 조정하여 액정 물질의 분자 배열을 변경시키고, 이를 통하여 표시면인 컬러 필터 기판에 투과되는 빛의 양을 조절함으로써 원하는 화상을 표현하는 장치이다.The liquid crystal display device forms a liquid crystal layer having anisotropic dielectric constant between the array substrate and the color filter substrate, which are transparent insulating substrates, and then adjusts the intensity of the electric field formed in the liquid crystal layer to change the molecular arrangement of the liquid crystal material, thereby displaying the liquid crystal layer. It is a device that expresses a desired image by adjusting the amount of light transmitted through a color filter substrate that is a surface.

도 1은 종래 기술에 따른 액정 표시 장치의 구성도이다.1 is a configuration diagram of a liquid crystal display according to the prior art.

종래의 액정 표시 장치는 도 1에 도시된 바와 같이, 일정한 간격을 두고 합착된 어레이 기판(100) 및 컬러 필터 기판(150)과 두 기판(100, 150) 사이에 형성된 액정층(160)으로 구성된다.As shown in FIG. 1, a conventional liquid crystal display device includes an array substrate 100 and a color filter substrate 150 bonded together at regular intervals, and a liquid crystal layer 160 formed between the two substrates 100 and 150. do.

어레이 기판(100)에는 화소 영역을 정의하기 위하여 일정한 간격을 갖고 일방향으로 배치되는 복수 개의 게이트 라인(110)과 게이트 라인(110)에 수직한 방향으로 배열되는 복수 개의 데이터 라인(120)이 형성되며, 각 화소 영역에는 화소 전극(130)이 형성된다.In the array substrate 100, a plurality of gate lines 110 arranged in one direction at regular intervals and a plurality of data lines 120 arranged in a direction perpendicular to the gate lines 110 are formed to define a pixel area. The pixel electrode 130 is formed in each pixel area.

게이트 라인(110)과 데이터 라인(120)이 교차되는 부분에는 박막 트랜지스터(TFT)가 형성되며, 교차 부위에 위치한 박막 트랜지스터(TFT)가 게이트 라 인(110)으로부터의 스캔 신호에 응답하여 데이터 라인(120)의 데이터 신호를 각 화소 전극(130)으로 인가한다.A thin film transistor TFT is formed at a portion where the gate line 110 and the data line 120 cross each other, and the thin film transistor TFT positioned at the crossing portion responds to a scan signal from the gate line 110. A data signal of 120 is applied to each pixel electrode 130.

컬러 필터 기판(150)에는 화소 영역을 제외한 부분의 빛을 차단하기 위한 블랙 매트릭스(151)가 형성되고, 각 화소 영역에 대응되는 부분에는 색상을 표현하기 위한 R, G, B 컬러 필터층(152)이 형성된다. 컬러 필터층(152) 위에는 화상을 구현하기 위한 공통 전극(153) 등이 형성된다. 경우에 따라서는 공통 전극(153)이 어레이 기판(100)에 형성되기도 한다. A black matrix 151 is formed on the color filter substrate 150 to block light in portions other than the pixel region, and R, G, and B color filter layers 152 for expressing color are formed at portions corresponding to the pixel regions. Is formed. The common electrode 153, etc. for realizing an image are formed on the color filter layer 152. In some cases, the common electrode 153 may be formed on the array substrate 100.

이러한 구성을 갖는 액정 표시 장치는 화소 전극(130)과 공통 전극(153) 사이에 형성되는 전계에 의해 두 기판(100, 150) 사이에 형성된 액정층(160)이 배향되고, 액정층(160)의 배향 정도에 따라 액정층(160)을 투과하는 빛의 양을 조절하여 화상을 표현하게 된다.In the liquid crystal display having the above configuration, the liquid crystal layer 160 formed between the two substrates 100 and 150 is aligned by an electric field formed between the pixel electrode 130 and the common electrode 153, and the liquid crystal layer 160 is aligned. The amount of light passing through the liquid crystal layer 160 is adjusted according to the degree of alignment of the to represent an image.

액정 표시 장치는 수많은 공정 단계를 거쳐 제작되므로, 각각이 공정을 수행하기 위한 수많은 설비와 각각의 설비를 운용하기 위한 수많은 오퍼레이터들을 필요로 한다.Since the liquid crystal display is manufactured through a number of process steps, each requires a lot of equipment for performing the process and a number of operators for operating each equipment.

특히, 액정 표시 장치에서 화상을 표시하는 부분인 액정 패널과 액정 패널을 이루는 기판은 제조 시 세정 공정을 필수로 하는데, 이는 기판 위의 이물질 및 입자들을 제거하는 공정으로서, 전극이나 박막 트랜지스터 등의 소자 손실이나 불량을 최소화하여 수율을 향상시키는 데 그 목적이 있다. In particular, the liquid crystal panel, which is an image displaying part of the liquid crystal display, and the substrate constituting the liquid crystal panel require a cleaning process during manufacturing, which is a process of removing foreign substances and particles on the substrate, and is an element such as an electrode or a thin film transistor. The aim is to improve yield by minimizing losses or defects.

세정 공정으로는 브러시 등을 사용하여 기판 표면의 이물질을 제거하는 공정과 순수(純水) 등의 세정액을 고압 분사시켜 기판 표면을 세정하는 공정 등이 있으 며, 통상 일련의 제조 공정 가운데 이와 같은 두가지 방식의 세정 공정이 모두 사용되고 있다.The cleaning process includes a process of removing foreign substances on the surface of the substrate using a brush, etc., and a process of cleaning the surface of the substrate by spraying a high-pressure cleaning liquid such as pure water, and the like. Both types of cleaning processes are used.

도 2는 종래 기술에 따른 세정용 브러시의 사시도이다.2 is a perspective view of a cleaning brush according to the prior art.

도 2를 참조하면, 종래의 기판 세정 공정에 사용되는 세정용 브러시(210)는 몸체부(213), 몸체부(213)의 표면에 형성된 브러시 모(212)와 샤프트(shaft)(130) 등에 의해 구성됨을 알 수 있다.Referring to FIG. 2, the cleaning brush 210 used in the conventional substrate cleaning process includes a body 213, a brush bristle 212 formed on a surface of the body 213, a shaft 130, and the like. It can be seen that the configuration.

즉, 샤프트(211)의 회전 운동과 연동되어 몸체부(213)가 회전하며, 이에 따라 몸체부(213) 표면에 식모(植毛)된 브러시 모(212)에 의해 기판 표면에 대한 세정 작업이 수행되는 것이다.That is, the body portion 213 rotates in association with the rotational movement of the shaft 211, and thus the cleaning operation is performed on the surface of the substrate by the brush bristles 212 which are planted on the surface of the body portion 213. Will be.

세정용 브러시(210)는 5㎛ 이상의 비교적 큰 입자(particle)을 제거하는 부분으로서 세정력 증진에 필수적이다.The cleaning brush 210 is essential for improving cleaning power as a part for removing relatively large particles of 5 μm or more.

도 3은 종래 기술에 따른 버블 젯 공정의 설명도이다.3 is an explanatory diagram of a bubble jet process according to the prior art.

도 3의 (a) 및 (b)를 참조하면, 버블 젯 노즐(bubble jet nozzle)(180)은 특수 형상의 노즐 내에 펌프에 의한 압력을 가진 고압 가스(기체)와 세정액(액체)을 혼합함으로써 물방울을 발생시키고, 그 물방울을 고속의 가스 흐름에 의해 가속시켜 기판으로 분사시킨다.Referring to FIGS. 3A and 3B, a bubble jet nozzle 180 is formed by mixing a high pressure gas (gas) and a cleaning liquid (liquid) having a pressure by a pump in a nozzle of a special shape. Water droplets are generated, and the droplets are accelerated by the high velocity gas flow and sprayed onto the substrate.

이때, 기체가 액정보다 체적이 크기 때문에, 물방울의 속도는 기체의 유량에 의해 결정된다. 따라서, 기체의 속도에 의해 액체의 속도가 좌우된다.At this time, since the gas is larger in volume than the liquid crystal, the velocity of the water droplets is determined by the flow rate of the gas. Thus, the velocity of the liquid depends on the velocity of the gas.

그런데, 종래의 기판 세정 장치에서, 세정용 브러시(210)와 버블 젯 노즐(180)은 별개로 구성되므로, 운용 면적이 불필요하게 증가되고, 세정력 증대에도 일정한 한계가 있다. 그리고, 기판이 세정용 브러시(210)와 버블 젯 노즐(180)이 일련적으로 설치되어 있는 공간을 통과하면서 세정되므로, 택트 타임(tact time)이 길어지고, 하나의 세정 공정을 스킵(skip)하는 등의 작업은 어려운 문제점이 있다.However, in the conventional substrate cleaning apparatus, since the cleaning brush 210 and the bubble jet nozzle 180 are configured separately, the operating area is unnecessarily increased, and there is a certain limit to the increase in the cleaning power. Since the substrate is cleaned while passing through the space in which the cleaning brush 210 and the bubble jet nozzle 180 are installed in series, the tact time is long, and one cleaning process is skipped. Such work is difficult.

따라서, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 세정 장비의 운용 면적을 감소시킬 수 있는 세정용 브러시, 이를 구비한 기판 세정 장치 및 기판 세정 시스템을 제공하는 것이다.Accordingly, an aspect of the present invention is to provide a cleaning brush, a substrate cleaning device having the same, and a substrate cleaning system, which can reduce an operating area of cleaning equipment.

본 발명이 이루고자 하는 다른 기술적 과제는 세정력을 강화하여 수율을 향상시킬 수 있는 세정용 브러시, 이를 구비한 기판 세정 장치 및 기판 세정 시스템을 제공하는 것이다.Another technical problem to be achieved by the present invention is to provide a cleaning brush, a substrate cleaning apparatus and a substrate cleaning system having the same, which can improve the yield by enhancing the cleaning power.

본 발명이 이루고자 하는 또 다른 기술적 과제는 택트 타임(Tact time)을 줄여 작업 효율을 향상시킬 수 있는 세정용 브러시, 이를 구비한 기판 세정 장치 및 기판 세정 시스템을 제공하는 것이다.Another technical problem to be achieved by the present invention is to provide a cleaning brush, a substrate cleaning device having the same, and a substrate cleaning system having the same, which can improve work efficiency by reducing a tact time.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.Technical problems to be achieved by the present invention are not limited to the above-mentioned technical problems, and other technical problems not mentioned above will be clearly understood by those skilled in the art from the following description. Could be.

상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 따른 세정용 브러시는 샤프 트(shaft)와, 상기 샤프트와 연결되며, 상기 샤프트의 회전 운동에 연동되어 일정한 방향으로 회전 운동하는 원통형의 몸체부와, 상기 샤프트의 양 끝단으로부터 상기 몸체부의 중심을 관통하도록 형성된 중심 홀과, 상기 몸체부 표면의 제1 세정 영역에 형성되어 상기 중심 홀과 연결되는 복수의 외부 홀과, 상기 몸체부 표면의 제2 세정 영역에 식모(植毛)되어 상기 몸체부의 회전 운동에 의해 세정 기능을 수행하는 브러시 모를 포함한다.Cleaning brush according to the present invention for achieving the above technical problem is a shaft (shaft), the cylindrical body portion is connected to the shaft, rotates in a constant direction in conjunction with the rotational movement of the shaft, and the shaft A center hole formed to penetrate the center of the body part from both ends of the body, a plurality of outer holes formed in the first cleaning area of the surface of the body part and connected to the center hole, and a second cleaning area of the body part surface; It includes a brush bristles that are hair-fed and perform a cleaning function by the rotational movement of the body portion.

또한, 본 발명에 따른 기판 세정 장치는 상술한 세정용 브러시를 구비한다.Further, the substrate cleaning apparatus according to the present invention includes the cleaning brush described above.

또한, 본 발명에 따른 기판 세정 시스템은 기판이 투입되는 로더 포트(loader port)와, 상기 기판을 건식 세정하는 전 처리부와, 탈이온수와 압축 공기를 이용해 상기 세정된 기판을 헹구어내고, 동시에 세정용 브러시를 이용해 상기 세정된 기판을 물리적으로 닦아내는 브러시 세정부와, 탈이온수를 분사하여 상기 닦아진 기판을 최종 세정하여 상기 기판에 남은 수분이나 이물질을 제거하는 후 처리부와, 상기 최종 세정된 기판을 건조시키는 에어 나이프부와, 상기 건조된 기판을 언로딩하여 배출하는 언로더 포트(unloader port)를 포함한다.In addition, the substrate cleaning system according to the present invention includes a loader port into which a substrate is inserted, a pretreatment unit for dry cleaning the substrate, and rinsing the cleaned substrate using deionized water and compressed air, and simultaneously for cleaning. Brush cleaning unit for physically wiping the cleaned substrate using a brush, and after the final cleaning of the wiped substrate by spraying deionized water to remove the remaining water or foreign matter on the substrate and the final cleaned substrate An air knife unit for drying, and an unloader port for unloading and discharging the dried substrate.

기타 실시예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다. 본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.Specific details of other embodiments are included in the detailed description and the drawings. Advantages and features of the present invention and methods for achieving them will be apparent with reference to the embodiments described below in detail with the accompanying drawings. Like reference numerals refer to like elements throughout.

이하, 본 발명의 일 실시예에 따른 세정용 브러시, 이를 구비하는 기판 세정 장치 및 기판 세정 시스템에 대하여 첨부된 도면들을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, a cleaning brush according to an embodiment of the present invention, a substrate cleaning apparatus having the same, and a substrate cleaning system will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 세정용 브러시의 사시도이고, 도 5는 도 4의 Ⅰ-Ⅰ'라인을 나타낸 단면도이다.4 is a perspective view of a cleaning brush according to an embodiment of the present invention, Figure 5 is a cross-sectional view showing the line II of Figure 4;

도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 세정용 브러시(210)는 샤프트(shaft)(211), 몸체부(213), 몸체부(213) 내측의 중심 홀(hole)(215)과 외측의 외부 홀(214), 브러시 모(212)를 포함한다.As shown in Figure 4, the cleaning brush 210 according to an embodiment of the present invention is a shaft (211), the body portion 213, the center hole (hole) inside the body portion 213 ( 215, an outer outer hole 214, and a brush bristle 212.

샤프트(211)는 별도로 구비된 구동 수단(도시되지 않음) 등과 연결되어 회전함으로써 몸체부(213)를 회전시키는 기능을 수행한다.The shaft 211 is connected to a driving means (not shown) and the like separately provided to rotate the body 213.

몸체부(213)는 원통형으로 형성되어 샤프트(211)와 연결되며, 적어도 세정 대상이 되는 기판의 폭 이상의 길이를 갖는 것이 좋다. 몸체부(213)의 재질로는 플라스틱 등의 합성수지류나 금속류 등 고정된 몸체를 하고, 표면에 브러시 모(212)를 식모(植毛)할 수 있는 모든 물질이 사용 가능하다.Body portion 213 is formed in a cylindrical shape is connected to the shaft 211, it is preferable to have a length of at least the width of the substrate to be cleaned. The material of the body 213 may be a fixed body such as synthetic resins or metals such as plastic, and any material capable of planting the brush bristle 212 on the surface thereof may be used.

이러한 몸체부(213)는 샤프트(211)의 회전 운동과 연동되어 일정한 방향으로 회전된다. 몸체부(213)의 표면 중 일부 영역에는 브러시 모(212)가 식모되어 있어 몸체부(213)의 회전 운동 시 브러시 모(212)가 세정 대상인 기판과 접촉됨으로써 세정 공정을 수행하게 된다.The body portion 213 is rotated in a constant direction in conjunction with the rotational movement of the shaft 211. The brush bridging 212 is implanted in a portion of the surface of the body portion 213 so that the brush bristles 212 come into contact with the substrate to be cleaned during the rotational movement of the body portion 213 to perform a cleaning process.

또한, 샤프트(211)의 일단에서 타단으로 중심 홀(215)이 뚫려 있으며, 중심 홀(215)은 샤프트(211)의 양 끝단으로부터 몸체부(213)의 중심을 관통하도록 형성되어 있다. 샤프트(211)를 관통하는 중심 홀(215)의 양 끝단으로부터 탈이온수(DI: Deionized water)와 압축 공기(air)가 각각 투입되어 혼합된 후, 몸체부(213)의 외 관까지 형성되어 있는 중심 홀(215)을 통해 분사되어 세정 공정을 수행한다.In addition, the center hole 215 is drilled from one end of the shaft 211 to the other end, and the center hole 215 is formed to penetrate the center of the body portion 213 from both ends of the shaft 211. Deionized water (DI) and compressed air (DI) are introduced and mixed from both ends of the center hole 215 penetrating the shaft 211, respectively, and are formed to the outer tube of the body portion 213. It is injected through the center hole 215 to perform a cleaning process.

몸체부(213)의 표면 중 브러시 모(212)가 형성된 영역을 제외한 영역에는 중심 홀(215)과 연결되는 복수 개의 외부 홀(214)이 형성된다.A plurality of outer holes 214 connected to the center hole 215 is formed in an area except the area where the brush brim 212 is formed among the surfaces of the body part 213.

몸체부(213)의 표면 중 외부 홀(214)이 형성된 영역을 제1 세정 영역이라고 하면, 브러시 모(212)가 형성된 영역은 제2 세정 영역이 된다. 제1 세정 영역과 제2 세정 영역은 세정력을 강화할 수 있고, 브러시 모(212)로 인한 추가 이물을 유발하지 않는 최적의 분포가 되도록 구성한다.When the area | region in which the outer hole 214 was formed among the surfaces of the body part 213 is called a 1st cleaning area | region, the area | region in which the brush hair 212 was formed becomes a 2nd cleaning area | region. The first cleaning area and the second cleaning area can be configured to have an optimal distribution that can enhance the cleaning power and does not cause additional foreign matter due to the brush bristle 212.

이러한 구성의 일례로, 몸체부(213) 표면의 제1 세정 영역과 제2 세정 영역이 도 4 및 도 5에 도시된 것처럼, 몸체부(213)의 길이 방향으로 서로 교번하여 위치될 수 있다. 여기서, 몸체부(213)의 외관까지 형성된 복수의 외부 홀(214)은 몸체부(213)의 길이 방향을 따라 일정한 간격으로 배열된다.In one example of such a configuration, the first cleaning region and the second cleaning region of the surface of the body portion 213 may be alternately positioned in the longitudinal direction of the body portion 213, as shown in FIGS. 4 and 5. Here, the plurality of outer holes 214 formed up to the exterior of the body portion 213 are arranged at regular intervals along the longitudinal direction of the body portion 213.

일정한 간격을 두고, 세정용 브러시(210)에 브러시 모(212)가 고정적으로 박혀 있으므로, 세정용 브러시(210)의 회전력 및 접촉력에 의해 기판에 부착되거나 고착된 이물이 제거된다. 브러시 모(212)의 재질은 고착성 이물을 물리적으로 뜯어내 제거하기 용이한 나일론 등을 사용한다.Since the brush bristles 212 are fixedly embedded in the cleaning brush 210 at regular intervals, the foreign matter adhered to or adhered to the substrate is removed by the rotational force and the contact force of the cleaning brush 210. The material of the brush bristles 212 is nylon, which is easy to physically peel off and remove the adherent foreign matter.

동시에, 하나의 브러시 모(212)와 다른 브러시 모(212) 사이에 샤프트(211) 및 몸체부(213)의 양 끝단을 관통하는 중심 홀(215)과 연결되는 복수의 외부 홀(214)이 뚫려 있다. 그리고, 중심 홀(215)의 양단으로 주입된 탈이온수(DI)와 압축 공기(air)가 혼합되어 버블(bubble)을 생성한 후 생성된 버블(bubble)이 복수의 외부 홀(214)을 통해 방사되어 기판(glass) 표면의 먼지 및 미세 입자 등을 제거한 다.At the same time, a plurality of outer holes 214 are connected between one brush brim 212 and the other brush brim 212, which are connected to the center hole 215 penetrating both ends of the shaft 211 and the body 213. It is open. The deionized water (DI) injected into both ends of the center hole 215 and the compressed air are mixed to generate a bubble, and then the bubble is generated through the plurality of outer holes 214. Is radiated to remove dust and fine particles on the surface of the glass (glass).

이와 같이, 브러시 모(212)를 이용한 물리적 세정 기능과 버블 젯 세정 기능을 일체화시킨 세정용 브러시(210)를 통해 택트 타임을 줄이고, 세정력을 강화하며, 세정 장비의 전체적인 운용 면적을 줄일 수 있다.As such, the cleaning brush 210 integrating the physical cleaning function and the bubble jet cleaning function using the brush bristle 212 may reduce the tact time, enhance the cleaning power, and reduce the overall operating area of the cleaning equipment.

또한, 종래의 세정용 브러시의 경우, 브러시 모에 형성된 이물이 오히려 기판에 묻을 수 있어 불량과 수율 저하가 유발되는 문제가 있었으나, 세정용 브러시(210)는 물리적 세정과 버블 젯을 이용한 세정을 동시에 수행하므로 이러한 문제를 개선할 수 있다.In addition, in the case of the conventional cleaning brush, there is a problem that foreign matter formed on the brush bristle may be rather buried on the substrate, causing defects and reduced yield, the cleaning brush 210 performs the physical cleaning and cleaning using the bubble jet at the same time Therefore, this problem can be improved.

도 6은 도 4 및 도 5의 세정용 브러시를 구비한 기판 세정 장치의 구성도이다.FIG. 6 is a configuration diagram of a substrate cleaning apparatus including the cleaning brush of FIGS. 4 and 5.

도 6을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 세정 장치는 복수의 세정용 브러시(210)와 기판 이송 라인(331) 등을 포함한다.Referring to FIG. 6, a substrate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention includes a plurality of cleaning brushes 210 and a substrate transfer line 331.

세정용 브러시(210)는 샤프트(211)와 몸체부(213) 등을 구비한다.The cleaning brush 210 includes a shaft 211, a body portion 213, and the like.

샤프트(211)와 몸체부(213)의 내측에는 중심 홀(215)이 형성되며, 몸체부(213)의 표면 일부에는 직접적인 기판 세정 기능을 수행하는 브러시 모(212)가 식모되고, 다른 일부에는 중심 홀(215)까지 관통된 복수의 외부 홀(214)이 형성된다.A center hole 215 is formed inside the shaft 211 and the body portion 213, and a brush brim 212 that performs a direct substrate cleaning function is planted on a portion of the surface of the body portion 213, and the other portion thereof. A plurality of outer holes 214 penetrated to the center hole 215 is formed.

이때, 몸체부(213)는 별도의 구동 수단 등과 연결된 샤프트(211)의 회전에 연동되어 일정한 방향으로 회전 운동을 하고, 회전 운동에 의해 기판(glass)의 물리적 세정이 이루어진다.At this time, the body portion 213 is rotated in a predetermined direction in conjunction with the rotation of the shaft 211 connected to a separate drive means, etc., the physical cleaning of the substrate (glass) is made by the rotation movement.

또한, 샤프트(211)를 관통하는 중심 홀(215)의 양 끝단으로부터 탈이온수(DI)와 압축 공기(air)가 각각 투입되어 혼합된 후, 몸체부(213)의 외관까지 형성되어 있는 중심 홀(215)을 통해 분사되는 과정을 통해 버블 젯 세정이 이루어진다.In addition, deionized water (DI) and compressed air (air) are introduced and mixed from both ends of the center hole 215 penetrating the shaft 211, respectively, and then the center hole is formed to the exterior of the body portion 213. Bubble jet cleaning is performed through a process of spraying through (215).

이와 같이, 브러시 모(212)를 이용한 물리적 세정 기능과 버블 젯 세정 기능이 통합된 세정용 브러시(210)를 통해 세정력 강화 등 여러 가지 효과가 발생함은 전술한 바와 같다.As described above, various effects such as enhanced cleaning power are generated through the cleaning brush 210 in which the physical cleaning function and the bubble jet cleaning function using the brush brim 212 are integrated.

일정한 속도와 방향으로 세정 대상이 되는 기판(glass)을 이송시키는 기판 이송 라인(331)으로는 하부의 롤러(도시되지 않음)에 의해 구동되는 컨베이어 벨트 등이 적용될 수 있다.A conveyor belt driven by a lower roller (not shown) may be applied to the substrate transfer line 331 which transfers the glass to be cleaned at a constant speed and direction.

여기서, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 세정 장치는 적어도 2개 이상의 세정용 브러시(210)를 구비하는 것이 바람직하다.Here, the substrate cleaning apparatus according to the embodiment of the present invention preferably includes at least two cleaning brushes 210.

경우에 따라, 버블(bubble)을 생성하여 방사시키는 공정을 생략하거나 브러시 모(212)에 의한 물리적 세정 공정을 생략하여 하나의 세정 공정만을 선택적으로 수행할 수도 있다.In some cases, only one cleaning process may be selectively performed by omitting a process of generating and spinning a bubble or omitting a physical cleaning process by the brush bristle 212.

도 7은 도 4 및 도 5의 세정용 브러시를 구비한 기판 세정 시스템의 구성도이다.7 is a block diagram of a substrate cleaning system having the cleaning brush of FIGS. 4 and 5.

도 7을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 세정 시스템은 액정 표시 장치에 사용되는 기판(glass)이 로딩(loading)되는 로더 포트(310), 로더 포트(310)로 로딩된 기판(glass)을 세척하기 위한 세정부(320, 330, 340, 350), 세정 부(320, 330, 340, 350)를 통과한 기판(glass)을 언로딩(unloading)하여 후속 공정으로 이송시키기 위한 언로더 포트(360)로 구성된다.Referring to FIG. 7, a substrate cleaning system according to an exemplary embodiment of the present invention may include a loader port 310 and a substrate loaded with a loader port 310, in which a glass used in a liquid crystal display is loaded. Unloading the glass passed through the cleaning unit 320, 330, 340, 350, the cleaning unit 320, 330, 340, 350 for cleaning the glass to transfer to the subsequent process It consists of a loader port 360.

도 7과 같이 일체화되어 있는 인라인(In-line) 공정에 의해 기판(glass)을 세정함으로써, 수율을 향상시킬 수 있다. The yield can be improved by cleaning the substrate by an in-line process integrated as shown in FIG. 7.

예를 들어, 기판(glass) 상에 전극 및 배향막이 형성되고, 러빙 처리된 후 세정 공정을 실행하면, 러빙 시에 부착된 기판(glass) 표면의 이물질이나 오염을 제거하고, 배향의 흐트러짐이나 얼룩을 방지하여 표시 품위가 높은 액정 패널을 제조할 수 있다.For example, when an electrode and an alignment film are formed on a glass, and a cleaning process is performed after rubbing, foreign matter or contamination on the surface of the glass attached to the glass during rubbing is removed, and the alignment is disturbed or stained. It is possible to prevent the liquid crystal panel having a high display quality.

인라인 구조에서는, 각종 케미컬을 이용한 여러 단계의 세정 과정이나 건조 과정을 한 곳에서 진행하므로, 기판(glass)이 대기 중에 노출되는 시간을 최소화하여 대기 중 노출로 인한 얼룩이나 오염을 줄일 수 있고, 이물질 제거율을 균일하게 맞추기 쉽다.In the in-line structure, various steps of cleaning or drying processes using chemicals are performed in one place, thereby minimizing the time that the glass is exposed to the air, thereby reducing stains or contamination caused by exposure to the air. It is easy to match removal rate uniformly.

로더 포트(310)는 세정 대상이 되는 기판(glass)을 기판 세정 시스템에 투입하기 위한 부위로서 컨베이어의 형태로 설치된다. 어느 하나의 단위 공정을 마친 후 일정한 개수만큼 카세트(cassette)에 탑재된 기판(glass)들은 하나씩 로더 포트(310)로 투입된다.The loader port 310 is installed in the form of a conveyor as a part for injecting a glass to be cleaned into a substrate cleaning system. After the completion of any one unit process, the glass (glasses) mounted in the cassette (cassette) by a predetermined number is introduced into the loader port 310 one by one.

액정 표시 장치를 구성하는 기판(glass)은 각 기판(glass)을 여러 개 수납할 수 있는 카세트에 저장되어 반송되므로, 한 번에 여러 장의 기판(glass)이 반송된다.Since the glass constituting the liquid crystal display device is stored and conveyed in a cassette capable of storing a plurality of glass substrates, several glass glasses are conveyed at one time.

로더 포트(310) 및 언로더 포트(360)에는 로봇(robot)이 대기하고 있어, 카 세트에 탑재된 일정 개수의 기판(glass)들을 카세트로부터 순차적으로 분리하여 로더 포트(310)로 정렬시키거나 언로더 포트(360)로부터 이후의 후속 공정으로 이송시킨다.In the loader port 310 and the unloader port 360, a robot is waiting, and a predetermined number of glasses mounted on the cassette are sequentially separated from the cassette and aligned with the loader port 310. Transfer from unloader port 360 to subsequent subsequent processes.

로봇은 카세트 내에 수납되어 있는 기판(glass)을 로더 포트(310)나 언로더 포트(360) 부근에서 이동시키며, 로더 포트(310) 및 언로더 포트(360)의 높이에 따라 상승이나 하강 동작을 하고, 그 위치에 따라 전/후진 동작을 한다.The robot moves the glass stored in the cassette near the loader port 310 or the unloader port 360, and moves the glass up or down depending on the height of the loader port 310 and the unloader port 360. And forward / backward operation according to the position.

로봇에 의해 로더 포트(310)로 투입된 기판(glass)들은 로더 포트(310)의 구동에 따라 세정부(320, 330, 340, 350)에 순차적으로 투입되고, 세정부(320, 330, 340, 350)를 통과하면서 세척 및 건조된다.Substrates (glass) introduced into the loader port 310 by the robot are sequentially introduced into the cleaning units 320, 330, 340, and 350 according to the driving of the loader port 310, and the cleaning units 320, 330, 340, It is washed and dried while passing through 350).

그 후, 건조된 기판(glass)이 언로더 포트(360)에 도달하여 배출되면, 후속 공정을 위하여 로봇에 의해 카세트에 인계된다.Thereafter, when the dried glass reaches the unloader port 360 and is discharged, it is turned over to the cassette by the robot for subsequent processing.

세정부(320, 330, 340, 350)에 적용되는 세정 방법으로는 물리적 세정(physical cleaning), 화학적 세정(chemical cleaning), 건식 세정(dry cleaning)이 있다.Cleaning methods applied to the cleaning units 320, 330, 340, and 350 include physical cleaning, chemical cleaning, and dry cleaning.

도 7을 참조하여 보다 자세히 살펴보면 다음과 같다.Looking in more detail with reference to Figure 7 as follows.

도 7을 참조하면, 세정부(320, 330, 340, 350)는 건식 세정을 통해 기판(glass)을 세정하는 전 처리부(320), 세정용 브러시(210)를 이용해 기판(glass)의 물리적 세정과 버블 젯 세정을 수행하는 브러시 세정부(330), 탈이온수를 분사하여 기판(glass)을 최종 세정하여 기판(glass)에 남은 수분이나 이물질을 제거하는 후 처리부(340) 등을 포함한다.Referring to FIG. 7, the cleaning units 320, 330, 340, and 350 are physically cleaned of the glass using the pretreatment unit 320 and the cleaning brush 210 to clean the glass through dry cleaning. And a brush cleaning unit 330 for performing bubble jet cleaning, deionized water is sprayed to finally clean the substrate, and thereafter, the processing unit 340 removes water or foreign substances from the glass.

로더 포트(310)로 투입된 기판(glass)들은 로더 포트(310)의 구동에 따라 전 처리부(320)에 순차적으로 진입된다. 이러한 전 처리부(320)는 로더 포트(310)에서 연속적으로 반입되는 기판(glass)들을 건식 세정을 통해 기판(glass) 상의 이물을 제거한다. 건식 세정 방법으로는 자외선의 고분자 분해 능력을 이용하여 자외선을 오존과 함께 사용함으로써 고분자 오염물을 제거하는 방법 등이 있다.The glasses introduced into the loader port 310 sequentially enter the pretreatment unit 320 according to the driving of the loader port 310. The pretreatment unit 320 removes foreign substances on the glass through dry cleaning of the glass (glass) continuously loaded in the loader port (310). Dry cleaning methods include a method of removing polymer contaminants by using ultraviolet light together with ozone by utilizing the polymer decomposition ability of ultraviolet light.

전 처리부(320)에 연이어 이웃하는 소정의 위치에는 기판(glass) 표면에 묻은 먼지 및 미세 입자 등을 제거하기 위한 브러시 세정부(330)가 배치된다. 전 처리 공정이 진행된 기판(glass)은 브러시 세정부(330)로 연속 이송된다. 브러시 세정부(330)에는 기판(glass)의 상부나 하부에 위치하는 세정용 브러시(210)가 배치되어 있으며, 기판(glass)의 표면을 스크러빙(Scrubbing)한다.The brush cleaning unit 330 is disposed at a predetermined position adjacent to the pretreatment unit 320 to remove dust and fine particles from the surface of the substrate. The glass on which the pretreatment process is performed is continuously transferred to the brush cleaner 330. The brush cleaning unit 330 is disposed on the upper or lower portion of the glass (cleaning brush) 210, and scrub the surface of the glass (glass).

브러시 세정부(330)를 동작시키는 구동부는 속도가 연동 조절되는 구동 모터와 마그네틱 기어, 스폰지 롤러 등을 이용하여 브러시를 일정한 속도로 구동한다.The driving unit for operating the brush cleaning unit 330 drives the brush at a constant speed by using a driving motor, a magnetic gear, a sponge roller, and the like, in which the speed is interlocked.

이와 같이, 로더 포트(310)의 컨베이어 롤러로 투입되어 전 처리부(320)를 거쳐 브러시 세정부(330)로 반송된 기판(glass)이 세정용 브러시(210)의 브러시 모(212) 사이를 통과하면서 기판(glass) 표면의 미세한 이물질이 제거된다.In this way, the glass (glass) introduced into the conveyor roller of the loader port 310 and conveyed to the brush cleaning unit 330 via the pretreatment unit 320 passes between the brush bristles 212 of the cleaning brush 210. While fine foreign matter on the surface of the glass (glass) is removed.

동시에, 브러시 세정부(330)는 세정용 브러시(210)의 중심 홀(215)과 외부 홀(214)을 통해 탈이온수(DI)와 압축 공기(air)를 혼합하여 버블(bubble)을 생성한 후 반송된 기판(glass)으로 분사함으로써 세정력을 강화한다.At the same time, the brush cleaner 330 mixes deionized water (DI) and compressed air through the center hole 215 and the outer hole 214 of the cleaning brush 210 to generate a bubble. After that, the cleaning power is enhanced by spraying onto the conveyed glass.

여기서 사용되는 세정용 브러시(210)의 구성은 도 4 및 도 5를 통해 상술한 바와 같다.The configuration of the cleaning brush 210 used here is as described above with reference to FIGS. 4 and 5.

도시되지는 않았으나, 세정부(320, 330, 340, 350)에는 세정 용액에 의하여 기판(glass)을 세정하는 세제부나 탈이온수를 이용해 세정된 기판(glass)을 헹구어내는 린스부, 기판(glass)에 초음파를 가하여 이물질을 제거하는 초음파 세정부 등이 더 포함될 수 있다.Although not shown, the cleaning parts 320, 330, 340, and 350 may include a detergent part for cleaning the glass by a cleaning solution or a rinse part for rinsing the cleaned glass using deionized water. Ultrasonic cleaning unit for removing the foreign matter by applying an ultrasonic wave may be further included.

세제부는 하나 이상의 노즐이 설치되며, 기판(glass)의 세정 조건에 대응하여 세정 용액으로 IPA(이소프로필알콜) 등의 케미컬(chemical)이 탈이온수에 희석된 상태로 분사한다.The detergent unit is provided with one or more nozzles, and sprays a chemical solution such as IPA (isopropyl alcohol) diluted in deionized water with a cleaning solution corresponding to the cleaning conditions of the glass.

린스부는 기판(glass)의 표면에 잔존하는 세정 용액 등을 헹구어내기 위하여 탈이온수를 분사한다.The rinse unit sprays deionized water to rinse the remaining cleaning solution or the like on the surface of the glass.

이와 같이, 롤러 컨베이어에 의해서 이송되는 기판(glass)에 전 처리부(320) 및 브러시 세정부(330), 후 처리부(340)에 이르기까지 건식 세정을 수행하고, 버블 젯을 분사하여 브러시 모(212)로 닦아낸 후 탈이온수로 세정하는 등의 공정을 거쳐 기판(glass)의 표면으로부터 이물질을 제거한다.In this way, dry cleaning is performed on the glass transferred by the roller conveyor to the pretreatment unit 320, the brush cleaner 330, and the post processor 340, and sprayed with a bubble jet, the brush bristle 212. After wiping with), it is cleaned with deionized water to remove foreign substances from the surface of the glass.

이후, 기판(glass)은 에어 나이프부(air knife block)(350)로 이송되어 건조 작업을 거치게 된다.Thereafter, the glass is transferred to an air knife block 350 to undergo a drying operation.

즉, 기판(glass)은 전 처리부(320), 브러시 세정부(330), 후 처리부(340) 등을 통과하며 브러시 또는 고압 샤워 등을 이용하여 세정되고, 이후 에어 나이프부(350)에 의한 건조 공정을 거친 다음에 후속 공정으로 진입한다. 이때, 기판(glass)은 롤러의 회전에 의해 동작되는 롤러 컨베이어를 통해 연속적으로 이동된다.That is, the glass (glass) passes through the pre-treatment unit 320, brush cleaning unit 330, post-processing unit 340 and the like, and is cleaned using a brush or a high pressure shower, and then dried by the air knife unit 350 After the process, it enters the subsequent process. At this time, the glass (glass) is continuously moved through the roller conveyor operated by the rotation of the roller.

에어 나이프부(350)는 압축 공기를 분사하여 세정된 기판(glass) 상에 존재하는 수분을 건조시키게 되는데, 펌프를 통해 공급된 압축 공기를 기판(glass)에 분사하여 수분을 제거/건조시킨다.The air knife unit 350 blows compressed air to dry moisture present on the cleaned glass, and removes / drys moisture by spraying compressed air supplied through a pump onto the glass.

보다 구체적으로, 에어 나이프부(350)에서는 에어 블로워(air blower)에 의해서 공급된 압축 에어가 에어 주입구를 통해 에어 나이프부(350)의 몸체로 유입된다. 유입된 압축 에어는 노즐로 공급되고 노즐에서 유속이 증가하게 되어, 에어 배출구를 통해 고압의 에어가 기판(glass)으로 분사된다. More specifically, in the air knife unit 350, the compressed air supplied by the air blower (air blower) is introduced into the body of the air knife unit 350 through the air inlet. The introduced compressed air is supplied to the nozzle and the flow rate is increased at the nozzle, so that high pressure air is injected into the glass through the air outlet.

이와 같이 분사되는 고압의 에어에 의해 기판(glass) 상에 남아있는 세정액이나 수분을 기판(glass)으로부터 분리시킴으로써 기판(glass)을 건조시키게 된다. The glass is dried by separating the cleaning liquid or moisture remaining on the glass from the glass by the high pressure air jetted in this way.

언로더 포트(360)에 위치한 로봇(robot)은 먼저 이송된 기판(glass)을 언로딩하여 카세트에 탑재시키고, 일정한 개수의 기판(glass)들이 탑재된 카세트를 다음 공정 위치로 이송시키게 된다.The robot located at the unloader port 360 first unloads the transferred glass and mounts the cassette on the cassette, and transfers the cassette on which the predetermined number of glass is loaded to the next process position.

이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다.Although embodiments of the present invention have been described above with reference to the accompanying drawings, those skilled in the art to which the present invention pertains may implement the present invention in other specific forms without changing the technical spirit or essential features thereof. I can understand that.

따라서, 이상에서 기술한 실시예들은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이므로, 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 하며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.Therefore, since the embodiments described above are provided to completely inform the scope of the invention to those skilled in the art, it should be understood that they are exemplary in all respects and not limited. The invention is only defined by the scope of the claims.

상기한 바와 같이 이루어진 본 발명에 따른 세정용 브러시, 이를 구비한 기판 세정 장치 및 기판 세정 시스템은 세정 공정의 운용 면적을 감소시킬 수 있다.The cleaning brush according to the present invention made as described above, the substrate cleaning device and the substrate cleaning system having the same can reduce the operating area of the cleaning process.

또한, 본 발명에 따른 세정용 브러시, 이를 구비한 기판 세정 장치 및 기판 세정 시스템은 세정력을 강화하고, 브러시 모 사이의 적치되는 이물로 인해 유발되는 추가 이물을 방지하여 수율을 향상시킬 수 있다.In addition, the cleaning brush according to the present invention, the substrate cleaning apparatus and the substrate cleaning system having the same can enhance the cleaning power, and can improve the yield by preventing additional foreign matter caused by the foreign matter deposited between the brush bristle.

또한, 본 발명에 따른 세정용 브러시, 이를 구비한 기판 세정 장치 및 기판 세정 시스템은 택트 타임(Tact time)을 줄여 작업 효율을 향상시킬 수 있다.In addition, the cleaning brush according to the present invention, the substrate cleaning device and the substrate cleaning system having the same can improve the work efficiency by reducing the tact time (Tact time).

Claims (11)

샤프트(shaft);Shafts; 상기 샤프트와 연결되며, 상기 샤프트의 회전 운동에 연동되어 일정한 방향으로 회전 운동하는 원통형의 몸체부;A cylindrical body part connected to the shaft and rotating in a predetermined direction in association with a rotational motion of the shaft; 상기 샤프트의 양 끝단으로부터 상기 몸체부의 중심을 관통하도록 형성된 중심 홀;A center hole formed to penetrate the center of the body portion from both ends of the shaft; 상기 몸체부 표면의 제1 세정 영역에 형성되어 상기 중심 홀과 연결되는 복수의 외부 홀; 및A plurality of outer holes formed in a first cleaning area of the surface of the body part and connected to the center holes; And 상기 몸체부 표면의 제2 세정 영역에 식모(植毛)되어 상기 몸체부의 회전 운동에 의해 세정 기능을 수행하는 브러시 모Brush bristles in the second cleaning area of the surface of the body portion to perform the cleaning function by the rotational movement of the body portion 를 포함하는 세정용 브러시.Cleaning brush comprising a. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 중심 홀의 양 끝단으로부터 탈이온수와 압축 공기가 각각 투입되어 혼합된 후, 상기 복수의 외부 홀을 통해 분사되어 추가적인 세정 기능을 수행하는 것을 특징으로 하는 세정용 브러시.The deionized water and the compressed air are respectively injected and mixed from both ends of the center hole, and then the cleaning brush is sprayed through the plurality of outer holes to perform an additional cleaning function. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 몸체부 표면의 상기 제1 세정 영역과 상기 제2 세정 영역은 상기 몸체 부의 길이 방향으로 서로 교번되도록 위치하는 것을 특징으로 하는 세정용 브러시.And the first cleaning area and the second cleaning area of the surface of the body part are alternately positioned in the longitudinal direction of the body part. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 복수의 외부 홀은,The plurality of outer holes, 상기 몸체부의 길이 방향을 따라 일정한 간격으로 배열된 것을 특징으로 하는 세정용 브러시.Cleaning brush, characterized in that arranged at regular intervals along the longitudinal direction of the body portion. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 따른 세정용 브러시를 구비하는 기판 세정 장치.The substrate cleaning apparatus provided with the cleaning brush in any one of Claims 1-4. 제5항에 있어서,The method of claim 5, 상기 세정용 브러시는 적어도 2개 이상 구비되는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.Substrate cleaning apparatus, characterized in that provided with at least two cleaning brushes. 기판이 투입되는 로더 포트(loader port);A loader port into which a substrate is inserted; 상기 기판을 건식 세정하는 전 처리부;A pre-processing unit for dry cleaning the substrate; 탈이온수와 압축 공기를 이용해 상기 세정된 기판을 헹구어내고, 동시에 세정용 브러시를 이용해 상기 세정된 기판을 물리적으로 닦아내는 브러시 세정부;A brush cleaner for rinsing the cleaned substrate using deionized water and compressed air and physically wiping the cleaned substrate using a cleaning brush; 탈이온수를 분사하여 상기 닦아진 기판을 최종 세정하여 상기 기판에 남은 수분이나 이물질을 제거하는 후 처리부;A post-processing unit spraying deionized water to finally clean the wiped substrate to remove moisture or foreign matter remaining on the substrate; 상기 최종 세정된 기판을 건조시키는 에어 나이프부; 및An air knife part for drying the final cleaned substrate; And 상기 건조된 기판을 언로딩하여 배출하는 언로더 포트(unloader port)Unloader port for unloading and discharging the dried substrate 를 포함하는 기판 세정 시스템.Substrate cleaning system comprising a. 제7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 브러시 세정부의 세정용 브러시는,The brush for cleaning the brush cleaning unit, 샤프트(shaft);Shafts; 상기 샤프트와 연결되며, 상기 샤프트의 회전 운동에 연동되어 일정한 방향으로 회전 운동하는 원통형의 몸체부;A cylindrical body part connected to the shaft and rotating in a predetermined direction in association with a rotational motion of the shaft; 상기 샤프트의 양 끝단으로부터 상기 몸체부의 중심을 관통하도록 형성된 중심 홀;A center hole formed to penetrate the center of the body portion from both ends of the shaft; 상기 몸체부 표면의 제1 세정 영역에 형성되어 상기 중심 홀과 연결되는 복수의 외부 홀; 및A plurality of outer holes formed in a first cleaning area of the surface of the body part and connected to the center holes; And 상기 몸체부 표면의 제2 세정 영역에 식모(植毛)되어 상기 몸체부의 회전 운동에 의해 세정 기능을 수행하는 브러시 모Brush bristles in the second cleaning area of the surface of the body portion to perform the cleaning function by the rotational movement of the body portion 를 포함하는 기판 세정 시스템.Substrate cleaning system comprising a. 제8항에 있어서,The method of claim 8, 상기 중심 홀의 양 끝단으로부터 탈이온수와 압축 공기가 각각 투입되어 혼합된 후, 상기 복수의 외부 홀을 통해 분사되어 추가적인 세정 기능을 수행하는 것 을 특징으로 하는 기판 세정 시스템.And deionized water and compressed air are introduced and mixed from both ends of the center hole, respectively, and then sprayed through the plurality of outer holes to perform an additional cleaning function. 제8항에 있어서,The method of claim 8, 상기 몸체부 표면의 상기 제1 세정 영역과 상기 제2 세정 영역은 상기 몸체부의 길이 방향으로 서로 교번되도록 위치하는 것을 특징으로 하는 기판 세정 시스템.And the first cleaning region and the second cleaning region of the body portion surface are alternately positioned in the longitudinal direction of the body portion. 제8항에 있어서,The method of claim 8, 상기 복수의 외부 홀은,The plurality of outer holes, 상기 몸체부의 길이 방향을 따라 일정한 간격으로 배열된 것을 특징으로 하는 기판 세정 시스템.Substrate cleaning system, characterized in that arranged at regular intervals along the longitudinal direction of the body portion.
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