JPH10237663A

JPH10237663A - プラズマ重合膜の形成方法およびプラズマ重合膜形成装置

Info

Publication number: JPH10237663A
Application number: JP36690297A
Authority: JP
Inventors: Mitsuru Takai; 充高井; Shinji Miyazaki; 真司宮崎; Kunihiro Ueda; 国博上田; Hiromichi Kanazawa; 弘道金沢
Original assignee: TDK Corp
Current assignee: TDK Corp
Priority date: 1996-12-27
Filing date: 1997-12-26
Publication date: 1998-09-08
Anticipated expiration: 2017-12-26
Also published as: JP3958853B2

Abstract

(57)【要約】【課題】耐久性等の膜特性に優れたプラズマ重合膜を
製造することはもとより、異常放電の発生が極めて少な
く、プラズマ重合膜を長時間安定に成膜することがで
き、製品歩留の向上が図れるプラズマ重合膜の形成方法
およびプラズマ重合膜形成装置を提供する。【解決手段】フィルム状の長尺基材を連続的に搬送さ
せつつ、この長尺基材の上にプラズマ重合膜を形成させ
るプラズマ重合膜の形成方法であって、プラズマ重合を
行うための電極として、プラズマ重合膜を形成する面と
対向する側の電極を、高分子材料で被覆率５０〜１００
％の割合で被覆したものを用い、原料ガスを導入しつ
つ、被覆された電極側に電圧を印加し、動作圧力１０^-3
〜１Ｔｏｒｒの範囲の条件で、長尺基材の上にプラズマ
重合膜を形成させる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、プラズマ重合膜の形成
方法およびプラズマ重合膜形成装置に関し、例えば、い
わゆる蒸着テープのごとき、斜め蒸着法、垂直蒸着法、
などにより形成された強磁性金属薄膜を備える磁気記録
媒体の表面保護膜としてプラズマ重合膜の形成が要求さ
れる際の好適なプラズマ重合膜の形成方法およびプラズ
マ重合膜形成装置に関する。特に、プラズマ重合膜の成
膜時に異常放電の発生がなく安定して長時間に亘って生
産が可能であり、しかも、形成された膜の膜特性が優れ
るプラズマ重合膜の形成方法およびプラズマ重合膜形成
装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】金属あるいはＣｏ−Ｃｒ等の合金からな
る強磁性金属薄膜を、例えば真空蒸着、スパッタリン
グ、イオンプレーティング等の真空薄膜形成法により支
持体上に形成したいわゆる金属薄膜タイプの磁気記録媒
体は、磁性粉末とバインダーを用いるいわゆる塗布タイ
プの磁気記録媒体と比べて、以下のような多くの利点を
備えている。

【０００３】すなわち、金属薄膜タイプの磁気記録媒体
は、保磁力等に優れ、磁性材料の充填密度が高いために
高密度記録が可能で、電磁変換特性上も非常に有利であ
り、さらに、磁性層の膜厚を非常に薄くでき、再生時等
の厚み損失も著しく小さくすることができる等種々の利
点を備えている。

【０００４】しかしながら、このような金属薄膜タイプ
の磁気記録媒体は、一般に磁性層（強磁性金属薄膜）が
腐食されやすいという欠点に加え、さらに走行性、耐久
性に劣るという欠点をも有していた。

【０００５】このような問題を解決するために、従来よ
り、強磁性金属薄膜の上に保護膜を形成するさまざまな
試みがなされており、保護膜の好適な一例として、プラ
ズマ重合膜の保護膜がある。このプラズマ重合膜を形成
させるに際しては、必要な膜質を確保するために、導入
ガス、電力、電極面積等を適当に制御する必要があり、
かかる関連先行技術として、原料ガスとして導入される
モノマーガスの流量をＦ（ｃｃ／ｓｅｃ）、印加電力を
Ｗ（ワット）、電極面積をＳ（ｃｍ² ）としたときに、
Ｗ／（Ｆ×Ｓ）の値を５〜１０に制御する旨の提案がな
されている（特開昭６１−５４３５号公報）。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、本出願
に係る発明者らがプラズマ重合の成膜条件について鋭意
研究した結果、上記の提案のプラズマ重合条件の範囲で
は、（電極面積×導入モノマーガス量）の値に対して印
加電圧が大きすぎて、異常放電が頻発し、製造歩留が低
下するなどの問題が生じ、実際の製造ラインでの稼働が
困難であることが判明した。

【０００７】このような実状のもとに本発明は創案され
たものであって、その目的は、耐久性等の膜特性に優れ
たプラズマ重合膜を製造することはもとより、異常放電
の発生が極めて少なく、プラズマ重合膜を長時間安定に
成膜することができ、製品歩留の向上が図れるプラズマ
重合膜の形成方法およびプラズマ重合膜形成装置を提供
することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】このような目的を解決す
るために、本出願に係る発明者らが、プラズマ重合の成
膜条件およびプラズマ重合を行うプラズマ電極の構造に
ついて鋭意研究した結果、プラズマ電極を所定の材料お
よび所定の割合で被覆することによって、異常放電の少
ない状態でプラズマ重合膜を長時間安定に製造すること
ができる（さらに、形成された膜は耐久性等の膜特性に
も優れる）ことを見いだし、本発明に至ったのである。

【０００９】すなわち、本発明は、フィルム状の長尺基
材を連続的に搬送させつつ、この長尺基材の上にプラズ
マ重合膜を形成させるプラズマ重合膜の形成方法であっ
て、プラズマ重合を行うための電極として、プラズマ重
合膜を形成する面と対向する側の電極を、高分子材料で
被覆率５０〜１００％の割合で被覆したものを用い、原
料ガスを導入しつつ、被覆された電極側に電圧を印加
し、動作圧力１０^-3〜１Ｔｏｒｒの範囲の条件で、長尺
基材の上にプラズマ重合膜を形成させるように構成す
る。

【００１０】また、好適な態様として、前記長尺基材
は、非磁性支持体上に強磁性金属薄膜が設けられた積層
体原反であり、強磁性金属薄膜の上にプラズマ重合膜を
形成するように構成する。

【００１１】また、好適な態様として、非磁性支持体上
に強磁性金属薄膜が設けられた積層体原反を、その非磁
性支持体裏面側が回転ドラムの少なくとも一部と接する
状態で連続的に搬送させつつ、強磁性金属薄膜の上にプ
ラズマ重合膜を形成するように構成する。

【００１２】また、好適な態様として、前記原料ガス
は、炭化水素モノマーガスを用いるように構成する。

【００１３】また、好適な態様として、プラズマ成膜時
のプラズマ電圧が、３００〜１０００Ｖであるように構
成される。

【００１４】また、本発明は、フィルム状の長尺基材を
連続的に搬送させつつ、この長尺基材の上にプラズマ重
合膜を形成させるプラズマ重合膜形成装置であって、該
装置は、プラズマ重合を行うための電極として、プラズ
マ重合膜を形成する面と対向する側の電極を備え、該電
極は、その対向する側の表面が被覆率５０〜１００％の
割合で高分子材料で被覆されるように構成する。

【００１５】また、好適な態様として、プラズマ処理対
象物を非磁性支持体上に強磁性金属薄膜が設けられた積
層体原反とする装置であって、該装置は、非磁性支持体
裏面側と接しつつ連続的に搬送させるための回転ドラム
を備え、この回転ドラムと対向するように高分子材料で
被覆された電極が配置されてなるように構成する。

【００１６】本発明によれば、プラズマ電極を所定の材
料および所定の割合で被覆することによって、電源電圧
を変更させることなく電極間に発生するプラズマ電圧
（プラズマ電極に印加された実効電圧）を上げることが
できるという作用を発現させ、これによって、電源電圧
を無理に上げることなくプラズマ電圧を上げることがで
きるので、製造工程中での異常放電の発生が抑制され
る。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。

【００１８】本発明においては、プラズマ重合膜形成方
法の一例として、磁気記録媒体の製造方法をとりあげて
以下に説明する。まず、最初に磁気記録媒体の製造方法
に用いられる好適なプラズマ重合膜形成装置の一例を図
１に基づいて説明する。

【００１９】図１はプラズマ重合膜形成装置１の概略を
示す正面図であり、外側真空槽７内に設置される繰出ロ
ール２１には、予め非磁性支持体上に強磁性金属薄膜が
設けられた積層体原反４０が巻かれている。積層体原反
４０の積層断面の状態が図４に示されており、図４にお
いて、符号４１は非磁性支持体を、符号４２は強磁性金
属薄膜を表す。そして、図１に示されるように繰出ロー
ル２１から繰り出された積層体原反４０は、反応室３の
中に導かれ、反応室３内に設置されたガイドロール２２
を介して回転ドラム２５（冷却ドラムとも呼ばれる）に
沿って移動し、さらに、ガイドロール２６を経て反応室
３の外へ出て、巻取ロール２８へと巻き取られるように
なっている。この場合、回転ドラム２５は、非磁性支持
体の裏面側（強磁性金属薄膜が形成されていない側）と
接している。

【００２０】反応室３内には、プラズマ重合膜形成のた
めに放電を発生させるためのプラズマ電極９が前記回転
ドラム２５の回り（図においては下方）に同心円状に設
置されている。そして、このプラズマ電極９にはプラズ
マ発生のための、例えば、高周波電源２が接続され、電
圧が印加されるようになっている。また、図１に示され
る装置の場合、前記回転ドラム２５は、放電を発生させ
ない一方のプラズマ電極（アース側）を構成している。

【００２１】外側真空槽７には、排気管５が設置されて
おり、排気管５（通常、真空ポンプが接続されている）
から外側真空槽７（および反応室３）の内部が減圧され
るようになっている。この一方で、反応室３の中には原
料ガスとして、モノマーガスあるいはモノマーガスとキ
ャリアーガスとの混合ガスが、ガス導入管６を経て導入
されるようになっている。

【００２２】前記プラズマ電極９は、プラズマ重合を行
うための電極であって、プラズマ重合膜を形成させる媒
体表面と対向する側の電極である。このプラズマ電極９
は、図示のごとく湾曲板形状をしており、前記回転ドラ
ム２５の約下半分を同心円状に囲むように配置されてい
る。そして、このプラズマ電極９の表面９ａは、高分子
材料で被覆率５０〜１００％、好ましくは６０〜１００
％、より好ましくは７０〜１００％の割合で被覆されて
いる。被覆率が５０％未満となると、反応槽３内での異
常放電が多く発生するようになり、プラズマ重合膜を長
時間安定に成膜することができない。製品歩留も低下し
てしまう。

【００２３】プラズマ電極９の表面９ａの被覆の形態
は、被覆率１００％の場合を除いて、電極表面全体をほ
ぼ均一に細かく分散した状態で覆うようにするのがよい
（見方を変えれば、電極の覆われていない部分が細かく
分散しているのがよい）。具体的には、図２に示される
ように円形状のものを千鳥配列したもの（一枚板から円
形状を千鳥配列状に打ち抜いたもの）や、図３に示され
るように正方形状のものを千鳥配列したもの（一枚板か
ら正方形形状を千鳥配列状に打ち抜いたもの）、あるい
はこれらの反転形状となる配列、などが挙げられるが、
もちろんこれらの形状に限定されるわけではない。

【００２４】被覆される高分子材料の好適な具体例とし
ては、含フッ素樹脂、ポリアミド、ポリカーボネート、
ポリアセタール、ポリイミド、ポリエーテルエーテルケ
トン、ポリフェニレンスルフィド、ポリベンズイミダゾ
ール、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、
ポリプロピレン、メタクリル樹脂、石油樹脂、ポリ塩化
ビニリデン、ポリシクロオレフィン、フェノール樹脂、
尿素樹脂、（不）飽和ポリエステル、ポリウレタン、ア
ルキド樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、ＡＢＳ樹
脂、ＢＳ樹脂、ＡＳ樹脂等の樹脂、および有機化合物の
プラズマ重合物等が挙げられる。これらの中では特に、
含フッ素樹脂、メタクリル樹脂、ポリエステル、ポリウ
レタン、エポキシ樹脂、有機化合物のプラズマ重合物等
が挙げられる。

【００２５】このような被覆物質をプラズマ電極９の表
面９ａに被覆する方法としては、例えば、高分子材料と
して樹脂を用いるのであれば、当該樹脂板をそのまま、
あるいは、図２および図３に示されるごとく『あみ目
状』の形状に加工したものを、接着剤や接着テープ等で
固着したり、あるいは、樹脂製の接着テープを電極表面
に貼り付けて被覆する、あるいは塗装、電着、焼付け、
浸漬法、熔射法等により全面もしくは所定分布になるよ
うにマスキングする等の方法が挙げられる。

【００２６】本発明では、このようにしてプラズマ電極
９の表面９ａを高分子材料で覆うことにより、電源２の
電圧を変更させることなく、プラズマ電極９からのプラ
ズマ電圧（プラズマ電極に印加された実効電圧）を上げ
ることができるという知見を得ている。従って、無理に
電源２の電圧を上げることなくプラズマ電圧を上げるこ
とができ、異常放電の発生を防止できる。さらに異常放
電が発生しない範囲で反応室３中でのイオンの速度を上
げることができ、膜質の向上や成膜レートの向上を図る
ことができる。

【００２７】このように被覆された高分子材料の厚さ
は、用いる材質を考慮しつつ、異常放電の発生を防止で
き、かつ良質の膜が得られる範囲で適宜決定すればよ
い。好適な膜厚範囲は、８０μｍ〜５ｍｍ、より好まし
くは、１２０μｍ〜３ｍｍとされる。

【００２８】本発明においては、上記のごとく所定の材
料および所定の割合で被覆されたプラズマ電極を備える
プラズマ重合膜形成装置１を用い、プラズマ電極、モノ
マーガス流量、印加電圧等を適宜制御して、強磁性金属
薄膜の上にプラズマ重合膜を形成させ、磁気記録媒体を
製造すればよい。

【００２９】以下、具体的な磁気記録媒体の製造方法に
ついて説明する。

【００３０】図１に例示される装置を用いて行なわれる
磁気記録媒体の製造方法は、非磁性支持体上に強磁性金
属薄膜が設けられた積層体原反を、その非磁性支持体裏
面側が回転ドラムの少なくとも一部と接する状態で連続
的に搬送させつつ、強磁性金属薄膜の上にプラズマ重合
膜を形成させることによって行われる。

【００３１】図５には、積層体原反４０の上（強磁性金
属薄膜４２の上）にプラズマ重合膜４３を形成し、磁気
記録媒体５０を形成した断面図が示されている。

【００３２】プラズマ重合膜４３の形成は、真空槽内で
有機化合物、例えば炭化水素系化合物のモノマーガスを
高周波によってプラズマ化させ、強磁性金属薄膜４２の
表面に形成させることによって行われる。通常は、積層
体原反４０を搬送させる真空槽内（外側真空槽７内およ
び反応室３内）を１０^-6〜１０^-1Ｔｏｒｒ、より好まし
くは１０^-5〜１０^-4Ｔｏｒｒ（所望の膜質により変更さ
せる）に排気した後（到達圧力）、原料ガスであるモノ
マーガスあるいはモノマーガスとキャリアーガスの混合
ガスを所定の流量で反応室３内に導入しながら電源２を
作動させ、所定周波数（直流の場合もある）の電力を所
定の印加電圧で、上記のプラズマ電極９に印加して放電
を起こさせ、図５に示されるようにプラズマ重合反応に
より、強磁性金属薄膜４２の上にプラズマ重合膜４３を
形成させる。プラズマ時の動作圧力は、１０^-3〜１Ｔｏ
ｒｒ、より好ましくは０．１〜０．２Ｔｏｒｒとされ
る。この動作圧力が１０^-3Ｔｏｒｒ未満となると、プラ
ズマが安定に生成せず、また反応ガスが少なくなる為
に、成膜レートが極端に低下するという不都合が生じ
る。また動作圧力が１Ｔｏｒｒを超えると、プラズマが
均一にたたない。また高電圧を必要とし、大電流が流れ
て局所的にフィルムに穴が開いてしまうという不都合が
生じる。さらに、反応ガスが投入される電力に対し、過
剰となるために、得られるプラズマ重合膜の硬度が低下
し、スチルなどのテープ特性が劣化する。

【００３３】プラズマ成膜時、プラズマ電極９は、上述
したように所定の被覆がなされている。この被覆がない
と、成膜中に異常放電が発生してしまい生産が安定せ
ず、製品歩留の低下が生じるという不都合が生じる。な
お、プラズマ電極９の電極面積は、設備の規模によって
適宜選定すればよい。

【００３４】本発明における（プラズマ電極９は、所定
の被覆がなされている）プラズマ成膜時のプラズマ電圧
は、３００〜１０００Ｖとすることが好ましい。

【００３５】プラズマ重合膜を形成するために導入され
る原料ガスとしてのモノマーガスは、通常使用されるも
のであれば何でもよく、特に限定されるものではない
が、特に、耐久性の高い保護膜を形成するためには、炭
化水素ガスを用いることが好ましい。

【００３６】炭化水素ガスとしては、メタン、エタン、
プロパン、ブタン、エチレン、プロピレン、アセチレ
ン、メチルアセチレン、トルエン等が単独または混合し
て用いられる。これらの中で、特に好ましい炭化水素ガ
スとしては、エタン、プロパン、プロピレンが用いられ
る。

【００３７】さらに、原料ガス中に、例えばアルゴン等
の不活性ガスや酸素を一定量、混入させることにより、
膜質の制御が可能となる。

【００３８】このようにして形成されるプラズマ重合膜
の厚さは、磁気記録媒体の場合、十分な保護膜機能を有
し、かつスペーシングロスが大きくならない範囲で適宜
選定される。

【００３９】磁気記録媒体５０を構成する非磁性支持体
４１は、強磁性金属薄膜４２の形成の際に、耐え得るだ
けの耐熱性のあるものであればよく、例えば、ポリエチ
レンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレ
ート（ＰＥＮ）、ポリイミド、ポリアミド、ポリエーテ
ルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリサルフォンなどが
挙げられる。非磁性支持体４１の厚さは、例えば、磁気
記録媒体の録画時間等との兼ね合いで選択されることも
あり、通常４〜４０μｍ程度とされる。また、非磁性支
持体４１の形態としては、フィルム、テープ、シート、
ディスク、カード、ドラム等のいずれであってもよい
が、本発明の効果が最も現れるものは、長尺の非磁性支
持体のような長時間処理を必要とされるものである。

【００４０】この非磁性支持体４１の上に形成される強
磁性金属薄膜４２は、コバルトまたはコバルト合金とす
ることが好ましい。コバルト合金としては、Ｃｏ−Ｎ
ｉ、Ｃｏ−Ｆｅ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｂ、
Ｃｏ−Ｃｕ、Ｃｏ−Ｐｔ−Ｃｒ等が例示される。強磁性
金属薄膜４２を蒸着で形成する場合、Ｃｏの融点に近い
金属では、同一のルツボを用いて蒸着する、いわゆる一
元蒸着を行い、融点が異なるものでは複数のルツボを用
いる、いわゆる多元蒸着を行う。

【００４１】蒸着工程としては、蒸着チャンバー内を、
例えば、１０^-6Ｔｏｒｒ程度まで排気した後、電子銃に
て蒸着させるべく金属の溶解を行い、金属全体が溶解し
た時点で蒸着を開始する。さらに、蒸着によって形成さ
れる強磁性金属薄膜４２の磁気特性を制御するために、
通常、酸素、オゾン、亜酸化窒素等の酸化性ガスを導入
することが好ましい。このように形成される強磁性金属
薄膜４２の厚さは、０．１〜０．３μｍ程度とされる。
また、強磁性金属薄膜４２は、蒸着法以外に、イオンプ
レーティング法、スパッタ法等で形成してもよい。

【００４２】本発明の実施の形態では、プラズマ重合膜
４３の形成の説明を簡潔かつ分かりやすくするために、
非磁性支持体４１上に強磁性金属薄膜４２が設けられた
積層体原反４０が繰出ロール２１に予め巻かれているケ
ースを例にとって説明したが、これに限定されることな
く、例えば、特開平４−９５２２０号公報に記載されて
いるように、非磁性支持体のみを繰出ロールに設置し、
同一真空槽内で、強磁性金属薄膜およびプラズマ重合膜
の形成を、順次形成させる方式であってもよい。

【００４３】なお、磁気記録媒体の製造に際して、プラ
ズマ重合膜４３からなる保護膜上に公知の種々の液体潤
滑層を塗布してもよく、この場合には耐久特性が向上す
る。また、非磁性支持体４１の裏面（強磁性金属薄膜４
２形成面と反対の面）にいわゆる公知の種々のバックコ
ート層を設けてもよいし、非磁性支持体４１と強磁性金
属薄膜４２の間に種々の中間層を設けてもよい。

【００４４】また、プラズマ重合膜形成装置１は、図１
に示されるタイプのものに限定されることなく、通常使
用される種々のタイプのものも使用可能である。ただ
し、フィルム状の磁気記録媒体を製造するには、図１に
示されるように回転ドラム２５を用いるタイプのものが
好適である。

【００４５】なお、上記の実施の形態においては、強磁
性金属薄膜４２の上にプラズマ重合膜４３を形成する場
合を好適例として説明したが、プラズマ重合膜４３の形
成は、一般に連続搬送されるフィルム状の長尺基材の上
に行なわれればよく、長尺基材の構成や材質に特に制限
はない。

【００４６】

【実施例】以下、本発明に関する具体的実施例を示し、
本発明をさらに詳細に説明する。

【００４７】（実施例サンプル１〜６、および比較例サ
ンプル１〜５の作製）まず、最初に、反応槽３内におい
て（１０^-6Ｔｏｒｒまで排気）、厚さ６μｍのポリエチ
レンテレフタレート（ＰＥＴ）の非磁性支持体４１を連
続搬送させつつこの上に、Ｃｏの強磁性金属薄膜４２を
形成させた（積層体原反の作製）。すなわち、Ｃｏを蒸
着源として用いて斜め蒸着を行い、厚さ０．２０μｍの
Ｃｏ強磁性金属薄膜４２を形成させた。

【００４８】次いで、図１に示される装置を用いて、上
記強磁性金属薄膜４２の上にプラズマ重合膜４３からな
る保護膜を形成した。プラズマ電極９としては、その表
面９ａに、図２に示されるようにパンチグメタル状に穴
をあけたポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）の板
（厚さ３ｍｍ）をＰＴＦＥの接着テープで貼り付けたも
のを用いた。

【００４９】原料ガス導入管６からエチレンを２ｃｃ／
ｓｅｃの割合で導入しつつ、プラズマ電極９に電圧を印
加し（電源の電圧：４１０Ｖ）、プラズマを発生させ
て、プラズマ重合膜４３からなる保護膜を形成した。

【００５０】なお、プラズマ重合膜４３の形成に際し
て、プラズマ電極９の表面に被覆したポリテトラフルオ
ロエチレン（ＰＴＦＥ）の被覆率を、下記表１に示すよ
うに種々変えて、フィルム（積層体原反）の供給・巻取
りを行いながら１時間連続的にプラズマ反応を行い、Ｃ
ｏ強磁性金属薄膜４２の上に、厚さ１０ｎｍのプラズマ
重合膜を形成した。装置内の圧力は、成膜開始前の到達
圧力を５×１０^-5Ｔｏｒｒ、プラズマ時の動作圧力を
０．１Ｔｏｒｒとした。その後、非磁性支持体の裏面側
に膜厚０．５μｍのバックコート層を設け、下記表１に
示される種々の磁気記録媒体サンプルを作製した（実施
例サンプル１〜６、および比較例サンプル１〜５）。電
源２の電圧はすべての場合で一定とした。

【００５１】（実施例サンプル７および８の作製）上記
実施例サンプル１の製造において、プラズマ電極９の表
面に被覆した材料を、ポリアミド（実施例サンプル７）
および、ポリエーテルエーテルケトン（実施例サンプル
８）にそれぞれ変えた。それ以外は上記実施例サンプル
１の作製と同様にして、実施例サンプル７および８を作
製した。

【００５２】（実施例サンプル９および１０の作製）上
記実施例サンプル１の製造において、プラズマ電極９の
表面に被覆した材料を、ポリエステル（実施例サンプル
９）および、メタクリル樹脂（実施例サンプル１０）に
それぞれ変えた。被覆厚さは、各１４０μｍとし、塗装
にて形成した。それ以外は上記実施例サンプル１の作製
と同様にして、実施例サンプル９および１０を作製し
た。

【００５３】（比較例サンプル６および７の作製）上記
比較例サンプル２（被覆率３０％）および比較例サンプ
ル３（被覆率２０％）の製造において、電源２の電圧を
上げた。それ以外は上記比較例サンプル２および比較例
サンプル３の作製と同様にして、比較例サンプル６およ
び７を作製した。

【００５４】（実施例サンプル１１〜１８の作製）上記
実施例サンプル１の製造において、到達圧力や動作圧力
を下記表１に示すように種々変えて実施例サンプル１１
〜１８を作製した。なお、実施例サンプル１６は、原料
ガスをアセチレンに変更している。

【００５５】（比較例サンプル８および９の作製）上記
実施例サンプル１の製造において、到達圧力や動作圧力
を下記表１に示すように変えて比較例サンプル８および
９を作製した。

【００５６】（比較例サンプル１０の作製）上記実施例
サンプル１の製造において、回転ドラム２５（冷却ドラ
ムとも呼ばれる）の表面を、厚さ３ｍのＰＴＦＥで被覆
し、到達圧力や動作圧力を下記表１に示すように変えて
比較例サンプル１０を作製した。

【００５７】以上のように作製した上記実施例サンプル
１〜１８、比較例サンプル１〜１０、の各製造工程中お
よび製造後の媒体サンプルに関して以下に示すような評
価を行った。

【００５８】異常放電回数（回）１時間のプラズマ重合中に、Ｌｅｃｒｏｙ社製ディジタ
ルオシロスコープ９４００でプラズマ電極と回転ドラム
との間に電流および電圧をモニターしながら、瞬間的に
電流および電圧が異常値を示す回数を異常放電回数とし
てカウントした。

【００５９】スチル寿命媒体サンプルを６．３５ｍｍ幅に切断し、２０℃６０％
ＲＨの環境でＤＶＣ−ＶＴＲ（ＳＯＮＹ社製ＶＸ−７
００改）を用いて、７ＭＨｚの信号を記録し、その後、
再生をする際に、スチルモードにて、出力が初期の値よ
り１ｄＢ落ちるまでの時間（ｍｉｎ）を測定した。な
お、測定される媒体サンプルには潤滑剤の塗布がなされ
ておらず、極めて過酷な条件での測定である。

【００６０】これらの結果を下記表１に示した。なお、
表１中に示されるプラズマ電圧Ｖｐは、プラズマ電極に
印加された実効電圧であり、製造工程中に実測された値
である。

【００６１】

【表１】

【００６２】

【発明の効果】上記の結果より本発明の効果は明らかで
ある。すなわち、本発明においては、プラズマ重合を行
うための電極として、プラズマ重合膜を形成する面と対
向する側の電極を、高分子材料で被覆率５０〜１００％
の割合で被覆し、動作圧力１０^-3〜１Ｔｏｒｒの範囲の
条件で、長尺基材の上にプラズマ重合膜を形成させてい
るので、プラズマ重合膜の形成時に異常放電の発生が極
めて少なく、プラズマ重合膜を長時間安定に成膜するこ
とができ、製品歩留の向上が図れるという極めて優れた
効果が発現する。また、プラズマ重合膜の膜特性も極め
て優れたものとなる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に用いられるプラズマ重合膜形成装置の
一例を示す概略正面図である。

【図２】プラズマ重合膜を形成させる媒体表面と対向す
る側のプラズマ電極であって、その電極表面を被覆する
被覆形態を模式的に示す図である。

【図３】プラズマ重合膜を形成させる媒体表面と対向す
る側のプラズマ電極であって、その電極表面を被覆する
被覆形態を模式的に示す図である。

【図４】積層体原反の積層構造を示す断面図である。

【図５】磁気記録媒体の積層構造を示す断面図である。

【符号の説明】

９…プラズマ電極２５…回転ドラム４０…積層体原反４１…非磁性支持体４２…強磁性金属薄膜４３…プラズマ重合膜５０…磁気記録媒体

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者金沢弘道東京都中央区日本橋一丁目13番１号ティーディーケイ株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】フィルム状の長尺基材を連続的に搬送さ
せつつ、この長尺基材の上にプラズマ重合膜を形成させ
るプラズマ重合膜の形成方法であって、プラズマ重合を行うための電極として、プラズマ重合膜
を形成する面と対向する側の電極を、高分子材料で被覆
率５０〜１００％の割合で被覆したものを用い、原料ガスを導入しつつ、被覆された電極側に電圧を印加
し、動作圧力１０^-3〜１Ｔｏｒｒの範囲の条件で、長尺
基材の上にプラズマ重合膜を形成させることを特徴とす
るプラズマ重合膜の形成方法。
【請求項２】前記長尺基材は、非磁性支持体上に強磁
性金属薄膜が設けられた積層体原反であり、強磁性金属
薄膜の上にプラズマ重合膜を形成してなる請求項１記載
のプラズマ重合膜の形成方法。
【請求項３】非磁性支持体上に強磁性金属薄膜が設け
られた積層体原反を、その非磁性支持体裏面側が回転ド
ラムの少なくとも一部と接する状態で連続的に搬送させ
つつ、強磁性金属薄膜の上にプラズマ重合膜を形成して
なる請求項１または請求項２記載のプラズマ重合膜の形
成方法。
【請求項４】前記原料ガスは、炭化水素モノマーガス
である請求項１ないし請求項３のいずれかに記載のプラ
ズマ重合膜の形成方法。
【請求項５】プラズマ成膜時のプラズマ電圧が、３０
０〜１０００Ｖである請求項１ないし請求項４のいずれ
かに記載のプラズマ重合膜の形成方法。
【請求項６】フィルム状の長尺基材を連続的に搬送さ
せつつ、この長尺基材の上にプラズマ重合膜を形成させ
るプラズマ重合膜形成装置であって、該装置は、プラズ
マ重合を行うための電極として、プラズマ重合膜を形成
する面と対向する側の電極を備え、該電極は、その対向する側の表面が被覆率５０〜１００
％の割合で高分子材料で被覆されてなることを特徴とす
るプラズマ重合膜形成装置。
【請求項７】プラズマ処理対象物を非磁性支持体上に
強磁性金属薄膜が設けられた積層体原反とする装置であ
って、該装置は、非磁性支持体裏面側と接しつつ連続的
に搬送させるための回転ドラムを備え、この回転ドラム
と対向するように高分子材料で被覆された電極が配置さ
れてなる請求項６に記載のプラズマ重合膜形成装置。