JPH10251852A

JPH10251852A - 粉末原料気化装置

Info

Publication number: JPH10251852A
Application number: JP5748197A
Authority: JP
Inventors: Masatoshi Kudo; ▲真▼壽工藤; Hideaki Yasui; 秀明安井; Hiroyoshi Tanaka; 博由田中; Akira Shiokawa; 塩川　　晃; Yoshiki Sasaki; 良樹佐々木; Ryuichi Murai; 隆一村井; Masaki Aoki; 正樹青木
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 1997-03-12
Filing date: 1997-03-12
Publication date: 1998-09-22

Abstract

(57)【要約】【課題】大量の原料ガスを発生させることが可能であ
り、かつ、原料気化室から原料容器へと原料ガスが流れ
ることを防止し得るとともに、粉末原料の供給を安定化
することが容易な構成とされた粉末原料気化装置を提供
する。【解決手段】本発明にかかる粉末原料気化装置１は、
粉末原料Ｇを供給する漏斗形状の原料容器２が内装され
た原料供給室３と、傾斜支持されて原料容器２からの粉
末原料Ｇが通過する原料通路４と、この原料通路４の排
出端部４ａから排出された粉末原料Ｇを加熱して気化さ
せる回転移動台５が内装された原料気化室６と、少なく
とも原料通路４の排出端部４ａを回転移動台５の移動方
向と交差する向きに沿って揺動動作させる揺動機構７と
を備えており、原料容器２は下端部の側面位置に粉末原
料Ｇの排出開口２ａが形成され、振動機構８でもって振
動動作させられるものであることを特徴としている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は粉末原料気化装置に
かかり、詳しくは、有機金属化合物からなる粉末原料を
用いた気相成長法を採用して金属酸化物の薄膜を製造す
る際に使用される粉末原料気化装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年における電子機器の小型軽量化及び
高性能化に伴っては誘電体や磁性体、超伝導体などとし
て機能する金属酸化物の薄膜を作製することが行われて
おり、この種の金属酸化物薄膜を作製するに際しては、
真空度が比較的低い条件下でも高品質薄膜を高速度で作
製することができ、かつ、コストを考慮したうえでの量
産性にも優れた気相成長法（ＭＯ−ＣＶＤ法）を採用す
るのが一般的となっている。そして、このＭＯ−ＣＶＤ
法にあっては、飽和蒸気圧が高くて常温下では気体また
は液体である原料を用いたうえで金属酸化物薄膜を作製
することが行われているが、ＭｇＯなどの誘電体やＹ−
Ｂａ−Ｃｕ−Ｏ系高温超伝導体などのような金属酸化物
薄膜を作製する場合には、飽和蒸気圧が低くて常温下で
は固体の原料を気化させたうえで金属酸化物薄膜を作製
する必要があるとされている。

【０００３】そこで、固体である原料を気化させる際に
は粉末原料気化装置が使用されることになり、粉末原料
気化装置の一例としては特開平５−３１１４４６号公報
で開示されたものがある。すなわち、この粉末原料気化
装置３１は、図５で簡略化して示すように、有機金属化
合物である粉末原料Ｇを加熱して気化させる回転移動台
３２が内装された原料気化室３３を備えたものであり、
原料気化室３３はガス通路３４を介したうえで成膜室３
５と連通接続されている。そして、この際における成膜
室３５は金属酸化物薄膜を作製すべく載置されたガラス
製などの基板Ｗを加熱する基板台３６が内装されたもの
である一方、ガス通路３４は原料気化室３３内で発生し
た原料ガスを成膜室３５内へと導入するものであり、そ
の途中位置には流量調節弁３７が介装されている。な
お、図示省略しているが、回転移動台３２及び基板台３
６の各々にはヒータが埋設されており、また、原料気化
室３３及びガス通路３４、成膜室３５のそれぞれには壁
面ヒータ３８が設けられている。

【０００４】また、原料気化室３３の上側位置には、粉
末原料Ｇを収納したうえ、バイブレータといわれる振動
機構３９でもって振動動作させられることに伴って粉末
原料Ｇを供給する漏斗形状の原料容器４０が配設されて
おり、この原料容器４０の下端部位置に形成された排出
開口４０ａを下向き方向に沿って通過した粉末原料Ｇは
自重でもって落下し、かつ、傾斜支持された原料通路４
１を通過したうえで回転移動台３２上に供給されること
になっている。そして、原料気化室３３内には回転移動
台３２上に残存した粉末原料Ｇを掻き取り除去するため
の掻取具４２が配設されており、掻取具４２でもって掻
き取り除去された粉末原料Ｇは回転移動台３２の下側位
置に設けられた廃原料容器４３でもって蓄えられること
になっている。

【０００５】さらに、この際における原料気化室３３に
対しては、マスフローコントローラといわれる流量調節
機構４４が介装されたキャリアガス導入管４５を通じて
窒素ガスなどのキャリアガスが導入されているととも
に、真空排気機器４６でもって真空度が調節される成膜
室３５内には酸素ガスなどのような反応ガスが反応ガス
導入管４７を通じたうえで導入されており、原料気化室
３３と原料容器４０との間は真空度を均一化するための
バイパス管４８を介したうえで連通接続されている。し
たがって、この粉末原料気化装置３１を使用することに
よっては、つぎのような成膜処理が実施されることにな
る。

【０００６】まず、原料容器４０内に粉末原料Ｇを充填
し、かつ、原料容器４０の排出開口４０ａを開操作した
うえ、振動機構３９でもって原料容器４０を振動動作さ
せると、原料容器４０の排出開口４０ａからは粉末原料
Ｇが排出されてくることになり、排出されてきた粉末原
料Ｇは原料通路４１を通過したうえで回転移動台３２上
に供給される。そして、回転移動台３２を移動させなが
ら粉末原料Ｇを加熱すると、加熱された粉末原料Ｇは気
化させられることになり、発生した原料ガスはキャリア
ガスとともにガス通路３４を通ったうえで成膜室３５内
へと流入する。一方、この際における成膜室３５は真空
排気機器４６でもって減圧されており、その内部には反
応ガスが導入されている。そのため、成膜室３５内に流
入した原料ガスと反応ガスとは、基板台３６によって加
熱された基板Ｗ上で反応することになり、基板Ｗ上には
所要の金属酸化物薄膜が作製される。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】ところで、前記従来の
粉末原料気化装置３１においては、原料容器４０の排出
開口４０ａから排出されたうえで原料通路４１を通過し
た粉末原料Ｇが回転移動台３２上の特定位置に対しての
み供給されることになり、供給された粉末原料Ｇが回転
移動台３２上に拡がりながら散布されることにはなりが
たいため、特に、気化時の吸熱エネルギが大きい粉末原
料Ｇや飽和蒸気圧が低い粉末原料Ｇにあっては加熱が不
十分となる結果、大量の原料ガスを発生させることがで
きないことになっていた。また、この粉末原料気化装置
３１では、原料気化室３３及び原料容器４０間をバイパ
ス管４８でもって連通接続することが行われているので
あるが、バイパス管４８を加熱することは実行されてい
ないため、原料気化室３３内で発生した原料ガスがバイ
パス管４８を通過中に冷却されることによって再固化し
たうえでバイパス管４８の内面上に付着し、このバイパ
ス管４８が詰まることも起こっていた。

【０００８】さらに、従来構成とされた粉末原料気化装
置３１では、原料容器４０の排出開口４０ａ付近にある
粉末原料Ｇが原料容器４０の振動動作に伴って排出され
たうえで自重によって落下することになるが、図６で例
示するように、排出開口４０ａ付近にあった粉末原料Ｇ
がまとまって排出されることがあり、その後にアーチ形
状の空間部分Ｓが形成された場合には、原料容器４０を
振動動作させているにも拘わらず、粉末原料Ｇが引き続
いて排出されないことになる結果、金属酸化物薄膜の作
製を続行することができないという不都合も生じてい
た。そして、このような場合には、粉末原料２２が排出
されないまでには至らずとも粉末原料２２が断続した脈
動的な状態で排出されることになりかねず、このような
状態になると、原料気化室３３内で発生する原料ガスの
量が変動することになる結果、金属酸化物薄膜の劣化が
生じることになっていた。

【０００９】本発明は、これらの不都合に鑑みて創案さ
れたものであって、大量の原料ガスを発生させることが
可能であり、かつ、原料気化室から原料容器へと原料ガ
スが流れることを防止し得るとともに、粉末原料の安定
供給を実現することができる粉末原料気化装置の提供を
目的としている。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明にかかる粉末原料
気化装置は、粉末原料を供給する漏斗形状の原料容器が
内装された原料供給室と、傾斜支持されて原料容器から
の粉末原料が通過する原料通路と、この原料通路の排出
端部から供給された粉末原料を加熱して気化させる回転
移動台が内装された原料気化室と、少なくとも原料通路
の排出端部を回転移動台の移動方向と交差する向きに沿
って揺動動作させる揺動機構とを備えており、原料容器
は下端部の側面位置に粉末原料の排出開口が形成され、
振動機構でもって振動動作させられるものであることを
特徴としている。そして、この構成を採用した際には、
原料通路の排出端部を揺動動作させながら粉末原料を回
転移動台上に供給しているので、粉末原料が回転移動台
上に拡がった状態で供給されることとなる結果、粉末原
料を十分に加熱することが可能となるばかりか、原料容
器の下端部の側面位置に対して排出開口を形成している
ので、粉末原料がまとまって排出されることはなくな
る。

【００１１】また、本発明にかかる粉末原料気化装置
は、粉末原料を供給する漏斗形状の原料容器が内装され
た原料供給室と、傾斜支持されて原料容器からの粉末原
料が通過する原料通路と、この原料通路の排出端部から
供給された粉末原料を加熱して気化させる水平移動台が
内装された原料気化室とを備えており、原料容器は下端
部の側面位置に粉末原料の排出開口が形成され、振動機
構でもって振動動作させられるものである一方、原料通
路の排出端部は水平移動台の移動方向と交差する向きに
沿って粉末原料を拡げながら供給するものであることを
特徴としている。そして、この構成によると、原料通路
の排出端部でもって粉末原料を拡げながら水平移動台上
に散布することを行っているので、水平移動台上に拡が
って散布された粉末原料を十分に加熱することが可能と
なり、また、原料容器の下端部の側面位置に対して排出
開口を形成しているので、粉末原料がまとまって排出さ
れることは起こらないことになる。

【００１２】

【発明の実施の形態】本発明の請求項１にかかる粉末原
料気化装置は、粉末原料を供給する漏斗形状の原料容器
が内装された原料供給室と、傾斜支持されて原料容器か
らの粉末原料が通過する原料通路と、この原料通路の排
出端部から供給された粉末原料を加熱して気化させる回
転移動台が内装された原料気化室と、原料通路の排出端
部を回転移動台の移動方向と交差する向きに沿って揺動
動作させる揺動機構とを備えており、原料容器は下端部
の側面位置に粉末原料の排出開口が形成され、かつ、振
動機構でもって振動動作させられるものである。

【００１３】本発明の請求項２にかかる粉末原料気化装
置は、粉末原料を供給する漏斗形状の原料容器が内装さ
れた原料供給室と、傾斜支持されて原料容器からの粉末
原料が通過する原料通路と、この原料通路の排出端部か
ら供給された粉末原料を加熱して気化させる水平移動台
が内装された原料気化室とを備えており、原料容器は下
端部の側面位置に粉末原料の排出開口が形成され、か
つ、振動機構でもって振動動作させられるものである一
方、原料通路の排出端部は水平移動台の移動方向と交差
する向きに沿って粉末原料を拡げながら供給するものと
なっている。

【００１４】本発明の請求項３にかかる粉末原料気化装
置は、請求項１または請求項２に記載したものであっ
て、少なくとも原料供給室内にはキャリアガスが供給さ
れており、この原料供給室の内圧は原料気化室の内圧よ
りも高く設定されていることを特徴としている。

【００１５】以下、本発明の実施の形態を図面に基づい
て説明する。

【００１６】（実施の形態１）図１は実施の形態１にか
かる粉末原料気化装置の全体構成を簡略化して示す縦断
面図、図２はその原料容器の要部構成を示す断面図であ
り、図１における符号１は粉末原料気化装置を示してい
る。なお、ここでのガス通路及び成膜室は従来の形態と
同じ構成を有し、同様の処理を実行するものであるか
ら、図１において図５と互いに同一もしくは相当する部
品、部分については同一符号を付し、ここでの説明は省
略する。

【００１７】粉末原料気化装置１は、有機金属化合物か
らなる粉末原料Ｇを収納しており、これらの粉末原料Ｇ
を定量ずつ排出して供給する漏斗形状の原料容器２が内
装された原料供給室３と、傾斜支持されたうえで原料容
器２から排出された粉末原料Ｇが通過する原料通路４
と、この原料通路４の排出端部４ａから供給された粉末
原料Ｇを加熱して気化させる回転移動台５が内装された
原料気化室６と、原料通路４の排出端部４ａを回転移動
台５の移動方向、つまり、その回転方向と交差する向き
に沿って揺動動作させる揺動機構７とを備えて構成され
たものである。なお、原料気化室６がガス通路３４を介
したうえで成膜室３５と連通接続されていることは従来
の形態と同じであり、図示省略しているが、これらの原
料気化室６及びガス通路３４、成膜室３５それぞれには
壁面ヒータ３８が設けられ、かつ、回転移動台５にはヒ
ータが埋設されていることも従来の形態と同様である。

【００１８】そして、ここでの原料供給室３は原料気化
室６の上側位置に配設されたものであり、原料供給室３
に内装された原料容器２は、図２で示すように、その下
端部の側面位置に粉末原料Ｇを排出して供給するための
排出開口２ａが形成され、かつ、排出開口２ａから水平
方向に沿って樋部２ｂが延出されているとともに、バイ
ブレータといわれる振動機構８でもって全体的に振動動
作させられるものとなっている。すなわち、原料容器２
は振動機構８を用いた振動動作に伴って側面位置の排出
開口２ａから樋部２ｂへと粉末原料Ｇを排出する構成と
されており、排出開口２ａ近くには粉末原料Ｇの排出
量、ひいては、原料気化室６への供給量を調整するため
の開閉板９が設けられている。また、原料容器２に対し
ては、マスフローコントローラといわれる流量調節機構
１０が介装されたキャリアガス導入管１１を通じて窒素
ガスなどのキャリアガスが導入されるようになってい
る。

【００１９】さらに、この際における原料通路４は水平
に対して６０度程度傾斜させられたうえで原料供給室３
と原料気化室６との間に架設されたものであり、原料供
給室３内に挿入して配置された本体部４ｂの開口は原料
容器２の樋部２ｂと連続するような状態で固定支持され
る一方、原料通路４の排出端部４ａは本体部４ｂに対す
るピン結合などのような連結部（図示省略）を採用した
うえで揺動自在な状態として支持されている。さらにま
た、揺動機構７は原料気化室６の外面上に配設された油
圧シリンダなどのアクチュエータを利用して構成された
ものであり、この揺動機構７と連結された原料通路４の
排出端部４ａは本体部４ｂとの連結部を揺動中心とした
うえで傾斜角度が変わるような揺動動作、つまり、回転
移動台５の回転方向とは直交する向きに沿った動きの揺
動動作をさせられることになっている。なお、原料通路
４の排出端部４ａ及び本体部４ｂを相互に一体化してお
いたうえで原料通路４の全体を揺動動作させるような構
成を採用することも可能であり、また、モータやリンク
機構などを組み合わせてなる揺動機構７を用いてもよい
ことは勿論である。

【００２０】一方、このような揺動機構７が設けられ、
かつ、回転移動台５が内装された原料気化室６には、流
量調節機構１２が介装されたキャリアガス導入管１３を
通じて窒素ガスなどのキャリアガスが導入されており、
この原料気化室６の内圧は原料供給室３の内圧よりも低
めとなるように設定されている。すなわち、原料容器２
が内装された原料供給室３の内圧は、キャリアガス導入
管１１に介装された流量調節機構１０でもってキャリア
ガスの流量調節を行うことによって原料気化室６の内圧
よりも高くなるように設定されている。なお、このよう
にしておいた際には、原料気化室６内で粉末原料Ｇを気
化することによって発生した原料ガスが原料通路４を通
じて原料供給室３内に流入することが防止されることに
なり、原料供給室３と原料気化室６とが原料通路４を介
したうえで連通接続されていることを考慮すると、必ず
しも原料気化室６にキャリアガスを導入する必要はない
ことになる。

【００２１】ところで、この際、原料気化室６内には回
転移動台５上に残存した粉末原料Ｇを掻き取り除去する
ための掻取具４２が配設されており、掻取具４２でもっ
て掻き取り除去された粉末原料Ｇは回転移動台５の下側
位置に設けられた廃原料容器４３でもって蓄えられるこ
とも従来と同じである。したがって、この粉末原料気化
装置１を使用することによっては、つぎのような成膜処
理が実施されることになる。

【００２２】まず、原料容器２内に粉末原料Ｇを充填
し、かつ、原料容器２の排出開口２ａを開操作したう
え、振動機構８でもって原料容器２を振動動作させる
と、原料容器２の下端部における側面位置に形成された
排出開口２ａからは粉末原料Ｇが定量ずつ排出されるこ
とになる。なお、この際、粉末原料Ｇは排出開口２ａが
下向きではなく側方に向かって形成されているので、ま
とまって排出されることは起こらなくなる。そして、原
料容器２の排出開口２ａから排出された粉末原料Ｇは原
料通路４を通過したうえで回転移動台５上に供給される
ことになり、揺動機構７でもって原料通路４の排出端部
４ａを回転移動台５の移動方向と交差する向きに沿って
揺動動作させると、この排出端部４ａから回転移動台５
へと排出して供給された粉末原料Ｇは回転移動台５のほ
ぼ全面上に拡がった状態で散布されることになる。

【００２３】そこで、回転移動台５を移動させながら粉
末原料Ｇを加熱すると、回転移動台５上に散布された粉
末原料Ｇは十分に加熱されることになり、加熱された粉
末原料Ｇは気化させられる結果、粉末原料Ｇが気化して
発生した原料ガスはキャリアガスとともにガス通路３４
を通ったうえで成膜室３５へと流入することになる。そ
の一方、原料ガスが導入される成膜室３５は真空排気機
器４６でもって減圧されており、その内部には反応ガス
が導入されているので、成膜室３５内に流入した原料ガ
スと反応ガスとは基板台３６によって加熱されたガラス
製などの基板Ｗ上で反応することになり、基板Ｗ上には
所要の金属酸化物薄膜が作製される。

【００２４】そして、回転移動台５上に残存した粉末原
料Ｇは掻取具４２でもって回転移動台５上から掻き取り
除去されることになり、掻き取り除去された粉末原料Ｇ
は廃原料容器４３で蓄えられることになる。なお、以上
のような手順を採用した場合には、構造式がＭｇ（Ｃ₅
Ｈ₇Ｏ₂）₂で示されるマグネシウムアセチルアセトンな
どのような粉末原料Ｇ、つまり、飽和蒸気圧が低くて常
温下では固体の原料であっても、常温下で液体や気体の
原料と同様、大量にガス化して供給することが可能であ
ることが発明者らによって確認されている。

【００２５】（実施の形態２）図３は実施の形態２にか
かる粉末原料気化装置の原料気化室回りの構成を簡略化
して示す縦断面図、図４はその原料容器の要部構成を示
す斜視図であり、図３における符号２１は粉末原料気化
装置を示している。なお、この際における原料供給室及
びガス通路と成膜室とは実施の形態１及び従来の形態と
同じ構成を有しており、同様の処理を実行するものであ
るから、図３及び図４において図１及び図２と図５のそ
れぞれと互いに同一もしくは相当する部品、部分につい
ては同一符号を付し、ここでの詳しい説明は省略する。

【００２６】粉末原料気化装置２１は、粉末原料Ｇを供
給する漏斗形状の原料容器２が内装された原料供給室３
と、傾斜支持されたうえで原料容器２からの粉末原料Ｇ
が通過する原料通路４と、この原料通路４の排出端部４
ａから供給された粉末原料Ｇを加熱したうえで気化させ
る水平移動台２２が内装された原料気化室６とを具備し
ており、実施の形態１と同様、原料容器２は下端部の側
面位置に粉末原料Ｇの排出開口２ａが形成され、かつ、
バイブレータといわれる振動機構８でもって振動動作さ
せられるものとなっている。そして、この際における原
料通路４の排出端部４ａは、揺動動作することなく水平
移動台２２の移動方向と交差する向きに沿って粉末原料
Ｇを拡げながら供給する構成、つまり、図４で示すよう
に、原料容器２から排出されたうえで細幅の本体部４ｂ
を通過してきた粉末原料Ｇを水平移動台２２に近づくほ
ど水平移動台２２の移動方向と交差する向きに沿って拡
げるようにしながら供給する扇形状を有している。

【００２７】一方、粉末原料気化装置２１が具備する原
料気化室６内に配設された水平移動台２２はその両端位
置に配設された耐熱性のロール（図示省略）などの間に
架けわたされた耐熱性金属からなるベルト状の可動板２
３を用いて構成されたものであり、この可動板２３は原
料気化室６外に配設されたモータなどのような回転駆動
手段（図示省略）によるロールの回転駆動に伴って移動
動作するものとなっている。そこで、原料通路４の排出
端部４ａから水平移動台２２上に供給された粉末原料Ｇ
は、扇形状として拡がりながら水平移動台２２を構成す
る可動板２３上に散布されることとなり、可動板２３上
に散布された粉末原料Ｇは可動板２３によって水平移動
させられながら水平移動台２２内に配設されたランプ状
のヒータ２４でもって加熱される結果として気化するこ
とになる。なお、原料気化室６内には、水平移動台２２
上に残存して落下してきた粉末原料Ｇを蓄えるための廃
原料容器２５が設けられている。

【００２８】したがって、粉末原料気化装置２１を使用
した際には、以下のような成膜処理が実施される。ま
ず、原料容器２内に粉末原料Ｇを充填し、かつ、原料容
器２の排出開口２ａを開操作したうえ、振動機構８でも
って原料容器２を振動動作させると、原料容器２の側面
位置に形成された排出開口２ａからは粉末原料Ｇが定量
ずつ排出されることになる。そして、原料容器２の排出
開口２ａから排出された粉末原料Ｇは原料通路４の本体
部４ｂを通過したうえ、排出端部４ａで水平移動台２２
の移動方向と交差する向き、つまり、可動板２３の進行
方向と直交する方向に沿って拡げられながら水平移動台
２２を構成する可動板２３上に供給されることになり、
排出端部４ａでもって拡げられた粉末原料Ｇは可動板２
３上に散布されることになる。

【００２９】そこで、水平移動台２２の可動板２３を移
動させながら粉末原料Ｇをヒータ２４で加熱すると、可
動板２３上に散布されていた粉末原料Ｇは十分に加熱さ
れて気化することになり、粉末原料Ｇが気化して発生し
た原料ガスはキャリアガスとともにガス通路３４を通っ
たうえで成膜室３５内へと流入する。ところが、この
際、原料ガスが導入される成膜室３５は真空排気機器４
６でもって減圧されており、その内部には反応ガスが導
入されているので、成膜室３５内に流入した原料ガスと
反応ガスとは基板台３６によって加熱された基板Ｗ上で
反応することになり、この基板Ｗ上には所要の金属酸化
物薄膜が作製される。そして、水平移動台２２の可動板
２３上に残存していた粉末原料Ｇは、廃原料容器２５に
よって蓄えられることになる。

【００３０】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の請求項１
及び請求項２にかかる粉末原料気化装置によれば、少な
くとも原料通路の排出端部が回転移動台の移動方向と交
差する向きに沿って揺動動作させられるもの、または、
原料通路の排出端部が水平移動台の移動方向と交差する
向きに沿って粉末原料を拡げながら供給するものとして
いるので、気化させるべき粉末原料が回転移動台もしく
は水平移動台上に拡がった状態で散布されることにな
り、気化時の吸熱エネルギが大きい粉末原料や飽和蒸気
圧が低い粉末原料であっても十分に加熱することが可能
となる結果、大量の原料ガスを発生させることができ
る。そして、これらの発明においては、原料容器の側面
位置に粉末原料の排出開口を形成しているので、粉末原
料がまとまった状態で排出されることがなくなる結果、
良好な金属酸化物薄膜の作製を不都合なく続行できると
いう効果が得られる。

【００３１】また、本発明の請求項３にかかる粉末原料
気化装置によれば、少なくとも原料供給室内にキャリア
ガスを供給しており、この原料供給室の内圧が原料気化
室の内圧よりも高くなるよう設定しているので、原料気
化室内で粉末原料を気化することによって発生した原料
ガスが原料供給室へと流れ込むことが起こらないという
利点も得られる。なお、本発明にかかる粉末原料気化装
置では、従来の形態におけるようなバイパス管を設けて
いないので、このバイパス管が詰まるという不都合が生
じる恐れは全くないことになる。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施の形態１にかかる粉末原料気化装置の全体
構成を簡略化して示す縦断面図である。

【図２】その原料容器の要部構成を示す断面図である。

【図３】実施の形態２にかかる粉末原料気化装置の原料
気化室回りの構成を簡略化して示す縦断面図である。

【図４】その原料容器の要部構成を示す斜視図である。

【図５】従来の形態にかかる粉末原料気化装置の全体構
成を簡略化して示す縦断面図である。

【図６】その原料容器の要部構成を示す断面図である。

【符号の説明】

１粉末原料気化装置２原料容器２ａ排出開口３原料供給室４原料通路４ａ排出端部５回転移動台６原料気化室７揺動機構８振動機構Ｇ粉末原料

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者塩川晃大阪府門真市大字門真1006番地松下電器産業株式会社内 (72)発明者佐々木良樹大阪府門真市大字門真1006番地松下電器産業株式会社内 (72)発明者村井隆一大阪府門真市大字門真1006番地松下電器産業株式会社内 (72)発明者青木正樹大阪府門真市大字門真1006番地松下電器産業株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】粉末原料を供給する漏斗形状の原料容器
が内装された原料供給室と、傾斜支持されて原料容器か
らの粉末原料が通過する原料通路と、この原料通路の排
出端部から供給された粉末原料を加熱して気化させる回
転移動台が内装された原料気化室と、少なくとも原料通
路の排出端部を回転移動台の移動方向と交差する向きに
沿って揺動動作させる揺動機構とを備えており、原料容
器は下端部の側面位置に粉末原料の排出開口が形成さ
れ、振動機構でもって振動動作させられるものであるこ
とを特徴とする粉末原料気化装置。
【請求項２】粉末原料を供給する漏斗形状の原料容器
が内装された原料供給室と、傾斜支持されて原料容器か
らの粉末原料が通過する原料通路と、この原料通路の排
出端部から供給された粉末原料を加熱して気化させる水
平移動台が内装された原料気化室とを備えており、原料
容器は下端部の側面位置に粉末原料の排出開口が形成さ
れ、振動機構でもって振動動作させられるものである一
方、原料通路の排出端部は水平移動台の移動方向と交差
する向きに沿って粉末原料を拡げながら供給するもので
あることを特徴とする粉末原料気化装置。
【請求項３】請求項１または請求項２に記載の粉末原
料気化装置であって、少なくとも原料供給室内にはキャリアガスが供給されて
おり、この原料供給室の内圧は原料気化室の内圧よりも
高く設定されていることを特徴とする粉末原料気化装
置。