JPH07290355A - 研磨装置 - Google Patents
研磨装置Info
- Publication number
- JPH07290355A JPH07290355A JP6086995A JP8699594A JPH07290355A JP H07290355 A JPH07290355 A JP H07290355A JP 6086995 A JP6086995 A JP 6086995A JP 8699594 A JP8699594 A JP 8699594A JP H07290355 A JPH07290355 A JP H07290355A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polished
- polishing
- suction
- pressing
- chuck means
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 研磨液が被研磨体の吸着側に回り込むことを
確実に防止するとともに、サイズの異なる被研磨体にそ
のまま使用できる研磨装置を提供する。 【構成】 被研磨体5を吸着保持する側の端面に、吸着
するための吸引溝38,40と、該被研磨体5の外周端
部近傍に対応する位置に形成されたエアによる押付圧が
付与される押付溝37,39とが設けられたチャック手
段21を有し、研磨液を供給しながら、前記チャック手
段(21)により複数個の貫通孔が厚さ方向に形成されたブ
ロック24を介して吸着保持された被研磨体(5) を、前
記定盤(7) に向けて加圧しつつ相対的に摺動させて研磨
を行う研磨装置である。また、前記押付溝37,39
は、サイズの異なる複数の被研磨体5の外周端部近傍に
対応する位置に、同心円状に複数箇所設けた。
確実に防止するとともに、サイズの異なる被研磨体にそ
のまま使用できる研磨装置を提供する。 【構成】 被研磨体5を吸着保持する側の端面に、吸着
するための吸引溝38,40と、該被研磨体5の外周端
部近傍に対応する位置に形成されたエアによる押付圧が
付与される押付溝37,39とが設けられたチャック手
段21を有し、研磨液を供給しながら、前記チャック手
段(21)により複数個の貫通孔が厚さ方向に形成されたブ
ロック24を介して吸着保持された被研磨体(5) を、前
記定盤(7) に向けて加圧しつつ相対的に摺動させて研磨
を行う研磨装置である。また、前記押付溝37,39
は、サイズの異なる複数の被研磨体5の外周端部近傍に
対応する位置に、同心円状に複数箇所設けた。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、シリコンウェーハ等の
被研磨体を鏡面研磨する際に用いられる研磨装置に関
し、特に、被研磨体を1枚ずつ吸着保持して研磨する枚
葉式の研磨装置に関する。
被研磨体を鏡面研磨する際に用いられる研磨装置に関
し、特に、被研磨体を1枚ずつ吸着保持して研磨する枚
葉式の研磨装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、シリコンウェーハ等の鏡面研磨に
用いられる研磨装置としては、複数枚のシリコンウェー
ハ等の被研磨体をワックス等により接着して保持したブ
ロックを、定盤に向けて加圧し摺動させることによって
研磨するバッチ式のものと、被研磨体を1枚毎に研磨し
てリアルタイムに連続的な処理を行う枚葉式のものとが
知られている。
用いられる研磨装置としては、複数枚のシリコンウェー
ハ等の被研磨体をワックス等により接着して保持したブ
ロックを、定盤に向けて加圧し摺動させることによって
研磨するバッチ式のものと、被研磨体を1枚毎に研磨し
てリアルタイムに連続的な処理を行う枚葉式のものとが
知られている。
【0003】枚葉式の研磨装置にて被研磨体の研磨を行
う場合は、たとえば、図7に示すような研磨装置が用い
られている。この研磨装置は、標準的な構造のものであ
り、被研磨体5を吸着保持するチャック手段1を備えて
いる。チャック手段1は、図示のように、ヘッド軸2
と、このヘッド軸2の下方にボルト12により取り付け
られるチャックプレート3とを有する。
う場合は、たとえば、図7に示すような研磨装置が用い
られている。この研磨装置は、標準的な構造のものであ
り、被研磨体5を吸着保持するチャック手段1を備えて
いる。チャック手段1は、図示のように、ヘッド軸2
と、このヘッド軸2の下方にボルト12により取り付け
られるチャックプレート3とを有する。
【0004】前記ヘッド軸2の軸線に沿って、図示しな
い真空ポンプと接続される吸引孔11が形成されてお
り、この吸引孔11は、該ヘッド軸2の下面に形成され
た凹部13に連通する。さらに、前記ヘッド軸2の下面
には、同心円状に複数の凹溝14…が形成され、この凹
溝14…は、前記凹部13とバイパス溝15により連通
している。一方、チャックプレート3の下面には、図示
のように、同心円状に形成された複数の吸引溝16…が
設けられ、この吸引溝16…は、縦孔17により前記凹
部13又は凹溝14…と連通する。
い真空ポンプと接続される吸引孔11が形成されてお
り、この吸引孔11は、該ヘッド軸2の下面に形成され
た凹部13に連通する。さらに、前記ヘッド軸2の下面
には、同心円状に複数の凹溝14…が形成され、この凹
溝14…は、前記凹部13とバイパス溝15により連通
している。一方、チャックプレート3の下面には、図示
のように、同心円状に形成された複数の吸引溝16…が
設けられ、この吸引溝16…は、縦孔17により前記凹
部13又は凹溝14…と連通する。
【0005】また、前記チャックプレート3の下方に配
設されるブロック4は、たとえば、図8に示すような多
孔質セラミックスにより構成される。この多孔質セラミ
ックスは、粒子径50〜200μmのセラミックスを焼
結させたものであり、上面側を負圧(大気圧より小さい
圧力)にすると、図示のような吸引のための通路Cが形
成されることになる。
設されるブロック4は、たとえば、図8に示すような多
孔質セラミックスにより構成される。この多孔質セラミ
ックスは、粒子径50〜200μmのセラミックスを焼
結させたものであり、上面側を負圧(大気圧より小さい
圧力)にすると、図示のような吸引のための通路Cが形
成されることになる。
【0006】したがって、図示しない真空ポンプを作動
させると、前記吸引孔11と連通する前記吸引溝16…
内に負圧が発生し、多孔質セラミックス等からなるブロ
ック4を介して被研磨体5を吸着保持することができる
ようになっている。
させると、前記吸引孔11と連通する前記吸引溝16…
内に負圧が発生し、多孔質セラミックス等からなるブロ
ック4を介して被研磨体5を吸着保持することができる
ようになっている。
【0007】そして、被研磨体5が吸着保持されたブロ
ック4を、研磨液を供給しながら、表面に研磨布6が貼
付された定盤7に向けて加圧し相対的に摺動させること
によって、被研磨体5の表面が研磨される。
ック4を、研磨液を供給しながら、表面に研磨布6が貼
付された定盤7に向けて加圧し相対的に摺動させること
によって、被研磨体5の表面が研磨される。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】ところで、この枚葉式
の研磨装置にあっては、上述のように、前記チャック手
段1により、被研磨体5を多孔質セラミックスからなる
ブロック4を介して吸着保持する構造となっている。し
たがって、確実な吸着を確保するためには、被研磨体5
のサイズに応じた専用の大きさのチャックプレート3を
使用する必要があり、このチャックプレート3の交換作
業に2〜3時間費やすことから作業性の劣るものであっ
た。
の研磨装置にあっては、上述のように、前記チャック手
段1により、被研磨体5を多孔質セラミックスからなる
ブロック4を介して吸着保持する構造となっている。し
たがって、確実な吸着を確保するためには、被研磨体5
のサイズに応じた専用の大きさのチャックプレート3を
使用する必要があり、このチャックプレート3の交換作
業に2〜3時間費やすことから作業性の劣るものであっ
た。
【0009】また、上記従来の研磨装置では、専用のチ
ャックプレート3を使用することに加えて、被研磨体5
の均一な吸着を確保して高平坦度に研磨するため、前記
吸引溝16…を前述したような同心円状、又は螺旋状に
形成している。しかしながら、これらは被研磨体5の吸
着のみを目的としたものであって、真空吸着により、研
磨作業に使用される研磨液が引き込まれて被研磨体5の
吸着側に回り込むことに対しては殆んど考慮されていな
いものであった。この研磨液の回り込みの問題は、前述
したバッチ式の研磨装置のように複数枚の被研磨体をブ
ロックにワックス等により接着する場合には問題となら
ないが、上記枚葉式の研磨装置のように被研磨体を吸着
保持する場合には、エッチング痕によるウェーハ裏面汚
れをもたらすこととなる。このため、研磨後、研磨液が
乾く前に水洗してその汚れを取り除く洗浄プロセスを別
途設けなければならないという問題があった。
ャックプレート3を使用することに加えて、被研磨体5
の均一な吸着を確保して高平坦度に研磨するため、前記
吸引溝16…を前述したような同心円状、又は螺旋状に
形成している。しかしながら、これらは被研磨体5の吸
着のみを目的としたものであって、真空吸着により、研
磨作業に使用される研磨液が引き込まれて被研磨体5の
吸着側に回り込むことに対しては殆んど考慮されていな
いものであった。この研磨液の回り込みの問題は、前述
したバッチ式の研磨装置のように複数枚の被研磨体をブ
ロックにワックス等により接着する場合には問題となら
ないが、上記枚葉式の研磨装置のように被研磨体を吸着
保持する場合には、エッチング痕によるウェーハ裏面汚
れをもたらすこととなる。このため、研磨後、研磨液が
乾く前に水洗してその汚れを取り除く洗浄プロセスを別
途設けなければならないという問題があった。
【0010】本発明は、上記従来技術の問題点に鑑みて
なされたものであり、本発明の目的は、研磨液が被研磨
体の吸着側に回り込むことを確実に防止するとともに、
サイズの異なる被研磨体にそのまま使用できる研磨装置
を提供することにある。
なされたものであり、本発明の目的は、研磨液が被研磨
体の吸着側に回り込むことを確実に防止するとともに、
サイズの異なる被研磨体にそのまま使用できる研磨装置
を提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明は、被研磨体を吸着保持するチャック手段と、
該被研磨体を保持した側に配置される表面に研磨布が貼
付された定盤とを有し、研磨液を供給しながら、前記チ
ャック手段により吸着保持された被研磨体を前記定盤に
向けて加圧しつつ相対的に摺動させて研磨を行う研磨装
置において、前記チャック手段は、被研磨体を保持する
側の端面に、該被研磨体を吸着するための吸引溝と、該
被研磨体の外周端部近傍に対応する位置に形成されたエ
アによる押付圧が付与される押付溝とが設けられ、複数
個の貫通孔が厚さ方向に形成された円盤状のブロックを
介して、前記被研磨体を吸着保持することを特徴とする
研磨装置である。
の本発明は、被研磨体を吸着保持するチャック手段と、
該被研磨体を保持した側に配置される表面に研磨布が貼
付された定盤とを有し、研磨液を供給しながら、前記チ
ャック手段により吸着保持された被研磨体を前記定盤に
向けて加圧しつつ相対的に摺動させて研磨を行う研磨装
置において、前記チャック手段は、被研磨体を保持する
側の端面に、該被研磨体を吸着するための吸引溝と、該
被研磨体の外周端部近傍に対応する位置に形成されたエ
アによる押付圧が付与される押付溝とが設けられ、複数
個の貫通孔が厚さ方向に形成された円盤状のブロックを
介して、前記被研磨体を吸着保持することを特徴とする
研磨装置である。
【0012】また、前記押付溝は、サイズの異なる複数
の被研磨体の外周端部近傍に対応する位置に、同心円状
に複数箇所設けるとよい。
の被研磨体の外周端部近傍に対応する位置に、同心円状
に複数箇所設けるとよい。
【0013】
【作用】このように構成した本発明にあっては、まず、
チャック手段により被研磨体の吸着保持を行う。即ち、
チャック手段の被研磨体を保持する側の端面に設けられ
た吸引溝に吸引圧が発生し、これにより、チャック手段
は、複数個の貫通孔が厚さ方向に形成された円盤状のブ
ロックを介して被研磨体を吸着保持する。
チャック手段により被研磨体の吸着保持を行う。即ち、
チャック手段の被研磨体を保持する側の端面に設けられ
た吸引溝に吸引圧が発生し、これにより、チャック手段
は、複数個の貫通孔が厚さ方向に形成された円盤状のブ
ロックを介して被研磨体を吸着保持する。
【0014】次いで、被研磨体を吸着保持したチャック
手段が下降し、研磨液を供給しながら、被研磨体が保持
されたブロックを研磨布が貼り付けられた定盤に向けて
加圧し相対的に摺動させることによって、被研磨体の表
面の研磨加工が行われる。
手段が下降し、研磨液を供給しながら、被研磨体が保持
されたブロックを研磨布が貼り付けられた定盤に向けて
加圧し相対的に摺動させることによって、被研磨体の表
面の研磨加工が行われる。
【0015】ここにおいて、研磨液の供給、および被研
磨体の定盤への接触前に、押付溝にエア押付圧を発生さ
せる。これにより、従来吸引するのみであったために研
磨液が被研磨体の吸着面へ回り込む傾向があったのに対
し、被研磨体の外周端部近傍のエア押付圧による面圧が
高まることにより、研磨液の引き込みがないばかりか、
入り込もうとする研磨液を排除することができる。した
がって、研磨液が被研磨体の吸着側に回り込むことが確
実に防止される。
磨体の定盤への接触前に、押付溝にエア押付圧を発生さ
せる。これにより、従来吸引するのみであったために研
磨液が被研磨体の吸着面へ回り込む傾向があったのに対
し、被研磨体の外周端部近傍のエア押付圧による面圧が
高まることにより、研磨液の引き込みがないばかりか、
入り込もうとする研磨液を排除することができる。した
がって、研磨液が被研磨体の吸着側に回り込むことが確
実に防止される。
【0016】また、前記押付溝は、サイズの異なる複数
の被研磨体の外周端部近傍に対応する位置に、同心円状
に複数箇所設けたので、異なるサイズの被研磨体に対し
てそのまま使用することができる。
の被研磨体の外周端部近傍に対応する位置に、同心円状
に複数箇所設けたので、異なるサイズの被研磨体に対し
てそのまま使用することができる。
【0017】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図面を参照して説
明する。図1は、本発明の一実施例に係る研磨装置の要
部を示す構成図、図2は、図1に示されるヘッド軸22
のA−A線に沿う方向から見た下面図、図3は、図1に
示されるチャックプレート23のB−B線に沿う断面
図、図4は、図1に示されるブロック24の平面図、図
5は、図1に示されるチャック手段21のエア押付圧に
よる面圧分布を示す図であり、図7に示した部材と共通
する部材には同一の符号を付し、その説明は一部省略す
る。
明する。図1は、本発明の一実施例に係る研磨装置の要
部を示す構成図、図2は、図1に示されるヘッド軸22
のA−A線に沿う方向から見た下面図、図3は、図1に
示されるチャックプレート23のB−B線に沿う断面
図、図4は、図1に示されるブロック24の平面図、図
5は、図1に示されるチャック手段21のエア押付圧に
よる面圧分布を示す図であり、図7に示した部材と共通
する部材には同一の符号を付し、その説明は一部省略す
る。
【0018】図1に示したように、本実施例の研磨装置
は、被研磨体5を吸着保持するチャック手段21を有す
る。このチャック手段21は、本体部をなすヘッド軸2
2と、このヘッド軸22の下方に取り付けられるチャッ
クプレート23と、前記ヘッド軸22に負圧を付与する
負圧室49と、正圧(大気圧より大きい圧力)を付与す
る正圧室25とを有している。
は、被研磨体5を吸着保持するチャック手段21を有す
る。このチャック手段21は、本体部をなすヘッド軸2
2と、このヘッド軸22の下方に取り付けられるチャッ
クプレート23と、前記ヘッド軸22に負圧を付与する
負圧室49と、正圧(大気圧より大きい圧力)を付与す
る正圧室25とを有している。
【0019】ヘッド軸22は、図示のように、内軸26
および外軸27等から構成され、内軸26の外側に同軸
となるように外軸27が固定された2重軸構造をなして
いる。また、前記内軸26の軸線に沿って吸引孔11が
形成されており、この吸引孔11は、該内軸26の下面
に形成された凹部13に連通する。さらに、前記内軸2
6の下面には、前記凹部13の外側にこれと同心となる
ように凹溝28が形成されており、この凹溝28は、L
字状の通孔29により前記吸引孔11と連通している。
および外軸27等から構成され、内軸26の外側に同軸
となるように外軸27が固定された2重軸構造をなして
いる。また、前記内軸26の軸線に沿って吸引孔11が
形成されており、この吸引孔11は、該内軸26の下面
に形成された凹部13に連通する。さらに、前記内軸2
6の下面には、前記凹部13の外側にこれと同心となる
ように凹溝28が形成されており、この凹溝28は、L
字状の通孔29により前記吸引孔11と連通している。
【0020】一方、本実施例では、前記内軸26と外軸
27との間の空間により、略円筒状のエア押付通路30
が形成される。外軸27の下面の内径側には、凹溝31
が形成されており、この凹溝31は、通孔32により前
記エア押付通路30と連通している。また、前述した内
軸26の下面に形成された凹部13と凹溝28との間
に、これらと同心となるように凹溝33が形成されてお
り、この凹溝33は、縦方向に形成された通孔34によ
り前記エア押付通路30と連通している。
27との間の空間により、略円筒状のエア押付通路30
が形成される。外軸27の下面の内径側には、凹溝31
が形成されており、この凹溝31は、通孔32により前
記エア押付通路30と連通している。また、前述した内
軸26の下面に形成された凹部13と凹溝28との間
に、これらと同心となるように凹溝33が形成されてお
り、この凹溝33は、縦方向に形成された通孔34によ
り前記エア押付通路30と連通している。
【0021】前記内軸26と外軸27とは、それぞれの
下面が同一平面となるように構成されており、その下面
は、図2に示したように、吸引孔11と連通する凹部1
3および凹溝28と、エア押付通路30と連通する凹溝
31および凹溝33とが、交互に形成されることにな
る。また、前記通孔29,32,34は、図示のよう
に、周方向等間隔に3箇所形成されているが、これより
多くの通孔を適宜設けるようにしてもよい。尚、図2に
おいては、図が複雑となるのを避けるため、内軸26と
外軸27との境界面は図示省略してある。
下面が同一平面となるように構成されており、その下面
は、図2に示したように、吸引孔11と連通する凹部1
3および凹溝28と、エア押付通路30と連通する凹溝
31および凹溝33とが、交互に形成されることにな
る。また、前記通孔29,32,34は、図示のよう
に、周方向等間隔に3箇所形成されているが、これより
多くの通孔を適宜設けるようにしてもよい。尚、図2に
おいては、図が複雑となるのを避けるため、内軸26と
外軸27との境界面は図示省略してある。
【0022】前記ヘッド軸22の下方には、チャックプ
レート23が取り付けられる。このチャックプレート2
3は、その外周部において下方から当接されるリング状
の支持部35と、前記ヘッド軸22の外軸27の外周部
近傍とをボルト12で締結することにより、ヘッド軸2
2に取り付けられる。
レート23が取り付けられる。このチャックプレート2
3は、その外周部において下方から当接されるリング状
の支持部35と、前記ヘッド軸22の外軸27の外周部
近傍とをボルト12で締結することにより、ヘッド軸2
2に取り付けられる。
【0023】このチャックプレート23の下面には、図
3に示したように、同心円状に溝が形成されており、ヘ
ッド軸22の凹溝31,28,33,および凹部13に
対応した位置に、外側から順に、それぞれ第1押付溝3
7、第1吸引溝38、第2押付溝39、および第2吸引
溝40が形成されており、対応する両者の溝等は、縦方
向の通孔41…により連通することとなる。尚、この通
孔41…も、図示したものより多く適宜設けるようにし
てもよい。
3に示したように、同心円状に溝が形成されており、ヘ
ッド軸22の凹溝31,28,33,および凹部13に
対応した位置に、外側から順に、それぞれ第1押付溝3
7、第1吸引溝38、第2押付溝39、および第2吸引
溝40が形成されており、対応する両者の溝等は、縦方
向の通孔41…により連通することとなる。尚、この通
孔41…も、図示したものより多く適宜設けるようにし
てもよい。
【0024】前記負圧室49は、図1に示したように、
負圧室49の壁部をなす断面コの字状のリング体42を
有する。このリング体42は、その内径部において前記
ヘッド軸22の内軸26の外周部と当接するようにして
設けられ、内軸26が矢印方向に摺動回転自在に構成さ
れる。なお、この摺動部には、気密を保持するシール部
材と回転自在に支持するベアリングが設けられる。ま
た、前記内軸26には、横方向の通孔43が周方向に適
宜いくつか設けられており、前記負圧室24内の空間と
前記吸引孔11とが連通するようになっている。さら
に、前記リング体42の外周面には、吸引用パイプ44
が取り付けられ、図示しない真空ポンプと接続される。
負圧室49の壁部をなす断面コの字状のリング体42を
有する。このリング体42は、その内径部において前記
ヘッド軸22の内軸26の外周部と当接するようにして
設けられ、内軸26が矢印方向に摺動回転自在に構成さ
れる。なお、この摺動部には、気密を保持するシール部
材と回転自在に支持するベアリングが設けられる。ま
た、前記内軸26には、横方向の通孔43が周方向に適
宜いくつか設けられており、前記負圧室24内の空間と
前記吸引孔11とが連通するようになっている。さら
に、前記リング体42の外周面には、吸引用パイプ44
が取り付けられ、図示しない真空ポンプと接続される。
【0025】前記正圧室25は、図示のように、正圧室
25の壁部をなす断面コの字状のリング体44を有し、
このリング体44は、前記ヘッド軸22の外軸27に、
上記のリング体42と同様に摺動回転自在に設けられ
る。外軸27は、前記内軸26と一体的に構成されてお
り、外軸27の外周に固設されたギア48に図示しない
駆動手段からの駆動力が伝達されることにより、内軸2
6および外軸27が所定の回転数で回転駆動される。ま
た、前記外軸27には、横方向の通孔45が設けられ、
前記正圧室25内の空間と前記エア押付通路30とが連
通するようになっている。さらに、前記リング体44の
外周面には、エア押付用パイプ46が取り付けられ、図
示しないエアポンプと接続される。
25の壁部をなす断面コの字状のリング体44を有し、
このリング体44は、前記ヘッド軸22の外軸27に、
上記のリング体42と同様に摺動回転自在に設けられ
る。外軸27は、前記内軸26と一体的に構成されてお
り、外軸27の外周に固設されたギア48に図示しない
駆動手段からの駆動力が伝達されることにより、内軸2
6および外軸27が所定の回転数で回転駆動される。ま
た、前記外軸27には、横方向の通孔45が設けられ、
前記正圧室25内の空間と前記エア押付通路30とが連
通するようになっている。さらに、前記リング体44の
外周面には、エア押付用パイプ46が取り付けられ、図
示しないエアポンプと接続される。
【0026】また、前記チャック手段21のチャックプ
レート23の下方に配設されるブロック24は、上下両
面が平坦に研磨されたセラミックスからなり、図4に示
したように、厚さ方向に複数の貫通孔47…が形成され
る。尚、これらの貫通孔47…は、図4では図面の都合
上一部しか示していないが実際はブロック24の全面に
わたって、最小0.3mm程度の径に、通常0.6〜
0.8mm程度の径に形成される。
レート23の下方に配設されるブロック24は、上下両
面が平坦に研磨されたセラミックスからなり、図4に示
したように、厚さ方向に複数の貫通孔47…が形成され
る。尚、これらの貫通孔47…は、図4では図面の都合
上一部しか示していないが実際はブロック24の全面に
わたって、最小0.3mm程度の径に、通常0.6〜
0.8mm程度の径に形成される。
【0027】したがって、図示しない真空ポンプを作動
させると、前記負圧室24に所定の負圧が発生して、こ
れと連通する第1吸引溝38および第2吸引溝40に結
果的に吸引圧が発生し、被研磨体5を吸着することがで
きる。
させると、前記負圧室24に所定の負圧が発生して、こ
れと連通する第1吸引溝38および第2吸引溝40に結
果的に吸引圧が発生し、被研磨体5を吸着することがで
きる。
【0028】一方、前記正圧室25に所定の正圧を発生
させると、これと連通する第1押付溝37および第2押
付溝39に結果的にエア押付圧が発生し、図5に示した
ような被研磨体5にエア押付圧による面圧を与えること
となる。
させると、これと連通する第1押付溝37および第2押
付溝39に結果的にエア押付圧が発生し、図5に示した
ような被研磨体5にエア押付圧による面圧を与えること
となる。
【0029】ここで、前記負圧は、0〜600g/cm
2 の範囲で設定されるのが一般的であるが、装置の剛性
面や、圧力が低い程操業しやすいこと、あるいは被研磨
体に平坦度に影響を与えるような凹凸を発生させないこ
と等の観点から、100〜300g/cm2 程度とする
のが好ましい。また、前記正圧の値は、前記負圧との合
計圧が0〜300g/cm2 、好ましくは200g/c
m2 の負圧となるように設定するとよい。
2 の範囲で設定されるのが一般的であるが、装置の剛性
面や、圧力が低い程操業しやすいこと、あるいは被研磨
体に平坦度に影響を与えるような凹凸を発生させないこ
と等の観点から、100〜300g/cm2 程度とする
のが好ましい。また、前記正圧の値は、前記負圧との合
計圧が0〜300g/cm2 、好ましくは200g/c
m2 の負圧となるように設定するとよい。
【0030】特に、本実施例では、2つのサイズの被研
磨体を研磨できるようになっており、サイズの大きい方
の被研磨体を研磨する場合は、その被研磨体の外周端部
(図5においてa,bで示す)が第1押付溝37に対応
する所定の位置にくるように予め設定されており、サイ
ズの小さい方の被研磨体を研磨する場合は、その被研磨
体の外周端部(図5においてc,dで示す)が第2押付
溝39に対応する所定の位置にくるように予め設定され
ている。
磨体を研磨できるようになっており、サイズの大きい方
の被研磨体を研磨する場合は、その被研磨体の外周端部
(図5においてa,bで示す)が第1押付溝37に対応
する所定の位置にくるように予め設定されており、サイ
ズの小さい方の被研磨体を研磨する場合は、その被研磨
体の外周端部(図5においてc,dで示す)が第2押付
溝39に対応する所定の位置にくるように予め設定され
ている。
【0031】このようにして、被研磨体5が吸着保持さ
れたブロック24を、表面に研磨布6が貼付された図示
しない駆動手段により回転駆動される定盤7に向けて加
圧し摺動させて研磨する際には、該被研磨体5の外周端
部近傍のエア押付圧による面圧が高まり、ノズル17か
ら供給される研磨液の被研磨体5の吸着面への回り込み
を確実に防止することができる。
れたブロック24を、表面に研磨布6が貼付された図示
しない駆動手段により回転駆動される定盤7に向けて加
圧し摺動させて研磨する際には、該被研磨体5の外周端
部近傍のエア押付圧による面圧が高まり、ノズル17か
ら供給される研磨液の被研磨体5の吸着面への回り込み
を確実に防止することができる。
【0032】次に、本実施例の作用を説明する。本実施
例の研磨装置にあっては、まず、チャック手段21によ
り被研磨体5の吸着保持を行う。即ち、図示しない真空
ポンプを作動させると、負圧室24に所定の負圧が発生
して、ヘッド軸22の内軸26およびチャックプレート
23を介して連通する第1吸引溝38および第2吸引溝
40に結果的に吸引圧が発生し、これにより、チャック
手段21は、ブロック24を介して被研磨体5を吸着保
持する。
例の研磨装置にあっては、まず、チャック手段21によ
り被研磨体5の吸着保持を行う。即ち、図示しない真空
ポンプを作動させると、負圧室24に所定の負圧が発生
して、ヘッド軸22の内軸26およびチャックプレート
23を介して連通する第1吸引溝38および第2吸引溝
40に結果的に吸引圧が発生し、これにより、チャック
手段21は、ブロック24を介して被研磨体5を吸着保
持する。
【0033】次いで、被研磨体5を吸着保持したチャッ
ク手段21が下降し、ノズル17から研磨液を供給しな
がら、被研磨体5が保持されたブロック24を研磨布6
が貼り付けられた定盤7に向けて加圧し相対的に摺動さ
せることによって、被研磨体5の表面の研磨加工が行わ
れる。
ク手段21が下降し、ノズル17から研磨液を供給しな
がら、被研磨体5が保持されたブロック24を研磨布6
が貼り付けられた定盤7に向けて加圧し相対的に摺動さ
せることによって、被研磨体5の表面の研磨加工が行わ
れる。
【0034】ここにおいて、ノズル17からの研磨液の
供給、および被研磨体5の定盤7への接触前に、正圧室
25に所定の正圧を発生させ、これと連通する第1押付
溝37および第2押付溝39に結果的にエア押付圧が発
生する。これにより、従来吸引するのみであったために
ノズル17から供給される研磨液が被研磨体5の吸着面
へ回り込む傾向があったのに対し、被研磨体5の外周端
部近傍のエア押付圧による面圧が高まることにより、研
磨液の引き込みがないばかりか、入り込もうとする研磨
液を排除するので、研磨液の被研磨体5の吸着面への回
り込みが確実に防止される。
供給、および被研磨体5の定盤7への接触前に、正圧室
25に所定の正圧を発生させ、これと連通する第1押付
溝37および第2押付溝39に結果的にエア押付圧が発
生する。これにより、従来吸引するのみであったために
ノズル17から供給される研磨液が被研磨体5の吸着面
へ回り込む傾向があったのに対し、被研磨体5の外周端
部近傍のエア押付圧による面圧が高まることにより、研
磨液の引き込みがないばかりか、入り込もうとする研磨
液を排除するので、研磨液の被研磨体5の吸着面への回
り込みが確実に防止される。
【0035】また、本実施例では、サイズの大きい方の
被研磨体を研磨する場合は、第1押付溝37のエア押付
圧によりその被研磨体の外周端部のエア押付圧による面
圧が大きくなり、サイズの小さい方の被研磨体を研磨す
る場合は、第2押付溝39のエア押付圧によりその被研
磨体の外周端部のエア押付圧による面圧が大きくなるの
で、2つのサイズの被研磨体の研磨にそのまま使用する
ことが可能である。
被研磨体を研磨する場合は、第1押付溝37のエア押付
圧によりその被研磨体の外周端部のエア押付圧による面
圧が大きくなり、サイズの小さい方の被研磨体を研磨す
る場合は、第2押付溝39のエア押付圧によりその被研
磨体の外周端部のエア押付圧による面圧が大きくなるの
で、2つのサイズの被研磨体の研磨にそのまま使用する
ことが可能である。
【0036】図6は、本発明の他の実施例に係る研磨装
置の要部を示す構成図である。この研磨装置に使用され
るブロック54には、被研磨体が吸着保持される下面側
にたとえば弾性ゴム板等のシール部材55が埋設され、
また図示しない複数個の貫通孔が厚さ方向に形成されて
いる。このシール部材55は、上述した実施例のチャッ
ク手段21の第1押付溝37および第2押付溝39が設
けられる位置に対応した箇所に配設され、リング形状を
呈したものである。このようにすれば、簡易な構成で同
様な効果を得ることができる。
置の要部を示す構成図である。この研磨装置に使用され
るブロック54には、被研磨体が吸着保持される下面側
にたとえば弾性ゴム板等のシール部材55が埋設され、
また図示しない複数個の貫通孔が厚さ方向に形成されて
いる。このシール部材55は、上述した実施例のチャッ
ク手段21の第1押付溝37および第2押付溝39が設
けられる位置に対応した箇所に配設され、リング形状を
呈したものである。このようにすれば、簡易な構成で同
様な効果を得ることができる。
【0037】なお、以上説明した実施例は、本発明の理
解を容易にするために記載されたものであって、本発明
を限定するために記載されたものではない。したがっ
て、上記実施例に開示された各要素は、本発明の技術的
範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨であ
る。たとえば、上述した実施例では、チャック手段21
のヘッド軸22は、内軸26および外軸27からなる2
重軸構造に構成したが、本発明は、このような構造のみ
に限定されるものではなく、吸引溝および押付溝に所定
の負圧あるいは正圧を発生できる構造であれば適宜変更
して実施可能である。また、上述した実施例の研磨装置
では、一つのチャック手段21を有するものとして説明
したが、複数のチャック手段21を設けて同時に複数の
被研磨体を研磨できるように構成できることは言うまで
もない。
解を容易にするために記載されたものであって、本発明
を限定するために記載されたものではない。したがっ
て、上記実施例に開示された各要素は、本発明の技術的
範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨であ
る。たとえば、上述した実施例では、チャック手段21
のヘッド軸22は、内軸26および外軸27からなる2
重軸構造に構成したが、本発明は、このような構造のみ
に限定されるものではなく、吸引溝および押付溝に所定
の負圧あるいは正圧を発生できる構造であれば適宜変更
して実施可能である。また、上述した実施例の研磨装置
では、一つのチャック手段21を有するものとして説明
したが、複数のチャック手段21を設けて同時に複数の
被研磨体を研磨できるように構成できることは言うまで
もない。
【0038】
【発明の効果】以上、説明したように、本発明によれ
ば、チャック手段の被研磨体を保持する側の端面に、該
被研磨体を吸着するための吸引溝と、該被研磨体の外周
端部近傍に対応する位置に形成されたエアによる押付圧
が付与される押付溝とが設けられ、複数個の貫通孔が厚
さ方向に形成された円盤状のブロックを介して、被研磨
体を吸着保持するようにしたので、研磨する際に、従来
吸引するのみであったために研磨液が被研磨体の吸着面
へ回り込む傾向があったのに対し、被研磨体の外周端部
近傍のエア押付圧による面圧が高まることにより、研磨
液の引き込みがないばかりか、入り込もうとする研磨液
を排除することができる。したがって、研磨液が被研磨
体の吸着側に回り込むことを確実に防止することが可能
となる。
ば、チャック手段の被研磨体を保持する側の端面に、該
被研磨体を吸着するための吸引溝と、該被研磨体の外周
端部近傍に対応する位置に形成されたエアによる押付圧
が付与される押付溝とが設けられ、複数個の貫通孔が厚
さ方向に形成された円盤状のブロックを介して、被研磨
体を吸着保持するようにしたので、研磨する際に、従来
吸引するのみであったために研磨液が被研磨体の吸着面
へ回り込む傾向があったのに対し、被研磨体の外周端部
近傍のエア押付圧による面圧が高まることにより、研磨
液の引き込みがないばかりか、入り込もうとする研磨液
を排除することができる。したがって、研磨液が被研磨
体の吸着側に回り込むことを確実に防止することが可能
となる。
【0039】また、前記押付溝は、サイズの異なる複数
の被研磨体の外周端部近傍に対応する位置に、同心円状
に複数箇所設けたので、異なるサイズの被研磨体に対し
てそのまま使用することができる。
の被研磨体の外周端部近傍に対応する位置に、同心円状
に複数箇所設けたので、異なるサイズの被研磨体に対し
てそのまま使用することができる。
【図1】 本発明の一実施例に係る研磨装置の要部を示
す構成図である。
す構成図である。
【図2】 図1に示されるヘッド軸のA−A線に沿う方
向から見た下面図である。
向から見た下面図である。
【図3】 図1に示されるチャックプレートのB−B線
に沿う断面図である。
に沿う断面図である。
【図4】 図1に示されるブロックの平面図である。
【図5】 図1に示されるチャック手段21のエア押付
圧による面圧分布を示す図である。
圧による面圧分布を示す図である。
【図6】 本発明の他の実施例の研磨装置の要部を示す
構成図である。
構成図である。
【図7】 従来の研磨装置の要部を示す構成図である。
【図8】 図7に示されるブロックおよび被研磨体の断
面図である。
面図である。
5…被研磨体、 6…被研布、 7…定盤、 21…チャック手段 24…ブロック、 37,39…押付溝 38,40…吸引溝 47…貫通孔。
Claims (2)
- 【請求項1】 被研磨体(5) を吸着保持するチャック手
段(21)と、該被研磨体(5) を保持した側に配置される表
面に研磨布(6) が貼付された定盤(7) とを有し、研磨液
を供給しながら、前記チャック手段(21)により吸着保持
された被研磨体(5) を前記定盤(7) に向けて加圧しつつ
相対的に摺動させて研磨を行う研磨装置において、 前記チャック手段(21)は、被研磨体(5) を保持する側の
端面に、該被研磨体(5) を吸着するための吸引溝(38、4
0) と、該被研磨体(5) の外周端部近傍に対応する位置
に形成されたエアによる押付圧が付与される押付溝(37,
39) とが設けられ、複数個の貫通孔(47)が厚さ方向に形
成された円盤状のブロック(24)を介して、前記被研磨体
(5) を吸着保持することを特徴とする研磨装置。 - 【請求項2】 前記押付溝(37,39) は、サイズの異なる
複数の被研磨体(5)の外周端部近傍に対応する位置に、
同心円状に複数箇所設けられていることを特徴とする請
求項1に記載の研磨装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6086995A JPH07290355A (ja) | 1994-04-25 | 1994-04-25 | 研磨装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6086995A JPH07290355A (ja) | 1994-04-25 | 1994-04-25 | 研磨装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07290355A true JPH07290355A (ja) | 1995-11-07 |
Family
ID=13902466
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6086995A Pending JPH07290355A (ja) | 1994-04-25 | 1994-04-25 | 研磨装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07290355A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0896859A2 (en) * | 1997-08-11 | 1999-02-17 | Tokyo Seimitsu Co.,Ltd. | Wafer polishing apparatus |
JP2006160434A (ja) * | 2004-12-06 | 2006-06-22 | Nippon Dempa Kogyo Co Ltd | 非接触搬送装置 |
JP2007208070A (ja) * | 2006-02-02 | 2007-08-16 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | ウェーハ研磨装置及び方法 |
JP2017037993A (ja) * | 2015-08-11 | 2017-02-16 | 有限会社サクセス | 半導体ウエハ保持具、半導体ウエハ研削装置、及び、半導体ウエハ研削方法 |
WO2018182945A1 (en) * | 2017-03-30 | 2018-10-04 | Applied Materials, Inc. | Adhesive-less carriers for chemical mechanical polishing |
CN109648460A (zh) * | 2018-12-20 | 2019-04-19 | 丰豹智能科技(上海)有限公司 | 一种无电流多分区可拆卸感应装置 |
CN115256219A (zh) * | 2022-08-30 | 2022-11-01 | 北京特思迪半导体设备有限公司 | 一种基于正负压耦合的防吸入抛磨基材固定装置及方法 |
-
1994
- 1994-04-25 JP JP6086995A patent/JPH07290355A/ja active Pending
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0896859A2 (en) * | 1997-08-11 | 1999-02-17 | Tokyo Seimitsu Co.,Ltd. | Wafer polishing apparatus |
EP0896859A3 (en) * | 1997-08-11 | 2002-08-28 | Tokyo Seimitsu Co.,Ltd. | Wafer polishing apparatus |
JP2006160434A (ja) * | 2004-12-06 | 2006-06-22 | Nippon Dempa Kogyo Co Ltd | 非接触搬送装置 |
JP2007208070A (ja) * | 2006-02-02 | 2007-08-16 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | ウェーハ研磨装置及び方法 |
JP2017037993A (ja) * | 2015-08-11 | 2017-02-16 | 有限会社サクセス | 半導体ウエハ保持具、半導体ウエハ研削装置、及び、半導体ウエハ研削方法 |
WO2018182945A1 (en) * | 2017-03-30 | 2018-10-04 | Applied Materials, Inc. | Adhesive-less carriers for chemical mechanical polishing |
CN109648460A (zh) * | 2018-12-20 | 2019-04-19 | 丰豹智能科技(上海)有限公司 | 一种无电流多分区可拆卸感应装置 |
CN115256219A (zh) * | 2022-08-30 | 2022-11-01 | 北京特思迪半导体设备有限公司 | 一种基于正负压耦合的防吸入抛磨基材固定装置及方法 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20001226 |