JPH1025184A - 石英ルツボの製造装置及び方法 - Google Patents
石英ルツボの製造装置及び方法Info
- Publication number
- JPH1025184A JPH1025184A JP17953696A JP17953696A JPH1025184A JP H1025184 A JPH1025184 A JP H1025184A JP 17953696 A JP17953696 A JP 17953696A JP 17953696 A JP17953696 A JP 17953696A JP H1025184 A JPH1025184 A JP H1025184A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hollow mold
- mold
- quartz crucible
- quartz
- manufacturing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/09—Other methods of shaping glass by fusing powdered glass in a shaping mould
- C03B19/095—Other methods of shaping glass by fusing powdered glass in a shaping mould by centrifuging, e.g. arc discharge in rotating mould
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
することを可能とした石英るつぼの製造装置及び方法を
提供する。 【解決手段】 水平回転自在な中空型と、該中空型の外
周を減圧吸引する減圧吸引手段と、該中空型内を加熱す
る加熱手段とを具備した石英ルツボの製造装置であっ
て、該中空型の内面に臨むように設けられた通気性部材
と、一端が該通気性部材に接続し他端が該中空型の外周
面と連通するように該中空型の壁体内部に穿設された吸
引通路とを有する。
Description
装置及び方法に関し、特に単結晶半導体材料、例えばシ
リコン単結晶の引き上げに用いられる石英ルツボの製造
装置及び方法に関する。
晶の製造には、チョクラルスキー法(CZ法)と呼ばれ
る方法が広く採用されている。この方法は多結晶シリコ
ンを容器内で溶融させ、この溶融浴内に種結晶の端部を
漬けて回転させながら引き上げるもので、種結晶上に種
結晶と同一の結晶方位の単結晶が成長する。この単結晶
の引き上げの容器には、石英ルツボが一般的に使用され
ている。
な中空型に石英粉体を投入して該中空型を回転しながら
石英粉体をアーク放電手段等の加熱手段によって加熱溶
融し、遠心力の作用により溶融又は半溶融の石英粉体層
を中空型の内周面に押圧してルツボの形状に焼結する方
法が知られている。
壁体内部には気泡が多数残留する。石英ルツボの壁体に
気泡が多いとルツボの強度が低下する上に、石英ルツボ
の加熱時にルツボ内周面付近の気泡が熱膨張して該内周
面を部分的に剥離させ、剥離した石英小片が溶融シリコ
ンに混入して単結晶化率を低下させるという問題があっ
た。
められ、その製造法として、中空型に充填した石英粉体
を減圧下で加熱溶融する方法が知られている(特公昭5
9−34659号公報)。しかし、この方法によっても
石英ルツボの壁体の内部気泡を完全に除去することは困
難であった。また、その後も上記した内部気泡を除去す
るための提案が種々なされたが満足のいく結果を得られ
るものはなかった。
晶の大口径化が進むと同時に石英ルツボ並びに石英ルツ
ボ製造用の中空型の大口径化も進行している。大口径の
中空型の加工の困難性は、小口径の中空型に比べて格段
に増大する。また、中空型の上部面は、熱で酸化消耗し
易いが、大口径石英ルツボの製造に際しては、石英粉体
の溶融時の被爆熱量が増し、かつ製造時間が延長するた
め、中空型の上面の消耗はさらに促進される。その結
果、中空型の全体を交換する頻度が増大し、それだけ製
造コストが高くなる欠点がある。
直胴部には、内面から外面へ向けて温度差が生じる。内
面が1000℃程度のとき、外面は数100℃と推定さ
れる。このような温度差が生じているとき、中空型の外
表面には、強い引っ張り応力が発生し割れ易くなるとい
う問題があった。
来技術の問題点に鑑みなされたもので、石英ルツボの壁
体の内部気泡を効率よく除去することを可能とした石英
ルツボの製造装置及び方法を提供することを目的とす
る。
に、本発明の石英ルツボの製造装置は、水平回転自在な
中空型と、該中空型の外周を減圧吸引する減圧吸引手段
と、該中空型内を加熱する加熱手段とを具備した石英ル
ツボの製造装置であって、該中空型の内面に臨むように
設けられた通気性部材と、一端が該通気性部材に接続し
他端が該中空型の外周面と連通するように該中空型の壁
体内部に穿設された吸引通路とを有することを特徴とす
る。
やグラファイト等のカーボン質材料が好適である。
一に多数配設されるものである。この通気性部材の配設
の方法としては、各々の通気性部材の吸引範囲が交叉し
ないように配設するのが効率的であり、格子状の交点に
通気性部材を配置する他に、吸引効率の観点からは、千
鳥状(ジクザグ状)に通気性部材を配置するのが好適で
ある。
鉛やグラファイト等のカーボン質材料が好適である。該
通気性部材はガスが透過可能であれば使用可能であり、
中空型のガス透過率よりも大きいガス透過率を有するこ
とが必要であるが、好ましいガス透過率は平均圧力1k
gf/cm2 で1〜10m2 /s程度の範囲である。
らなり、該上部型と下部型とを接合することによって構
成される、いわゆる2分割型の中空型を用いることもで
きる。この2分割型の中空型の場合には、中空型の内面
と外面との温度差によって生ずる強い引っ張り応力は分
散され、中空型の割れが回避される利点がある。
気性部材及び吸引通路は、上部型及び下部型の双方に設
けることが可能であるが、この場合上部型と下部型の吸
引通路の接続部分の漏れを密封する作業を行なう必要が
ある。下部型のみに通気性部材及び吸引通路を設けた場
合には石英ルツボの上部の気泡の除去効率は多少低下す
るが、上部型と下部型の接続部分には吸引通路は存在せ
ず、それだけ製造が容易となる利点がある。
英ルツボの製造装置を用い、回転する前記中空型の内周
面に原料石英粉体を投入して石英粉体層を形成し、該石
英粉体層をその内周面側から加熱溶融し、該加熱溶融時
に該中空型の外面を減圧吸引して該石英粉体層内の内部
ガスを前記通気性部材及び吸引通路を介して吸引排気し
ながら該石英粉体層をルツボ形状に焼結させることを特
徴とする。該中空型としては、非分割型及び2分割型の
いずれもが使用できる。
を添付図面に基いて説明する。図1は本発明の石英ルツ
ボの製造装置の1例を示す縦断面図、図2は同上の横断
面図及び図3は図1の要部を示す摘示断面図である。
装置で、水平回転自在な中空型4を有している。該中空
型4は、黒鉛又はグラファイト等のカーボン質材料によ
って形成される。該中空型4は、不図示の回転駆動手段
によって水平回転せしめられる。該中空型4の外周は、
真空ポンプ等の減圧吸引手段Pに接続され、その外周が
減圧吸引されるようになっている。6は、該中空型4の
内面を加熱するための加熱手段、例えばアーク放電手段
である。
臨むように設けられている。該通気性部材8は、上記中
空型4の内面に均一に多数配設されるものである。この
通気性部材8の配設方法としては、各々の通気性部材8
の吸引範囲が交叉しないように配設するのが効率的であ
り、格子状の交点に通気性部材8を配置すればよいが、
吸引効率の観点からは千鳥状(ジグザグ状)に通気性部
材8を配置するのが好適である。
等の通気性カーボン質材料によって形成されている。1
0は、該中空型4の壁体4aの内部に穿設された吸引通
路である。該吸引通路10の一端は該通気性部材8に接
続し、その他端は該中空型4の外周面と連通している。
支持枠体で、該支持枠体Bの内底面に配置されたパッキ
ン部材Cを介して該中空型4を支持するものである。
造するに際しては、まず前記中空型4を回転しながら原
料石英粉体を該中空型4の内周面に投入する。該石英粉
体は、回転する中空型4の遠心力の作用により、該中空
型4の内周面に押し付けられ、該内周面に沿って推積
し、石英粉体層Aが形成される。
り、該石英粉体層Aをその内周面側から加熱溶融する。
この加熱溶融とともに、該中空型4の外面、図示の例で
は底部外面を真空ポンプ等の減圧吸引手段Pによって減
圧吸引し、該石英粉体層A内の内部ガスを前記通気性部
材8及び吸引通路10を介して吸引排気する。
内周面から外表面付近まで次第に溶融し、ルツボ状に焼
結する。
部材8としては、小円板状部材を多数独立して配設した
場合を示したが、長方形状部材、正方形状部材、三角形
状部材等を用いることができる他、該中空型4の内周面
を一周する環状又はリング状部材を多数配設することも
可能である。
面に基いて説明する。図4は本発明の石英ルツボの別の
例を示す縦断面図、図5は通気性部材の設置状態を示す
図4の摘示拡大断面図である。
空型である。該中空型12は上部型14及び下部型16
から構成されている。
下端部には上部接合段部壁18が形成されている。該下
部型16は該上部型14の円筒壁14aと同一径を有す
る円筒部16aと該円筒部16aの下部に連設された丸
椀状の底部16bとを有している。該円筒壁14aの上
端部には下部接合段部壁20が該上部接合段部壁18に
当接可能に形成されている。
面に臨むように設けられている。該通気性部材36は、
上記下部型16の内面に均一に多数配設されるものであ
る。この通気性部材36の配設方法としては、各々の通
気性部材36の吸引範囲が交叉しないように配設するの
が効率的であり、格子状の交点に通気性部材36を配置
すればよいが、吸引効率の観点からは千鳥状(ジグザグ
状)に通気性部材36を配置するのが好適である。
ト等の通気性カーボン質材料によって形成されている。
38は、該下部型16の壁体の内部に穿設された吸引通
路である。該吸引通路38の一端は該通気性部材36に
接続し、その他端は該下部型16の外周面と連通してい
る。
ツボの製造装置で、上記した中空型12を有している。
該中空型12は、不図示の回転駆動手段によって水平回
転せしめられる。該中空型12の外周は、真空ポンプ等
の減圧吸引手段Pに接続され、その外周が減圧吸引され
るようになっている。42は、該中空型12の内面を加
熱するための加熱手段、例えばアーク放電手段である。
該中空型12を支持するように設けられた支持枠体であ
る。
造するに際しては、まず前記中空型12を回転しながら
原料石英粉体を該中空型12の内周面に投入する。該石
英粉体は、回転する中空型12の遠心力の作用により、
該中空型12の内周面に押し付けられ、該内周面に沿っ
て推積し、石英粉体層46が形成される。
より、該石英粉体層46をその内周面側から加熱溶融す
る。この加熱溶融とともに、該中空型12の外面、図示
の例では底部外面を真空ポンプ等の減圧吸引手段Pによ
って減圧吸引し、該石英粉体層46内の内部ガスを前記
通気性部材36及び吸引通路38を介して吸引排気す
る。
の内周面から外表面付近まで次第に溶融し、ルツボ状に
焼結する。
気性部材36としては、小円板状部材を多数独立して配
設した場合を示したが、長方形状部材、正方形状部材、
三角形状部材等を用いることができる他、該中空型12
の内周面を一周する環状又はリング状部材を多数配設す
ることも可能である。
材料36及び吸引通路38を設けた構成を示したが、上
部型14にも通気性材料36及び吸引通路38を形成す
る構成を採用することも勿論可能である。
2は、上部型14と下部型16とによって2分割可能に
構成されているため、材料となるカーボン塊のサイズが
小さくて済み、材料の入手が簡単で、製造容易となりカ
ーボン材料の純化も容易に行なうことができる。また、
中空型の上部の酸化消耗が進んだ場合、上部型を交換す
れば下部型をそのまま継続して使用でき、それだけコス
トダウンとなる。
ルツボの壁体の内部気泡を効率よく除去することができ
るという大きな効果を奏する。また、本発明は2分割型
の中空型に対しても適用可能である。
断面図である。
縦断面図である。
面図である。
Claims (7)
- 【請求項1】 水平回転自在な中空型と、該中空型の外
周を減圧吸引する減圧吸引手段と、該中空型内を加熱す
る加熱手段とを具備した石英ルツボの製造装置であっ
て、該中空型の内面に臨むように設けられた通気性部材
と、一端が該通気性部材に接続し他端が該中空型の外周
面と連通するように該中空型の壁体内部に穿設された吸
引通路とを有することを特徴とする石英ルツボの製造装
置。 - 【請求項2】 前記中空型がカーボン質材料によって形
成されていることを特徴とする請求項1記載の石英ルツ
ボの製造装置。 - 【請求項3】 前記通気性部材が前記中空型の内面に均
一に多数配設されることを特徴とする請求項1又は2記
載の石英ルツボの製造装置。 - 【請求項4】 前記通気性部材が通気性カーボン質材料
によって形成されていることを特徴とする請求項1〜3
のいずれか1項記載の石英ルツボの製造装置。 - 【請求項5】 前記中空型が上部型と下部型とからな
り、該上部型と下部型とを接合することによって構成さ
れていることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項
記載の石英ルツボの製造装置。 - 【請求項6】 前記通気性部材及び吸引通路を前記下部
型のみに設けたことを特徴とする請求項5記載の石英ル
ツボの製造装置。 - 【請求項7】 請求項1〜6のいずれか1項記載の装置
を用い、回転する前記中空型の内周面に原料石英粉体を
投入して石英粉体層を形成し、該石英粉体層をその内周
面側から加熱溶融し、該加熱溶融時に該中空型の外面を
減圧吸引して該石英粉体層内の内部ガスを前記通気性部
材及び吸引通路を介して吸引排気しながら該石英粉体層
をルツボ形状に焼結させることを特徴とする石英ルツボ
の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17953696A JP3798849B2 (ja) | 1996-07-09 | 1996-07-09 | 石英ルツボの製造装置及び方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17953696A JP3798849B2 (ja) | 1996-07-09 | 1996-07-09 | 石英ルツボの製造装置及び方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1025184A true JPH1025184A (ja) | 1998-01-27 |
JP3798849B2 JP3798849B2 (ja) | 2006-07-19 |
Family
ID=16067481
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17953696A Expired - Lifetime JP3798849B2 (ja) | 1996-07-09 | 1996-07-09 | 石英ルツボの製造装置及び方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3798849B2 (ja) |
Cited By (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6797061B2 (en) * | 1998-05-25 | 2004-09-28 | Shin Etsu Quartz Products Co., Ltd. | Quartz glass crucible for pulling up silicon single crystal and production method therefor |
US7383696B2 (en) | 2005-09-08 | 2008-06-10 | Heraeus Shin-Etsu America, Inc. | Silica glass crucible with bubble-free and reduced bubble growth wall |
US7427327B2 (en) | 2005-09-08 | 2008-09-23 | Heraeus Shin-Etsu America, Inc. | Silica glass crucible with barium-doped inner wall |
EP2141130A1 (en) | 2008-07-04 | 2010-01-06 | Japan Super Quartz Corporation | Method for producing vitreous silica crucible |
EP2143692A1 (en) | 2008-07-10 | 2010-01-13 | Japan Super Quartz Corporation | Method for producing quartz glass crucible |
WO2010137221A1 (ja) | 2009-05-26 | 2010-12-02 | 信越石英株式会社 | シリカ容器及びその製造方法 |
WO2011007491A1 (ja) | 2009-07-15 | 2011-01-20 | 信越石英株式会社 | シリカ容器及びその製造方法 |
WO2011016177A1 (ja) | 2009-08-05 | 2011-02-10 | 信越石英株式会社 | シリカ容器及びその製造方法 |
EP2460776A1 (en) | 2010-12-02 | 2012-06-06 | Japan Super Quartz Corporation | Method and apparatus for manufacturing vitreous silica crucible |
KR101156965B1 (ko) | 2008-07-03 | 2012-06-20 | 쟈판 스파 쿼츠 가부시키가이샤 | 석영 유리 도가니의 제조 방법, 그에 의해 제조된 석영유리 도가니 및, 그의 제조 장치 |
US8276402B2 (en) | 2009-10-20 | 2012-10-02 | Japan Super Quartz Corporation | Method and apparatus for manufacturing vitreous silica crucible |
US8286447B2 (en) | 2008-07-09 | 2012-10-16 | Japan Super Quartz Corporation | Method for producing quartz glass crucible |
WO2013088617A1 (ja) | 2011-12-12 | 2013-06-20 | 信越石英株式会社 | 単結晶シリコン引き上げ用シリカ容器及びその製造方法 |
WO2013140706A1 (ja) | 2012-03-23 | 2013-09-26 | 信越石英株式会社 | 単結晶シリコン引き上げ用シリカ容器及びその製造方法 |
KR101403335B1 (ko) * | 2010-12-31 | 2014-06-03 | 쟈판 스파 쿼츠 가부시키가이샤 | 실리카 유리 도가니의 제조 방법 |
US9376761B2 (en) | 2012-01-13 | 2016-06-28 | Shin-Etsu Quartz Products Co., Ltd. | Single-crystal silicon pulling silica container and method for producing the same |
JP2020183331A (ja) * | 2019-05-08 | 2020-11-12 | 株式会社Sumco | 石英ルツボ製造用モールド及びこれを用いた石英ルツボ製造装置 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101618941B (zh) * | 2008-07-04 | 2012-04-11 | 日本超精石英株式会社 | 石英玻璃坩埚的制造方法、石英玻璃坩埚以及石英玻璃坩埚的制造装置 |
-
1996
- 1996-07-09 JP JP17953696A patent/JP3798849B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6797061B2 (en) * | 1998-05-25 | 2004-09-28 | Shin Etsu Quartz Products Co., Ltd. | Quartz glass crucible for pulling up silicon single crystal and production method therefor |
US7383696B2 (en) | 2005-09-08 | 2008-06-10 | Heraeus Shin-Etsu America, Inc. | Silica glass crucible with bubble-free and reduced bubble growth wall |
US7427327B2 (en) | 2005-09-08 | 2008-09-23 | Heraeus Shin-Etsu America, Inc. | Silica glass crucible with barium-doped inner wall |
KR101156965B1 (ko) | 2008-07-03 | 2012-06-20 | 쟈판 스파 쿼츠 가부시키가이샤 | 석영 유리 도가니의 제조 방법, 그에 의해 제조된 석영유리 도가니 및, 그의 제조 장치 |
EP2141130A1 (en) | 2008-07-04 | 2010-01-06 | Japan Super Quartz Corporation | Method for producing vitreous silica crucible |
US8286447B2 (en) | 2008-07-09 | 2012-10-16 | Japan Super Quartz Corporation | Method for producing quartz glass crucible |
EP2143692A1 (en) | 2008-07-10 | 2010-01-13 | Japan Super Quartz Corporation | Method for producing quartz glass crucible |
WO2010137221A1 (ja) | 2009-05-26 | 2010-12-02 | 信越石英株式会社 | シリカ容器及びその製造方法 |
US8915096B2 (en) | 2009-05-26 | 2014-12-23 | Shin-Etsu Quartz Products Co., Ltd. | Silica container and method for producing the same |
US8420192B2 (en) | 2009-05-26 | 2013-04-16 | Shin-Etsu Quartz Products Co., Ltd. | Silica container and method for producing the same |
WO2011007491A1 (ja) | 2009-07-15 | 2011-01-20 | 信越石英株式会社 | シリカ容器及びその製造方法 |
US8733127B2 (en) | 2009-07-15 | 2014-05-27 | Shin-Etsu Quartz Products Co., Ltd. | Silica container and method for producing the same |
US9145325B2 (en) | 2009-08-05 | 2015-09-29 | Shin-Etsu Quartz Products Co., Ltd. | Silica container and method for producing the same |
WO2011016177A1 (ja) | 2009-08-05 | 2011-02-10 | 信越石英株式会社 | シリカ容器及びその製造方法 |
US8815403B2 (en) | 2009-08-05 | 2014-08-26 | Shin-Etsu Quartz Products Co., Ltd. | Silica container and method for producing the same |
US8276402B2 (en) | 2009-10-20 | 2012-10-02 | Japan Super Quartz Corporation | Method and apparatus for manufacturing vitreous silica crucible |
US8769988B2 (en) | 2010-12-02 | 2014-07-08 | Japan Super Quartz Corporation | Method and apparatus for manufacturing vitreous silica crucible |
EP2460776A1 (en) | 2010-12-02 | 2012-06-06 | Japan Super Quartz Corporation | Method and apparatus for manufacturing vitreous silica crucible |
KR101403335B1 (ko) * | 2010-12-31 | 2014-06-03 | 쟈판 스파 쿼츠 가부시키가이샤 | 실리카 유리 도가니의 제조 방법 |
WO2013088617A1 (ja) | 2011-12-12 | 2013-06-20 | 信越石英株式会社 | 単結晶シリコン引き上げ用シリカ容器及びその製造方法 |
US9382640B2 (en) | 2011-12-12 | 2016-07-05 | Shin-Etsu Quartz Products Co., Ltd. | Single crystal silicon pulling silica container and manufacturing method thereof |
US9376761B2 (en) | 2012-01-13 | 2016-06-28 | Shin-Etsu Quartz Products Co., Ltd. | Single-crystal silicon pulling silica container and method for producing the same |
WO2013140706A1 (ja) | 2012-03-23 | 2013-09-26 | 信越石英株式会社 | 単結晶シリコン引き上げ用シリカ容器及びその製造方法 |
JP2020183331A (ja) * | 2019-05-08 | 2020-11-12 | 株式会社Sumco | 石英ルツボ製造用モールド及びこれを用いた石英ルツボ製造装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3798849B2 (ja) | 2006-07-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH1025184A (ja) | 石英ルツボの製造装置及び方法 | |
TWI383962B (zh) | 矽玻璃坩堝和其製造方法及拉晶方法 | |
JP4462808B2 (ja) | 石英ガラスるつぼの製造方法 | |
JP4398527B2 (ja) | シリコン単結晶引き上げ用石英ガラスるつぼ | |
JPH08268727A (ja) | 融解石英るつぼ及びその製造方法 | |
JP4789437B2 (ja) | シリコン単結晶引上げ用石英ガラスるつぼおよびその製造方法 | |
JP2001348294A (ja) | 多層構造の石英ガラスルツボ及びその製造方法 | |
JP2000044386A5 (ja) | ||
JP5121923B2 (ja) | 石英ガラスルツボとその製造方法 | |
JPH11278857A (ja) | シリカガラスの製造方法 | |
JP4548682B2 (ja) | 石英ガラスるつぼの製造方法 | |
JP5100668B2 (ja) | 石英ルツボ製造用モールド | |
JP2009298652A (ja) | 黒鉛ルツボ及び該黒鉛ルツボを用いた石英ルツボの変形防止方法 | |
JPH0255285A (ja) | 石英ルツボの製造方法 | |
JP3807785B2 (ja) | 石英ルツボ製造用中空型 | |
JP4054434B2 (ja) | シリコン単結晶引上げ用石英ガラスルツボおよびその製造方法 | |
JP5639264B2 (ja) | 石英ガラスルツボを製造する方法 | |
JP2002003228A (ja) | 石英ガラスルツボ製造装置 | |
JP4236750B2 (ja) | 石英ルツボ製造装置 | |
JP2001002430A (ja) | シリコン単結晶引上用石英ガラスルツボの製造方法 | |
JP2006096616A (ja) | シリカガラスルツボ、シリカガラスルツボの製造方法 | |
TW201002634A (en) | Method for producing quartz glass crucible | |
KR20140100445A (ko) | 석영 도가니 제조방법 | |
EP2460778A2 (en) | Method of manufacturing vitreous silica crucible | |
JP3770566B2 (ja) | シリンダー状石英ガラスの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20051212 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060106 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060303 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20060414 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20060421 |
|
R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090428 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100428 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110428 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120428 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130428 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130428 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20170428 Year of fee payment: 11 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |