JPH10237139A - グラフト共重合体及びその製造方法 - Google Patents
グラフト共重合体及びその製造方法Info
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- JPH10237139A JPH10237139A JP3795997A JP3795997A JPH10237139A JP H10237139 A JPH10237139 A JP H10237139A JP 3795997 A JP3795997 A JP 3795997A JP 3795997 A JP3795997 A JP 3795997A JP H10237139 A JPH10237139 A JP H10237139A
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- styrene
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 耐熱性，耐薬品性等に優れ、良好な靱性，伸
び及び相溶化能を有し、複合材料の素材や耐熱エラスト
マーとして有用なシンジオタクチックポリスチレン連鎖
をグラフト成分とするグラフト共重合体及びその効率的
な製造方法の提供。 【解決手段】 スチレン系モノマーＡと、オレフィン系
モノマーの繰り返し単位の末端部にスチレン誘導体部を
有する末端スチレン誘導体変性オレフィン系マクロマー
Ｂとの共重合体であって、スチレン系モノマーに由来す
る連鎖の立体規則性が高度のシンジオタクチック構造を
有するものであるグラフト共重合体であり、Ａに由来す
る重合体セグメントが０．１〜９９．９重量％と、Ｂに
由来する重合体セグメントが９９．９〜１．０重量％か
らなっている。ａ遷移金属化合物，ｂ、イ特定の酸素含
有化合物、及び／又はロ、イオン性の錯体を形成しうる
化合物、からなる触媒を用いて、ＡとＢを共重合させる
グラフト共重合体の製造方法。
び及び相溶化能を有し、複合材料の素材や耐熱エラスト
マーとして有用なシンジオタクチックポリスチレン連鎖
をグラフト成分とするグラフト共重合体及びその効率的
な製造方法の提供。 【解決手段】 スチレン系モノマーＡと、オレフィン系
モノマーの繰り返し単位の末端部にスチレン誘導体部を
有する末端スチレン誘導体変性オレフィン系マクロマー
Ｂとの共重合体であって、スチレン系モノマーに由来す
る連鎖の立体規則性が高度のシンジオタクチック構造を
有するものであるグラフト共重合体であり、Ａに由来す
る重合体セグメントが０．１〜９９．９重量％と、Ｂに
由来する重合体セグメントが９９．９〜１．０重量％か
らなっている。ａ遷移金属化合物，ｂ、イ特定の酸素含
有化合物、及び／又はロ、イオン性の錯体を形成しうる
化合物、からなる触媒を用いて、ＡとＢを共重合させる
グラフト共重合体の製造方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、グラフト共重合体及び
その製造方法に関し、さらに詳しくは、耐熱性，耐薬品
性等に優れるとともに、良好な靱性及び相溶化能を有
し、複合材料の素材や耐熱エラストマーとして有用なポ
リオレフィン系エラストマーをグラフト成分とするシン
ジオタクチックポリスチレン共重合体及びその効率的な
製造方法に関する。
その製造方法に関し、さらに詳しくは、耐熱性，耐薬品
性等に優れるとともに、良好な靱性及び相溶化能を有
し、複合材料の素材や耐熱エラストマーとして有用なポ
リオレフィン系エラストマーをグラフト成分とするシン
ジオタクチックポリスチレン共重合体及びその効率的な
製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】本発明者らの研究グループは、先にシン
ジオタクティシティの高いスチレン系重合体を開発する
ことに成功し、さらにこのスチレン系モノマーと他の成
分を共重合したシンジオタクチックスチレン系共重合体
を開発した（特開昭６２−１０４８１８号公報、同６３
−２４１００９号公報）。しかし、これらのシンジオタ
クチック構造を有するスチレン系重合体或いは共重合体
は、耐熱性，耐薬品性等に優れるものの、靱性や伸びが
十分ではない上、他の樹脂との相溶性に乏しく、用途が
限定されるのを免れ得なかった。かかる靱性や伸び、さ
らには他の樹脂との相溶性を改良すべく、側鎖に二重結
合を有する高分子重合体にスチレン系モノマーをグラフ
ト共重合させたグラフト共重合体や、末端に重合活性ビ
ニル基を有するマクロモノマーにスチレン系モノマーを
ブロック共重合させたブロック共重合体が提案されてい
る（特開平０５−２４７１４７号公報、同０５−２９５
０５６号公報）。
ジオタクティシティの高いスチレン系重合体を開発する
ことに成功し、さらにこのスチレン系モノマーと他の成
分を共重合したシンジオタクチックスチレン系共重合体
を開発した（特開昭６２−１０４８１８号公報、同６３
−２４１００９号公報）。しかし、これらのシンジオタ
クチック構造を有するスチレン系重合体或いは共重合体
は、耐熱性，耐薬品性等に優れるものの、靱性や伸びが
十分ではない上、他の樹脂との相溶性に乏しく、用途が
限定されるのを免れ得なかった。かかる靱性や伸び、さ
らには他の樹脂との相溶性を改良すべく、側鎖に二重結
合を有する高分子重合体にスチレン系モノマーをグラフ
ト共重合させたグラフト共重合体や、末端に重合活性ビ
ニル基を有するマクロモノマーにスチレン系モノマーを
ブロック共重合させたブロック共重合体が提案されてい
る（特開平０５−２４７１４７号公報、同０５−２９５
０５６号公報）。
【０００３】しかしながら、それらにおいて具体的に開
示されているスチレン系グラフト共重合体やブロック共
重合体においては、オレフィン系セグメント中に反応性
基がランダムに存在するため、スチレン系モノマーを共
重合させる際、同時に架橋をも併発してしまい、有効な
グラフト共重合体の生成が阻害されるという問題があ
り、靱性、さらには他の樹脂との相溶性について十分に
満足しうるものが得られていないのが現状である。
示されているスチレン系グラフト共重合体やブロック共
重合体においては、オレフィン系セグメント中に反応性
基がランダムに存在するため、スチレン系モノマーを共
重合させる際、同時に架橋をも併発してしまい、有効な
グラフト共重合体の生成が阻害されるという問題があ
り、靱性、さらには他の樹脂との相溶性について十分に
満足しうるものが得られていないのが現状である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、かかる状況
下で、耐熱性，耐薬品性等に優れるとともに、良好な靱
性，伸び及び相溶化能を有し、複合材料の素材や耐熱エ
ラストマーとして有用なシンジオタクチックポリスチレ
ングラフト共重合体及びその効率的な製造方法を提供す
ることを目的とする。
下で、耐熱性，耐薬品性等に優れるとともに、良好な靱
性，伸び及び相溶化能を有し、複合材料の素材や耐熱エ
ラストマーとして有用なシンジオタクチックポリスチレ
ングラフト共重合体及びその効率的な製造方法を提供す
ることを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記目的
を達成するために鋭意研究を重ねた結果、スチレン系モ
ノマーと、オレフィン系モノマーの繰り返し単位の末端
部がスチレン誘導体にて変性された末端スチレン誘導体
変性オレフィン系マクロマーとのグラフト共重合体であ
って、スチレン系モノマーに由来する連鎖の立体規則性
が高度のシンジオタクチック構造を有するものが、優れ
た耐熱性，耐薬品性等を有し、かつ良好な靱性，伸び及
び相溶性を有すること、及び該グラフト共重合体は、該
末端スチレン誘導体変性オレフィン系マクロマーを、ス
チレン系モノマー又はスチレン系モノマーを含む溶剤に
溶解させた後、共重合させることにより効率よく得られ
ることを見出した。本発明は、かかる知見に基づいて完
成したものである。
を達成するために鋭意研究を重ねた結果、スチレン系モ
ノマーと、オレフィン系モノマーの繰り返し単位の末端
部がスチレン誘導体にて変性された末端スチレン誘導体
変性オレフィン系マクロマーとのグラフト共重合体であ
って、スチレン系モノマーに由来する連鎖の立体規則性
が高度のシンジオタクチック構造を有するものが、優れ
た耐熱性，耐薬品性等を有し、かつ良好な靱性，伸び及
び相溶性を有すること、及び該グラフト共重合体は、該
末端スチレン誘導体変性オレフィン系マクロマーを、ス
チレン系モノマー又はスチレン系モノマーを含む溶剤に
溶解させた後、共重合させることにより効率よく得られ
ることを見出した。本発明は、かかる知見に基づいて完
成したものである。
【０００６】すなわち、本発明は、以下を提供するもの
である。 （１）スチレン系モノマー（Ａ）と、下記一般式（１）
で示す末端スチレン誘導体変性オレフィン系マクロマー
（Ｂ）との共重合体であって、スチレン系モノマーに由
来する連鎖の立体規則性が高度のシンジオタクチック構
造を有するものであるグラフト共重合体（１）。
である。 （１）スチレン系モノマー（Ａ）と、下記一般式（１）
で示す末端スチレン誘導体変性オレフィン系マクロマー
（Ｂ）との共重合体であって、スチレン系モノマーに由
来する連鎖の立体規則性が高度のシンジオタクチック構
造を有するものであるグラフト共重合体（１）。
【０００７】
【化６】
【０００８】〔式中、Ｒは水素原子又は炭素数１〜２０
のアルキル基であって、各Ｒは同じでも異なっていても
よい。Ｘは次の〜のいずれかを示す。水素原子，
ハロゲン原子，あるいは炭素原子，スズ原子及びケ
イ素原子から選ばれたいずれか一種以上を含む置換基。
ｎは１〜４の整数を示し、ｎが２以上のときは、各Ｘ
は、同じでも異なっていてもよい。さらに、ｍは０又は
自然数であり、Ｚはオレフィン系モノマーに由来する連
鎖部を示す。〕 （２）上記（１）のグラフト共重合体であって、スチレ
ン系モノマー（Ａ）に由来する重合体セグメント９９．
９〜０．１重量％と、請求項１に記載の末端スチレン誘
導体変性オレフィン系マクロマー（Ｂ）に由来する重合
体セグメント０．１〜９９．９重量％からなる請求項１
に記載のグラフト共重合体（２）、 （３）上記（１）における末端スチレン誘導体変性オレ
フィン系マクロマー（Ｂ）を、スチレン系モノマー
（Ａ）又はスチレン系モノマー（Ａ）を含む溶剤に溶解
させた後、（ａ）遷移金属化合物，（ｂ）（イ）一般式
（２）
のアルキル基であって、各Ｒは同じでも異なっていても
よい。Ｘは次の〜のいずれかを示す。水素原子，
ハロゲン原子，あるいは炭素原子，スズ原子及びケ
イ素原子から選ばれたいずれか一種以上を含む置換基。
ｎは１〜４の整数を示し、ｎが２以上のときは、各Ｘ
は、同じでも異なっていてもよい。さらに、ｍは０又は
自然数であり、Ｚはオレフィン系モノマーに由来する連
鎖部を示す。〕 （２）上記（１）のグラフト共重合体であって、スチレ
ン系モノマー（Ａ）に由来する重合体セグメント９９．
９〜０．１重量％と、請求項１に記載の末端スチレン誘
導体変性オレフィン系マクロマー（Ｂ）に由来する重合
体セグメント０．１〜９９．９重量％からなる請求項１
に記載のグラフト共重合体（２）、 （３）上記（１）における末端スチレン誘導体変性オレ
フィン系マクロマー（Ｂ）を、スチレン系モノマー
（Ａ）又はスチレン系モノマー（Ａ）を含む溶剤に溶解
させた後、（ａ）遷移金属化合物，（ｂ）（イ）一般式
（２）
【０００９】
【化７】
【００１０】（式中、Ｒ1 〜Ｒ5 はそれぞれ炭素数１〜
８のアルキル基を示し、それらはたがいに同一でも異な
っていてもよく、Ｙ1 〜Ｙ3 はそれぞれ周期律表１３族
元素を示し、それらはたがいに同一でも異なっていても
よく、ａ及びｂはそれぞれ０〜５０の数を示すが、ａ＋
ｂは１以上である。）及び／又は一般式（３）
８のアルキル基を示し、それらはたがいに同一でも異な
っていてもよく、Ｙ1 〜Ｙ3 はそれぞれ周期律表１３族
元素を示し、それらはたがいに同一でも異なっていても
よく、ａ及びｂはそれぞれ０〜５０の数を示すが、ａ＋
ｂは１以上である。）及び／又は一般式（３）
【００１１】
【化８】
【００１２】（式中、Ｒ6 及びＲ7 はそれぞれ炭素数１
〜８のアルキル基を示し、それらはたがいに同一でも異
なっていてもよく、Ｙ4 及びＹ5 はそれぞれ周期律表１
３族元素を示し、それらはたがいに同一でも異なってい
てもよく、ｃ及びｄはそれぞれ０〜５０の数を示すが、
ｃ＋ｄは１以上である。）で表される酸素含有化合物、
及び／又は（ロ）該（ａ）成分の遷移金属化合物と反応
してイオン性の錯体を形成しうる化合物、及び必要に応
じて（ｃ）アルキル化剤からなる触媒を用いて、（Ａ）
と（Ｂ）を共重合させることを特徴とする上記（１）又
は（２）のグラフト共重合体の製造方法。
〜８のアルキル基を示し、それらはたがいに同一でも異
なっていてもよく、Ｙ4 及びＹ5 はそれぞれ周期律表１
３族元素を示し、それらはたがいに同一でも異なってい
てもよく、ｃ及びｄはそれぞれ０〜５０の数を示すが、
ｃ＋ｄは１以上である。）で表される酸素含有化合物、
及び／又は（ロ）該（ａ）成分の遷移金属化合物と反応
してイオン性の錯体を形成しうる化合物、及び必要に応
じて（ｃ）アルキル化剤からなる触媒を用いて、（Ａ）
と（Ｂ）を共重合させることを特徴とする上記（１）又
は（２）のグラフト共重合体の製造方法。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態につ
いて説明する。 １．グラフト共重合体 本発明にかかるグラフト共重合体は、スチレン系モノマ
ー（Ａ）と、前記一般式（１）で示す末端スチレン誘導
体変性オレフィン系マクロマー（Ｂ）との共重合体であ
って、スチレン系モノマーに由来する連鎖の立体規則性
が高度のシンジオタクチック構造を有するものである。 （１）スチレン系モノマー（Ａ） 本発明で用いるスチレン系モノマーは、一般式（４）で
表される化合物である。
いて説明する。 １．グラフト共重合体 本発明にかかるグラフト共重合体は、スチレン系モノマ
ー（Ａ）と、前記一般式（１）で示す末端スチレン誘導
体変性オレフィン系マクロマー（Ｂ）との共重合体であ
って、スチレン系モノマーに由来する連鎖の立体規則性
が高度のシンジオタクチック構造を有するものである。 （１）スチレン系モノマー（Ａ） 本発明で用いるスチレン系モノマーは、一般式（４）で
表される化合物である。
【００１４】
【化９】
【００１５】〔式中、Ｘは次の〜のいずれかを示
す。水素原子，ハロゲン原子，あるいは炭素原
子，スズ原子及びケイ素原子から選ばれたいずれか一種
以上を含む置換基。ｎは１〜５の整数を示し、ｎが２以
上のときは、各Ｘは、同じでも異なっていてもよい。〕
で表される化合物が使用される。具体的には、スチレ
ン，ｐ−メチルスチレン，ｍ−メチルスチレン，ｏ−メ
チルスチレン，２，４−ジメチルスチレン，２，５−ジ
メチルスチレン，３，４−ジメチルスチレン，３，５−
ジメチルスチレン，ｐ−エチルスチレン，ｍ−エチルス
チレン，ｐ−ターシャリーブチルスチレン等のアルキル
スチレン；ｐ−ジビニルベンゼン，ｍ−ジビニルベンゼ
ン，トリジビニルベンゼン等のビニルベンゼン；ｐ−ク
ロロスチレン，ｍ−クロロスチレン，ｏ−クロロスチレ
ン，ｐ−ブロモスチレン，ｍ−ブロモスチレン，ｏ−ブ
ロモスチレン，ｐ−フルオロスチレン，ｍ−フルオロス
チレン，ｏ−フルオロスチレン，ｏ−メチル−ｐ−フル
オロスチレン等のハロゲン化スチレン、メトキシスチレ
ン，エトキシスチレン，ｔ−ブトキシスチレン等のアル
コキシスチレン、ビニルビフェニル類、ビニルフェニル
ナフタレン類、ビニルフェニルアントラセン類、ハロゲ
ン化ビニルビフェニル類、トリアルキルシリルビニルビ
フェニル類、ハロゲン置換アルキルスチレン、アルキル
シリルスチレン類、フェニル基含有シリルスチレン類、
ハロゲン含有シリルスチレン類、シリル基含有シリルス
チレン類、あるいはこれらを二種以上を混合したものが
挙げられる。 （２）末端スチレン誘導体変性オレフィン系マクロマー
（Ｂ） オレフィン系モノマーとしては、例えばエチレン；プ
ロピレン；ブテン−１；ペンテン−１；ヘキセン−１；
ヘプテン−１；オクテン−１；ノネン−１；デセン−
１；４−フェニルブテン−１；６−フェニルヘキセン−
１；３−メチルブテン−１；４−メチルペンテン−１；
３−メチルペンテン−１；３−メチルヘキセン−１；４
−メチルヘキセン−１；５−メチルヘキセン−１；３，
３−ジメチルペンテン−１；３，４−ジメチルペンテン
−１；４，４−ジメチルペンテン−１；ビニルシクロヘ
キサンなどのα−オレフィン、ヘキサフルオロプロペ
ン；テトラフルオロエチレン；２−フルオロプロペン；
フルオロエチレン；１，１−ジフルオロエチレン；３−
フルオロプロペン；トリフルオロエチレン；３，４−ジ
クロロブテン−１などのハロゲン置換α−オレフィン、
シクロペンテン；シクロヘキセン；ノルボルネン；５−
メチルノルボルネン；５−エチルノルボルネン；５−プ
ロピルノルボルネン；５，６−ジメチルノルボルネン；
１−メチルノルボルネン；７−メチルノルボルネン；
５，５，６−トリメチルノルボルネン；５−フェニルノ
ルボルネン；５−ベンジルノルボルネンなどの環状オレ
フィンなどのオレフィン系モノマーの１種又は２種以上
が用いられる。オレフィン系モノマーを繰り返し単位と
するマクロマー（Ｂ）としては、上記オレフィン系モノ
マーの１種を繰り返し単位とするものでもよく、２種以
上がランダム又はブロック共重合して連鎖しているもの
も好適に挙げられる。 末端スチレン誘導体変性オレフィン系マクロマー
（Ｂ）は、下記一般式（１）で表されるもので、上記オ
レフィン系モノマーの繰り返し単位の末端部が、スチレ
ン誘導体にて変性されていることが必要である。
す。水素原子，ハロゲン原子，あるいは炭素原
子，スズ原子及びケイ素原子から選ばれたいずれか一種
以上を含む置換基。ｎは１〜５の整数を示し、ｎが２以
上のときは、各Ｘは、同じでも異なっていてもよい。〕
で表される化合物が使用される。具体的には、スチレ
ン，ｐ−メチルスチレン，ｍ−メチルスチレン，ｏ−メ
チルスチレン，２，４−ジメチルスチレン，２，５−ジ
メチルスチレン，３，４−ジメチルスチレン，３，５−
ジメチルスチレン，ｐ−エチルスチレン，ｍ−エチルス
チレン，ｐ−ターシャリーブチルスチレン等のアルキル
スチレン；ｐ−ジビニルベンゼン，ｍ−ジビニルベンゼ
ン，トリジビニルベンゼン等のビニルベンゼン；ｐ−ク
ロロスチレン，ｍ−クロロスチレン，ｏ−クロロスチレ
ン，ｐ−ブロモスチレン，ｍ−ブロモスチレン，ｏ−ブ
ロモスチレン，ｐ−フルオロスチレン，ｍ−フルオロス
チレン，ｏ−フルオロスチレン，ｏ−メチル−ｐ−フル
オロスチレン等のハロゲン化スチレン、メトキシスチレ
ン，エトキシスチレン，ｔ−ブトキシスチレン等のアル
コキシスチレン、ビニルビフェニル類、ビニルフェニル
ナフタレン類、ビニルフェニルアントラセン類、ハロゲ
ン化ビニルビフェニル類、トリアルキルシリルビニルビ
フェニル類、ハロゲン置換アルキルスチレン、アルキル
シリルスチレン類、フェニル基含有シリルスチレン類、
ハロゲン含有シリルスチレン類、シリル基含有シリルス
チレン類、あるいはこれらを二種以上を混合したものが
挙げられる。 （２）末端スチレン誘導体変性オレフィン系マクロマー
（Ｂ） オレフィン系モノマーとしては、例えばエチレン；プ
ロピレン；ブテン−１；ペンテン−１；ヘキセン−１；
ヘプテン−１；オクテン−１；ノネン−１；デセン−
１；４−フェニルブテン−１；６−フェニルヘキセン−
１；３−メチルブテン−１；４−メチルペンテン−１；
３−メチルペンテン−１；３−メチルヘキセン−１；４
−メチルヘキセン−１；５−メチルヘキセン−１；３，
３−ジメチルペンテン−１；３，４−ジメチルペンテン
−１；４，４−ジメチルペンテン−１；ビニルシクロヘ
キサンなどのα−オレフィン、ヘキサフルオロプロペ
ン；テトラフルオロエチレン；２−フルオロプロペン；
フルオロエチレン；１，１−ジフルオロエチレン；３−
フルオロプロペン；トリフルオロエチレン；３，４−ジ
クロロブテン−１などのハロゲン置換α−オレフィン、
シクロペンテン；シクロヘキセン；ノルボルネン；５−
メチルノルボルネン；５−エチルノルボルネン；５−プ
ロピルノルボルネン；５，６−ジメチルノルボルネン；
１−メチルノルボルネン；７−メチルノルボルネン；
５，５，６−トリメチルノルボルネン；５−フェニルノ
ルボルネン；５−ベンジルノルボルネンなどの環状オレ
フィンなどのオレフィン系モノマーの１種又は２種以上
が用いられる。オレフィン系モノマーを繰り返し単位と
するマクロマー（Ｂ）としては、上記オレフィン系モノ
マーの１種を繰り返し単位とするものでもよく、２種以
上がランダム又はブロック共重合して連鎖しているもの
も好適に挙げられる。 末端スチレン誘導体変性オレフィン系マクロマー
（Ｂ）は、下記一般式（１）で表されるもので、上記オ
レフィン系モノマーの繰り返し単位の末端部が、スチレ
ン誘導体にて変性されていることが必要である。
【００１６】
【化１０】
【００１７】式中、Ｒは水素原子又は炭素数１〜２０の
アルキル基であって、好ましくは水素である。各Ｒは同
じでも異なっていてもよい。また、Ｘは次の〜のい
ずれかを示す。水素原子，ハロゲン原子，あるいは
炭素原子，スズ原子及びケイ素原子から選ばれたいず
れか一種以上を含む置換基。具体的には、水素、塩素，
臭素，フッ素等のハロゲン原子、メチル基，エチル基，
ターシャリーブチル基等のアルキル基、メトキシ基，エ
トキシ基，ｔ−ブトキシ基等のアルコキシ基、ビニル
基、ビニルフェニル基、ハロゲン置換アルキル基、アル
キルシリル基、フェニル基含有シリル基、ハロゲン含有
シリル基、シリル基含有シリル基などが挙げられる。ｎ
は１〜４の整数を示すが、ｎが２以上、即ち、Ｘが複数
の場合、各Ｘは、同じでも異なっていてもよい。さら
に、ｍは０又は自然数であり、Ｚは前記オレフィン系モ
ノマーに由来する連鎖部を示す。前記一般式（１）で示
す構造体の末端に存在するスチレン誘導体部分におい
て、ビニル基（Ｒが水素原子の場合）又はアルキル置換
ビニル基（Ｒがアルキル基の場合）が付いている位置
は、オルト位，メタ位，パラ位のいずれであってもよい
が、パラ位のものが好ましく用いられる。 前記一般式（１）で示す末端スチレン誘導体変性オレ
フィン系マクロマー（Ｂ）の製造方法としては、特に制
限はなく、例えば、特開平０６−１２２７１１号に開示
されているような公知の方法、具体的には、特定のバナ
ジウム化合物と有機アルミニウム化合物からなる触媒を
用いて、オレフィン類のリビング重合を行い、重合の最
後にスチレン誘導体と反応させることにより得ることが
できる。 （３）本発明にかかるグラフト共重合体は、前記のスチ
レン系モノマー（Ａ）と、前記一般式（１）で示す末端
スチレン誘導体変性オレフィン系マクロマー（Ｂ）と
が、共重合してなるものである。該グラフト共重合体に
おいては、好ましくは、スチレン系モノマー（Ａ）に由
来する重合体セグメントが９９．９〜０．１重量％、さ
らに好ましくは９９．０〜１．０重量％、さらには９
５．０〜５．０重量％と、前記一般式（１）で示す末端
スチレン誘導体変性オレフィン系マクロマー（Ｂ）に由
来する重合体セグメントが０．１〜９９．９重量％、さ
らに好ましくは１．０〜９９．０重量％、さらには５．
０〜９５．０重量％からなっている。また、スチレン系
モノマーに由来する連鎖の立体規則性が高度のシンジオ
タクチック構造を有するものである。即ち、ラセミダイ
アッドで７５％以上、好ましくは８５％以上、ラセミペ
ンタッドで３０％以上、好ましくは５０％以上である。
また、スチレン系モノマーとして２種以上のモノマーの
混合物を用いた場合は、スチレン系モノマーに由来する
セグメントは、該複数のモノマーがランダム共重合又は
ブロック共重合したものになっている場合がある。 ２．グラフト共重合体の製造方法 本発明にかかるグラフト共重合体の製造方法は特に問わ
ない。例えば、既に合成して得たシンジオタクチックポ
リスチレンパウダーに、パウダー状の該末端スチレン変
性オレフィン系マクロマー（Ｂ）を加え、熱履歴を与え
ただけでも、反応を開始し該グラフト共重合体を得るこ
とが可能である。好ましくは、該末端スチレン誘導体変
性オレフィン系マクロマー（Ｂ）を、スチレン系モノマ
ー（Ａ）又はスチレン系モノマー（Ａ）を含む溶剤に溶
解させた後、（ａ）遷移金属化合物，（ｂ）（イ）後述
する酸素含有化合物、及び／又は（ロ）該（ａ）成分の
遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成しうる
化合物、及び必要に応じて（ｃ）アルキル化剤からなる
触媒を用いて、共重合することにより得ることができ
る。この場合において、反応を均一に行うことができる
ことから、末端スチレン変性オレフィン系マクロマー
（Ｂ）を、スチレン系モノマー（Ａ）又はスチレン系モ
ノマー（Ａ）を含む溶剤に溶解させる方法が好ましく用
いられる。該溶剤としては、特に制限はなく、トルエ
ン，ベンゼン，エチルベンゼン等の炭化水素系溶媒が好
ましく用いられる。 共重合させるにあたって好ましく
用いられる触媒については、以下のとおりである。 （１）触媒の各成分 （ａ）遷移金属化合物 （ａ）遷移金属化合物としては、各種のものが使用可能
であるが、通常は下記一般式（５）又は一般式（６）で
表される化合物が用いられる。
アルキル基であって、好ましくは水素である。各Ｒは同
じでも異なっていてもよい。また、Ｘは次の〜のい
ずれかを示す。水素原子，ハロゲン原子，あるいは
炭素原子，スズ原子及びケイ素原子から選ばれたいず
れか一種以上を含む置換基。具体的には、水素、塩素，
臭素，フッ素等のハロゲン原子、メチル基，エチル基，
ターシャリーブチル基等のアルキル基、メトキシ基，エ
トキシ基，ｔ−ブトキシ基等のアルコキシ基、ビニル
基、ビニルフェニル基、ハロゲン置換アルキル基、アル
キルシリル基、フェニル基含有シリル基、ハロゲン含有
シリル基、シリル基含有シリル基などが挙げられる。ｎ
は１〜４の整数を示すが、ｎが２以上、即ち、Ｘが複数
の場合、各Ｘは、同じでも異なっていてもよい。さら
に、ｍは０又は自然数であり、Ｚは前記オレフィン系モ
ノマーに由来する連鎖部を示す。前記一般式（１）で示
す構造体の末端に存在するスチレン誘導体部分におい
て、ビニル基（Ｒが水素原子の場合）又はアルキル置換
ビニル基（Ｒがアルキル基の場合）が付いている位置
は、オルト位，メタ位，パラ位のいずれであってもよい
が、パラ位のものが好ましく用いられる。 前記一般式（１）で示す末端スチレン誘導体変性オレ
フィン系マクロマー（Ｂ）の製造方法としては、特に制
限はなく、例えば、特開平０６−１２２７１１号に開示
されているような公知の方法、具体的には、特定のバナ
ジウム化合物と有機アルミニウム化合物からなる触媒を
用いて、オレフィン類のリビング重合を行い、重合の最
後にスチレン誘導体と反応させることにより得ることが
できる。 （３）本発明にかかるグラフト共重合体は、前記のスチ
レン系モノマー（Ａ）と、前記一般式（１）で示す末端
スチレン誘導体変性オレフィン系マクロマー（Ｂ）と
が、共重合してなるものである。該グラフト共重合体に
おいては、好ましくは、スチレン系モノマー（Ａ）に由
来する重合体セグメントが９９．９〜０．１重量％、さ
らに好ましくは９９．０〜１．０重量％、さらには９
５．０〜５．０重量％と、前記一般式（１）で示す末端
スチレン誘導体変性オレフィン系マクロマー（Ｂ）に由
来する重合体セグメントが０．１〜９９．９重量％、さ
らに好ましくは１．０〜９９．０重量％、さらには５．
０〜９５．０重量％からなっている。また、スチレン系
モノマーに由来する連鎖の立体規則性が高度のシンジオ
タクチック構造を有するものである。即ち、ラセミダイ
アッドで７５％以上、好ましくは８５％以上、ラセミペ
ンタッドで３０％以上、好ましくは５０％以上である。
また、スチレン系モノマーとして２種以上のモノマーの
混合物を用いた場合は、スチレン系モノマーに由来する
セグメントは、該複数のモノマーがランダム共重合又は
ブロック共重合したものになっている場合がある。 ２．グラフト共重合体の製造方法 本発明にかかるグラフト共重合体の製造方法は特に問わ
ない。例えば、既に合成して得たシンジオタクチックポ
リスチレンパウダーに、パウダー状の該末端スチレン変
性オレフィン系マクロマー（Ｂ）を加え、熱履歴を与え
ただけでも、反応を開始し該グラフト共重合体を得るこ
とが可能である。好ましくは、該末端スチレン誘導体変
性オレフィン系マクロマー（Ｂ）を、スチレン系モノマ
ー（Ａ）又はスチレン系モノマー（Ａ）を含む溶剤に溶
解させた後、（ａ）遷移金属化合物，（ｂ）（イ）後述
する酸素含有化合物、及び／又は（ロ）該（ａ）成分の
遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成しうる
化合物、及び必要に応じて（ｃ）アルキル化剤からなる
触媒を用いて、共重合することにより得ることができ
る。この場合において、反応を均一に行うことができる
ことから、末端スチレン変性オレフィン系マクロマー
（Ｂ）を、スチレン系モノマー（Ａ）又はスチレン系モ
ノマー（Ａ）を含む溶剤に溶解させる方法が好ましく用
いられる。該溶剤としては、特に制限はなく、トルエ
ン，ベンゼン，エチルベンゼン等の炭化水素系溶媒が好
ましく用いられる。 共重合させるにあたって好ましく
用いられる触媒については、以下のとおりである。 （１）触媒の各成分 （ａ）遷移金属化合物 （ａ）遷移金属化合物としては、各種のものが使用可能
であるが、通常は下記一般式（５）又は一般式（６）で
表される化合物が用いられる。
【００１８】 ＭＲ8 a Ｒ9 b Ｒ10 c Ｒ11 4-(a+b+c) ・・・（５） ＭＲ8 d Ｒ9 e Ｒ10 3-(d+e) ・・・（６) 〔式中、Ｍは周期律表３〜６族の金属またはランタン系
金属を表し、Ｒ8 ，Ｒ9，Ｒ10及びＲ11は、それぞれア
ルキル基，アルコキシ基，アリール基，アルキルアリー
ル基，アリールアルキル基，アリールオキシ基，アシル
オキシ基，シクロペンタジエニル基，アルキルチオ基，
アリールチオ基，置換シクロペンタジエニル基，インデ
ニル基，置換インデニル基，フルオレニル基，アミノ
基，アミド基，アシルオキシ基，ホスフィド基，ハロゲ
ン原子，又はキレート剤を表し、ａ，ｂ及びｃは、それ
ぞれ０〜４の整数を示し、ｄ及びｅは、それぞれ０〜３
の整数を示す。また、Ｒ8 〜Ｒ11のいずれか二つをＣＨ
2 またはＳｉ（ＣＨ3 ）2 等で架橋した錯体も含む。〕 上記Ｍで表される周期律表３〜６族の金属またはランタ
ン系金属としては、好ましくは第４族金属、特にチタ
ン，ジルコニウム，ハフニウム等が用いられる。
金属を表し、Ｒ8 ，Ｒ9，Ｒ10及びＲ11は、それぞれア
ルキル基，アルコキシ基，アリール基，アルキルアリー
ル基，アリールアルキル基，アリールオキシ基，アシル
オキシ基，シクロペンタジエニル基，アルキルチオ基，
アリールチオ基，置換シクロペンタジエニル基，インデ
ニル基，置換インデニル基，フルオレニル基，アミノ
基，アミド基，アシルオキシ基，ホスフィド基，ハロゲ
ン原子，又はキレート剤を表し、ａ，ｂ及びｃは、それ
ぞれ０〜４の整数を示し、ｄ及びｅは、それぞれ０〜３
の整数を示す。また、Ｒ8 〜Ｒ11のいずれか二つをＣＨ
2 またはＳｉ（ＣＨ3 ）2 等で架橋した錯体も含む。〕 上記Ｍで表される周期律表３〜６族の金属またはランタ
ン系金属としては、好ましくは第４族金属、特にチタ
ン，ジルコニウム，ハフニウム等が用いられる。
【００１９】好適なチタン化合物としては、一般式
（７） ＴｉＲＸＹＺ ・・・（７） 〔式中、Ｒはシクロペンタジエニル基，置換シクロペン
タジエニル基，インデニル基，置換インデニル基，フル
オレニル基等を示し、Ｘ，Ｙ及びＺは、それぞれ独立に
水素原子，炭素数１〜２０のアルキル基，炭素数１〜２
０のアルコキシ基，炭素数６〜２０のアリール基，アル
キルアリール基，アリールアルキル基，炭素数６〜２０
のアリールオキシ基，炭素数１〜２０のアシルオキシ
基，炭素数１〜５０のアミノ基，アミド基，ホスフィド
基，アルキルチオ基，アリールチオ基，あるいはハロゲ
ン原子を示す。〕で表わされる化合物がある。ここで、
Ｘ，Ｙ及びＺのうち一つとＲがＣＨ2 ，ＳｉＲ2 等によ
り架橋した化合物も含む。
（７） ＴｉＲＸＹＺ ・・・（７） 〔式中、Ｒはシクロペンタジエニル基，置換シクロペン
タジエニル基，インデニル基，置換インデニル基，フル
オレニル基等を示し、Ｘ，Ｙ及びＺは、それぞれ独立に
水素原子，炭素数１〜２０のアルキル基，炭素数１〜２
０のアルコキシ基，炭素数６〜２０のアリール基，アル
キルアリール基，アリールアルキル基，炭素数６〜２０
のアリールオキシ基，炭素数１〜２０のアシルオキシ
基，炭素数１〜５０のアミノ基，アミド基，ホスフィド
基，アルキルチオ基，アリールチオ基，あるいはハロゲ
ン原子を示す。〕で表わされる化合物がある。ここで、
Ｘ，Ｙ及びＺのうち一つとＲがＣＨ2 ，ＳｉＲ2 等によ
り架橋した化合物も含む。
【００２０】これらのチタン化合物のうち、ハロゲン原
子を含まない化合物が好適であり、特に、上述した如き
π電子系配位子を１個有するチタン化合物が好ましい。
さらにチタン化合物としては一般式（８)
子を含まない化合物が好適であり、特に、上述した如き
π電子系配位子を１個有するチタン化合物が好ましい。
さらにチタン化合物としては一般式（８)
【００２１】
【化１１】
【００２２】〔式中、Ｒ12, Ｒ13は、それぞれハロゲン
原子，炭素数１〜２０のアルコキシ基，アシロキシ基を
示し、ｋは２〜２０を示す。〕で表わされる縮合チタン
化合物を用いてもよい。また、上記チタン化合物は、エ
ステルやエーテルなどと錯体を形成させたものを用いて
もよい。その他（ａ）成分である遷移金属化合物として
は、共役π電子を有する配位子を２個有する遷移金属化
合物、例えば、一般式（９） Ｍ1 Ｒ14Ｒ15Ｒ16Ｒ17 ・・・（９） 〔式中、Ｍ1 はチタン，ジルコニウムあるいはハフニウ
ムを示し、Ｒ14及びＲ15は、それぞれシクロペンタジエ
ニル基，置換シクロペンタジエニル基，インデニル基あ
るいはフルオレニル基を示し、Ｒ16及びＲ17は、それぞ
れ水素原子，ハロゲン原子，炭素数１〜２０の炭化水素
基，炭素数１〜２０のアルコキシ基，アミノ基あるいは
炭素数１〜２０のチオアルコキシ基を示す。ただし、Ｒ
14及びＲ15は、炭素数１〜５の炭化水素基，炭素数１〜
２０及び珪素数１〜５のアルキルシリル基あるいは炭素
数１〜２０及びゲルマニウム数１〜５のゲルマニウム含
有炭化水素基によって架橋されていてもよい。〕で表わ
される遷移金属化合物よりなる群から選ばれた少なくと
も１種の化合物がある。
原子，炭素数１〜２０のアルコキシ基，アシロキシ基を
示し、ｋは２〜２０を示す。〕で表わされる縮合チタン
化合物を用いてもよい。また、上記チタン化合物は、エ
ステルやエーテルなどと錯体を形成させたものを用いて
もよい。その他（ａ）成分である遷移金属化合物として
は、共役π電子を有する配位子を２個有する遷移金属化
合物、例えば、一般式（９） Ｍ1 Ｒ14Ｒ15Ｒ16Ｒ17 ・・・（９） 〔式中、Ｍ1 はチタン，ジルコニウムあるいはハフニウ
ムを示し、Ｒ14及びＲ15は、それぞれシクロペンタジエ
ニル基，置換シクロペンタジエニル基，インデニル基あ
るいはフルオレニル基を示し、Ｒ16及びＲ17は、それぞ
れ水素原子，ハロゲン原子，炭素数１〜２０の炭化水素
基，炭素数１〜２０のアルコキシ基，アミノ基あるいは
炭素数１〜２０のチオアルコキシ基を示す。ただし、Ｒ
14及びＲ15は、炭素数１〜５の炭化水素基，炭素数１〜
２０及び珪素数１〜５のアルキルシリル基あるいは炭素
数１〜２０及びゲルマニウム数１〜５のゲルマニウム含
有炭化水素基によって架橋されていてもよい。〕で表わ
される遷移金属化合物よりなる群から選ばれた少なくと
も１種の化合物がある。
【００２３】更に、（ａ）成分の遷移金属化合物として
は、一般式（10） Ｒ’ＭＸ’p-1 Ｌ1 q ・・・（10） 〔式中、Ｒ’はπ配位子で、シクロペンタジエニル基が
縮合結合している多員環の少なくとも一つが飽和環であ
る縮合多環式シクロペンタジエニル基を示し、Ｍは前記
と同じで、Ｘ’はσ配位子を示し、複数のＸ’は、たが
いに同一でも異なっていてもよく、またたがいに任意の
基を介して結合していてもよい。Ｌ1 はルイス塩基，ｐ
はＭの価数，ｑは０，１又は２を示し、Ｌ1 が複数の場
合、各Ｌ1はたがいに同一でも異なっていてもよい。〕
で表される構造を有する遷移金属化合物よりなる群から
選ばれた少なくとも１種の化合物がある。
は、一般式（10） Ｒ’ＭＸ’p-1 Ｌ1 q ・・・（10） 〔式中、Ｒ’はπ配位子で、シクロペンタジエニル基が
縮合結合している多員環の少なくとも一つが飽和環であ
る縮合多環式シクロペンタジエニル基を示し、Ｍは前記
と同じで、Ｘ’はσ配位子を示し、複数のＸ’は、たが
いに同一でも異なっていてもよく、またたがいに任意の
基を介して結合していてもよい。Ｌ1 はルイス塩基，ｐ
はＭの価数，ｑは０，１又は２を示し、Ｌ1 が複数の場
合、各Ｌ1はたがいに同一でも異なっていてもよい。〕
で表される構造を有する遷移金属化合物よりなる群から
選ばれた少なくとも１種の化合物がある。
【００２４】上記一般式（10）において、Ｒ’はπ配位
子で、シクロペンタジエニル基が縮合結合している多員
環の少なくとも一つが飽和環である縮合多環式シクロペ
ンタジエニル基を示す。このような縮合多環式シクロペ
ンタジエニル基としては、例えば一般式（11）〜（13）
子で、シクロペンタジエニル基が縮合結合している多員
環の少なくとも一つが飽和環である縮合多環式シクロペ
ンタジエニル基を示す。このような縮合多環式シクロペ
ンタジエニル基としては、例えば一般式（11）〜（13）
【００２５】
【化１２】
【００２６】〔式中、Ｒ18，Ｒ19及びＲ20は、それぞれ
水素原子，ハロゲン原子，炭素数１〜２０の脂肪族炭化
水素基，炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基，炭素数１
〜２０のアルコキシ基，炭素数６〜２０のアリーロキシ
基，炭素数１〜２０のチオアルコキシ基，炭素数６〜２
０のチオアリーロキシ基，アミノ基，アミド基，カルボ
キシル基又はアルキルシリル基を示し、各Ｒ18，各Ｒ19
及び各Ｒ20は、それぞれにおいてたがいに同一でも異な
っていてもよく、ｗ，ｘ，ｙ及びｚは、１以上の整数を
示す。〕で表される縮合多環式シクロペンタジエニル基
の中から選ばれたものを挙げることができるが、これら
の中で、触媒活性及び合成が容易な点から、４，５，
６，７−テトラヒドロインデニル基類が好適である。
水素原子，ハロゲン原子，炭素数１〜２０の脂肪族炭化
水素基，炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基，炭素数１
〜２０のアルコキシ基，炭素数６〜２０のアリーロキシ
基，炭素数１〜２０のチオアルコキシ基，炭素数６〜２
０のチオアリーロキシ基，アミノ基，アミド基，カルボ
キシル基又はアルキルシリル基を示し、各Ｒ18，各Ｒ19
及び各Ｒ20は、それぞれにおいてたがいに同一でも異な
っていてもよく、ｗ，ｘ，ｙ及びｚは、１以上の整数を
示す。〕で表される縮合多環式シクロペンタジエニル基
の中から選ばれたものを挙げることができるが、これら
の中で、触媒活性及び合成が容易な点から、４，５，
６，７−テトラヒドロインデニル基類が好適である。
【００２７】このＲ’の具体例としては、４，５，６，
７−テトラヒドロインデニル基；１−メチル−４，５，
６，７−テトラヒドロインデニル基；２−メチル−４，
５，６，７−テトラヒドロインデニル基；１，２−ジメ
チル−４，５，６，７−テトラヒドロインデニル基；
１，３−ジメチル−４，５，６，７−テトラヒドロイン
デニル基；１，２，３−トリメチル−４，５，６，７−
テトラヒドロインデニル基；１，２，３，４，５，６，
７−ヘプタメチル−４，５，６，７−テトラヒドロイン
デニル基；１，２，４，５，６，７−ヘキサメチル−
４，５，６，７−テトラヒドロインデニル基；１，３，
４，５，６，７−ヘキサメチル−４，５，６，７−テト
ラヒドロインデニル基；オクタヒドロフルオレニル基；
１，２，３，４−テトラヒドロフルオレニル基；９−メ
チル−１，２，３，４−テトラヒドロフルオレニル基；
９−メチル−オクタヒドロフルオレニル基などが挙げら
れる。
７−テトラヒドロインデニル基；１−メチル−４，５，
６，７−テトラヒドロインデニル基；２−メチル−４，
５，６，７−テトラヒドロインデニル基；１，２−ジメ
チル−４，５，６，７−テトラヒドロインデニル基；
１，３−ジメチル−４，５，６，７−テトラヒドロイン
デニル基；１，２，３−トリメチル−４，５，６，７−
テトラヒドロインデニル基；１，２，３，４，５，６，
７−ヘプタメチル−４，５，６，７−テトラヒドロイン
デニル基；１，２，４，５，６，７−ヘキサメチル−
４，５，６，７−テトラヒドロインデニル基；１，３，
４，５，６，７−ヘキサメチル−４，５，６，７−テト
ラヒドロインデニル基；オクタヒドロフルオレニル基；
１，２，３，４−テトラヒドロフルオレニル基；９−メ
チル−１，２，３，４−テトラヒドロフルオレニル基；
９−メチル−オクタヒドロフルオレニル基などが挙げら
れる。
【００２８】Ｍは周期律表３〜６族の金属又はランタン
系金属を表し、チタン，ジルコニウム，ハフニウム，ラ
ンタノイド系金属，ニオブ，タンタルなどが挙げられ
る。これらの中で、触媒活性の点からチタンが好適であ
る。また、Ｘ’はσ配位子を示し、具体的には、水素原
子，ハロゲン原子，炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素
基，炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基，炭素数１〜２
０のアルコキシ基，炭素数６〜２０のアリーロキシ基，
炭素数１〜２０のチオアルコキシ基，炭素数６〜２０の
チオアリーロキシ基，アミノ基，アミド基，カルボキシ
ル基，アルキルシリル基などが挙げられ、複数のＸ’
は、たがいに同一でも異なっていてもよく、またたがい
に任意の基を介して結合していてもよい。
系金属を表し、チタン，ジルコニウム，ハフニウム，ラ
ンタノイド系金属，ニオブ，タンタルなどが挙げられ
る。これらの中で、触媒活性の点からチタンが好適であ
る。また、Ｘ’はσ配位子を示し、具体的には、水素原
子，ハロゲン原子，炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素
基，炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基，炭素数１〜２
０のアルコキシ基，炭素数６〜２０のアリーロキシ基，
炭素数１〜２０のチオアルコキシ基，炭素数６〜２０の
チオアリーロキシ基，アミノ基，アミド基，カルボキシ
ル基，アルキルシリル基などが挙げられ、複数のＸ’
は、たがいに同一でも異なっていてもよく、またたがい
に任意の基を介して結合していてもよい。
【００２９】前記一般式（10）で表される遷移金属化合
物としては、上記例示のＲ’及びＸ’の中から、それぞ
れ任意に選択されたものを含む化合物を好ましく用いる
ことができる。また、遷移金属化合物として、一般式
（14） Ｒ21ＭＸa-1 Ｌb ・・・（14） 〔式中、Ｒ21は下記一般式（15）で表されるヘキサヒド
ロアズレニル基を示す。Ｍは遷移金属、Ｘはσ配位子を
示し、複数のＸはたがいに同一でも異なっていてもよ
く、また、互いに任意の基を介して結合していてもよ
い。Ｌはルイス塩基、ａはＭの価数、ｂは０，１又は２
を示し、Ｌが複数の場合、各Ｌは互いに同一でも異なっ
ていてもよい。〕で表される遷移金属化合物も用いるこ
とができる。
物としては、上記例示のＲ’及びＸ’の中から、それぞ
れ任意に選択されたものを含む化合物を好ましく用いる
ことができる。また、遷移金属化合物として、一般式
（14） Ｒ21ＭＸa-1 Ｌb ・・・（14） 〔式中、Ｒ21は下記一般式（15）で表されるヘキサヒド
ロアズレニル基を示す。Ｍは遷移金属、Ｘはσ配位子を
示し、複数のＸはたがいに同一でも異なっていてもよ
く、また、互いに任意の基を介して結合していてもよ
い。Ｌはルイス塩基、ａはＭの価数、ｂは０，１又は２
を示し、Ｌが複数の場合、各Ｌは互いに同一でも異なっ
ていてもよい。〕で表される遷移金属化合物も用いるこ
とができる。
【００３０】
【化１３】
【００３１】〔式中、Ｒ22は、水素原子，ハロゲン原
子，炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基，炭素数６〜２
０の芳香族炭化水素基，炭素数１〜２０のアルコキシ
基，炭素数６〜２０のアリーロキシ基，炭素数１〜２０
のチオアルコキシ基，炭素数６〜２０のチオアリーロキ
シ基，アミノ基，アミド基，カルボキシル基又はアルキ
ルシリル基を示し、それぞれ同一でも異なっていてもよ
い。〕 具体的には、Ｒ22としては、ヘキサヒドロアズレニル
基，１−メチルヘキサヒドロアズレニル基，２−メチル
ヘキサヒドロアズレニル基，１，２−ジメチルヘキサヒ
ドロアズレニル基，１，３−ジメチルヘキサヒドロアズ
レニル基，１，２，３−トリメチルヘキサヒドロアズレ
ニル基が挙げられるが、Ｍは遷移金属化合物で、チタ
ン，ジルコニウム，ハフニウム，ランタノイド系金属，
ニオブ，タンタルなどが挙げられる。また、Ｘはσ配位
子を示し、具体的には水素原子，ハロゲン原子，炭素数
１〜２０の脂肪族炭化水素基，炭素数６〜２０の芳香族
炭化水素基，炭素数１〜２０のアルコキシ基，炭素数６
〜２０のアリーロキシ基，炭素数１〜２０のチオアルコ
キシ基，炭素数６〜２０のチオアリーロキシ基，アミノ
基，アミド基，カルボキシル基，アルキルシリル基など
が挙げられ、複数のＸはたがいに同一でも異なっていて
もよく、またたがいに任意の基を介して結合していても
よい。さらに、このＸの具体例としては、水素原子，塩
素原子，臭素原子，ヨウ素原子，メチル基，ベンジル
基，フェニル基，トリメチルシリルメチル基，メトキシ
基，エトキシ基，フェノキシ基，チオメトキシ基，チオ
フェノキシ基，ジメチルアミノ基，ジイソプロピルアミ
ノ基などを挙げることができる。Ｌはルイス塩基を示
し、ａはＭの価数，ｂは０，１又は２である。 （ｂ）（イ）酸素含有化合物及び／又は（ロ）遷移金属
化合物と反応してイオン性の錯体を形成しうる化合物 本発明において用いられる重合用触媒の（ｂ）成分とし
ては、以下に示す、（イ）酸素含有化合物及び／又は
（ロ）遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成
しうる化合物である。 （イ）成分の酸素含有化合物 下記一般式（２）で表される化合物
子，炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基，炭素数６〜２
０の芳香族炭化水素基，炭素数１〜２０のアルコキシ
基，炭素数６〜２０のアリーロキシ基，炭素数１〜２０
のチオアルコキシ基，炭素数６〜２０のチオアリーロキ
シ基，アミノ基，アミド基，カルボキシル基又はアルキ
ルシリル基を示し、それぞれ同一でも異なっていてもよ
い。〕 具体的には、Ｒ22としては、ヘキサヒドロアズレニル
基，１−メチルヘキサヒドロアズレニル基，２−メチル
ヘキサヒドロアズレニル基，１，２−ジメチルヘキサヒ
ドロアズレニル基，１，３−ジメチルヘキサヒドロアズ
レニル基，１，２，３−トリメチルヘキサヒドロアズレ
ニル基が挙げられるが、Ｍは遷移金属化合物で、チタ
ン，ジルコニウム，ハフニウム，ランタノイド系金属，
ニオブ，タンタルなどが挙げられる。また、Ｘはσ配位
子を示し、具体的には水素原子，ハロゲン原子，炭素数
１〜２０の脂肪族炭化水素基，炭素数６〜２０の芳香族
炭化水素基，炭素数１〜２０のアルコキシ基，炭素数６
〜２０のアリーロキシ基，炭素数１〜２０のチオアルコ
キシ基，炭素数６〜２０のチオアリーロキシ基，アミノ
基，アミド基，カルボキシル基，アルキルシリル基など
が挙げられ、複数のＸはたがいに同一でも異なっていて
もよく、またたがいに任意の基を介して結合していても
よい。さらに、このＸの具体例としては、水素原子，塩
素原子，臭素原子，ヨウ素原子，メチル基，ベンジル
基，フェニル基，トリメチルシリルメチル基，メトキシ
基，エトキシ基，フェノキシ基，チオメトキシ基，チオ
フェノキシ基，ジメチルアミノ基，ジイソプロピルアミ
ノ基などを挙げることができる。Ｌはルイス塩基を示
し、ａはＭの価数，ｂは０，１又は２である。 （ｂ）（イ）酸素含有化合物及び／又は（ロ）遷移金属
化合物と反応してイオン性の錯体を形成しうる化合物 本発明において用いられる重合用触媒の（ｂ）成分とし
ては、以下に示す、（イ）酸素含有化合物及び／又は
（ロ）遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成
しうる化合物である。 （イ）成分の酸素含有化合物 下記一般式（２）で表される化合物
【００３２】
【化１４】及び／又は一般式（３）
【００３３】
【化１５】で表される酸素含有化合物である。上記一般
式（２) 及び（３）において、Ｒ1 〜Ｒ7 はそれぞれ炭
素数１〜８のアルキル基を示し、具体的にはメチル基，
エチル基，ｎ−プロピル基，イソプロピル基，各種ブチ
ル基，各種ペンチル基，各種ヘキシル基，各種ヘプチル
基，各種オクチル基が挙げられる。Ｒ1 〜Ｒ5 はたがい
に同一でも異なっていてもよく、Ｒ6 及びＲ7 はたがい
に同一でも異なっていてもよい。Ｙ1 〜Ｙ5 はそれぞれ
周期律表１３族元素を示し、具体的にはＢ，Ａｌ，Ｇ
ａ，Ｉｎ及びＴｌが挙げられるが、これらの中でＢ及び
Ａｌが好適である。Ｙ1 〜Ｙ3 はたがいに同一でも異な
っていてもよく、Ｙ4 及びＹ5 はたがいに同一でも異な
っていてもよい。また、ａ〜ｄはそれぞれ０〜５０の数
であるが、（ａ＋ｂ）及び（ｃ＋ｄ）はそれぞれ１以上
である。ａ〜ｄとしては、それぞれ１〜２０の範囲が好
ましく、特に１〜５の範囲が好ましい。
式（２) 及び（３）において、Ｒ1 〜Ｒ7 はそれぞれ炭
素数１〜８のアルキル基を示し、具体的にはメチル基，
エチル基，ｎ−プロピル基，イソプロピル基，各種ブチ
ル基，各種ペンチル基，各種ヘキシル基，各種ヘプチル
基，各種オクチル基が挙げられる。Ｒ1 〜Ｒ5 はたがい
に同一でも異なっていてもよく、Ｒ6 及びＲ7 はたがい
に同一でも異なっていてもよい。Ｙ1 〜Ｙ5 はそれぞれ
周期律表１３族元素を示し、具体的にはＢ，Ａｌ，Ｇ
ａ，Ｉｎ及びＴｌが挙げられるが、これらの中でＢ及び
Ａｌが好適である。Ｙ1 〜Ｙ3 はたがいに同一でも異な
っていてもよく、Ｙ4 及びＹ5 はたがいに同一でも異な
っていてもよい。また、ａ〜ｄはそれぞれ０〜５０の数
であるが、（ａ＋ｂ）及び（ｃ＋ｄ）はそれぞれ１以上
である。ａ〜ｄとしては、それぞれ１〜２０の範囲が好
ましく、特に１〜５の範囲が好ましい。
【００３４】このような触媒成分として用いる酸素含有
化合物、特にアルキルアルミノキサンの好適な例は、 1
Ｈ−ＮＭＲスペクトルで観測されるアルミニウム・メチ
ル基（Ａｌ−ＣＨ3 ）結合に基づくメチルプロトンシグ
ナル領域における高磁場成分が５０％以下のものであ
る。つまり、上記の接触生成物を室温下、トルエン溶媒
中でその 1Ｈ−ＮＭＲスペクトルを観測すると、「Ａｌ
−ＣＨ3 」に基づくメチルプロトンシグナルはテトラメ
チルシラン（ＴＭＳ）基準において1.０〜−0.５ｐｐｍ
の範囲に見られる。ＴＭＳのプロトンシグナル（０ｐｐ
ｍ）が「Ａｌ−ＣＨ3 」に基づくメチルプロトン観測領
域にあるため、この「Ａｌ−ＣＨ3 」に基づくメチルプ
ロトンシグナルを、ＴＭＳ基準におけるトルエンのメチ
ルプロトンシグナル2.３５ｐｐｍを基準に測定し高磁場
成分（即ち、0.１〜−0.５ｐｐｍ）と他の磁場成分（即
ち、1.０〜−0.１ｐｐｍ）とに分けたときに、該高磁場
成分が全体の５０％以下、好ましくは４５〜５％のもの
が触媒成分として好適に使用できる。 （ロ）遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成
しうる化合物 遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成しうる
化合物としては、複数の基が金属に結合したアニオンと
カチオンとからなる配位錯化合物又はルイス酸を挙げる
ことができる。複数の基が金属に結合したアニオンとカ
チオンとからなる配位錯化合物としては様々なものがあ
るが、例えば下記一般式（16) 又は（17）で表される化
合物を好適に使用することができる。
化合物、特にアルキルアルミノキサンの好適な例は、 1
Ｈ−ＮＭＲスペクトルで観測されるアルミニウム・メチ
ル基（Ａｌ−ＣＨ3 ）結合に基づくメチルプロトンシグ
ナル領域における高磁場成分が５０％以下のものであ
る。つまり、上記の接触生成物を室温下、トルエン溶媒
中でその 1Ｈ−ＮＭＲスペクトルを観測すると、「Ａｌ
−ＣＨ3 」に基づくメチルプロトンシグナルはテトラメ
チルシラン（ＴＭＳ）基準において1.０〜−0.５ｐｐｍ
の範囲に見られる。ＴＭＳのプロトンシグナル（０ｐｐ
ｍ）が「Ａｌ−ＣＨ3 」に基づくメチルプロトン観測領
域にあるため、この「Ａｌ−ＣＨ3 」に基づくメチルプ
ロトンシグナルを、ＴＭＳ基準におけるトルエンのメチ
ルプロトンシグナル2.３５ｐｐｍを基準に測定し高磁場
成分（即ち、0.１〜−0.５ｐｐｍ）と他の磁場成分（即
ち、1.０〜−0.１ｐｐｍ）とに分けたときに、該高磁場
成分が全体の５０％以下、好ましくは４５〜５％のもの
が触媒成分として好適に使用できる。 （ロ）遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成
しうる化合物 遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成しうる
化合物としては、複数の基が金属に結合したアニオンと
カチオンとからなる配位錯化合物又はルイス酸を挙げる
ことができる。複数の基が金属に結合したアニオンとカ
チオンとからなる配位錯化合物としては様々なものがあ
るが、例えば下記一般式（16) 又は（17）で表される化
合物を好適に使用することができる。
【００３５】 （〔Ｌ1 −Ｈ〕g+）h （〔Ｍ2 Ｘ1 Ｘ2 ・・・Ｘn 〕(n-m)-）i ・・・（16) （〔Ｌ2 〕g+）h （〔Ｍ3 Ｘ1 Ｘ2 ・・・Ｘn 〕(n-m)-）i ・・・（17） 〔式（16) 又は（17）中、Ｌ2 は後述のＭ4 ，Ｒ23Ｒ24
Ｍ5 又はＲ25 3 Ｃであり、Ｌ1 はルイス塩基、Ｍ2 及び
Ｍ3 はそれぞれ周期律表の５族〜１５族から選ばれる金
属、Ｍ4 は周期律表の１族及び８族〜１２族から選ばれ
る金属、Ｍ5 は周期律表の８族〜１０族から選ばれる金
属、Ｘ1 〜Ｘn はそれぞれ水素原子，ジアルキルアミノ
基，アルコキシ基，アリールオキシ基，炭素数１〜２０
のアルキル基，炭素数６〜２０のアリール基，アルキル
アリール基，アリールアルキル基，置換アルキル基，有
機メタロイド基又はハロゲン原子を示す。Ｒ23及びＲ24
はそれぞれシクロペンタジエニル基，置換シクロペンタ
ジエニル基，インデニル基又はフルオレニル基、Ｒ25は
アルキル基を示す。ｍはＭ2 ，Ｍ3 の原子価で１〜７の
整数、ｎは２〜８の整数、ｇはＬ1 −Ｈ，Ｌ2 のイオン
価数で１〜７の整数、ｈは１以上の整数，ｉ＝ｈ×ｇ／
（ｎ−ｍ）である。〕 Ｍ2 及びＭ3 の具体例としてはＢ，Ａｌ，Ｓｉ，Ｐ，Ａ
ｓ，Ｓｂなどの各原子、Ｍ4 の具体例としてはＡｇ，Ｃ
ｕ，Ｎａ，Ｌｉなどの各原子、Ｍ5 の具体例としてはＦ
ｅ，Ｃｏ，Ｎｉなどの各原子が挙げられる。Ｘ1 〜Ｘn
の具体例としては、例えば、ジアルキルアミノ基として
ジメチルアミノ基，ジエチルアミノ基など、アルコキシ
基としてメトキシ基，エトキシ基，ｎ−ブトキシ基な
ど、アリールオキシ基としてフェノキシ基，２，６−ジ
メチルフェノキシ基，ナフチルオキシ基など、炭素数１
〜２０のアルキル基としてメチル基，エチル基，ｎ−プ
ロピル基，イソプロピル基，ｎ−ブチル基，ｎ−オクチ
ル基，２−エチルヘキシル基など、炭素数６〜２０のア
リール基，アルキルアリール基若しくはアリールアルキ
ル基としてフェニル基，ｐ−トリル基，ベンジル基，ペ
ンタフルオロフェニル基，３，５−ジ（トリフルオロメ
チル）フェニル基，４−ターシャリ−ブチルフェニル
基，２，６−ジメチルフェニル基，３，５−ジメチルフ
ェニル基，２，４−ジメチルフェニル基，１，２−ジメ
チルフェニル基など、ハロゲンとしてＦ，Ｃｌ，Ｂｒ，
Ｉ、有機メタロイド基として五メチルアンチモン基，ト
リメチルシリル基，トリメチルゲルミル基，ジフェニル
アルシン基，ジシクロヘキシルアンチモン基，ジフェニ
ル硼素基などが挙げられる。Ｒ23及びＲ24のそれぞれで
表される置換シクロペンタジエニル基の具体例として
は、メチルシクロペンタジエニル基，ブチルシクロペン
タジエニル基，ペンタメチルシクロペンタジエニル基な
どが挙げられる。
Ｍ5 又はＲ25 3 Ｃであり、Ｌ1 はルイス塩基、Ｍ2 及び
Ｍ3 はそれぞれ周期律表の５族〜１５族から選ばれる金
属、Ｍ4 は周期律表の１族及び８族〜１２族から選ばれ
る金属、Ｍ5 は周期律表の８族〜１０族から選ばれる金
属、Ｘ1 〜Ｘn はそれぞれ水素原子，ジアルキルアミノ
基，アルコキシ基，アリールオキシ基，炭素数１〜２０
のアルキル基，炭素数６〜２０のアリール基，アルキル
アリール基，アリールアルキル基，置換アルキル基，有
機メタロイド基又はハロゲン原子を示す。Ｒ23及びＲ24
はそれぞれシクロペンタジエニル基，置換シクロペンタ
ジエニル基，インデニル基又はフルオレニル基、Ｒ25は
アルキル基を示す。ｍはＭ2 ，Ｍ3 の原子価で１〜７の
整数、ｎは２〜８の整数、ｇはＬ1 −Ｈ，Ｌ2 のイオン
価数で１〜７の整数、ｈは１以上の整数，ｉ＝ｈ×ｇ／
（ｎ−ｍ）である。〕 Ｍ2 及びＭ3 の具体例としてはＢ，Ａｌ，Ｓｉ，Ｐ，Ａ
ｓ，Ｓｂなどの各原子、Ｍ4 の具体例としてはＡｇ，Ｃ
ｕ，Ｎａ，Ｌｉなどの各原子、Ｍ5 の具体例としてはＦ
ｅ，Ｃｏ，Ｎｉなどの各原子が挙げられる。Ｘ1 〜Ｘn
の具体例としては、例えば、ジアルキルアミノ基として
ジメチルアミノ基，ジエチルアミノ基など、アルコキシ
基としてメトキシ基，エトキシ基，ｎ−ブトキシ基な
ど、アリールオキシ基としてフェノキシ基，２，６−ジ
メチルフェノキシ基，ナフチルオキシ基など、炭素数１
〜２０のアルキル基としてメチル基，エチル基，ｎ−プ
ロピル基，イソプロピル基，ｎ−ブチル基，ｎ−オクチ
ル基，２−エチルヘキシル基など、炭素数６〜２０のア
リール基，アルキルアリール基若しくはアリールアルキ
ル基としてフェニル基，ｐ−トリル基，ベンジル基，ペ
ンタフルオロフェニル基，３，５−ジ（トリフルオロメ
チル）フェニル基，４−ターシャリ−ブチルフェニル
基，２，６−ジメチルフェニル基，３，５−ジメチルフ
ェニル基，２，４−ジメチルフェニル基，１，２−ジメ
チルフェニル基など、ハロゲンとしてＦ，Ｃｌ，Ｂｒ，
Ｉ、有機メタロイド基として五メチルアンチモン基，ト
リメチルシリル基，トリメチルゲルミル基，ジフェニル
アルシン基，ジシクロヘキシルアンチモン基，ジフェニ
ル硼素基などが挙げられる。Ｒ23及びＲ24のそれぞれで
表される置換シクロペンタジエニル基の具体例として
は、メチルシクロペンタジエニル基，ブチルシクロペン
タジエニル基，ペンタメチルシクロペンタジエニル基な
どが挙げられる。
【００３６】本発明において、複数の基が金属に結合し
たアニオンとしては、具体的にはＢ( Ｃ6 Ｆ5)4 - ，Ｂ
( Ｃ6 ＨＦ4)4 - ，Ｂ( Ｃ6 Ｈ2 Ｆ3)4 - ，Ｂ( Ｃ6 2)
4 -，Ｂ( Ｃ6 Ｈ4 Ｆ)4 - ，Ｂ( Ｃ6 ＣＦ3 Ｆ4)4 - ，
Ｂ( Ｃ6 Ｈ5Ｆ4 - ，ＰＦ6 - ，Ｐ( Ｃ6 Ｆ5)6 - ，Ａｌ
（Ｃ6 ＨＦ4)4 - などが挙げら。また、金属カチオンと
しては、Ｃｐ2 Ｆｅ+ ，（ＭｅＣｐ）2 Ｆｅ+ ，（ｔＢ
ｕＣｐ）2 Ｆｅ+ ，（Ｍｅ2 Ｃｐ）2 Ｆｅ+ ，（Ｍｅ3
Ｃｐ）2 Ｆｅ+ ，（Ｍｅ4 Ｃｐ）2 Ｆｅ+ ，（Ｍｅ5 Ｃ
ｐ）2 Ｆｅ+ ，Ａｇ+ , Ｎａ+ ，Ｌｉ+ などが挙げら
れ、またその他カチオンとしては、ピリジニウム，２，
４−ジニトロ−Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウム，ジフェ
ニルアンモニウム，ｐ−ニトロアニリニウム，２，５−
ジクロロアニリン，ｐ−ニトロ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニ
リニウム，キノリニウム，Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウ
ム，Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウムなどの窒素含有化合
物、トリフェニルカルベニウム，トリ（４−メチルフェ
ニル）カルベニウム，トリ（４−メトキシフェニル）カ
ルベニウムなどのカルベニウム化合物、ＣＨ3 Ｐ
Ｈ 3 + ，Ｃ2 Ｈ5 ＰＨ3 + ，Ｃ3 Ｈ7 ＰＨ3 + ，（ＣＨ
3 ）2 ＰＨ2 + ，（Ｃ2 Ｈ 5 ）2 ＰＨ2 + ，（Ｃ
3 Ｈ7 ）2 ＰＨ2 + ，（ＣＨ3 ）3 ＰＨ +，（Ｃ
2 Ｈ5 ） 3 ＰＨ +，（Ｃ3 Ｈ7 ）3 ＰＨ +，（ＣＦ3 ）
3 ＰＨ +，（ＣＨ3 ）4 Ｐ+ ，（Ｃ2 Ｈ5 ）4 Ｐ+ ，
（Ｃ3 Ｈ7 ）4 Ｐ+ 等のアルキルフォスフォニウムイオ
ン，及びＣ6 Ｈ5 ＰＨ3 + ，（Ｃ6 Ｈ5 ）2 ＰＨ2 + ，
（Ｃ6 Ｈ5 ）3 ＰＨ+ ，（Ｃ 6 Ｈ5 ）4 Ｐ+ ，（Ｃ2 Ｈ
5 ）2 （Ｃ6 Ｈ5 ）ＰＨ+ ，（ＣＨ3 ）（Ｃ6 Ｈ5 ）Ｐ
Ｈ2 + ，（ＣＨ3 ）2 （Ｃ6 Ｈ5 ）ＰＨ+ ，（Ｃ
2 Ｈ5 ）2 （Ｃ6 Ｈ5 ）2 Ｐ + などのアリールフォスフ
ォニウムイオンなどが挙げられる。
たアニオンとしては、具体的にはＢ( Ｃ6 Ｆ5)4 - ，Ｂ
( Ｃ6 ＨＦ4)4 - ，Ｂ( Ｃ6 Ｈ2 Ｆ3)4 - ，Ｂ( Ｃ6 2)
4 -，Ｂ( Ｃ6 Ｈ4 Ｆ)4 - ，Ｂ( Ｃ6 ＣＦ3 Ｆ4)4 - ，
Ｂ( Ｃ6 Ｈ5Ｆ4 - ，ＰＦ6 - ，Ｐ( Ｃ6 Ｆ5)6 - ，Ａｌ
（Ｃ6 ＨＦ4)4 - などが挙げら。また、金属カチオンと
しては、Ｃｐ2 Ｆｅ+ ，（ＭｅＣｐ）2 Ｆｅ+ ，（ｔＢ
ｕＣｐ）2 Ｆｅ+ ，（Ｍｅ2 Ｃｐ）2 Ｆｅ+ ，（Ｍｅ3
Ｃｐ）2 Ｆｅ+ ，（Ｍｅ4 Ｃｐ）2 Ｆｅ+ ，（Ｍｅ5 Ｃ
ｐ）2 Ｆｅ+ ，Ａｇ+ , Ｎａ+ ，Ｌｉ+ などが挙げら
れ、またその他カチオンとしては、ピリジニウム，２，
４−ジニトロ−Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウム，ジフェ
ニルアンモニウム，ｐ−ニトロアニリニウム，２，５−
ジクロロアニリン，ｐ−ニトロ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニ
リニウム，キノリニウム，Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウ
ム，Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウムなどの窒素含有化合
物、トリフェニルカルベニウム，トリ（４−メチルフェ
ニル）カルベニウム，トリ（４−メトキシフェニル）カ
ルベニウムなどのカルベニウム化合物、ＣＨ3 Ｐ
Ｈ 3 + ，Ｃ2 Ｈ5 ＰＨ3 + ，Ｃ3 Ｈ7 ＰＨ3 + ，（ＣＨ
3 ）2 ＰＨ2 + ，（Ｃ2 Ｈ 5 ）2 ＰＨ2 + ，（Ｃ
3 Ｈ7 ）2 ＰＨ2 + ，（ＣＨ3 ）3 ＰＨ +，（Ｃ
2 Ｈ5 ） 3 ＰＨ +，（Ｃ3 Ｈ7 ）3 ＰＨ +，（ＣＦ3 ）
3 ＰＨ +，（ＣＨ3 ）4 Ｐ+ ，（Ｃ2 Ｈ5 ）4 Ｐ+ ，
（Ｃ3 Ｈ7 ）4 Ｐ+ 等のアルキルフォスフォニウムイオ
ン，及びＣ6 Ｈ5 ＰＨ3 + ，（Ｃ6 Ｈ5 ）2 ＰＨ2 + ，
（Ｃ6 Ｈ5 ）3 ＰＨ+ ，（Ｃ 6 Ｈ5 ）4 Ｐ+ ，（Ｃ2 Ｈ
5 ）2 （Ｃ6 Ｈ5 ）ＰＨ+ ，（ＣＨ3 ）（Ｃ6 Ｈ5 ）Ｐ
Ｈ2 + ，（ＣＨ3 ）2 （Ｃ6 Ｈ5 ）ＰＨ+ ，（Ｃ
2 Ｈ5 ）2 （Ｃ6 Ｈ5 ）2 Ｐ + などのアリールフォスフ
ォニウムイオンなどが挙げられる。
【００３７】一般式（16) 及び（17）の化合物の中で、
具体的には、下記のものを特に好適に使用できる。一般
式（16) の化合物としては、例えばテトラフェニル硼酸
トリエチルアンモニウム，テトラフェニル硼酸トリ（ｎ
−ブチル）アンモニウム，テトラフェニル硼酸トリメチ
ルアンモニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニ
ル）硼酸トリエチルアンモニウム，テトラキス（ペンタ
フルオロフェニル）硼酸トリ（ｎ−ブチル）アンモニウ
ム，ヘキサフルオロ砒素酸トリエチルアンモニウム，テ
トラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸ピリジニウ
ム，テトラ（ペンタフルオロフェニル）硼酸ピロリニウ
ム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸Ｎ，Ｎ
−ジメチルアニリニウム，テトラキス（ペンタフルオロ
フェニル）硼酸メチルジフェニルアンモニウムなどが挙
げられる。一方、一般式（17）の化合物としては、例え
ばテトラフェニル硼酸フェロセニウム，テトラキス（ペ
ンタフルオロフェニル）硼酸ジメチルフェロセニウム，
テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸フェロセニ
ウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸デカ
メチルフェロセニウム，テトラキス（ペンタフルオロフ
ェニル）硼酸アセチルフェロセニウム，テトラキス（ペ
ンタフルオロフェニル）硼酸ホルミルフェロセニウム，
テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸シアノフェ
ロセニウム，テトラフェニル硼酸銀，テトラキス（ペン
タフルオロフェニル）硼酸銀，テトラフェニル硼酸トリ
チル，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸トリ
チル，ヘキサフルオロ砒素酸銀，ヘキサフルオロアンチ
モン酸銀，テトラフルオロ硼酸銀などが挙げられる。
具体的には、下記のものを特に好適に使用できる。一般
式（16) の化合物としては、例えばテトラフェニル硼酸
トリエチルアンモニウム，テトラフェニル硼酸トリ（ｎ
−ブチル）アンモニウム，テトラフェニル硼酸トリメチ
ルアンモニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニ
ル）硼酸トリエチルアンモニウム，テトラキス（ペンタ
フルオロフェニル）硼酸トリ（ｎ−ブチル）アンモニウ
ム，ヘキサフルオロ砒素酸トリエチルアンモニウム，テ
トラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸ピリジニウ
ム，テトラ（ペンタフルオロフェニル）硼酸ピロリニウ
ム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸Ｎ，Ｎ
−ジメチルアニリニウム，テトラキス（ペンタフルオロ
フェニル）硼酸メチルジフェニルアンモニウムなどが挙
げられる。一方、一般式（17）の化合物としては、例え
ばテトラフェニル硼酸フェロセニウム，テトラキス（ペ
ンタフルオロフェニル）硼酸ジメチルフェロセニウム，
テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸フェロセニ
ウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸デカ
メチルフェロセニウム，テトラキス（ペンタフルオロフ
ェニル）硼酸アセチルフェロセニウム，テトラキス（ペ
ンタフルオロフェニル）硼酸ホルミルフェロセニウム，
テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸シアノフェ
ロセニウム，テトラフェニル硼酸銀，テトラキス（ペン
タフルオロフェニル）硼酸銀，テトラフェニル硼酸トリ
チル，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸トリ
チル，ヘキサフルオロ砒素酸銀，ヘキサフルオロアンチ
モン酸銀，テトラフルオロ硼酸銀などが挙げられる。
【００３８】また、ルイス酸として、例えばＢ（Ｃ6 Ｆ
5)3 ，Ｂ（Ｃ6 ＨＦ4)3 ，Ｂ（Ｈ2Ｆ3)3,Ｂ（Ｃ6 Ｈ3
Ｆ2)3,Ｂ（Ｃ6 Ｈ4 Ｆ)3, Ｂ（Ｃ6 ＣＦ3 ＦＰＦ5,Ｐ
（Ｃ6Ｆ5)5 , Ａｌ（Ｃ6 ＨＦ4)3 なども用いることが
できる。 本発明の重合用触媒においては、上記（Ｂ）
成分として、（イ）成分の酸素含有化合物のみを一種又
は二種以上組み合わせて用いてもよく、また（ロ）成分
の遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成しう
る化合物のみを一種又は二種以上組み合わせて用いても
よい。あるいは、該（イ）成分及び（ロ）成分を適当に
組み合わせて用いてもよい。 （ｃ）アルキル化剤 アルキル化剤としては様々なものがあるが、例えば、一
般式（18) Ｒ26 m Ａl(ＯＲ27) n Ｘ3-m-n ・・・（18) 〔式中、Ｒ26及びＲ27は、それぞれ炭素数１〜８、好ま
しくは１〜４のアルキル基を示し、Ｘは水素原子あるい
はハロゲン原子を示す。また、ｍは０＜ｍ≦３、好まし
くは２あるいは３、最も好ましくは３であり、ｎは０≦
ｎ＜３、好ましくは０あるいは１である。〕で表わされ
るアルキル基含有アルミニウム化合物や一般式（19) Ｒ28 2 Ｍｇ ・・・（19） 〔式中、Ｒ28は前記と同じである。〕で表わされるアル
キル基含有マグネシウム化合物、さらには一般式（20) Ｒ28 2 Ｚｎ ・・・（20)
〔 式中、Ｒ28は前記と同じである。〕で表わされるアルキ
ル基含有亜鉛化合物等が挙げられる。
5)3 ，Ｂ（Ｃ6 ＨＦ4)3 ，Ｂ（Ｈ2Ｆ3)3,Ｂ（Ｃ6 Ｈ3
Ｆ2)3,Ｂ（Ｃ6 Ｈ4 Ｆ)3, Ｂ（Ｃ6 ＣＦ3 ＦＰＦ5,Ｐ
（Ｃ6Ｆ5)5 , Ａｌ（Ｃ6 ＨＦ4)3 なども用いることが
できる。 本発明の重合用触媒においては、上記（Ｂ）
成分として、（イ）成分の酸素含有化合物のみを一種又
は二種以上組み合わせて用いてもよく、また（ロ）成分
の遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成しう
る化合物のみを一種又は二種以上組み合わせて用いても
よい。あるいは、該（イ）成分及び（ロ）成分を適当に
組み合わせて用いてもよい。 （ｃ）アルキル化剤 アルキル化剤としては様々なものがあるが、例えば、一
般式（18) Ｒ26 m Ａl(ＯＲ27) n Ｘ3-m-n ・・・（18) 〔式中、Ｒ26及びＲ27は、それぞれ炭素数１〜８、好ま
しくは１〜４のアルキル基を示し、Ｘは水素原子あるい
はハロゲン原子を示す。また、ｍは０＜ｍ≦３、好まし
くは２あるいは３、最も好ましくは３であり、ｎは０≦
ｎ＜３、好ましくは０あるいは１である。〕で表わされ
るアルキル基含有アルミニウム化合物や一般式（19) Ｒ28 2 Ｍｇ ・・・（19） 〔式中、Ｒ28は前記と同じである。〕で表わされるアル
キル基含有マグネシウム化合物、さらには一般式（20) Ｒ28 2 Ｚｎ ・・・（20)
〔 式中、Ｒ28は前記と同じである。〕で表わされるアルキ
ル基含有亜鉛化合物等が挙げられる。
【００３９】これらのアルキル基含有化合物のうち、ア
ルキル基含有アルミニウム化合物、とりわけトリアルキ
ルアルミニウムやジアルキルアルミニウム化合物が好ま
しい。 （２）触媒の調製方法 重合に供せられる触媒における（ａ）成分と（ｂ）成分
と所望により用いられる（ｃ）成分との接触方法として
は、例えば（ａ）成分と（ｂ）成分との接触混合物
に、（ｃ）成分を加えて触媒とし、重合すべきモノマ
ー、即ち、本発明においては、上記マクロマー（Ｂ）
を、スチレン系モノマー（Ａ）又はスチレン系モノマー
（Ａ）を含む溶剤に溶解させたものと接触させる方法、
（ｂ）成分と（ｃ）成分との接触混合物に（ａ）成分
を加えて触媒とし、重合すべきモノマーと接触させる方
法、（ａ）成分と（ｃ）成分との接触混合物に（ｂ）
成分を加えて触媒とし、重合すべきモノマーと接触させ
る方法、重合すべきモノマー成分に（ａ），（ｂ），
（ｃ）成分を別々に接触させる方法、重合すべきモノ
マー成分と（ｃ）成分との接触混合物に、上記の〜
で調製して触媒を接触させる方法などがある。
ルキル基含有アルミニウム化合物、とりわけトリアルキ
ルアルミニウムやジアルキルアルミニウム化合物が好ま
しい。 （２）触媒の調製方法 重合に供せられる触媒における（ａ）成分と（ｂ）成分
と所望により用いられる（ｃ）成分との接触方法として
は、例えば（ａ）成分と（ｂ）成分との接触混合物
に、（ｃ）成分を加えて触媒とし、重合すべきモノマ
ー、即ち、本発明においては、上記マクロマー（Ｂ）
を、スチレン系モノマー（Ａ）又はスチレン系モノマー
（Ａ）を含む溶剤に溶解させたものと接触させる方法、
（ｂ）成分と（ｃ）成分との接触混合物に（ａ）成分
を加えて触媒とし、重合すべきモノマーと接触させる方
法、（ａ）成分と（ｃ）成分との接触混合物に（ｂ）
成分を加えて触媒とし、重合すべきモノマーと接触させ
る方法、重合すべきモノマー成分に（ａ），（ｂ），
（ｃ）成分を別々に接触させる方法、重合すべきモノ
マー成分と（ｃ）成分との接触混合物に、上記の〜
で調製して触媒を接触させる方法などがある。
【００４０】上記（ａ）成分と（ｂ）成分と所望により
用いられる（ｃ）成分との接触は、重合温度下で行える
ことはもちろん、−２０〜２００℃の範囲で行うことも
可能である。重合に供せられる触媒、上記（ａ）及び
（ｂ）成分、あるいは（ａ），（ｂ）及び（ｃ）成分の
組合せからなるものであるが、このほかにさらに他の触
媒成分を加えることも可能である。各触媒成分の配合割
合は、各種条件により異なり、一義的には定められない
が、通常、（ｂ）成分が酸素含有化合物の場合、（ａ）
成分と（ｂ）成分とのモル比は、好ましくは１：１〜
１：１0,０００、より好ましくは１：１〜１：1,０００
の範囲で選ばれ、（ｂ）成分が遷移金属化合物と反応し
てイオン性の錯体を形成しうる化合物、（ａ）成分と
（ｂ）成分とのモル比は、好ましくは0.１：１〜１：0.
１の範囲で選ばれる。また、（ｃ）成分を用いる場合
は、（ａ）成分と（ｃ）成分とのモル比は、好ましくは
１：0.１〜１：1,０００の範囲で選ばれる。
用いられる（ｃ）成分との接触は、重合温度下で行える
ことはもちろん、−２０〜２００℃の範囲で行うことも
可能である。重合に供せられる触媒、上記（ａ）及び
（ｂ）成分、あるいは（ａ），（ｂ）及び（ｃ）成分の
組合せからなるものであるが、このほかにさらに他の触
媒成分を加えることも可能である。各触媒成分の配合割
合は、各種条件により異なり、一義的には定められない
が、通常、（ｂ）成分が酸素含有化合物の場合、（ａ）
成分と（ｂ）成分とのモル比は、好ましくは１：１〜
１：１0,０００、より好ましくは１：１〜１：1,０００
の範囲で選ばれ、（ｂ）成分が遷移金属化合物と反応し
てイオン性の錯体を形成しうる化合物、（ａ）成分と
（ｂ）成分とのモル比は、好ましくは0.１：１〜１：0.
１の範囲で選ばれる。また、（ｃ）成分を用いる場合
は、（ａ）成分と（ｃ）成分とのモル比は、好ましくは
１：0.１〜１：1,０００の範囲で選ばれる。
【００４１】また、触媒の各成分を投入する前に、不純
物を捕捉するために、トリイソブチルアルミニウム等の
有機アルミニウム類を添加してもよい。 （２）重合方法 重合方法としては、塊状重合でもよく、ペンタン，ヘキ
サン，ヘプタンなどの脂肪族炭化水素、シクロヘキサン
などの脂環族炭化水素あるいはベンゼン，トルエン，キ
シレン，エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素溶媒中で
行ってもよい。また、重合温度は特に制限はないが、一
般には０〜２００℃、好ましくは２０〜１００℃であ
る。
物を捕捉するために、トリイソブチルアルミニウム等の
有機アルミニウム類を添加してもよい。 （２）重合方法 重合方法としては、塊状重合でもよく、ペンタン，ヘキ
サン，ヘプタンなどの脂肪族炭化水素、シクロヘキサン
などの脂環族炭化水素あるいはベンゼン，トルエン，キ
シレン，エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素溶媒中で
行ってもよい。また、重合温度は特に制限はないが、一
般には０〜２００℃、好ましくは２０〜１００℃であ
る。
【００４２】また、得られるグラフト共重合体におけ
る、スチレン系モノマーに由来する重合体セグメント
と、前記一般式（１）で示す末端スチレン誘導体変性オ
レフィン系マクロマーに由来する重合体セグメントの含
有割合については、重合に供する該マクロマー（Ｂ）と
スチレン系モノマー（Ａ）の使用量によって適宜、制御
することが可能である。
る、スチレン系モノマーに由来する重合体セグメント
と、前記一般式（１）で示す末端スチレン誘導体変性オ
レフィン系マクロマーに由来する重合体セグメントの含
有割合については、重合に供する該マクロマー（Ｂ）と
スチレン系モノマー（Ａ）の使用量によって適宜、制御
することが可能である。
【００４３】
(1) 末端スチレン変性オレフィン系マクロマーの合成 攪拌装置及び温度計を取り付けた１リットルのセパラブ
ルフラスコにトルエン５００ミリリットルを入れ、−６
０℃に冷却後、その温度で２５ mmol のジエチルアルミ
ニウムクロリドのｎ−ヘプタン溶液と、１.5 mmol のト
リス（２−メチル−１，３−ブタンジオナト）バナジウ
ムのトルエン溶液を加えた。次いで系内を７００ｍｍＨ
ｇまで減圧にした後、エチレンとプロピレンの混合ガス
（４０／６０モル比）を２時間連続的に供給し、エチレ
ンとプロピレンの共重合を行った。次に、−６０℃に冷
却したジビニルベンゼン１００ mmol のトルエン溶液を
添加した後、反応系の温度を１時間かけて−４０℃まで
昇温し、引き続き０.5時間攪拌した。得られた反応物を
５リットルの微量の塩酸が入ったメタノール混合液に添
加し、ポリマーを析出させた後、濾過及び３リットルの
メタノールによる洗浄０.5時間を２回繰り返した。得ら
れたポリマーは３０℃にて１２時間減圧乾燥し、８.5ｇ
のポリマーを得た。このポリマーの分析を行い、次の結
果を得た。ＧＰＣ測定により、重量平均分子量は３２０
００であり、Ｍｗ／Ｍｎ＝１.2１であった。また、Ｈ−
ＮＭＲにより、２級Ｈと３級Ｈとの比から、Ｃ2 ／Ｃ3
＝４９／５１（mol/mol)であり、エチレン−プロピレン
共重合体の分子量とジビニルベンゼンの末端ビニル基の
メチレン部のプロトン強度から、エチレン−プロピレン
共重合体末端のスチレン構造単位は約２個であることが
わかった。さらに、ＦＴ−ＩＲより、１６３０ｃｍ-1に
末端ビニル基の吸収が確認された。 (2) 末端スチレン変性エチレン−プロピレン共重合体グ
ラフトシンジオタクチックポリスチレンの製造 攪拌装置及び温度計を取り付けた１００ミリリットルの
３口フラスコに、上記(1) で合成した末端スチレン変性
エチレン−プロピレン共重合体２.0ｇを秤量した後、十
分に脱気処理し窒素置換した。続いて十分に脱水処理し
たトルエン５０ミリリットルを添加し、５０℃にて上記
(1) で合成した末端スチレン変性エチレン−プロピレン
共重合体を溶解させた後に、十分に脱水処理したスチレ
ンモノマー１０ミリリットルを添加し、７０℃まで昇温
したのち、トリイソブチルアルミニウム０.1５ mmol 及
びトリエチルアルミニウム０.0１２ mmol を添加し、５
分間攪拌した。続いて、メチルアルミノキサン／トリイ
ソブチルアルミニウム／ペンタメチルシクロペンタジエ
ニルチタントリメトキシド＝７５／２５／１（モル比，
Ｔｉ＝１mmol／リットル）のトルエン溶液２.5ミリリッ
トルを添加し、１時間重合を行った。
ルフラスコにトルエン５００ミリリットルを入れ、−６
０℃に冷却後、その温度で２５ mmol のジエチルアルミ
ニウムクロリドのｎ−ヘプタン溶液と、１.5 mmol のト
リス（２−メチル−１，３−ブタンジオナト）バナジウ
ムのトルエン溶液を加えた。次いで系内を７００ｍｍＨ
ｇまで減圧にした後、エチレンとプロピレンの混合ガス
（４０／６０モル比）を２時間連続的に供給し、エチレ
ンとプロピレンの共重合を行った。次に、−６０℃に冷
却したジビニルベンゼン１００ mmol のトルエン溶液を
添加した後、反応系の温度を１時間かけて−４０℃まで
昇温し、引き続き０.5時間攪拌した。得られた反応物を
５リットルの微量の塩酸が入ったメタノール混合液に添
加し、ポリマーを析出させた後、濾過及び３リットルの
メタノールによる洗浄０.5時間を２回繰り返した。得ら
れたポリマーは３０℃にて１２時間減圧乾燥し、８.5ｇ
のポリマーを得た。このポリマーの分析を行い、次の結
果を得た。ＧＰＣ測定により、重量平均分子量は３２０
００であり、Ｍｗ／Ｍｎ＝１.2１であった。また、Ｈ−
ＮＭＲにより、２級Ｈと３級Ｈとの比から、Ｃ2 ／Ｃ3
＝４９／５１（mol/mol)であり、エチレン−プロピレン
共重合体の分子量とジビニルベンゼンの末端ビニル基の
メチレン部のプロトン強度から、エチレン−プロピレン
共重合体末端のスチレン構造単位は約２個であることが
わかった。さらに、ＦＴ−ＩＲより、１６３０ｃｍ-1に
末端ビニル基の吸収が確認された。 (2) 末端スチレン変性エチレン−プロピレン共重合体グ
ラフトシンジオタクチックポリスチレンの製造 攪拌装置及び温度計を取り付けた１００ミリリットルの
３口フラスコに、上記(1) で合成した末端スチレン変性
エチレン−プロピレン共重合体２.0ｇを秤量した後、十
分に脱気処理し窒素置換した。続いて十分に脱水処理し
たトルエン５０ミリリットルを添加し、５０℃にて上記
(1) で合成した末端スチレン変性エチレン−プロピレン
共重合体を溶解させた後に、十分に脱水処理したスチレ
ンモノマー１０ミリリットルを添加し、７０℃まで昇温
したのち、トリイソブチルアルミニウム０.1５ mmol 及
びトリエチルアルミニウム０.0１２ mmol を添加し、５
分間攪拌した。続いて、メチルアルミノキサン／トリイ
ソブチルアルミニウム／ペンタメチルシクロペンタジエ
ニルチタントリメトキシド＝７５／２５／１（モル比，
Ｔｉ＝１mmol／リットル）のトルエン溶液２.5ミリリッ
トルを添加し、１時間重合を行った。
【００４４】反応生成物を１リットルの塩酸／メタノー
ル溶液中に投入し、ポリマーを析出させた。濾過後、１
リットルのメタノールで洗浄０.5時間を２回行った。得
られたポリマーは３０℃にて１２時間減圧乾燥し、７.4
ｇのポリマーを得た。乾燥ポリマーは次にシクロヘキサ
ンを用いて、１２時間ソックスレー抽出し、未反応のエ
チレン−プロピレン共重合体を除去したのち、８０℃に
て１２時間減圧乾燥し７.2ｇのポリマーを得た。
ル溶液中に投入し、ポリマーを析出させた。濾過後、１
リットルのメタノールで洗浄０.5時間を２回行った。得
られたポリマーは３０℃にて１２時間減圧乾燥し、７.4
ｇのポリマーを得た。乾燥ポリマーは次にシクロヘキサ
ンを用いて、１２時間ソックスレー抽出し、未反応のエ
チレン−プロピレン共重合体を除去したのち、８０℃に
て１２時間減圧乾燥し７.2ｇのポリマーを得た。
【００４５】このポリマーの分析を行い、次の結果を得
た。ＧＰＣ測定により、重量平均分子量は３５２０００
であり、Ｍｗ／Ｍｎ＝２.8５であった。また、Ｈ−ＮＭ
Ｒにより、シンジオタクチックポリスチレン部／エチレ
ン−プロピレン共重合体部＝７５／２５（wt／wt) であ
った。さらに、ＦＴ−ＩＲより、１６３０ｃｍ-1の末端
ビニル基の吸収は消滅していた。
た。ＧＰＣ測定により、重量平均分子量は３５２０００
であり、Ｍｗ／Ｍｎ＝２.8５であった。また、Ｈ−ＮＭ
Ｒにより、シンジオタクチックポリスチレン部／エチレ
ン−プロピレン共重合体部＝７５／２５（wt／wt) であ
った。さらに、ＦＴ−ＩＲより、１６３０ｃｍ-1の末端
ビニル基の吸収は消滅していた。
【００４６】このポリマーを小型射出成形機（新潟鉄鋼
所製射出成形機：ＭＩＮ−７，シリンダー温度２９０
℃，金型温度１５０℃）を用いて引張試験用ダンベル
（ＡＳＴＭ４号）を製作した。ＪＩＳ Ｋ７１１３に準
拠して、引張破断伸びを測定したところ、５３％であっ
た。 〔比較例１〕 (1) シンジオタクチックポリスチレンの合成 実施例１(2) において、末端スチレン変性エチレン−プ
ロピレン共重合体を添加せずに、スチレンモノマー１０
ミリリットルのみを用いて、実施例１(2) と同様の操作
で重合を行った。得られたシンジオタクチックポリスチ
レンの重量平均分子量は３５万であった。 (2) ポリマーの合成 上記(1) で得られたシンジオタクチックポリスチレン
３.8ｇと、末端をジビニルベンゼンで変性していないエ
チレン−プロピレン共重合体（Ｃ2 ／Ｃ3 ＝５３／４７
（mol/mol)）１.2ｇを、１，２，４−トリクロロベンゼ
ン５０ミリリットル中に１７０℃にて溶解させた後、メ
タノール中に析出させた。得られたポリマーを３０℃に
て１２時間減圧乾燥し、続いてシクロヘキサンを用い
て、１２時間ソックスレー抽出した後、８０℃にて１２
時間減圧乾燥を行い、３.7ｇのポリマーを得た。
所製射出成形機：ＭＩＮ−７，シリンダー温度２９０
℃，金型温度１５０℃）を用いて引張試験用ダンベル
（ＡＳＴＭ４号）を製作した。ＪＩＳ Ｋ７１１３に準
拠して、引張破断伸びを測定したところ、５３％であっ
た。 〔比較例１〕 (1) シンジオタクチックポリスチレンの合成 実施例１(2) において、末端スチレン変性エチレン−プ
ロピレン共重合体を添加せずに、スチレンモノマー１０
ミリリットルのみを用いて、実施例１(2) と同様の操作
で重合を行った。得られたシンジオタクチックポリスチ
レンの重量平均分子量は３５万であった。 (2) ポリマーの合成 上記(1) で得られたシンジオタクチックポリスチレン
３.8ｇと、末端をジビニルベンゼンで変性していないエ
チレン−プロピレン共重合体（Ｃ2 ／Ｃ3 ＝５３／４７
（mol/mol)）１.2ｇを、１，２，４−トリクロロベンゼ
ン５０ミリリットル中に１７０℃にて溶解させた後、メ
タノール中に析出させた。得られたポリマーを３０℃に
て１２時間減圧乾燥し、続いてシクロヘキサンを用い
て、１２時間ソックスレー抽出した後、８０℃にて１２
時間減圧乾燥を行い、３.7ｇのポリマーを得た。
【００４７】このポリマーの分析を行い、次の結果を得
た。ＧＰＣ測定により、重量平均分子量は３２４０００
であった。また、Ｈ−ＮＭＲより、シンジオタクチック
ポリスチレン部／エチレン−プロピレン共重合体部＝１
００／０（wt／wt) であり、エチレン−プロピレン共重
合体部はすべて抽出により除去されており、その存在は
確認されなかった。
た。ＧＰＣ測定により、重量平均分子量は３２４０００
であった。また、Ｈ−ＮＭＲより、シンジオタクチック
ポリスチレン部／エチレン−プロピレン共重合体部＝１
００／０（wt／wt) であり、エチレン−プロピレン共重
合体部はすべて抽出により除去されており、その存在は
確認されなかった。
【００４８】さらに、実施例１と同様に引張破断伸びを
測定したところ、１％であった。
測定したところ、１％であった。
【００４９】
【発明の効果】本発明のグラフト共重合体は、耐熱性，
耐薬品性等に優れるとともに、良好な靱性及び相溶化能
を有し、複合材料の素材や耐熱エラストマーとして有用
である。また、本発明の製造方法により、該グラフト共
重合体を効率的に得ることができる。
耐薬品性等に優れるとともに、良好な靱性及び相溶化能
を有し、複合材料の素材や耐熱エラストマーとして有用
である。また、本発明の製造方法により、該グラフト共
重合体を効率的に得ることができる。
Claims (4)
- 【請求項１】 スチレン系モノマー（Ａ）と、下記一般
式（１）で示す末端スチレン誘導体変性オレフィン系マ
クロマー（Ｂ）との共重合体であって、スチレン系モノ
マーに由来する連鎖の立体規則性が高度のシンジオタク
チック構造を有するものであるグラフト共重合体。 【化１】 〔式中、Ｒは水素原子又は炭素数１〜２０のアルキル基
であって、各Ｒは同じでも異なっていてもよい。Ｘは次
の〜のいずれかを示す。水素原子，ハロゲン原
子，あるいは炭素原子，スズ原子及びケイ素原子から
選ばれたいずれか一種以上を含む置換基。ｎは１〜４の
整数を示し、ｎが２以上のときは、各Ｘは、同じでも異
なっていてもよい。さらに、ｍは０又は自然数であり、
Ｚはオレフィン系モノマーに由来する連鎖部を示す。〕 - 【請求項２】 スチレン系モノマー（Ａ）に由来する重
合体セグメント９９．９〜０．１重量％と、請求項１に
記載の末端スチレン誘導体変性オレフィン系マクロマー
（Ｂ）に由来する重合体セグメント０．１〜９９．９重
量％からなる請求項１に記載のグラフト共重合体。 - 【請求項３】 請求項１に記載の末端スチレン誘導体変
性オレフィン系マクロマー（Ｂ）を、スチレン系モノマ
ー（Ａ）又はスチレン系モノマー（Ａ）を含む溶剤に溶
解させた後、（ａ）遷移金属化合物，（ｂ）（イ）一般
式（２） 【化２】 （式中、Ｒ1 〜Ｒ5 はそれぞれ炭素数１〜８のアルキル
基を示し、それらはたがいに同一でも異なっていてもよ
く、Ｙ1 〜Ｙ3 はそれぞれ周期律表１３族元素を示し、
それらはたがいに同一でも異なっていてもよく、ａ及び
ｂはそれぞれ０〜５０の数を示すが、ａ＋ｂは１以上で
ある。）及び／又は一般式（３） 【化３】 （式中、Ｒ6 及びＲ7 はそれぞれ炭素数１〜８のアルキ
ル基を示し、それらはたがいに同一でも異なっていても
よく、Ｙ4 及びＹ5 はそれぞれ周期律表１３族元素を示
し、それらはたがいに同一でも異なっていてもよく、ｃ
及びｄはそれぞれ０〜５０の数を示すが、ｃ＋ｄは１以
上である。）で表される酸素含有化合物、及び／又は
（ロ）該（ａ）成分の遷移金属化合物と反応してイオン
性の錯体を形成しうる化合物からなる触媒を用いて、
（Ａ）と（Ｂ）を共重合させることを特徴とする請求項
１又は２に記載のグラフト共重合体の製造方法。 - 【請求項４】 請求項１に記載の末端スチレン誘導体変
性オレフィン系マクロマー（Ｂ）を、スチレン系モノマ
ー（Ａ）又はスチレン系モノマー（Ａ）を含む溶剤に溶
解させた後、（ａ）遷移金属化合物，（ｂ）（イ）一般
式（２） 【化４】 （式中、Ｒ1 〜Ｒ5 はそれぞれ炭素数１〜８のアルキル
基を示し、それらはたがいに同一でも異なっていてもよ
く、Ｙ1 〜Ｙ3 はそれぞれ周期律表１３族元素を示し、
それらはたがいに同一でも異なっていてもよく、ａ及び
ｂはそれぞれ０〜５０の数を示すが、ａ＋ｂは１以上で
ある。）及び／又は一般式（３） 【化５】 （式中、Ｒ6 及びＲ7 はそれぞれ炭素数１〜８のアルキ
ル基を示し、それらはたがいに同一でも異なっていても
よく、Ｙ4 及びＹ5 はそれぞれ周期律表１３族元素を示
し、それらはたがいに同一でも異なっていてもよく、ｃ
及びｄはそれぞれ０〜５０の数を示すが、ｃ＋ｄは１以
上である。）で表される酸素含有化合物、及び／又は
（ロ）該（ａ）成分の遷移金属化合物と反応してイオン
性の錯体を形成しうる化合物、及び（ｃ）アルキル化剤
からなる触媒を用いて、（Ａ）と（Ｂ）を共重合させる
ことを特徴とする請求項１又は２に記載のグラフト共重
合体の製造方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3795997A JPH10237139A (ja) | 1997-02-21 | 1997-02-21 | グラフト共重合体及びその製造方法 |
| TW087101395A TW513446B (en) | 1997-02-21 | 1998-02-04 | Graft copolymer and styrene-based resin composition |
| EP98102758A EP0860456A1 (en) | 1997-02-21 | 1998-02-18 | Graft copolymer and styrene-based resin composition |
| US09/025,850 US6100331A (en) | 1997-02-21 | 1998-02-19 | Graft copolymer and styrene-based resin composition |
| KR1019980005317A KR19980071545A (ko) | 1997-02-21 | 1998-02-20 | 그라프트 공중합체 및 스티렌계 수지 조성물 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3795997A JPH10237139A (ja) | 1997-02-21 | 1997-02-21 | グラフト共重合体及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10237139A true JPH10237139A (ja) | 1998-09-08 |
Family
ID=12512107
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3795997A Pending JPH10237139A (ja) | 1997-02-21 | 1997-02-21 | グラフト共重合体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10237139A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100344893B1 (ko) * | 1999-11-04 | 2002-07-20 | 삼성전자 주식회사 | 유동성 및 내충격성이 우수한 스티렌계 삼원공중합체 및그 제조방법 |
| JP2002265612A (ja) * | 2001-03-07 | 2002-09-18 | Idemitsu Petrochem Co Ltd | スチレン系ブロック共重合体及びそれを含有する組成物 |
| JP2010528137A (ja) * | 2007-05-23 | 2010-08-19 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | 反応性基を有するイソタクチックポリスチレン |
-
1997
- 1997-02-21 JP JP3795997A patent/JPH10237139A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100344893B1 (ko) * | 1999-11-04 | 2002-07-20 | 삼성전자 주식회사 | 유동성 및 내충격성이 우수한 스티렌계 삼원공중합체 및그 제조방법 |
| JP2002265612A (ja) * | 2001-03-07 | 2002-09-18 | Idemitsu Petrochem Co Ltd | スチレン系ブロック共重合体及びそれを含有する組成物 |
| JP2010528137A (ja) * | 2007-05-23 | 2010-08-19 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | 反応性基を有するイソタクチックポリスチレン |
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