JPH10239692A - 液晶表示装置およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 確実に基板間の間隙を規制でき、優れた表示
品位が得られる液晶表示装置およびその製造方法を提供
する。 【解決手段】 所定の間隔をあけて配置された一対の基
板部材２ａ，３ａの間には、液晶層４が介在される。一
対の基板部材２ａ，３ａの液晶層側の最表面であって、
表示領域以外の領域には、形状記憶樹脂からなるギャッ
プ調整層９ａ，１３ａがそれぞれ形成される。ギャップ
調整層９ａ，１３ａの各突起１７が互いに当接して基板
部材２ａ，３ａが貼り合わされることによって、一対の
基板部材２ａ，３ａの配向膜８，１２同士の間には、前
記所定の間隔が均一に形成される。突起１７は確実に固
定されるので、表示領域内の液晶分子の配向秩序を乱す
ことはなく、優れた表示品位を得ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置およ
びその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】図１３は、従来技術である液晶表示装置
１０１の構成を示す断面図である。液晶表示装置１０１
は、一対の基板部材１０２ａ，１０３ａと、該基板部材
間に介在される液晶層１０４と、基板部材１０２ａ，１
０３ａの液晶層１０４とは反対側にそれぞれ配置される
偏光板１１３，１１４とを含んで構成される。

【０００３】一対の基板部材１０２ａ，１０３ａは、と
もに、透光性を有する基板１０５，１０８の一方表面に
表示用の透明電極１０６，１０９をそれぞれ形成し、さ
らに該透明電極１０６，１０９を覆って透光性基板１０
５，１０８の一方表面上に配向膜１０７，１１０をそれ
ぞれ形成して構成される。

【０００４】このような一対の基板部材１０２ａ，１０
３ａは、いずれか一方基板部材の配向膜上にスペーサ１
１２を散布した後、配向膜同士が互いに対向するように
して、基板部材１０２ａ，１０３ａの周縁部がシール材
１１１で接着される。これによって、一対の基板部材間
には、たとえば球状のスペーサ１１２ではその直径に相
当する間隙が形成される。形成された間隙に液晶を注入
することによって液晶層１０４が形成され、このように
して液晶表示装置１０１が構成される。

【０００５】前記スペーサは、アルコールなどの揮発性
溶液中にスペーサを混入して超音波などで分散させた
後、該溶液を所定の基板に噴霧し、乾燥させる湿式法
や、静電気や気流を利用して散布する乾式法などによっ
て散布される。このような散布法では、散布量や散布時
間などを調整して、スペーサの密度を制御している。

【０００６】図１４は、特開平５−３０３１０２号公報
に開示された従来技術である液晶表示装置１２１を示す
断面図である。前記液晶表示装置１０１と同様の構成部
材には同様の参照符号を付す。前記基板部材１０２ａに
相当する基板部材１０２ｂは、透光性基板１０５の一方
表面にブラック線１２２を形成し、該ブラック線１２２
を覆って絶縁膜１２３を形成し、該絶縁膜１２３の上で
あって前記ブラック線１２２の上にスペーサ１１２を固
定し、さらに該スペーサ１１２を覆って配向膜１０７を
形成して構成される。

【０００７】前記ブラック線１２２は、ゲート電極やド
レイン電極など、表示画面上で黒く見える部分に相当す
る。また、前記スペーサ１１２は、紫外線硬化型のイン
キに混合されて所定の位置にフレクシャー印刷法または
スクリーン印刷法で点状に印刷された後、紫外線を照射
してインキを硬化させることによって固定される。

【０００８】図１５は、特開平６−１４８６５３号公報
に開示された従来技術である液晶表示装置１３１を示す
断面図である。前記液晶表示装置１０１と同様の構成部
材には同様の参照符号を付す。前記基板部材１０２ａに
相当する基板部材１０２ｃは、透光性基板１０５の一方
表面の予め定められる画素領域Ａに画素電極としての透
明電極１０６を、該画素領域Ａ以外の領域に樹脂膜１３
２をそれぞれ形成し、さらに樹脂膜１３２上にスペーサ
１１２を固定して構成される。また、前記基板部材１０
３ａに相当する基板部材１０３ｃは、透光性基板１０８
の一方表面であって、前記基板部材１０２ｃの画素領域
Ａ以外の領域に対向する領域にブラックマスク１３３を
形成し、該ブラックマスク１３３を覆って絶縁膜１３４
を形成し、さらに透明電極１０９を形成して構成され
る。

【０００９】前記スペーサ１１２は、感光性ポリイミド
前駆体やフォトレジストなどの樹脂液中に混合されて所
定の位置に塗布された後、樹脂液を乾燥させることによ
って固定される。

【００１０】図１６は、特開平６−３０１０４０号公報
に開示された液晶表示装置１４１を示す断面図である。
前記液晶表示装置１０１と同様の構成部材には同様の参
照符号を付す。前記基板部材１０２ａに相当する基板部
材１０２ｄは、次のようにして構成される。透光性基板
１０５の一方表面であって、予め定められる画素領域以
外の領域に遮光膜１４２を形成し、該遮光膜１４２を覆
って絶縁膜１４３を形成する。さらに、絶縁膜１４３上
の画素領域に画素電極としての透明電極１０６を形成
し、該透明電極１０６を覆って配向膜１０７を形成す
る。さらに、配向膜１０７上であって、画素領域以外の
領域に光硬化樹脂層１４４を形成し、該光硬化樹脂層１
４４上にスペーサ１１２を固定する。

【００１１】前記スペーサ１１２は、基板１０５の一方
表面とは反対側の他方表面側から光を照射して光硬化樹
脂層１４４を硬化させることによって固定される。

【００１２】図１７は、特開平７−５４７５号公報に開
示された液晶表示装置１５１を示す断面図である。前記
液晶表示装置１０１と同様の構成部材には同様の参照符
号を付す。前記基板部材１０２ａに相当する基板部材１
０２ｅは、透光性基板１０５の一方表面にバスライン１
５２を形成し、該バスライン１５２を覆って絶縁物質層
１５３を形成し、さらにＴＦＴ素子１５４と画素電極と
しての透明電極１０６とバスライン１５５とを形成し、
これらを覆って配向膜１０７を形成して構成される。ま
た、基板部材１０３ａに相当する基板部材１０３ｅは、
透光性基板１０８の一方表面にブラックマスク１５６と
スペーサ１１２とを同時に形成し、さらに共通電極とし
ての透明電極１０９を形成した後、配向膜１１０を形成
して構成される。

【００１３】ブラックマスク１５６およびスペーサ１１
２は、ブラックマスクとなる物質を含む溶液中にスペー
サとなるガラスファイバなどの無機物を混合し、該溶液
を所定の基板に塗布し、所定の領域を露光し、現像する
ことによって形成される。スペーサ１１２は、透明電極
１０９および配向膜１１０から突出して、ブラックマス
ク１５６によって固定される。ブラックマスク１５６は
表示領域以外の領域に設けられるので、スペーサ１１２
も同様に表示領域以外の領域に設けられる。

【００１４】

【発明が解決しようとする課題】図１３に示される液晶
表示装置１０１では、スペーサ１１２は所定の基板上に
散布されるので、基板上の任意の位置に配置される。す
なわち、表示用の透明電極１０６，１０９の上にも配置
される。配向が規制された液晶分子中に配置されたスペ
ーサは、該液晶分子の配向秩序を乱すので、上述のよう
に電極１０６，１０９の上にスペーサ１１２が配置され
ると、表示品位が著しく低下する。また、スペーサ部分
には液晶が存在しないので、液晶の駆動状態によらず表
示は常に白色状態となり、表示品位が著しく低下する。
このような表示品位の低下は、たとえばプロジェクショ
ン方式を採用した液晶表示装置において顕著である。

【００１５】また、スペーサは配向膜などと点接触する
ので、基板同士の貼り合わせ時の圧力や衝撃などが過大
な局部的荷重として加わる。このため、表示領域内に配
置されたときには、表示用の電極やＴＦＴ素子などのア
クティブスイッチング素子に損傷を与えることがあり、
また表示領域以外の領域に配置されたときには、液晶駆
動用の引出し電極などに損傷を与える可能性がある。

【００１６】このような課題は、図１４〜図１７に示し
た先行技術のように、スペーサ１１２を表示領域以外の
所定の領域のみに配置することによって解消できるが、
スペーサが表示領域に配置されることのないよう、所定
領域に樹脂などで確実に固定することは困難である。

【００１７】また、図１４、図１５および図１７に示し
た先行技術では、スペーサ１１２を固定した後にラビン
グ処理などによって配向膜を形成することとなるが、ス
ペーサを剥がすことなく均一にラビング処理することは
困難である。

【００１８】本発明の目的は、確実に基板間の間隙を規
制でき、優れた表示品位が得られる液晶表示装置および
その製造方法を提供することである。

【００１９】

【課題を解決するための手段】本発明は、所定の間隔を
あけて配置された一対の基板間に液晶層を介在して構成
される液晶表示装置において、前記一対の基板のうちの
少なくともいずれか一方基板の液晶層側には、該一方基
板に対向する他方基板の液晶層側最表面に当接して一対
の基板間に前記所定の間隔を形成する突起を有するギャ
ップ調整層が形成されていることを特徴とする液晶表示
装置である。本発明に従えば、ギャップ調整層の突起に
よって一対の基板間に所定の間隔が均一に形成される。
前記突起は従来技術のようにスペーサを樹脂などで固定
したものではなく、ギャップ調整層の一部として形成さ
れるので、確実に固定され、ラビング処理などによって
容易に剥がれることはない。したがって、液晶分子の配
向秩序が乱れることはなく、優れた表示品位が得られ
る。また、基板同士の貼り合わせ時の圧力や衝撃などに
よって、表示用の電極、アクティブスイッチング素子お
よび液晶駆動用の引出し電極などに損傷が加わることは
ない。ギャップ調整層が一方基板の液晶層側のみに形成
されているときには、該ギャップ調整層が当接する他方
基板の液晶層側最表面とは、たとえば配向膜の表面とな
る。また、ギャップ調整層が一方および他方基板の液晶
層側にともに形成されているときには、一方基板側のギ
ャップ調整層が当接する他方基板の液晶層側最表面と
は、他方基板側のギャップ調整層の突起部の表面とな
る。

【００２０】また本発明は、前記ギャップ調整層は、基
板の液晶層側表面に形成された液晶分子の配向を規制す
る配向膜上に形成されていることを特徴とする。本発明
に従えば、配向膜上に形成されたギャップ調整層の突起
によって一対の基板間に所定の間隔が均一に形成され
る。ラビング処理によって配向膜が形成された後にギャ
ップ調整層が形成されることとなるので、ラビング処理
によって突起が剥がれることはなく、優れた表示品位を
得ることができる。

【００２１】また本発明は、前記ギャップ調整層は基板
の液晶層側表面に形成され、当該ギャップ調整層の上に
は液晶分子の配向を規制する配向膜が形成されているこ
とを特徴とする。本発明に従えば、配向膜を介するギャ
ップ調整層の突起によって一対の基板間に所定の間隔が
均一に形成される。突起は確実に固定され、ラビング処
理などによって容易に剥がれることはない。

【００２２】また本発明は、前記ギャップ調整層は、基
板の液晶層側表面に、液晶分子の配向を規制する配向膜
とともに形成されていることを特徴とする。本発明に従
えば、配向膜とともに形成されたギャップ調整層の突起
によって、一対の基板間に所定の間隔が均一に形成され
る。突起は確実に固定され、ラビング処理などによって
容易に剥がれることはない。

【００２３】また本発明は、前記ギャップ調整層の前記
突起を除く領域の厚みは、前記配向膜の厚みよりも薄い
ことを特徴とする。本発明に従えば、配向膜の厚みより
もギャップ調整層の突起を除く領域の厚みの方が薄く選
ばれ、配向膜形成時のラビング処理の影響はギャップ調
整層には与えられないので、ギャップ調整層による液晶
分子の配向秩序の乱れを防ぐことができる。

【００２４】また本発明は、前記ギャップ調整層は予め
定められる光透過領域以外の領域に形成されていること
を特徴とする。本発明に従えば、ギャップ調整層は光透
過領域以外の所定の領域に形成されるので、表示にかか
わる光が当該ギャップ調整層によって遮光されることは
ない。したがって、コントラスト比の優れた表示品位を
得ることができる。

【００２５】また本発明は、前記ギャップ調整層は、液
晶分子を所定の方向に配列させる配向膜としての機能を
有することを特徴とする。本発明に従えば、ギャップ調
整層は配向膜としても機能するので、配向膜を別途設け
る必要はなく、構成を簡略化することができる。

【００２６】また本発明は、前記ギャップ調整層は、形
状記憶樹脂から形成されていることを特徴とする。本発
明に従えば、前記ギャップ調整層は形状記憶樹脂によっ
て作成することができる。

【００２７】また本発明は、所定の間隔をあけて配置さ
れた一対の基板間に液晶層を介在して構成される液晶表
示装置の製造方法において、前記一対の基板のうちの少
なくともいずれか一方基板の一方表面側に形状記憶樹脂
からなる樹脂層を形成する工程と、前記樹脂層の所定の
領域を加熱して突起を形成する工程と、前記突起と、前
記他方基板の一方最表面とを当接させて、一対の基板を
貼り合わせる工程と、前記一対の基板間に形成された間
隙に液晶を注入する工程とを含むことを含むことを特徴
とする液晶表示装置の製造方法である。本発明に従え
ば、形状記憶樹脂からなる樹脂層の所定の領域を加熱す
ることによって前記ギャップ調整層の突起が形成され
る。このようにして形成された突起は確実に固定され、
ラビング処理などによって容易に剥がれることはないの
で、優れた表示品位が得られる液晶表示装置を作成する
ことができる。

【００２８】また本発明は、所定の間隔をあけて配置さ
れた一対の基板間に液晶層を介在して構成される液晶表
示装置の製造方法において、前記一対の基板のうちの少
なくともいずれか一方基板の一方表面に液晶分子の配向
を規制する配向膜を形成する工程と、前記配向膜上の予
め定められる領域に形状記憶樹脂からなる樹脂層を形成
する工程と、前記樹脂層の所定の領域を加熱して突起を
形成する工程と、前記突起と、前記他方基板の一方最表
面とを当接させて、一対の基板を貼り合わせる工程と、
前記一対の基板間に形成された間隙に液晶を注入する工
程とを含むことを含むことを特徴とする液晶表示装置の
製造方法である。本発明に従えば、配向膜上に形成され
た形状記憶樹脂からなる樹脂層の所定の領域を加熱する
ことによって前記ギャップ調整層の突起が形成される。
ラビング処理によって配向膜が形成された後に突起が形
成されるので、ラビング処理によって突起を剥がすこと
なく液晶表示装置を作成することができる。

【００２９】また本発明は、所定の間隔をあけて配置さ
れた一対の基板間に液晶層を介在して構成される液晶表
示装置の製造方法において、前記一対の基板のうちの少
なくともいずれか一方基板の一方表面に形状記憶樹脂か
らなる樹脂層を形成する工程と、前記樹脂層を覆って液
晶分子の配向を規制する配向膜を形成する工程と、前記
樹脂層の所定の領域を配向膜上から加熱して突起を形成
する工程と、前記一方基板の突起上の配向膜表面と、前
記他方基板の一方最表面とを当接させて、一対の基板を
貼り合わせる工程と、前記一対の基板間に形成された間
隙に液晶を注入する工程とを含むことを含むことを特徴
とする液晶表示装置の製造方法である。本発明に従え
ば、形状記憶樹脂からなる樹脂層の所定の領域を加熱す
ることによって前記ギャップ調整層の突起が形成され、
該突起が形成された樹脂層上に配向膜が形成される。こ
のようにして形成された突起は確実に固定される。

【００３０】また本発明は、所定の間隔をあけて配置さ
れた一対の基板間に液晶層を介在して構成される液晶表
示装置の製造方法において、前記一対の基板のうちの少
なくともいずれか一方基板の一方表面内であって、予め
定められる光透過領域以外の領域に、形状記憶樹脂から
なる樹脂層を形成する工程と、前記一方基板の一方表面
内であって、前記光透過領域に、液晶分子の配向を規制
する配向膜を形成する工程と、前記樹脂層の所定の領域
を加熱して突起を形成する工程と、前記突起と、前記他
方基板の一方最表面とを当接させて、一対の基板を貼り
合わせる工程と、前記一対の基板間に形成された間隙に
液晶を注入する工程とを含むことを含むことを特徴とす
る液晶表示装置の製造方法である。本発明に従えば、光
透過領域以外の所定の領域に形成された形状記憶樹脂か
らなる樹脂膜の所定の領域を加熱することによって前記
ギャップ調整層の突起が形成され、光透過領域には配向
膜が形成される。このようにして形成された突起は所定
の領域に確実に固定される。

【００３１】また本発明は、前記樹脂層の厚みは、前記
配向膜の厚みよりも薄く形成されることを特徴とする。
本発明に従えば、配向膜の厚みよりも樹脂層の厚みの方
が薄く形成され、配向膜形成時のラビング処理の影響は
樹脂層には与えられない。したがって、液晶分子の配向
秩序を乱すことのないギャップ調整層を形成することが
できる。

【００３２】また本発明は、所定の間隔をあけて配置さ
れた一対の基板間に液晶層を介在して構成される液晶表
示装置の製造方法において、前記一対の基板のうちの少
なくともいずれか一方基板の一方表面に、形状記憶樹脂
からなる樹脂層を形成する工程と、前記樹脂層に対し
て、液晶分子の配向を規制するための配向処理を施す工
程と、前記樹脂層の所定の領域を加熱して突起を形成す
る工程と、前記突起と、前記他方基板の一方最表面とを
当接させて、一対の基板を貼り合わせる工程と、前記一
対の基板間に形成された間隙に液晶を注入する工程とを
含むことを含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方
法である。本発明に従えば、樹脂層に対して配向処理が
施され、該樹脂層の所定の領域を加熱することによって
前記突起が形成される。突起は確実に固定され、また配
向膜とギャップ調整層とを兼用することができ、簡単な
構成の液晶表示装置を作成することができる。

【００３３】また本発明は、前記突起を形成する工程で
は、形成される突起の高さが検出され、該突起が予め定
められる高さとなるように樹脂層の加熱条件が制御され
ることを特徴とする。本発明に従えば、形成される突起
の高さが検出されて、該突起が予め定められる高さとな
るように樹脂層の加熱条件が制御されるので、所定の高
さの突起を確実に形成でき、均一性の高い間隔を一対の
基板間に形成することができ、面内均一性の優れた表示
品位の液晶表示装置を作成することができる。

【００３４】また本発明は、前記樹脂層の加熱は、レー
ザ光によって行われることを特徴とする。本発明に従え
ば、レーザ光によって樹脂層が加熱されて突起が形成さ
れる。したがって、所望の領域のみを確実にかつ容易に
加熱できる。

【００３５】

【発明の実施の形態】図１は、本発明の第１実施形態で
ある液晶表示装置１ａの構成を示す断面図である。図２
は、前記液晶表示装置１ａの一方基板部材２ａを示す平
面図である。液晶表示装置１ａは、一対の基板部材２
ａ，３ａと、該基板部材間に介在される液晶層４と、基
板部材２ａ，３ａの液晶層４とは反対側にそれぞれ配置
される偏光板１４，１５とを含んで構成される。

【００３６】一対の基板部材２ａ，３ａのうちの一方基
板部材２ａは、ガラスなどで実現される透光性基板５、
ＩＴＯ（インジウム錫酸化物）などで実現される表示用
の透明な画素電極６、液晶駆動用のスイッチング素子で
あるＴＦＴ（薄膜トランジスタ）素子７、ポリイミド樹
脂などで実現される配向膜８、ギャップ調整層９ａ、ゲ
ート配線２７、ソース配線２８および蓄積容量素子３０
を含んで構成される。

【００３７】透光性基板５の液晶層側の一方表面５ａに
は、帯状の複数のゲート配線２７が等間隔に配置され、
さらに帯状の複数のソース配線２８が、ゲート配線２７
とは直交する方向に等間隔に配置される。ゲート配線２
７とソース配線２８とは、絶縁膜１９によって互いに絶
縁を保持している。ゲート配線２７、ソース配線２８お
よび絶縁膜１９は、それぞれ既知の材料で実現すること
ができる。

【００３８】前記ゲート配線２７とソース配線２８とに
よって囲まれた矩形の各領域内には、画素電極６、ＴＦ
Ｔ素子７および蓄積容量素子３０がそれぞれ配置され
る。画素電極６が設けられた領域が、概ね表示にかかわ
る領域（以降、「表示領域」という）である。

【００３９】前記ゲート配線２７、ソース配線２８、画
素電極６、ＴＦＴ素子７および蓄積容量素子３０を覆っ
て、透光性基板５の一方表面５ａにはさらに配向膜８が
配置され、該配向膜８の上であって、前記表示領域以外
の領域内の、たとえばＴＦＴ素子７に重畳する領域にギ
ャップ調整層９ａが配置される。ギャップ調整層９ａ
は、形状記憶樹脂からなり、配向膜８と接する樹脂層１
６ａと、該樹脂層１６ａから突出する突起１７とを含ん
で構成される。

【００４０】前記ＴＦＴ素子７は、具体的に、ゲート配
線２７に接続されるゲート電極１８、該ゲート電極１８
を覆う絶縁膜１９、該絶縁膜１９の上に配置されるａ−
Ｓｉ層２０、該ａ−Ｓｉ層２０の上に配置され、ｎ＋ａ
−Ｓｉ層で実現されるコンタクト層２１，２２、一方の
コンタクト層２１の上に配置され、ソース配線２８に接
続されるソース電極２４、他方のコンタクト層２２の上
に配置され、画素電極６と接続されるドレイン電極２５
およびコンタクト層２１，２２の間に配置されるパッシ
ベーション層２３を含んで構成される。

【００４１】また、蓄積容量素子３０は、画素電極６か
ら延設される一方電極３１と、該電極３１との間でコン
デンサを形成し、絶縁膜１９を介してソース配線２８と
接続される他方電極３２とを含んで構成される。電極３
１，３２の間に形成されるコンデンサ部分は、画素電極
部分から放電される電荷を補って表示を安定させる。

【００４２】一対の基板部材２ａ，３ａのうちの前記一
方基板部材２ａとは異なる他方基板部材３ａは、ガラス
などで実現される透光性基板１０、ＩＴＯなどで実現さ
れる表示用の透明な共通電極１１、ポリイミド樹脂など
で実現される配向膜１２およびギャップ調整層１３ａを
含んで構成される。

【００４３】透光性基板１０の液晶層側の一方表面１０
ａには、ほぼ全面に共通電極１１が配置され、さらに配
向膜１２が配置され、該配向膜１２の上であって、基板
部材２ａ，３ａを貼り合わせたときにＴＦＴ素子７に重
畳する領域には、ギャップ調整層１３ａが配置される。
ギャップ調整層１３ａは、前記ギャップ調整層９ａと同
様に、配向膜１２と接する樹脂層１６ａと、該樹脂層１
６ａから突出する突起１７とを含んで構成される。ギャ
ップ調整層９ａ，１３ａを表示領域以外の領域内に配置
することによって、突起１７による液晶分子の配向の乱
れを防止でき、表示品位の低下を防ぐことができる。

【００４４】前記ギャップ調整層９ａ，１３ａの突起１
７同士は互いに当接しており、基板部材２ａ，３ａの配
向膜８，１２の間の間隔は、ギャップ調整層９ａの高さ
とギャップ調整層１３ａの高さとを足し合わせた長さと
なっている。該間隔には、たとえばネマティック液晶で
実現される液晶層４が配置され、該液晶層４の液晶分子
２６は、表示電圧が印加されていない状態において、前
記基板部材２ａ，３ａの間で、たとえば９０°以上捩れ
配向している。

【００４５】前記偏光板１４は、透光性基板５の液晶層
４とは反対側の他方表面５ｂに貼り付けられ、偏光板１
５は、透光性基板１０の液晶層４とは反対側の他方表面
１０ｂに貼り付けられている。

【００４６】図３は、前記液晶表示装置１ａの製造方法
を説明するための工程図である。基板部材３ａを作成す
る工程ａ１〜ａ６と、基板部材２ａを作成する工程ａ７
〜ａ１２とは並列して実施可能である。

【００４７】工程ａ１では、透光性基板１０が準備され
る。工程ａ２では、透光性基板１０の一方表面１０ａに
共通電極１１が形成される。工程ａ３では、共通電極１
１の上に配向膜１２となる樹脂膜が形成される。工程ａ
４では、前記樹脂膜の表面にラビング処理が施されて、
配向膜１２が形成される。

【００４８】工程ａ５では、配向膜１２の上にギャップ
調整層１３ａの樹脂層１６ａが形成される。該樹脂層１
６ａは、形状記憶樹脂を印刷法などで所定の位置に印刷
して形成される。工程ａ６では、後述する突起生成装置
を用いて前記樹脂層１６ａの所定の領域をレーザ光で加
熱することによって、予め定められる高さの突起１７が
形成される。このようにして基板部材３ａが完成する。

【００４９】工程ａ７では、透光性基板５が準備され
る。工程ａ８では、透光性基板５の一方表面５ａに画素
電極６やＴＦＴ素子７などが形成される。工程ａ９で
は、画素電極６やＴＦＴ素子７などを覆って透光性基板
５の一方表面５ａに、配向膜８となる樹脂膜が形成され
る。工程ａ１０では、前記樹脂膜の表面にラビング処理
が施されて、配向膜８が形成される。

【００５０】工程ａ１１では、配向膜８の上にギャップ
調整層９ａの樹脂層１６ａが形成される。該樹脂層１６
ａは、前記工程ａ５と同様に、形状記憶樹脂を印刷法な
どで所定の位置に印刷して形成される。工程ａ１２で
は、後述する突起生成装置を用いて前記樹脂層１６ａの
所定の領域をレーザ光で加熱することによって、予め定
められる高さの突起１７が形成される。このようにして
基板部材２ａが完成する。

【００５１】工程ａ１３では、基板部材２ａ，３ａの突
起１７同士が互いに当接するようにして、該基板部材２
ａ，３ａが対向配置され、液晶注入用の注入口をあけて
周縁部が貼り合わせられる。工程ａ１４では、ギャップ
調整層９ａ，１３ａによって形成された間隙に、液晶が
注入され、注入口が封止される。工程ａ１５では、偏光
板１４，１５が貼り付けられる。このようにして液晶表
示装置１ａが完成する。

【００５２】図４は、ギャップ調整層９ａ，１３ａの突
起１７を形成するときに用いられる突起生成装置を示す
図である。突起を形成すべき基板５，１０は、Ｘ−Ｙテ
ーブル４１上に載置されて、固定される。基板５，１０
には、樹脂層１６ａが形成されており、該樹脂層１６ａ
の所定領域に対するレーザ光照射による加熱によって突
起１７が形成される。

【００５３】ここで、Ｘ−Ｙテーブル４１は、Ｘ軸駆動
装置４２とＹ軸駆動装置４３とによって、互いに直交す
る方向に移動可能に構成される。制御回路４６からの制
御信号にしたがってＸ軸位置決め回路４４で決定された
位置に、Ｘ軸駆動回路４２がＸ−Ｙテーブル４１を移動
することによって、Ｘ軸方向の位置が決定される。同様
にして、制御回路４６からの制御信号にしたがってＹ軸
位置決め回路４５で決定された位置に、Ｙ軸駆動回路４
３がＸ−Ｙテーブル４１を移動することによって、Ｙ軸
方向の位置が決定される。

【００５４】Ｘ−Ｙテーブル４１の載置面上方には、突
起生成用のレーザ光出射装置５３と、突起高さ検出用の
レーザ光出射装置４７と、突起高さ検出用のレーザ光受
光装置５０とが配置される。レーザ光出射装置５３から
のレーザ光５４を樹脂層１６ａの所定領域に照射するこ
とによって、該領域の樹脂層１６ａが加熱され、突起１
７が形成される。

【００５５】このとき、レーザ光出射装置４７からのレ
ーザ光４８が形成された突起１７に照射され、該レーザ
光４８の反射レーザ光４９がレーザ光受光装置５０で受
光される。突起高さ検出回路５１は、レーザ光受光装置
５０の出力に基づいて、形成された突起１７の高さを随
時検出する。検出された高さは、制御回路４６に与えら
れる。

【００５６】制御回路４６は、検出された高さが所定の
高さであるかどうかを判定し、検出された高さが所定の
高さとなるようなレーザ光の照射条件、たとえばレーザ
光強度や照射時間をレーザ制御回路５２に与える。レー
ザ制御回路５２は、与えられた照射条件でレーザ光５４
が照射されるように、レーザ光出射装置５３を駆動す
る。

【００５７】前記樹脂層１６ａを構成する形状記憶樹脂
は、ガラス転移点以上で融点以下の状態ではゴム弾性を
示し、またガラス転移点未満の室温状態ではゴム弾性を
示さない。したがって、形状記憶樹脂からなる樹脂層１
６ａにレーザ光５４を照射して、ガラス転移点以上で融
点以下の温度に加熱することによって、該樹脂層１６ａ
は膨張し、突起１７が形成される。レーザ光５４の照射
を停止すると、樹脂層１６ａおよび形成された突起１７
は急冷される。このとき、加熱時の形状のまま応力が凍
結されるので、突起１７の形状が維持される。

【００５８】このような形状記憶樹脂としては、ポリウ
レタン系の樹脂を用いることができ、特にガラス転移点
が比較的高く、ガラス転移点を境にして動的粘弾性係数
が急激に変化する樹脂が好ましい。樹脂層１６ａの膜厚
を１μｍとすると、約２〜３μｍの高さの突起１７を形
成することができる。

【００５９】ギャップ調整層９ａ，１３ａは、形状記憶
樹脂のみからなるものに限らず、有機色素を含有した形
状記憶樹脂からなるものであってもかまわない。前記有
機色素は、発熱源となり、レーザ光５４の加熱効果を増
長させるので好ましい。

【００６０】以上のように第１実施形態によれば、一対
の基板部材２ａ，３ａがともに有するギャップ調整層９
ａ，１３ａの突起１７同士によって、一対の基板部材２
ａ，３ａの配向膜８，１２の間に所定の間隔が均一に形
成される。前記突起１７は、従来技術のようにスペーサ
を樹脂などで固定したものではなく、形状記憶樹脂から
なる樹脂層１６ａの所定の領域を加熱することによって
形成されるので、確実に固定され、ラビング処理などに
よって容易に剥がれることはない。したがって、表示領
域以外の所定の領域のみに確実に固定できる。このた
め、表示領域内の液晶分子の配向秩序を乱すことはな
く、また基板部材同士の貼り合わせ時の圧力や衝撃など
によって、表示用の電極６，１１、ＴＦＴ素子７および
液晶駆動用の引出し電極などに損傷が加わることはな
く、優れた表示品位を得ることができる。

【００６１】また、前記ギャップ調整層９ａ，１３ａは
配向膜８，１２の上にそれぞれ形成され、ラビング処理
によって配向膜８，１２が形成された後にギャップ調整
層９ａ，１３ａが形成されるので、ラビング処理によっ
てギャップ調整層９ａ，１３ａが剥がれることはない。

【００６２】また、ギャップ調整層９ａ，１３ａは、表
示領域以外の所定の領域に形成されるので、表示にかか
わる光が当該ギャップ調整層９ａ，１３ａによって遮光
されることはない。したがって、コントラスト比の低下
を防止することができる。

【００６３】また、形成される突起１７の高さが検出さ
れて、該突起１７が予め定められる高さとなるように樹
脂層１６ａの加熱条件が制御されるので、所定の高さの
突起１７を確実に形成でき、均一性の高い間隔を一対の
基板部材２ａ，３ａの間に形成することができ、面内均
一性の優れた表示品位の液晶表示装置１ａを作成するこ
とができる。

【００６４】また、前記樹脂層１６ａはレーザ光５４に
よって所望の領域のみを確実にかつ容易に加熱できる。

【００６５】図５は、本発明の第２実施形態である液晶
表示装置１ｂの構成を示す断面図である。液晶表示装置
１ｂは、前記液晶表示装置１ａの基板部材２ａ，３ａに
代わって基板部材２ｂ，３ｂを用いたものであり、該基
板部材２ｂ，３ｂは、前記配向膜８，１２に代わって配
向膜６１，６２を用いたものである。

【００６６】液晶表示装置１ｂの一方基板部材２ｂで
は、具体的に、透光性基板５の一方表面５ａに、ゲート
配線２７、ソース配線２８、画素電極６、ＴＦＴ素子７
および蓄積容量素子３０が配置され、これらを覆って、
透光性基板５の一方表面５ａにはさらに配向膜６１とギ
ャップ調整層９ａとが配置される。配向膜６１は表示領
域に配置され、ギャップ調整層９ａは表示領域以外の領
域内の、たとえばＴＦＴ素子７に重畳する領域に配置さ
れる。

【００６７】他方基板部材３ｂでは、具体的に、透光性
基板１０の一方表面１０ａに、ほぼ全面に共通電極１１
が配置され、さらに配向膜６２とギャップ調整層１３ａ
とが配置される。配向膜６２は、基板部材２ｂ，３ｂを
貼り合わせたときに前記配向膜６１に重畳する領域、す
なわち表示領域に配置され、ギャップ調整層１３ａは、
基板部材２ｂ，３ｂを貼り合わせたときに前記表示領域
以外の領域内であって、ＴＦＴ素子７に重畳する領域に
配置される。

【００６８】前記ギャップ調整層９ａ，１３ａの突起１
７同士は互いに当接しており、基板部材２ｂ，３ｂの配
向膜６１，６２の間の間隔は、ギャップ調整層９ａ，１
３ａによって形成される所定の長さとなっている。

【００６９】ここで、第２実施形態では、透光性基板５
の一方表面５ａからギャップ調整層９ａの樹脂層１６ａ
の表面までの距離である樹脂層１６ａの厚みＷ１と、透
光性基板５の一方表面５ａから配向膜６１の表面までの
距離である配向膜６１の厚みＷ２とは、Ｗ１＜Ｗ２の関
係に選ばれる。

【００７０】また、共通電極１１の表面からギャップ調
整層１３ａの樹脂層１６ａの表面までの距離である樹脂
層１６ａの厚みＷ３と、共通電極１１の表面から配向膜
６２の表面までの距離である配向膜６２の厚みＷ４と
は、Ｗ３＜Ｗ４の関係に選ばれる。

【００７１】図６は、前記液晶表示装置１ｂの製造方法
を説明するための工程図である。基板部材３ｂを作成す
る工程ｂ１〜ｂ６と、基板部材２ｂを作成する工程ｂ７
〜ｂ１２とは並列して実施可能である。

【００７２】工程ｂ１，ｂ２は前記工程ａ１，ａ２と同
様である。工程ｂ３では、前記工程ａ３と同様に配向膜
６２となる樹脂膜が形成されるが、該樹脂膜は共通電極
１１の全面ではなく、表示領域に形成される。工程ｂ４
では、ギャップ調整層１３ａの樹脂層１６ａが形成され
る。該樹脂層１６ａは、形状記憶樹脂を印刷法などでＴ
ＦＴ素子７に重畳する領域に印刷して形成される。

【００７３】工程ｂ５では、工程ｂ３で形成された樹脂
膜の表面にラビング処理が施されて、配向膜６２が形成
される。工程ａ６では、前記突起生成装置を用いて工程
ｂ４で形成された樹脂層１６ａの所定の領域をレーザ光
で加熱することによって、予め定められる高さの突起１
７が形成される。このようにして基板部材３ｂが完成す
る。

【００７４】工程ｂ７，ｂ８は前記工程ａ７，ａ８と同
様である。工程ｂ９では、前記工程ｂ３と同様に配向膜
６１となる樹脂膜が形成されるが、該樹脂膜はＴＦＴ素
子７や画素電極６などを覆う全面ではなく、表示領域に
形成される。工程ｂ１０では、ギャップ調整層９ａの樹
脂層１６ａが形成される。該樹脂層１６ａは、前記工程
ｂ４と同様に、形状記憶樹脂を印刷法などでＴＦＴ素子
７に重畳する領域に印刷して形成される。

【００７５】工程ｂ１１では、工程ｂ９で形成された樹
脂膜の表面にラビング処理が施されて、配向膜６１が形
成される。工程ｂ１２では、前記突起生成装置を用いて
工程ｂ１０で形成された樹脂層１６ａの所定の領域をレ
ーザ光で加熱することによって、予め定められる高さの
突起１７が形成される。このようにして基板部材２ｂが
完成する。

【００７６】工程ｂ１３〜ｂ１５は、前記工程ａ１３〜
ａ１５と同様である。このようにして液晶表示装置１ｂ
が完成する。

【００７７】以上のように第２実施形態によれば、第１
実施形態と同様に、表示領域以外の所定の領域に形成さ
れたギャップ調整層９ａ，１３ａの突起１７によって、
一対の基板部材２ｂ，３ｂの配向膜６１，６２の間に所
定の間隔が均一に形成される。前記突起１７は前記所定
の領域に確実に固定できる。また、表示にかかわる光が
当該ギャップ調整層９ａ，１３ａによって遮光されるこ
とはない。したがって、優れた表示品位を得ることがで
き、特にコントラスト比の低下を防止することができ
る。

【００７８】また、表示領域に形成される配向膜６１，
６２の厚みＷ２，Ｗ４よりも、表示領域以外の所定の領
域に形成されるギャップ調整層９ａ，１３ａの前記突起
１７を除く領域の厚み、すなわち樹脂層１６ａの厚みＷ
１，Ｗ３の方が薄くえらばれるので、配向膜６１，６２
を形成するときのラビング処理の影響をギャップ調整層
９ａ，１３ａに与えることはない。したがって、ギャッ
プ調整層９ａ，１３ａによって、液晶分子２６の配向秩
序が乱れることはない。

【００７９】図７は、本発明の第３実施形態である液晶
表示装置１ｃの構成を示す断面図である。液晶表示装置
１ｃは、前記液晶表示装置１ａの基板部材２ａ，３ａに
代わって基板部材２ｃ，３ｃを用いたものであり、該基
板部材２ｃ，３ｃは、配向膜８，１２を液晶層側の最表
面に配置したものである。

【００８０】液晶表示装置１ｃの一方基板部材２ｃで
は、具体的に、透光性基板５の一方表面５ａに、ゲート
配線２７、ソース配線２８、画素電極６、ＴＦＴ素子７
および蓄積容量素子３０が配置され、これらを覆って、
透光性基板５の一方表面５ａにはギャップ調整層９ｃが
配置される。ギャップ調整層９ｃは、ゲート配線２７、
ソース配線２８、画素電極６、ＴＦＴ素子７および蓄積
容量素子３０を覆う樹脂層１６ｃと、ＴＦＴ素子７に重
畳する領域に配置される突起１７とを含んで構成され
る。配向膜８は、該ギャップ調整層９ｃを覆うようにし
て配置される。

【００８１】他方基板部材３ｃでは、具体的に、透光性
基板１０の一方表面１０ａに、ほぼ全面に共通電極１１
が配置され、さらにギャップ調整層１３ｃが配置され
る。ギャップ調整層１３ｃは、共通電極１１を覆う樹脂
層１６ｃと、ＴＦＴ素子７に重畳する領域に配置される
突起１７とを含んで構成される。配向膜１２は、該ギャ
ップ調整層１３ｃを覆うようにして配置される。

【００８２】前記ギャップ調整層９ｃ，１３ｃの突起１
７同士は、配向膜８，１２を介して互いに当接してお
り、基板部材２ｃ，３ｃの配向膜８，１２の間の間隔
は、ギャップ調整層９ｃ，１３ｃの各突起１７によって
形成される所定の長さとなっている。

【００８３】図８は、前記液晶表示装置１ｃの製造方法
を説明するための工程図である。基板部材３ｃを作成す
る工程ｃ１〜ｃ６と、基板部材２ｃを作成する工程ｃ７
〜ｃ１２とは並列して実施可能である。

【００８４】工程ｃ１，ｃ２は前記工程ａ１，ａ２と同
様である。工程ｃ３では、共通電極１１の上にギャップ
調整層１３ｃの樹脂層１６ｃが形成される。該樹脂層１
６ｃは、形状記憶樹脂を印刷法などで共通電極１１のほ
ぼ全面に印刷して形成される。工程ｃ４では、配向膜１
２となる樹脂膜が形成される。工程ｃ５では、前記樹脂
膜の表面にラビング処理が施されて、配向膜１２が形成
される。工程ｃ６では、前記突起生成装置を用いて前記
樹脂層１６ｃの所定の領域を配向膜１２を介してレーザ
光で加熱することによって、予め定められる高さの突起
１７が形成される。このようにして基板部材３ｃが完成
する。

【００８５】工程ｃ７，ｃ８は前記工程ａ７，ａ８と同
様である。工程ｃ９では、画素電極６やＴＦＴ素子７な
どを覆って、ギャップ調整層９ｃの樹脂層１６ｃが形成
される。該樹脂層１６ｃは、形状記憶樹脂を印刷法など
で画素電極６やＴＦＴ素子７などを覆う全面に印刷して
形成される。工程ｃ１０では、樹脂層１６ｃの上に、配
向膜８となる樹脂膜が形成される。工程ｃ１１では、前
記樹脂膜の表面にラビング処理が施されて、配向膜８が
形成される。工程ｃ１２では、前記突起生成装置を用い
て前記樹脂層１６ｃの所定の領域を配向膜８を介してレ
ーザ光で加熱することによって、予め定められる高さの
突起１７が形成される。このようにして基板部材２ｃが
完成する。

【００８６】工程ｃ１３〜ｃ１５は前記工程ａ１３〜ａ
１５と同様である。このようにして液晶表示装置１ｃが
完成する。

【００８７】以上のように第３実施形態によれば、第１
実施形態と同様に、表示領域以外の所定の領域に形成さ
れたギャップ調整層９ｃ，１３ｃの突起１７であって、
配向膜８，１２を介する突起１７によって、一対の基板
部材２ｃ，３ｃの配向膜８，１２の間に所定の間隔が均
一に形成される。前記突起１７は前記所定の領域に確実
に固定でき、ラビング処理などによって容易に剥がれる
ことはない。また、表示にかかわる光が当該ギャップ調
整層９ｃ，１３ｃによって遮光されることはない。した
がって、優れた表示品位を得ることができ、特にコント
ラスト比の低下を防止することができる。

【００８８】図９は、本発明の第４実施形態である液晶
表示装置１ｄの構成を示す断面図である。液晶表示装置
１ｄは、前記液晶表示装置１ａの基板部材２ａ，３ａに
代わって基板部材２ｄ，３ｄを用いたものであり、該基
板部材２ｄ，３ｄは、配向膜としての機能も併せもつギ
ャップ調整層９ｄ，１３ｄを用いたものである。

【００８９】液晶表示装置１ｄの一方基板部材２ｄで
は、具体的に、透光性基板５の一方表面５ａに、ゲート
配線２７、ソース配線２８、画素電極６、ＴＦＴ素子７
および蓄積容量素子３０が配置され、これらを覆って、
透光性基板５の一方表面５ａにはギャップ調整層９ｄが
配置される。ギャップ調整層９ｄは、配向膜としても機
能し、ゲート配線２７、ソース配線２８、画素電極６、
ＴＦＴ素子７および蓄積容量素子３０を覆う樹脂層１６
ｄと、ＴＦＴ素子７に重畳する領域に配置される突起１
７とを含んで構成される。

【００９０】他方基板部材３ｄでは、具体的に、透光性
基板１０の一方表面１０ａに、ほぼ全面に共通電極１１
が配置され、さらにギャップ調整層１３ｄが配置され
る。ギャップ調整層１３ｄは、配向膜としても機能し、
共通電極１１を覆う樹脂層１６ｄと、ＴＦＴ素子７に重
畳する領域に配置される突起１７とを含んで構成され
る。

【００９１】前記ギャップ調整層９ｄ，１３ｄの突起１
７同士は互いに当接しており、基板部材２ｄ，３ｄの各
樹脂層１６ｄの間の間隔は、ギャップ調整層９ｄ，１３
ｄの各突起１７の高さを足し合わせた長さとなってい
る。

【００９２】図１０は、前記液晶表示装置１ｄの製造方
法を説明するための工程図である。基板部材３ｄを作成
する工程ｄ１〜ｄ５と、基板部材２ｄを作成する工程ｄ
６〜ｄ１０とは並列して実施可能である。

【００９３】工程ｄ１，ｄ２は前記工程ａ１，ａ２と同
様である。工程ｄ３では、共通電極１１の上にギャップ
調整層１３ｄの樹脂層１６ｄが形成される。該樹脂層１
６ｄは、形状記憶樹脂を印刷法などで共通電極１１のほ
ぼ全面に印刷して形成される。工程ｄ４では、前記樹脂
層１６ｄの表面にラビング処理が施されて、配向膜とし
ての機能が付加される。工程ｄ５では、前記突起生成装
置を用いて前記樹脂層１６ｄの所定の領域をレーザ光で
加熱することによって、予め定められる高さの突起１７
が形成される。このようにして基板部材３ｄが完成す
る。

【００９４】工程ｄ６，ｄ７は前記工程ａ７，ａ８と同
様である。工程ｄ８では、画素電極６やＴＦＴ素子７な
どを覆って、ギャップ調整層９ｄの樹脂層１６ｄが形成
される。該樹脂層１６ｄは、形状記憶樹脂を印刷法など
で画素電極６やＴＦＴ素子７などを覆う全面に印刷して
形成される。工程ｄ９では、前記樹脂層１６ｄの表面に
ラビング処理が施されて、配向膜としての機能が付加さ
れる。工程ｄ１０では、前記突起生成装置を用いて前記
樹脂層１６ｄの所定の領域をレーザ光で加熱することに
よって、予め定められる高さの突起１７が形成される。
このようにして基板部材２ｄが完成する。

【００９５】工程ｄ１１〜ｄ１３は前記工程ａ１３〜ａ
１５と同様である。このようにして液晶表示装置１ｄが
完成する。

【００９６】以上のように第４実施形態によれば、第１
実施形態と同様に、表示領域以外の所定の領域に形成さ
れたギャップ調整層９ｄ，１３ｄの突起１７によって、
一対の基板部材２ｄ，３ｄの各樹脂層１６ｄの間に所定
の間隔が均一に形成される。前記突起１７は前記所定の
領域に確実に固定でき、ラビング処理などによって容易
に剥がれることはない。したがって、優れた表示品位を
得ることができる。特に、コントラスト比の低下を防止
することができる。

【００９７】また、ギャップ調整層９ｄ，１３ｄは配向
膜としても機能するので、配向膜を別途設ける必要はな
く、構成を簡略化することができる。

【００９８】図１１は、本発明の第５実施形態である液
晶表示装置１ｅの構成を示す断面図である。液晶表示装
置１ｅは、前記液晶表示装置１ａの基板部材２ａ，３ａ
に代わって基板部材２ｅ，３ｅを用いたものであり、ギ
ャップ調整層を一方基板部材のみに設けたものである。

【００９９】液晶表示装置１ｅの一方基板部材２ｅは、
第１実施形態の基板部材２ａと同様に構成される。他方
基板部材３ｅはギャップ調整層を有さず、具体的に、透
光性基板１０の液晶層側の一方表面１０ａに、ほぼ全面
に共通電極１１が配置され、さらに配向膜１２が配置さ
れる。

【０１００】前記ギャップ調整層９ａの突起１７と、基
板部材３ｅの配向膜１２の表面とが互いに当接してお
り、基板部材２ｅ，３ｅの配向膜８，１２の間の間隔
は、ギャップ調整層９ａの高さとなっている。

【０１０１】図１２は、前記液晶表示装置１ｅの製造方
法を説明するための工程図である。基板部材２ｅは前述
した工程ａ７〜ａ１２で作成される。基板部材３ｅは前
記工程ａ１〜ａ４で作成される。完成した基板部材２
ｅ，３ｅは前記工程ａ１３〜ａ１５で処理されて、液晶
表示装置１ｅが完成する。

【０１０２】以上のように第５実施形態によれば、一方
基板部材２ｅのみが有し、表示領域以外の所定の領域に
形成されたギャップ調整層９ａの突起１７によって、一
対の基板部材２ｅ，３ｅの配向膜８，１２の間に所定の
間隔が均一に形成される。前記突起１７は前記所定の領
域に確実に固定でき、ラビング処理などによって容易に
剥がれることはない。また、表示にかかわる光が当該ギ
ャップ調整層９ａによって遮光されることはない。した
がって、優れた表示品位を得ることができ、特にコント
ラスト比の低下を防止することができる。

【０１０３】第５実施形態では、一方の基板部材２ｅが
ギャップ調整層９ａを有する例について説明したが、一
方基板部材２ｅに代わって、他方基板部材３ｅがギャッ
プ調整層を有する例も本発明の範囲に属するものであ
る。

【０１０４】なお、第１〜５実施形態ではＴＦＴ素子７
を用いたＴＦＴ駆動の液晶表示装置１ａ〜１ｅの例につ
いて説明したが、ＤＵＴＹ駆動、ＰＡＬＣ、ＦＬＣなど
の液晶表示装置に各実施形態を適用する例も本発明の範
囲に属するものであり、上述したのと同様の効果を得る
ことができる。

【０１０５】また、液晶表示装置に限らず、一対の基板
間に所定の間隔で液晶層を挟持して構成される素子に対
して、本発明を適用することも可能である。

【０１０６】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、一対の基
板のうちの少なくともいずれか一方基板の液晶層側に、
突起を有するギャップ調整層を形成したので、一対の基
板間に所定の間隔を均一に形成することができる。前記
突起は確実に固定されるので、液晶分子の配向秩序が乱
れることはない。また、基板同士の貼り合わせ時の圧力
や衝撃などによって、表示用の電極、アクティブスイッ
チング素子および液晶駆動用の引出し電極などに損傷が
加わることはない。したがって、優れた表示品位が得ら
れる。

【０１０７】また本発明によれば、配向膜の上または配
向膜の下に突起を有するギャップ調整層を形成すること
ができる。また、配向膜とともに突起を有するギャップ
調整層を形成することができ、配向膜の厚みよりもギャ
ップ調整層の突起を除く領域の厚みを薄くすることによ
って、配向膜形成時のラビング処理の影響をギャップ調
整層に与えることなく、ギャップ調整層による液晶分子
の配向秩序の乱れを防ぐことができる。

【０１０８】また本発明によれば、ギャップ調整層を光
透過領域以外の所定の領域に形成したので、表示にかか
わる光が当該ギャップ調整層によって遮光されることは
なく、コントラスト比の優れた表示品位を得ることがで
きる。

【０１０９】また本発明によれば、ギャップ調整層に配
向膜としての機能も付加したので、配向膜を別途設ける
必要はなく、構成を簡略化することができる。

【０１１０】また本発明によれば、形状記憶樹脂からな
る樹脂層の所定の領域を加熱することによって上述した
ようなギャップ調整層の突起を形成することができる。

【０１１１】また本発明によれば、形状記憶樹脂からな
る樹脂層に配向処理を施すことによって、ギャップ調整
層に配向膜としての機能を付加することができる。

【０１１２】また本発明によれば、形成される突起の高
さが検出されて、該突起が予め定められる高さとなるよ
うに樹脂層の加熱条件が制御されるので、所定の高さの
突起を確実に形成でき、均一性の高い間隔を一対の基板
間に形成することができ、面内均一性の優れた表示品位
の液晶表示装置を作成することができる。

【０１１３】また本発明によれば、レーザ光によって樹
脂層が加熱されて突起が形成される。したがって、所望
の領域のみを確実にかつ容易に加熱できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施形態である液晶表示装置１ａ
の構成を示す断面図である。

【図２】前記液晶表示装置１ａの一方基板部材２ａを示
す平面図である。

【図３】前記液晶表示装置１ａの製造方法を説明するた
めの工程図である。

【図４】ギャップ調整層の突起１７を形成するときに用
いられる突起生成装置を示す図である。

【図５】本発明の第２実施形態である液晶表示装置１ｂ
の構成を示す断面図である。

【図６】前記液晶表示装置１ｂの製造方法を説明するた
めの工程図である。

【図７】本発明の第３実施形態である液晶表示装置１ｃ
の構成を示す断面図である。

【図８】前記液晶表示装置１ｃの製造方法を説明するた
めの工程図である。

【図９】本発明の第４実施形態である液晶表示装置１ｄ
の構成を示す断面図である。

【図１０】前記液晶表示装置１ｄの製造方法を説明する
ための工程図である。

【図１１】本発明の第５実施形態である液晶表示装置１
ｅの構成を示す断面図である。

【図１２】前記液晶表示装置１ｅの製造方法を説明する
ための工程図である。

【図１３】従来技術である液晶表示装置１０１の構成を
示す断面図である。

【図１４】特開平５−３０３１０２号公報に開示された
従来技術である液晶表示装置１２１を示す断面図であ
る。

【図１５】特開平６−１４８６５３号公報に開示された
従来技術である液晶表示装置１３１を示す断面図であ
る。

【図１６】特開平６−３０１０４０号公報に開示された
従来技術である液晶表示装置１４１を示す断面図であ
る。

【図１７】特開平７−５４７５号公報に開示された従来
技術である液晶表示装置１５１を示す断面図である。

【符号の説明】

１ａ〜１ｅ 液晶表示装置 ２ａ〜２ｅ，３ａ〜３ｅ 基板部材 ４ 液晶層 ５，１０ 透光性基板 ６ 画素電極 ８，１２，６１，６２ 配向膜 ９ａ，９ｃ，９ｄ，１３ａ，１３ｃ，１３ｄ ギャップ
調整層 １１ 共通電極 １６ａ，１６ｃ，１６ｄ 樹脂層 １７ 突起

Claims (16)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 所定の間隔をあけて配置された一対の基
   板間に液晶層を介在して構成される液晶表示装置におい
   て、 前記一対の基板のうちの少なくともいずれか一方基板の
   液晶層側には、該一方基板に対向する他方基板の液晶層
   側最表面に当接して一対の基板間に前記所定の間隔を形
   成する突起を有するギャップ調整層が形成されているこ
   とを特徴とする液晶表示装置。
2. 【請求項２】 前記ギャップ調整層は、基板の液晶層側
   表面に形成された液晶分子の配向を規制する配向膜上に
   形成されていることを特徴とする請求項１記載の液晶表
   示装置。
3. 【請求項３】 前記ギャップ調整層は基板の液晶層側表
   面に形成され、当該ギャップ調整層の上には液晶分子の
   配向を規制する配向膜が形成されていることを特徴とす
   る請求項１記載の液晶表示装置。
4. 【請求項４】 前記ギャップ調整層は、基板の液晶層側
   表面に、液晶分子の配向を規制する配向膜とともに形成
   されていることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装
   置。
5. 【請求項５】 前記ギャップ調整層の前記突起を除く領
   域の厚みは、前記配向膜の厚みよりも薄いことを特徴と
   する請求項４記載の液晶表示装置。
6. 【請求項６】 前記ギャップ調整層は予め定められる光
   透過領域以外の領域に形成されていることを特徴とする
   請求項１〜４のうちのいずれか１つに記載の液晶表示装
   置。
7. 【請求項７】 前記ギャップ調整層は、液晶分子を所定
   の方向に配列させる配向膜としての機能を有することを
   特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。
8. 【請求項８】 前記ギャップ調整層は、形状記憶樹脂か
   ら形成されていることを特徴とする請求項１〜７のうち
   のいずれか１つに記載の液晶表示装置。
9. 【請求項９】 所定の間隔をあけて配置された一対の基
   板間に液晶層を介在して構成される液晶表示装置の製造
   方法において、 前記一対の基板のうちの少なくともいずれか一方基板の
   一方表面側に形状記憶樹脂からなる樹脂層を形成する工
   程と、 前記樹脂層の所定の領域を加熱して突起を形成する工程
   と、 前記突起と、前記他方基板の一方最表面とを当接させ
   て、一対の基板を貼り合わせる工程と、 前記一対の基板間に形成された間隙に液晶を注入する工
   程とを含むことを含むことを特徴とする液晶表示装置の
   製造方法。
10. 【請求項１０】 所定の間隔をあけて配置された一対の
    基板間に液晶層を介在して構成される液晶表示装置の製
    造方法において、 前記一対の基板のうちの少なくともいずれか一方基板の
    一方表面に液晶分子の配向を規制する配向膜を形成する
    工程と、 前記配向膜上の予め定められる領域に形状記憶樹脂から
    なる樹脂層を形成する工程と、 前記樹脂層の所定の領域を加熱して突起を形成する工程
    と、 前記突起と、前記他方基板の一方最表面とを当接させ
    て、一対の基板を貼り合わせる工程と、 前記一対の基板間に形成された間隙に液晶を注入する工
    程とを含むことを含むことを特徴とする液晶表示装置の
    製造方法。
11. 【請求項１１】 所定の間隔をあけて配置された一対の
    基板間に液晶層を介在して構成される液晶表示装置の製
    造方法において、 前記一対の基板のうちの少なくともいずれか一方基板の
    一方表面に形状記憶樹脂からなる樹脂層を形成する工程
    と、 前記樹脂層を覆って液晶分子の配向を規制する配向膜を
    形成する工程と、 前記樹脂層の所定の領域を配向膜上から加熱して突起を
    形成する工程と、 前記一方基板の突起上の配向膜表面と、前記他方基板の
    一方最表面とを当接させて、一対の基板を貼り合わせる
    工程と、 前記一対の基板間に形成された間隙に液晶を注入する工
    程とを含むことを含むことを特徴とする液晶表示装置の
    製造方法。
12. 【請求項１２】 所定の間隔をあけて配置された一対の
    基板間に液晶層を介在して構成される液晶表示装置の製
    造方法において、 前記一対の基板のうちの少なくともいずれか一方基板の
    一方表面内であって、予め定められる光透過領域以外の
    領域に、形状記憶樹脂からなる樹脂層を形成する工程
    と、 前記一方基板の一方表面内であって、前記光透過領域
    に、液晶分子の配向を規制する配向膜を形成する工程
    と、 前記樹脂層の所定の領域を加熱して突起を形成する工程
    と、 前記突起と、前記他方基板の一方最表面とを当接させ
    て、一対の基板を貼り合わせる工程と、 前記一対の基板間に形成された間隙に液晶を注入する工
    程とを含むことを含むことを特徴とする液晶表示装置の
    製造方法。
13. 【請求項１３】 前記樹脂層の厚みは、前記配向膜の厚
    みよりも薄く形成されることを特徴とする請求項１２記
    載の液晶表示装置の製造方法。
14. 【請求項１４】 所定の間隔をあけて配置された一対の
    基板間に液晶層を介在して構成される液晶表示装置の製
    造方法において、 前記一対の基板のうちの少なくともいずれか一方基板の
    一方表面に、形状記憶樹脂からなる樹脂層を形成する工
    程と、 前記樹脂層に対して、液晶分子の配向を規制するための
    配向処理を施す工程と、 前記樹脂層の所定の領域を加熱して突起を形成する工程
    と、 前記突起と、前記他方基板の一方最表面とを当接させ
    て、一対の基板を貼り合わせる工程と、 前記一対の基板間に形成された間隙に液晶を注入する工
    程とを含むことを含むことを特徴とする液晶表示装置の
    製造方法。
15. 【請求項１５】 前記突起を形成する工程では、形成さ
    れる突起の高さが検出され、該突起が予め定められる高
    さとなるように樹脂層の加熱条件が制御されることを特
    徴とする請求項９〜１２，１４のうちのいずれか１つに
    記載の液晶表示装置の製造方法。
16. 【請求項１６】 前記樹脂層の加熱は、レーザ光によっ
    て行われることを特徴とする請求項９〜１２，１４のう
    ちのいずれか１つに記載の液晶表示装置の製造方法。