JPH09194819A - 感エネルギー線酸発生剤、感エネルギー線酸発生剤組成物、それを用いた硬化性組成物、およびハイブリッド型硬化性組成物 - Google Patents
感エネルギー線酸発生剤、感エネルギー線酸発生剤組成物、それを用いた硬化性組成物、およびハイブリッド型硬化性組成物Info
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- JPH09194819A JPH09194819A JP445496A JP445496A JPH09194819A JP H09194819 A JPH09194819 A JP H09194819A JP 445496 A JP445496 A JP 445496A JP 445496 A JP445496 A JP 445496A JP H09194819 A JPH09194819 A JP H09194819A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】毒性、臭気、溶解性およびエネルギー線感受性
の何れにおいても優れた特性を有する酸発生剤を提供す
る。 【解決手段】 一般式（１）または一般式（２）で表さ
れるアリールオキシスルホキソニウムボレート錯体であ
ることを特徴とする感エネルギー線酸発生剤。 【化１】 （式中、Ｒ1 およびＲ2 は、ハロゲン原子、ヒドロキシ
基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、アルキル基、アル
コキシル基、アラルキルオキシ基、アリール基、アリー
ルオキシ基、アラルキル基で置換されていても良いアリ
ール基、Ｒ3 は、アルキル基、アルコキシル基、アラル
キルオキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アラル
キル基で置換されていても良いアリール基、Ｙはフッ素
または塩素、Ｚは少なくとも２つ以上のフッ素、シアノ
基、ニトロ基、トリフルオロメチル基の中から選ばれる
電子吸引性基で置換されたフェニル基、ｍは０〜３の整
数、ｎは１〜４の整数を表し、ｍ＋ｎ＝４である。） 【化２】 （式中、Ｒ4 は硫黄原子と一緒になって複素環基を形成
する炭素原子数４〜１５の二価の基を表し、Ｒ3 、Ｙ、
Ｚ、ｍ、ｎは上記と同じ意味を表す。）
の何れにおいても優れた特性を有する酸発生剤を提供す
る。 【解決手段】 一般式（１）または一般式（２）で表さ
れるアリールオキシスルホキソニウムボレート錯体であ
ることを特徴とする感エネルギー線酸発生剤。 【化１】 （式中、Ｒ1 およびＲ2 は、ハロゲン原子、ヒドロキシ
基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、アルキル基、アル
コキシル基、アラルキルオキシ基、アリール基、アリー
ルオキシ基、アラルキル基で置換されていても良いアリ
ール基、Ｒ3 は、アルキル基、アルコキシル基、アラル
キルオキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アラル
キル基で置換されていても良いアリール基、Ｙはフッ素
または塩素、Ｚは少なくとも２つ以上のフッ素、シアノ
基、ニトロ基、トリフルオロメチル基の中から選ばれる
電子吸引性基で置換されたフェニル基、ｍは０〜３の整
数、ｎは１〜４の整数を表し、ｍ＋ｎ＝４である。） 【化２】 （式中、Ｒ4 は硫黄原子と一緒になって複素環基を形成
する炭素原子数４〜１５の二価の基を表し、Ｒ3 、Ｙ、
Ｚ、ｍ、ｎは上記と同じ意味を表す。）
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は感エネルギー線酸発
生剤、感エネルギー線酸発生剤組成物およびそれを用い
た硬化性組成物に関し、さらに詳しくは、エネルギー線
の照射下で酸を発生せしめる酸発生剤もしくは酸発生剤
組成物と、発生した酸の触媒作用によって短時間で重合
または硬化する硬化性組成物、さらには、これらにラジ
カル重合可能な化合物およびラジカル発生剤をさらに混
合してなるハイブリッド型硬化性組成物に関する。得ら
れた硬化物は、成型樹脂、注型樹脂、封止剤、歯科用重
合レジン、光造形樹脂、プリント基板用レジスト、カラ
ーフィルター用レジスト、マイクロエレクトロニクス用
レジスト、印刷版用感光性樹脂、感光性インキジェッ
ト、印刷（オフセット、グラビア、シルクスクリーン）
用インキ、印刷校正用カラープルーフ、塗料、表面コー
ト剤、接着剤、粘着剤、離型剤、ホログラム記録材料等
の材料に好適に用いられるが、本発明による感エネルギ
ー線酸発生剤または感エネルギー線酸発生剤組成物によ
って発生する酸を触媒とする化学反応に一般的に広く適
用できる。
生剤、感エネルギー線酸発生剤組成物およびそれを用い
た硬化性組成物に関し、さらに詳しくは、エネルギー線
の照射下で酸を発生せしめる酸発生剤もしくは酸発生剤
組成物と、発生した酸の触媒作用によって短時間で重合
または硬化する硬化性組成物、さらには、これらにラジ
カル重合可能な化合物およびラジカル発生剤をさらに混
合してなるハイブリッド型硬化性組成物に関する。得ら
れた硬化物は、成型樹脂、注型樹脂、封止剤、歯科用重
合レジン、光造形樹脂、プリント基板用レジスト、カラ
ーフィルター用レジスト、マイクロエレクトロニクス用
レジスト、印刷版用感光性樹脂、感光性インキジェッ
ト、印刷（オフセット、グラビア、シルクスクリーン）
用インキ、印刷校正用カラープルーフ、塗料、表面コー
ト剤、接着剤、粘着剤、離型剤、ホログラム記録材料等
の材料に好適に用いられるが、本発明による感エネルギ
ー線酸発生剤または感エネルギー線酸発生剤組成物によ
って発生する酸を触媒とする化学反応に一般的に広く適
用できる。
【０００２】
【従来の技術】エネルギー線の照射によって酸を発生す
る化合物としては、芳香族ジアゾニウム塩、ヨードニウ
ム塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩、セレノニウム
塩等で代表されるオニウム塩類および金属アレーン錯体
が既に知られており、該オニウム塩または金属アレーン
錯体をカチオン的に重合しうる物質と混合し用いると、
照射によって発生したルイス酸が重合を誘発すること
が、米国特許第４０６９０５４号、同第４４５０３６０
号、同第４５７６９９９号、同第４６４０９６７号、カ
ナダ国特許第１２７４６４６号およびヨーロッパ特許第
２０３８２９号において報告されており、またＡｄｖａ
ｎｃｅｓ ｉｎ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ ６
２， Ｉｎｉｔｉａｔｏｒｓ − Ｐｏｌｙ Ｒｅａｃ
ｔｉｏｎｓ− Ｏｐｔｉｃａｌ Ａｃｔｉｖｉｔｙ，ｐ
１〜ｐ４８，Ｓｐｒｉｎｇｅｒ−Ｖｅｒｌａｇ（１９８
４）、最新ＵＶ硬化技術，技術情報協会編，ｐ２９（１
９９１年）などにおいて詳細な報告がなされている。特
に産業上有用な酸発生剤として、トリアリールスルホニ
ウム塩または鉄アレーン錯体が上市されている。しかし
ながら、前者では、エネルギー線照射によって生成する
分解物から臭気が発生したり、また後者では硬化特性に
劣るなどの解決すべき課題がある。また、一般に、これ
らの酸発生剤の効果を高めるためのアニオン部位として
は、ヘキサフルオロアンチモネートが好適であるとされ
ているが、該アニオンを含有する酸発生剤には毒性の危
険がある。
る化合物としては、芳香族ジアゾニウム塩、ヨードニウ
ム塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩、セレノニウム
塩等で代表されるオニウム塩類および金属アレーン錯体
が既に知られており、該オニウム塩または金属アレーン
錯体をカチオン的に重合しうる物質と混合し用いると、
照射によって発生したルイス酸が重合を誘発すること
が、米国特許第４０６９０５４号、同第４４５０３６０
号、同第４５７６９９９号、同第４６４０９６７号、カ
ナダ国特許第１２７４６４６号およびヨーロッパ特許第
２０３８２９号において報告されており、またＡｄｖａ
ｎｃｅｓ ｉｎ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ ６
２， Ｉｎｉｔｉａｔｏｒｓ − Ｐｏｌｙ Ｒｅａｃ
ｔｉｏｎｓ− Ｏｐｔｉｃａｌ Ａｃｔｉｖｉｔｙ，ｐ
１〜ｐ４８，Ｓｐｒｉｎｇｅｒ−Ｖｅｒｌａｇ（１９８
４）、最新ＵＶ硬化技術，技術情報協会編，ｐ２９（１
９９１年）などにおいて詳細な報告がなされている。特
に産業上有用な酸発生剤として、トリアリールスルホニ
ウム塩または鉄アレーン錯体が上市されている。しかし
ながら、前者では、エネルギー線照射によって生成する
分解物から臭気が発生したり、また後者では硬化特性に
劣るなどの解決すべき課題がある。また、一般に、これ
らの酸発生剤の効果を高めるためのアニオン部位として
は、ヘキサフルオロアンチモネートが好適であるとされ
ているが、該アニオンを含有する酸発生剤には毒性の危
険がある。
【０００３】一方、特開昭５６−８４２８においては、
従来のスルホニウム塩にて課題となっている分解による
臭気発生を低減すべく、新規なアリールオキシスルホキ
ソニウム塩が報告されている。しかしながら、該発明に
おいてアニオン部位として例示されているのは、テトラ
フルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェート、ヘキ
サフルオロアルセネート、ヘキサフルオロアンチモネー
トなどの従来より公知のオニウム塩のアニオン部位と同
様のものであり、この様なアニオン材料では、高い硬化
特性と低毒性を両立することの困難性が指摘されてい
た。すなわち、テトラフルオロボレートおよびヘキサフ
ルオロホスフェート塩では低毒性であるが酸強度として
は低く、一方、ヘキサフルオロアルセネートおよびヘキ
サフルオロアンチモネート塩は酸強度は高いが毒性が強
いという課題があった。したがって、低毒性で且つ強い
酸を発生するためのアニオン部位を有するオニウム塩の
開発が望まれていた。またさらには、上記したテトラフ
ルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェート、ヘキサ
フルオロアンチモネート塩の場合、一般的に各種有機材
料への溶解性が必ずしも満足するレベルにないことがあ
り、溶解性を向上させうるためのアニオン種の開発も課
題の一つであった。
従来のスルホニウム塩にて課題となっている分解による
臭気発生を低減すべく、新規なアリールオキシスルホキ
ソニウム塩が報告されている。しかしながら、該発明に
おいてアニオン部位として例示されているのは、テトラ
フルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェート、ヘキ
サフルオロアルセネート、ヘキサフルオロアンチモネー
トなどの従来より公知のオニウム塩のアニオン部位と同
様のものであり、この様なアニオン材料では、高い硬化
特性と低毒性を両立することの困難性が指摘されてい
た。すなわち、テトラフルオロボレートおよびヘキサフ
ルオロホスフェート塩では低毒性であるが酸強度として
は低く、一方、ヘキサフルオロアルセネートおよびヘキ
サフルオロアンチモネート塩は酸強度は高いが毒性が強
いという課題があった。したがって、低毒性で且つ強い
酸を発生するためのアニオン部位を有するオニウム塩の
開発が望まれていた。またさらには、上記したテトラフ
ルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェート、ヘキサ
フルオロアンチモネート塩の場合、一般的に各種有機材
料への溶解性が必ずしも満足するレベルにないことがあ
り、溶解性を向上させうるためのアニオン種の開発も課
題の一つであった。
【０００４】近年、ある種の有機ホウ素アニオンを有す
るヨードニウム化合物が、光カチオン重合の開始剤とし
て良好な特性を示すことが報告されている。Ｃ．Ｐｒｉ
ｏｕら〔（ラドテック・' ９４・ノースアメリカ・プロ
シーディングス（ＲａｄＴｅｃｈ ’９４ Ｎｏｒｔｈ
Ａｍｅｒｉｃａ Ｐｒｏｃ．，）第１巻，１８７頁
（１９９４年）およびポリメリック・マテリアルズ・サ
イエンス・アンド・エンジニアリング（Ｐｏｌｙｍ．Ｍ
ａｔｅｒ．Ｓｃｉ．Ｅｎｇ．，），第７２巻，４１７
頁、（１９９５年）〕によると、ジフェニルヨードニウ
ムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートは、
従来のジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモ
ネートよりも、エポキシシリコンの重合に対し、より高
い重合特性を有すると報告されている。さらに、特開平
６−１８４１７０号ならびに国際特許第９５／０３３３
８号公報においては、新規なオニウム有機硼酸塩および
金属アレーン有機硼酸塩（例えば、ヨードニウム、スル
ホニウム、セレノニウム、ホスホニウム、アンモニウ
ム、鉄アレーン）が提案されているが、本発明において
提示される特定構造のスルホキソニウムについては全く
提示がなかった。特に本発明で使用の特定構造のアリー
ルオキシスルホキソニウムカチオンは、硫黄原子上に酸
素原子を有しているため、分解時に生成する分解物が臭
気性のスルフィド類ではなく、スルホキサイド類となる
ため臭気の低減が図れ、かつまた、酸素原子による電子
吸引性のため硫黄原子の電子受容性が高まり、エネルギ
ー線に対する感受性が高まるものと期待される。
るヨードニウム化合物が、光カチオン重合の開始剤とし
て良好な特性を示すことが報告されている。Ｃ．Ｐｒｉ
ｏｕら〔（ラドテック・' ９４・ノースアメリカ・プロ
シーディングス（ＲａｄＴｅｃｈ ’９４ Ｎｏｒｔｈ
Ａｍｅｒｉｃａ Ｐｒｏｃ．，）第１巻，１８７頁
（１９９４年）およびポリメリック・マテリアルズ・サ
イエンス・アンド・エンジニアリング（Ｐｏｌｙｍ．Ｍ
ａｔｅｒ．Ｓｃｉ．Ｅｎｇ．，），第７２巻，４１７
頁、（１９９５年）〕によると、ジフェニルヨードニウ
ムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートは、
従来のジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモ
ネートよりも、エポキシシリコンの重合に対し、より高
い重合特性を有すると報告されている。さらに、特開平
６−１８４１７０号ならびに国際特許第９５／０３３３
８号公報においては、新規なオニウム有機硼酸塩および
金属アレーン有機硼酸塩（例えば、ヨードニウム、スル
ホニウム、セレノニウム、ホスホニウム、アンモニウ
ム、鉄アレーン）が提案されているが、本発明において
提示される特定構造のスルホキソニウムについては全く
提示がなかった。特に本発明で使用の特定構造のアリー
ルオキシスルホキソニウムカチオンは、硫黄原子上に酸
素原子を有しているため、分解時に生成する分解物が臭
気性のスルフィド類ではなく、スルホキサイド類となる
ため臭気の低減が図れ、かつまた、酸素原子による電子
吸引性のため硫黄原子の電子受容性が高まり、エネルギ
ー線に対する感受性が高まるものと期待される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】以上の様に、これまで
に提案あるいは報告されたオニウム塩型酸発生剤におい
ては、ヘキサフルオロアンチモネートアニオンのごとき
酸強度を高めると毒性の問題が派生し、トリアリールス
ルホニウムカチオンのごとき感光波長域を長波長化する
とスルフィド臭の発生が問題となり、毒性、臭気、溶解
性およびエネルギー線感受性の何れにおいても優れた特
性を有する酸発生剤の開発が望まれているのが現状であ
る。したがって、本発明の目的は、かかる課題を解決す
るための感エネルギー線酸発生剤、感エネルギー線酸発
生剤組成物、それを用いた硬化性組成物、さらには、該
硬化性組成物にラジカル重合可能な化合物およびラジカ
ル発生剤をさらに混合してなるハイブリッド型硬化性組
成物を提供することにある。さらに詳しくは、エネルギ
ー線の照射下で酸を発生せしめる酸発生剤と、発生した
酸の触媒作用によって短時間で硬化する硬化性組成物、
またさらには、これらにラジカル重合可能な化合物およ
びラジカル発生剤をさらに混合してなる酸／ラジカルハ
イブリッド型硬化性組成物に関し、得られた硬化物が、
成型樹脂、注型樹脂、封止剤、歯科用重合レジン、光造
形樹脂、プリント基板用レジスト、カラーフィルター用
レジスト、マイクロエレクトロニクス用レジスト、印刷
版用感光性樹脂、印刷インキ、感光性インキジェット、
印刷校正用カラープルーフ、塗料、表面コート剤、接着
剤、粘着剤、離型剤、ホログラム等の各種分野の材料と
して好適に用いられることを目的とするものである。し
たがって、本発明の感エネルギー線酸発生剤または感エ
ネルギー線酸発生剤組成物によって発生した酸によって
誘起される化学反応を利用して、様々な産業用途に用い
ることが可能である。
に提案あるいは報告されたオニウム塩型酸発生剤におい
ては、ヘキサフルオロアンチモネートアニオンのごとき
酸強度を高めると毒性の問題が派生し、トリアリールス
ルホニウムカチオンのごとき感光波長域を長波長化する
とスルフィド臭の発生が問題となり、毒性、臭気、溶解
性およびエネルギー線感受性の何れにおいても優れた特
性を有する酸発生剤の開発が望まれているのが現状であ
る。したがって、本発明の目的は、かかる課題を解決す
るための感エネルギー線酸発生剤、感エネルギー線酸発
生剤組成物、それを用いた硬化性組成物、さらには、該
硬化性組成物にラジカル重合可能な化合物およびラジカ
ル発生剤をさらに混合してなるハイブリッド型硬化性組
成物を提供することにある。さらに詳しくは、エネルギ
ー線の照射下で酸を発生せしめる酸発生剤と、発生した
酸の触媒作用によって短時間で硬化する硬化性組成物、
またさらには、これらにラジカル重合可能な化合物およ
びラジカル発生剤をさらに混合してなる酸／ラジカルハ
イブリッド型硬化性組成物に関し、得られた硬化物が、
成型樹脂、注型樹脂、封止剤、歯科用重合レジン、光造
形樹脂、プリント基板用レジスト、カラーフィルター用
レジスト、マイクロエレクトロニクス用レジスト、印刷
版用感光性樹脂、印刷インキ、感光性インキジェット、
印刷校正用カラープルーフ、塗料、表面コート剤、接着
剤、粘着剤、離型剤、ホログラム等の各種分野の材料と
して好適に用いられることを目的とするものである。し
たがって、本発明の感エネルギー線酸発生剤または感エ
ネルギー線酸発生剤組成物によって発生した酸によって
誘起される化学反応を利用して、様々な産業用途に用い
ることが可能である。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、以上の諸
問題点を考慮し解決すべく鋭意研究を重ねた結果、本発
明に至った。すなわち、本発明における第一の発明は、
一般式（１）または一般式（２）で表されるアリールオ
キシスルホキソニウムボレート錯体であることを特徴と
する感エネルギー線酸発生剤（Ａ）であり、
問題点を考慮し解決すべく鋭意研究を重ねた結果、本発
明に至った。すなわち、本発明における第一の発明は、
一般式（１）または一般式（２）で表されるアリールオ
キシスルホキソニウムボレート錯体であることを特徴と
する感エネルギー線酸発生剤（Ａ）であり、
【０００７】
【化３】
【０００８】（式中、Ｒ1 およびＲ2 は、同一かまたは
異なっても良い芳香環炭素数６〜２０のアリール基であ
って、該アリール基は、それぞれ独立にハロゲン原子、
ヒドロキシ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、ハロゲ
ン置換されていても良い炭素数１〜１８の直鎖状、分岐
状または環状アルキル基、ハロゲン置換されていても良
い炭素数１〜１８の直鎖状または分岐状アルコキシル
基、芳香環炭素数が６〜２０のアラルキルオキシ基、芳
香環炭素数が６〜２０のアリール基、芳香環炭素数が６
〜２０のアリールオキシ基、芳香環炭素数が６〜２０の
アラルキル基で置換されていても良く、Ｒ3 は芳香環炭
素数６〜２０のアリール基であり、該アリール基は、ハ
ロゲン原子、ヒドロキシ基、ニトロ基、シアノ基、アミ
ノ基、ハロゲン置換されていても良い炭素数１〜１８の
直鎖状、分岐状または環状アルキル基、ハロゲン置換さ
れていても良い炭素数１〜１８の直鎖状または分岐状ア
ルコキシル基、芳香環炭素数が６〜２０のアラルキルオ
キシ基、芳香環炭素数が６〜２０のアリール基、芳香環
炭素数が６〜２０のアリールオキシ基、芳香環炭素数が
６〜２０のアラルキル基で置換されていても良く、Ｙは
フッ素または塩素、Ｚは少なくとも２つ以上のフッ素、
シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基の中から選
ばれる電子吸引性基で置換されたフェニル基、ｍは０〜
３の整数、ｎは１〜４の整数を表し、ｍ＋ｎ＝４であ
る。）
異なっても良い芳香環炭素数６〜２０のアリール基であ
って、該アリール基は、それぞれ独立にハロゲン原子、
ヒドロキシ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、ハロゲ
ン置換されていても良い炭素数１〜１８の直鎖状、分岐
状または環状アルキル基、ハロゲン置換されていても良
い炭素数１〜１８の直鎖状または分岐状アルコキシル
基、芳香環炭素数が６〜２０のアラルキルオキシ基、芳
香環炭素数が６〜２０のアリール基、芳香環炭素数が６
〜２０のアリールオキシ基、芳香環炭素数が６〜２０の
アラルキル基で置換されていても良く、Ｒ3 は芳香環炭
素数６〜２０のアリール基であり、該アリール基は、ハ
ロゲン原子、ヒドロキシ基、ニトロ基、シアノ基、アミ
ノ基、ハロゲン置換されていても良い炭素数１〜１８の
直鎖状、分岐状または環状アルキル基、ハロゲン置換さ
れていても良い炭素数１〜１８の直鎖状または分岐状ア
ルコキシル基、芳香環炭素数が６〜２０のアラルキルオ
キシ基、芳香環炭素数が６〜２０のアリール基、芳香環
炭素数が６〜２０のアリールオキシ基、芳香環炭素数が
６〜２０のアラルキル基で置換されていても良く、Ｙは
フッ素または塩素、Ｚは少なくとも２つ以上のフッ素、
シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基の中から選
ばれる電子吸引性基で置換されたフェニル基、ｍは０〜
３の整数、ｎは１〜４の整数を表し、ｍ＋ｎ＝４であ
る。）
【０００９】
【化４】
【００１０】（式中、Ｒ4 は硫黄原子と一緒になって複
素環基を形成する炭素原子数４〜１５の二価の基を表
し、Ｒ3 、Ｙ、Ｚ、ｍ、ｎは上記と同じ意味を表す。） 第二の発明は、該酸発生剤（Ａ）と増感剤（Ｂ）とから
なることを特徴とする酸発生剤組成物であり、第三の発
明は、該酸発生剤または該酸発生剤組成物と酸硬化性化
合物（Ｃ）とからなることを特徴とする硬化性組成物で
あり、第四の発明は、該硬化性組成物にさらにラジカル
重合可能な化合物およびラジカル発生剤を混合してなる
ハイブリッド型硬化性組成物である。
素環基を形成する炭素原子数４〜１５の二価の基を表
し、Ｒ3 、Ｙ、Ｚ、ｍ、ｎは上記と同じ意味を表す。） 第二の発明は、該酸発生剤（Ａ）と増感剤（Ｂ）とから
なることを特徴とする酸発生剤組成物であり、第三の発
明は、該酸発生剤または該酸発生剤組成物と酸硬化性化
合物（Ｃ）とからなることを特徴とする硬化性組成物で
あり、第四の発明は、該硬化性組成物にさらにラジカル
重合可能な化合物およびラジカル発生剤を混合してなる
ハイブリッド型硬化性組成物である。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、詳細にわたって本発明を説
明する。本発明で用いられる感エネルギー線酸発生剤
（Ａ）としては、エネルギー線の照射によって酸を発生
する一般式（１）または一般式（２）で表されるアリー
ルオキシスルホキソニウムボレート錯体であることを特
徴とする感エネルギー線酸発生剤（Ａ）であり、
明する。本発明で用いられる感エネルギー線酸発生剤
（Ａ）としては、エネルギー線の照射によって酸を発生
する一般式（１）または一般式（２）で表されるアリー
ルオキシスルホキソニウムボレート錯体であることを特
徴とする感エネルギー線酸発生剤（Ａ）であり、
【００１２】
【化５】
【００１３】（式中、Ｒ1 およびＲ2 は、同一かまたは
異なっても良い芳香環炭素数６〜２０のアリール基であ
って、該アリール基は、それぞれ独立にハロゲン原子、
ヒドロキシ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、ハロゲ
ン置換されていても良い炭素数１〜１８の直鎖状、分岐
状または環状アルキル基、ハロゲン置換されていても良
い炭素数１〜１８の直鎖状または分岐状アルコキシル
基、芳香環炭素数が６〜２０のアラルキルオキシ基、芳
香環炭素数が６〜２０のアリール基、芳香環炭素数が６
〜２０のアリールオキシ基、芳香環炭素数が６〜２０の
アラルキル基で置換されていても良く、Ｒ3 は芳香環炭
素数６〜２０のアリール基であり、該アリール基は、ハ
ロゲン原子、ヒドロキシ基、ニトロ基、シアノ基、アミ
ノ基、ハロゲン置換されていても良い炭素数１〜１８の
直鎖状、分岐状または環状アルキル基、ハロゲン置換さ
れていても良い炭素数１〜１８の直鎖状または分岐状ア
ルコキシル基、芳香環炭素数が６〜２０のアラルキルオ
キシ基、芳香環炭素数が６〜２０のアリール基、芳香環
炭素数が６〜２０のアリールオキシ基、芳香環炭素数が
６〜２０のアラルキル基で置換されていても良く、Ｙは
フッ素または塩素、Ｚは少なくとも２つ以上のフッ素、
シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基の中から選
ばれる電子吸引性基で置換されたフェニル基、ｍは０〜
３の整数、ｎは１〜４の整数を表し、ｍ＋ｎ＝４であ
る。）
異なっても良い芳香環炭素数６〜２０のアリール基であ
って、該アリール基は、それぞれ独立にハロゲン原子、
ヒドロキシ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、ハロゲ
ン置換されていても良い炭素数１〜１８の直鎖状、分岐
状または環状アルキル基、ハロゲン置換されていても良
い炭素数１〜１８の直鎖状または分岐状アルコキシル
基、芳香環炭素数が６〜２０のアラルキルオキシ基、芳
香環炭素数が６〜２０のアリール基、芳香環炭素数が６
〜２０のアリールオキシ基、芳香環炭素数が６〜２０の
アラルキル基で置換されていても良く、Ｒ3 は芳香環炭
素数６〜２０のアリール基であり、該アリール基は、ハ
ロゲン原子、ヒドロキシ基、ニトロ基、シアノ基、アミ
ノ基、ハロゲン置換されていても良い炭素数１〜１８の
直鎖状、分岐状または環状アルキル基、ハロゲン置換さ
れていても良い炭素数１〜１８の直鎖状または分岐状ア
ルコキシル基、芳香環炭素数が６〜２０のアラルキルオ
キシ基、芳香環炭素数が６〜２０のアリール基、芳香環
炭素数が６〜２０のアリールオキシ基、芳香環炭素数が
６〜２０のアラルキル基で置換されていても良く、Ｙは
フッ素または塩素、Ｚは少なくとも２つ以上のフッ素、
シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基の中から選
ばれる電子吸引性基で置換されたフェニル基、ｍは０〜
３の整数、ｎは１〜４の整数を表し、ｍ＋ｎ＝４であ
る。）
【００１４】
【化６】
【００１５】（式中、Ｒ4 は硫黄原子と一緒になって複
素環基を形成する炭素原子数４〜１５の二価の基を表
し、Ｒ3 、Ｙ、Ｚ、ｍ、ｎは上記と同じ意味を表す。）
素環基を形成する炭素原子数４〜１５の二価の基を表
し、Ｒ3 、Ｙ、Ｚ、ｍ、ｎは上記と同じ意味を表す。）
【００１６】先ず、本発明の一般式（１）で表されるア
リールオキシスルホキソニウムボレート錯体において、
スルホキソニウムカチオンにおけるＲ1 〜Ｒ3 の芳香環
炭素数６〜２０のアリール基としては、フェニル基、１
−（または２−）ナフチル基、アンスリル基、ピレン
基、ペリレン基などが挙げられる。これら芳香環炭素数
６〜２０のアリール基上には以下に示す置換基で置換さ
れていても良く、置換基の具体例として、ハロゲン原子
としてはフッ素、塩素、臭素が、アミノ基としてはアミ
ノ基および置換アミノ基、例えばジメチルアミノ基、メ
チルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジブチルアミノ基、
ジュロリジン基、ジフェニルアミノ基、ジベンジルアミ
ノ基、アニリノ基、ピペリジノ基、モルホリノ基など
が、ハロゲン置換されていても良い炭素数１〜１８の直
鎖状、分岐状または環状アルキル基としては例えば、メ
チル基、エチル基、プロピル基、ｎ（またはｉｓｏ）−
プロピル基、ｎ（またはｓｅｃ−、ｔｅｒｔ）−ブチル
基、ペンチル基、ヘキシル基、２−エチルヘキシル基、
オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、
トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、トリブロ
モメチル基、２−クロロエチル基、２−ブロモエチル
基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチ
ル基、シクロヘキシル基、２−ノルボニル基、２−ボル
ニル基などが、炭素数１〜１８の直鎖状または分岐状ア
ルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、
プロポキシ基、ｎ（またはｉｓｏ）−プロポキシ基、ｎ
（またはｓｅｃ、ｔｅｒｔ）−ブトキシ基など、芳香環
炭素数６〜２０の置換基を有しても良いアラルキルオキ
シ基としては、ベンジルオキシ基、ｐ−クロロベンジル
オキシ基、ｐ−シアノベンジルオキシ基、ｐ−メチルベ
ンジルオキシ基、ｐ−メトキシベンジルオキシ基、ｐ−
ジメチルアミノベンジルオキシ基、１−（または２−）
ナフチルメチルオキシ基、９−アンスリルメチルオキシ
基などが、芳香環炭素数６〜２０の置換基を有しても良
いアリール基としては、フェニル基、１−（または２
−）ナフチル基、９−アンスリル基、ｐ−トリル基、ｐ
−アニシル基、ｐ−ニトロフェニル基、ｐ−シアノフェ
ニル基、ｐ−クロロフェニル基、ｐ−ジメチルアミノフ
ェニル基などが、芳香環炭素数６〜２０の置換基を有し
ても良いアリールオキシ基としては、フェノキシ基、ｐ
−シアノフェノキシ基、ｐ−ニトロフェノキシ基、ｐ−
クロロフェノキシ基、ｐ−メチルフェノキシ基、ｐ−メ
トキシフェノキシ基、ｐ−ジメチルアミノフェノキシ
基、１−（または２−）ナフチルオキシ基、９−アンス
リルオキシ基などが、芳香環炭素数が６〜２０の置換基
を有しても良いアラルキル基としては、ベンジル基、ｐ
−メチルベンジル基、ｐ−クロロベンジル基、ｐ−ブロ
モベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基、ｐ−エトキシ
ベンジル基、ｐ−ニトロベンジル基、ｐ−シアノベンジ
ル基、ｐ−ジメチルアミノベンジル基、ｐ−ジエチルア
ミノベンジル基、フェネチル基、ｐ−メチルフェネチル
基、ｐ−クロロフェネチル基、ｐ−ブロモフェネチル
基、ｐ−メトキシフェネチル基、ｐ−エトキシフェネチ
ル基、ｐ−ニトロフェネチル基、ｐ−シアノフェネチル
基、ｐ−ジメチルアミノフェネチル基、ｐ−ジエチルア
ミノフェネチル基、１−（または２−）ナフチルメチル
基などが挙げられる。
リールオキシスルホキソニウムボレート錯体において、
スルホキソニウムカチオンにおけるＲ1 〜Ｒ3 の芳香環
炭素数６〜２０のアリール基としては、フェニル基、１
−（または２−）ナフチル基、アンスリル基、ピレン
基、ペリレン基などが挙げられる。これら芳香環炭素数
６〜２０のアリール基上には以下に示す置換基で置換さ
れていても良く、置換基の具体例として、ハロゲン原子
としてはフッ素、塩素、臭素が、アミノ基としてはアミ
ノ基および置換アミノ基、例えばジメチルアミノ基、メ
チルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジブチルアミノ基、
ジュロリジン基、ジフェニルアミノ基、ジベンジルアミ
ノ基、アニリノ基、ピペリジノ基、モルホリノ基など
が、ハロゲン置換されていても良い炭素数１〜１８の直
鎖状、分岐状または環状アルキル基としては例えば、メ
チル基、エチル基、プロピル基、ｎ（またはｉｓｏ）−
プロピル基、ｎ（またはｓｅｃ−、ｔｅｒｔ）−ブチル
基、ペンチル基、ヘキシル基、２−エチルヘキシル基、
オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、
トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、トリブロ
モメチル基、２−クロロエチル基、２−ブロモエチル
基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチ
ル基、シクロヘキシル基、２−ノルボニル基、２−ボル
ニル基などが、炭素数１〜１８の直鎖状または分岐状ア
ルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、
プロポキシ基、ｎ（またはｉｓｏ）−プロポキシ基、ｎ
（またはｓｅｃ、ｔｅｒｔ）−ブトキシ基など、芳香環
炭素数６〜２０の置換基を有しても良いアラルキルオキ
シ基としては、ベンジルオキシ基、ｐ−クロロベンジル
オキシ基、ｐ−シアノベンジルオキシ基、ｐ−メチルベ
ンジルオキシ基、ｐ−メトキシベンジルオキシ基、ｐ−
ジメチルアミノベンジルオキシ基、１−（または２−）
ナフチルメチルオキシ基、９−アンスリルメチルオキシ
基などが、芳香環炭素数６〜２０の置換基を有しても良
いアリール基としては、フェニル基、１−（または２
−）ナフチル基、９−アンスリル基、ｐ−トリル基、ｐ
−アニシル基、ｐ−ニトロフェニル基、ｐ−シアノフェ
ニル基、ｐ−クロロフェニル基、ｐ−ジメチルアミノフ
ェニル基などが、芳香環炭素数６〜２０の置換基を有し
ても良いアリールオキシ基としては、フェノキシ基、ｐ
−シアノフェノキシ基、ｐ−ニトロフェノキシ基、ｐ−
クロロフェノキシ基、ｐ−メチルフェノキシ基、ｐ−メ
トキシフェノキシ基、ｐ−ジメチルアミノフェノキシ
基、１−（または２−）ナフチルオキシ基、９−アンス
リルオキシ基などが、芳香環炭素数が６〜２０の置換基
を有しても良いアラルキル基としては、ベンジル基、ｐ
−メチルベンジル基、ｐ−クロロベンジル基、ｐ−ブロ
モベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基、ｐ−エトキシ
ベンジル基、ｐ−ニトロベンジル基、ｐ−シアノベンジ
ル基、ｐ−ジメチルアミノベンジル基、ｐ−ジエチルア
ミノベンジル基、フェネチル基、ｐ−メチルフェネチル
基、ｐ−クロロフェネチル基、ｐ−ブロモフェネチル
基、ｐ−メトキシフェネチル基、ｐ−エトキシフェネチ
ル基、ｐ−ニトロフェネチル基、ｐ−シアノフェネチル
基、ｐ−ジメチルアミノフェネチル基、ｐ−ジエチルア
ミノフェネチル基、１−（または２−）ナフチルメチル
基などが挙げられる。
【００１７】次に、一般式（２）におけるＲ3 の芳香環
炭素数が６〜２０のアリール基としては、フェニル基、
ナフチル基、アンスリル基などが挙げられ、置換基とし
て、ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素が、ア
ミノ基としては、アミノ基および置換アミノ基、例えば
ジメチルアミノ基、メチルアミノ基、ジエチルアミノ
基、ジブチルアミノ基、ジュロリジン基、ジフェニルア
ミノ基、ジベンジルアミノ基、アニリノ基、ピペリジノ
基、モルホリノ基などが、ハロゲン置換されていても良
い炭素数１〜１８の直鎖状、分岐状または環状アルキル
基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ｎ（またはｉｓｏ）−プロピル基、ｎ（またはｓｅ
ｃ−、ｔｅｒｔ）−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、２−エチルヘキシル基、オクチル基、デシル基、ド
デシル基、オクタデシル基、トリフルオロメチル基、ト
リクロロメチル基、トリブロモメチル基、２−クロロエ
チル基、２−ブロモエチル基、シクロプロピル基、シク
ロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、２
−ノルボニル基、２−ボルニル基などが、炭素数１〜１
８の直鎖状または分岐状アルコキシ基としては、例えば
メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ｎ（またはｉ
ｓｏ）−プロポキシ基、ｎ（またはｓｅｃ、ｔｅｒｔ）
−ブトキシ基など、芳香環炭素数６〜２０の置換基を有
しても良いアラルキルオキシ基としては、ベンジルオキ
シ基、ｐ−クロロベンジルオキシ基、ｐ−シアノベンジ
ルオキシ基、ｐ−メチルベンジルオキシ基、ｐ−メトキ
シベンジルオキシ基、ｐ−ジメチルアミノベンジルオキ
シ基、１−（または２−）ナフチルメチルオキシ基、９
−アンスリルメチルオキシ基などが、芳香環炭素数６〜
２０の置換基を有しても良いアリール基としては、フェ
ニル基、１−（または２−）ナフチル基、９−アンスリ
ル基、ｐ−トリル基、ｐ−アニシル基、ｐ−ニトロフェ
ニル基、ｐ−シアノフェニル基、ｐ−クロロフェニル
基、ｐ−ジメチルアミノフェニル基などが、芳香環炭素
数６〜２０の置換基を有しても良いアリールオキシ基と
しては、フェノキシ基、ｐ−シアノフェノキシ基、ｐ−
ニトロフェノキシ基、ｐ−クロロフェノキシ基、ｐ−メ
チルフェノキシ基、ｐ−メトキシフェノキシ基、ｐ−ジ
メチルアミノフェノキシ基、１−（または２−）ナフチ
ルオキシ基、９−アンスリルオキシ基などが、芳香環炭
素数が６〜２０の置換基を有しても良いアラルキル基と
しては、ベンジル基、ｐ−メチルベンジル基、ｐ−クロ
ロベンジル基、ｐ−ブロモベンジル基、ｐ−メトキシベ
ンジル基、ｐ−エトキシベンジル基、ｐ−ニトロベンジ
ル基、ｐ−シアノベンジル基、ｐ−ジメチルアミノベン
ジル基、ｐ−ジエチルアミノベンジル基、フェネチル
基、ｐ−メチルフェネチル基、ｐ−クロロフェネチル
基、ｐ−ブロモフェネチル基、ｐ−メトキシフェネチル
基、ｐ−エトキシフェネチル基、ｐ−ニトロフェネチル
基、ｐ−シアノフェネチル基、ｐ−ジメチルアミノフェ
ネチル基、ｐ−ジエチルアミノフェネチル基、１−（ま
たは２−）ナフチルメチル基などが挙げられる。また、
一般式（２）におけるＲ4 の硫黄原子と一緒になって複
素環基を形成する炭素原子数４〜１５の二価の基として
は、下記に示す構造のものが挙げられる。
炭素数が６〜２０のアリール基としては、フェニル基、
ナフチル基、アンスリル基などが挙げられ、置換基とし
て、ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素が、ア
ミノ基としては、アミノ基および置換アミノ基、例えば
ジメチルアミノ基、メチルアミノ基、ジエチルアミノ
基、ジブチルアミノ基、ジュロリジン基、ジフェニルア
ミノ基、ジベンジルアミノ基、アニリノ基、ピペリジノ
基、モルホリノ基などが、ハロゲン置換されていても良
い炭素数１〜１８の直鎖状、分岐状または環状アルキル
基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ｎ（またはｉｓｏ）−プロピル基、ｎ（またはｓｅ
ｃ−、ｔｅｒｔ）−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、２−エチルヘキシル基、オクチル基、デシル基、ド
デシル基、オクタデシル基、トリフルオロメチル基、ト
リクロロメチル基、トリブロモメチル基、２−クロロエ
チル基、２−ブロモエチル基、シクロプロピル基、シク
ロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、２
−ノルボニル基、２−ボルニル基などが、炭素数１〜１
８の直鎖状または分岐状アルコキシ基としては、例えば
メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ｎ（またはｉ
ｓｏ）−プロポキシ基、ｎ（またはｓｅｃ、ｔｅｒｔ）
−ブトキシ基など、芳香環炭素数６〜２０の置換基を有
しても良いアラルキルオキシ基としては、ベンジルオキ
シ基、ｐ−クロロベンジルオキシ基、ｐ−シアノベンジ
ルオキシ基、ｐ−メチルベンジルオキシ基、ｐ−メトキ
シベンジルオキシ基、ｐ−ジメチルアミノベンジルオキ
シ基、１−（または２−）ナフチルメチルオキシ基、９
−アンスリルメチルオキシ基などが、芳香環炭素数６〜
２０の置換基を有しても良いアリール基としては、フェ
ニル基、１−（または２−）ナフチル基、９−アンスリ
ル基、ｐ−トリル基、ｐ−アニシル基、ｐ−ニトロフェ
ニル基、ｐ−シアノフェニル基、ｐ−クロロフェニル
基、ｐ−ジメチルアミノフェニル基などが、芳香環炭素
数６〜２０の置換基を有しても良いアリールオキシ基と
しては、フェノキシ基、ｐ−シアノフェノキシ基、ｐ−
ニトロフェノキシ基、ｐ−クロロフェノキシ基、ｐ−メ
チルフェノキシ基、ｐ−メトキシフェノキシ基、ｐ−ジ
メチルアミノフェノキシ基、１−（または２−）ナフチ
ルオキシ基、９−アンスリルオキシ基などが、芳香環炭
素数が６〜２０の置換基を有しても良いアラルキル基と
しては、ベンジル基、ｐ−メチルベンジル基、ｐ−クロ
ロベンジル基、ｐ−ブロモベンジル基、ｐ−メトキシベ
ンジル基、ｐ−エトキシベンジル基、ｐ−ニトロベンジ
ル基、ｐ−シアノベンジル基、ｐ−ジメチルアミノベン
ジル基、ｐ−ジエチルアミノベンジル基、フェネチル
基、ｐ−メチルフェネチル基、ｐ−クロロフェネチル
基、ｐ−ブロモフェネチル基、ｐ−メトキシフェネチル
基、ｐ−エトキシフェネチル基、ｐ−ニトロフェネチル
基、ｐ−シアノフェネチル基、ｐ−ジメチルアミノフェ
ネチル基、ｐ−ジエチルアミノフェネチル基、１−（ま
たは２−）ナフチルメチル基などが挙げられる。また、
一般式（２）におけるＲ4 の硫黄原子と一緒になって複
素環基を形成する炭素原子数４〜１５の二価の基として
は、下記に示す構造のものが挙げられる。
【００１８】
【化７】
【００１９】従って、本発明の感エネルギー線酸発生剤
としてのアリールオキシスルホキソニウムボレート錯体
におけるスルホキソニウムカチオンの具体例としては、
ジフェニルフェノキシスルホキソニウム、ビス（ｐ−ト
リル）フェノキシスルホキソニウム、ビス（ｐ−トリク
ロロメチルフェニル）フェノキシスルホキソニウム、ビ
ス（２，３−または２，４−キシリル）フェノキシスル
ホキソニウム、ビス（ｐ−クメニル）フェノキシスルホ
キソニウム、ビス（ｐ−アニシル）フェノキシスルホキ
ソニウム、ビス（２，４−ジメトキシフェニル）フェノ
キシスルホキソニウム、ビス（２，４，６−トリメトキ
シフェニル）フェノキシスルホキソニウム、ビス（ｐ−
ブトキシフェニル）フェノキシスルホキソニウム、ビス
（ｐ−シアノフェニル）フェノキシスルホキソニウム、
ビス（ｐ−ジメチルアミノフェニル）フェノキシスルホ
キソニウム、ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）フェ
ノキシスルホキソニウム、ビス（ｐ−モルホリノフェニ
ル）フェノキシスルホキソニウム、ビス（ｐ−クロロフ
ェニル）フェノキシスルホキソニウム、ビス（ｐ−ヒド
ロキシフェニル）フェノキシスルホキソニウム、ビス
（ｐ−ビフェニル）フェノキシスルホキソニウム、ビス
（ｐ−フェノキシフェニル）フェノキシスルホキソニウ
ム、ビス（ｐ−ベンジルフェニル）フェノキシスルホキ
ソニウム、ビス（ｐ−ベンジルオキシフェニル）フェノ
キシスルホキソニウム、フェニル（２−ナフチル）フェ
ノキシスルホキソニウム、フェニル（９−アンスリル）
フェノキシスルホキソニウム、ジフェニル（ｐ−メチル
フェノキシ）スルホキソニウム、ジフェニル（ｐ−メト
キシフェノキシ）スルホキソニウム、ジフェニル（ｐ−
クロロフェノキシ）スルホキソニウム、ジフェニル（ｐ
−ジメチルアミノフェノキシ）スルホキソニウム、ジフ
ェニル（ｐ−シアノフェノキシ）スルホキソニウム、ジ
フェニル（ｐ−ヒドロキシフェノキシ）スルホキソニウ
ム、ジフェニル（２−ナフチルオキシ）スルホキソニウ
ム、ジフェニル（９−アンスリルオキシ）スルホキソニ
ウム、および以下に示す構造のものを例示することがで
きる。
としてのアリールオキシスルホキソニウムボレート錯体
におけるスルホキソニウムカチオンの具体例としては、
ジフェニルフェノキシスルホキソニウム、ビス（ｐ−ト
リル）フェノキシスルホキソニウム、ビス（ｐ−トリク
ロロメチルフェニル）フェノキシスルホキソニウム、ビ
ス（２，３−または２，４−キシリル）フェノキシスル
ホキソニウム、ビス（ｐ−クメニル）フェノキシスルホ
キソニウム、ビス（ｐ−アニシル）フェノキシスルホキ
ソニウム、ビス（２，４−ジメトキシフェニル）フェノ
キシスルホキソニウム、ビス（２，４，６−トリメトキ
シフェニル）フェノキシスルホキソニウム、ビス（ｐ−
ブトキシフェニル）フェノキシスルホキソニウム、ビス
（ｐ−シアノフェニル）フェノキシスルホキソニウム、
ビス（ｐ−ジメチルアミノフェニル）フェノキシスルホ
キソニウム、ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）フェ
ノキシスルホキソニウム、ビス（ｐ−モルホリノフェニ
ル）フェノキシスルホキソニウム、ビス（ｐ−クロロフ
ェニル）フェノキシスルホキソニウム、ビス（ｐ−ヒド
ロキシフェニル）フェノキシスルホキソニウム、ビス
（ｐ−ビフェニル）フェノキシスルホキソニウム、ビス
（ｐ−フェノキシフェニル）フェノキシスルホキソニウ
ム、ビス（ｐ−ベンジルフェニル）フェノキシスルホキ
ソニウム、ビス（ｐ−ベンジルオキシフェニル）フェノ
キシスルホキソニウム、フェニル（２−ナフチル）フェ
ノキシスルホキソニウム、フェニル（９−アンスリル）
フェノキシスルホキソニウム、ジフェニル（ｐ−メチル
フェノキシ）スルホキソニウム、ジフェニル（ｐ−メト
キシフェノキシ）スルホキソニウム、ジフェニル（ｐ−
クロロフェノキシ）スルホキソニウム、ジフェニル（ｐ
−ジメチルアミノフェノキシ）スルホキソニウム、ジフ
ェニル（ｐ−シアノフェノキシ）スルホキソニウム、ジ
フェニル（ｐ−ヒドロキシフェノキシ）スルホキソニウ
ム、ジフェニル（２−ナフチルオキシ）スルホキソニウ
ム、ジフェニル（９−アンスリルオキシ）スルホキソニ
ウム、および以下に示す構造のものを例示することがで
きる。
【００２０】
【化８】
【００２１】
【化９】
【００２２】一方、本発明の一般式（１）または（２）
で表されるアリールオキシスルホキソニウムボレート錯
体におけるボレートアニオンにおける置換基Ｚとして
は、３，５−ジフルオロフェニル基、２，４，６−トリ
フルオロフェニル基、２，３，４，６−テトラフルオロ
フェニル基、ペンタフルオロフェニル基、ｐ−トリフル
オロメチルフェニル基、３，５−ビス（トリフルオロメ
チル）フェニル基、２，４，６−トリフルオロ−３，５
−ビス（トリフルオロメチル）フェニル基、３，５−ジ
ニトロフェニル基、２，４，６−トリフルオロ−３，５
−ジニトロフェニル基、２，４−ジシアノフェニル基、
４−シアノ−３，５−ジニトロフェニル基、４−シアノ
−２，６−ビス（トリフルオロメチル）フェニル基等が
あげられるが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
で表されるアリールオキシスルホキソニウムボレート錯
体におけるボレートアニオンにおける置換基Ｚとして
は、３，５−ジフルオロフェニル基、２，４，６−トリ
フルオロフェニル基、２，３，４，６−テトラフルオロ
フェニル基、ペンタフルオロフェニル基、ｐ−トリフル
オロメチルフェニル基、３，５−ビス（トリフルオロメ
チル）フェニル基、２，４，６−トリフルオロ−３，５
−ビス（トリフルオロメチル）フェニル基、３，５−ジ
ニトロフェニル基、２，４，６−トリフルオロ−３，５
−ジニトロフェニル基、２，４−ジシアノフェニル基、
４−シアノ−３，５−ジニトロフェニル基、４−シアノ
−２，６−ビス（トリフルオロメチル）フェニル基等が
あげられるが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
【００２３】したがって、ボレートアニオンの構造とし
て、具体的には、ペンタフルオロフェニルトリフルオロ
ボレート、３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニ
ルトリフルオロボレート、ｐ−トリフルオロメチルフェ
ニルトリフルオロボレート、ビス（ペンタフルオロフェ
ニル）ジフルオロボレート、ビス［３，５−ビス（トリ
フルオロメチル）フェニル］ジフルオロボレート、ビス
（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ジフルオロボレー
ト、トリス（ペンタフルオロフェニル）フルオロボレー
ト、トリス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェ
ニル］フルオロボレート、トリス（ｐ−トリフルオロメ
チルフェニル）フルオロボレート、テトラキス（ペンタ
フルオロフェニル）ボレート、テトラキス［３，５−ビ
ス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート、テトラ
キス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ボレート等が
あげられ、特に好ましいものは、テトラキス（ペンタフ
ルオロフェニル）ボレート、テトラキス［３，５−ビス
（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート、テトラキ
ス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ボレートであ
る。
て、具体的には、ペンタフルオロフェニルトリフルオロ
ボレート、３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニ
ルトリフルオロボレート、ｐ−トリフルオロメチルフェ
ニルトリフルオロボレート、ビス（ペンタフルオロフェ
ニル）ジフルオロボレート、ビス［３，５−ビス（トリ
フルオロメチル）フェニル］ジフルオロボレート、ビス
（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ジフルオロボレー
ト、トリス（ペンタフルオロフェニル）フルオロボレー
ト、トリス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェ
ニル］フルオロボレート、トリス（ｐ−トリフルオロメ
チルフェニル）フルオロボレート、テトラキス（ペンタ
フルオロフェニル）ボレート、テトラキス［３，５−ビ
ス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート、テトラ
キス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ボレート等が
あげられ、特に好ましいものは、テトラキス（ペンタフ
ルオロフェニル）ボレート、テトラキス［３，５−ビス
（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート、テトラキ
ス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ボレートであ
る。
【００２４】したがって、本発明で使用の感エネルギー
線酸発生剤として例示されるアリールオキシスルホキソ
ニウムボレートとしては、ジフェニルフェノキシスルホ
キソニウムペンタフルオロフェニルトリフルオロボレー
ト、ビス（ｐ−トリル）フェノキシスルホキソニウムペ
ンタフルオロフェニルトリフルオロボレート、ビス（ｐ
−トリクロロメチルフェニル）フェノキシスルホキソニ
ウムペンタフルオロフェニルトリフルオロボレート、ビ
ス（２，３−または２，４−キシリル）フェノキシスル
ホキソニウムペンタフルオロフェニルトリフルオロボレ
ート、ビス（ｐ−クメニル）フェノキシスルホキソニウ
ムペンタフルオロフェニルトリフルオロボレート、ビス
（ｐ−アニシル）フェノキシスルホキソニウムペンタフ
ルオロフェニルトリフルオロボレート、ビス（２，４−
ジメトキシフェニル）フェノキシスルホキソニウムペン
タフルオロフェニルトリフルオロボレート、ビス（２，
４，６−トリメトキシフェニル）フェノキシスルホキソ
ニウムペンタフルオロフェニルトリフルオロボレート、
ビス（ｐ−ブトキシフェニル）フェノキシスルホキソニ
ウムペンタフルオロフェニルトリフルオロボレート、ビ
ス（ｐ−シアノフェニル）フェノキシスルホキソニウム
ペンタフルオロフェニルトリフルオロボレート、ビス
（ｐ−ジメチルアミノフェニル）フェノキシスルホキソ
ニウムペンタフルオロフェニルトリフルオロボレート、
ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）フェノキシスルホ
キソニウムペンタフルオロフェニルトリフルオロボレー
ト、ビス（ｐ−モルホリノフェニル）フェノキシスルホ
キソニウムペンタフルオロフェニルトリフルオロボレー
ト、ビス（ｐ−クロロフェニル）フェノキシスルホキソ
ニウムペンタフルオロフェニルトリフルオロボレート、
ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）フェノキシスルホキソ
ニウムペンタフルオロフェニルトリフルオロボレート、
ビス（ｐ−ビフェニル）フェノキシスルホキソニウムペ
ンタフルオロフェニルトリフルオロボレート、ビス（ｐ
−フェノキシフェニル）フェノキシスルホキソニウムペ
ンタフルオロフェニルトリフルオロボレート、ビス（ｐ
−ベンジルフェニル）フェノキシスルホキソニウムペン
タフルオロフェニルトリフルオロボレート、ビス（ｐ−
ベンジルオキシフェニル）フェノキシスルホキソニウム
ペンタフルオロフェニルトリフルオロボレート、フェニ
ル（２−ナフチル）フェノキシスルホキソニウムペンタ
フルオロフェニルトリフルオロボレート、フェニル（９
−アンスリル）フェノキシスルホキソニウムペンタフル
オロフェニルトリフルオロボレート、ジフェニル（ｐ−
メチルフェノキシ）スルホキソニウムペンタフルオロフ
ェニルトリフルオロボレート、ジフェニル（ｐ−メトキ
シフェノキシ）スルホキソニウムペンタフルオロフェニ
ルトリフルオロボレート、ジフェニル（ｐ−クロロフェ
ノキシ）スルホキソニウムペンタフルオロフェニルトリ
フルオロボレート、ジフェニル（ｐ−ジメチルアミノフ
ェノキシ）スルホキソニウムペンタフルオロフェニルト
リフルオロボレート、ジフェニル（ｐ−シアノフェノキ
シ）スルホキソニウムペンタフルオロフェニルトリフル
オロボレート、ジフェニル（ｐ−ヒドロキシフェノキ
シ）スルホキソニウムペンタフルオロフェニルトリフル
オロボレート、ジフェニル（２−ナフチルオキシ）スル
ホキソニウムペンタフルオロフェニルトリフルオロボレ
ート、ジフェニル（９−アンスリルオキシ）スルホキソ
ニウムペンタフルオロフェニルトリフルオロボレートお
よび以下に示す構造のものなど、
線酸発生剤として例示されるアリールオキシスルホキソ
ニウムボレートとしては、ジフェニルフェノキシスルホ
キソニウムペンタフルオロフェニルトリフルオロボレー
ト、ビス（ｐ−トリル）フェノキシスルホキソニウムペ
ンタフルオロフェニルトリフルオロボレート、ビス（ｐ
−トリクロロメチルフェニル）フェノキシスルホキソニ
ウムペンタフルオロフェニルトリフルオロボレート、ビ
ス（２，３−または２，４−キシリル）フェノキシスル
ホキソニウムペンタフルオロフェニルトリフルオロボレ
ート、ビス（ｐ−クメニル）フェノキシスルホキソニウ
ムペンタフルオロフェニルトリフルオロボレート、ビス
（ｐ−アニシル）フェノキシスルホキソニウムペンタフ
ルオロフェニルトリフルオロボレート、ビス（２，４−
ジメトキシフェニル）フェノキシスルホキソニウムペン
タフルオロフェニルトリフルオロボレート、ビス（２，
４，６−トリメトキシフェニル）フェノキシスルホキソ
ニウムペンタフルオロフェニルトリフルオロボレート、
ビス（ｐ−ブトキシフェニル）フェノキシスルホキソニ
ウムペンタフルオロフェニルトリフルオロボレート、ビ
ス（ｐ−シアノフェニル）フェノキシスルホキソニウム
ペンタフルオロフェニルトリフルオロボレート、ビス
（ｐ−ジメチルアミノフェニル）フェノキシスルホキソ
ニウムペンタフルオロフェニルトリフルオロボレート、
ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）フェノキシスルホ
キソニウムペンタフルオロフェニルトリフルオロボレー
ト、ビス（ｐ−モルホリノフェニル）フェノキシスルホ
キソニウムペンタフルオロフェニルトリフルオロボレー
ト、ビス（ｐ−クロロフェニル）フェノキシスルホキソ
ニウムペンタフルオロフェニルトリフルオロボレート、
ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）フェノキシスルホキソ
ニウムペンタフルオロフェニルトリフルオロボレート、
ビス（ｐ−ビフェニル）フェノキシスルホキソニウムペ
ンタフルオロフェニルトリフルオロボレート、ビス（ｐ
−フェノキシフェニル）フェノキシスルホキソニウムペ
ンタフルオロフェニルトリフルオロボレート、ビス（ｐ
−ベンジルフェニル）フェノキシスルホキソニウムペン
タフルオロフェニルトリフルオロボレート、ビス（ｐ−
ベンジルオキシフェニル）フェノキシスルホキソニウム
ペンタフルオロフェニルトリフルオロボレート、フェニ
ル（２−ナフチル）フェノキシスルホキソニウムペンタ
フルオロフェニルトリフルオロボレート、フェニル（９
−アンスリル）フェノキシスルホキソニウムペンタフル
オロフェニルトリフルオロボレート、ジフェニル（ｐ−
メチルフェノキシ）スルホキソニウムペンタフルオロフ
ェニルトリフルオロボレート、ジフェニル（ｐ−メトキ
シフェノキシ）スルホキソニウムペンタフルオロフェニ
ルトリフルオロボレート、ジフェニル（ｐ−クロロフェ
ノキシ）スルホキソニウムペンタフルオロフェニルトリ
フルオロボレート、ジフェニル（ｐ−ジメチルアミノフ
ェノキシ）スルホキソニウムペンタフルオロフェニルト
リフルオロボレート、ジフェニル（ｐ−シアノフェノキ
シ）スルホキソニウムペンタフルオロフェニルトリフル
オロボレート、ジフェニル（ｐ−ヒドロキシフェノキ
シ）スルホキソニウムペンタフルオロフェニルトリフル
オロボレート、ジフェニル（２−ナフチルオキシ）スル
ホキソニウムペンタフルオロフェニルトリフルオロボレ
ート、ジフェニル（９−アンスリルオキシ）スルホキソ
ニウムペンタフルオロフェニルトリフルオロボレートお
よび以下に示す構造のものなど、
【００２５】
【化１０】
【００２６】
【化１１】
【００２７】ジフェニルフェノキシスルホキソニウム−
３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニルトリフル
オロボレート、ビス（ｐ−トリル）フェノキシスルホキ
ソニウム−３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニ
ルトリフルオロボレート、ビス（ｐ−トリクロロメチル
フェニル）フェノキシスルホキソニウム−３，５−ビス
（トリフルオロメチル）フェニルトリフルオロボレー
ト、ビス（２，３−または２，４−キシリル）フェノキ
シスルホキソニウム−３，５−ビス（トリフルオロメチ
ル）フェニルトリフルオロボレート、ビス（ｐ−クメニ
ル）フェノキシスルホキソニウム−３，５−ビス（トリ
フルオロメチル）フェニルトリフルオロボレート、ビス
（ｐ−アニシル）フェノキシスルホキソニウム−３，５
−ビス（トリフルオロメチル）フェニルトリフルオロボ
レート、ビス（２，４−ジメトキシフェニル）フェノキ
シスルホキソニウム−３，５−ビス（トリフルオロメチ
ル）フェニルトリフルオロボレート、ビス（２，４，６
−トリメトキシフェニル）フェノキシスルホキソニウム
−３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニルトリフ
ルオロボレート、ビス（ｐ−ブトキシフェニル）フェノ
キシスルホキソニウム−３，５−ビス（トリフルオロメ
チル）フェニルトリフルオロボレート、ビス（ｐ−シア
ノフェニル）フェノキシスルホキソニウム−３，５−ビ
ス（トリフルオロメチル）フェニルトリフルオロボレー
ト、ビス（ｐ−ジメチルアミノフェニル）フェノキシス
ルホキソニウム−３，５−ビス（トリフルオロメチル）
フェニルトリフルオロボレート、ビス（ｐ−ジエチルア
ミノフェニル）フェノキシスルホキソニウム−３，５−
ビス（トリフルオロメチル）フェニルトリフルオロボレ
ート、ビス（ｐ−モルホリノフェニル）フェノキシスル
ホキソニウム−３，５−ビス（トリフルオロメチル）フ
ェニルトリフルオロボレート、ビス（ｐ−クロロフェニ
ル）フェノキシスルホキソニウム−３，５−ビス（トリ
フルオロメチル）フェニルトリフルオロボレート、ビス
（ｐ−ヒドロキシフェニル）フェノキシスルホキソニウ
ム−３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニルトリ
フルオロボレート、ビス（ｐ−ビフェニル）フェノキシ
スルホキソニウム−３，５−ビス（トリフルオロメチ
ル）フェニルトリフルオロボレート、ビス（ｐ−フェノ
キシフェニル）フェノキシスルホキソニウム−３，５−
ビス（トリフルオロメチル）フェニルトリフルオロボレ
ート、ビス（ｐ−ベンジルフェニル）フェノキシスルホ
キソニウム−３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェ
ニルトリフルオロボレート、ビス（ｐ−ベンジルオキシ
フェニル）フェノキシスルホキソニウム−３，５−ビス
（トリフルオロメチル）フェニルトリフルオロボレー
ト、フェニル（２−ナフチル）フェノキシスルホキソニ
ウム−３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニルト
リフルオロボレート、フェニル（９−アンスリル）フェ
ノキシスルホキソニウム−３，５−ビス（トリフルオロ
メチル）フェニルトリフルオロボレート、ジフェニル
（ｐ−メチルフェノキシ）スルホキソニウム−３，５−
ビス（トリフルオロメチル）フェニルトリフルオロボレ
ート、ジフェニル（ｐ−メトキシフェノキシ）スルホキ
ソニウム−３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニ
ルトリフルオロボレート、ジフェニル（ｐ−クロロフェ
ノキシ）スルホキソニウム−３，５−ビス（トリフルオ
ロメチル）フェニルトリフルオロボレート、ジフェニル
（ｐ−ジメチルアミノフェノキシ）スルホキソニウム−
３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニルトリフル
オロボレート、ジフェニル（ｐ−シアノフェノキシ）ス
ルホキソニウム−３，５−ビス（トリフルオロメチル）
フェニルトリフルオロボレート、ジフェニル（ｐ−ヒド
ロキシフェノキシ）スルホキソニウム−３，５−ビス
（トリフルオロメチル）フェニルトリフルオロボレー
ト、ジフェニル（２−ナフチルオキシ）スルホキソニウ
ム−３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニルトリ
フルオロボレート、ジフェニル（９−アンスリルオキ
シ）スルホキソニウム−３，５−ビス（トリフルオロメ
チル）フェニルトリフルオロボレート、および以下に示
す構造のものなど、
３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニルトリフル
オロボレート、ビス（ｐ−トリル）フェノキシスルホキ
ソニウム−３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニ
ルトリフルオロボレート、ビス（ｐ−トリクロロメチル
フェニル）フェノキシスルホキソニウム−３，５−ビス
（トリフルオロメチル）フェニルトリフルオロボレー
ト、ビス（２，３−または２，４−キシリル）フェノキ
シスルホキソニウム−３，５−ビス（トリフルオロメチ
ル）フェニルトリフルオロボレート、ビス（ｐ−クメニ
ル）フェノキシスルホキソニウム−３，５−ビス（トリ
フルオロメチル）フェニルトリフルオロボレート、ビス
（ｐ−アニシル）フェノキシスルホキソニウム−３，５
−ビス（トリフルオロメチル）フェニルトリフルオロボ
レート、ビス（２，４−ジメトキシフェニル）フェノキ
シスルホキソニウム−３，５−ビス（トリフルオロメチ
ル）フェニルトリフルオロボレート、ビス（２，４，６
−トリメトキシフェニル）フェノキシスルホキソニウム
−３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニルトリフ
ルオロボレート、ビス（ｐ−ブトキシフェニル）フェノ
キシスルホキソニウム−３，５−ビス（トリフルオロメ
チル）フェニルトリフルオロボレート、ビス（ｐ−シア
ノフェニル）フェノキシスルホキソニウム−３，５−ビ
ス（トリフルオロメチル）フェニルトリフルオロボレー
ト、ビス（ｐ−ジメチルアミノフェニル）フェノキシス
ルホキソニウム−３，５−ビス（トリフルオロメチル）
フェニルトリフルオロボレート、ビス（ｐ−ジエチルア
ミノフェニル）フェノキシスルホキソニウム−３，５−
ビス（トリフルオロメチル）フェニルトリフルオロボレ
ート、ビス（ｐ−モルホリノフェニル）フェノキシスル
ホキソニウム−３，５−ビス（トリフルオロメチル）フ
ェニルトリフルオロボレート、ビス（ｐ−クロロフェニ
ル）フェノキシスルホキソニウム−３，５−ビス（トリ
フルオロメチル）フェニルトリフルオロボレート、ビス
（ｐ−ヒドロキシフェニル）フェノキシスルホキソニウ
ム−３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニルトリ
フルオロボレート、ビス（ｐ−ビフェニル）フェノキシ
スルホキソニウム−３，５−ビス（トリフルオロメチ
ル）フェニルトリフルオロボレート、ビス（ｐ−フェノ
キシフェニル）フェノキシスルホキソニウム−３，５−
ビス（トリフルオロメチル）フェニルトリフルオロボレ
ート、ビス（ｐ−ベンジルフェニル）フェノキシスルホ
キソニウム−３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェ
ニルトリフルオロボレート、ビス（ｐ−ベンジルオキシ
フェニル）フェノキシスルホキソニウム−３，５−ビス
（トリフルオロメチル）フェニルトリフルオロボレー
ト、フェニル（２−ナフチル）フェノキシスルホキソニ
ウム−３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニルト
リフルオロボレート、フェニル（９−アンスリル）フェ
ノキシスルホキソニウム−３，５−ビス（トリフルオロ
メチル）フェニルトリフルオロボレート、ジフェニル
（ｐ−メチルフェノキシ）スルホキソニウム−３，５−
ビス（トリフルオロメチル）フェニルトリフルオロボレ
ート、ジフェニル（ｐ−メトキシフェノキシ）スルホキ
ソニウム−３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニ
ルトリフルオロボレート、ジフェニル（ｐ−クロロフェ
ノキシ）スルホキソニウム−３，５−ビス（トリフルオ
ロメチル）フェニルトリフルオロボレート、ジフェニル
（ｐ−ジメチルアミノフェノキシ）スルホキソニウム−
３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニルトリフル
オロボレート、ジフェニル（ｐ−シアノフェノキシ）ス
ルホキソニウム−３，５−ビス（トリフルオロメチル）
フェニルトリフルオロボレート、ジフェニル（ｐ−ヒド
ロキシフェノキシ）スルホキソニウム−３，５−ビス
（トリフルオロメチル）フェニルトリフルオロボレー
ト、ジフェニル（２−ナフチルオキシ）スルホキソニウ
ム−３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニルトリ
フルオロボレート、ジフェニル（９−アンスリルオキ
シ）スルホキソニウム−３，５−ビス（トリフルオロメ
チル）フェニルトリフルオロボレート、および以下に示
す構造のものなど、
【００２８】
【化１２】
【００２９】
【化１３】
【００３０】ジフェニルフェノキシスルホキソニウム−
ｐ−トリフルオロメチルフェニルトリフルオロボレー
ト、ビス（ｐ−トリル）フェノキシスルホキソニウム−
ｐ−トリフルオロメチルフェニルトリフルオロボレー
ト、ビス（ｐ−トリクロロメチルフェニル）フェノキシ
スルホキソニウム−ｐ−トリフルオロメチルフェニルト
リフルオロボレート、ビス（２，３−または２，４−キ
シリル）フェノキシスルホキソニウム−ｐ−トリフルオ
ロメチルフェニルトリフルオロボレート、ビス（ｐ−ク
メニル）フェノキシスルホキソニウム−ｐ−トリフルオ
ロメチルフェニルトリフルオロボレート、ビス（ｐ−ア
ニシル）フェノキシスルホキソニウム−ｐ−トリフルオ
ロメチルフェニルトリフルオロボレート、ビス（２，４
−ジメトキシフェニル）フェノキシスルホキソニウム−
ｐ−トリフルオロメチルフェニルトリフルオロボレー
ト、ビス（２，４，６−トリメトキシフェニル）フェノ
キシスルホキソニウム−ｐ−トリフルオロメチルフェニ
ルトリフルオロボレート、ビス（ｐ−ブトキシフェニ
ル）フェノキシスルホキソニウム−ｐ−トリフルオロメ
チルフェニルトリフルオロボレート、ビス（ｐ−シアノ
フェニル）フェノキシスルホキソニウム−ｐ−トリフル
オロメチルフェニルトリフルオロボレート、ビス（ｐ−
ジメチルアミノフェニル）フェノキシスルホキソニウム
−ｐ−トリフルオロメチルフェニルトリフルオロボレー
ト、ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）フェノキシス
ルホキソニウム−ｐ−トリフルオロメチルフェニルトリ
フルオロボレート、ビス（ｐ−モルホリノフェニル）フ
ェノキシスルホキソニウム−ｐ−トリフルオロメチルフ
ェニルトリフルオロボレート、ビス（ｐ−クロロフェニ
ル）フェノキシスルホキソニウム−ｐ−トリフルオロメ
チルフェニルトリフルオロボレート、ビス（ｐ−ヒドロ
キシフェニル）フェノキシスルホキソニウム−ｐ−トリ
フルオロメチルフェニルトリフルオロボレート、ビス
（ｐ−ビフェニル）フェノキシスルホキソニウム−ｐ−
トリフルオロメチルフェニルトリフルオロボレート、ビ
ス（ｐ−フェノキシフェニル）フェノキシスルホキソニ
ウム−ｐ−トリフルオロメチルフェニルトリフルオロボ
レート、ビス（ｐ−ベンジルフェニル）フェノキシスル
ホキソニウム−ｐ−トリフルオロメチルフェニルトリフ
ルオロボレート、ビス（ｐ−ベンジルオキシフェニル）
フェノキシスルホキソニウム−ｐ−トリフルオロメチル
フェニルトリフルオロボレート、フェニル（２−ナフチ
ル）フェノキシスルホキソニウム−ｐ−トリフルオロメ
チルフェニルトリフルオロボレート、フェニル（９−ア
ンスリル）フェノキシスルホキソニウム−ｐ−トリフル
オロメチルフェニルトリフルオロボレート、ジフェニル
（ｐ−メチルフェノキシ）スルホキソニウム−ｐ−トリ
フルオロメチルフェニルトリフルオロボレート、ジフェ
ニル（ｐ−メトキシフェノキシ）スルホキソニウム−ｐ
−トリフルオロメチルフェニルトリフルオロボレート、
ジフェニル（ｐ−クロロフェノキシ）スルホキソニウム
−ｐ−トリフルオロメチルフェニルトリフルオロボレー
ト、ジフェニル（ｐ−ジメチルアミノフェノキシ）スル
ホキソニウム−ｐ−トリフルオロメチルフェニルトリフ
ルオロボレート、ジフェニル（ｐ−シアノフェノキシ）
スルホキソニウム−ｐ−トリフルオロメチルフェニルト
リフルオロボレート、ジフェニル（ｐ−ヒドロキシフェ
ノキシ）スルホキソニウム−ｐ−トリフルオロメチルフ
ェニルトリフルオロボレート、ジフェニル（２−ナフチ
ルオキシ）スルホキソニウム−ｐ−トリフルオロメチル
フェニルトリフルオロボレート、ジフェニル（９−アン
スリルオキシ）スルホキソニウム−ｐ−トリフルオロメ
チルフェニルトリフルオロボレート、および以下に示す
構造のものなど、
ｐ−トリフルオロメチルフェニルトリフルオロボレー
ト、ビス（ｐ−トリル）フェノキシスルホキソニウム−
ｐ−トリフルオロメチルフェニルトリフルオロボレー
ト、ビス（ｐ−トリクロロメチルフェニル）フェノキシ
スルホキソニウム−ｐ−トリフルオロメチルフェニルト
リフルオロボレート、ビス（２，３−または２，４−キ
シリル）フェノキシスルホキソニウム−ｐ−トリフルオ
ロメチルフェニルトリフルオロボレート、ビス（ｐ−ク
メニル）フェノキシスルホキソニウム−ｐ−トリフルオ
ロメチルフェニルトリフルオロボレート、ビス（ｐ−ア
ニシル）フェノキシスルホキソニウム−ｐ−トリフルオ
ロメチルフェニルトリフルオロボレート、ビス（２，４
−ジメトキシフェニル）フェノキシスルホキソニウム−
ｐ−トリフルオロメチルフェニルトリフルオロボレー
ト、ビス（２，４，６−トリメトキシフェニル）フェノ
キシスルホキソニウム−ｐ−トリフルオロメチルフェニ
ルトリフルオロボレート、ビス（ｐ−ブトキシフェニ
ル）フェノキシスルホキソニウム−ｐ−トリフルオロメ
チルフェニルトリフルオロボレート、ビス（ｐ−シアノ
フェニル）フェノキシスルホキソニウム−ｐ−トリフル
オロメチルフェニルトリフルオロボレート、ビス（ｐ−
ジメチルアミノフェニル）フェノキシスルホキソニウム
−ｐ−トリフルオロメチルフェニルトリフルオロボレー
ト、ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）フェノキシス
ルホキソニウム−ｐ−トリフルオロメチルフェニルトリ
フルオロボレート、ビス（ｐ−モルホリノフェニル）フ
ェノキシスルホキソニウム−ｐ−トリフルオロメチルフ
ェニルトリフルオロボレート、ビス（ｐ−クロロフェニ
ル）フェノキシスルホキソニウム−ｐ−トリフルオロメ
チルフェニルトリフルオロボレート、ビス（ｐ−ヒドロ
キシフェニル）フェノキシスルホキソニウム−ｐ−トリ
フルオロメチルフェニルトリフルオロボレート、ビス
（ｐ−ビフェニル）フェノキシスルホキソニウム−ｐ−
トリフルオロメチルフェニルトリフルオロボレート、ビ
ス（ｐ−フェノキシフェニル）フェノキシスルホキソニ
ウム−ｐ−トリフルオロメチルフェニルトリフルオロボ
レート、ビス（ｐ−ベンジルフェニル）フェノキシスル
ホキソニウム−ｐ−トリフルオロメチルフェニルトリフ
ルオロボレート、ビス（ｐ−ベンジルオキシフェニル）
フェノキシスルホキソニウム−ｐ−トリフルオロメチル
フェニルトリフルオロボレート、フェニル（２−ナフチ
ル）フェノキシスルホキソニウム−ｐ−トリフルオロメ
チルフェニルトリフルオロボレート、フェニル（９−ア
ンスリル）フェノキシスルホキソニウム−ｐ−トリフル
オロメチルフェニルトリフルオロボレート、ジフェニル
（ｐ−メチルフェノキシ）スルホキソニウム−ｐ−トリ
フルオロメチルフェニルトリフルオロボレート、ジフェ
ニル（ｐ−メトキシフェノキシ）スルホキソニウム−ｐ
−トリフルオロメチルフェニルトリフルオロボレート、
ジフェニル（ｐ−クロロフェノキシ）スルホキソニウム
−ｐ−トリフルオロメチルフェニルトリフルオロボレー
ト、ジフェニル（ｐ−ジメチルアミノフェノキシ）スル
ホキソニウム−ｐ−トリフルオロメチルフェニルトリフ
ルオロボレート、ジフェニル（ｐ−シアノフェノキシ）
スルホキソニウム−ｐ−トリフルオロメチルフェニルト
リフルオロボレート、ジフェニル（ｐ−ヒドロキシフェ
ノキシ）スルホキソニウム−ｐ−トリフルオロメチルフ
ェニルトリフルオロボレート、ジフェニル（２−ナフチ
ルオキシ）スルホキソニウム−ｐ−トリフルオロメチル
フェニルトリフルオロボレート、ジフェニル（９−アン
スリルオキシ）スルホキソニウム−ｐ−トリフルオロメ
チルフェニルトリフルオロボレート、および以下に示す
構造のものなど、
【００３１】
【化１４】
【００３２】
【化１５】
【００３３】ジフェニルフェノキシスルホキソニウム−
ビス（ペンタフルオロフェニル）ジフルオロボレート、
ビス（ｐ−トリル）フェノキシスルホキソニウム−ビス
（ペンタフルオロフェニル）ジフルオロボレート、ビス
（ｐ−トリクロロメチルフェニル）フェノキシスルホキ
ソニウム−ビス（ペンタフルオロフェニル）ジフルオロ
ボレート、ビス（２，３−または２，４−キシリル）フ
ェノキシスルホキソニウム−ビス（ペンタフルオロフェ
ニル）ジフルオロボレート、ビス（ｐ−クメニル）フェ
ノキシスルホキソニウム−ビス（ペンタフルオロフェニ
ル）ジフルオロボレート、ビス（ｐ−アニシル）フェノ
キシスルホキソニウム−ビス（ペンタフルオロフェニ
ル）ジフルオロボレート、ビス（２，４−ジメトキシフ
ェニル）フェノキシスルホキソニウム−ビス（ペンタフ
ルオロフェニル）ジフルオロボレート、ビス（２，４，
６−トリメトキシフェニル）フェノキシスルホキソニウ
ム−ビス（ペンタフルオロフェニル）ジフルオロボレー
ト、ビス（ｐ−ブトキシフェニル）フェノキシスルホキ
ソニウム−ビス（ペンタフルオロフェニル）ジフルオロ
ボレート、ビス（ｐ−シアノフェニル）フェノキシスル
ホキソニウム−ビス（ペンタフルオロフェニル）ジフル
オロボレート、ビス（ｐ−ジメチルアミノフェニル）フ
ェノキシスルホキソニウム−ビス（ペンタフルオロフェ
ニル）ジフルオロボレート、ビス（ｐ−ジエチルアミノ
フェニル）フェノキシスルホキソニウム−ビス（ペンタ
フルオロフェニル）ジフルオロボレート、ビス（ｐ−モ
ルホリノフェニル）フェノキシスルホキソニウム−ビス
（ペンタフルオロフェニル）ジフルオロボレート、ビス
（ｐ−クロロフェニル）フェノキシスルホキソニウム−
ビス（ペンタフルオロフェニル）ジフルオロボレート、
ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）フェノキシスルホキソ
ニウム−ビス（ペンタフルオロフェニル）ジフルオロボ
レート、ビス（ｐ−ビフェニル）フェノキシスルホキソ
ニウム−ビス（ペンタフルオロフェニル）ジフルオロボ
レート、ビス（ｐ−フェノキシフェニル）フェノキシス
ルホキソニウム−ビス（ペンタフルオロフェニル）ジフ
ルオロボレート、ビス（ｐ−ベンジルフェニル）フェノ
キシスルホキソニウム−ビス（ペンタフルオロフェニ
ル）ジフルオロボレート、ビス（ｐ−ベンジルオキシフ
ェニル）フェノキシスルホキソニウム−ビス（ペンタフ
ルオロフェニル）ジフルオロボレート、フェニル（２−
ナフチル）フェノキシスルホキソニウム−ビス（ペンタ
フルオロフェニル）ジフルオロボレート、フェニル（９
−アンスリル）フェノキシスルホキソニウム−ビス（ペ
ンタフルオロフェニル）ジフルオロボレート、ジフェニ
ル（ｐ−メチルフェノキシ）スルホキソニウム−ビス
（ペンタフルオロフェニル）ジフルオロボレート、ジフ
ェニル（ｐ−メトキシフェノキシ）スルホキソニウム−
ビス（ペンタフルオロフェニル）ジフルオロボレート、
ジフェニル（ｐ−クロロフェノキシ）スルホキソニウム
−ビス（ペンタフルオロフェニル）ジフルオロボレー
ト、ジフェニル（ｐ−ジメチルアミノフェノキシ）スル
ホキソニウム−ビス（ペンタフルオロフェニル）ジフル
オロボレート、ジフェニル（ｐ−シアノフェノキシ）ス
ルホキソニウム−ビス（ペンタフルオロフェニル）ジフ
ルオロボレート、ジフェニル（ｐ−ヒドロキシフェノキ
シ）スルホキソニウム−ビス（ペンタフルオロフェニ
ル）ジフルオロボレート、ジフェニル（２−ナフチルオ
キシ）スルホキソニウム−ビス（ペンタフルオロフェニ
ル）ジフルオロボレート、ジフェニル（９−アンスリル
オキシ）スルホキソニウム−ビス（ペンタフルオロフェ
ニル）ジフルオロボレート、および以下に示す構造のも
のなど、
ビス（ペンタフルオロフェニル）ジフルオロボレート、
ビス（ｐ−トリル）フェノキシスルホキソニウム−ビス
（ペンタフルオロフェニル）ジフルオロボレート、ビス
（ｐ−トリクロロメチルフェニル）フェノキシスルホキ
ソニウム−ビス（ペンタフルオロフェニル）ジフルオロ
ボレート、ビス（２，３−または２，４−キシリル）フ
ェノキシスルホキソニウム−ビス（ペンタフルオロフェ
ニル）ジフルオロボレート、ビス（ｐ−クメニル）フェ
ノキシスルホキソニウム−ビス（ペンタフルオロフェニ
ル）ジフルオロボレート、ビス（ｐ−アニシル）フェノ
キシスルホキソニウム−ビス（ペンタフルオロフェニ
ル）ジフルオロボレート、ビス（２，４−ジメトキシフ
ェニル）フェノキシスルホキソニウム−ビス（ペンタフ
ルオロフェニル）ジフルオロボレート、ビス（２，４，
６−トリメトキシフェニル）フェノキシスルホキソニウ
ム−ビス（ペンタフルオロフェニル）ジフルオロボレー
ト、ビス（ｐ−ブトキシフェニル）フェノキシスルホキ
ソニウム−ビス（ペンタフルオロフェニル）ジフルオロ
ボレート、ビス（ｐ−シアノフェニル）フェノキシスル
ホキソニウム−ビス（ペンタフルオロフェニル）ジフル
オロボレート、ビス（ｐ−ジメチルアミノフェニル）フ
ェノキシスルホキソニウム−ビス（ペンタフルオロフェ
ニル）ジフルオロボレート、ビス（ｐ−ジエチルアミノ
フェニル）フェノキシスルホキソニウム−ビス（ペンタ
フルオロフェニル）ジフルオロボレート、ビス（ｐ−モ
ルホリノフェニル）フェノキシスルホキソニウム−ビス
（ペンタフルオロフェニル）ジフルオロボレート、ビス
（ｐ−クロロフェニル）フェノキシスルホキソニウム−
ビス（ペンタフルオロフェニル）ジフルオロボレート、
ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）フェノキシスルホキソ
ニウム−ビス（ペンタフルオロフェニル）ジフルオロボ
レート、ビス（ｐ−ビフェニル）フェノキシスルホキソ
ニウム−ビス（ペンタフルオロフェニル）ジフルオロボ
レート、ビス（ｐ−フェノキシフェニル）フェノキシス
ルホキソニウム−ビス（ペンタフルオロフェニル）ジフ
ルオロボレート、ビス（ｐ−ベンジルフェニル）フェノ
キシスルホキソニウム−ビス（ペンタフルオロフェニ
ル）ジフルオロボレート、ビス（ｐ−ベンジルオキシフ
ェニル）フェノキシスルホキソニウム−ビス（ペンタフ
ルオロフェニル）ジフルオロボレート、フェニル（２−
ナフチル）フェノキシスルホキソニウム−ビス（ペンタ
フルオロフェニル）ジフルオロボレート、フェニル（９
−アンスリル）フェノキシスルホキソニウム−ビス（ペ
ンタフルオロフェニル）ジフルオロボレート、ジフェニ
ル（ｐ−メチルフェノキシ）スルホキソニウム−ビス
（ペンタフルオロフェニル）ジフルオロボレート、ジフ
ェニル（ｐ−メトキシフェノキシ）スルホキソニウム−
ビス（ペンタフルオロフェニル）ジフルオロボレート、
ジフェニル（ｐ−クロロフェノキシ）スルホキソニウム
−ビス（ペンタフルオロフェニル）ジフルオロボレー
ト、ジフェニル（ｐ−ジメチルアミノフェノキシ）スル
ホキソニウム−ビス（ペンタフルオロフェニル）ジフル
オロボレート、ジフェニル（ｐ−シアノフェノキシ）ス
ルホキソニウム−ビス（ペンタフルオロフェニル）ジフ
ルオロボレート、ジフェニル（ｐ−ヒドロキシフェノキ
シ）スルホキソニウム−ビス（ペンタフルオロフェニ
ル）ジフルオロボレート、ジフェニル（２−ナフチルオ
キシ）スルホキソニウム−ビス（ペンタフルオロフェニ
ル）ジフルオロボレート、ジフェニル（９−アンスリル
オキシ）スルホキソニウム−ビス（ペンタフルオロフェ
ニル）ジフルオロボレート、および以下に示す構造のも
のなど、
【００３４】
【化１６】
【００３５】
【化１７】
【００３６】ジフェニルフェノキシスルホキソニウム−
ビス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］
ジフルオロボレート、ビス（ｐ−トリル）フェノキシス
ルホキソニウム−ビス［３，５−ビス（トリフルオロメ
チル）フェニル］ジフルオロボレート、ビス（ｐ−トリ
クロロメチルフェニル）フェノキシスルホキソニウム−
ビス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］
ジフルオロボレート、ビス（２，３−または２，４−キ
シリル）フェノキシスルホキソニウム−ビス［３，５−
ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ジフルオロボレ
ート、ビス（ｐ−クメニル）フェノキシスルホキソニウ
ム−ビス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニ
ル］ジフルオロボレート、ビス（ｐ−アニシル）フェノ
キシスルホキソニウム−ビス［３，５−ビス（トリフル
オロメチル）フェニル］ジフルオロボレート、ビス
（２，４−ジメトキシフェニル）フェノキシスルホキソ
ニウム−ビス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フ
ェニル］ジフルオロボレート、ビス（２，４，６−トリ
メトキシフェニル）フェノキシスルホキソニウム−ビス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ジフ
ルオロボレート、ビス（ｐ−ブトキシフェニル）フェノ
キシスルホキソニウム−ビス［３，５−ビス（トリフル
オロメチル）フェニル］ジフルオロボレート、ビス（ｐ
−シアノフェニル）フェノキシスルホキソニウム−ビス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ジフ
ルオロボレート、ビス（ｐ−ジメチルアミノフェニル）
フェノキシスルホキソニウム−ビス［３，５−ビス（ト
リフルオロメチル）フェニル］ジフルオロボレート、ビ
ス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）フェノキシスルホキ
ソニウム−ビス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）
フェニル］ジフルオロボレート、ビス（ｐ−モルホリノ
フェニル）フェノキシスルホキソニウム−ビス［３，５
−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ジフルオロボ
レート、ビス（ｐ−クロロフェニル）フェノキシスルホ
キソニウム−ビス［３，５−ビス（トリフルオロメチ
ル）フェニル］ジフルオロボレート、ビス（ｐ−ヒドロ
キシフェニル）フェノキシスルホキソニウム−ビス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ジフ
ルオロボレート、ビス（ｐ−ビフェニル）フェノキシス
ルホキソニウム−ビス［３，５−ビス（トリフルオロメ
チル）フェニル］ジフルオロボレート、ビス（ｐ−フェ
ノキシフェニル）フェノキシスルホキソニウム−ビス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ジフ
ルオロボレート、ビス（ｐ−ベンジルフェニル）フェノ
キシスルホキソニウム−ビス［３，５−ビス（トリフル
オロメチル）フェニル］ジフルオロボレート、ビス（ｐ
−ベンジルオキシフェニル）フェノキシスルホキソニウ
ム−ビス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニ
ル］ジフルオロボレート、フェニル（２−ナフチル）フ
ェノキシスルホキソニウム−ビス［３，５−ビス（トリ
フルオロメチル）フェニル］ジフルオロボレート、フェ
ニル（９−アンスリル）フェノキシスルホキソニウム−
ビス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］
ジフルオロボレート、ジフェニル（ｐ−メチルフェノキ
シ）スルホキソニウム−ビス［３，５−ビス（トリフル
オロメチル）フェニル］ジフルオロボレート、ジフェニ
ル（ｐ−メトキシフェノキシ）スルホキソニウム−ビス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ジフ
ルオロボレート、ジフェニル（ｐ−クロロフェノキシ）
スルホキソニウム−ビス［３，５−ビス（トリフルオロ
メチル）フェニル］ジフルオロボレート、ジフェニル
（ｐ−ジメチルアミノフェノキシ）スルホキソニウム−
ビス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］
ジフルオロボレート、ジフェニル（ｐ−シアノフェノキ
シ）スルホキソニウム−ビス［３，５−ビス（トリフル
オロメチル）フェニル］ジフルオロボレート、ジフェニ
ル（ｐ−ヒドロキシフェノキシ）スルホキソニウム−ビ
ス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ジ
フルオロボレート、ジフェニル（２−ナフチルオキシ）
スルホキソニウム−ビス［３，５−ビス（トリフルオロ
メチル）フェニル］ジフルオロボレート、ジフェニル
（９−アンスリルオキシ）スルホキソニウム−ビス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ジフ
ルオロボレート、および以下に示す構造のものなど、
ビス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］
ジフルオロボレート、ビス（ｐ−トリル）フェノキシス
ルホキソニウム−ビス［３，５−ビス（トリフルオロメ
チル）フェニル］ジフルオロボレート、ビス（ｐ−トリ
クロロメチルフェニル）フェノキシスルホキソニウム−
ビス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］
ジフルオロボレート、ビス（２，３−または２，４−キ
シリル）フェノキシスルホキソニウム−ビス［３，５−
ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ジフルオロボレ
ート、ビス（ｐ−クメニル）フェノキシスルホキソニウ
ム−ビス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニ
ル］ジフルオロボレート、ビス（ｐ−アニシル）フェノ
キシスルホキソニウム−ビス［３，５−ビス（トリフル
オロメチル）フェニル］ジフルオロボレート、ビス
（２，４−ジメトキシフェニル）フェノキシスルホキソ
ニウム−ビス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フ
ェニル］ジフルオロボレート、ビス（２，４，６−トリ
メトキシフェニル）フェノキシスルホキソニウム−ビス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ジフ
ルオロボレート、ビス（ｐ−ブトキシフェニル）フェノ
キシスルホキソニウム−ビス［３，５−ビス（トリフル
オロメチル）フェニル］ジフルオロボレート、ビス（ｐ
−シアノフェニル）フェノキシスルホキソニウム−ビス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ジフ
ルオロボレート、ビス（ｐ−ジメチルアミノフェニル）
フェノキシスルホキソニウム−ビス［３，５−ビス（ト
リフルオロメチル）フェニル］ジフルオロボレート、ビ
ス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）フェノキシスルホキ
ソニウム−ビス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）
フェニル］ジフルオロボレート、ビス（ｐ−モルホリノ
フェニル）フェノキシスルホキソニウム−ビス［３，５
−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ジフルオロボ
レート、ビス（ｐ−クロロフェニル）フェノキシスルホ
キソニウム−ビス［３，５−ビス（トリフルオロメチ
ル）フェニル］ジフルオロボレート、ビス（ｐ−ヒドロ
キシフェニル）フェノキシスルホキソニウム−ビス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ジフ
ルオロボレート、ビス（ｐ−ビフェニル）フェノキシス
ルホキソニウム−ビス［３，５−ビス（トリフルオロメ
チル）フェニル］ジフルオロボレート、ビス（ｐ−フェ
ノキシフェニル）フェノキシスルホキソニウム−ビス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ジフ
ルオロボレート、ビス（ｐ−ベンジルフェニル）フェノ
キシスルホキソニウム−ビス［３，５−ビス（トリフル
オロメチル）フェニル］ジフルオロボレート、ビス（ｐ
−ベンジルオキシフェニル）フェノキシスルホキソニウ
ム−ビス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニ
ル］ジフルオロボレート、フェニル（２−ナフチル）フ
ェノキシスルホキソニウム−ビス［３，５−ビス（トリ
フルオロメチル）フェニル］ジフルオロボレート、フェ
ニル（９−アンスリル）フェノキシスルホキソニウム−
ビス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］
ジフルオロボレート、ジフェニル（ｐ−メチルフェノキ
シ）スルホキソニウム−ビス［３，５−ビス（トリフル
オロメチル）フェニル］ジフルオロボレート、ジフェニ
ル（ｐ−メトキシフェノキシ）スルホキソニウム−ビス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ジフ
ルオロボレート、ジフェニル（ｐ−クロロフェノキシ）
スルホキソニウム−ビス［３，５−ビス（トリフルオロ
メチル）フェニル］ジフルオロボレート、ジフェニル
（ｐ−ジメチルアミノフェノキシ）スルホキソニウム−
ビス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］
ジフルオロボレート、ジフェニル（ｐ−シアノフェノキ
シ）スルホキソニウム−ビス［３，５−ビス（トリフル
オロメチル）フェニル］ジフルオロボレート、ジフェニ
ル（ｐ−ヒドロキシフェノキシ）スルホキソニウム−ビ
ス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ジ
フルオロボレート、ジフェニル（２−ナフチルオキシ）
スルホキソニウム−ビス［３，５−ビス（トリフルオロ
メチル）フェニル］ジフルオロボレート、ジフェニル
（９−アンスリルオキシ）スルホキソニウム−ビス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ジフ
ルオロボレート、および以下に示す構造のものなど、
【００３７】
【化１８】
【００３８】
【化１９】
【００３９】ジフェニルフェノキシスルホキソニウム−
ビス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ジフルオロボ
レート、ビス（ｐ−トリル）フェノキシスルホキソニウ
ム−ビス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ジフルオ
ロボレート、ビス（ｐ−トリクロロメチルフェニル）フ
ェノキシスルホキソニウム−ビス（ｐ−トリフルオロメ
チルフェニル）ジフルオロボレート、ビス（２，３−ま
たは２，４−キシリル）フェノキシスルホキソニウム−
ビス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ジフルオロボ
レート、ビス（ｐ−クメニル）フェノキシスルホキソニ
ウム−ビス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ジフル
オロボレート、ビス（ｐ−アニシル）フェノキシスルホ
キソニウム−ビス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）
ジフルオロボレート、ビス（２，４−ジメトキシフェニ
ル）フェノキシスルホキソニウム−ビス（ｐ−トリフル
オロメチルフェニル）ジフルオロボレート、ビス（２，
４，６−トリメトキシフェニル）フェノキシスルホキソ
ニウム−ビス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ジフ
ルオロボレート、ビス（ｐ−ブトキシフェニル）フェノ
キシスルホキソニウム−ビス（ｐ−トリフルオロメチル
フェニル）ジフルオロボレート、ビス（ｐ−シアノフェ
ニル）フェノキシスルホキソニウム−ビス（ｐ−トリフ
ルオロメチルフェニル）ジフルオロボレート、ビス（ｐ
−ジメチルアミノフェニル）フェノキシスルホキソニウ
ム−ビス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ジフルオ
ロボレート、ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）フェ
ノキシスルホキソニウム−ビス（ｐ−トリフルオロメチ
ルフェニル）ジフルオロボレート、ビス（ｐ−モルホリ
ノフェニル）フェノキシスルホキソニウム−ビス（ｐ−
トリフルオロメチルフェニル）ジフルオロボレート、ビ
ス（ｐ−クロロフェニル）フェノキシスルホキソニウム
−ビス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ジフルオロ
ボレート、ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）フェノキシ
スルホキソニウム−ビス（ｐ−トリフルオロメチルフェ
ニル）ジフルオロボレート、ビス（ｐ−ビフェニル）フ
ェノキシスルホキソニウム−ビス（ｐ−トリフルオロメ
チルフェニル）ジフルオロボレート、ビス（ｐ−フェノ
キシフェニル）フェノキシスルホキソニウム−ビス（ｐ
−トリフルオロメチルフェニル）ジフルオロボレート、
ビス（ｐ−ベンジルフェニル）フェノキシスルホキソニ
ウム−ビス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ジフル
オロボレート、ビス（ｐ−ベンジルオキシフェニル）フ
ェノキシスルホキソニウム−ビス（ｐ−トリフルオロメ
チルフェニル）ジフルオロボレート、フェニル（２−ナ
フチル）フェノキシスルホキソニウム−ビス（ｐ−トリ
フルオロメチルフェニル）ジフルオロボレート、フェニ
ル（９−アンスリル）フェノキシスルホキソニウム−ビ
ス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ジフルオロボレ
ート、ジフェニル（ｐ−メチルフェノキシ）スルホキソ
ニウム−ビス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ジフ
ルオロボレート、ジフェニル（ｐ−メトキシフェノキ
シ）スルホキソニウム−ビス（ｐ−トリフルオロメチル
フェニル）ジフルオロボレート、ジフェニル（ｐ−クロ
ロフェノキシ）スルホキソニウム−ビス（ｐ−トリフル
オロメチルフェニル）ジフルオロボレート、ジフェニル
（ｐ−ジメチルアミノフェノキシ）スルホキソニウム−
ビス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ジフルオロボ
レート、ジフェニル（ｐ−シアノフェノキシ）スルホキ
ソニウム−ビス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ジ
フルオロボレート、ジフェニル（ｐ−ヒドロキシフェノ
キシ）スルホキソニウム−ビス（ｐ−トリフルオロメチ
ルフェニル）ジフルオロボレート、ジフェニル（２−ナ
フチルオキシ）スルホキソニウム−ビス（ｐ−トリフル
オロメチルフェニル）ジフルオロボレート、ジフェニル
（９−アンスリルオキシ）スルホキソニウム−ビス（ｐ
−トリフルオロメチルフェニル）ジフルオロボレート、
および以下に示す構造のものなど、
ビス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ジフルオロボ
レート、ビス（ｐ−トリル）フェノキシスルホキソニウ
ム−ビス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ジフルオ
ロボレート、ビス（ｐ−トリクロロメチルフェニル）フ
ェノキシスルホキソニウム−ビス（ｐ−トリフルオロメ
チルフェニル）ジフルオロボレート、ビス（２，３−ま
たは２，４−キシリル）フェノキシスルホキソニウム−
ビス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ジフルオロボ
レート、ビス（ｐ−クメニル）フェノキシスルホキソニ
ウム−ビス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ジフル
オロボレート、ビス（ｐ−アニシル）フェノキシスルホ
キソニウム−ビス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）
ジフルオロボレート、ビス（２，４−ジメトキシフェニ
ル）フェノキシスルホキソニウム−ビス（ｐ−トリフル
オロメチルフェニル）ジフルオロボレート、ビス（２，
４，６−トリメトキシフェニル）フェノキシスルホキソ
ニウム−ビス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ジフ
ルオロボレート、ビス（ｐ−ブトキシフェニル）フェノ
キシスルホキソニウム−ビス（ｐ−トリフルオロメチル
フェニル）ジフルオロボレート、ビス（ｐ−シアノフェ
ニル）フェノキシスルホキソニウム−ビス（ｐ−トリフ
ルオロメチルフェニル）ジフルオロボレート、ビス（ｐ
−ジメチルアミノフェニル）フェノキシスルホキソニウ
ム−ビス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ジフルオ
ロボレート、ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）フェ
ノキシスルホキソニウム−ビス（ｐ−トリフルオロメチ
ルフェニル）ジフルオロボレート、ビス（ｐ−モルホリ
ノフェニル）フェノキシスルホキソニウム−ビス（ｐ−
トリフルオロメチルフェニル）ジフルオロボレート、ビ
ス（ｐ−クロロフェニル）フェノキシスルホキソニウム
−ビス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ジフルオロ
ボレート、ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）フェノキシ
スルホキソニウム−ビス（ｐ−トリフルオロメチルフェ
ニル）ジフルオロボレート、ビス（ｐ−ビフェニル）フ
ェノキシスルホキソニウム−ビス（ｐ−トリフルオロメ
チルフェニル）ジフルオロボレート、ビス（ｐ−フェノ
キシフェニル）フェノキシスルホキソニウム−ビス（ｐ
−トリフルオロメチルフェニル）ジフルオロボレート、
ビス（ｐ−ベンジルフェニル）フェノキシスルホキソニ
ウム−ビス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ジフル
オロボレート、ビス（ｐ−ベンジルオキシフェニル）フ
ェノキシスルホキソニウム−ビス（ｐ−トリフルオロメ
チルフェニル）ジフルオロボレート、フェニル（２−ナ
フチル）フェノキシスルホキソニウム−ビス（ｐ−トリ
フルオロメチルフェニル）ジフルオロボレート、フェニ
ル（９−アンスリル）フェノキシスルホキソニウム−ビ
ス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ジフルオロボレ
ート、ジフェニル（ｐ−メチルフェノキシ）スルホキソ
ニウム−ビス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ジフ
ルオロボレート、ジフェニル（ｐ−メトキシフェノキ
シ）スルホキソニウム−ビス（ｐ−トリフルオロメチル
フェニル）ジフルオロボレート、ジフェニル（ｐ−クロ
ロフェノキシ）スルホキソニウム−ビス（ｐ−トリフル
オロメチルフェニル）ジフルオロボレート、ジフェニル
（ｐ−ジメチルアミノフェノキシ）スルホキソニウム−
ビス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ジフルオロボ
レート、ジフェニル（ｐ−シアノフェノキシ）スルホキ
ソニウム−ビス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ジ
フルオロボレート、ジフェニル（ｐ−ヒドロキシフェノ
キシ）スルホキソニウム−ビス（ｐ−トリフルオロメチ
ルフェニル）ジフルオロボレート、ジフェニル（２−ナ
フチルオキシ）スルホキソニウム−ビス（ｐ−トリフル
オロメチルフェニル）ジフルオロボレート、ジフェニル
（９−アンスリルオキシ）スルホキソニウム−ビス（ｐ
−トリフルオロメチルフェニル）ジフルオロボレート、
および以下に示す構造のものなど、
【００４０】
【化２０】
【００４１】
【化２１】
【００４２】ジフェニルフェノキシスルホキソニウム−
トリス（ペンタフルオロフェニル）フルオロボレート、
ビス（ｐ−トリル）フェノキシスルホキソニウム−トリ
ス（ペンタフルオロフェニル）フルオロボレート、ビス
（ｐ−トリクロロメチルフェニル）フェノキシスルホキ
ソニウム−トリス（ペンタフルオロフェニル）フルオロ
ボレート、ビス（２，３−または２，４−キシリル）フ
ェノキシスルホキソニウム−トリス（ペンタフルオロフ
ェニル）フルオロボレート、ビス（ｐ−クメニル）フェ
ノキシスルホキソニウム−トリス（ペンタフルオロフェ
ニル）フルオロボレート、ビス（ｐ−アニシル）フェノ
キシスルホキソニウム−トリス（ペンタフルオロフェニ
ル）フルオロボレート、ビス（２，４−ジメトキシフェ
ニル）フェノキシスルホキソニウム−トリス（ペンタフ
ルオロフェニル）フルオロボレート、ビス（２，４，６
−トリメトキシフェニル）フェノキシスルホキソニウム
−トリス（ペンタフルオロフェニル）フルオロボレー
ト、ビス（ｐ−ブトキシフェニル）フェノキシスルホキ
ソニウム−トリス（ペンタフルオロフェニル）フルオロ
ボレート、ビス（ｐ−シアノフェニル）フェノキシスル
ホキソニウム−トリス（ペンタフルオロフェニル）フル
オロボレート、ビス（ｐ−ジメチルアミノフェニル）フ
ェノキシスルホキソニウム−トリス（ペンタフルオロフ
ェニル）フルオロボレート、ビス（ｐ−ジエチルアミノ
フェニル）フェノキシスルホキソニウム−トリス（ペン
タフルオロフェニル）フルオロボレート、ビス（ｐ−モ
ルホリノフェニル）フェノキシスルホキソニウム−トリ
ス（ペンタフルオロフェニル）フルオロボレート、ビス
（ｐ−クロロフェニル）フェノキシスルホキソニウム−
トリス（ペンタフルオロフェニル）フルオロボレート、
ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）フェノキシスルホキソ
ニウム−トリス（ペンタフルオロフェニル）フルオロボ
レート、ビス（ｐ−ビフェニル）フェノキシスルホキソ
ニウム−トリス（ペンタフルオロフェニル）フルオロボ
レート、ビス（ｐ−フェノキシフェニル）フェノキシス
ルホキソニウム−トリス（ペンタフルオロフェニル）フ
ルオロボレート、ビス（ｐ−ベンジルフェニル）フェノ
キシスルホキソニウム−トリス（ペンタフルオロフェニ
ル）フルオロボレート、ビス（ｐ−ベンジルオキシフェ
ニル）フェノキシスルホキソニウム−トリス（ペンタフ
ルオロフェニル）フルオロボレート、フェニル（２−ナ
フチル）フェノキシスルホキソニウム−トリス（ペンタ
フルオロフェニル）フルオロボレート、フェニル（９−
アンスリル）フェノキシスルホキソニウム−トリス（ペ
ンタフルオロフェニル）フルオロボレート、ジフェニル
（ｐ−メチルフェノキシ）スルホキソニウム−トリス
（ペンタフルオロフェニル）フルオロボレート、ジフェ
ニル（ｐ−メトキシフェノキシ）スルホキソニウム−ト
リス（ペンタフルオロフェニル）フルオロボレート、ジ
フェニル（ｐ−クロロフェノキシ）スルホキソニウム−
トリス（ペンタフルオロフェニル）フルオロボレート、
ジフェニル（ｐ−ジメチルアミノフェノキシ）スルホキ
ソニウム−トリス（ペンタフルオロフェニル）フルオロ
ボレート、ジフェニル（ｐ−シアノフェノキシ）スルホ
キソニウム−トリス（ペンタフルオロフェニル）フルオ
ロボレート、ジフェニル（ｐ−ヒドロキシフェノキシ）
スルホキソニウム−トリス（ペンタフルオロフェニル）
フルオロボレート、ジフェニル（２−ナフチルオキシ）
スルホキソニウム−トリス（ペンタフルオロフェニル）
フルオロボレート、ジフェニル（９−アンスリルオキ
シ）スルホキソニウム−トリス（ペンタフルオロフェニ
ル）フルオロボレート、および以下に示す構造のものな
ど、
トリス（ペンタフルオロフェニル）フルオロボレート、
ビス（ｐ−トリル）フェノキシスルホキソニウム−トリ
ス（ペンタフルオロフェニル）フルオロボレート、ビス
（ｐ−トリクロロメチルフェニル）フェノキシスルホキ
ソニウム−トリス（ペンタフルオロフェニル）フルオロ
ボレート、ビス（２，３−または２，４−キシリル）フ
ェノキシスルホキソニウム−トリス（ペンタフルオロフ
ェニル）フルオロボレート、ビス（ｐ−クメニル）フェ
ノキシスルホキソニウム−トリス（ペンタフルオロフェ
ニル）フルオロボレート、ビス（ｐ−アニシル）フェノ
キシスルホキソニウム−トリス（ペンタフルオロフェニ
ル）フルオロボレート、ビス（２，４−ジメトキシフェ
ニル）フェノキシスルホキソニウム−トリス（ペンタフ
ルオロフェニル）フルオロボレート、ビス（２，４，６
−トリメトキシフェニル）フェノキシスルホキソニウム
−トリス（ペンタフルオロフェニル）フルオロボレー
ト、ビス（ｐ−ブトキシフェニル）フェノキシスルホキ
ソニウム−トリス（ペンタフルオロフェニル）フルオロ
ボレート、ビス（ｐ−シアノフェニル）フェノキシスル
ホキソニウム−トリス（ペンタフルオロフェニル）フル
オロボレート、ビス（ｐ−ジメチルアミノフェニル）フ
ェノキシスルホキソニウム−トリス（ペンタフルオロフ
ェニル）フルオロボレート、ビス（ｐ−ジエチルアミノ
フェニル）フェノキシスルホキソニウム−トリス（ペン
タフルオロフェニル）フルオロボレート、ビス（ｐ−モ
ルホリノフェニル）フェノキシスルホキソニウム−トリ
ス（ペンタフルオロフェニル）フルオロボレート、ビス
（ｐ−クロロフェニル）フェノキシスルホキソニウム−
トリス（ペンタフルオロフェニル）フルオロボレート、
ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）フェノキシスルホキソ
ニウム−トリス（ペンタフルオロフェニル）フルオロボ
レート、ビス（ｐ−ビフェニル）フェノキシスルホキソ
ニウム−トリス（ペンタフルオロフェニル）フルオロボ
レート、ビス（ｐ−フェノキシフェニル）フェノキシス
ルホキソニウム−トリス（ペンタフルオロフェニル）フ
ルオロボレート、ビス（ｐ−ベンジルフェニル）フェノ
キシスルホキソニウム−トリス（ペンタフルオロフェニ
ル）フルオロボレート、ビス（ｐ−ベンジルオキシフェ
ニル）フェノキシスルホキソニウム−トリス（ペンタフ
ルオロフェニル）フルオロボレート、フェニル（２−ナ
フチル）フェノキシスルホキソニウム−トリス（ペンタ
フルオロフェニル）フルオロボレート、フェニル（９−
アンスリル）フェノキシスルホキソニウム−トリス（ペ
ンタフルオロフェニル）フルオロボレート、ジフェニル
（ｐ−メチルフェノキシ）スルホキソニウム−トリス
（ペンタフルオロフェニル）フルオロボレート、ジフェ
ニル（ｐ−メトキシフェノキシ）スルホキソニウム−ト
リス（ペンタフルオロフェニル）フルオロボレート、ジ
フェニル（ｐ−クロロフェノキシ）スルホキソニウム−
トリス（ペンタフルオロフェニル）フルオロボレート、
ジフェニル（ｐ−ジメチルアミノフェノキシ）スルホキ
ソニウム−トリス（ペンタフルオロフェニル）フルオロ
ボレート、ジフェニル（ｐ−シアノフェノキシ）スルホ
キソニウム−トリス（ペンタフルオロフェニル）フルオ
ロボレート、ジフェニル（ｐ−ヒドロキシフェノキシ）
スルホキソニウム−トリス（ペンタフルオロフェニル）
フルオロボレート、ジフェニル（２−ナフチルオキシ）
スルホキソニウム−トリス（ペンタフルオロフェニル）
フルオロボレート、ジフェニル（９−アンスリルオキ
シ）スルホキソニウム−トリス（ペンタフルオロフェニ
ル）フルオロボレート、および以下に示す構造のものな
ど、
【００４３】
【化２２】
【００４４】
【化２３】
【００４５】ジフェニルフェノキシスルホキソニウム−
トリス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニ
ル］フルオロボレート、ビス（ｐ−トリル）フェノキシ
スルホキソニウム−トリス［３，５−ビス（トリフルオ
ロメチル）フェニル］フルオロボレート、ビス（ｐ−ト
リクロロメチルフェニル）フェノキシスルホキソニウム
−トリス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニ
ル］フルオロボレート、ビス（２，３−または２，４−
キシリル）フェノキシスルホキソニウム−トリス［３，
５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］フルオロボ
レート、ビス（ｐ−クメニル）フェノキシスルホキソニ
ウム−トリス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フ
ェニル］フルオロボレート、ビス（ｐ−アニシル）フェ
ノキシスルホキソニウム−トリス［３，５−ビス（トリ
フルオロメチル）フェニル］フルオロボレート、ビス
（２，４−ジメトキシフェニル）フェノキシスルホキソ
ニウム−トリス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）
フェニル］フルオロボレート、ビス（２，４，６−トリ
メトキシフェニル）フェノキシスルホキソニウム−トリ
ス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］フ
ルオロボレート、ビス（ｐ−ブトキシフェニル）フェノ
キシスルホキソニウム−トリス［３，５−ビス（トリフ
ルオロメチル）フェニル］フルオロボレート、ビス（ｐ
−シアノフェニル）フェノキシスルホキソニウム−トリ
ス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］フ
ルオロボレート、ビス（ｐ−ジメチルアミノフェニル）
フェノキシスルホキソニウム−トリス［３，５−ビス
（トリフルオロメチル）フェニル］フルオロボレート、
ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）フェノキシスルホ
キソニウム−トリス［３，５−ビス（トリフルオロメチ
ル）フェニル］フルオロボレート、ビス（ｐ−モルホリ
ノフェニル）フェノキシスルホキソニウム−トリス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］フル
オロボレート、ビス（ｐ−クロロフェニル）フェノキシ
スルホキソニウム−トリス［３，５−ビス（トリフルオ
ロメチル）フェニル］フルオロボレート、ビス（ｐ−ヒ
ドロキシフェニル）フェノキシスルホキソニウム−トリ
ス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］フ
ルオロボレート、ビス（ｐ−ビフェニル）フェノキシス
ルホキソニウム−トリス［３，５−ビス（トリフルオロ
メチル）フェニル］フルオロボレート、ビス（ｐ−フェ
ノキシフェニル）フェノキシスルホキソニウム−トリス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］フル
オロボレート、ビス（ｐ−ベンジルフェニル）フェノキ
シスルホキソニウム−トリス［３，５−ビス（トリフル
オロメチル）フェニル］フルオロボレート、ビス（ｐ−
ベンジルオキシフェニル）フェノキシスルホキソニウム
−トリス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニ
ル］フルオロボレート、フェニル（２−ナフチル）フェ
ノキシスルホキソニウム−トリス［３，５−ビス（トリ
フルオロメチル）フェニル］フルオロボレート、フェニ
ル（９−アンスリル）フェノキシスルホキソニウム−ト
リス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］
フルオロボレート、ジフェニル（ｐ−メチルフェノキ
シ）スルホキソニウム−トリス［３，５−ビス（トリフ
ルオロメチル）フェニル］フルオロボレート、ジフェニ
ル（ｐ−メトキシフェノキシ）スルホキソニウム−トリ
ス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］フ
ルオロボレート、ジフェニル（ｐ−クロロフェノキシ）
スルホキソニウム−トリス［３，５−ビス（トリフルオ
ロメチル）フェニル］フルオロボレート、ジフェニル
（ｐ−ジメチルアミノフェノキシ）スルホキソニウム−
トリス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニ
ル］フルオロボレート、ジフェニル（ｐ−シアノフェノ
キシ）スルホキソニウム−トリス［３，５−ビス（トリ
フルオロメチル）フェニル］フルオロボレート、ジフェ
ニル（ｐ−ヒドロキシフェノキシ）スルホキソニウム−
トリス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニ
ル］フルオロボレート、ジフェニル（２−ナフチルオキ
シ）スルホキソニウム−トリス［３，５−ビス（トリフ
ルオロメチル）フェニル］フルオロボレート、ジフェニ
ル（９−アンスリルオキシ）スルホキソニウム−トリス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］フル
オロボレート、および以下に示す構造のものなど、
トリス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニ
ル］フルオロボレート、ビス（ｐ−トリル）フェノキシ
スルホキソニウム−トリス［３，５−ビス（トリフルオ
ロメチル）フェニル］フルオロボレート、ビス（ｐ−ト
リクロロメチルフェニル）フェノキシスルホキソニウム
−トリス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニ
ル］フルオロボレート、ビス（２，３−または２，４−
キシリル）フェノキシスルホキソニウム−トリス［３，
５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］フルオロボ
レート、ビス（ｐ−クメニル）フェノキシスルホキソニ
ウム−トリス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フ
ェニル］フルオロボレート、ビス（ｐ−アニシル）フェ
ノキシスルホキソニウム−トリス［３，５−ビス（トリ
フルオロメチル）フェニル］フルオロボレート、ビス
（２，４−ジメトキシフェニル）フェノキシスルホキソ
ニウム−トリス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）
フェニル］フルオロボレート、ビス（２，４，６−トリ
メトキシフェニル）フェノキシスルホキソニウム−トリ
ス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］フ
ルオロボレート、ビス（ｐ−ブトキシフェニル）フェノ
キシスルホキソニウム−トリス［３，５−ビス（トリフ
ルオロメチル）フェニル］フルオロボレート、ビス（ｐ
−シアノフェニル）フェノキシスルホキソニウム−トリ
ス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］フ
ルオロボレート、ビス（ｐ−ジメチルアミノフェニル）
フェノキシスルホキソニウム−トリス［３，５−ビス
（トリフルオロメチル）フェニル］フルオロボレート、
ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）フェノキシスルホ
キソニウム−トリス［３，５−ビス（トリフルオロメチ
ル）フェニル］フルオロボレート、ビス（ｐ−モルホリ
ノフェニル）フェノキシスルホキソニウム−トリス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］フル
オロボレート、ビス（ｐ−クロロフェニル）フェノキシ
スルホキソニウム−トリス［３，５−ビス（トリフルオ
ロメチル）フェニル］フルオロボレート、ビス（ｐ−ヒ
ドロキシフェニル）フェノキシスルホキソニウム−トリ
ス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］フ
ルオロボレート、ビス（ｐ−ビフェニル）フェノキシス
ルホキソニウム−トリス［３，５−ビス（トリフルオロ
メチル）フェニル］フルオロボレート、ビス（ｐ−フェ
ノキシフェニル）フェノキシスルホキソニウム−トリス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］フル
オロボレート、ビス（ｐ−ベンジルフェニル）フェノキ
シスルホキソニウム−トリス［３，５−ビス（トリフル
オロメチル）フェニル］フルオロボレート、ビス（ｐ−
ベンジルオキシフェニル）フェノキシスルホキソニウム
−トリス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニ
ル］フルオロボレート、フェニル（２−ナフチル）フェ
ノキシスルホキソニウム−トリス［３，５−ビス（トリ
フルオロメチル）フェニル］フルオロボレート、フェニ
ル（９−アンスリル）フェノキシスルホキソニウム−ト
リス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］
フルオロボレート、ジフェニル（ｐ−メチルフェノキ
シ）スルホキソニウム−トリス［３，５−ビス（トリフ
ルオロメチル）フェニル］フルオロボレート、ジフェニ
ル（ｐ−メトキシフェノキシ）スルホキソニウム−トリ
ス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］フ
ルオロボレート、ジフェニル（ｐ−クロロフェノキシ）
スルホキソニウム−トリス［３，５−ビス（トリフルオ
ロメチル）フェニル］フルオロボレート、ジフェニル
（ｐ−ジメチルアミノフェノキシ）スルホキソニウム−
トリス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニ
ル］フルオロボレート、ジフェニル（ｐ−シアノフェノ
キシ）スルホキソニウム−トリス［３，５−ビス（トリ
フルオロメチル）フェニル］フルオロボレート、ジフェ
ニル（ｐ−ヒドロキシフェノキシ）スルホキソニウム−
トリス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニ
ル］フルオロボレート、ジフェニル（２−ナフチルオキ
シ）スルホキソニウム−トリス［３，５−ビス（トリフ
ルオロメチル）フェニル］フルオロボレート、ジフェニ
ル（９−アンスリルオキシ）スルホキソニウム−トリス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］フル
オロボレート、および以下に示す構造のものなど、
【００４６】
【化２４】
【００４７】
【化２５】
【００４８】ジフェニルフェノキシスルホキソニウム−
トリス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）フルオロボ
レート、ビス（ｐ−トリル）フェノキシスルホキソニウ
ム−トリス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）フルオ
ロボレート、ビス（ｐ−トリクロロメチルフェニル）フ
ェノキシスルホキソニウム−トリス（ｐ−トリフルオロ
メチルフェニル）フルオロボレート、ビス（２，３−ま
たは２，４−キシリル）フェノキシスルホキソニウム−
トリス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）フルオロボ
レート、ビス（ｐ−クメニル）フェノキシスルホキソニ
ウム−トリス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）フル
オロボレート、ビス（ｐ−アニシル）フェノキシスルホ
キソニウム−トリス（ｐ−トリフルオロメチルフェニ
ル）フルオロボレート、ビス（２，４−ジメトキシフェ
ニル）フェノキシスルホキソニウム−トリス（ｐ−トリ
フルオロメチルフェニル）フルオロボレート、ビス
（２，４，６−トリメトキシフェニル）フェノキシスル
ホキソニウム−トリス（ｐ−トリフルオロメチルフェニ
ル）フルオロボレート、ビス（ｐ−ブトキシフェニル）
フェノキシスルホキソニウム−トリス（ｐ−トリフルオ
ロメチルフェニル）フルオロボレート、ビス（ｐ−シア
ノフェニル）フェノキシスルホキソニウム−トリス（ｐ
−トリフルオロメチルフェニル）フルオロボレート、ビ
ス（ｐ−ジメチルアミノフェニル）フェノキシスルホキ
ソニウム−トリス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）
フルオロボレート、ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニ
ル）フェノキシスルホキソニウム−トリス（ｐ−トリフ
ルオロメチルフェニル）フルオロボレート、ビス（ｐ−
モルホリノフェニル）フェノキシスルホキソニウム−ト
リス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）フルオロボレ
ート、ビス（ｐ−クロロフェニル）フェノキシスルホキ
ソニウム−トリス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）
フルオロボレート、ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）フ
ェノキシスルホキソニウム−トリス（ｐ−トリフルオロ
メチルフェニル）フルオロボレート、ビス（ｐ−ビフェ
ニル）フェノキシスルホキソニウム−トリス（ｐ−トリ
フルオロメチルフェニル）フルオロボレート、ビス（ｐ
−フェノキシフェニル）フェノキシスルホキソニウム−
トリス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）フルオロボ
レート、ビス（ｐ−ベンジルフェニル）フェノキシスル
ホキソニウム−トリス（ｐ−トリフルオロメチルフェニ
ル）フルオロボレート、ビス（ｐ−ベンジルオキシフェ
ニル）フェノキシスルホキソニウム−トリス（ｐ−トリ
フルオロメチルフェニル）フルオロボレート、フェニル
（２−ナフチル）フェノキシスルホキソニウム−トリス
（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）フルオロボレー
ト、フェニル（９−アンスリル）フェノキシスルホキソ
ニウム−トリス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）フ
ルオロボレート、ジフェニル（ｐ−メチルフェノキシ）
スルホキソニウム−トリス（ｐ−トリフルオロメチルフ
ェニル）フルオロボレート、ジフェニル（ｐ−メトキシ
フェノキシ）スルホキソニウム−トリス（ｐ−トリフル
オロメチルフェニル）フルオロボレート、ジフェニル
（ｐ−クロロフェノキシ）スルホキソニウム−トリス
（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）フルオロボレー
ト、ジフェニル（ｐ−ジメチルアミノフェノキシ）スル
ホキソニウム−トリス（ｐ−トリフルオロメチルフェニ
ル）フルオロボレート、ジフェニル（ｐ−シアノフェノ
キシ）スルホキソニウム−トリス（ｐ−トリフルオロメ
チルフェニル）フルオロボレート、ジフェニル（ｐ−ヒ
ドロキシフェノキシ）スルホキソニウム−トリス（ｐ−
トリフルオロメチルフェニル）フルオロボレート、ジフ
ェニル（２−ナフチルオキシ）スルホキソニウム−トリ
ス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）フルオロボレー
ト、ジフェニル（９−アンスリルオキシ）スルホキソニ
ウム−トリス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）フル
オロボレート、および以下に示す構造のものなど、
トリス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）フルオロボ
レート、ビス（ｐ−トリル）フェノキシスルホキソニウ
ム−トリス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）フルオ
ロボレート、ビス（ｐ−トリクロロメチルフェニル）フ
ェノキシスルホキソニウム−トリス（ｐ−トリフルオロ
メチルフェニル）フルオロボレート、ビス（２，３−ま
たは２，４−キシリル）フェノキシスルホキソニウム−
トリス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）フルオロボ
レート、ビス（ｐ−クメニル）フェノキシスルホキソニ
ウム−トリス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）フル
オロボレート、ビス（ｐ−アニシル）フェノキシスルホ
キソニウム−トリス（ｐ−トリフルオロメチルフェニ
ル）フルオロボレート、ビス（２，４−ジメトキシフェ
ニル）フェノキシスルホキソニウム−トリス（ｐ−トリ
フルオロメチルフェニル）フルオロボレート、ビス
（２，４，６−トリメトキシフェニル）フェノキシスル
ホキソニウム−トリス（ｐ−トリフルオロメチルフェニ
ル）フルオロボレート、ビス（ｐ−ブトキシフェニル）
フェノキシスルホキソニウム−トリス（ｐ−トリフルオ
ロメチルフェニル）フルオロボレート、ビス（ｐ−シア
ノフェニル）フェノキシスルホキソニウム−トリス（ｐ
−トリフルオロメチルフェニル）フルオロボレート、ビ
ス（ｐ−ジメチルアミノフェニル）フェノキシスルホキ
ソニウム−トリス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）
フルオロボレート、ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニ
ル）フェノキシスルホキソニウム−トリス（ｐ−トリフ
ルオロメチルフェニル）フルオロボレート、ビス（ｐ−
モルホリノフェニル）フェノキシスルホキソニウム−ト
リス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）フルオロボレ
ート、ビス（ｐ−クロロフェニル）フェノキシスルホキ
ソニウム−トリス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）
フルオロボレート、ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）フ
ェノキシスルホキソニウム−トリス（ｐ−トリフルオロ
メチルフェニル）フルオロボレート、ビス（ｐ−ビフェ
ニル）フェノキシスルホキソニウム−トリス（ｐ−トリ
フルオロメチルフェニル）フルオロボレート、ビス（ｐ
−フェノキシフェニル）フェノキシスルホキソニウム−
トリス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）フルオロボ
レート、ビス（ｐ−ベンジルフェニル）フェノキシスル
ホキソニウム−トリス（ｐ−トリフルオロメチルフェニ
ル）フルオロボレート、ビス（ｐ−ベンジルオキシフェ
ニル）フェノキシスルホキソニウム−トリス（ｐ−トリ
フルオロメチルフェニル）フルオロボレート、フェニル
（２−ナフチル）フェノキシスルホキソニウム−トリス
（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）フルオロボレー
ト、フェニル（９−アンスリル）フェノキシスルホキソ
ニウム−トリス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）フ
ルオロボレート、ジフェニル（ｐ−メチルフェノキシ）
スルホキソニウム−トリス（ｐ−トリフルオロメチルフ
ェニル）フルオロボレート、ジフェニル（ｐ−メトキシ
フェノキシ）スルホキソニウム−トリス（ｐ−トリフル
オロメチルフェニル）フルオロボレート、ジフェニル
（ｐ−クロロフェノキシ）スルホキソニウム−トリス
（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）フルオロボレー
ト、ジフェニル（ｐ−ジメチルアミノフェノキシ）スル
ホキソニウム−トリス（ｐ−トリフルオロメチルフェニ
ル）フルオロボレート、ジフェニル（ｐ−シアノフェノ
キシ）スルホキソニウム−トリス（ｐ−トリフルオロメ
チルフェニル）フルオロボレート、ジフェニル（ｐ−ヒ
ドロキシフェノキシ）スルホキソニウム−トリス（ｐ−
トリフルオロメチルフェニル）フルオロボレート、ジフ
ェニル（２−ナフチルオキシ）スルホキソニウム−トリ
ス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）フルオロボレー
ト、ジフェニル（９−アンスリルオキシ）スルホキソニ
ウム−トリス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）フル
オロボレート、および以下に示す構造のものなど、
【００４９】
【化２６】
【００５０】
【化２７】
【００５１】ジフェニルフェノキシスルホキソニウム−
テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス
（ｐ−トリル）フェノキシスルホキソニウム−テトラキ
ス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ｐ−ト
リクロロメチルフェニル）フェノキシスルホキソニウム
−テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビ
ス（２，３−または２，４−キシリル）フェノキシスル
ホキソニウム−テトラキス（ペンタフルオロフェニル）
ボレート、ビス（ｐ−クメニル）フェノキシスルホキソ
ニウム−テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレー
ト、ビス（ｐ−アニシル）フェノキシスルホキソニウム
−テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビ
ス（２，４−ジメトキシフェニル）フェノキシスルホキ
ソニウム−テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ
ート、ビス（２，４，６−トリメトキシフェニル）フェ
ノキシスルホキソニウム−テトラキス（ペンタフルオロ
フェニル）ボレート、ビス（ｐ−ブトキシフェニル）フ
ェノキシスルホキソニウム−テトラキス（ペンタフルオ
ロフェニル）ボレート、ビス（ｐ−シアノフェニル）フ
ェノキシスルホキソニウム−テトラキス（ペンタフルオ
ロフェニル）ボレート、ビス（ｐ−ジメチルアミノフェ
ニル）フェノキシスルホキソニウム−テトラキス（ペン
タフルオロフェニル）ボレート、ビス（ｐ−ジエチルア
ミノフェニル）フェノキシスルホキソニウム−テトラキ
ス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ｐ−モ
ルホリノフェニル）フェノキシスルホキソニウム−テト
ラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ｐ
−クロロフェニル）フェノキシスルホキソニウム−テト
ラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ｐ
−ヒドロキシフェニル）フェノキシスルホキソニウム−
テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス
（ｐ−ビフェニル）フェノキシスルホキソニウム−テト
ラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ｐ
−フェノキシフェニル）フェノキシスルホキソニウム−
テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス
（ｐ−ベンジルフェニル）フェノキシスルホキソニウム
−テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビ
ス（ｐ−ベンジルオキシフェニル）フェノキシスルホキ
ソニウム−テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ
ート、フェニル（２−ナフチル）フェノキシスルホキソ
ニウム−テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレー
ト、フェニル（９−アンスリル）フェノキシスルホキソ
ニウム−テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレー
ト、ジフェニル（ｐ−メチルフェノキシ）スルホキソニ
ウム−テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレー
ト、ジフェニル（ｐ−メトキシフェノキシ）スルホキソ
ニウム−テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレー
ト、ジフェニル（ｐ−クロロフェノキシ）スルホキソニ
ウム−テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレー
ト、ジフェニル（ｐ−ジメチルアミノフェノキシ）スル
ホキソニウム−テトラキス（ペンタフルオロフェニル）
ボレート、ジフェニル（ｐ−シアノフェノキシ）スルホ
キソニウム−テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボ
レート、ジフェニル（ｐ−ヒドロキシフェノキシ）スル
ホキソニウム−テトラキス（ペンタフルオロフェニル）
ボレート、ジフェニル（２−ナフチルオキシ）スルホキ
ソニウム−テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ
ート、ジフェニル（９−アンスリルオキシ）スルホキソ
ニウム−テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレー
ト、および以下に示す構造のものなど、
テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス
（ｐ−トリル）フェノキシスルホキソニウム−テトラキ
ス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ｐ−ト
リクロロメチルフェニル）フェノキシスルホキソニウム
−テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビ
ス（２，３−または２，４−キシリル）フェノキシスル
ホキソニウム−テトラキス（ペンタフルオロフェニル）
ボレート、ビス（ｐ−クメニル）フェノキシスルホキソ
ニウム−テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレー
ト、ビス（ｐ−アニシル）フェノキシスルホキソニウム
−テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビ
ス（２，４−ジメトキシフェニル）フェノキシスルホキ
ソニウム−テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ
ート、ビス（２，４，６−トリメトキシフェニル）フェ
ノキシスルホキソニウム−テトラキス（ペンタフルオロ
フェニル）ボレート、ビス（ｐ−ブトキシフェニル）フ
ェノキシスルホキソニウム−テトラキス（ペンタフルオ
ロフェニル）ボレート、ビス（ｐ−シアノフェニル）フ
ェノキシスルホキソニウム−テトラキス（ペンタフルオ
ロフェニル）ボレート、ビス（ｐ−ジメチルアミノフェ
ニル）フェノキシスルホキソニウム−テトラキス（ペン
タフルオロフェニル）ボレート、ビス（ｐ−ジエチルア
ミノフェニル）フェノキシスルホキソニウム−テトラキ
ス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ｐ−モ
ルホリノフェニル）フェノキシスルホキソニウム−テト
ラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ｐ
−クロロフェニル）フェノキシスルホキソニウム−テト
ラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ｐ
−ヒドロキシフェニル）フェノキシスルホキソニウム−
テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス
（ｐ−ビフェニル）フェノキシスルホキソニウム−テト
ラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ｐ
−フェノキシフェニル）フェノキシスルホキソニウム−
テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス
（ｐ−ベンジルフェニル）フェノキシスルホキソニウム
−テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビ
ス（ｐ−ベンジルオキシフェニル）フェノキシスルホキ
ソニウム−テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ
ート、フェニル（２−ナフチル）フェノキシスルホキソ
ニウム−テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレー
ト、フェニル（９−アンスリル）フェノキシスルホキソ
ニウム−テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレー
ト、ジフェニル（ｐ−メチルフェノキシ）スルホキソニ
ウム−テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレー
ト、ジフェニル（ｐ−メトキシフェノキシ）スルホキソ
ニウム−テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレー
ト、ジフェニル（ｐ−クロロフェノキシ）スルホキソニ
ウム−テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレー
ト、ジフェニル（ｐ−ジメチルアミノフェノキシ）スル
ホキソニウム−テトラキス（ペンタフルオロフェニル）
ボレート、ジフェニル（ｐ−シアノフェノキシ）スルホ
キソニウム−テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボ
レート、ジフェニル（ｐ−ヒドロキシフェノキシ）スル
ホキソニウム−テトラキス（ペンタフルオロフェニル）
ボレート、ジフェニル（２−ナフチルオキシ）スルホキ
ソニウム−テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ
ート、ジフェニル（９−アンスリルオキシ）スルホキソ
ニウム−テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレー
ト、および以下に示す構造のものなど、
【００５２】
【化２８】
【００５３】
【化２９】
【００５４】ジフェニルフェノキシスルホキソニウム−
テトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェ
ニル］ボレート、ビス（ｐ−トリル）フェノキシスルホ
キソニウム−テトラキス［３，５−ビス（トリフルオロ
メチル）フェニル］ボレート、ビス（ｐ−トリクロロメ
チルフェニル）フェノキシスルホキソニウム−テトラキ
ス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボ
レート、ビス（２，３−または２，４−キシリル）フェ
ノキシスルホキソニウム−テトラキス［３，５−ビス
（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート、ビス（ｐ
−クメニル）フェノキシスルホキソニウム−テトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ート、ビス（ｐ−アニシル）フェノキシスルホキソニウ
ム−テトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）
フェニル］ボレート、ビス（２，４−ジメトキシフェニ
ル）フェノキシスルホキソニウム−テトラキス［３，５
−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート、ビ
ス（２，４，６−トリメトキシフェニル）フェノキシス
ルホキソニウム−テトラキス［３，５−ビス（トリフル
オロメチル）フェニル］ボレート、ビス（ｐ−ブトキシ
フェニル）フェノキシスルホキソニウム−テトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ート、ビス（ｐ−シアノフェニル）フェノキシスルホキ
ソニウム−テトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメ
チル）フェニル］ボレート、ビス（ｐ−ジメチルアミノ
フェニル）フェノキシスルホキソニウム−テトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ート、ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）フェノキシ
スルホキソニウム−テトラキス［３，５−ビス（トリフ
ルオロメチル）フェニル］ボレート、ビス（ｐ−モルホ
リノフェニル）フェノキシスルホキソニウム−テトラキ
ス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボ
レート、ビス（ｐ−クロロフェニル）フェノキシスルホ
キソニウム−テトラキス［３，５−ビス（トリフルオロ
メチル）フェニル］ボレート、ビス（ｐ−ヒドロキシフ
ェニル）フェノキシスルホキソニウム−テトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ート、ビス（ｐ−ビフェニル）フェノキシスルホキソニ
ウム−テトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチ
ル）フェニル］ボレート、ビス（ｐ−フェノキシフェニ
ル）フェノキシスルホキソニウム−テトラキス［３，５
−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート、ビ
ス（ｐ−ベンジルフェニル）フェノキシスルホキソニウ
ム−テトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）
フェニル］ボレート、ビス（ｐ−ベンジルオキシフェニ
ル）フェノキシスルホキソニウム−テトラキス［３，５
−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート、フ
ェニル（２−ナフチル）フェノキシスルホキソニウム−
テトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェ
ニル］ボレート、フェニル（９−アンスリル）フェノキ
シスルホキソニウム−テトラキス［３，５−ビス（トリ
フルオロメチル）フェニル］ボレート、ジフェニル（ｐ
−メチルフェノキシ）スルホキソニウム−テトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ート、ジフェニル（ｐ−メトキシフェノキシ）スルホキ
ソニウム−テトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメ
チル）フェニル］ボレート、ジフェニル（ｐ−クロロフ
ェノキシ）スルホキソニウム−テトラキス［３，５−ビ
ス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート、ジフェ
ニル（ｐ−ジメチルアミノフェノキシ）スルホキソニウ
ム−テトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）
フェニル］ボレート、ジフェニル（ｐ−シアノフェノキ
シ）スルホキソニウム−テトラキス［３，５−ビス（ト
リフルオロメチル）フェニル］ボレート、ジフェニル
（ｐ−ヒドロキシフェノキシ）スルホキソニウム−テト
ラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニ
ル］ボレート、ジフェニル（２−ナフチルオキシ）スル
ホキソニウム−テトラキス［３，５−ビス（トリフルオ
ロメチル）フェニル］ボレート、ジフェニル（９−アン
スリルオキシ）スルホキソニウム−テトラキス［３，５
−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート、お
よび以下に示す構造のものなど、
テトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェ
ニル］ボレート、ビス（ｐ−トリル）フェノキシスルホ
キソニウム−テトラキス［３，５−ビス（トリフルオロ
メチル）フェニル］ボレート、ビス（ｐ−トリクロロメ
チルフェニル）フェノキシスルホキソニウム−テトラキ
ス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボ
レート、ビス（２，３−または２，４−キシリル）フェ
ノキシスルホキソニウム−テトラキス［３，５−ビス
（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート、ビス（ｐ
−クメニル）フェノキシスルホキソニウム−テトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ート、ビス（ｐ−アニシル）フェノキシスルホキソニウ
ム−テトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）
フェニル］ボレート、ビス（２，４−ジメトキシフェニ
ル）フェノキシスルホキソニウム−テトラキス［３，５
−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート、ビ
ス（２，４，６−トリメトキシフェニル）フェノキシス
ルホキソニウム−テトラキス［３，５−ビス（トリフル
オロメチル）フェニル］ボレート、ビス（ｐ−ブトキシ
フェニル）フェノキシスルホキソニウム−テトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ート、ビス（ｐ−シアノフェニル）フェノキシスルホキ
ソニウム−テトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメ
チル）フェニル］ボレート、ビス（ｐ−ジメチルアミノ
フェニル）フェノキシスルホキソニウム−テトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ート、ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）フェノキシ
スルホキソニウム−テトラキス［３，５−ビス（トリフ
ルオロメチル）フェニル］ボレート、ビス（ｐ−モルホ
リノフェニル）フェノキシスルホキソニウム−テトラキ
ス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボ
レート、ビス（ｐ−クロロフェニル）フェノキシスルホ
キソニウム−テトラキス［３，５−ビス（トリフルオロ
メチル）フェニル］ボレート、ビス（ｐ−ヒドロキシフ
ェニル）フェノキシスルホキソニウム−テトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ート、ビス（ｐ−ビフェニル）フェノキシスルホキソニ
ウム−テトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチ
ル）フェニル］ボレート、ビス（ｐ−フェノキシフェニ
ル）フェノキシスルホキソニウム−テトラキス［３，５
−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート、ビ
ス（ｐ−ベンジルフェニル）フェノキシスルホキソニウ
ム−テトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）
フェニル］ボレート、ビス（ｐ−ベンジルオキシフェニ
ル）フェノキシスルホキソニウム−テトラキス［３，５
−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート、フ
ェニル（２−ナフチル）フェノキシスルホキソニウム−
テトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェ
ニル］ボレート、フェニル（９−アンスリル）フェノキ
シスルホキソニウム−テトラキス［３，５−ビス（トリ
フルオロメチル）フェニル］ボレート、ジフェニル（ｐ
−メチルフェノキシ）スルホキソニウム−テトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ート、ジフェニル（ｐ−メトキシフェノキシ）スルホキ
ソニウム−テトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメ
チル）フェニル］ボレート、ジフェニル（ｐ−クロロフ
ェノキシ）スルホキソニウム−テトラキス［３，５−ビ
ス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート、ジフェ
ニル（ｐ−ジメチルアミノフェノキシ）スルホキソニウ
ム−テトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）
フェニル］ボレート、ジフェニル（ｐ−シアノフェノキ
シ）スルホキソニウム−テトラキス［３，５−ビス（ト
リフルオロメチル）フェニル］ボレート、ジフェニル
（ｐ−ヒドロキシフェノキシ）スルホキソニウム−テト
ラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニ
ル］ボレート、ジフェニル（２−ナフチルオキシ）スル
ホキソニウム−テトラキス［３，５−ビス（トリフルオ
ロメチル）フェニル］ボレート、ジフェニル（９−アン
スリルオキシ）スルホキソニウム−テトラキス［３，５
−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート、お
よび以下に示す構造のものなど、
【００５５】
【化３０】
【００５６】
【化３１】
【００５７】ジフェニルフェノキシスルホキソニウム−
テトラキス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ボレー
ト、ビス（ｐ−トリル）フェノキシスルホキソニウム−
テトラキス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ボレー
ト、ビス（ｐ−トリクロロメチルフェニル）フェノキシ
スルホキソニウム−テトラキス（ｐ−トリフルオロメチ
ルフェニル）ボレート、ビス（２，３−または２，４−
キシリル）フェノキシスルホキソニウム−テトラキス
（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ボレート、ビス
（ｐ−クメニル）フェノキシスルホキソニウム−テトラ
キス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ボレート、ビ
ス（ｐ−アニシル）フェノキシスルホキソニウム−テト
ラキス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ボレート、
ビス（２，４−ジメトキシフェニル）フェノキシスルホ
キソニウム−テトラキス（ｐ−トリフルオロメチルフェ
ニル）ボレート、ビス（２，４，６−トリメトキシフェ
ニル）フェノキシスルホキソニウム−テトラキス（ｐ−
トリフルオロメチルフェニル）ボレート、ビス（ｐ−ブ
トキシフェニル）フェノキシスルホキソニウム−テトラ
キス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ボレート、ビ
ス（ｐ−シアノフェニル）フェノキシスルホキソニウム
−テトラキス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ボレ
ート、ビス（ｐ−ジメチルアミノフェニル）フェノキシ
スルホキソニウム−テトラキス（ｐ−トリフルオロメチ
ルフェニル）ボレート、ビス（ｐ−ジエチルアミノフェ
ニル）フェノキシスルホキソニウム−テトラキス（ｐ−
トリフルオロメチルフェニル）ボレート、ビス（ｐ−モ
ルホリノフェニル）フェノキシスルホキソニウム−テト
ラキス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ボレート、
ビス（ｐ−クロロフェニル）フェノキシスルホキソニウ
ム−テトラキス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ボ
レート、ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）フェノキシス
ルホキソニウム−テトラキス（ｐ−トリフルオロメチル
フェニル）ボレート、ビス（ｐ−ビフェニル）フェノキ
シスルホキソニウム−テトラキス（ｐ−トリフルオロメ
チルフェニル）ボレート、ビス（ｐ−フェノキシフェニ
ル）フェノキシスルホキソニウム−テトラキス（ｐ−ト
リフルオロメチルフェニル）ボレート、ビス（ｐ−ベン
ジルフェニル）フェノキシスルホキソニウム−テトラキ
ス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ボレート、ビス
（ｐ−ベンジルオキシフェニル）フェノキシスルホキソ
ニウム−テトラキス（ｐ−トリフルオロメチルフェニ
ル）ボレート、フェニル（２−ナフチル）フェノキシス
ルホキソニウム−テトラキス（ｐ−トリフルオロメチル
フェニル）ボレート、フェニル（９−アンスリル）フェ
ノキシスルホキソニウム−テトラキス（ｐ−トリフルオ
ロメチルフェニル）ボレート、ジフェニル（ｐ−メチル
フェノキシ）スルホキソニウム−テトラキス（ｐ−トリ
フルオロメチルフェニル）ボレート、ジフェニル（ｐ−
メトキシフェノキシ）スルホキソニウム−テトラキス
（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ボレート、ジフェ
ニル（ｐ−クロロフェノキシ）スルホキソニウム−テト
ラキス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ボレート、
ジフェニル（ｐ−ジメチルアミノフェノキシ）スルホキ
ソニウム−テトラキス（ｐ−トリフルオロメチルフェニ
ル）ボレート、ジフェニル（ｐ−シアノフェノキシ）ス
ルホキソニウム−テトラキス（ｐ−トリフルオロメチル
フェニル）ボレート、ジフェニル（ｐ−ヒドロキシフェ
ノキシ）スルホキソニウム−テトラキス（ｐ−トリフル
オロメチルフェニル）ボレート、ジフェニル（２−ナフ
チルオキシ）スルホキソニウム−テトラキス（ｐ−トリ
フルオロメチルフェニル）ボレート、ジフェニル（９−
アンスリルオキシ）スルホキソニウム−テトラキス（ｐ
−トリフルオロメチルフェニル）ボレート、および以下
に示す構造のものなどを例示することができる。
テトラキス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ボレー
ト、ビス（ｐ−トリル）フェノキシスルホキソニウム−
テトラキス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ボレー
ト、ビス（ｐ−トリクロロメチルフェニル）フェノキシ
スルホキソニウム−テトラキス（ｐ−トリフルオロメチ
ルフェニル）ボレート、ビス（２，３−または２，４−
キシリル）フェノキシスルホキソニウム−テトラキス
（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ボレート、ビス
（ｐ−クメニル）フェノキシスルホキソニウム−テトラ
キス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ボレート、ビ
ス（ｐ−アニシル）フェノキシスルホキソニウム−テト
ラキス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ボレート、
ビス（２，４−ジメトキシフェニル）フェノキシスルホ
キソニウム−テトラキス（ｐ−トリフルオロメチルフェ
ニル）ボレート、ビス（２，４，６−トリメトキシフェ
ニル）フェノキシスルホキソニウム−テトラキス（ｐ−
トリフルオロメチルフェニル）ボレート、ビス（ｐ−ブ
トキシフェニル）フェノキシスルホキソニウム−テトラ
キス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ボレート、ビ
ス（ｐ−シアノフェニル）フェノキシスルホキソニウム
−テトラキス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ボレ
ート、ビス（ｐ−ジメチルアミノフェニル）フェノキシ
スルホキソニウム−テトラキス（ｐ−トリフルオロメチ
ルフェニル）ボレート、ビス（ｐ−ジエチルアミノフェ
ニル）フェノキシスルホキソニウム−テトラキス（ｐ−
トリフルオロメチルフェニル）ボレート、ビス（ｐ−モ
ルホリノフェニル）フェノキシスルホキソニウム−テト
ラキス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ボレート、
ビス（ｐ−クロロフェニル）フェノキシスルホキソニウ
ム−テトラキス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ボ
レート、ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）フェノキシス
ルホキソニウム−テトラキス（ｐ−トリフルオロメチル
フェニル）ボレート、ビス（ｐ−ビフェニル）フェノキ
シスルホキソニウム−テトラキス（ｐ−トリフルオロメ
チルフェニル）ボレート、ビス（ｐ−フェノキシフェニ
ル）フェノキシスルホキソニウム−テトラキス（ｐ−ト
リフルオロメチルフェニル）ボレート、ビス（ｐ−ベン
ジルフェニル）フェノキシスルホキソニウム−テトラキ
ス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ボレート、ビス
（ｐ−ベンジルオキシフェニル）フェノキシスルホキソ
ニウム−テトラキス（ｐ−トリフルオロメチルフェニ
ル）ボレート、フェニル（２−ナフチル）フェノキシス
ルホキソニウム−テトラキス（ｐ−トリフルオロメチル
フェニル）ボレート、フェニル（９−アンスリル）フェ
ノキシスルホキソニウム−テトラキス（ｐ−トリフルオ
ロメチルフェニル）ボレート、ジフェニル（ｐ−メチル
フェノキシ）スルホキソニウム−テトラキス（ｐ−トリ
フルオロメチルフェニル）ボレート、ジフェニル（ｐ−
メトキシフェノキシ）スルホキソニウム−テトラキス
（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ボレート、ジフェ
ニル（ｐ−クロロフェノキシ）スルホキソニウム−テト
ラキス（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ボレート、
ジフェニル（ｐ−ジメチルアミノフェノキシ）スルホキ
ソニウム−テトラキス（ｐ−トリフルオロメチルフェニ
ル）ボレート、ジフェニル（ｐ−シアノフェノキシ）ス
ルホキソニウム−テトラキス（ｐ−トリフルオロメチル
フェニル）ボレート、ジフェニル（ｐ−ヒドロキシフェ
ノキシ）スルホキソニウム−テトラキス（ｐ−トリフル
オロメチルフェニル）ボレート、ジフェニル（２−ナフ
チルオキシ）スルホキソニウム−テトラキス（ｐ−トリ
フルオロメチルフェニル）ボレート、ジフェニル（９−
アンスリルオキシ）スルホキソニウム−テトラキス（ｐ
−トリフルオロメチルフェニル）ボレート、および以下
に示す構造のものなどを例示することができる。
【００５８】
【化３２】
【００５９】
【化３３】
【００６０】代表的な化合物として、ＳＯＢ−１ないし
ＳＯＢ−１８を以下に示す。
ＳＯＢ−１８を以下に示す。
【００６１】
【化３４】
【００６２】
【化３５】
【００６３】
【化３６】
【００６４】本発明における感エネルギー線酸発生剤で
あるアリールオキシスルホキソニウムボレートは、以下
に示す増感剤（Ｂ）と組み合わせることによって、エネ
ルギー線に対する活性をさらに高め、極めて高感度な感
エネルギー線酸発生剤組成物とすることが可能である。
ここでいう増感剤（Ｂ）とは、エネルギー線の作用によ
って、アリールオキシスルホキソニウムボレートとの間
でエネルギーもしくは電子の授受をし、該スルホキソニ
ウムボレートの分解を促進をするものである。
あるアリールオキシスルホキソニウムボレートは、以下
に示す増感剤（Ｂ）と組み合わせることによって、エネ
ルギー線に対する活性をさらに高め、極めて高感度な感
エネルギー線酸発生剤組成物とすることが可能である。
ここでいう増感剤（Ｂ）とは、エネルギー線の作用によ
って、アリールオキシスルホキソニウムボレートとの間
でエネルギーもしくは電子の授受をし、該スルホキソニ
ウムボレートの分解を促進をするものである。
【００６５】このような増感剤（Ｂ）の具体例として
は、ナフタレン誘導体、アントラセン誘導体、フェナン
トレン誘導体、ピレン誘導体、ナフタセン誘導体、ペリ
レン誘導体、ペンタセン誘導体等の縮合多環芳香族誘導
体、アクリジン誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、カル
コン誘導体やジベンザルアセトン等に代表される不飽和
ケトン類、ベンジルやカンファーキノン等に代表される
１，２−ジケトン誘導体、ベンゾイン誘導体、フルオレ
ン誘導体、ナフトキノン誘導体、アントラキノン誘導
体、キサンテン誘導体、チオキサンテン誘導体、キサン
トン誘導体、チオキサントン誘導体、クマリン誘導体、
ケトクマリン誘導体、シアニン誘導体、メロシアニン誘
導体、オキソノール誘導体等のポリメチン色素、アクリ
ジン誘導体、アジン誘導体、チアジン誘導体、オキサジ
ン誘導体、インドリン誘導体、アズレン誘導体、アズレ
ニウム誘導体、スクアリリウム誘導体、ポルフィリン誘
導体、テトラフェニルポルフィリン誘導体、トリアリー
ルメタン誘導体、テトラベンゾポルフィリン誘導体、テ
トラピラジノポルフィラジン誘導体、フタロシアニン誘
導体、テトラアザポルフィラジン誘導体、テトラキノキ
サリロポルフィラジン誘導体、ナフタロシアニン誘導
体、サブフタロシアニン誘導体、ピリリウム誘導体、チ
オピリリウム誘導体、テトラフィリン誘導体、アヌレン
誘導体、スピロピラン誘導体、スピロオキサジン誘導
体、チオスピロピラン誘導体、金属アレーン錯体、有機
ルテニウム錯体等があげられ、その他さらに具体的には
大河原信ら編、「色素ハンドブック」（１９８６年、講
談社）、大河原信ら編、「機能性色素の化学」（１９８
１年、シーエムシー）、池森忠三朗ら編、「特殊機能材
料」（１９８６年、シーエムシー）に記載の色素および
増感剤があげられるがこれらに限定されるものではな
く、その他、紫外から近赤外域にかけての光に対して吸
収を示す色素や増感剤があげられ、これらは必要に応じ
て任意の比率で二種以上用いてもかまわない。
は、ナフタレン誘導体、アントラセン誘導体、フェナン
トレン誘導体、ピレン誘導体、ナフタセン誘導体、ペリ
レン誘導体、ペンタセン誘導体等の縮合多環芳香族誘導
体、アクリジン誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、カル
コン誘導体やジベンザルアセトン等に代表される不飽和
ケトン類、ベンジルやカンファーキノン等に代表される
１，２−ジケトン誘導体、ベンゾイン誘導体、フルオレ
ン誘導体、ナフトキノン誘導体、アントラキノン誘導
体、キサンテン誘導体、チオキサンテン誘導体、キサン
トン誘導体、チオキサントン誘導体、クマリン誘導体、
ケトクマリン誘導体、シアニン誘導体、メロシアニン誘
導体、オキソノール誘導体等のポリメチン色素、アクリ
ジン誘導体、アジン誘導体、チアジン誘導体、オキサジ
ン誘導体、インドリン誘導体、アズレン誘導体、アズレ
ニウム誘導体、スクアリリウム誘導体、ポルフィリン誘
導体、テトラフェニルポルフィリン誘導体、トリアリー
ルメタン誘導体、テトラベンゾポルフィリン誘導体、テ
トラピラジノポルフィラジン誘導体、フタロシアニン誘
導体、テトラアザポルフィラジン誘導体、テトラキノキ
サリロポルフィラジン誘導体、ナフタロシアニン誘導
体、サブフタロシアニン誘導体、ピリリウム誘導体、チ
オピリリウム誘導体、テトラフィリン誘導体、アヌレン
誘導体、スピロピラン誘導体、スピロオキサジン誘導
体、チオスピロピラン誘導体、金属アレーン錯体、有機
ルテニウム錯体等があげられ、その他さらに具体的には
大河原信ら編、「色素ハンドブック」（１９８６年、講
談社）、大河原信ら編、「機能性色素の化学」（１９８
１年、シーエムシー）、池森忠三朗ら編、「特殊機能材
料」（１９８６年、シーエムシー）に記載の色素および
増感剤があげられるがこれらに限定されるものではな
く、その他、紫外から近赤外域にかけての光に対して吸
収を示す色素や増感剤があげられ、これらは必要に応じ
て任意の比率で二種以上用いてもかまわない。
【００６６】これら、増感剤（Ｂ）の好ましいものとし
ては、ナフタレン誘導体、アントラセン誘導体、フェナ
ントレン誘導体、ピレン誘導体、ナフタセン誘導体、ペ
リレン誘導体、ペンタセン誘導体等の縮合多環芳香族誘
導体およびアクリジン誘導体、ベンゾチアゾール誘導体
があげられ、中でも特に好ましいものとして、アントラ
セン誘導体、アクリジン誘導体、ベンゾチアゾール誘導
体があげられる。
ては、ナフタレン誘導体、アントラセン誘導体、フェナ
ントレン誘導体、ピレン誘導体、ナフタセン誘導体、ペ
リレン誘導体、ペンタセン誘導体等の縮合多環芳香族誘
導体およびアクリジン誘導体、ベンゾチアゾール誘導体
があげられ、中でも特に好ましいものとして、アントラ
セン誘導体、アクリジン誘導体、ベンゾチアゾール誘導
体があげられる。
【００６７】これらの具体例としては、アントラセン、
１−アントラセンカルボン酸、２−アントラセンカルボ
ン酸、９−アントラセンカルボン酸、９−アントラアル
デヒド、９，１０−ビス（クロロメチル）アントラセ
ン、９，１０−ビス（フェニルエチニル）アントラセ
ン、９−ブロモアントラセン、１−クロロ−９，１０−
ビス（フェニルエチニル）アントラセン、９−クロロメ
チルアントラセン、９−シアノアントラセン、９，１０
−ジブロモアントラセン、９，１０−ジクロロアントラ
セン、９，１０−ジシアノアントラセン、９，１０−ジ
メチルアントラセン、９，１０−ジブチルアントラセ
ン、９，１０−ジフェニルアントラセン、９，１０−ジ
−ｐ−トリルアントラセン、９，１０−ビス（ｐ−メト
キシフェニル）アントラセン、２−ヒドロキシメチルア
ントラセン、９−ヒドロキシメチルアントラセン、９−
メチルアントラセン、９−フェニルアントラセン、９，
１０−ジメトキシアントラセン、９，１０−ジブトキシ
アントラセン、９，１０−ジフェノキシアントラセン、
９，１０−ジメトキシアントラセン−２−スルホン酸ナ
トリウム、１，４，９，１０−テトラヒドロキシアント
ラセン、２，２，２−トリフルオロー１−（９−アンス
リル）エタノール、１，８，９−トリヒドロキシアント
ラセン、１，８−ジメトキシ−９，１０−ビス（フェニ
ルエチニル）アントラセン、さらには、特開平３−２３
７１０６号公報記載の９−ビニルアントラセン、９−ア
ントラセンメタノール、９−アントラセンメタノールの
トリメチルシロキシエーテル等のアントラセン誘導体、
アクリジンオレンジ、ベンゾフラビン、アクリジンイエ
ロー、ホスフィンＲ等のアクリジン誘導体、セトフラビ
ンＴ等のベンゾチアゾール誘導体があげられる。
１−アントラセンカルボン酸、２−アントラセンカルボ
ン酸、９−アントラセンカルボン酸、９−アントラアル
デヒド、９，１０−ビス（クロロメチル）アントラセ
ン、９，１０−ビス（フェニルエチニル）アントラセ
ン、９−ブロモアントラセン、１−クロロ−９，１０−
ビス（フェニルエチニル）アントラセン、９−クロロメ
チルアントラセン、９−シアノアントラセン、９，１０
−ジブロモアントラセン、９，１０−ジクロロアントラ
セン、９，１０−ジシアノアントラセン、９，１０−ジ
メチルアントラセン、９，１０−ジブチルアントラセ
ン、９，１０−ジフェニルアントラセン、９，１０−ジ
−ｐ−トリルアントラセン、９，１０−ビス（ｐ−メト
キシフェニル）アントラセン、２−ヒドロキシメチルア
ントラセン、９−ヒドロキシメチルアントラセン、９−
メチルアントラセン、９−フェニルアントラセン、９，
１０−ジメトキシアントラセン、９，１０−ジブトキシ
アントラセン、９，１０−ジフェノキシアントラセン、
９，１０−ジメトキシアントラセン−２−スルホン酸ナ
トリウム、１，４，９，１０−テトラヒドロキシアント
ラセン、２，２，２−トリフルオロー１−（９−アンス
リル）エタノール、１，８，９−トリヒドロキシアント
ラセン、１，８−ジメトキシ−９，１０−ビス（フェニ
ルエチニル）アントラセン、さらには、特開平３−２３
７１０６号公報記載の９−ビニルアントラセン、９−ア
ントラセンメタノール、９−アントラセンメタノールの
トリメチルシロキシエーテル等のアントラセン誘導体、
アクリジンオレンジ、ベンゾフラビン、アクリジンイエ
ロー、ホスフィンＲ等のアクリジン誘導体、セトフラビ
ンＴ等のベンゾチアゾール誘導体があげられる。
【００６８】つぎに、本発明で使用される酸硬化性化合
物（Ｃ）について説明する。ここで、酸硬化性化合物
（Ｃ）とは、本明細書中における感エネルギー線酸発生
剤（Ａ）もしくは感エネルギー線酸発生剤組成物との共
存下、エネルギー線の作用によって、重合もしくは架橋
反応によって高分子量物質に変換可能な化合物を意味
し、以下に示す化合物またはそれらの混合物がこれに含
まれる。
物（Ｃ）について説明する。ここで、酸硬化性化合物
（Ｃ）とは、本明細書中における感エネルギー線酸発生
剤（Ａ）もしくは感エネルギー線酸発生剤組成物との共
存下、エネルギー線の作用によって、重合もしくは架橋
反応によって高分子量物質に変換可能な化合物を意味
し、以下に示す化合物またはそれらの混合物がこれに含
まれる。
【００６９】まず、酸触媒のもとで、あるいは加熱との
併用で、架橋または重合反応により高分子量化する化合
物が酸硬化性化合物（Ｃ）としてあげられる。典型的な
例として、ホルムアルデヒドプレカーサーとしてのメチ
ロール基、あるいは置換されたメチロール基を有する化
合物として、下記一般式（３）で表される構造の化合物
があげられる。 一般式（３） （ＲＯＣＨ2 ）n −Ａ−（ＣＨ2 ＯＲ’）m 〔上記一般式（３）中、Ａは、ＢまたはＢ−Ｘ−Ｂで示
される基であり、Ｂは置換もしくは非置換の単核もしく
は縮合多核芳香族炭化水素基、または酸素、硫黄、窒素
含有の複素環基を意味する。Ｘは単結合、または炭素数
１〜４の置換基を有してもよいアルキレン基、置換を有
しても良いアリーレン基、アリールアルキレン基、もし
くは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ2 −、−ＣＯ−、−ＣＯＯ
−、−ＯＣＯＯ−、−ＣＯＮＨ−、及びこれらの結合を
一部に有するような置換基を有しても良いアルキレン基
を意味する。またＺはフェノール樹脂のような重合体で
あってもよい〕 Ｒ、及びＲ’は、互いに独立して、水素、炭素数１〜４
のアルキル基、シクロアルキル基、置換基を有しても良
いアリール基、アリールアルキル基、またはアシル基を
意味する。ｎは１〜３の整数、ｍは０〜３の整数であ
る。
併用で、架橋または重合反応により高分子量化する化合
物が酸硬化性化合物（Ｃ）としてあげられる。典型的な
例として、ホルムアルデヒドプレカーサーとしてのメチ
ロール基、あるいは置換されたメチロール基を有する化
合物として、下記一般式（３）で表される構造の化合物
があげられる。 一般式（３） （ＲＯＣＨ2 ）n −Ａ−（ＣＨ2 ＯＲ’）m 〔上記一般式（３）中、Ａは、ＢまたはＢ−Ｘ−Ｂで示
される基であり、Ｂは置換もしくは非置換の単核もしく
は縮合多核芳香族炭化水素基、または酸素、硫黄、窒素
含有の複素環基を意味する。Ｘは単結合、または炭素数
１〜４の置換基を有してもよいアルキレン基、置換を有
しても良いアリーレン基、アリールアルキレン基、もし
くは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ2 −、−ＣＯ−、−ＣＯＯ
−、−ＯＣＯＯ−、−ＣＯＮＨ−、及びこれらの結合を
一部に有するような置換基を有しても良いアルキレン基
を意味する。またＺはフェノール樹脂のような重合体で
あってもよい〕 Ｒ、及びＲ’は、互いに独立して、水素、炭素数１〜４
のアルキル基、シクロアルキル基、置換基を有しても良
いアリール基、アリールアルキル基、またはアシル基を
意味する。ｎは１〜３の整数、ｍは０〜３の整数であ
る。
【００７０】ここで、一般式（３）のＢないしＸで表さ
れる、置換もしくは非置換の単核もしくは縮合多核芳香
族炭化水素基としては、ｏ−フェニレン基、ｍ−フェニ
レン基、ｐ−フェニレン基、４−メチル−１，２−フェ
ニレン基、４−クロロ−１，２−フェニレン基、４−ヒ
ドロキシ−１，２−フェニレン基、２−メチル−１，４
−フェニレン基、ｐ，ｐ’−ビフェニリレン基、１，２
−ナフチレン基、９，１０−アンスリレン基、２，７−
フェナンスリレン基等が、酸素、硫黄、窒素含有の複素
環基としては、２，５−フリレン基、２，５−チエニレ
ン基、２，４−オキサゾリレン基、２，４−チアゾリレ
ン基、２，５−ベンゾフリレン基、２，５−ベンゾチエ
ニレン基、２，６−ピリジレン基、５，８−キノリレン
基等が、炭素数１〜４の置換基を有してもよいアルキレ
ン基としては、メチレン基、エチレン基、トリメチレン
基、テトラメチレン基、プロピレン基、エチルメチレン
基、クロロメチレン基、ジメチルメチレン基、ビス（ト
リフルオロメチル）メチレン基等が、置換基を有しても
良いアリーレン基としては、ｏ−フェニレン基、ｍ−フ
ェニレン基、ｐ−フェニレン基、４−メチル−１，２−
フェニレン基、４−クロロ−１，２−フェニレン基、４
−ヒドロキシ−１，２−フェニレン基、２−メチル−
１，４−フェニレン基、ｐ，ｐ’−ビフェニリレン基、
１，２−ナフチレン基、９，１０−アンスリレン基、
２，７−フェナンスリレン基等が、アリールアルキレン
基としては、ベンジリデン基、ｐ−トリルメチレン基、
２−ナフチルメチレン基等が、さらに、もしくは−Ｏ
−、−Ｓ−、−ＳＯ2 −、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−Ｏ
ＣＯＯ−、−ＣＯＮＨ−結合を一部に有するような置換
基を有しても良いアルキレン基としては、メチレンジオ
キシ基、エチレンジオキシ基、プロピレンジオキシ基、
ジエチレンジオキシ基、トリエチレンジオキシ基、メチ
レンジチオ基、エチレンジチオ基、プロピレンジチオ
基、ジエチレンジチオ基、トリエチレンジチオ基、メチ
レンジスルホニル基、エチレンジスルホニル基、マロニ
ル基、スクシニル基、グルタリル基、アジポイル基、−
ＯＯＣ−ＣＨ2 −ＣＯＯ−基、−ＯＯＣ−（ＣＨ2 ）2
−ＣＯＯ−基、−ＣＨ2 −ＯＣＯＯ−ＣＨ2 −基、−Ｃ
Ｈ2 −（ＯＣＯＯ−ＣＨ2 ）2 −基等があげられる。
れる、置換もしくは非置換の単核もしくは縮合多核芳香
族炭化水素基としては、ｏ−フェニレン基、ｍ−フェニ
レン基、ｐ−フェニレン基、４−メチル−１，２−フェ
ニレン基、４−クロロ−１，２−フェニレン基、４−ヒ
ドロキシ−１，２−フェニレン基、２−メチル−１，４
−フェニレン基、ｐ，ｐ’−ビフェニリレン基、１，２
−ナフチレン基、９，１０−アンスリレン基、２，７−
フェナンスリレン基等が、酸素、硫黄、窒素含有の複素
環基としては、２，５−フリレン基、２，５−チエニレ
ン基、２，４−オキサゾリレン基、２，４−チアゾリレ
ン基、２，５−ベンゾフリレン基、２，５−ベンゾチエ
ニレン基、２，６−ピリジレン基、５，８−キノリレン
基等が、炭素数１〜４の置換基を有してもよいアルキレ
ン基としては、メチレン基、エチレン基、トリメチレン
基、テトラメチレン基、プロピレン基、エチルメチレン
基、クロロメチレン基、ジメチルメチレン基、ビス（ト
リフルオロメチル）メチレン基等が、置換基を有しても
良いアリーレン基としては、ｏ−フェニレン基、ｍ−フ
ェニレン基、ｐ−フェニレン基、４−メチル−１，２−
フェニレン基、４−クロロ−１，２−フェニレン基、４
−ヒドロキシ−１，２−フェニレン基、２−メチル−
１，４−フェニレン基、ｐ，ｐ’−ビフェニリレン基、
１，２−ナフチレン基、９，１０−アンスリレン基、
２，７−フェナンスリレン基等が、アリールアルキレン
基としては、ベンジリデン基、ｐ−トリルメチレン基、
２−ナフチルメチレン基等が、さらに、もしくは−Ｏ
−、−Ｓ−、−ＳＯ2 −、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−Ｏ
ＣＯＯ−、−ＣＯＮＨ−結合を一部に有するような置換
基を有しても良いアルキレン基としては、メチレンジオ
キシ基、エチレンジオキシ基、プロピレンジオキシ基、
ジエチレンジオキシ基、トリエチレンジオキシ基、メチ
レンジチオ基、エチレンジチオ基、プロピレンジチオ
基、ジエチレンジチオ基、トリエチレンジチオ基、メチ
レンジスルホニル基、エチレンジスルホニル基、マロニ
ル基、スクシニル基、グルタリル基、アジポイル基、−
ＯＯＣ−ＣＨ2 −ＣＯＯ−基、−ＯＯＣ−（ＣＨ2 ）2
−ＣＯＯ−基、−ＣＨ2 −ＯＣＯＯ−ＣＨ2 −基、−Ｃ
Ｈ2 −（ＯＣＯＯ−ＣＨ2 ）2 −基等があげられる。
【００７１】また、一般式（３）のＲおよびＲ’で表さ
れる炭素数１〜４のアルキル基としては、メチル基、エ
チル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソ
ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等
が、シクロアルキル基としては、シクロペンチル基、シ
クロヘキシル基等が、置換基を有しても良いアリール基
としては、フェニル基、ｐ−トリル基、キシリル基、メ
シチル基、クメニル基、ｐ−メトキシフェニル基、ビフ
ェニリル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナントリ
ル基、ｐ−シアノフェニル基、ｐ−ニトロフェニル基、
３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル基、ｐ−
フルオロフェニル基、ｐ−クロロフェニル基、ｐ−ジメ
チルアミノフェニル基、ｐ−フェニルチオフェニル基等
が、アリールアルキル基としては、ベンジル基、２−ナ
フチルメチル基、９−アンスリルメチル基、フェニチル
基、スチリル基、シンナミル基等が、アシル基として
は、アセチル基、ヘキサノイル基、ベンゾイル基、シク
ロヘキサノイル基、メトキサリル基、サリチロイル基等
があげられる。
れる炭素数１〜４のアルキル基としては、メチル基、エ
チル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソ
ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等
が、シクロアルキル基としては、シクロペンチル基、シ
クロヘキシル基等が、置換基を有しても良いアリール基
としては、フェニル基、ｐ−トリル基、キシリル基、メ
シチル基、クメニル基、ｐ−メトキシフェニル基、ビフ
ェニリル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナントリ
ル基、ｐ−シアノフェニル基、ｐ−ニトロフェニル基、
３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル基、ｐ−
フルオロフェニル基、ｐ−クロロフェニル基、ｐ−ジメ
チルアミノフェニル基、ｐ−フェニルチオフェニル基等
が、アリールアルキル基としては、ベンジル基、２−ナ
フチルメチル基、９−アンスリルメチル基、フェニチル
基、スチリル基、シンナミル基等が、アシル基として
は、アセチル基、ヘキサノイル基、ベンゾイル基、シク
ロヘキサノイル基、メトキサリル基、サリチロイル基等
があげられる。
【００７２】このような酸硬化性化合物（Ｃ）の具体例
としては、様々なアミノプラスト類またはフェノプラス
ト類、即ち尿素−ホルムアルデヒド、メラミン−ホルム
アルデヒド、ベンゾグアナミン−ホルムアルデヒド、グ
リコールウリル−ホルムアルデヒド樹脂やそれらの単量
体、もしくはオリゴマーがある。これらは、塗料用のベ
ヒクル等の用途に多くのものが市販されている。例え
ば、アメリカンサイアナミッド社が製造するＣｙｍｅｌ
（登録商標）３００、３０１、３０３、３５０、３７
０、３８０、１１１６、１１３０、１１２３、１１２
５、１１７０等、あるいは三和ケミカル社製ニカラック
（登録商標）Ｍｗ３０、Ｍｗ ３０Ｍ、Ｍｗ３０ＨＭ、
Ｍｘ４５、Ｂｘ４０００等のシリーズをその典型例とし
てあげることができる。これらは１種類でも２種以上を
組み合わせて用いてもよい。
としては、様々なアミノプラスト類またはフェノプラス
ト類、即ち尿素−ホルムアルデヒド、メラミン−ホルム
アルデヒド、ベンゾグアナミン−ホルムアルデヒド、グ
リコールウリル−ホルムアルデヒド樹脂やそれらの単量
体、もしくはオリゴマーがある。これらは、塗料用のベ
ヒクル等の用途に多くのものが市販されている。例え
ば、アメリカンサイアナミッド社が製造するＣｙｍｅｌ
（登録商標）３００、３０１、３０３、３５０、３７
０、３８０、１１１６、１１３０、１１２３、１１２
５、１１７０等、あるいは三和ケミカル社製ニカラック
（登録商標）Ｍｗ３０、Ｍｗ ３０Ｍ、Ｍｗ３０ＨＭ、
Ｍｘ４５、Ｂｘ４０００等のシリーズをその典型例とし
てあげることができる。これらは１種類でも２種以上を
組み合わせて用いてもよい。
【００７３】また、別の酸硬化性化合物（Ｃ）の具体例
としては、ホルムアルデヒドプレカーサーとなり得るよ
うなメチロール化またはアルコキシジメチル化されたフ
エノール誘導体がある。これらは単量体として用いて
も、レゾール樹脂、ベンジルエーテル樹脂のように樹脂
化されたものを用いてもよい。
としては、ホルムアルデヒドプレカーサーとなり得るよ
うなメチロール化またはアルコキシジメチル化されたフ
エノール誘導体がある。これらは単量体として用いて
も、レゾール樹脂、ベンジルエーテル樹脂のように樹脂
化されたものを用いてもよい。
【００７４】さらに、酸硬化性化合物（Ｃ）の別な系統
として、シラノール基を有する化合物、例えば特開平２
−１５４２６６号公報、同２−１７３６４７号公報に開
示されているような化合物をあげることができる。
として、シラノール基を有する化合物、例えば特開平２
−１５４２６６号公報、同２−１７３６４７号公報に開
示されているような化合物をあげることができる。
【００７５】また、ポリエンとポリチオールの混合物、
例えばポリエンとして、ジアリルフタレート、ジアリル
イソフタレート、ジアリルマレエート、ジアリルカーボ
ネート、トリアリルイソシアヌレート、ポリイソシアネ
ートとアリルアルコールから製造されるウレタン系ポリ
エン（例えばヘキサメチレンジイソシアネートとアリル
アルコールの重縮合反応によって得られるウレタン化合
物など）などから選択される化合物と、例えばポリチオ
ールとして、トリメチロールプロパントリチオールグリ
コレート、ペンタエリスリトール−テトラ−３−メルカ
プトプロピオネートなどから選択される化合物との混合
物も、酸硬化性化合物（Ｃ）として例示することができ
る。
例えばポリエンとして、ジアリルフタレート、ジアリル
イソフタレート、ジアリルマレエート、ジアリルカーボ
ネート、トリアリルイソシアヌレート、ポリイソシアネ
ートとアリルアルコールから製造されるウレタン系ポリ
エン（例えばヘキサメチレンジイソシアネートとアリル
アルコールの重縮合反応によって得られるウレタン化合
物など）などから選択される化合物と、例えばポリチオ
ールとして、トリメチロールプロパントリチオールグリ
コレート、ペンタエリスリトール−テトラ−３−メルカ
プトプロピオネートなどから選択される化合物との混合
物も、酸硬化性化合物（Ｃ）として例示することができ
る。
【００７６】また、以下に示すアルコキシシラン類も酸
硬化性化合物（Ｃ）としてあげることができる。具体例
としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラ
ン等のテトラアルコキシシラン類や、γ−クロロプロピ
ルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキ
シシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−
メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン等のア
ルコキシシリル基を有する化合物、さらに詳しくは、東
レ・ダウコーニング社製品カタログ、５９頁もしくは、
信越シリコーンシランカップリング剤製品カタログ（昭
和６２年９月発行）記載の「シランカップリング剤」、
あるいは東レ・ダウコーニング社製品カタログ、６１頁
もしくは、東芝シリコーン社総合カタログ、２７頁（１
９８６年４月発行）記載の「シラン化合物」として業界
で知られるアルコキシシリル基を有する化合物が、アル
コキシシラン類としてあげることができる。
硬化性化合物（Ｃ）としてあげることができる。具体例
としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラ
ン等のテトラアルコキシシラン類や、γ−クロロプロピ
ルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキ
シシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−
メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン等のア
ルコキシシリル基を有する化合物、さらに詳しくは、東
レ・ダウコーニング社製品カタログ、５９頁もしくは、
信越シリコーンシランカップリング剤製品カタログ（昭
和６２年９月発行）記載の「シランカップリング剤」、
あるいは東レ・ダウコーニング社製品カタログ、６１頁
もしくは、東芝シリコーン社総合カタログ、２７頁（１
９８６年４月発行）記載の「シラン化合物」として業界
で知られるアルコキシシリル基を有する化合物が、アル
コキシシラン類としてあげることができる。
【００７７】さらに、酸硬化性化合物（Ｃ）として、カ
チオン重合可能な化合物あるいはその混合物をあげるこ
とができる。ここでいうカチオン重合可能な化合物と
は、例えば、エポキシ化合物、スチレン類、ビニル化合
物、ビニルエーテル類、スピロオルソエステル類、ビシ
クロオルソエステル類、スピロオルソカーボナート類、
環状エーテル類、ラクトン類、オキサゾリン類、アジリ
ジン類、シクロシロキサン類、ケタール類、環状酸無水
物類、ラクタム類およびアリールジアルデヒド類などが
あげられる。
チオン重合可能な化合物あるいはその混合物をあげるこ
とができる。ここでいうカチオン重合可能な化合物と
は、例えば、エポキシ化合物、スチレン類、ビニル化合
物、ビニルエーテル類、スピロオルソエステル類、ビシ
クロオルソエステル類、スピロオルソカーボナート類、
環状エーテル類、ラクトン類、オキサゾリン類、アジリ
ジン類、シクロシロキサン類、ケタール類、環状酸無水
物類、ラクタム類およびアリールジアルデヒド類などが
あげられる。
【００７８】まず、エポキシ化合物としては、従来、公
知の芳香族エポキシ化合物、脂環式エポキシ化合物、脂
肪族エポキシ化合物、更にはエポキシド単量体、エピサ
ルファイト単量体類があげられる。芳香族エポキシ化合
物の例としては、フェニルグリシジルエーテルなどの単
官能エポキシ化合物や、少なくとも１個の芳香族核を有
する多価フェノールまたはそのアルキレンオキサイド付
加体のポリグリシジルエーテルであって、例えばビスフ
ェノールＡ、テトラブロモビスフェノールＡ、ビスフェ
ノールＦ、ビスフェノールＳ等のビスフェノール化合物
またはビスフェノール化合物のアルキレンオキサイド
（例えば、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイ
ド、ブチレンオキサイド等）付加体とエピクロルヒドリ
ンとの反応によって製造されるグリシジルエーテル類、
ノボラック型エポキシ樹脂類（例えば、フェノール・ノ
ボラック型エポキシ樹脂、クレゾール・ノボラック型エ
ポキシ樹脂、臭素化フェノールノボラック型エポキシ樹
脂等）、トリスフェノールメタントリグリシジルエーテ
ル等があげられる。
知の芳香族エポキシ化合物、脂環式エポキシ化合物、脂
肪族エポキシ化合物、更にはエポキシド単量体、エピサ
ルファイト単量体類があげられる。芳香族エポキシ化合
物の例としては、フェニルグリシジルエーテルなどの単
官能エポキシ化合物や、少なくとも１個の芳香族核を有
する多価フェノールまたはそのアルキレンオキサイド付
加体のポリグリシジルエーテルであって、例えばビスフ
ェノールＡ、テトラブロモビスフェノールＡ、ビスフェ
ノールＦ、ビスフェノールＳ等のビスフェノール化合物
またはビスフェノール化合物のアルキレンオキサイド
（例えば、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイ
ド、ブチレンオキサイド等）付加体とエピクロルヒドリ
ンとの反応によって製造されるグリシジルエーテル類、
ノボラック型エポキシ樹脂類（例えば、フェノール・ノ
ボラック型エポキシ樹脂、クレゾール・ノボラック型エ
ポキシ樹脂、臭素化フェノールノボラック型エポキシ樹
脂等）、トリスフェノールメタントリグリシジルエーテ
ル等があげられる。
【００７９】脂環式エポキシ化合物としては、４−ビニ
ルシクロヘキセンモノエポキサイド、ノルボルネンモノ
エポキサイド、リモネンモノエポキサイド、３，４−エ
ポキシシクロヘキシシルメチル−３，４−エポキシシク
ロヘキサンカルボキシレート、ビス−（３，４−エポキ
シシクロヘキシルメチル）アジペート、２−（３，４−
エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３，４−エ
ポキシ）シクロヘキサノン−メタ−ジオキサン、ビス
（２，３−エポキシシクロペンチル）エーテル、２−
（３，４−エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−
３，４−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサ
ン、２，２−ビス［４−（２，３−エポキシプロポキ
シ）シクロヘキシル］ヘキサフルオロプロパン、ＢＨＰ
Ｅ−３１５０（ダイセル化学工業（株）製、脂環式エポ
キシ樹脂（軟化点７１℃）等があげられる。
ルシクロヘキセンモノエポキサイド、ノルボルネンモノ
エポキサイド、リモネンモノエポキサイド、３，４−エ
ポキシシクロヘキシシルメチル−３，４−エポキシシク
ロヘキサンカルボキシレート、ビス−（３，４−エポキ
シシクロヘキシルメチル）アジペート、２−（３，４−
エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３，４−エ
ポキシ）シクロヘキサノン−メタ−ジオキサン、ビス
（２，３−エポキシシクロペンチル）エーテル、２−
（３，４−エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−
３，４−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサ
ン、２，２−ビス［４−（２，３−エポキシプロポキ
シ）シクロヘキシル］ヘキサフルオロプロパン、ＢＨＰ
Ｅ−３１５０（ダイセル化学工業（株）製、脂環式エポ
キシ樹脂（軟化点７１℃）等があげられる。
【００８０】脂肪族エポキシ化合物としては、例えば
１，４−ブタンジオールジクリシジルエーテル、１，６
−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、エチレング
リコールジグリシジルエーテル、エチレングリコールモ
ノグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシ
ジルエーテル、プロピレングリコールモノグリシジルエ
ーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテ
ル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオ
ペンチルグルコールジグリシジルエーテル、ネオペンチ
ルグルコールモノグリシジルエーテル、グリセロールジ
グリシジルエーテル、グルセロールトリグリシジルエー
テル、トリメチロールプロパンジグリシジルエーテル、
トリメチロールプロパンモノグリシジルエーテル、トリ
メチロールプロパントリグリシジルエーテル、ジグリセ
ロールトリグリシジルエーテル、ソルビトールテトラグ
リシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、２−エ
チルヘキシルグリシジルエーテル等があげられる。
１，４−ブタンジオールジクリシジルエーテル、１，６
−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、エチレング
リコールジグリシジルエーテル、エチレングリコールモ
ノグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシ
ジルエーテル、プロピレングリコールモノグリシジルエ
ーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテ
ル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオ
ペンチルグルコールジグリシジルエーテル、ネオペンチ
ルグルコールモノグリシジルエーテル、グリセロールジ
グリシジルエーテル、グルセロールトリグリシジルエー
テル、トリメチロールプロパンジグリシジルエーテル、
トリメチロールプロパンモノグリシジルエーテル、トリ
メチロールプロパントリグリシジルエーテル、ジグリセ
ロールトリグリシジルエーテル、ソルビトールテトラグ
リシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、２−エ
チルヘキシルグリシジルエーテル等があげられる。
【００８１】スチレン類としては、スチレン、α−メチ
ルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−クロロメチルス
チレン等があげられる。ビニル化合物としては、Ｎ−ビ
ニルカルバゾール、Ｎ−ビニルピロリドンなどがあげら
れる。
ルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−クロロメチルス
チレン等があげられる。ビニル化合物としては、Ｎ−ビ
ニルカルバゾール、Ｎ−ビニルピロリドンなどがあげら
れる。
【００８２】ビニルエーテル類としては、例えばｎ−
（またはｉｓｏ−、ｔ−）ブチルビニルエーテル、シク
ロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエ
ーテル、１，４ブタンジオールジビニルエーテル、エチ
レングリゴールジビニルエーテル、エチレングリコール
モノビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニル
エーテル、テトラエチレングリコールジビニルエーテ
ル、プロピレングリコールジビニルエーテル、プロピレ
ングリコールモノビニルエーテル、ネオペンチルグリコ
ールジビニルグリコール、ネオペンチルグリコールモノ
ビニルグリコール、グリセロールジビニルエーテル、グ
リセロールトリビニルエーテル、トリメチロールプロパ
ンモノビニルエーテル、トリメチロールプロパンジビニ
ルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテ
ル、ジグリセロールトリビニルエーテル、ソルビトール
テトラビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジ
ビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、ド
デシルビニルエーテル２，２−ビス（４−シクロヘキサ
ノール）プロパンジビニルエーテル、２，２−ビス（４
−シクロヘキサノール）トリフルオロプロパンジビニル
エーテルなどのアルキルビニルエーテル類、アリルビニ
ルエーテルなどのアルケニルビニルエーテル類、エチニ
ルビニルエーテル、１−メチル−２−プロペニルビニル
エーテルなどのアルキニルビニルエーテル類、４−ビニ
ルエーテルスチレン、ハイドロキノンジビニルエーテ
ル、フェニルビニルエーテル、ｐ−メトキシフェニルビ
ニルエーテル、ビスフェノールＡジビニルエーテル、テ
トラブロモビスフェノールＡジビニルエーテル、ビスフ
ェノールＦジビニルエーテル、フェノキシエチレンビニ
ルエーテル、ｐ−ブロモフェノキシエチレンビニルエー
テルなどのアリールビニルエーテル類、１，４−ベンゼ
ンジメタノールジビニルエーテル、Ｎ−ｍ−クロロフェ
ニルジエタノールアミンジビニルエーテル、ｍ−フェニ
レンビス（エチレングリコール）ジビニルエーテル等の
アラルキルジビニルエ一テル類、ウレタンポリビニルエ
ーテル（例えば、ＡＬＬＩＥＤ−ＳＩＧＮＡＬ社製、Ｖ
ＥＣｔｏｍｅｒ２０１０）等をあげることができる。
（またはｉｓｏ−、ｔ−）ブチルビニルエーテル、シク
ロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエ
ーテル、１，４ブタンジオールジビニルエーテル、エチ
レングリゴールジビニルエーテル、エチレングリコール
モノビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニル
エーテル、テトラエチレングリコールジビニルエーテ
ル、プロピレングリコールジビニルエーテル、プロピレ
ングリコールモノビニルエーテル、ネオペンチルグリコ
ールジビニルグリコール、ネオペンチルグリコールモノ
ビニルグリコール、グリセロールジビニルエーテル、グ
リセロールトリビニルエーテル、トリメチロールプロパ
ンモノビニルエーテル、トリメチロールプロパンジビニ
ルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテ
ル、ジグリセロールトリビニルエーテル、ソルビトール
テトラビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジ
ビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、ド
デシルビニルエーテル２，２−ビス（４−シクロヘキサ
ノール）プロパンジビニルエーテル、２，２−ビス（４
−シクロヘキサノール）トリフルオロプロパンジビニル
エーテルなどのアルキルビニルエーテル類、アリルビニ
ルエーテルなどのアルケニルビニルエーテル類、エチニ
ルビニルエーテル、１−メチル−２−プロペニルビニル
エーテルなどのアルキニルビニルエーテル類、４−ビニ
ルエーテルスチレン、ハイドロキノンジビニルエーテ
ル、フェニルビニルエーテル、ｐ−メトキシフェニルビ
ニルエーテル、ビスフェノールＡジビニルエーテル、テ
トラブロモビスフェノールＡジビニルエーテル、ビスフ
ェノールＦジビニルエーテル、フェノキシエチレンビニ
ルエーテル、ｐ−ブロモフェノキシエチレンビニルエー
テルなどのアリールビニルエーテル類、１，４−ベンゼ
ンジメタノールジビニルエーテル、Ｎ−ｍ−クロロフェ
ニルジエタノールアミンジビニルエーテル、ｍ−フェニ
レンビス（エチレングリコール）ジビニルエーテル等の
アラルキルジビニルエ一テル類、ウレタンポリビニルエ
ーテル（例えば、ＡＬＬＩＥＤ−ＳＩＧＮＡＬ社製、Ｖ
ＥＣｔｏｍｅｒ２０１０）等をあげることができる。
【００８３】スピロオルソエステル類としては、１，
４，６−トリオキサスピロ（４，４）ノナン、２−メチ
ル−１，４，６−トリオキサスピロ（４，４）ノナン、
１，４，６−トリオキサスピロ（４，５）デカンなど
が、ビシクロオルソエステル類としては、１−フェニル
−４−エチル−２，６，７−トリオキサビシクロ（２，
２，２）オクタン、１−エチル−４−ヒドロキシメチル
−２，６，７−トリオキサビシクロ（２，２，２）オク
タンなどが、スピロオルソカーボナート類としては、
１，５，７，１１−テトラオキサスピロ（５，５）ウン
デカン、３，９−ジベンジル−１，５，７，１１−テト
ラオキサスピロ（５、５）ウンデカンなどのような環状
エ一テル類があげられる。
４，６−トリオキサスピロ（４，４）ノナン、２−メチ
ル−１，４，６−トリオキサスピロ（４，４）ノナン、
１，４，６−トリオキサスピロ（４，５）デカンなど
が、ビシクロオルソエステル類としては、１−フェニル
−４−エチル−２，６，７−トリオキサビシクロ（２，
２，２）オクタン、１−エチル−４−ヒドロキシメチル
−２，６，７−トリオキサビシクロ（２，２，２）オク
タンなどが、スピロオルソカーボナート類としては、
１，５，７，１１−テトラオキサスピロ（５，５）ウン
デカン、３，９−ジベンジル−１，５，７，１１−テト
ラオキサスピロ（５、５）ウンデカンなどのような環状
エ一テル類があげられる。
【００８４】環状エーテル類としては、オキセタン、フ
ェニルオキセタンなどのオキセタン類、テトラヒドロフ
ラン、２−メチルテトラヒドロフランなどのテトラヒド
ロフラン類、テトラヒドロピラン、３−プロピルテトラ
ヒドロピランなどのテトラヒドロピラン類およびトリメ
チレンオキサイド、ｓ−トリオキサンなどがあげられ
る。ラクトン類としては、β−プロピオラクトン、γ−
ブチルラクトン、δ−カプロラクトン、δ−バレロラク
トンなどがあげられる。オキサゾリン類としては、オキ
サゾリン、２−フェニルオキサゾリン、２−デシルオキ
サゾリンなどがあげられる。
ェニルオキセタンなどのオキセタン類、テトラヒドロフ
ラン、２−メチルテトラヒドロフランなどのテトラヒド
ロフラン類、テトラヒドロピラン、３−プロピルテトラ
ヒドロピランなどのテトラヒドロピラン類およびトリメ
チレンオキサイド、ｓ−トリオキサンなどがあげられ
る。ラクトン類としては、β−プロピオラクトン、γ−
ブチルラクトン、δ−カプロラクトン、δ−バレロラク
トンなどがあげられる。オキサゾリン類としては、オキ
サゾリン、２−フェニルオキサゾリン、２−デシルオキ
サゾリンなどがあげられる。
【００８５】アジリジン類としては、アジリジン、Ｎ−
エチルアジリジンなどがあげられる。シクロシロキサン
類としては、ヘキサメチルトリシロキサン、オクタメチ
ルシクロテトラシロキサン、トリフェニルトリメチルシ
クロトリシロキサンなどがあげられる。ケタール類とし
ては、１，３−ジオキソラン、１，３−ジオキサン、
２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン、２−フェニル
−１，３−ジオキサン、２，２−ジオクチル−１，３−
ジオキソランなどがあげられる。環状酸無水物類として
は、無水フタル酸、無水マレイン酸、無水コハク酸など
が、ラクタム類としてはβ−プロピオラクタム、γ−ブ
チロラクタム、δ−カプロラクタムなどがあげられる。
またアリールジアルデヒド類としては１，２−ベンゼン
ジカルボキシアルデヒド、１，２−ナフタレンジアルデ
ヒドなどがあげられる。
エチルアジリジンなどがあげられる。シクロシロキサン
類としては、ヘキサメチルトリシロキサン、オクタメチ
ルシクロテトラシロキサン、トリフェニルトリメチルシ
クロトリシロキサンなどがあげられる。ケタール類とし
ては、１，３−ジオキソラン、１，３−ジオキサン、
２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン、２−フェニル
−１，３−ジオキサン、２，２−ジオクチル−１，３−
ジオキソランなどがあげられる。環状酸無水物類として
は、無水フタル酸、無水マレイン酸、無水コハク酸など
が、ラクタム類としてはβ−プロピオラクタム、γ−ブ
チロラクタム、δ−カプロラクタムなどがあげられる。
またアリールジアルデヒド類としては１，２−ベンゼン
ジカルボキシアルデヒド、１，２−ナフタレンジアルデ
ヒドなどがあげられる。
【００８６】さらに、本発明の硬化性組成物に、ラジカ
ル重合可能な化合物およびラジカル発生剤をさらに混合
して、酸／ラジカルハイブリッド型硬化性組成物として
使用することができる。ここでいう、ラジカル重合可能
な化合物とは、分子中にラジカル重合可能なエチレン性
不飽和結合を少なくとも一つ以上を有する化合物を指
し、モノマー、オリゴマー、ポリマー等の化学形態を持
つものである。このようなラジカル重合性化合物として
は、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、
クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等の不飽和カ
ルボン酸およびそれらの塩、エステル、ウレタン、アミ
ドや無水物、アクリロニトリル、スチレン、さらに種々
の不飽和ポリエステル、不飽和ポリエーテル、不飽和ポ
リアミド、不飽和ポリウレタン等のラジカル重合性化合
物があげられ、具体的には、２−エチルヘキシルアクリ
レート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、ブトキシ
エチルアクリレート、カルビトールアクリレート、シク
ロヘキシルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアク
リレート、ベンジルアクリレート、ビス（４−アクリロ
キシポリエトキシフェニル）プロパン、ネオペンチルグ
リコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ
アクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジ
エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリ
コールジアクリレート、テトラエチレングリコールジア
クリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、
ポリプロピレングリコールジアクリレート、ペンタエリ
スリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリ
アクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロー
ルメタンテトラアクリレート、オリゴエステルアクリレ
ート、Ｎ−メチロールアクリルアミド、ジアセトンアク
リルアミド、エポキシアクリレート等のアクリル酸誘導
体、メチルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレー
ト、２−エチルヘキシルメタクリレート、ラウリルメタ
クリレート、アリルメタクリレート、グリシジルメタク
リレート、ベンジルメタクリレート、ジメチルアミノメ
チルメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタ
クリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ト
リエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレン
グリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコー
ルジメタクリレート、トリメチロールエタントリメタク
リレート、トリメチロールプロパントリメタクリレー
ト、２，２−ビス（４−メタクリロキシポリエトキシフ
ェニル）プロパン等のメタクリル酸誘導体、その他、ア
リルグリシジルエーテル、ジアリルフタレート、トリア
リルトリメリテート等のアリル化合物の誘導体等があげ
られ、さらに具体的には、山下晋三ら編、「架橋剤ハン
ドブック」、（１９８１年、大成社）や加藤清視編、
「ＵＶ・ＥＢ硬化ハンドブック（原料編）」、（１９８
５年、高分子刊行会）、ラドテック研究会編、「ＵＶ・
ＥＢ硬化技術の応用と市場」、７９頁、（１９８９年、
シーエムシー）、赤松清編、「新・感光性樹脂の実際技
術」、（１９８７年、シーエムシー）、遠藤剛編、「熱
硬化性高分子の精密化」、（１９８６年、シーエムシ
ー）、滝山榮一郎著、「ポリエステル樹脂ハンドブッ
ク」、（１９８８年、日刊工業新聞社）に記載の市販品
もしくは業界で公知のラジカル重合性ないし架橋性のモ
ノマー、オリゴマー、ポリマーがあげられる。
ル重合可能な化合物およびラジカル発生剤をさらに混合
して、酸／ラジカルハイブリッド型硬化性組成物として
使用することができる。ここでいう、ラジカル重合可能
な化合物とは、分子中にラジカル重合可能なエチレン性
不飽和結合を少なくとも一つ以上を有する化合物を指
し、モノマー、オリゴマー、ポリマー等の化学形態を持
つものである。このようなラジカル重合性化合物として
は、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、
クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等の不飽和カ
ルボン酸およびそれらの塩、エステル、ウレタン、アミ
ドや無水物、アクリロニトリル、スチレン、さらに種々
の不飽和ポリエステル、不飽和ポリエーテル、不飽和ポ
リアミド、不飽和ポリウレタン等のラジカル重合性化合
物があげられ、具体的には、２−エチルヘキシルアクリ
レート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、ブトキシ
エチルアクリレート、カルビトールアクリレート、シク
ロヘキシルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアク
リレート、ベンジルアクリレート、ビス（４−アクリロ
キシポリエトキシフェニル）プロパン、ネオペンチルグ
リコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ
アクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジ
エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリ
コールジアクリレート、テトラエチレングリコールジア
クリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、
ポリプロピレングリコールジアクリレート、ペンタエリ
スリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリ
アクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロー
ルメタンテトラアクリレート、オリゴエステルアクリレ
ート、Ｎ−メチロールアクリルアミド、ジアセトンアク
リルアミド、エポキシアクリレート等のアクリル酸誘導
体、メチルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレー
ト、２−エチルヘキシルメタクリレート、ラウリルメタ
クリレート、アリルメタクリレート、グリシジルメタク
リレート、ベンジルメタクリレート、ジメチルアミノメ
チルメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタ
クリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ト
リエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレン
グリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコー
ルジメタクリレート、トリメチロールエタントリメタク
リレート、トリメチロールプロパントリメタクリレー
ト、２，２−ビス（４−メタクリロキシポリエトキシフ
ェニル）プロパン等のメタクリル酸誘導体、その他、ア
リルグリシジルエーテル、ジアリルフタレート、トリア
リルトリメリテート等のアリル化合物の誘導体等があげ
られ、さらに具体的には、山下晋三ら編、「架橋剤ハン
ドブック」、（１９８１年、大成社）や加藤清視編、
「ＵＶ・ＥＢ硬化ハンドブック（原料編）」、（１９８
５年、高分子刊行会）、ラドテック研究会編、「ＵＶ・
ＥＢ硬化技術の応用と市場」、７９頁、（１９８９年、
シーエムシー）、赤松清編、「新・感光性樹脂の実際技
術」、（１９８７年、シーエムシー）、遠藤剛編、「熱
硬化性高分子の精密化」、（１９８６年、シーエムシ
ー）、滝山榮一郎著、「ポリエステル樹脂ハンドブッ
ク」、（１９８８年、日刊工業新聞社）に記載の市販品
もしくは業界で公知のラジカル重合性ないし架橋性のモ
ノマー、オリゴマー、ポリマーがあげられる。
【００８７】また、ここでいうラジカル発生剤とは、特
開平５−２１３８６１号ならびに特開平５−２５５３４
７号記載のスルホニウム錯体やオキソスルホニウム錯
体、例えばジメチルフェナシルスルホニウムトリフェニ
ルブチルボレート、ジメチルフェナシルスルホキソニウ
ムトリフェニルブチルボレート、ジメチルベンジルスル
ホニウムトリフェニルブチルボレート、ジフェニルフェ
ナシルスルホニウムトリフェニルブチルボレートなど、
特公昭５９−１２８１号、特公昭６１−９６２１号なら
びに特開昭６０−６０１０４号記載のトリクロロメチル
基と発色団を有するトリアジン誘導体、例えば、２，６
−ビス（トリクロロメチル）−４−（４−メトキシナフ
チル）−１，３，５−トリアジン、２，６−ビス（トリ
クロロメチル）−４−（ｐ−メトキシスチリル）−１，
３，５−トリアジン、２，６−ビス（トリクロロメチ
ル）−４−（３，４，５−トリメトキシスチリル）−
１，３，５−トリアジンなど、特開昭５９−１５０４号
ならびに特開昭６１−２４３８０７号記載の有機過酸化
物、例えば３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルパ
ーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、アセトフェノン
系開始剤である４−フェノキシジクロロアセトフェノン
（Ｓａｎｄｏｚ，Ｓａｎｄｏｒａｙ１０００）、４−ｔ
−ブチル−ジクロロアセトフェノン（ＡＫＺＯ，Ｔｒｉ
ｇｏｎａｌ−Ｐ２）、４−ｔ−ブチル−トリクロロアセ
トフェノン（ＡＫＺＯ，Ｔｒｉｇｏｎａｌ−Ｐ１）、ジ
エトキシアセトフェノン（Ｕｐｊｏｈｎ，ＤＥＡＰ）、
２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−
１−オン（メルク，ダロキュアー１１７３）、１−（４
−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチ
ルプロパン−１−オン（メルク，ダロキュアー１１１
６）、１−（４−ドデシルフェニル）−２−ヒドロキシ
−２−メチルプロパン−１−オン（メルク，ダロキュア
ー９５３）、４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニ
ル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン（メル
ク，ダロキュアー２９５９）、１−ヒドロキシシクロヘ
キシルフェニルケトン（チバガイギー，イルガキュアー
１８４）、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェ
ニル〕−２−モルホリノプロパン−１（チバガイギー，
イルガキュアー９０７）など、ベンゾイン系開始剤であ
るベンゾイン（日本曹達，ニッソキュアーＢＯ）、ベン
ゾインメチルエーテル（日本曹達，ニッソキュアーＭＢ
Ｏ）、ベンゾインエチルエーテル（日本曹達，ニッソキ
ュアーＥＢＯ）、ベンゾインイソプロピルエーテル（日
本曹達，ニッソキュアーＩＢＰＯ）、ベンゾインイソブ
チルエーテル（黒金化成，ソルバスロンＢＩＢＥ）、ベ
ンジルジメチルケタール（チバガイギー，イルガキュア
ー６５１）など、ケトン系開始剤であるα−アシロキシ
ムエステル、メチルフェニルグリオキシレート、ベンジ
ル、９，１０−フェナンスレンキノン、カンファーキノ
ン、ジベンゾスベロン、２−エチルアントラキノン、
４’，４’’−ジエチルイソフタロフェノンなどが挙げ
られる。また、その他の開始剤として、イミダゾール系
開始剤である２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−
４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−イミ
ダゾール（Ｅｓｐｒｉｔ，ＢＣＩＭ）、カルバゾール系
開始剤であるＡ−キュアー（旭電化工業）、アシルホス
フィンオキサイド系開始剤である２，４，６−トリメチ
ルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイドなど、特
公昭４３−２３６８４号、特公昭４４−６４１３号、特
公昭４７−１６０４号ならびにＵＳＰ第３５６７４５３
号記載のジアゾニウム化合物、例えばベンゼンジアゾニ
ウムテトラフルオロボレートなど、ＵＳＰ第２８４８３
２８号、ＵＳＰ第２８５２３７９号ならびにＵＳＰ第２
９４０８５３号記載の有機アジド化合物、特公昭３６−
２２０６２号、特公昭３７−１３１０９号、特公昭３８
−１８０１５号ならびに特公昭４５−９６１０号記載の
オルト−キノンジアジド類、特公昭５５−３９１６２
号、特開昭５９−１４０２０３号ならびに「マクロモレ
キュルス（Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ）」、第１０
巻、第１３０７頁（１９７７年）記載のヨードニウム化
合物をはじめとする各種オニウム化合物、特開昭５９−
１４２２０５号記載のアゾ化合物、特開平１−５４４４
０号、ヨーロッパ特許第１０９８５１号、ヨーロッパ特
許第１２６７１２号、「ジャーナル・オブ・イメージン
グ・サイエンス（Ｊ．Ｉｍａｇ．Ｓｃｉ．）」、第３０
巻、第１７４頁（１９８６年）記載の金属アレン錯体、
例えばチバガイギー社製イルガキュアー２６１、特開昭
６１−１５１１９７号記載のチタノセン類、例えばチバ
ガイギー社製ＣＧＩ７８４、「コーディネーション・ケ
ミストリー・レビュー（Ｃｏｏｒｄｉｎａｔｉｏｎ Ｃ
ｈｅｍｉｓｔｒｙ Ｒｅｖｉｅｗ）」、第８４巻、第８
５〜第２７７頁（１９８８年）ならびに特開平２−１８
２７０１号記載のルテニウム等の遷移金属を含有する遷
移金属錯体、特開平３ー２０９４７７号記載のアルミナ
ート錯体、特開平２−１５７７６０号記載のホウ酸塩化
合物、特開昭５５−１２７５５０号ならびに特開昭６０
−２０２４３７号記載の２，４，５−トリアリールイミ
ダゾール二量体、四臭化炭素や特開昭５９−１０７３４
４号記載の有機ハロゲン化合物、山岡 亜夫、森田 浩
著、「感光性樹脂」、２６頁、共立出版（１９８８年）
に記載のスルホン酸エステル類等があげられ、これらの
ラジカル発生剤は、ラジカル重合可能な化合物１００重
量部に対して０．０１から２０重量部の範囲で含有され
るのが好ましい。
開平５−２１３８６１号ならびに特開平５−２５５３４
７号記載のスルホニウム錯体やオキソスルホニウム錯
体、例えばジメチルフェナシルスルホニウムトリフェニ
ルブチルボレート、ジメチルフェナシルスルホキソニウ
ムトリフェニルブチルボレート、ジメチルベンジルスル
ホニウムトリフェニルブチルボレート、ジフェニルフェ
ナシルスルホニウムトリフェニルブチルボレートなど、
特公昭５９−１２８１号、特公昭６１−９６２１号なら
びに特開昭６０−６０１０４号記載のトリクロロメチル
基と発色団を有するトリアジン誘導体、例えば、２，６
−ビス（トリクロロメチル）−４−（４−メトキシナフ
チル）−１，３，５−トリアジン、２，６−ビス（トリ
クロロメチル）−４−（ｐ−メトキシスチリル）−１，
３，５−トリアジン、２，６−ビス（トリクロロメチ
ル）−４−（３，４，５−トリメトキシスチリル）−
１，３，５−トリアジンなど、特開昭５９−１５０４号
ならびに特開昭６１−２４３８０７号記載の有機過酸化
物、例えば３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルパ
ーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、アセトフェノン
系開始剤である４−フェノキシジクロロアセトフェノン
（Ｓａｎｄｏｚ，Ｓａｎｄｏｒａｙ１０００）、４−ｔ
−ブチル−ジクロロアセトフェノン（ＡＫＺＯ，Ｔｒｉ
ｇｏｎａｌ−Ｐ２）、４−ｔ−ブチル−トリクロロアセ
トフェノン（ＡＫＺＯ，Ｔｒｉｇｏｎａｌ−Ｐ１）、ジ
エトキシアセトフェノン（Ｕｐｊｏｈｎ，ＤＥＡＰ）、
２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−
１−オン（メルク，ダロキュアー１１７３）、１−（４
−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチ
ルプロパン−１−オン（メルク，ダロキュアー１１１
６）、１−（４−ドデシルフェニル）−２−ヒドロキシ
−２−メチルプロパン−１−オン（メルク，ダロキュア
ー９５３）、４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニ
ル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン（メル
ク，ダロキュアー２９５９）、１−ヒドロキシシクロヘ
キシルフェニルケトン（チバガイギー，イルガキュアー
１８４）、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェ
ニル〕−２−モルホリノプロパン−１（チバガイギー，
イルガキュアー９０７）など、ベンゾイン系開始剤であ
るベンゾイン（日本曹達，ニッソキュアーＢＯ）、ベン
ゾインメチルエーテル（日本曹達，ニッソキュアーＭＢ
Ｏ）、ベンゾインエチルエーテル（日本曹達，ニッソキ
ュアーＥＢＯ）、ベンゾインイソプロピルエーテル（日
本曹達，ニッソキュアーＩＢＰＯ）、ベンゾインイソブ
チルエーテル（黒金化成，ソルバスロンＢＩＢＥ）、ベ
ンジルジメチルケタール（チバガイギー，イルガキュア
ー６５１）など、ケトン系開始剤であるα−アシロキシ
ムエステル、メチルフェニルグリオキシレート、ベンジ
ル、９，１０−フェナンスレンキノン、カンファーキノ
ン、ジベンゾスベロン、２−エチルアントラキノン、
４’，４’’−ジエチルイソフタロフェノンなどが挙げ
られる。また、その他の開始剤として、イミダゾール系
開始剤である２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−
４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−イミ
ダゾール（Ｅｓｐｒｉｔ，ＢＣＩＭ）、カルバゾール系
開始剤であるＡ−キュアー（旭電化工業）、アシルホス
フィンオキサイド系開始剤である２，４，６−トリメチ
ルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイドなど、特
公昭４３−２３６８４号、特公昭４４−６４１３号、特
公昭４７−１６０４号ならびにＵＳＰ第３５６７４５３
号記載のジアゾニウム化合物、例えばベンゼンジアゾニ
ウムテトラフルオロボレートなど、ＵＳＰ第２８４８３
２８号、ＵＳＰ第２８５２３７９号ならびにＵＳＰ第２
９４０８５３号記載の有機アジド化合物、特公昭３６−
２２０６２号、特公昭３７−１３１０９号、特公昭３８
−１８０１５号ならびに特公昭４５−９６１０号記載の
オルト−キノンジアジド類、特公昭５５−３９１６２
号、特開昭５９−１４０２０３号ならびに「マクロモレ
キュルス（Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ）」、第１０
巻、第１３０７頁（１９７７年）記載のヨードニウム化
合物をはじめとする各種オニウム化合物、特開昭５９−
１４２２０５号記載のアゾ化合物、特開平１−５４４４
０号、ヨーロッパ特許第１０９８５１号、ヨーロッパ特
許第１２６７１２号、「ジャーナル・オブ・イメージン
グ・サイエンス（Ｊ．Ｉｍａｇ．Ｓｃｉ．）」、第３０
巻、第１７４頁（１９８６年）記載の金属アレン錯体、
例えばチバガイギー社製イルガキュアー２６１、特開昭
６１−１５１１９７号記載のチタノセン類、例えばチバ
ガイギー社製ＣＧＩ７８４、「コーディネーション・ケ
ミストリー・レビュー（Ｃｏｏｒｄｉｎａｔｉｏｎ Ｃ
ｈｅｍｉｓｔｒｙ Ｒｅｖｉｅｗ）」、第８４巻、第８
５〜第２７７頁（１９８８年）ならびに特開平２−１８
２７０１号記載のルテニウム等の遷移金属を含有する遷
移金属錯体、特開平３ー２０９４７７号記載のアルミナ
ート錯体、特開平２−１５７７６０号記載のホウ酸塩化
合物、特開昭５５−１２７５５０号ならびに特開昭６０
−２０２４３７号記載の２，４，５−トリアリールイミ
ダゾール二量体、四臭化炭素や特開昭５９−１０７３４
４号記載の有機ハロゲン化合物、山岡 亜夫、森田 浩
著、「感光性樹脂」、２６頁、共立出版（１９８８年）
に記載のスルホン酸エステル類等があげられ、これらの
ラジカル発生剤は、ラジカル重合可能な化合物１００重
量部に対して０．０１から２０重量部の範囲で含有され
るのが好ましい。
【００８８】本発明の感エネルギー線酸発生剤（Ａ）
は、前記酸硬化性化合物（Ｃ）１００重量部に対して
０．０１から３０重量部、さらに好ましくは０．１から
２０重量部、最も好ましくは０．５から１０重量部の比
率で使用する。
は、前記酸硬化性化合物（Ｃ）１００重量部に対して
０．０１から３０重量部、さらに好ましくは０．１から
２０重量部、最も好ましくは０．５から１０重量部の比
率で使用する。
【００８９】本発明の硬化性組成物は有機高分子重合体
等のバインダーと混合し、ガラス板やアルミニウム板、
その他の金属板、ポリエチレンテレフタレート等のポリ
マーフィルムに塗布して使用することが可能である。
等のバインダーと混合し、ガラス板やアルミニウム板、
その他の金属板、ポリエチレンテレフタレート等のポリ
マーフィルムに塗布して使用することが可能である。
【００９０】本発明の硬化性組成物と混合して使用可能
なバインダーとしては、ポリアクリレート類、ポリ−α
−アルキルアクリレート類、ポリアミド類、ポリビニル
アセタール類、ポリホルムアルデヒド類、ポリウレタン
類、ポリカーボネート類、ポリスチレン類、ポリビニル
エステル類等の重合体、共重合体があげられ、さらに具
体的には、ポリメタクリレート、ポリメチルメタクリレ
ート、ポリエチルメタクリレート、ポリビニルカルバゾ
ール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルブチラール、
ポリビニルアセテート、ノボラック樹脂、フェノール樹
脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂その他、赤松清監
修、「新・感光性樹脂の実際技術」、（シーエムシー、
１９８７年）や「１０１８８の化学商品」、６５７〜７
６７頁（化学工業日報社、１９８８年）記載の業界公知
の有機高分子重合体があげられる。
なバインダーとしては、ポリアクリレート類、ポリ−α
−アルキルアクリレート類、ポリアミド類、ポリビニル
アセタール類、ポリホルムアルデヒド類、ポリウレタン
類、ポリカーボネート類、ポリスチレン類、ポリビニル
エステル類等の重合体、共重合体があげられ、さらに具
体的には、ポリメタクリレート、ポリメチルメタクリレ
ート、ポリエチルメタクリレート、ポリビニルカルバゾ
ール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルブチラール、
ポリビニルアセテート、ノボラック樹脂、フェノール樹
脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂その他、赤松清監
修、「新・感光性樹脂の実際技術」、（シーエムシー、
１９８７年）や「１０１８８の化学商品」、６５７〜７
６７頁（化学工業日報社、１９８８年）記載の業界公知
の有機高分子重合体があげられる。
【００９１】本発明の硬化性組成物はさらに目的に応じ
て、染料、有機および無機顔料、カブリ防止剤、退色防
止剤、ハレーション防止剤、蛍光増白剤、界面活性剤、
可塑剤、難燃剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、発泡剤、
防カビ剤、抗菌剤、帯電防止剤、磁性体や、希釈を目的
とした有機溶剤と混合して使用しても良い。
て、染料、有機および無機顔料、カブリ防止剤、退色防
止剤、ハレーション防止剤、蛍光増白剤、界面活性剤、
可塑剤、難燃剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、発泡剤、
防カビ剤、抗菌剤、帯電防止剤、磁性体や、希釈を目的
とした有機溶剤と混合して使用しても良い。
【００９２】本発明の硬化性組成物の重合方法として
は、エネルギー線の照射によって重合させることが可能
であるが、これに加えて、これらエネルギー線の照射と
同時、もしくはエネルギー線の照射後に、加熱やサーマ
ルヘッド等による熱エネルギーを加えることによって、
目的とする重合物や硬化物を得ることも可能である。
は、エネルギー線の照射によって重合させることが可能
であるが、これに加えて、これらエネルギー線の照射と
同時、もしくはエネルギー線の照射後に、加熱やサーマ
ルヘッド等による熱エネルギーを加えることによって、
目的とする重合物や硬化物を得ることも可能である。
【００９３】本発明の硬化性組成物を重合させる際のエ
ネルギー源としては、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水
銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ、カーボンアーク
灯、メタルハライドランプ、蛍光灯、タングステンラン
プ、エキシマーランプ、エキシマーレーザ、窒素レーザ
アルゴンイオンレーザ、ヘリウムカドミウムレーザ、ヘ
リウムネオンレーザ、クリプトンイオンレーザ、各種半
導体レーザ、ＹＡＧレーザ、発光ダイオード、ＣＲＴ光
源、プラズマ光源等の各種光源に代表される光エネルギ
ー源や、ＥＢ発生装置による電子線源があげられ、さら
に、加熱やサーマルヘッド等による熱エネルギーを併用
しても差し支えない。
ネルギー源としては、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水
銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ、カーボンアーク
灯、メタルハライドランプ、蛍光灯、タングステンラン
プ、エキシマーランプ、エキシマーレーザ、窒素レーザ
アルゴンイオンレーザ、ヘリウムカドミウムレーザ、ヘ
リウムネオンレーザ、クリプトンイオンレーザ、各種半
導体レーザ、ＹＡＧレーザ、発光ダイオード、ＣＲＴ光
源、プラズマ光源等の各種光源に代表される光エネルギ
ー源や、ＥＢ発生装置による電子線源があげられ、さら
に、加熱やサーマルヘッド等による熱エネルギーを併用
しても差し支えない。
【００９４】故に、バインダーおよびその他の添加剤と
ともに使用することにより、成型樹脂、注型樹脂、封止
剤、歯科用重合レジン、光造形樹脂、プリント基板用レ
ジスト、カラーフィルター用レジスト、マイクロエレク
トロニクス用レジスト、印刷版用感光性樹脂、感光性イ
ンキジェット、印刷インキ、印刷校正用カラープルー
フ、塗料、表面コート剤、接着剤、粘着剤、離型剤、ホ
ログラム記録材料等の各種材料に応用することが可能で
ある。
ともに使用することにより、成型樹脂、注型樹脂、封止
剤、歯科用重合レジン、光造形樹脂、プリント基板用レ
ジスト、カラーフィルター用レジスト、マイクロエレク
トロニクス用レジスト、印刷版用感光性樹脂、感光性イ
ンキジェット、印刷インキ、印刷校正用カラープルー
フ、塗料、表面コート剤、接着剤、粘着剤、離型剤、ホ
ログラム記録材料等の各種材料に応用することが可能で
ある。
【００９５】本発明の感エネルギー線酸発生剤（Ａ）
は、相当するアリールオキシスルホキソニウム塩と、ボ
レート化合物を原料として、所定の有機溶媒または水、
あるいは水と有機溶媒との混合溶媒中で反応させて合成
することが可能である。これら原料となるアリールオキ
シスルホニウム塩は、特開昭５６−８４２８号または
Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，（Ｃ），６８６頁（１９７０
年）に記載の方法によって、またボレート化合物は、ジ
ャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー（Ｊ．Ｏ
ｒｇ．Ｃｈｅｍ．）、第５７巻、５５４５頁（１９９２
年）あるいは、特開平６−１８４１７０号公報、国際特
許第９５／０３３３８号公報に記載の方法を参考にして
合成することができる。このようにして得られるはアリ
ールオキシスルホキソニウムボレート化合物は、元素分
析値によって、構成する元素の組成を決定でき、これに
よって同定することができる。
は、相当するアリールオキシスルホキソニウム塩と、ボ
レート化合物を原料として、所定の有機溶媒または水、
あるいは水と有機溶媒との混合溶媒中で反応させて合成
することが可能である。これら原料となるアリールオキ
シスルホニウム塩は、特開昭５６−８４２８号または
Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，（Ｃ），６８６頁（１９７０
年）に記載の方法によって、またボレート化合物は、ジ
ャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー（Ｊ．Ｏ
ｒｇ．Ｃｈｅｍ．）、第５７巻、５５４５頁（１９９２
年）あるいは、特開平６−１８４１７０号公報、国際特
許第９５／０３３３８号公報に記載の方法を参考にして
合成することができる。このようにして得られるはアリ
ールオキシスルホキソニウムボレート化合物は、元素分
析値によって、構成する元素の組成を決定でき、これに
よって同定することができる。
【００９６】
【作用】本発明の感エネルギー線酸発生剤（Ａ）である
アリールオキシスルホキソニウムボレート錯体は、エネ
ルギー線の照射によって、分子内でエネルギー移動また
は電子移動反応を起こし分解することにより、酸を発生
するものと考えられる。また、該アリールオキシスルホ
キソニウムボレート錯体と増感剤（Ｂ）を含んだ感エネ
ルギー線酸発生剤組成物とした場合には、エネルギー線
の照射によって、増感剤（Ｂ）とアリールオキシスルホ
キソニウムボレート錯体の間で、エネルギー移動もしく
は電子移動が起こり、該アリールオキシスルホキソニウ
ムボレート錯体が分解して、酸を発生するものと考えら
れる。この時、本発明で使用のアリールオキシスルホキ
ソニウムボレート錯体は、硫黄原子が酸素原子で置換さ
れた構造を有しているため、硫黄原子の電子受容性やエ
ネルギー受容性が高まり、その結果として感エネルギー
線に対する感受性が高まったものと考えられる。また分
解によって生じた硫黄化合物がスルホキシド化合物とな
るため、臭気が抑制されたものと推定される。したがっ
て、該アリールオキシスルホキソニウムボレート錯体が
分解し酸を発生する過程で、酸硬化性化合物（Ｃ）が共
存すると、発生した酸によって酸硬化性化合物（Ｃ）が
重合あるいは架橋反応を生じ、硬化物を与えたのと考え
られる。
アリールオキシスルホキソニウムボレート錯体は、エネ
ルギー線の照射によって、分子内でエネルギー移動また
は電子移動反応を起こし分解することにより、酸を発生
するものと考えられる。また、該アリールオキシスルホ
キソニウムボレート錯体と増感剤（Ｂ）を含んだ感エネ
ルギー線酸発生剤組成物とした場合には、エネルギー線
の照射によって、増感剤（Ｂ）とアリールオキシスルホ
キソニウムボレート錯体の間で、エネルギー移動もしく
は電子移動が起こり、該アリールオキシスルホキソニウ
ムボレート錯体が分解して、酸を発生するものと考えら
れる。この時、本発明で使用のアリールオキシスルホキ
ソニウムボレート錯体は、硫黄原子が酸素原子で置換さ
れた構造を有しているため、硫黄原子の電子受容性やエ
ネルギー受容性が高まり、その結果として感エネルギー
線に対する感受性が高まったものと考えられる。また分
解によって生じた硫黄化合物がスルホキシド化合物とな
るため、臭気が抑制されたものと推定される。したがっ
て、該アリールオキシスルホキソニウムボレート錯体が
分解し酸を発生する過程で、酸硬化性化合物（Ｃ）が共
存すると、発生した酸によって酸硬化性化合物（Ｃ）が
重合あるいは架橋反応を生じ、硬化物を与えたのと考え
られる。
【００９７】
【実施例】以下、実施例にて本発明を詳細にするが、本
発明は下記のみに限定されるものではない。尚、例中、
部は重量部を示す。まず、実施例に先だって、本発明の
感エネルギー線酸発生剤（Ａ）の合成例を示す。尚、Ｆ
Ｄ−ＭＳの測定値は、基準ピークを示す。また、これに
添えて記載した（ ）内は、各元素の原子量を、Ｃ＝１
２、Ｈ＝１、Ｏ＝１６、Ｓ＝３２、Ｉ＝１２７、Ｂ＝１
１、Ｆ＝１９として計算した場合のフラグメントを示
す。
発明は下記のみに限定されるものではない。尚、例中、
部は重量部を示す。まず、実施例に先だって、本発明の
感エネルギー線酸発生剤（Ａ）の合成例を示す。尚、Ｆ
Ｄ−ＭＳの測定値は、基準ピークを示す。また、これに
添えて記載した（ ）内は、各元素の原子量を、Ｃ＝１
２、Ｈ＝１、Ｏ＝１６、Ｓ＝３２、Ｉ＝１２７、Ｂ＝１
１、Ｆ＝１９として計算した場合のフラグメントを示
す。
【００９８】（合成例１） ジフェニルフェノキシスルホキソニウムテトラキス（ペ
ンタフルオロフェニル）ボレートの合成 ジフェニルフェノキシスルホキソニウムパークロレート
４．９部を、蒸留水中に溶解させ、ついでリチウムテト
ラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート６．８部を
加え、２５℃にて２時間攪拌し白色の反応物を得た。そ
の後、この反応物を水洗しながら濾別し、減圧乾燥する
ことによって白色のジフェニルフェノキシスルホキソニ
ウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートの
結晶を６．３部得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ＝２９５：Ｍ+ ＝ＳＯ（Ｃ6 Ｈ5 ）
2 （ＯＣ6 Ｈ5 ）+ ＬＤ−ＭＳ ｍ／ｚ＝６７８：Ｍ- ＝Ｂ（Ｃ6 Ｆ5 ）4
ー 分子式 Ｃ42Ｈ15Ｏ2 ＳＢＦ20 （分子量；９７３．０
５） 元素分析 理論値 Ｃ；５１．８０％、Ｈ；１．５５％ 測定値 Ｃ；５１．２８％、Ｈ；１．６３％
ンタフルオロフェニル）ボレートの合成 ジフェニルフェノキシスルホキソニウムパークロレート
４．９部を、蒸留水中に溶解させ、ついでリチウムテト
ラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート６．８部を
加え、２５℃にて２時間攪拌し白色の反応物を得た。そ
の後、この反応物を水洗しながら濾別し、減圧乾燥する
ことによって白色のジフェニルフェノキシスルホキソニ
ウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートの
結晶を６．３部得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ＝２９５：Ｍ+ ＝ＳＯ（Ｃ6 Ｈ5 ）
2 （ＯＣ6 Ｈ5 ）+ ＬＤ−ＭＳ ｍ／ｚ＝６７８：Ｍ- ＝Ｂ（Ｃ6 Ｆ5 ）4
ー 分子式 Ｃ42Ｈ15Ｏ2 ＳＢＦ20 （分子量；９７３．０
５） 元素分析 理論値 Ｃ；５１．８０％、Ｈ；１．５５％ 測定値 Ｃ；５１．２８％、Ｈ；１．６３％
【００９９】（合成例２） ジフェニルフェノキシスルホキソニウムテトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ートの合成 ジフェニルフェノキシスルホキソニウムパークロレート
４．９部を蒸留水中に溶解させ、ついでリチウムテトラ
キス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］
ボレート８．８部を加え、２５℃にて２時間攪拌し白色
の反応物を得た。その後、この反応物を水洗しながら濾
別し、減圧乾燥することによって白色のジフェニルフェ
ノキシスルホキソニウムテトラキス［３，５−ビス（ト
リフルオロメチル）フェニル］ボレートの結晶を８．１
部得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ＝２９５：Ｍ+ ＝ＳＯ（Ｃ6 Ｈ5 ）
2 （ＯＣ6 Ｈ5 ）+ ＬＤ−ＭＳ ｍ／ｚ＝８６２：Ｍ- ＝Ｂ〔Ｃ6 Ｈ3 （Ｃ
Ｆ3 ）2 〕4 ー 分子式 Ｃ50Ｈ27Ｏ2 ＳＢＦ24 （分子量；１１５７．
１４） 元素分析 理論値 Ｃ；５１．８５％、Ｈ；２．３５％ 測定値 Ｃ；５１．３３％、Ｈ；２．４７％
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ートの合成 ジフェニルフェノキシスルホキソニウムパークロレート
４．９部を蒸留水中に溶解させ、ついでリチウムテトラ
キス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］
ボレート８．８部を加え、２５℃にて２時間攪拌し白色
の反応物を得た。その後、この反応物を水洗しながら濾
別し、減圧乾燥することによって白色のジフェニルフェ
ノキシスルホキソニウムテトラキス［３，５−ビス（ト
リフルオロメチル）フェニル］ボレートの結晶を８．１
部得た。 ＦＤ−ＭＳ ｍ／ｚ＝２９５：Ｍ+ ＝ＳＯ（Ｃ6 Ｈ5 ）
2 （ＯＣ6 Ｈ5 ）+ ＬＤ−ＭＳ ｍ／ｚ＝８６２：Ｍ- ＝Ｂ〔Ｃ6 Ｈ3 （Ｃ
Ｆ3 ）2 〕4 ー 分子式 Ｃ50Ｈ27Ｏ2 ＳＢＦ24 （分子量；１１５７．
１４） 元素分析 理論値 Ｃ；５１．８５％、Ｈ；２．３５％ 測定値 Ｃ；５１．３３％、Ｈ；２．４７％
【０１００】同様な方法で、明細書中に記載の他の感エ
ネルギー線酸発生剤（Ａ）であるアリールオキシスルホ
キソニウムボレート錯体を合成した。
ネルギー線酸発生剤（Ａ）であるアリールオキシスルホ
キソニウムボレート錯体を合成した。
【０１０１】実施例１ 酸硬化性化合物（Ｃ）として、３，４−エポキシシクロ
ヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカル
ボキシレート（ユニオンカーバイド社製、製品名ＥＲＬ
−４２２１）１００部、感エネルギー線酸発生剤（Ａ）
としてＳＯＢ−１を３部からなる酸硬化性組成物を、バ
ーコーターを用いて約１０μｍの厚みにアルミ板上に塗
布し、東芝（株）製紫外線照射装置（メタルハライドラ
ンプ３ＫＷ２灯、１２０Ｗ／ｃｍ、照射距離１８０ｍ
ｍ）にて１０ｍ／ｍｉｎのコンベアスピードで照射した
ところタックフリーの硬化膜が得られた。
ヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカル
ボキシレート（ユニオンカーバイド社製、製品名ＥＲＬ
−４２２１）１００部、感エネルギー線酸発生剤（Ａ）
としてＳＯＢ−１を３部からなる酸硬化性組成物を、バ
ーコーターを用いて約１０μｍの厚みにアルミ板上に塗
布し、東芝（株）製紫外線照射装置（メタルハライドラ
ンプ３ＫＷ２灯、１２０Ｗ／ｃｍ、照射距離１８０ｍ
ｍ）にて１０ｍ／ｍｉｎのコンベアスピードで照射した
ところタックフリーの硬化膜が得られた。
【０１０２】実施例２ 実施例１における酸硬化性組成物に、９，１０−ジメチ
ルアントラセンを３部さらに混合した硬化性組成物を、
バーコーターを用いて約１０μｍの厚みにアルミ板上に
塗布し、東芝（株）製紫外線照射装置（メタルハライド
ランプ３ＫＷ２灯、１２０Ｗ／ｃｍ、照射距離１８０ｍ
ｍ）にて２０ｍ／ｍｉｎのコンベアスピードで照射した
ところタックフリーの硬化膜が得られた。
ルアントラセンを３部さらに混合した硬化性組成物を、
バーコーターを用いて約１０μｍの厚みにアルミ板上に
塗布し、東芝（株）製紫外線照射装置（メタルハライド
ランプ３ＫＷ２灯、１２０Ｗ／ｃｍ、照射距離１８０ｍ
ｍ）にて２０ｍ／ｍｉｎのコンベアスピードで照射した
ところタックフリーの硬化膜が得られた。
【０１０３】実施例３〜実施例１９ 感エネルギー線酸発生剤（Ａ）としてＳＯＢ−１を３部
のかわりに、ＳＯＢ−２〜ＳＯＢ−１８を用いて、実施
例１と同様の操作で実験をそれぞれ行ったところ、いず
れの場合も、タックフリーの硬化膜が得られた。
のかわりに、ＳＯＢ−２〜ＳＯＢ−１８を用いて、実施
例１と同様の操作で実験をそれぞれ行ったところ、いず
れの場合も、タックフリーの硬化膜が得られた。
【０１０４】実施例２０〜実施例３６ 実施例３〜実施例１９の各硬化性組成物に、９，１０−
ジメチルアントラセンをそれぞれに３部さらに混合した
硬化性組成物を、バーコーターを用いて約１０μｍの厚
みにアルミ板上に塗布し、東芝（株）製紫外線照射装置
（メタルハライドランプ３ＫＷ２灯、１２０Ｗ／ｃｍ、
照射距離１８０ｍｍ）にて２０ｍ／ｍｉｎのコンベアス
ピードで照射したところ全てタックフリーの硬化膜が得
られた。
ジメチルアントラセンをそれぞれに３部さらに混合した
硬化性組成物を、バーコーターを用いて約１０μｍの厚
みにアルミ板上に塗布し、東芝（株）製紫外線照射装置
（メタルハライドランプ３ＫＷ２灯、１２０Ｗ／ｃｍ、
照射距離１８０ｍｍ）にて２０ｍ／ｍｉｎのコンベアス
ピードで照射したところ全てタックフリーの硬化膜が得
られた。
【０１０５】比較例１ 実施例１におけるＳＯＢ−１の替わりに、ジフェニルフ
ェノキシスルホキソニムテトラフルオロボレートを３部
使用した他は実施例１と同様の操作を行ったところ、コ
ンベアースピード５ｍ／ｍｉｎにおいてもタックフリー
の硬化物は得られなかった。
ェノキシスルホキソニムテトラフルオロボレートを３部
使用した他は実施例１と同様の操作を行ったところ、コ
ンベアースピード５ｍ／ｍｉｎにおいてもタックフリー
の硬化物は得られなかった。
【０１０６】比較例２ 実施例１におけるＳＯＢ−１の替わりに、ジフェニルフ
ェノキシスルホキソニムヘキサフルオロホスフェートを
３部使用した他は実施例１と同様の操作を行ったとこ
ろ、コンベアースピード５ｍ／ｍｉｎにおいてはタック
フリーの硬化物は得られたが、コンベアースピード１０
ｍ／ｍｉｎにおいてはタックフリーの硬化物は得られな
かった。
ェノキシスルホキソニムヘキサフルオロホスフェートを
３部使用した他は実施例１と同様の操作を行ったとこ
ろ、コンベアースピード５ｍ／ｍｉｎにおいてはタック
フリーの硬化物は得られたが、コンベアースピード１０
ｍ／ｍｉｎにおいてはタックフリーの硬化物は得られな
かった。
【０１０７】比較例３ 実施例２におけるＳＯＢ−１の替わりに、ジフェニルフ
ェノキシスルホキソニムヘキサフルオロホスフェートを
３部使用した他は実施例２と同様の操作を行ったとこ
ろ、コンベアースピード５ｍ／ｍｉｎにおいてもタック
フリーの硬化物は得られなかった。
ェノキシスルホキソニムヘキサフルオロホスフェートを
３部使用した他は実施例２と同様の操作を行ったとこ
ろ、コンベアースピード５ｍ／ｍｉｎにおいてもタック
フリーの硬化物は得られなかった。
【０１０８】実施例３７ 希釈溶剤としてメチルエチルケトン９０部、バインダー
としてポリメチルメタクリレート５部、酸硬化性化合物
（Ｃ）としてＥＲＬ−４２２１を５部、感エネルギー線
酸発生剤（Ａ）としてＳＯＢ−１を０．２５部からなる
感光液を、スピンコーターにて約１．５μｍの厚さにガ
ラス板上に塗布し、オーブン中６０℃で１０分間で乾燥
せしめ感光板とした。この感光板をスリット（幅１ｍ
ｍ）を介して５００Ｗのキセノンランプ（ウシオ電機社
製）を用いて５秒間照射し、１００℃で１０分ポストベ
ークを行った後、室温下でトルエンを用いて３０秒間現
像したところ、幅１ｍｍの硬化残存膜を得た。
としてポリメチルメタクリレート５部、酸硬化性化合物
（Ｃ）としてＥＲＬ−４２２１を５部、感エネルギー線
酸発生剤（Ａ）としてＳＯＢ−１を０．２５部からなる
感光液を、スピンコーターにて約１．５μｍの厚さにガ
ラス板上に塗布し、オーブン中６０℃で１０分間で乾燥
せしめ感光板とした。この感光板をスリット（幅１ｍ
ｍ）を介して５００Ｗのキセノンランプ（ウシオ電機社
製）を用いて５秒間照射し、１００℃で１０分ポストベ
ークを行った後、室温下でトルエンを用いて３０秒間現
像したところ、幅１ｍｍの硬化残存膜を得た。
【０１０９】実施例３８〜実施例５７ 実施例３７におけるＥＲＬ−４２２１の替わりに、表１
に示す酸硬化性化合物をそれぞれ５部用いた他は、実施
例３７と同様の操作を行ったところ、それぞれ５秒間の
照射で硬化残膜を得た。
に示す酸硬化性化合物をそれぞれ５部用いた他は、実施
例３７と同様の操作を行ったところ、それぞれ５秒間の
照射で硬化残膜を得た。
【０１１０】
【表１】
【０１１１】実施例５８〜実施例６０ 実施例３７において、さらに増感剤（Ｂ）として表２に
示す化合物をそれぞれ０．２部加えた他は、実施例３７
と同様の操作を行ったところ、２秒間の照射で硬化残膜
を得た。
示す化合物をそれぞれ０．２部加えた他は、実施例３７
と同様の操作を行ったところ、２秒間の照射で硬化残膜
を得た。
【０１１２】
【表２】
【０１１３】実施例６１ 実施例１において、ラジカル重合可能な化合物としてペ
ンタエリスリトートトリアクリレートを１００部、ラジ
カル発生剤としてジメチルフェナシルスルホニウムトリ
フェニルブチルボレート（ＤＭＰＳＴＰＢＢ）を３部混
合した硬化性組成物を、バーコーターを用いて約１０μ
ｍの厚みにアルミ板上に塗布し、東芝（株）製紫外線照
射装置（メタルハライドランプ３ＫＷ２灯、１２０Ｗ／
ｃｍ、照射距離１８０ｍｍ）にて２５ｍ／ｍｉｎのコン
ベアスピードで照射したところタックフリーの硬化膜が
得られた。
ンタエリスリトートトリアクリレートを１００部、ラジ
カル発生剤としてジメチルフェナシルスルホニウムトリ
フェニルブチルボレート（ＤＭＰＳＴＰＢＢ）を３部混
合した硬化性組成物を、バーコーターを用いて約１０μ
ｍの厚みにアルミ板上に塗布し、東芝（株）製紫外線照
射装置（メタルハライドランプ３ＫＷ２灯、１２０Ｗ／
ｃｍ、照射距離１８０ｍｍ）にて２５ｍ／ｍｉｎのコン
ベアスピードで照射したところタックフリーの硬化膜が
得られた。
【０１１４】実施例６２ 実施例６１におけるラジカル発生剤としてのＤＭＰＳＴ
ＰＢＢの替わりに、２，４，６−トリメチルベンゾイル
ジフェニルホスフィンオキサイド（ＴＭＤＰＯ）を３部
使用した他は、実施例７３と同様の操作を行ったとこ
ろ、２５ｍ／ｍｉｎのコンベアスピードでタックフリー
の硬化膜が得られた。
ＰＢＢの替わりに、２，４，６−トリメチルベンゾイル
ジフェニルホスフィンオキサイド（ＴＭＤＰＯ）を３部
使用した他は、実施例７３と同様の操作を行ったとこ
ろ、２５ｍ／ｍｉｎのコンベアスピードでタックフリー
の硬化膜が得られた。
【０１１５】比較例４ ラジカル重合可能な化合物としてペンタエリスリトール
トリアクリレートを１００部、ラジカル発生剤としてＤ
ＭＰＳＴＰＢＢを３部混合した硬化性組成物を、バーコ
ーターを用いて約１０μｍの厚みにアルミ板上に塗布
し、東芝（株）製紫外線照射装置（メタルハライドラン
プ３ＫＷ２灯、１２０Ｗ／ｃｍ、照射距離１８０ｍｍ）
にて１５ｍ／ｍｉｎのコンベアスピードで照射したとこ
ろ、内部硬化はしているものの、表面はタックが残存し
た状態の硬化膜が得られた。
トリアクリレートを１００部、ラジカル発生剤としてＤ
ＭＰＳＴＰＢＢを３部混合した硬化性組成物を、バーコ
ーターを用いて約１０μｍの厚みにアルミ板上に塗布
し、東芝（株）製紫外線照射装置（メタルハライドラン
プ３ＫＷ２灯、１２０Ｗ／ｃｍ、照射距離１８０ｍｍ）
にて１５ｍ／ｍｉｎのコンベアスピードで照射したとこ
ろ、内部硬化はしているものの、表面はタックが残存し
た状態の硬化膜が得られた。
【０１１６】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
感エネルギー線酸発生剤（Ａ）である一般式（１）また
は一般式（２）で表されるアリールオキシスルホキソニ
ウムボレート錯体が提供され、該アリールオキシスルホ
キソニウムボレート錯体を用いた硬化性組成物はエネル
ギー線の付与により重合、硬化することが可能である。
したがって、本発明の硬化性組成物は、成型樹脂、注型
樹脂、封止剤、歯科用重合レジン、光造形樹脂、プリン
ト基板用レジスト、カラーフィルター用レジスト、マイ
クロエレクトロニクス用レジスト、印刷版用感光性樹
脂、感光性インキジェット、印刷（オフセット、グラビ
ア、シルクスクリーン）用インキ、印刷校正用カラープ
ルーフ、塗料、表面コート剤、接着剤、粘着剤、離型
剤、ホログラム記録材料等の各種材料に好適に用いられ
る。
感エネルギー線酸発生剤（Ａ）である一般式（１）また
は一般式（２）で表されるアリールオキシスルホキソニ
ウムボレート錯体が提供され、該アリールオキシスルホ
キソニウムボレート錯体を用いた硬化性組成物はエネル
ギー線の付与により重合、硬化することが可能である。
したがって、本発明の硬化性組成物は、成型樹脂、注型
樹脂、封止剤、歯科用重合レジン、光造形樹脂、プリン
ト基板用レジスト、カラーフィルター用レジスト、マイ
クロエレクトロニクス用レジスト、印刷版用感光性樹
脂、感光性インキジェット、印刷（オフセット、グラビ
ア、シルクスクリーン）用インキ、印刷校正用カラープ
ルーフ、塗料、表面コート剤、接着剤、粘着剤、離型
剤、ホログラム記録材料等の各種材料に好適に用いられ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０８Ｇ 63/84 ＮＬＹ Ｃ０８Ｇ 63/84 ＮＬＹ 65/10 ＮＱＥ 65/10 ＮＱＥ 69/16 ＮＲＴ 69/16 ＮＲＴ 73/00 ＮＴＭ 73/00 ＮＴＭ 77/08 ＮＵＤ 77/08 ＮＵＤ // Ｃ０７Ｆ 5/02 7457−4Ｈ Ｃ０７Ｆ 5/02 Ｄ Ｃ０８Ｆ 2/48 ＭＤＨ Ｃ０８Ｆ 2/48 ＭＤＨ
Claims (4)
- 【請求項１】一般式（１）または一般式（２）で表され
るアリールオキシスルホキソニウムボレート錯体である
ことを特徴とする感エネルギー線酸発生剤（Ａ）。 【化１】 （式中、Ｒ1 およびＲ2 は、同一かまたは異なっても良
い芳香環炭素数６〜２０のアリール基であって、該アリ
ール基は、それぞれ独立にハロゲン原子、ヒドロキシ
基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、ハロゲン置換され
ていても良い炭素数１〜１８の直鎖状、分岐状または環
状アルキル基、ハロゲン置換されていても良い炭素数１
〜１８の直鎖状または分岐状アルコキシル基、芳香環炭
素数が６〜２０のアラルキルオキシ基、芳香環炭素数が
６〜２０のアリール基、芳香環炭素数が６〜２０のアリ
ールオキシ基、芳香環炭素数が６〜２０のアラルキル基
で置換されていても良く、Ｒ3 は芳香環炭素数６〜２０
のアリール基であり、該アリール基は、ハロゲン原子、
ヒドロキシ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、ハロゲ
ン置換されていても良い炭素数１〜１８の直鎖状、分岐
状または環状アルキル基、ハロゲン置換されていても良
い炭素数１〜１８の直鎖状または分岐状アルコキシル
基、芳香環炭素数が６〜２０のアラルキルオキシ基、芳
香環炭素数が６〜２０のアリール基、芳香環炭素数が６
〜２０のアリールオキシ基、芳香環炭素数が６〜２０の
アラルキル基で置換されていても良く、Ｙはフッ素また
は塩素、Ｚは少なくとも２つ以上のフッ素、シアノ基、
ニトロ基、トリフルオロメチル基の中から選ばれる電子
吸引性基で置換されたフェニル基、ｍは０〜３の整数、
ｎは１〜４の整数を表し、ｍ＋ｎ＝４である。） 【化２】 （式中、Ｒ4 は硫黄原子と一緒になって複素環基を形成
する炭素原子数４〜１５の二価の基を表し、Ｒ3 、Ｙ、
Ｚ、ｍ、ｎは上記と同じ意味を表す。） - 【請求項２】請求項１記載の感エネルギー線酸発生剤
（Ａ）と増感剤（Ｂ）とからなることを特徴とする感エ
ネルギー線酸発生剤組成物。 - 【請求項３】請求項１記載の感エネルギー線酸発生剤ま
たは請求項２記載の感エネルギー線酸発生剤組成物と、
酸硬化性化合物（Ｃ）の混合物とからなることを特徴と
する硬化性組成物。 - 【請求項４】請求項３記載の硬化性組成物に、ラジカル
重合可能な化合物およびラジカル発生剤をさらに混合し
てなることを特徴とするハイブリッド型硬化性組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP445496A JPH09194819A (ja) | 1996-01-16 | 1996-01-16 | 感エネルギー線酸発生剤、感エネルギー線酸発生剤組成物、それを用いた硬化性組成物、およびハイブリッド型硬化性組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP445496A JPH09194819A (ja) | 1996-01-16 | 1996-01-16 | 感エネルギー線酸発生剤、感エネルギー線酸発生剤組成物、それを用いた硬化性組成物、およびハイブリッド型硬化性組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09194819A true JPH09194819A (ja) | 1997-07-29 |
Family
ID=11584611
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP445496A Pending JPH09194819A (ja) | 1996-01-16 | 1996-01-16 | 感エネルギー線酸発生剤、感エネルギー線酸発生剤組成物、それを用いた硬化性組成物、およびハイブリッド型硬化性組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09194819A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999054373A1 (fr) * | 1998-04-17 | 1999-10-28 | Sanyo Chemical Industries, Ltd. | Composition durcissable et article durci |
| WO2006057298A1 (ja) * | 2004-11-26 | 2006-06-01 | Toyo Ink Mfg. Co., Ltd. | 重合性組成物 |
| JP2006152044A (ja) * | 2004-11-26 | 2006-06-15 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 封止用組成物 |
| JP2006163242A (ja) * | 2004-12-10 | 2006-06-22 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 光導波路形成用材料、光導波路の製造方法、および光導波路 |
| JP2006348199A (ja) * | 2005-06-17 | 2006-12-28 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 接着剤組成物およびそれを用いた接着フィルム、接着物の製造方法 |
-
1996
- 1996-01-16 JP JP445496A patent/JPH09194819A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999054373A1 (fr) * | 1998-04-17 | 1999-10-28 | Sanyo Chemical Industries, Ltd. | Composition durcissable et article durci |
| WO2006057298A1 (ja) * | 2004-11-26 | 2006-06-01 | Toyo Ink Mfg. Co., Ltd. | 重合性組成物 |
| JP2006152044A (ja) * | 2004-11-26 | 2006-06-15 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 封止用組成物 |
| JP2006163242A (ja) * | 2004-12-10 | 2006-06-22 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 光導波路形成用材料、光導波路の製造方法、および光導波路 |
| JP4529669B2 (ja) * | 2004-12-10 | 2010-08-25 | 東洋インキ製造株式会社 | 光導波路形成用材料、光導波路の製造方法、および光導波路 |
| JP2006348199A (ja) * | 2005-06-17 | 2006-12-28 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 接着剤組成物およびそれを用いた接着フィルム、接着物の製造方法 |
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