JPH10249721A - 枚葉両面加工装置 - Google Patents
枚葉両面加工装置Info
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- JPH10249721A JPH10249721A JP5793897A JP5793897A JPH10249721A JP H10249721 A JPH10249721 A JP H10249721A JP 5793897 A JP5793897 A JP 5793897A JP 5793897 A JP5793897 A JP 5793897A JP H10249721 A JPH10249721 A JP H10249721A
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- Japan
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- work
- slurry supply
- ring
- surface plate
- nozzle
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- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 スラリー供給管にワーク吸着機能をもたせ、
ワークの着脱及び位置決めを容易にした枚葉両面加工装
置を提供する。 【解決手段】 ワークＷの両面に対向配置される回転可
能な基準側リング状定盤１３及び移動側リング状定盤２
３の内部に、スラリー供給管１８，２８が軸方向に挿通
配置される。スラリー供給管１８，２８の先端にノズル
１９，２９が設けられており、ノズル１９，２９の傾斜
側面４３に開口するスラリー供給孔４１が開口し、ノズ
ル１９の先端凹部４４に排気孔４２が開口する。排気孔
４２を介した真空吸引により、ワークＷがノズル１９の
先端面に吸着され、リング状定盤１３，２３に着脱及び
位置決めされる。
ワークの着脱及び位置決めを容易にした枚葉両面加工装
置を提供する。 【解決手段】 ワークＷの両面に対向配置される回転可
能な基準側リング状定盤１３及び移動側リング状定盤２
３の内部に、スラリー供給管１８，２８が軸方向に挿通
配置される。スラリー供給管１８，２８の先端にノズル
１９，２９が設けられており、ノズル１９，２９の傾斜
側面４３に開口するスラリー供給孔４１が開口し、ノズ
ル１９の先端凹部４４に排気孔４２が開口する。排気孔
４２を介した真空吸引により、ワークＷがノズル１９の
先端面に吸着され、リング状定盤１３，２３に着脱及び
位置決めされる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ワークの脱着を容易に
した枚葉両面加工装置に関する。
した枚葉両面加工装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】インゴットから切り出されたウェーハ
は、ラッピング，ポリッシング，鏡面仕上げ等の加工工
程を経て製品とされる。ラッピング，ポリッシング等で
はウェーハの両面を同時に加工するため、複数のウェー
ハを収容したキャリアを下定盤と上定盤との間に挟み、
キャリアを公転・自転させる方式が採用されている。こ
の方式では、加工可能なウェーハのサイズに制約が加わ
り、大口径化が著しい最近のウェーハの加工に適したも
のとはいえなくなってきている。そこで、本発明者は、
大口径ウェーハの加工にあっても設備の大型化を招くこ
となく、ウェーハ両面を均一に加工できる枚葉加工装置
を特願平８−２０５１９６号で提案した。先願で提案し
た枚葉加工装置は、図１に示すように基準側ラップ機構
１０と移動側ラップ機構２０とを水平方向又は垂直方向
に対向させ、ラッピングされるワークＷを両ラップ機構
１０と２０との間に位置させている。
は、ラッピング，ポリッシング，鏡面仕上げ等の加工工
程を経て製品とされる。ラッピング，ポリッシング等で
はウェーハの両面を同時に加工するため、複数のウェー
ハを収容したキャリアを下定盤と上定盤との間に挟み、
キャリアを公転・自転させる方式が採用されている。こ
の方式では、加工可能なウェーハのサイズに制約が加わ
り、大口径化が著しい最近のウェーハの加工に適したも
のとはいえなくなってきている。そこで、本発明者は、
大口径ウェーハの加工にあっても設備の大型化を招くこ
となく、ウェーハ両面を均一に加工できる枚葉加工装置
を特願平８−２０５１９６号で提案した。先願で提案し
た枚葉加工装置は、図１に示すように基準側ラップ機構
１０と移動側ラップ機構２０とを水平方向又は垂直方向
に対向させ、ラッピングされるワークＷを両ラップ機構
１０と２０との間に位置させている。
【０００３】基準側ラップ機構１０は、基準軸１１の端
部に柔軟性のある円盤１２を取り付け、円盤１２にリン
グ状の定盤１３を固定している。リング状定盤１３は、
基準軸１１に伝達される動力で矢印ａ方向に回転する。
移動側ラップ機構２０は、移動軸２１の端部に柔軟性の
ある円盤２２を取り付け、円盤２２にリング状の定盤２
３を固定している。リング状定盤２３は、移動側のリン
グ状定盤１３と同一の面積をもっており、移動軸２１に
伝達される動力で矢印ｂ方向に回転する。リング状定盤
１３と２３との回転方向を逆にすることにより、定盤１
３，２３に加わる力が等しくなり、ワークＷの両面にほ
ぼ同じ摩擦力を発生させる。定盤１３，２３によりワー
クＷに加わえられる回転トルクは、ワークＷの表裏で相
殺され、結果として定盤１３，２３のラップ面１４，２
４でワークＷが加圧保持される。移動側ラップ機構２０
のリング状定盤２３は、圧力機構（図示せず）により矢
印ｃ方向に移動自在となっている。これにより、ラップ
面は、摩耗に応じて矢印ｃ方向に移動され、移動量の調
節によってワークＷに加わる加圧力が一定に保たれる。
部に柔軟性のある円盤１２を取り付け、円盤１２にリン
グ状の定盤１３を固定している。リング状定盤１３は、
基準軸１１に伝達される動力で矢印ａ方向に回転する。
移動側ラップ機構２０は、移動軸２１の端部に柔軟性の
ある円盤２２を取り付け、円盤２２にリング状の定盤２
３を固定している。リング状定盤２３は、移動側のリン
グ状定盤１３と同一の面積をもっており、移動軸２１に
伝達される動力で矢印ｂ方向に回転する。リング状定盤
１３と２３との回転方向を逆にすることにより、定盤１
３，２３に加わる力が等しくなり、ワークＷの両面にほ
ぼ同じ摩擦力を発生させる。定盤１３，２３によりワー
クＷに加わえられる回転トルクは、ワークＷの表裏で相
殺され、結果として定盤１３，２３のラップ面１４，２
４でワークＷが加圧保持される。移動側ラップ機構２０
のリング状定盤２３は、圧力機構（図示せず）により矢
印ｃ方向に移動自在となっている。これにより、ラップ
面は、摩耗に応じて矢印ｃ方向に移動され、移動量の調
節によってワークＷに加わる加圧力が一定に保たれる。
【０００４】ワークＷの表裏両面に配置したウェーハ回
転支持機構３０の駆動ローラ３１，３１・・で、矢印ｄ
方向の回転がワークＷに与えられる。回転しているワー
クＷの姿勢は、ワークＷの周縁に接触して回転するガイ
ドローラ３２により安定化される。これにより、予め設
定された位置関係でワークＷがリング状定盤１３，２３
に圧接し、一定した条件下でワークＷがラッピングされ
る。
転支持機構３０の駆動ローラ３１，３１・・で、矢印ｄ
方向の回転がワークＷに与えられる。回転しているワー
クＷの姿勢は、ワークＷの周縁に接触して回転するガイ
ドローラ３２により安定化される。これにより、予め設
定された位置関係でワークＷがリング状定盤１３，２３
に圧接し、一定した条件下でワークＷがラッピングされ
る。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】リング状定盤１３，２
３としては、加工されるワークＷの半径にほぼ等しい直
径をもつ定盤が使用される。そして、リング状定盤１
３，２３のラップ面１４，２４にワークＷの中心点Ｃが
位置するように、ワークＷをリング状定盤１３，２３に
対して位置決めさせることが必要である。ラップ面１
４，２４から外れた箇所に中心点Ｃが位置すると、ラッ
プ面１４，２４が摺擦しない未加工領域が形成される。
この点、図１の設備構成では、リング状定盤１３，２３
に対してワークＷを位置決めすることに問題がある。ま
た、加工前後にワークＷを着脱させることにも工夫を要
する。本発明は、このような問題を解消すべく案出され
たものであり、先願で提案した枚葉加工装置にワーク保
持機能を持たせることにより、ワークの着脱及び位置決
めを容易にすることを目的とする。
３としては、加工されるワークＷの半径にほぼ等しい直
径をもつ定盤が使用される。そして、リング状定盤１
３，２３のラップ面１４，２４にワークＷの中心点Ｃが
位置するように、ワークＷをリング状定盤１３，２３に
対して位置決めさせることが必要である。ラップ面１
４，２４から外れた箇所に中心点Ｃが位置すると、ラッ
プ面１４，２４が摺擦しない未加工領域が形成される。
この点、図１の設備構成では、リング状定盤１３，２３
に対してワークＷを位置決めすることに問題がある。ま
た、加工前後にワークＷを着脱させることにも工夫を要
する。本発明は、このような問題を解消すべく案出され
たものであり、先願で提案した枚葉加工装置にワーク保
持機能を持たせることにより、ワークの着脱及び位置決
めを容易にすることを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の枚葉両面加工装
置は、その目的を達成するため、ワークの両面に対向配
置される回転可能な基準側リング状定盤及び移動側リン
グ状定盤と、各リング状定盤の内部を軸方向に挿通配置
されたスラリー供給管と、各スラリー供給管の先端に設
けられたノズルの傾斜側面に開口するスラリー供給孔
と、基準側のスラリー供給管に形成され、ノズルの先端
に開口する真空吸引機能をもつ排気孔とを備え、基準側
のスラリー供給管がリング状定盤の軸方向に移動可能
で、排気孔を介した真空吸引によりワークがノズルの先
端面に吸着されることを特徴とする。
置は、その目的を達成するため、ワークの両面に対向配
置される回転可能な基準側リング状定盤及び移動側リン
グ状定盤と、各リング状定盤の内部を軸方向に挿通配置
されたスラリー供給管と、各スラリー供給管の先端に設
けられたノズルの傾斜側面に開口するスラリー供給孔
と、基準側のスラリー供給管に形成され、ノズルの先端
に開口する真空吸引機能をもつ排気孔とを備え、基準側
のスラリー供給管がリング状定盤の軸方向に移動可能
で、排気孔を介した真空吸引によりワークがノズルの先
端面に吸着されることを特徴とする。
【０００７】
【実施の形態】本発明に従った枚葉加工装置は、図３に
示すように円盤１２，２２に円筒状回転軸受け１６，２
６を固着し、円筒状回転軸受け１６，２６のほぼ中心部
にスラリー供給管１８，２８を挿通配置している。その
他の構成は、図１の設備構成と同様であるので説明を省
略する。なお、円筒状回転軸受け１６，２６は、スラリ
ー供給圧の影響を排除するため両端が開放された形状に
なっているが、図１に示した円盤１２，２２を使用する
ことも可能である。基準側のスラリー供給管１８は、矢
印ｅ−ｆ方向に沿って進退自在になっている。スラリー
供給管１８に砥粒懸濁スラリーの供給及びワークＷの吸
着の機能を兼ね備えさせるため、スラリー供給孔４１及
び排気孔４２が管軸方向に穿設されている。スラリー供
給口４１は、基端が砥粒懸濁スラリーＡを貯留している
スラリータンク（図示せず）に連絡されており、先端が
ノズル１９の傾斜側面に開口している。排気孔４２は、
基端が真空源（図示せず）に連絡され、ノズル１９の先
端に設けた凹部４４に開口している。
示すように円盤１２，２２に円筒状回転軸受け１６，２
６を固着し、円筒状回転軸受け１６，２６のほぼ中心部
にスラリー供給管１８，２８を挿通配置している。その
他の構成は、図１の設備構成と同様であるので説明を省
略する。なお、円筒状回転軸受け１６，２６は、スラリ
ー供給圧の影響を排除するため両端が開放された形状に
なっているが、図１に示した円盤１２，２２を使用する
ことも可能である。基準側のスラリー供給管１８は、矢
印ｅ−ｆ方向に沿って進退自在になっている。スラリー
供給管１８に砥粒懸濁スラリーの供給及びワークＷの吸
着の機能を兼ね備えさせるため、スラリー供給孔４１及
び排気孔４２が管軸方向に穿設されている。スラリー供
給口４１は、基端が砥粒懸濁スラリーＡを貯留している
スラリータンク（図示せず）に連絡されており、先端が
ノズル１９の傾斜側面に開口している。排気孔４２は、
基端が真空源（図示せず）に連絡され、ノズル１９の先
端に設けた凹部４４に開口している。
【０００８】他方のスラリー供給管２８は、ワークＷを
吸着する作用を必要としないので、排気孔４２を省略で
きる。また、装着状態のワークＷ表面からノズル１９が
所定の距離だけ離間するように、リング状定盤２３のラ
ップ面２４から若干後退した位置にノズル２９を固定配
置する。加工されるワークＷは、真空チャック（図示せ
ず）で基準側のリング状定盤１３に対向する位置に運ば
れる。このとき、基準側のスラリー供給管１８は、ノズ
ル１９の端面がリング状定盤１３のラップ面１４よりも
若干突出するように、基準側のスラリー供給管１８をｆ
方向に移動している。ワークＷの一部表面をノズル１９
の先端面４５に接触させた後、排気孔４２を介した真空
吸引によりワークＷを吸着する。ワークＷを吸着したス
ラリー供給管１８は、ワークＷの基準側表面がリング状
定盤１３のラップ面１４に接触するまでｅ方向に移動す
る。
吸着する作用を必要としないので、排気孔４２を省略で
きる。また、装着状態のワークＷ表面からノズル１９が
所定の距離だけ離間するように、リング状定盤２３のラ
ップ面２４から若干後退した位置にノズル２９を固定配
置する。加工されるワークＷは、真空チャック（図示せ
ず）で基準側のリング状定盤１３に対向する位置に運ば
れる。このとき、基準側のスラリー供給管１８は、ノズ
ル１９の端面がリング状定盤１３のラップ面１４よりも
若干突出するように、基準側のスラリー供給管１８をｆ
方向に移動している。ワークＷの一部表面をノズル１９
の先端面４５に接触させた後、排気孔４２を介した真空
吸引によりワークＷを吸着する。ワークＷを吸着したス
ラリー供給管１８は、ワークＷの基準側表面がリング状
定盤１３のラップ面１４に接触するまでｅ方向に移動す
る。
【０００９】次いで、移動側のリング状定盤２３をｃ方
向に移動させ、ワークＷの反対面にリング状定盤２３の
ラップ面２４を当接させる。このとき、リング状定盤１
３，２３の回転軸は同一直線状に配置されているので、
リング状定盤２３をｃ方向に移動させるだけの操作でワ
ークＷの所定位置にラップ面２４が当る。このようにし
て所定の位置関係でリング状定盤１３，２３の間にワー
クＷを挟んだ後、排気孔４２を大気に開放し、ワークＷ
を真空吸着から開放する。そして、スラリー供給管１８
をｅ方向に更に後退させ、ワークＷの表面からノズル１
９の先端面４５までの距離を所定距離に設定する。次い
で、スラリー供給孔４１を介して砥粒懸濁スラリーＡを
ワークＷの表裏両面に供給し、リング状定盤１３，２３
を回転させながらワークＷを両面ラッピングする。ラッ
ピング終了後、スラリー供給管１８をｆ方向に前進さ
せ、ノズル１９の先端面４５をワークＷの表面に接触さ
せた後、排気孔４２を介した真空吸引で加工済みのワー
クＷを吸着する。そして、移動側のリング状定盤２３を
後退させ、加工済みワークＷを搬送用チャックに引き渡
す。
向に移動させ、ワークＷの反対面にリング状定盤２３の
ラップ面２４を当接させる。このとき、リング状定盤１
３，２３の回転軸は同一直線状に配置されているので、
リング状定盤２３をｃ方向に移動させるだけの操作でワ
ークＷの所定位置にラップ面２４が当る。このようにし
て所定の位置関係でリング状定盤１３，２３の間にワー
クＷを挟んだ後、排気孔４２を大気に開放し、ワークＷ
を真空吸着から開放する。そして、スラリー供給管１８
をｅ方向に更に後退させ、ワークＷの表面からノズル１
９の先端面４５までの距離を所定距離に設定する。次い
で、スラリー供給孔４１を介して砥粒懸濁スラリーＡを
ワークＷの表裏両面に供給し、リング状定盤１３，２３
を回転させながらワークＷを両面ラッピングする。ラッ
ピング終了後、スラリー供給管１８をｆ方向に前進さ
せ、ノズル１９の先端面４５をワークＷの表面に接触さ
せた後、排気孔４２を介した真空吸引で加工済みのワー
クＷを吸着する。そして、移動側のリング状定盤２３を
後退させ、加工済みワークＷを搬送用チャックに引き渡
す。
【００１０】このようにスラリー供給管１８を真空吸着
に兼用すると、ワークＷの着脱が容易になり、しかもリ
ング状定盤１３，２３及び保持ローラ３２群に対してワ
ークＷが精度良く位置決めされる。すなわち、加工する
ワークＷに対応したサイズのリング状定盤１３，２３が
使用され、リング状定盤１３に対して吸着部であるノズ
ル１９の先端面４５が固定した位置関係にあるため、ノ
ズル１９の先端面４５に吸着されたワークＷは、ワーク
Ｗの周辺に配置された複数のガイドローラ３２に納めら
れ、且つラップ面１４に沿った所定位置に配置される。
そのため、ガイドローラ３２の窪んだローラ部にワーク
Ｗが正確に確保されるように、ガイドローラ３２の間隔
が縮まり、ワークＷの保持及び回転に備えられる。その
結果、ガイドローラ３２にワークＷを直接設置する方法
よりも短時間に且つ正確にワークＷを投入することがで
き、ワークＷの破損が少なくなる。
に兼用すると、ワークＷの着脱が容易になり、しかもリ
ング状定盤１３，２３及び保持ローラ３２群に対してワ
ークＷが精度良く位置決めされる。すなわち、加工する
ワークＷに対応したサイズのリング状定盤１３，２３が
使用され、リング状定盤１３に対して吸着部であるノズ
ル１９の先端面４５が固定した位置関係にあるため、ノ
ズル１９の先端面４５に吸着されたワークＷは、ワーク
Ｗの周辺に配置された複数のガイドローラ３２に納めら
れ、且つラップ面１４に沿った所定位置に配置される。
そのため、ガイドローラ３２の窪んだローラ部にワーク
Ｗが正確に確保されるように、ガイドローラ３２の間隔
が縮まり、ワークＷの保持及び回転に備えられる。その
結果、ガイドローラ３２にワークＷを直接設置する方法
よりも短時間に且つ正確にワークＷを投入することがで
き、ワークＷの破損が少なくなる。
【００１１】
【発明の効果】以上に説明したように、本発明の枚葉両
面加工装置は、リング状定盤の内部に挿通したスラリー
供給管に真空吸着機能を持たせている。そのため、ワー
クの着脱及びリング状定盤に対する位置決めが容易にな
り、ワークの表裏両面が均等に加工される。したがっ
て、大口径のウェーハであっても、平坦度，平滑度に優
れた高品質の製品が得られる。
面加工装置は、リング状定盤の内部に挿通したスラリー
供給管に真空吸着機能を持たせている。そのため、ワー
クの着脱及びリング状定盤に対する位置決めが容易にな
り、ワークの表裏両面が均等に加工される。したがっ
て、大口径のウェーハであっても、平坦度，平滑度に優
れた高品質の製品が得られる。
【図１】 本発明者が先に提案した枚葉両面加工装置
【図２】 ワークとリング状定盤との位置関係
【図３】 本発明に従った枚葉両面加工装置
【図４】 ワーク吸着機能を兼ね備えたスラリー供給管
のノズル
のノズル
１０：基準側ラップ機構 ２０：移動側ラップ機構
１１：基準軸 ２１：移動軸 １２，２２：柔軟
性のある円盤 １３，２３：リング状定盤 １４，２４：ラップ面 １５，２５：空洞部 １
６，２６：円筒状回転軸受け １８，２８：スラリー
供給管 １９，２９：ノズル ３０：ウェーハ回転支持機構 ３１：駆動ローラ
３２：ガイドローラ ４１：スラリー供給孔 ４２：排気孔 ４３：傾斜
側面 ４４：凹部 ４５：先端面 Ｗ：ワーク（ウェーハ） Ｃ：ワークの中心点
Ａ：砥粒懸濁スラリー
１１：基準軸 ２１：移動軸 １２，２２：柔軟
性のある円盤 １３，２３：リング状定盤 １４，２４：ラップ面 １５，２５：空洞部 １
６，２６：円筒状回転軸受け １８，２８：スラリー
供給管 １９，２９：ノズル ３０：ウェーハ回転支持機構 ３１：駆動ローラ
３２：ガイドローラ ４１：スラリー供給孔 ４２：排気孔 ４３：傾斜
側面 ４４：凹部 ４５：先端面 Ｗ：ワーク（ウェーハ） Ｃ：ワークの中心点
Ａ：砥粒懸濁スラリー
Claims (1)
- 【請求項１】 ワークの両面に対向配置される回転可能
な基準側リング状定盤及び移動側リング状定盤と、各リ
ング状定盤の内部を軸方向に挿通配置されたスラリー供
給管と、各スラリー供給管の先端に設けられたノズルの
傾斜側面に開口するスラリー供給孔と、基準側のスラリ
ー供給管に形成され、ノズルの先端に開口する真空吸引
機能をもつ排気孔とを備え、基準側のスラリー供給管が
リング状定盤の軸方向に移動可能で、排気孔を介した真
空吸引によりワークがノズルの先端面に吸着される枚葉
両面加工装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5793897A JPH10249721A (ja) | 1997-03-12 | 1997-03-12 | 枚葉両面加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5793897A JPH10249721A (ja) | 1997-03-12 | 1997-03-12 | 枚葉両面加工装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10249721A true JPH10249721A (ja) | 1998-09-22 |
Family
ID=13069979
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5793897A Pending JPH10249721A (ja) | 1997-03-12 | 1997-03-12 | 枚葉両面加工装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10249721A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002013248A1 (fr) * | 2000-08-03 | 2002-02-14 | Nikon Corporation | Appareil de polissage chimique-mecanique, tampon de polissage, et procede de fabrication de dispositif a semiconducteur |
| CN114619361A (zh) * | 2022-01-10 | 2022-06-14 | 贵阳博亚机械制造有限公司 | 一种高效抛光装置及化学抛光方法 |
-
1997
- 1997-03-12 JP JP5793897A patent/JPH10249721A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002013248A1 (fr) * | 2000-08-03 | 2002-02-14 | Nikon Corporation | Appareil de polissage chimique-mecanique, tampon de polissage, et procede de fabrication de dispositif a semiconducteur |
| CN114619361A (zh) * | 2022-01-10 | 2022-06-14 | 贵阳博亚机械制造有限公司 | 一种高效抛光装置及化学抛光方法 |
| CN114619361B (zh) * | 2022-01-10 | 2023-06-16 | 贵阳博亚机械制造有限公司 | 一种高效抛光装置及化学抛光方法 |
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