JPH10251615A - 塩基発生剤、硬化性組成物およびその硬化物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】溶解性、安定性およびエネルギー線感受性のい
ずれにおいても優れた特性を有する塩基発生剤と、塩基
硬化性化合物ないしラジカル重合性化合物からなる硬化
性組成物およびその硬化物を提供する。 【解決手段】一般式（１）で表される塩基発生剤
（Ａ）、さらに増感剤（Ｂ）を添加してなる塩基発生剤
組成物、および塩基硬化性化合物（Ｃ）ないしラジカル
重合性化合物（Ｄ）を添加してなる硬化性組成物および
その硬化物。 一般式（１） Ｌ_n Ｒｕ³⁺・３ＢＡｒ₃ Ｒ^- （ただし、Ｌは、アンモニア、ピリジン、イミダゾー
ル、エチレンジアミン、トリメチレンジアミン、テトラ
メチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、プロピレ
ンジアミン、１，２−シクロヘキサンジアミン、Ｎ，Ｎ
−ジエチルエチレンジアミン、ジエチレントリアミンか
ら選ばれる少なくとも一種の配位子を表す。ｎはＬの配
位数であり２〜６の整数を表す。Ａｒは置換アリール
基、Ｒは置換アルキル基を表す。）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、新規な塩基発生
剤、塩基発生剤組成物、硬化性組成物およびその硬化物
に関する。さらに詳しくは、塩基硬化性化合物やラジカ
ル重合性化合物を、エネルギー線および／または熱によ
り、短時間に重合あるいは硬化させ、例えば、成型樹
脂、注型樹脂、光造形用樹脂、封止剤、歯科用重合レジ
ン、印刷インキ、塗料、印刷版用感光性樹脂、印刷用カ
ラープルーフ、カラーフィルター用レジスト、プリント
基板用レジスト、半導体用フォトレジスト、マイクロエ
レクトロニクス用レジスト、パターン形成材料、画像形
成材料、光ファイバー被覆材料、光導波路用材料、ホロ
グラム材料、光発色材料、金属缶用被覆剤、各種オーバ
ーコート材、接着剤、粘着剤、離型剤、光記録媒体、マ
イクロカプセル形成材料、各種デバイス等の分野におい
て、良好な物性を持った硬化物を得るための硬化性組成
物およびその硬化物に関する。

【０００２】

【従来の技術】エネルギー線の照射によって酸を発生
し、エポキシ等のカチオン重合を開始する化合物とし
て、芳香族ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニ
ウム塩等で代表されるオニウム塩類および金属アレーン
錯体が既に知られており、例えば、米国特許第４０６９
０５４号、同第４４５０３６０号、同第４５７６９９９
号、同第４６４０９６７号、カナダ国特許第１２７４６
４６号およびヨーロッパ特許第２０３８２９号において
開示されている。またこれらは、Ａｄｖａｎｃｅｓｉｎ
Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ ６２、Ｉｎｉｔｉ
ａｔｏｒｓ−Ｐｏｌｙ Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ−Ｏｐｔｉ
ｃａｌ Ａｃｔｉｖｉｔｙ、１頁〜４８頁、Ｓｐｒｉｎ
ｇｅｒ−Ｖｅｒｌａｇ（１９８４年）、「最新ＵＶ硬化
技術」、技術情報協会編、２９頁（１９９１年）などに
まとめられている。

【０００３】一方、近年、いくつかの光塩基性発生剤
が、「高分子」、４５巻、７８６頁（１９９６年）にま
とめられている。その中で、特に、Ｃ．Ｋｕｔａｌら
は、ある種のコバルト錯体が、光照射によって塩基（ア
ンモニア、アミン等）を発生し、エポキシ等の重合を開
始すると報告されている（ケミストリー・オブ・マテリ
アルズ（Ｃｈｅｍ．Ｍａｔｅｒ．）、第４巻、４５３頁
（１９９２年）および同第８巻、８５０頁（１９９６
年）等）。

【０００４】また、有機ホウ素アニオンを有する化合物
がラジカルを発生し、ラジカル重合用の開始剤として機
能することが、ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカ
ル・ソサエティー（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．）、
第１１０巻、２３２６頁（１９８８年）、同第１１２
巻、６３２６頁（１９９０年）、特開昭６２−１４３０
４４号（陽イオン染料−ボレート陰イオン錯体）、ＵＳ
Ｐ第４３４３８９１号（アンモニウムボレート）、特開
平２−１５７７６０号、特開平２−１６６４５１号およ
び特開平３−７０４号（ジアリールヨードニウムボレー
ト）、特開平２−１５７７６０号、特開平５−２５５４
２１号、特開平６−１５７６２３号（スルホニウムボレ
ート）に記載されている。これらはいずれもボレートア
ニオンの炭素−ほう素結合部分が熱もしくは光の作用で
分解し、活性なラジカルを発生すると考えられる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上述したオニウム塩類
や、金属アレーン錯体は、酸を発生するため、生成した
酸が反応系にいつまでも残存し、金属の腐食等の原因に
なるなどの根本的な問題を内在している。一方、ケミス
トリー・オブ・マテリアルズ（Ｃｈｅｍ．Ｍａｔｅ
ｒ．）、第４巻、４５３頁（１９９２年）および同第８
巻、８５０頁（１９９６年）に記載されているコバルト
錯体は、光分解の量子収率が極めて低いため、エポキシ
等の硬化触媒としての活性は、極めて低いという問題が
あった。したがって、分解時に酸を発生せず、エポキシ
等の重合に対して高い感度を示す重合開始剤が求められ
ていた。さらに最近では、硬化後に強靱かつ安定な特性
を示すエポキシ化合物と、速硬化性を有するアクリレー
トやメタクリレートとが、混合された組成物の重合や架
橋（しばしば、ハイブリッド重合あるいはハイブリッド
架橋と呼称される）を行いたいという要請が高まってき
ている。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、以上の諸
問題点を考慮し解決すべく鋭意研究を重ねた結果、本発
明に至った。すなわち、本発明における第一の発明は、
一般式（１）で表される塩基発生剤（Ａ）であり、一般
式（１） Ｌ_n Ｒｕ³⁺・３ＢＡｒ₃ Ｒ^- （ただし、Ｌは、アンモニア、ピリジン、イミダゾー
ル、エチレンジアミン、トリメチレンジアミン、テトラ
メチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、プロピレ
ンジアミン、１，２−シクロヘキサンジアミン、Ｎ，Ｎ
−ジエチルエチレンジアミン、ジエチレントリアミンか
ら選ばれる少なくとも一種の配位子を表す。ｎはＬの配
位数であり２〜６の整数を表す。Ａｒは、フッ素、塩
素、臭素、水酸基、カルボキシル基、メルカプト基、シ
アノ基、ニトロ基、アジド基で置換されていても良いＣ
₆ 〜Ｃ₁₈の単環、縮合多環アリール基を表す。Ｒは、フ
ッ素、塩素、臭素、水酸基、カルボキシル基、メルカプ
ト基、シアノ基、ニトロ基、アジド基で置換されていて
も良いＣ₁ 〜Ｃ₁₈の直鎖状、分岐鎖状、環状アルキル基
を表す。）

【０００７】第二の発明は、塩基発生剤（Ａ）および増
感剤（Ｂ）からなる塩基発生剤組成物であり、第三の発
明は、塩基発生剤（Ａ）ないし塩基発生剤組成物に、さ
らに塩基硬化性化合物（Ｃ）を添加してなる硬化性組成
物であり、第四の発明は、塩基発生剤（Ａ）ないし塩基
発生剤組成物に、さらにラジカル重合性化合物（Ｄ）を
添加してなる硬化性組成物であり、第五の発明は、これ
ら硬化性組成物の硬化物である。

【０００８】

【発明の実施の形態】以下、詳細にわたって本発明を説
明する。まず初めに、本発明の塩基発生剤（Ａ）につい
て説明する。本発明の塩基発生剤（Ａ）を構成するカチ
オンは、アンモニア、ピリジン、イミダゾール、エチレ
ンジアミン、トリメチレンジアミン、テトラメチレンジ
アミン、ヘキサメチレンジアミン、プロピレンジアミ
ン、１，２−シクロヘキサンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチ
ルエチレンジアミン、ジエチレントリアミンから選ばれ
る少なくとも一種の配位子Ｌを、配位数ｎ＝２〜６有す
るルテニウム（III ）錯イオンをあげることができる。

【０００９】そのようなルテニウム（III ）錯イオンの
具体例としては、ヘキサアンミンルテニウム（III ）イ
オン、トリス（エチレンジアミン）ルテニウム（III ）
イオン、ｃｉｓ−ジアンミンビス（エチレンジアミン）
ルテニウム（III ）イオン、ｔｒａｎｓ−ジアンミンビ
ス（エチレンジアミン）ルテニウム（III ）イオン、ト
リス（トリメチレンジアミン）ルテニウム（III ）イオ
ン、トリス（プロピレンジアミン）ルテニウム（III ）
イオン、テトラアンミン｛（−）（プロピレンジアミ
ン）｝ルテニウム（III ）イオン、トリス（ｔｒａｎｓ
−１，２−シクロヘキサンジアミン）ルテニウム（III
）イオン、ビス（ジエチレントリアミン）ルテニウム
（III ）イオン、ビス（ピリジン）ビス（エチレンジア
ミン）ルテニウム（III ）イオン、ビス（イミダゾー
ル）ビス（エチレンジアミン）ルテニウム（III ）イオ
ン等があげられるが、本発明はこれらに限定されるもの
ではない。

【００１０】本発明の塩基発生剤（Ａ）を構成するルテ
ニウム（III ）錯イオンとして、特に好ましいものとし
ては、アンモニアあるいはエチレンジアミンから選ばれ
る配位子からなるルテニウム（III ）錯イオンをあげる
ことができ、ヘキサアンミンルテニウム（III ）イオ
ン、トリス（エチレンジアミン）ルテニウム（III ）イ
オン、ｃｉｓ−ジアンミンビス（エチレンジアミン）ル
テニウム（III ）イオン、ｔｒａｎｓ−ジアンミンビス
（エチレンジアミン）ルテニウム（III ）イオンがあげ
られる。

【００１１】一方、本発明の塩基発生剤（Ａ）を構成す
るアニオンとしては、一般式（２）のボレートアニオン
があげられる。 一般式（２） ［ＢＡｒ₃ Ｒ］^- （Ｒは、フッ素、塩素、臭素、水酸基、カルボキシル
基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、アジド基で置
換されていても良いＣ₁ 〜Ｃ₁₈の直鎖状、分岐鎖状、環
状アルキル基を表す。Ａｒは、フッ素、塩素、臭素、水
酸基、カルボキシル基、メルカプト基、シアノ基、ニト
ロ基、アジド基で置換されていても良いＣ₆〜Ｃ₁₈の単
環、縮合多環アリール基を表す。）

【００１２】ここで、一般式（２）で表されるボレート
アニオンにおける置換基Ａｒにおいて、フッ素、塩素、
臭素、水酸基、カルボキシル基、メルカプト基、シアノ
基、ニトロ基、アジド基で置換されていても良いＣ₆ 〜
Ｃ₁₈の単環、縮合多環アリール基としては、フェニル
基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、９−アンスリル
基、９−フェナントリル基、１−ピレニル基、５−ナフ
タセニル基、１−インデニル基、２−アズレニル基、１
−アセナフチル基、９−フルオレニル基、ｏ−トリル
基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基、２，３−キシリル
基、２，５−キシリル基、メシチル基、ｐ−クメニル
基、ｐ−ドデシルフェニル基、ｐ−シクロヘキシルフェ
ニル基、４−ビフェニル基、ｏ−フルオロフェニル基、
ｍ−クロロフェニル基、ｐ−ブロモフェニル基、ｐ−ヒ
ドロキシフェニル基、ｍ−カルボキシフェニル基、ｏ−
メルカプトフェニル基、ｐ−シアノフェニル基、ｍ−ニ
トロフェニル基、ｍ−アジドフェニル基等があげられ
る。

【００１３】また、一般式（２）で表されるボレートア
ニオンにおける置換基Ｒにおいて、フッ素、塩素、臭
素、水酸基、カルボキシル基、メルカプト基、シアノ
基、ニトロ基、アジド基で置換されていても良いＣ₁ 〜
Ｃ₁₈の直鎖状、分岐鎖状、環状アルキル基としては、メ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル
基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、
オクタデシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅ
ｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、シクロペンチル基、シク
ロヘキシル基、４−デシルシクロヘキシル基、フルオロ
メチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、トリフル
オロメチル基、トリクロロメチル基、トリブロモメチル
基、ヒドロキシメチル基、カルボキシメチル基、メルカ
プトメチル基、シアノメチル基、ニトロメチル基、アジ
ドメチル基等があげられる。

【００１４】したがって、一般式（２）で表されるボレ
ートアニオンの構造として、具体的には、以下のものを
あげることができる。

【００１５】トリフェニルメチルボレート、トリフェニ
ルエチルボレート、トリフェニルプロピルボレート、ト
リフェニルブチルボレート、トリフェニルヘキシルボレ
ート、トリフェニルオクチルボレート、トリフェニルオ
クタデシルボレート、トリフェニルイソプロピルボレー
ト、トリフェニルイソブチルボレート、トリフェニル−
ｓｅｃ−ブチルボレート、トリフェニル−ｔｅｒｔ−ブ
チルボレート、トリフェニルネオペンチルボレート、

【００１６】トリフェニルシクロペンチルボレート、ト
リフェニルシクロヘキシルボレート、トリフェニル（４
−デシルシクロヘキシル）ボレート、トリフェニル（フ
ルオロメチル）ボレート、トリフェニル（クロロメチ
ル）ボレート、トリフェニル（ブロモメチル）ボレー
ト、トリフェニル（トリフルオロメチル）ボレート、ト
リフェニル（トリクロロメチル）ボレート、トリフェニ
ル（ヒドロキシメチル）ボレート、トリフェニル（カル
ボキシメチル）ボレート、トリフェニル（シアノメチ
ル）ボレート、トリフェニル（ニトロメチル）ボレー
ト、トリフェニル（アジドメチル）ボレート、

【００１７】トリス（１−ナフチル）ブチルボレート、
トリス（２−ナフチル）ブチルボレート、トリス（ｏ−
トリル）ブチルボレート、トリス（ｍ−トリル）ブチル
ボレート、トリス（ｐ−トリル）ブチルボレート、トリ
ス（２，３−キシリル）ブチルボレート、トリス（２，
５−キシリル）ブチルボレートなど。

【００１８】上記一般式（２）で表されるボレートアニ
オンの内、最も好ましいものはトリフェニルブチルボレ
ートである。この理由として、トリフェニルブチルボレ
ートアニオンをもつ塩基発生剤（Ａ）は、ラジカル重合
性化合物（Ｄ）の重合ないし硬化に対して高い感度特性
を示し、かつ熱安定性が高く、溶剤に対する溶解性も良
好な点があげられる。

【００１９】したがって、本発明の塩基発生剤（Ａ）の
具体例としては、以下のものをあげることができるが、
本発明は、何らこれらに限定されるものではない。

【００２０】（ヘキサアンミンルテニウム（III ）トリ
フェニルアルキルボレートの例）ヘキサアンミンルテニ
ウム（III ）トリス（トリフェニルメチルボレート）、
ヘキサアンミンルテニウム（III ）トリス（トリフェニ
ルエチルボレート）、ヘキサアンミンルテニウム（III
）トリス（トリフェニルプロピルボレート）、ヘキサ
アンミンルテニウム（III ）トリス（トリフェニルブチ
ルボレート）、ヘキサアンミンルテニウム（III ）トリ
ス（トリフェニルヘキシルボレート）、ヘキサアンミン
ルテニウム（III ）トリス（トリフェニルオクチルボレ
ート）、ヘキサアンミンルテニウム（III ）トリス（ト
リフェニルオクタデシルボレート）、ヘキサアンミンル
テニウム（III ）トリス（トリフェニルイソプロピルボ
レート）、ヘキサアンミンルテニウム（III ）トリス
（トリフェニルイソブチルボレート）、ヘキサアンミン
ルテニウム（III ）トリス（トリフェニル−ｓｅｃ−ブ
チルボレート）、ヘキサアンミンルテニウム（III ）ト
リス（トリフェニル−ｔｅｒｔ−ブチルボレート）、ヘ
キサアンミンルテニウム（III ）トリス（トリフェニル
ネオペンチルボレート）等。

【００２１】（ヘキサアンミンルテニウム（III ）トリ
フェニルボレートの例）ヘキサアンミンルテニウム（II
I ）トリス（トリフェニルシクロペンチルボレート）、
ヘキサアンミンルテニウム（III ）トリス（トリフェニ
ルシクロヘキシルボレート）、ヘキサアンミンルテニウ
ム（III ）トリス［トリフェニル（４−デシルシクロヘ
キシル）ボレート］、ヘキサアンミンルテニウム（III
）トリス［トリフェニル（フルオロメチル）ボレー
ト］、ヘキサアンミンルテニウム（III）トリス［トリ
フェニル（クロロメチル）ボレート］、ヘキサアンミン
ルテニウム（III ）トリス［トリフェニル（ブロモメチ
ル）ボレート］、ヘキサアンミンルテニウム（III ）ト
リス［トリフェニル（トリフルオロメチル）ボレー
ト］、ヘキサアンミンルテニウム（III ）トリス［トリ
フェニル（トリクロロメチル）ボレート］、ヘキサアン
ミンルテニウム（III ）トリス［トリフェニル（ヒドロ
キシメチル）ボレート］、ヘキサアンミンルテニウム
（III ）トリス［トリフェニル（カルボキシメチル）ボ
レート］、ヘキサアンミンルテニウム（III ）トリス
［トリフェニル（シアノメチル）ボレート］、ヘキサア
ンミンルテニウム（III ）トリス［トリフェニル（ニト
ロメチル）ボレート］、ヘキサアンミンルテニウム（II
I ）トリス［トリフェニル（アジドメチル）ボレート］
等。

【００２２】（ヘキサアンミンルテニウム（III ）トリ
アリールブチルボレートの例）ヘキサアンミンルテニウ
ム（III ）トリス［トリス（１−ナフチル）ブチルボレ
ート］、ヘキサアンミンルテニウム（III ）トリス［ト
リス（２−ナフチル）ブチルボレート］、ヘキサアンミ
ンルテニウム（III ）トリス［トリス（ｏ−トリル）ブ
チルボレート］、ヘキサアンミンルテニウム（III ）ト
リス［トリス（ｍ−トリル）ブチルボレート］、ヘキサ
アンミンルテニウム（III ）トリス［トリス（ｐ−トリ
ル）ブチルボレート］、ヘキサアンミンルテニウム（II
I ）トリス［トリス（２，３−キシリル）ブチルボレー
ト］、ヘキサアンミンルテニウム（III ）トリス［トリ
ス（２，５−キシリル）ブチルボレート］等。

【００２３】（ルテニウム（III ）トリス（トリフェニ
ルブチルボレート）の例）トリス（エチレンジアミン）
ルテニウム（III ）トリス（トリフェニルブチルボレー
ト）、ｃｉｓ−ジアンミンビス（エチレンジアミン）ル
テニウム（III ）トリス（トリフェニルブチルボレー
ト）、ｔｒａｎｓ−ジアンミンビス（エチレンジアミ
ン）ルテニウム（III ）トリス（トリフェニルブチルボ
レート）、トリス（トリメチレンジアミン）ルテニウム
（III ）トリス（トリフェニルブチルボレート）、トリ
ス（プロピレンジアミン）ルテニウム（III ）トリス
（トリフェニルブチルボレート）、テトラアンミン
｛（−）（プロピレンジアミン）｝ルテニウム（III ）
トリス（トリフェニルブチルボレート）、トリス（ｔｒ
ａｎｓ−１，２−シクロヘキサンジアミン）ルテニウム
（III ）トリス（トリフェニルブチルボレート）、ビス
（ジエチレントリアミン）ルテニウム（III ）トリス
（トリフェニルブチルボレート）、ビス（ピリジン）ビ
ス（エチレンジアミン）ルテニウム（III ）トリス（ト
リフェニルブチルボレート）、ビス（イミダゾール）ビ
ス（エチレンジアミン）ルテニウム（III ）トリス（ト
リフェニルブチルボレート）等。

【００２４】以上述べた塩基発生剤（Ａ）は、各々の錯
イオンのハロゲン塩、硫酸塩、硝酸塩、酢酸塩等と、ア
ルカリ金属ボレート塩とを、水、アルコールもしくは含
水有機溶剤等の適当な溶媒中で、混和することで容易に
製造可能である。これら原料となる各々の錯イオンのハ
ロゲン塩、硫酸塩、硝酸塩、酢酸塩等は、市販品として
容易に入手可能である他、例えば、日本化学会編、新実
験化学講座８（無機化合物の合成III ）、丸善（１９７
７年）等に、その合成法が記載されている。

【００２５】本発明の塩基発生剤（Ａ）は、エネルギー
線、特に光の照射によって、容易に分解して、塩基（ア
ンミニア、アミン等）およびラジカルを発生するという
特徴を有する。したがって、塩基（アンミニア、アミン
等）と反応して硬化するようなエポキシ化合物や、ラジ
カルと反応して重合するようなアクリレート類と混合し
て好適に使用することが可能である。

【００２６】次に、本発明における塩基発生剤（Ａ）
は、以下に示す増感剤（Ｂ）と組み合わせることによっ
て、エネルギー線に対する活性をさらに高め、あるいは
その感光波長領域を長波長化せしめることが可能とな
る。ここでいう増感剤（Ｂ）とは、エネルギー線の作用
によって、塩基発生剤（Ａ）との間でエネルギーもしく
は電子の授受をし、該塩基発生剤（Ａ）の分解を促進を
するものである。

【００２７】これら増感剤（Ｂ）の具体例としては、ナ
フタレン誘導体、アントラセン誘導体、フェナントレン
誘導体、ピレン誘導体、ナフタセン誘導体、ペリレン誘
導体、ペンタセン誘導体等の縮合多環芳香族誘導体、ア
クリジン誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、カルコン誘
導体やジベンザルアセトン等に代表される不飽和ケトン
類、ベンジルやカンファーキノン等に代表される１，２
−ジケトン誘導体、ベンゾイン誘導体、フルオレン誘導
体、ナフトキノン誘導体、アントラキノン誘導体、ベン
ゾフェノン誘導体、キサンテン誘導体、チオキサンテン
誘導体、キサントン誘導体、チオキサントン誘導体、ク
マリン誘導体、ケトクマリン誘導体、シアニン誘導体、
メロシアニン誘導体、オキソノール誘導体等のポリメチ
ン色素、アクリジン誘導体、アジン誘導体、チアジン誘
導体、オキサジン誘導体、インドリン誘導体、アズレン
誘導体、アズレニウム誘導体、スクアリリウム誘導体、
ポルフィリン誘導体、テトラフェニルポルフィリン誘導
体、トリアリールメタン誘導体、テトラベンゾポルフィ
リン誘導体、テトラピラジノポルフィラジン誘導体、フ
タロシアニン誘導体、テトラアザポルフィラジン誘導
体、テトラキノキサリロポルフィラジン誘導体、ナフタ
ロシアニン誘導体、サブフタロシアニン誘導体、ピリリ
ウム誘導体、チオピリリウム誘導体、テトラフィリン誘
導体、アヌレン誘導体、スピロピラン誘導体、スピロオ
キサジン誘導体、チオスピロピラン誘導体、金属アレー
ン錯体、有機ルテニウム錯体等があげられ、その他さら
に具体的には大河原信ら編、「色素ハンドブック」（１
９８６年、講談社）、大河原信ら編、「機能性色素の化
学」（１９８１年、シーエムシー）、池森忠三朗ら編、
「特殊機能材料」（１９８６年、シーエムシー）に記載
の色素および増感剤があげられるがこれらに限定される
ものではなく、その他、紫外から近赤外域にかけての光
に対して吸収を示す色素や増感剤があげられ、これらは
必要に応じて任意の比率で二種以上用いてもかまわな
い。

【００２８】これら、増感剤（Ｂ）の中で特に好ましい
ものとしては、アントラセン誘導体、ベンゾフェノン誘
導体、キサンテン誘導体、チオキサントン誘導体、クマ
リン誘導体、ケトクマリン誘導体、ピリリウム誘導体、
チオピリリウム誘導体、スチリル誘導体があげられる。

【００２９】これら、増感剤（Ｂ）の具体例として、以
下のものがあげられるが、本発明は何らこれらに限定さ
れるものではない。

【００３０】（アントラセン誘導体の具体例）アントラ
セン、１−アントラセンカルボン酸、２−アントラセン
カルボン酸、９−アントラセンカルボン酸、９−アント
ラアルデヒド、９，１０−ビス（クロロメチル）アント
ラセン、９，１０−ビス（フェニルエチニル）アントラ
セン、９−ブロモアントラセン、１−クロロ−９，１０
−ビス（フェニルエチニル）アントラセン、９−クロロ
メチルアントラセン、９−シアノアントラセン、９，１
０−ジブロモアントラセン、９，１０−ジクロロアント
ラセン、９，１０−ジシアノアントラセン、９，１０−
ジメチルアントラセン、９，１０−ジブチルアントラセ
ン、９，１０−ジフェニルアントラセン、９，１０−ジ
−ｐ−トリルアントラセン、９，１０−ビス（ｐ−メト
キシフェニル）アントラセン、２−ヒドロキシメチルア
ントラセン、９−ヒドロキシメチルアントラセン、９−
メチルアントラセン、９−フェニルアントラセン、９，
１０−ジメトキシアントラセン、９，１０−ジブトキシ
アントラセン、９，１０−ジフェノキシアントラセン、
９，１０−ジメトキシアントラセン−２−スルホン酸ナ
トリウム、１，４，９，１０−テトラヒドロキシアント
ラセン、２，２，２−トリフルオロー１−（９−アンス
リル）エタノール、１，８，９−トリヒドロキシアント
ラセン、１，８−ジメトキシ−９，１０−ビス（フェニ
ルエチニル）アントラセン、９−ビニルアントラセン、
９−アントラセンメタノール、９−アントラセンメタノ
ールのトリメチルシロキシエーテル等。

【００３１】（ベンゾフェノン誘導体の具体例）ベンゾ
フェノン、４，４’−ジメチルベンゾフェノン、４，
４’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ベンゾフェノン、４，
４’−ジメトキシベンゾフェノン、４，４’−ジブトキ
シベンゾフェノン、４，４’−ビス（メチルチオ）ベン
ゾフェノン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾ
フェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフ
ェノン、４−ブチルベンゾフェノン、日本化薬（株）社
製のカヤキュアー（ＫＡＹＡＣＵＲＥ）ＢＭＳ等。

【００３２】（キサンテン誘導体およびチオキサントン
誘導体の具体例）キサンテン、３，６−ジメトキシキサ
ントン、３，６−ジメトキシキサンタン、ローズベンガ
ル、エオシンＹ、ローダミンＢ、ローダミン６Ｇ、エリ
スロシン、フルオレセイン、ウラニン、２，４，５，７
−テトラヨード−３−ヒドロキシ−６−フルオロン、３
−ブトキシ−５，７−ジヨード−６−フルオロン、９−
シアノ−３−ブトキシ−５，７−ジヨード−６−フルオ
ロン、２−オクタノイル−４，５，７−トリヨード−６
−フルオロン、９−シアノ−２−オクタノイル−４，
５，７−トリヨード−３−ヒドロキシ−６−フルオロ
ン、２−オクチル−４，５，７−トリヨード−３−ヒド
ロキシ−６−フルオロン、９−シアノ−２−オクチル−
４，５，７−トリヨード−３−ヒドロキシ−６−フルオ
ロン、チオキサントン、日本化薬（株）社製のカヤキュ
アー（ＫＡＹＡＣＵＲＥ）ＢＭＳ、カヤキュアーＣＰＴ
Ｘ、カヤキュアーＩＴＸ、カヤキュアーＤＥＴＸ−Ｓ、
カヤキュアー等。

【００３３】（クマリン誘導体およびケトクマリン誘導
体の具体例）クマリン、７−メチルクマリン、７−メト
キシクマリン、７−ジメチルアミノクマリン、７−ジエ
チルアミノクマリン、５，７−ジメトキシクマリン、
６，７−ジメトキシクマリン、７−ジエチルアミノ−４
−メチルクマリン、７−ジエチルアミノ−４−シアノク
マリン、７−ジエチルアミノ−４−トリフルオロメチル
クマリン、７−ジエチルアミノ−３−アセチルクマリ
ン、７−ジエチルアミノ−３−ベンゾイルクマリン、７
−ジエチルアミノ−３−エトキシカルボニルクマリン、
７−ジエチルアミノ−３−（２−ベンゾチアゾリル）ク
マリン、７−ジエチルアミノ−３−（２−ベンゾオキサ
ゾリル）クマリン、７−ジエチルアミノ−３−（２−ベ
ンゾイミダゾリル）クマリン、７−ジエチルアミノ−３
−（２−ベンゾチアゾリル）クマリン、３，３’−カル
ボニルビス（クマリン）、３，３’−カルボニルビス
（７−メチルクマリン）、３，３’−カルボニルビス
（７−ブチルクマリン）、３，３’−カルボニルビス
（７−ｔｅｒｔ−ブチルクマリン）、３，３’−カルボ
ニルビス（７−メトキシクマリン）、３，３’−カルボ
ニルビス（７−ブトキシクマリン）、３，３’−カルボ
ニルビス（７−ｔｅｒｔ−ブトキシクマリン）、３，
３’−カルボニルビス（７−ジメチルアミノクマリ
ン）、３，３’−カルボニルビス（７−ジエチルアミノ
クマリン）、３，３’−カルボニルビス（７−ジブチル
アミノクマリン）、１０，１０’−カルボニルビス
［１，１，７，７−テトラメチル−２，３，６，７−テ
トラヒドロ−１Ｈ，５Ｈ，１１Ｈ−［１］ベンゾピラノ
［６，７，８−ｉｊ］キノリジン−１１−オン］、さら
に、日本感光色素研究所（株）社製のＮＫＸ−１３１
７、ＮＫＸ−１３１８、ＮＫＸ−１７６７、ＮＫＸ−１
７６８、ＮＫＸ−１３２０、ＮＫＸ−１７６９、ＮＫＸ
−１７７０、ＮＫＸ−１７７１等。

【００３４】（ピリリウム誘導体の具体例）２，４，６
−トリフェニルピリリウムテトラフルオロボレート、
２，４，６−トリ（ｐ−トリス）ピリリウムテトラフル
オロボレート、２，４，６−トリス（４−ブチルフェニ
ル）ピリリウムテトラフルオロボレート、２，４，６−
トリス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ピリリウムテ
トラフルオロボレート、２，４，６−トリス（４−メト
キシフェニル）ピリリウムテトラフルオロボレート、
２，４，６−トリス（４−ブトキシフェニル）ピリリウ
ムテトラフルオロボレート、２，４，６−トリス（４−
ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）ピリリウムテトラフルオ
ロボレート、２，４，６−トリス（４−ジメチルアミノ
フェニル）ピリリウムテトラフルオロボレート、２，
４，６−トリス（４−ジエチルアミノフェニル）ピリリ
ウムテトラフルオロボレート、４−（４−ブチルフェニ
ル）−２，６−ジフェニルピリリウムテトラフルオロボ
レート、４−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル−）２，
６−ジフェニルピリリウムテトラフルオロボレート、４
−（４−メトキシフェニル）−２，６−ジフェニルピリ
リウムテトラフルオロボレート、４−（４−ブトキシフ
ェニル）−２，６−ジフェニルピリリウムテトラフルオ
ロボレート、４−（４−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）
−２，６−ジフェニルピリリウムテトラフルオロボレー
ト、４−（４−ジメチルアミノフェニル）−２，６−ジ
フェニルピリリウムテトラフルオロボレート、４−（４
−ジエチルアミノフェニル）−２，６−ジフェニルピリ
リウムテトラフルオロボレート、４−（４−ブトキシフ
ェニル）−２，６−ビス（メトキシフェニル）ピリリウ
ムテトラフルオロボレート、４−（４−ジエチルアミノ
フェニル）−２，６−ビス（メトキシフェニル）ピリリ
ウムテトラフルオロボレート、２−（４−メトキシフェ
ニル）−４，６−ジフェニルピリリウムテトラフルオロ
ボレート、２−（４−ジエチルアミノフェニル）−４，
６−ジフェニルピリリウムテトラフルオロボレート、
２，４，６−トリフェニルピリリウムパークロレート、
２，４，６−トリフェニルピリリウムヘキサフルオロホ
スフェート、２，４，６−トリフェニルピリリウムテト
ラフェニルボレート、２，４，６−トリフェニルピリリ
ウムトリフェニルブチルボレート等。

【００３５】（チオピリリウム誘導体の具体例）２，
４，６−トリフェニルチオピリリウムテトラフルオロボ
レート、２，４，６−トリ（ｐ−トリス）チオピリリウ
ムテトラフルオロボレート、２，４，６−トリス（４−
ブチルフェニル）チオピリリウムテトラフルオロボレー
ト、２，４，６−トリス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニ
ル）チオピリリウムテトラフルオロボレート、２，４，
６−トリス（４−メトキシフェニル）チオピリリウムテ
トラフルオロボレート、２，４，６−トリス（４−ブト
キシフェニル）チオピリリウムテトラフルオロボレー
ト、２，４，６−トリス（４−ｔｅｒｔ−ブトキシフェ
ニル）チオピリリウムテトラフルオロボレート、２，
４，６−トリス（４−ジメチルアミノフェニル）チオピ
リリウムテトラフルオロボレート、２，４，６−トリス
（４−ジエチルアミノフェニル）チオピリリウムテトラ
フルオロボレート、４−（４−ブチルフェニル）−２，
６−ジフェニルチオピリリウムテトラフルオロボレー
ト、４−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル−）２，６−
ジフェニルチオピリリウムテトラフルオロボレート、４
−（４−メトキシフェニル）−２，６−ジフェニルチオ
ピリリウムテトラフルオロボレート、４−（４−ブトキ
シフェニル）−２，６−ジフェニルチオピリリウムテト
ラフルオロボレート、４−（４−ｔｅｒｔ−ブトキシフ
ェニル）−２，６−ジフェニルチオピリリウムテトラフ
ルオロボレート、４−（４−ジメチルアミノフェニル）
−２，６−ジフェニルチオピリリウムテトラフルオロボ
レート、４−（４−ジエチルアミノフェニル）−２，６
−ジフェニルチオピリリウムテトラフルオロボレート、
４−（４−ブトキシフェニル）−２，６−ビス（メトキ
シフェニル）チオピリリウムテトラフルオロボレート、
４−（４−ジエチルアミノフェニル）−２，６−ビス
（メトキシフェニル）チオピリリウムテトラフルオロボ
レート、２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ジフ
ェニルチオピリリウムテトラフルオロボレート、２−
（４−ジエチルアミノフェニル）−４，６−ジフェニル
チオピリリウムテトラフルオロボレート、２，４，６−
トリフェニルチオピリリウムパークロレート、２，４，
６−トリフェニルチオピリリウムヘキサフルオロホスフ
ェート、２，４，６−トリフェニルチオピリリウムテト
ラフェニルボレート、２，４，６−トリフェニルチオピ
リリウムトリフェニルブチルボレート等。

【００３６】（スチリル誘導体の具体例）２−［２−
（４−ジメチルアミノ）フェニル］エチニル］ベンゾオ
キサゾール、２−［２−（４−ジメチルアミノ）フェニ
ル］エチニル］ベンゾチアゾール、２−［２−（４−ジ
メチルアミノ）フェニル］エチニル］−３，３−ジメチ
ル−３Ｈ−インドール、２−［２−（４−ジメチルアミ
ノ）フェニル］エチニル］キノリン、４−［２−（４−
ジメチルアミノ）フェニル］エチニル］キノリン、２−
［２−（４−ジメチルアミノ）フェニル］エチニル］ナ
フト［１，２−ｄ］チアゾール、さらに、日本感光色素
研究所（株）社製のＮＫ−５２８、ＮＫ−９７、ＮＫ−
９１、ＮＫ−３４２、ＮＫ−１０５５、ＮＫ−５５７、
ＮＫ−９２、ＮＫ−９６、ＮＫ−３７５、ＮＫ−３７
６、ＮＫ−３８３、ＮＫ−５２６、ＮＫ−３５７８、Ｎ
Ｋ−３５７６、ＮＫ−３７９８、ＮＫＸ−１５９５、Ｎ
Ｋ−１４７３等。

【００３７】次に、本発明の硬化性組成物における塩基
硬化性化合物（Ｃ）について説明する。ここで、塩基硬
化性化合物（Ｃ）とは、塩基（アンモニアもしくはアミ
ン）の存在下、重合もしくは架橋反応によって高分子量
物質に変換可能な化合物を意味し、以下に示す化合物ま
たはそれらの混合物がこれに含まれる。

【００３８】そのような塩基硬化性化合物（Ｃ）とし
て、エポキシ化合物、スピロオルソエステル類、ビシク
ロオルソエステル類、スピロオルソカーボナート類、ラ
クトン類、ケタール類、環状酸無水物類およびアリール
ジアルデヒド類などがあげられる。

【００３９】まず、エポキシ化合物としては、従来、公
知の芳香族エポキシ化合物、脂環式エポキシ化合物、脂
肪族エポキシ化合物、更にはエポキシド単量体、エピサ
ルファイト単量体類があげられる。芳香族エポキシ化合
物の例としては、フェニルグリシジルエーテルなどの単
官能エポキシ化合物や、少なくとも１個の芳香族核を有
する多価フェノールまたはそのアルキレンオキサイド付
加体のポリグリシジルエーテルであって、例えばビスフ
ェノールＡ、テトラブロモビスフェノールＡ、ビスフェ
ノールＦ、ビスフェノールＳ等のビスフェノール化合物
またはビスフェノール化合物のアルキレンオキサイド
（例えば、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイ
ド、ブチレンオキサイド等）付加体とエピクロルヒドリ
ンとの反応によって製造されるグリシジルエーテル類、
ノボラック型エポキシ樹脂類（例えば、フェノール・ノ
ボラック型エポキシ樹脂、クレゾール・ノボラック型エ
ポキシ樹脂、臭素化フェノールノボラック型エポキシ樹
脂等）、トリスフェノールメタントリグリシジルエーテ
ル等があげられる。

【００４０】脂環式エポキシ化合物としては、４−ビニ
ルシクロヘキセンモノエポキサイド、ノルボルネンモノ
エポキサイド、リモネンモノエポキサイド、３，４−エ
ポキシシクロヘキシシルメチル−３，４−エポキシシク
ロヘキサンカルボキシレート、ビス−（３，４−エポキ
シシクロヘキシルメチル）アジペート、２−（３，４−
エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３，４−エ
ポキシ）シクロヘキサノン−メタ−ジオキサン、ビス
（２，３−エポキシシクロペンチル）エーテル、２−
（３，４−エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−
３，４−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサ
ン、２，２−ビス［４−（２，３−エポキシプロポキ
シ）シクロヘキシル］ヘキサフルオロプロパン、ＢＨＰ
Ｅ−３１５０（ダイセル化学工業（株）製、脂環式エポ
キシ樹脂（軟化点７１℃）等があげられる。

【００４１】脂肪族エポキシ化合物としては、例えば
１，４−ブタンジオールジクリシジルエーテル、１，６
−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、エチレング
リコールジグリシジルエーテル、エチレングリコールモ
ノグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシ
ジルエーテル、プロピレングリコールモノグリシジルエ
ーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテ
ル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオ
ペンチルグルコールジグリシジルエーテル、ネオペンチ
ルグルコールモノグリシジルエーテル、グリセロールジ
グリシジルエーテル、グルセロールトリグリシジルエー
テル、トリメチロールプロパンジグリシジルエーテル、
トリメチロールプロパンモノグリシジルエーテル、トリ
メチロールプロパントリグリシジルエーテル、ジグリセ
ロールトリグリシジルエーテル、ソルビトールテトラグ
リシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、２−エ
チルヘキシルグリシジルエーテル等があげられる。

【００４２】スピロオルソエステル類としては、１，
４，６−トリオキサスピロ（４，４）ノナン、２−メチ
ル−１，４，６−トリオキサスピロ（４，４）ノナン、
１，４，６−トリオキサスピロ（４，５）デカンなど
が、ビシクロオルソエステル類としては、１−フェニル
−４−エチル−２，６，７−トリオキサビシクロ（２，
２，２）オクタン、１−エチル−４−ヒドロキシメチル
−２，６，７−トリオキサビシクロ（２，２，２）オク
タンなどが、スピロオルソカーボナート類としては、
１，５，７，１１−テトラオキサスピロ（５，５）ウン
デカン、３，９−ジベンジル−１，５，７，１１−テト
ラオキサスピロ（５、５）ウンデカンなどのような環状
エ一テル類があげられる。

【００４３】ラクトン類としては、β−プロピオラクト
ン、γ−ブチルラクトン、δ−カプロラクトン、δ−バ
レロラクトンなどがあげられる。オキサゾリン類として
は、オキサゾリン、２−フェニルオキサゾリン、２−デ
シルオキサゾリンなどがあげられる。環状酸無水物類と
しては、無水フタル酸、無水マレイン酸、無水コハク酸
などが、ラクタム類としてはβ−プロピオラクタム、γ
−ブチロラクタム、δ−カプロラクタムなどがあげられ
る。またアリールジアルデヒド類としては１，２−ベン
ゼンジカルボキシアルデヒド、１，２−ナフタレンジア
ルデヒドなどがあげられる。

【００４４】つぎに、ラジカル重合性化合物（Ｄ）につ
いて説明する。本発明におけるラジカル重合性化合物
（Ｄ）とは、分子中にラジカル重合可能なエチレン性不
飽和結合を少なくとも一つ以上を有する化合物を意味す
る。また、これらは、いずれも常温、常圧で液体ないし
固体のモノマー、オリゴマーないしポリマーの化学形態
を持つものである。

【００４５】このようなラジカル重合性化合物（Ｄ）の
例としては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、
クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等の不飽和カ
ルボン酸の塩、エステル、ウレタン、酸アミドや酸無水
物があげられ、さらには、アクリロニトリル、スチレン
誘導体、種々の不飽和ポリエステル、不飽和ポリエーテ
ル、不飽和ポリアミド、不飽和ポリウレタン等があげら
れるが、本発明はこれらに限定されるものではない。

【００４６】以下に、本発明におけるラジカル重合性化
合物（Ｄ）の具体例をあげる。 アクリレート類の例： 単官能アルキルアクリレート類の例：メチルアクリレー
ト、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、イソ
プロピルアクリレート、ブチルアクリレート、イソアミ
ルアクリレート、ヘキシルアクリレート、２−エチルヘ
キシルアクリレート、オクチルアクリレート、デシルア
クリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリ
レート、イソボルニルアクリレート、シクロヘキシルア
クリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、ジシク
ロペンテニルオキシエチルアクリレート、ベンジルアク
リレート。

【００４７】単官能含ヒドロキシアクリレート類の例：
２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプ
ロピルアクリレート、２−ヒドロキシ−３−クロロプロ
ピルアクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプ
ロピルアクリレート、２−ヒドロキシ−３−アリルオキ
シプロピルアクリレート、２−アクリロイルオキシエチ
ル−２−ヒドロキシプロピルフタレート。

【００４８】単官能含ハロゲンアクリレート類の例：
２，２，２−トリフルオロエチルアクリレート、２，
２，３，３−テトラフルオロプロピルアクリレート、１
Ｈ−ヘキサフルオロイソプロピルアクリレート、１Ｈ，
１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンチルアクリレート、１
Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ヘプタデカフルオロデシルアク
リレート、２，６−ジブロモ−４−ブチルフェニルアク
リレート、２，４，６−トリブロモフェノキシエチルア
クリレート、２，４，６−トリブロモフェノール３ＥＯ
付加アクリレート。

【００４９】単官能含エーテル基アクリレート類の例：
２−メトキシエチルアクリレート、１，３−ブチレング
リコールメチルエーテルアクリレート、ブトキシエチル
アクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリ
レート、メトキシポリエチレングリコール＃４００アク
リレート、メトキシジプロピレングリコールアクリレー
ト、メトキシトリプロピレングリコールアクリレート、
メトキシポリプロピレングリコールアクリレート、エト
キシジエチレングリコールアクリレート、２−エチルヘ
キシルカルビトールアクリレート、テトラヒドロフルフ
リルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、フ
ェノキシジエチレングリコールアクリレート、フェノキ
シポリエチレングリコールアクリレート、クレジルポリ
エチレングリコールアクリレート、ｐ−ノニルフェノキ
シエチルアクリレート、ｐ−ノニルフェノキシポリエチ
レングリコールアクリレート、グリシジルアクリレー
ト。

【００５０】単官能含カルボキシルアクリレート類の
例：β−カルボキシエチルアクリレート、こはく酸モノ
アクリロイルオキシエチルエステル、ω−カルボキシポ
リカプロラクトンモノアクリレート、２−アクリロイル
オキシエチルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイ
ルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−アクリ
ロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレ
ート、２−アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハ
イドロゲンフタレート。

【００５１】その他の単官能アクリレート類の例：Ｎ，
Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアミノプロピルアクリレート、モルホリノエチルア
クリレート、トリメチルシロキシエチルアクリレート、
ジフェニル−２−アクリロイルオキシエチルホスフェー
ト、２−アクリロイルオキシエチルアシッドホスフェー
ト、カプロラクトン変性−２−アクリロイルオキシエチ
ルアシッドホスフェート。

【００５２】二官能アクリレート類の例：１，４−ブタ
ンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオール
ジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレー
ト、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエ
チレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコ
ール＃２００ジアクリレート、ポリエチレングリコール
＃３００ジアクリレート、ポリエチレングリコール＃４
００ジアクリレート、ポリエチレングリコール＃６００
ジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレー
ト、トリプロピレングリコールジアクリレート、テトラ
プロピレングリコールジアクリレート、ポリプロピレン
グリコール＃４００ジアクリレート、ポリプロピレング
リコール＃７００ジアクリレート、ネオペンチルグリコ
ールジアクリレート、ネオペンチルグリコールＰＯ変性
ジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグ
リコールエステルジアクリレート、ヒドロキシピバリン
酸ネオペンチルグリコールエステルのカプロラクトン付
加物ジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールビス
（２−ヒドロキシ−３−アクリロイルオキシプロピル）
エーテル、１，９−ノナンジオールジアクリレート、ペ
ンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリト
ールジアクリレートモノステアレート、ペンタエリスリ
トールジアクリレートモノベンゾエート、ビスフェノー
ルＡジアクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＡジアク
リレート、ＰＯ変性ビスフェノールＡジアクリレート、
水素化ビスフェノールＡジアクリレート、ＥＯ変性水素
化ビスフェノールＡジアクリレート、ＰＯ変性水素化ビ
スフェノールＡジアクリレート、ビスフェノールＦジア
クリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＦジアクリレー
ト、ＰＯ変性ビスフェノールＦジアクリレート、ＥＯ変
性テトラブロモビスフェノールＡジアクリレート、トリ
シクロデカンジメチロールジアクリレート、イソシアヌ
ル酸ＥＯ変性ジアクリレート。

【００５３】三官能アクリレート類の例：グリセリンＰ
Ｏ変性トリアクリレート、トリメチロールプロパントリ
アクリレート、トリメチロールプロパンＥＯ変性トリア
クリレート、トリメチロールプロパンＰＯ変性トリアク
リレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性トリアクリレート、
イソシアヌル酸ＥＯ変性ε−カプロラクトン変性トリア
クリレート、１，３，５−トリアクリロイルヘキサヒド
ロ−ｓ−トリアジン、ペンタエリスリトールトリアクリ
レート、ジペンタエリスリトールトリアクリレートトリ
プロピオネート。

【００５４】四官能以上のアクリレート類の例：ペンタ
エリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリ
トールペンタアクリレートモノプロピオネート、ジペン
タエリスリトールヘキサアクリレート、テトラメチロー
ルメタンテトラアクリレート、オリゴエステルテトラア
クリレート、トリス（アクリロイルオキシ）ホスフェー
ト。

【００５５】メタクリレート類の例： 単官能アルキルメタクリレート類の例：メチルメタクリ
レート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレー
ト、イソプロピルメタクリレート、ブチルメタクリレー
ト、イソアミルメタクリレート、ヘキシルメタクリレー
ト、２−エチルヘキシルメタクリレート、オクチルメタ
クリレート、デシルメタクリレート、ラウリルメタクリ
レート、ステアリルメタクリレート、イソボルニルメタ
クリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ジシクロ
ペンテニルメタクリレート、ジシクロペンテニルオキシ
エチルメタクリレート、ベンジルメタクリレート。

【００５６】単官能含ヒドロキシメタクリレート類の
例：２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロ
キシプロピルメタクリレート、２−ヒドロキシ−３−ク
ロロプロピルメタクリレート、２−ヒドロキシ−３−フ
ェノキシプロピルメタクリレート、２−ヒドロキシ−３
−アリルオキシプロピルメタクリレート、２−メタクリ
ロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレー
ト。

【００５７】単官能含ハロゲンメタクリレート類の例：
２，２，２−トリフルオロエチルメタクリレート、２，
２，３，３−テトラフルオロプロピルメタクリレート、
１Ｈ−ヘキサフルオロイソプロピルメタクリレート、１
Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンチルメタクリレー
ト、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ヘプタデカフルオロデシ
ルメタクリレート、２，６−ジブロモ−４−ブチルフェ
ニルメタクリレート、２，４，６−トリブロモフェノキ
シエチルメタクリレート、２，４，６−トリブロモフェ
ノール３ＥＯ付加メタクリレート。

【００５８】単官能含エーテル基メタクリレート類の
例：２−メトキシエチルメタクリレート、１，３−ブチ
レングリコールメチルエーテルメタクリレート、ブトキ
シエチルメタクリレート、メトキシトリエチレングリコ
ールメタクリレート、メトキシポリエチレングリコール
＃４００メタクリレート、メトキシジプロピレングリコ
ールメタクリレート、メトキシトリプロピレングリコー
ルメタクリレート、メトキシポリプロピレングリコール
メタクリレート、エトキシジエチレングリコールメタク
リレート、２−エチルヘキシルカルビトールメタクリレ
ート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、フェノ
キシエチルメタクリレート、フェノキシジエチレングリ
コールメタクリレート、フェノキシポリエチレングリコ
ールメタクリレート、クレジルポリエチレングリコール
メタクリレート、ｐ−ノニルフェノキシエチルメタクリ
レート、ｐ−ノニルフェノキシポリエチレングリコール
メタクリレート、グリシジルメタクリレート。

【００５９】単官能含カルボキシルメタクリレート類の
例：β−カルボキシエチルメタクリレート、こはく酸モ
ノメタクリロイルオキシエチルエステル、ω−カルボキ
シポリカプロラクトンモノメタクリレート、２−メタク
リロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−メ
タクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、
２−メタクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイド
ロゲンフタレート、２−メタクリロイルオキシプロピル
テトラヒドロハイドロゲンフタレート。

【００６０】その他の単官能メタクリレート類の例：
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート、Ｎ，Ｎ
−ジメチルアミノプロピルメタクリレート、モルホリノ
エチルメタクリレート、トリメチルシロキシエチルメタ
クリレート、ジフェニル−２−メタクリロイルオキシエ
チルホスフェート、２−メタクリロイルオキシエチルア
シッドホスフェート、カプロラクトン変性−２−メタク
リロイルオキシエチルアシッドホスフェート。

【００６１】二官能メタクリレート類の例：１，４−ブ
タンジオールジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオ
ールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタク
リレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、
テトラエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチ
レングリコール＃２００ジメタクリレート、ポリエチレ
ングリコール＃３００ジメタクリレート、ポリエチレン
グリコール＃４００ジメタクリレート、ポリエチレング
リコール＃６００ジメタクリレート、ジプロピレングリ
コールジメタクリレート、トリプロピレングリコールジ
メタクリレート、テトラプロピレングリコールジメタク
リレート、ポリプロピレングリコール＃４００ジメタク
リレート、ポリプロピレングリコール＃７００ジメタク
リレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、
ネオペンチルグリコールＰＯ変性ジメタクリレート、ヒ
ドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステルジ
メタクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグ
リコールエステルのカプロラクトン付加物ジメタクリレ
ート、１，６−ヘキサンジオールビス（２−ヒドロキシ
−３−メタクリロイルオキシプロピル）エーテル、１，
９−ノナンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリ
トールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタ
クリレートモノステアレート、ペンタエリスリトールジ
メタクリレートモノベンゾエート、ビスフェノールＡジ
メタクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＡジメタクリ
レート、ＰＯ変性ビスフェノールＡジメタクリレート、
水素化ビスフェノールＡジメタクリレート、ＥＯ変性水
素化ビスフェノールＡジメタクリレート、ＰＯ変性水素
化ビスフェノールＡジメタクリレート、ビスフェノール
Ｆジメタクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＦジメタ
クリレート、ＰＯ変性ビスフェノールＦジメタクリレー
ト、ＥＯ変性テトラブロモビスフェノールＡジメタクリ
レート、トリシクロデカンジメチロールジメタクリレー
ト、イソシアヌル酸ＥＯ変性ジメタクリレート。

【００６２】三官能メタクリレート類の例：グリセリン
ＰＯ変性トリメタクリレート、トリメチロールプロパン
トリメタクリレート、トリメチロールプロパンＥＯ変性
トリメタクリレート、トリメチロールプロパンＰＯ変性
トリメタクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性トリメタ
クリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性ε−カプロラクト
ン変性トリメタクリレート、１，３，５−トリメタクリ
ロイルヘキサヒドロ−ｓ−トリアジン、ペンタエリスリ
トールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールト
リメタクリレートトリプロピオネート。

【００６３】四官能以上のメタクリレート類の例：ペン
タエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリ
スリトールペンタメタクリレートモノプロピオネート、
ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、テトラ
メチロールメタンテトラメタクリレート、オリゴエステ
ルテトラメタクリレート、トリス（メタクリロイルオキ
シ）ホスフェート。

【００６４】アリレート類の例：アリルグリシジルエー
テル、ジアリルフタレート、トリアリルトリメリテー
ト、イソシアヌル酸トリアリレート。

【００６５】酸アミド類の例：アクリルアミド、Ｎ−メ
チロールアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルア
クリルアミド、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド、アク
リロイルモルホリン、メタクリルアミド、Ｎ−メチロー
ルメタクリルアミド、ジアセトンメタクリルアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル
メタクリルアミド、Ｎ−イソプロピルメタクリルアミ
ド、メタクリロイルモルホリン。

【００６６】スチレン類の例：スチレン、ｐ−ヒドロキ
シスチレン、ｐ−クロロスチレン、ｐ−ブロモスチレ
ン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−メトキシスチレン、ｐ−
ｔ−ブトキシスチレン、ｐ−ｔ−ブトキシカルボニルス
チレン、ｐ−ｔ−ブトキシカルボニルオキシスチレン、
２，４−ジフェニル−４−メチル−１−ペンテン。

【００６７】他のビニル化合物の例：酢酸ビニル、モノ
クロロ酢酸ビニル、安息香酸ビニル、ピバル酸ビニル、
酪酸ビニル、ラウリン酸ビニル、アジピン酸ジビニル、
メタクリル酸ビニル、クロトン酸ビニル、２−エチルヘ
キサン酸ビニル、Ｎ−ビニルカルバゾール、Ｎ−ビニル
ピロリドン等。

【００６８】上記、ラジカル重合性化合物（Ｄ）は、以
下に示すメーカーの市販品として、容易に入手すること
ができる。そのようなメーカーの市販品としては、例え
ば、共栄社油脂化学工業（株）社製の「ライトアクリレ
ート」、「ライトエステル」、「エポキシエステル」、
「ウレタンアクリレート」および「高機能性オリゴマ
ー」シリーズ、新中村化学（株）社製の「ＮＫエステ
ル」および「ＮＫオリゴ」シリーズ、日立化成工業
（株）社製の「ファンクリル」シリーズ、東亞合成化学
（株）社製の「アロニックスＭ」シリーズ、大八化学工
業（株）社製の「機能性モノマー」シリーズ、大阪有機
化学工業（株）社製の「特殊アクリルモノマー」シリー
ズ、三菱レイヨン（株）社製の「アクリエステル」およ
び「ダイヤビームオリゴマー」シリーズ、日本化薬
（株）社製の「カヤラッド」および「カヤマー」シリー
ズ、（株）日本触媒社製の「アクリル酸／メタクリル酸
エステルモノマー」シリーズ、日本合成化学工業（株）
社製の「ＮＩＣＨＩＧＯ−ＵＶ紫光ウレタンアクリレー
トオリゴマー」シリーズ、信越酢酸ビニル（株）社製の
「カルボン酸ビニルエステルモノマー」シリーズ、
（株）興人社製の「機能性モノマー」シリーズ等があげ
られる。

【００６９】また、以下に示す環状化合物もラジカル重
合性化合物（Ｄ）としてあげられる。 三員環化合物の例：ジャーナル・オブ・ポリマー・サイ
エンス・ポリマー・ケミストリー・エディション（Ｊ．
Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．Ｐｏｌｙｍ．Ｃｈｅｍ．Ｅ
ｄ．）、第１７巻、３１６９頁（１９７９年）記載のビ
ニルシクロプロパン類、マクロモレキュラー・ケミー・
ラピッド・コミュニケーション（Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃ
ｈｅｍ．Ｒａｐｉｄ Ｃｏｍｍｕｎ．）、第５巻、６３
頁（１９８４年）記載の１−フェニル−２−ビニルシク
ロプロパン類、ジャーナル・オブ・ポリマー・サイエン
ス・ポリマー・ケミストリー・エディション（Ｊ．Ｐｏ
ｌｙｍ．Ｓｃｉ．Ｐｏｌｙｍ．Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．）、第
２３巻、１９３１頁（１９８５年）およびジャーナル・
オブ・ポリマー・サイエンス・ポリマー・レター・エデ
ィション（Ｊ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．Ｐｏｌｙｍ．Ｌｅ
ｔｔ．Ｅｄ．）、第２１巻、４３３１頁（１９８３年）
記載の２−フェニル−３−ビニルオキシラン類、日本化
学会第５０春期年会講演予稿集、１５６４頁（１９８５
年）記載の２，３−ジビニルオキシラン類。

【００７０】環状ケテンアセタール類の例：ジャーナル
・オブ・ポリマー・サイエンス・ポリマー・ケミストリ
ー・エディション（Ｊ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．Ｐｏｌｙ
ｍ．Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．）、第２０巻、３０２１頁（１９
８２年）およびジャーナル・オブ・ポリマー・サイエン
ス・ポリマー・レター・エディション（Ｊ．Ｐｏｌｙ
ｍ．Ｓｃｉ．Ｐｏｌｙｍ．Ｌｅｔｔ．Ｅｄ．）、第２１
巻、３７３頁（１９８３年）記載の２−メチレン−１，
３−ジオキセパン、ポリマー・プレプレプリント（Ｐｏ
ｌｙｍ．Ｐｒｅｐｒｉｎｔｓ）、第３４巻、１５２頁
（１９８５年）記載のジオキソラン類、ジャーナル・オ
ブ・ポリマー・サイエンス・ポリマー・レター・エディ
ション（Ｊ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．Ｐｏｌｙｍ．Ｌｅｔ
ｔ．Ｅｄ．）、第２０巻、３６１頁（１９８２年）、マ
クロモレキュラー・ケミー（Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅ
ｍ．）、第１８３巻、１９１３頁（１９８２年）および
マクロモレキュラー・ケミー（Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈ
ｅｍ．）、第１８６巻、１５４３頁（１９８５年）記載
の２−メチレン−４−フェニル−１，３−ジオキセパ
ン、マクロモレキュルズ（Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅ
ｓ）、第１５巻、１７１１頁（１９８２年）記載の４，
７−ジメチル−２−メチレン−１，３−ジオキセパン、
ポリマー・プレプレプリント（Ｐｏｌｙｍ．Ｐｒｅｐｒ
ｉｎｔｓ）、第３４巻、１５４頁（１９８５年）記載の
５，６−ベンゾ−２−メチレン−１，３−ジオセパン。

【００７１】さらに、ラジカル重合性化合物（Ｄ）は、
以下に示す文献に記載のものもあげることができる。そ
のような文献として、例えば、山下晋三ら編、「架橋剤
ハンドブック」、（１９８１年、大成社）や加藤清視
編、「ＵＶ・ＥＢ硬化ハンドブック（原料編）」、（１
９８５年、高分子刊行会）、ラドテック研究会編、「Ｕ
Ｖ・ＥＢ硬化技術の応用と市場」、７９頁、（１９８９
年、シーエムシー）、赤松清編、「新・感光性樹脂の実
際技術」、（１９８７年、シーエムシー）、遠藤剛編、
「熱硬化性高分子の精密化」、（１９８６年、シーエム
シー）、滝山榮一郎著、「ポリエステル樹脂ハンドブッ
ク」、（１９８８年、日刊工業新聞社）があげられる。

【００７２】これら塩基硬化性化合物（Ｃ）やラジカル
重合性化合物（Ｄ）は、ただ一種のみ用いても、所望と
する特性を向上するために、任意の比率で二種以上混合
したものを用いても構わない。また、本発明の塩基発生
剤（Ａ）は、塩基硬化性化合物（Ｃ）１００重量部に対
して０．０１から２０重量部の範囲で用いるのが好まし
く、さらに、０．１から１０重量部の範囲で用いるのが
より好ましい。

【００７３】さらに、本発明の硬化性組成物は有機高分
子重合体等のバインダーと混合し、ガラス板やアルミニ
ウム板、その他の金属板、ポリエチレンテレフタレート
等のポリマーフィルムに塗布して使用することが可能で
ある。

【００７４】本発明の硬化性組成物と混合して使用可能
なバインダーとしては、ポリアクリレート類、ポリ−α
−アルキルアクリレート類、ポリアミド類、ポリビニル
アセタール類、ポリホルムアルデヒド類、ポリウレタン
類、ポリカーボネート類、ポリスチレン類、ポリビニル
エステル類等の重合体、共重合体があげられ、さらに具
体的には、ポリメタクリレート、ポリメチルメタクリレ
ート、ポリエチルメタクリレート、ポリビニルカルバゾ
ール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルブチラール、
ポリビニルアセテート、ノボラック樹脂、フェノール樹
脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂その他、赤松清監
修、「新・感光性樹脂の実際技術」、（シーエムシー、
１９８７年）や「１０１８８の化学商品」、６５７〜７
６７頁（化学工業日報社、１９８８年）記載の業界公知
の有機高分子重合体があげられる。

【００７５】また、本発明の硬化性組成物はさらに感度
向上の目的で、以下の公知の重合開始剤と併用すること
が可能である。

【００７６】本発明の硬化性組成物と混合して併用可能
な他の公知の重合開始剤としては、ＵＳＰ第２８４８３
２８号、ＵＳＰ第２８５２３７９号ならびにＵＳＰ第２
９４０８５３号記載の有機アジド化合物、特公昭３６−
２２０６２号、特公昭３７−１３１０９号、特公昭３８
−１８０１５号ならびに特公昭４５−９６１０号記載の
オルト−キノンジアジド類、特開昭５９−１４２２０５
号記載のアゾ化合物、特開昭６１−１５１１９７号記載
のチタノセン類、「コーディネーション・ケミストリー
・レビュー(Coordination Chemistry Review) 」、第８
４巻、 第８５〜第２７７頁（１９８８年）ならびに特開
平２−１８２７０１号記載のルテニウム等の遷移金属を
含有する遷移金属錯体、特開平３ー２０９４７７号記載
のアルミナート錯体、特開平２−１５７７６０号記載の
ホウ酸塩化合物、特開昭５５−１２７５５０号ならびに
特開昭６０−２０２４３７号記載の２，４，５−トリア
リールイミダゾール二量体、四臭化炭素や特開昭５９−
１０７３４４号記載の有機ハロゲン化合物、さらには、
チバガイギー社のイルガキュアー（Ｉｒｇａｃｕｒｅ）
１８４、イルガキュアー３６９、イルガキュアー５０
０、イルガキュアー６５１、イルガキュアー９０７、イ
ルガキュアー２９５９、ダロキュアー（Ｄａｒｏｃｕ
ｒ）１１７３、日本化薬（株）社製のカヤキュアー（Ｋ
ＡＹＡＣＵＲＥ）ＢＤＭＫ、カヤキュアーＤＭＢＩ、カ
ヤキュアーＥＰＡ、カヤキュアーＭＣＡ、カヤキュアー
ＢＴＣ、カヤキュアーＱＴＸ、カヤキュアーＥＰＤ、カ
ヤキュアーＡＢＱ等があげられ、これら公知の重合開始
剤は、硬化性組成物１００重量部に対して０．０１から
１０重量部の範囲で含有されるのが好ましい。

【００７７】また、本発明の硬化性組成物は保存時の重
合を防止する目的で熱重合防止剤を添加することが可能
である。本発明の硬化性組成物に添加可能な熱重合防止
剤の具体例としては、ｐ−メトキシフェノール、ハイド
ロキノン、アルキル置換ハイドロキノン、カテコール、
ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、フェノチアジン等をあげ
ることができ、これらの熱重合防止剤は、硬化性組成物
１００重量部に対して０．００１から５重量部の範囲で
添加されるのが好ましい。

【００７８】また、本発明の硬化性組成物はさらに重合
を促進する目的で、アミンやチオール、ジスルフィド等
に代表される重合促進剤や連鎖移動触媒を添加すること
が可能である。

【００７９】本発明の硬化性組成物に添加可能な重合促
進剤や連鎖移動触媒の具体例としては、例えば、Ｎ−フ
ェニルグリシン、トリエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジエ
チルアニリン等のアミン類、ＵＳＰ第４４１４３１２号
や特開昭６４−１３１４４号記載のチオール類、特開平
２−２９１５６１号記載のジスルフィド類、ＵＳＰ第３
５５８３２２号や特開昭６４−１７０４８号記載のチオ
ン類、特開平２−２９１５６０号記載のＯ−アシルチオ
ヒドロキサメートや、Ｎ−アルコキシピリジンチオン類
があげられる。

【００８０】本発明の硬化性組成物はさらに目的に応じ
て、染料、有機および無機顔料、ホスフィン、ホスホネ
ート、ホスファイト等の酸素除去剤や還元剤、カブリ防
止剤、退色防止剤、ハレーション防止剤、蛍光増白剤、
界面活性剤、着色剤、可塑剤、難燃剤、酸化防止剤、紫
外線吸収剤、防カビ剤、帯電防止剤、磁性体、希釈を目
的とした溶剤等と混合して使用しても良い。

【００８１】尚、本明細書でいう、紫外線や近紫外線、
可視光、近赤外線、赤外線等の定義は久保亮五ら編「岩
波理化学辞典第４版」（１９８７年、岩波）によった。
したがって、本発明の硬化性組成物は、低圧水銀灯、中
圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンラン
プ、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、蛍光
灯、タングステンランプ、アルゴンイオンレーザ、ヘリ
ウムカドミウムレーザ、ヘリウムネオンレーザ、クリプ
トンイオンレーザ、各種半導体レーザ、ＹＡＧレーザ、
発光ダイオード、ＣＲＴ光源、プラズマ光源等の各種光
源による光照射により、さらに必要に応じて、光照射後
に加熱することにより、目的とする重合物や、良好な特
性を持った硬化物を得ることができる。

【００８２】したがって、例えば、成型樹脂、注型樹
脂、光造形用樹脂、封止剤、歯科用重合レジン、印刷イ
ンキ、塗料、印刷版用感光性樹脂、印刷用カラープルー
フ、カラーフィルター用レジスト、プリント基板用レジ
スト、半導体用フォトレジスト、マイクロエレクトロニ
クス用レジスト、パターン形成材料、画像形成材料、光
ファイバー被覆材料、光導波路用材料、ホログラム材
料、光発色材料、金属缶用被覆剤、各種オーバーコート
材、接着剤、粘着剤、離型剤、光記録媒体、マイクロカ
プセル形成材料、各種デバイス等の分野において、好適
に使用することができる。

【００８３】

【作用】本発明の塩基発生剤（Ａ）は、熱あるいはエネ
ルギー線の照射により分解し、塩基（アンモニアもしく
はアミン）とラジカルを効率よく発生し、塩基硬化性化
合物（Ｃ）やラジカル重合性化合物（Ｄ）の硬化触媒と
して極めて有効に作用し、良好な感度特性を与える。
尚、本発明でいう塩基とは、Ｒｕ³⁺から配位子Ｌが脱離
して生じるフリーのアンモニアもしくはアミン類を指
す。

【００８４】詳細な光反応メカニズムについては明かで
はないが、塩基発生剤（Ａ）は、光や電子線等のエネル
ギー線および／または熱により、分子内のボレートアニ
オンからルテニウム（III ）錯イオンへの電子移動反応
が起こり、その結果、生じたボレートアニオンラジカル
は、分解してラジカルを、一方のルテニウム（III ）錯
イオンは、ルテニウム（ ）錯イオンに酸化される際
に、分解して塩基（アンモニアもしくはアミン）を発生
するものと考えられる。

【００８５】ここで、ボレートアニオンの構造として
は、本発明の一般式（２）で表される構造である必要が
ある。それ以外のボレートアニオン、例えば、ケミスト
リー・オブ・マテリアルズ（Ｃｈｅｍ．Ｍａｔｅ
ｒ．）、第８巻、８５０頁（１９９６年）に記載のテト
ラフェニルボレートでは、光照射によって生じたルテニ
ウム（III ）錯イオンラジカルからテトラフェニルボレ
ートアニオンラジカルへの逆電子移動反応が極めて速い
ため、この逆電子移動反応が優先して起こり、したがっ
て事実上、活性なラジカルや塩基が極めて生成しにく
い。

【００８６】また、増感剤（Ｂ）が存在する場合は、エ
ネルギー線の照射によって、増感剤（Ｂ）と塩基発生剤
（Ａ）の間で、エネルギー移動反応もしくは電子移動反
応が起こり、該塩基発生剤（Ａ）が、より効果的に分解
して、ラジカルおよび塩基を発生する。そして、そのよ
うにして発生したラジカルは、ラジカル重合性化合物
（Ｄ）の重合もしくは架橋反応を、また、同時に発生し
た塩基は、塩基硬化性化合物（Ｃ）の硬化反応を引き起
こすものと考えられる。

【００８７】さらに、本発明の塩基発生剤（Ａ）は、分
解時に酸を発生しないという特徴を有する。したがっ
て、酸が残存しては困る用途、例えば、金属用塗料や封
止剤、レジスト等の分野において、好適に使用すること
ができる。

【００８８】

【実施例】以下、実施例にて本発明を具体的に説明する
が、本発明は下記の実施例のみに、なんら限定されるも
のではない。尚、特に断りのない限り、例中、部とは重
量部を示す。まず、実施例に先立って、本発明で使用さ
れる塩基発生剤（Ａ）の合成例を示す。

【００８９】（合成例１） ヘキサアンミンルテニウム（III ）トリス（トリフェニ
ルブチルボレート）の合成 ヘキサアンミンルテニウム（III ）塩化物１．６８部含
む水溶液５０部に、リチウムトリフェニルブチルボレー
ト５．００部含む水溶液１００部を添加し、室温下、２
０分攪拌した。生成した結晶を濾過、水洗後、減圧下乾
燥して、ヘキサアンミンルテニウム（III ）トリス（ト
リフェニルブチルボレート）３．１２部を得た。

【００９０】（合成例２） トリス（エチレンジアミン）ルテニウム（III ）トリス
（トリフェニルブチルボレート）の合成 トリス（エチレンジアミン）ルテニウム（III ）塩化物
２．１１部含む水溶液５０部に、リチウムトリフェニル
ブチルボレート５．００部含む水溶液１００部を添加
し、室温下、２０分攪拌した。生成した結晶を濾過、水
洗後、減圧下乾燥して、トリス（エチレンジアミン）ル
テニウム（III ）トリス（トリフェニルブチルボレー
ト）３．７８部を得た。

【００９１】（合成例３） ｃｉｓ−ジアンミンビス（エチレンジアミン）ルテニウ
ム（III ）トリス（トリフェニルブチルボレート）の合
成 ｃｉｓ−ジアンミンビス（エチレンジアミン）ルテニウ
ム（III ）硝酸塩２．４０部含む水溶液５０部に、リチ
ウムトリフェニルブチルボレート５．００部含む水溶液
１００部を添加し、室温下、２０分攪拌した。生成した
結晶を濾過、水洗後、減圧下乾燥して、ｃｉｓ−ジアン
ミンビス（エチレンジアミン）ルテニウム（III ）トリ
ス（トリフェニルブチルボレート）２．９５部を得た。

【００９２】（合成例４） ｔｒａｎｓ−ジアンミンビス（エチレンジアミン）ルテ
ニウム（III ）トリス（トリフェニルブチルボレート）
の合成 ｔｒａｎｓ−ジアンミンビス（エチレンジアミン）ルテ
ニウム（III ）塩化物１．９６部含む水溶液５０部に、
リチウムトリフェニルブチルボレート５．００部含む水
溶液１００部を添加し、室温下、２０分攪拌した。生成
した結晶を濾過、水洗後、減圧下乾燥して、ｔｒａｎｓ
−ジアンミンビス（エチレンジアミン）ルテニウム（II
I ）トリス（トリフェニルブチルボレート）３．２５部
を得た。

【００９３】（合成例５） トリス（トリエチレンジアミン）ルテニウム（III ）ト
リス（トリフェニルブチルボレート）の合成 トリス（トリエチレンジアミン）ルテニウム（III ）塩
化物２．３３部含む水溶液５０部に、リチウムトリフェ
ニルブチルボレート５．００部含む水溶液１００部を添
加し、室温下、２０分攪拌した。生成した結晶を濾過、
水洗後、減圧下乾燥して、トリス（トリエチレンジアミ
ン）ルテニウム（III ）トリス（トリフェニルブチルボ
レート）５．１２部を得た。

【００９４】（合成例６） トリス（プロピレンジアミン）ルテニウム（III ）トリ
ス（トリフェニルブチルボレート）の合成 トリス（プロピレンジアミン）ルテニウム（III ）塩化
物２．３３部含む水溶液５０部に、リチウムトリフェニ
ルブチルボレート５．００部含む水溶液１００部を添加
し、室温下、２０分攪拌した。生成した結晶を濾過、水
洗後、減圧下乾燥して、トリス（プロピレンジアミン）
ルテニウム（III ）トリス（トリフェニルブチルボレー
ト）４．５２部を得た。

【００９５】（合成例７） テトラアンミン｛（−）（プロピレンジアミン）｝ルテ
ニウム（III ）トリス（トリフェニルブチルボレート）
の合成 テトラアンミン｛（−）（プロピレンジアミン）｝ルテ
ニウム（III ）塩化物１．９０部含む水溶液５０部に、
リチウムトリフェニルブチルボレート５．００部含む水
溶液１００部を添加し、室温下、２０分攪拌した。生成
した結晶を濾過、水洗後、減圧下乾燥して、テトラアン
ミン｛（−）（プロピレンジアミン）｝ルテニウム（II
I ）トリス（トリフェニルブチルボレート）３．６８部
を得た。

【００９６】（合成例８） トリス（ｔｒａｎｓ−１，２−シクロヘキサンジアミ
ン）ルテニウム（III ）トリス（トリフェニルブチルボ
レート）の合成 トリス（ｔｒａｎｓ−１，２−シクロヘキサンジアミ
ン）ルテニウム（III ）塩化物２．９９部含む水溶液５
０部に、リチウムトリフェニルブチルボレート５．００
部含む水溶液１００部を添加し、室温下、２０分攪拌し
た。生成した結晶を濾過、水洗後、減圧下乾燥して、ト
リス（ｔｒａｎｓ−１，２−シクロヘキサンジアミン）
ルテニウム（III ）トリス（トリフェニルブチルボレー
ト）４．２５部を得た。

【００９７】（合成例９） ビス（ジエチレントリアミン）ルテニウム（III ）トリ
ス（トリフェニルブチルボレート）の合成 ビス（ジエチレントリアミン）ルテニウム（III ）塩化
物２．２６部含む水溶液５０部に、リチウムトリフェニ
ルブチルボレート５．００部含む水溶液１００部を添加
し、室温下、２０分攪拌した。生成した結晶を濾過、水
洗後、減圧下乾燥して、ビス（ジエチレントリアミン）
ルテニウム（III ）トリス（トリフェニルブチルボレー
ト）３．５８部を得た。

【００９８】（合成例１０） ビス（ピリジン）ビス（エチレンジアミン）ルテニウム
（III ）トリス（トリフェニルブチルボレート）の合成 ビス（ピリジン）ビス（エチレンジアミン）ルテニウム
（III ）塩化物２．６４部含む水溶液５０部に、リチウ
ムトリフェニルブチルボレート５．００部含む水溶液１
００部を添加し、室温下、２０分攪拌した。生成した結
晶を濾過、水洗後、減圧下乾燥して、ビス（ピリジン）
ビス（エチレンジアミン）ルテニウム（III ）トリス
（トリフェニルブチルボレート）４．１７部を得た。

【００９９】（合成例１１） ビス（イミダゾール）ビス（エチレンジアミン）ルテニ
ウム（III ）トリス（トリフェニルブチルボレート）の
合成 ビス（イミダゾール）ビス（エチレンジアミン）ルテニ
ウム（III ）塩化物２．５２部含む水溶液５０部に、リ
チウムトリフェニルブチルボレート５．００部含む水溶
液１００部を添加し、室温下、２０分攪拌した。生成し
た結晶を濾過、水洗後、減圧下乾燥して、ビス（イミダ
ゾール）ビス（エチレンジアミン）ルテニウム（III ）
トリス（トリフェニルブチルボレート）４．９８部を得
た。

【０１００】（合成例１２） ヘキサアンミンルテニウム（III ）トリス（トリフェニ
ルメチルボレート）の合成 ヘキサアンミンルテニウム（III ）塩化物１．６８部含
む水溶液５０部に、リチウムトリフェニルメチルボレー
ト６．００部含む水溶液１００部を添加し、室温下、２
０分攪拌した。生成した結晶を濾過、水洗後、減圧下乾
燥して、ヘキサアンミンルテニウム（III ）トリス（ト
リフェニルメチルボレート）３．６４部を得た。

【０１０１】（合成例１３） ヘキサアンミンルテニウム（III ）トリス（トリフェニ
ルオクチルボレート）の合成 ヘキサアンミンルテニウム（III ）塩化物１．６８部含
む水溶液５０部に、リチウムトリフェニルオクチルボレ
ート７．００部含む水溶液１００部を添加し、室温下、
２０分攪拌した。生成した結晶を濾過、水洗後、減圧下
乾燥して、ヘキサアンミンルテニウム（III ）トリス
（トリフェニルオクチルボレート）３．５７部を得た。

【０１０２】（合成例１４） ヘキサアンミンルテニウム（III ）トリス（トリフェニ
ルベンジルボレート）の合成 ヘキサアンミンルテニウム（III ）塩化物１．６８部含
む水溶液５０部に、リチウムトリフェニルベンジルボレ
ート７．００部含む水溶液１００部を添加し、室温下、
２０分攪拌した。生成した結晶を濾過、水洗後、減圧下
乾燥して、ヘキサアンミンルテニウム（III ）トリス
（トリフェニルベンジルボレート）４．２９部を得た。

【０１０３】（合成例１５） ヘキサアンミンルテニウム（III ）トリス［トリス（ｐ
−トリル）ブチルボレート］の合成 ヘキサアンミンルテニウム（III ）塩化物１．６８部含
む水溶液５０部に、リチウムトリス（ｐ−トリル）ブチ
ルボレート６．５０部含む水溶液１００部を添加し、室
温下、２０分攪拌した。生成した結晶を濾過、水洗後、
減圧下乾燥して、ヘキサアンミンルテニウム（III ）ト
リス［トリス（ｐ−トリル）ブチルボレート）４．１２
部を得た。

【０１０４】（合成例１６） ヘキサアンミンルテニウム（III ）トリス［トリス（ｐ
−メトキシフェニル）ブチルボレート］の合成 ヘキサアンミンルテニウム（III ）塩化物１．６８部含
む水溶液５０部に、リチウムトリス（ｐ−メトキシフェ
ニル）ブチルボレート８．００部含む水溶液１００部を
添加し、室温下、２０分攪拌した。生成した結晶を濾
過、水洗後、減圧下乾燥して、ヘキサアンミンルテニウ
ム（III ）トリス［トリス（ｐ−メトキシフェニル）ブ
チルボレート）５．２１部を得た。

【０１０５】実施例１ 塩基発生剤（Ａ）としてヘキサアンミンルテニウム（II
I ）トリス（トリフェニルブチルボレート）を３部、ラ
ジカル重合性化合物（Ｄ）としてペンタエリスリトール
トリアクリレート１００部からなる硬化性組成物を、バ
ーコーターを用いて約１０μｍの厚みに鉄板上に塗布
し、東芝（株）製紫外線照射装置（メタルハライドラン
プ３ＫＷ２灯、１５０Ｗ／ｃｍ、照射距離２００ｍｍ）
にて、１０ｍ／ｍｉｎのコンベアスピードで照射したと
ころ、この硬化性組成物は硬化し、タックフリーの硬化
膜が得られた。この硬化膜で覆われた鉄板を、屋外で１
ヶ月放置したが、鉄板の腐食は認められなかった。

【０１０６】実施例２ 実施例１における硬化性組成物に、増感剤（Ｂ）として
４，４’−ジエチルアミノベンゾフェノン０．５部を、
さらに添加して得た硬化性組成物を、バーコーターを用
いて約１０μｍの厚みに鉄板上に塗布し、東芝（株）製
紫外線照射装置（メタルハライドランプ３ＫＷ２灯、１
５０Ｗ／ｃｍ、照射距離２００ｍｍ）にて１５ｍ／ｍｉ
ｎのコンベアスピードで照射したところ、この硬化性組
成物は硬化し、タックフリーの硬化膜が得られた。

【０１０７】実施例３〜実施例４０ 実施例１におけるヘキサアンミンルテニウム（III ）ト
リス（トリフェニルブチルボレート）３部のかわりに、
第１表および第２表に示した塩基発生剤（Ａ）３部にか
えた他は、実施例１と全く同様の操作で、実験をそれぞ
れ行ったところ、いずれの場合も、タックフリーの硬化
膜が得られた。

【０１０８】 第１表 ──────────────────────── 塩基発生剤（Ａ） ────────────────────────ヘキサアンミンルテニウム (III)トリス(トリフェニルメチルホ ゛レート)ヘキサアンミンルテニウム (III)トリス(トリフェニルフ゜ロヒ゜ルホ゛レート)ヘキサアンミンルテニウム (III)トリス(トリフェニルヘキシルホ゛レート)ヘキサアンミンルテニウム (III)トリス(トリフェニルオクチルホ゛レート)ヘキサアンミンルテニウム (III)トリス(トリフェニルオクタテ ゛シルホ ゛レート)ヘキサアンミンルテニウム (III)トリス(トリフェニルイソフ゜ロヒ゜ルホ゛レート)ヘキサアンミンルテニウム (III)トリス(トリフェニルイソフ゛チルホ ゛レート)ヘキサアンミンルテニウム (III)トリス(トリフェニル-sec-フ ゛チルホ ゛レート)ヘキサアンミンルテニウム (III)トリス(トリフェニルネオヘ゜ンチルホ゛レート)ヘキサアンミンルテニウム (III)トリス(トリフェニルシクロヘ ゜ンチルホ゛レート)ヘキサアンミンルテニウム (III)トリス(トリフェニルシクロヘキシルホ ゛レート)ヘキサアンミンルテニウム (III)トリス[ トリフェニル(フルオロメチル)ホ゛レート ] ヘキサアンミンルテニウム (III)トリス[ トリフェニル(クロロメチル)ホ ゛レート ] ヘキサアンミンルテニウム (III)トリス[ トリフェニル(フ゛ロモメチル)ホ ゛レート ] ヘキサアンミンルテニウム (III)トリス[ トリフェニル(トリフルオロメチル)ホ゛レート ] ヘキサアンミンルテニウム (III)トリス[ トリフェニル(トリクロロメチル)ホ ゛レート ] ヘキサアンミンルテニウム (III)トリス[ トリフェニル(ヒト ゛ロキシメチル)ホ゛レート ] ヘキサアンミンルテニウム (III)トリス[ トリフェニル(カルホ゛キシメチル)ホ ゛レート ] ヘキサアンミンルテニウム (III)トリス[ トリフェニル(シアノメチル)ホ ゛レート ] ヘキサアンミンルテニウム (III)トリス[ トリフェニル(ニトロメチル)ホ ゛レート ] ヘキサアンミンルテニウム (III)トリス[ トリフェニル(アシ ゛ト ゛メチル)ホ ゛レート ] ヘキサアンミンルテニウム (III)トリス[ トリス(1-ナフチル)フ゛チルホ ゛レート ] ヘキサアンミンルテニウム (III)トリス[ トリス(2-ナフチル)フ゛チルホ ゛レート ] ヘキサアンミンルテニウム (III)トリス[ トリス(o-トリル)フ ゛チルホ ゛レート ] ヘキサアンミンルテニウム (III)トリス[ トリス(m-トリル)フ ゛チルホ ゛レート ] ヘキサアンミンルテニウム (III)トリス[ トリス(p-トリル)フ ゛チルホ ゛レート ] ヘキサアンミンルテニウム (III)トリス[ トリス(2,3-キシリル)フ゛チルホ ゛レート ] ヘキサアンミンルテニウム (III)トリス[ トリス(2,5-キシリル)フ゛チルホ ゛レート ] ──────────────────────────────

【０１０９】 第２表 ────────────────────────────────── 塩基発生剤（Ａ） ──────────────────────────────────トリス (エチレンシ ゛アミン)ルテニウム(III)トリス(トリフェニルフ ゛チルホ ゛レート) cis-シ ゛アンミンヒ ゛ス(エチレンシ ゛アミン)ルテニウム(III)トリス(トリフェニルフ ゛チルホ ゛レート) trans-シ ゛アンミンヒ ゛ス(エチレンシ ゛アミン)ルテニウム(III)トリス(トリフェニルフ ゛チルホ ゛レート)トリス (トリメチレンシ ゛アミン)ルテニウム(III)トリス(トリフェニルフ ゛チルホ ゛レート)トリス (フ ゜ロヒ゜レンシ ゛アミン)ルテニウム(III)トリス(トリフェニルフ ゛チルホ ゛レート)テトラアンミン ｛(-)(フ ゜ロヒ゜レンシ ゛アミン)｝ルテニウム(III)トリス(トリフェニルフ ゛チルホ ゛レート)トリス (trans-1,2-シクロヘキサンシ゛アミン)ルテニウム(III)トリス(トリフェニルフ ゛チルホ ゛レート)ヒ ゛ス(シ ゛エチレントリアミン)ルテニウム(III)トリス(トリフェニルフ ゛チルホ ゛レート)ヒ ゛ス(ヒ ゜リシ゛ン)ヒ ゛ス(エチレンシ ゛アミン)ルテニウム(III)トリス(トリフェニルフ ゛チルホ ゛レート)ヒ ゛ス(イミタ ゛ソ ゛ール)ヒ゛ス(エチレンシ ゛アミン)ルテニウム(III)トリス(トリフェニルフ ゛チルホ ゛レート) ──────────────────────────────────

【０１１０】実施例４１〜実施例５３ 実施例２における４，４’−ジエチルアミノベンゾフェ
ノン０．５部のかわりに、第３表に示した増感剤（Ｂ）
を０．５部、それぞれ添加して得た硬化性組成物を、実
施例２と全く同様の操作をそれぞれ行ったところ、いず
れの場合も実施例２と同様、１５ｍ／ｍｉｎのコンベア
スピードでタックフリーの硬化膜が得られた。

【０１１１】

【０１１２】比較例１ 実施例１におけるヘキサアンミンルテニウム（III ）ト
リス（トリフェニルブチルボレート）３部のかわりに、
公知の塩基発生剤であるヘキサアンミンコバルト（III
）トリス（テトラフェニルボレート）３部を使用した
以外は、実施例１と同様の操作を行ったところ、コンベ
アースピード１０ｍ／ｍｉｎでは、タックフリーの硬化
膜が得られなかった。

【０１１３】比較例２ 実施例２におけるヘキサアンミンルテニウム（III ）ト
リス（トリフェニルブチルボレート）３部のかわりに、
公知の塩基発生剤であるヘキサアンミンコバルト（III
）トリス（テトラフェニルボレート）３部を使用した
以外は、実施例２と同様の操作を行ったところ、コンベ
アースピード１０ｍ／ｍｉｎでは、タックフリーの硬化
膜が得られなかった。

【０１１４】実施例５４〜実施例６９ 実施例１におけるペンタエリスリトールトリアクリレー
ト１００部のかわりに、第４表に示したラジカル重合性
化合物（Ｄ）１００部にかえた他は、実施例１と全く同
様の操作で、実験をそれぞれ行ったところ、いずれの場
合も、タックフリーの硬化膜が得られた。

【０１１５】第４表 ──────────────── ラジカル重合性化合物（Ｄ） ────────────────トリメチロールフ ゜ロハ゜ントリアクリレート 2-エチルヘキシルアクリレート 2-ヒト ゛ロキシエチルアクリレート 1,6-ヘキサンシ゛オールシ゛アクリレートエチレンク ゛リコールシ ゛アクリレートホ ゜リフ゜ロヒ゜レンク ゛リコールシ ゛アクリレートヘ ゜ンタエリスリトールシ゛アクリレートヘ ゜ンタエリスリトールテトラアクリレートシ ゛ヘ ゜ンタエリスリトールヘキサアクリレート 2-エチルヘキシルメタクリレートク ゛リシシ ゛ルメタクリレート 1,6-ヘキサンシ゛オールシ゛メタクリレートシ ゛エチレンク ゛リコールシ ゛メタクリレートトリメチロールフ ゜ロハ゜ントリメタクリレートシ ゛アリルフタレートトリアリルトリメリテート ────────────────

【０１１６】実施例７０ ラジカル重合性化合物（Ｄ）としてペンタエリスリトー
ルトリアクリレート５０重量部と、塩基発生剤（Ａ）と
してヘキサアンミンルテニウム（III ）トリス（トリフ
ェニルブチルボレート）１重量部からなる混合物を、ガ
ラス板上に約５ミクロンの厚さに塗布し、さらにこの上
に厚さ約２５ミクロンのポリエチレンフィルムを密着さ
せたサンプルを作成した。このサンプルを、１００℃の
オーブン中で１０分間保持したところ、このサンプルは
硬化し、明らかに硬化物を与えた。

【０１１７】実施例７１ 塩基硬化性化合物（Ｃ）として、３，４−エポキシシク
ロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカ
ルボキシレート（ユニオンカーバイド社製、製品名ＥＲ
Ｌ−４２２１）１００部、塩基発生剤（Ａ）としてヘキ
サアンミンルテニウム（III ）トリス（トリフェニルブ
チルボレート）３部からなる硬化性組成物を、アルミニ
ウムカップに入れ、５００ｍＷの高圧水銀ランプ（ウシ
オ電機社製）を用いて、熱線カットフィルターを通し
て、１０ｃｍの距離から５分間照射したところ、アルミ
ニウムカップの底に硬化物が認められた。

【０１１８】実施例７２〜実施例１０９ ヘキサアンミンルテニウム（III ）トリス（トリフェニ
ルブチルボレート）３部のかわりに、先の第１表および
第２表に示した塩基発生剤（Ａ）３部からなる硬化性組
成物を調製し、実施例７１と同様な実験をそれぞれ行っ
たところ、いずれの場合も、アルミニウムカップの底に
硬化物が認められた。

【０１１９】実施例１１０〜実施例１３７ ３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポ
キシシクロヘキサンカルボキシレートの１００部かわり
に、第５表に示す塩基硬化性化合物（Ｃ）１００部から
なる硬化性組成物を調製し、実施例７１と同様な実験を
それぞれ行ったところ、いずれの場合も、アルミニウム
カップの底に硬化物が認められた。

【０１２０】第５表 ───────────────────────── 塩基硬化性化合物（Ｃ） ─────────────────────────エホ ゜ライト M-1230 ( 共栄社油脂化学工業( 株) 社製)エホ ゜ライト 40E ( 共栄社油脂化学工業( 株) 社製)エホ ゜ライト 200E ( 共栄社油脂化学工業( 株) 社製)エホ ゜ライト 400E ( 共栄社油脂化学工業( 株) 社製)エホ ゜ライト 70P ( 共栄社油脂化学工業( 株) 社製)エホ ゜ライト 200P ( 共栄社油脂化学工業( 株) 社製)エホ ゜ライト 400P ( 共栄社油脂化学工業( 株) 社製)エホ ゜ライト 1500NP ( 共栄社油脂化学工業( 株) 社製)エホ ゜ライト 1600 ( 共栄社油脂化学工業( 株) 社製)エホ ゜ライト 80MF ( 共栄社油脂化学工業( 株) 社製)エホ ゜ライト 4000 ( 共栄社油脂化学工業( 株) 社製)エホ ゜ライト 3002 ( 共栄社油脂化学工業( 株) 社製)エホ ゜ライト FR-1500 ( 共栄社油脂化学工業( 株) 社製)エホ ゜トート YD-8125 ( 東都化成( 株) 社製)エホ ゜トート YDF-8170( 東都化成( 株) 社製)エホ ゜トート YDF-175P( 東都化成( 株) 社製)エホ ゜トート YDPN-638( 東都化成( 株) 社製)テ ゛ナコール EX-611 (長瀬化成工業( 株) 社製)テ ゛ナコール EX-301 (長瀬化成工業( 株) 社製)テ ゛ナコール EX-313 (長瀬化成工業( 株) 社製)テ ゛ナコール EM-125 (長瀬化成工業( 株) 社製)エヒ ゜コート 801 ( 油化シェルエホ ゜キシ( 株) 社製)エヒ ゜コート 828 ( 油化シェルエホ ゜キシ( 株) 社製)エヒ ゜コート 152 ( 油化シェルエホ ゜キシ( 株) 社製)エヒ ゜コート 191P ( 油化シェルエホ ゜キシ( 株) 社製) ERL-4299 (ユニオン/カーハ゛イト゛社製) ERL-4206 (ユニオン/カーハ゛イト゛社製) ERL-4234 (ユニオン/カーハ゛イト゛社製) ─────────────────────────

【０１２１】実施例１３８ 塩基硬化性化合物（Ｃ）として、３，４−エポキシシク
ロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカ
ルボキシレート（ユニオンカーバイド社製、製品名ＥＲ
Ｌ−４２２１）１００部、塩基発生剤（Ａ）として、ヘ
キサアンミンルテニウム（III ）トリス（トリフェニル
ブチルボレート）３部、増感剤（Ｂ）として、アントラ
セン０．５部からなる硬化性組成物をアルミニウムカッ
プに入れ、５００ｍＷの高圧水銀ランプを用いて、熱線
カットフィルターを通して、１０ｃｍの距離から３分間
照射したところ、アルミニウムカップの底に硬化物が認
められた。

【０１２２】実施例１３９〜実施例１４６ アントラセン０．５部のかわりに、第６表に示す増感剤
（Ｂ）０．５部からなる硬化性組成物を調製し、実施例
１５９と同様な実験をそれぞれ行ったところ、いずれの
場合も、アルミニウムカップの底に硬化物が認められ
た。

【０１２３】第６表 ───────────────────── 増感剤（Ｂ） ───────────────────── 9,10-ヒ゛ス(フェニルエチニル)アントラセン 9-フ ゛ロモアントラセン 9,10-シ゛メチルアントラセン 9,10-シ゛フェニルアントラセン 1,8-シ ゛メトキシ-9,10-ヒ ゛ス(フェニルエチニル)アントラセンアクリシ ゛ンオレンシ ゛ヘ ゛ンソ゛フラヒ ゛ン セトフラヒ ゛ン T ─────────────────────

【０１２４】比較例３ 実施例１におけるヘキサアンミンルテニウム（III ）ト
リス（トリフェニルブチルボレート）３部のかわりに、
公知の重合開始剤であるトリフェニルスルホニウムヘキ
サフルオロホスフェート３部を使用して、実施例１と同
様の操作を行い、タックフリーの硬化膜を得た。この硬
化膜で覆われた鉄板を、屋内で１ヶ月放置したところ、
鉄板の端部に明らかに腐食が認められた。

【０１２５】比較例４ 実施例７１におけるヘキサアンミンルテニウム（III ）
トリス（トリフェニルブチルボレート）３部のかわり
に、公知の重合開始剤であるジフェニルヨードニウムヘ
キサフルオロアンチモネート３部を使用して、実施例７
１と同様の操作を行い、硬化物を得た。この硬化物の残
存したアルミニウムカップを、屋内で１ヶ月放置したと
ころ、この硬化物の残存したアルミニウムカップの端部
に明らかに腐食が認められた。

【発明の効果】本発明の塩基発生剤（Ａ）は、塩基硬化
性化合物（Ｃ）およびラジカル重合性化合物（Ｄ）の重
合開始剤として有効であり、これらからなる硬化性組成
物は、光および／または熱エネルギーの付与により、良
好な特性をもった硬化物を得ることが可能である。ま
た、この硬化性組成物に、さらに増感剤（Ｂ）を添加す
ることで、光に対してより高感度な硬化性組成物とな
る。さらに、本硬化性組成物を用いて重合ないしは硬化
を行う際、酸を発生せず、また得られた硬化物にも酸を
残留しないため、バインダーその他とともに基板上に塗
布して、例えば、成型樹脂、注型樹脂、光造形用樹脂、
封止剤、歯科用重合レジン、印刷インキ、塗料、印刷版
用感光性樹脂、印刷用カラープルーフ、カラーフィルタ
ー用レジスト、プリント基板用レジスト、半導体用フォ
トレジスト、マイクロエレクトロニクス用レジスト、パ
ターン形成材料、画像形成材料、光ファイバー被覆材
料、光導波路用材料、ホログラム材料、光発色材料、金
属缶用被覆剤、各種オーバーコート材、接着剤、粘着
剤、離型剤、光記録媒体、マイクロカプセル形成材料、
各種デバイス等の分野において使用でき、特に腐食が懸
念される金属用塗料、各種記録媒体や接着剤に好適に使
用することができる。

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一般式（１）で表される塩基発生剤
   （Ａ）。 一般式（１） Ｌ_n Ｒｕ³⁺・３ＢＡｒ₃ Ｒ^- （ただし、Ｌは、アンモニア、ピリジン、イミダゾー
   ル、エチレンジアミン、トリメチレンジアミン、テトラ
   メチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、プロピレ
   ンジアミン、１，２−シクロヘキサンジアミン、Ｎ，Ｎ
   −ジエチルエチレンジアミン、ジエチレントリアミンか
   ら選ばれる少なくとも一種の配位子を表す。ｎはＬの配
   位数であり２〜６の整数を表す。Ａｒは、フッ素、塩
   素、臭素、水酸基、カルボキシル基、メルカプト基、シ
   アノ基、ニトロ基、アジド基で置換されていても良いＣ
   ₆ 〜Ｃ₁₈の単環、縮合多環アリール基を表す。Ｒは、フ
   ッ素、塩素、臭素、水酸基、カルボキシル基、メルカプ
   ト基、シアノ基、ニトロ基、アジド基で置換されていて
   も良いＣ₁ 〜Ｃ₁₈の直鎖状、分岐鎖状、環状アルキル基
   を表す。）
2. 【請求項２】 請求項１記載の塩基発生剤（Ａ）および
   増感剤（Ｂ）からなる請求項１記載の塩基発生剤組成
   物。
3. 【請求項３】 更に塩基硬化性化合物（Ｃ）を添加して
   なる請求項１又は請求項２記載の硬化性組成物。
4. 【請求項４】 更にラジカル重合性化合物（Ｄ）を添加
   してなる請求項１又は請求項２記載の硬化性組成物。
5. 【請求項５】 請求項３または請求項４記載の硬化性組
   成物の硬化物。