JPH11189620A - エチレン系共重合体及びその製造方法 - Google Patents
エチレン系共重合体及びその製造方法Info
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- JPH11189620A JPH11189620A JP10264715A JP26471598A JPH11189620A JP H11189620 A JPH11189620 A JP H11189620A JP 10264715 A JP10264715 A JP 10264715A JP 26471598 A JP26471598 A JP 26471598A JP H11189620 A JPH11189620 A JP H11189620A
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- Japan
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- ethylene
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- Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 耐熱性，耐溶剤性、靱性，引張伸びに優れた
ＳＰＳグラフト共重合体を得るためのマクロマー等の用
途として有用なエチレン系共重合体及びその製造方法を
提供する。 【解決手段】 芳香族ビニルモノマー（Ａ）、エチレン
（Ｂ）、及びジエン系モノマー（Ｃ）、及び必要に応じ
て、α−オレフィン（Ｄ）の共重合体であって、分子鎖
中にジエン系モノマーに由来するビニル基を有するエチ
レン系共重合体。また、（ａ）特定の遷移金属化合物
（特に拘束幾何型）、（ｂ）（イ）特定の酸素含有化合
物及び／又は（ロ）イオン性の錯体を形成しうる化合
物、及び必要に応じて、（ｃ）アルキル化剤からなる触
媒を用いる上記エチレン系共重合体の製造方法。
ＳＰＳグラフト共重合体を得るためのマクロマー等の用
途として有用なエチレン系共重合体及びその製造方法を
提供する。 【解決手段】 芳香族ビニルモノマー（Ａ）、エチレン
（Ｂ）、及びジエン系モノマー（Ｃ）、及び必要に応じ
て、α−オレフィン（Ｄ）の共重合体であって、分子鎖
中にジエン系モノマーに由来するビニル基を有するエチ
レン系共重合体。また、（ａ）特定の遷移金属化合物
（特に拘束幾何型）、（ｂ）（イ）特定の酸素含有化合
物及び／又は（ロ）イオン性の錯体を形成しうる化合
物、及び必要に応じて、（ｃ）アルキル化剤からなる触
媒を用いる上記エチレン系共重合体の製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、エチレン系共重合
体及びその製造方法に関し、詳しくは、エチレン系共重
合体の分子鎖中にビニル基を有する新規なエチレン系共
重合体及びその効率的な製造方法に関する。
体及びその製造方法に関し、詳しくは、エチレン系共重
合体の分子鎖中にビニル基を有する新規なエチレン系共
重合体及びその効率的な製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】本発明者らの研究グループは、先にシン
ジオタクティシティの高いスチレン系重合体を開発する
ことに成功した（特開昭６２−１０４８１８号公報、同
６３−２４１００９号公報）。しかし、このシンジオタ
クチック構造を有するスチレン系重合体は、耐熱性，耐
薬品性等に優れるものの、靱性や伸びが十分ではない
上、他の樹脂との相溶性に乏しく、用途が限定されるの
を免れ得なかった。
ジオタクティシティの高いスチレン系重合体を開発する
ことに成功した（特開昭６２−１０４８１８号公報、同
６３−２４１００９号公報）。しかし、このシンジオタ
クチック構造を有するスチレン系重合体は、耐熱性，耐
薬品性等に優れるものの、靱性や伸びが十分ではない
上、他の樹脂との相溶性に乏しく、用途が限定されるの
を免れ得なかった。
【０００３】かかる欠点を解消するために、本発明者ら
の研究グループはスチレンとオレフィン類とを共重合さ
せることにより、上記シンジオタクチック構造を有する
スチレン系重合体に靱性を付与することに成功した（特
開平３−７７０５号公報、特開平４−１３０１１４号公
報、同４−３００９０４号公報）。しかしながら、これ
らにおいては靱性や伸び、さらに他の樹脂との相溶性の
改良は必ずしも十分なものとはいえず、また、耐熱性の
低下が生じることもあり、良好な耐熱性を保持しつつ靱
性等をより改良しうる技術が望まれていた。
の研究グループはスチレンとオレフィン類とを共重合さ
せることにより、上記シンジオタクチック構造を有する
スチレン系重合体に靱性を付与することに成功した（特
開平３−７７０５号公報、特開平４−１３０１１４号公
報、同４−３００９０４号公報）。しかしながら、これ
らにおいては靱性や伸び、さらに他の樹脂との相溶性の
改良は必ずしも十分なものとはいえず、また、耐熱性の
低下が生じることもあり、良好な耐熱性を保持しつつ靱
性等をより改良しうる技術が望まれていた。
【０００４】さらには、上記シンジオタクチック構造を
有するポリスチレンの場合に限らず、一般的なポリスチ
レン等、ガラス転位温度が高く脆い樹脂においても同様
に、靱性や伸びを効率的に改良しうる技術が望まれてい
た。
有するポリスチレンの場合に限らず、一般的なポリスチ
レン等、ガラス転位温度が高く脆い樹脂においても同様
に、靱性や伸びを効率的に改良しうる技術が望まれてい
た。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、かかる状況
下で、靱性，伸び等が改良されたシンジオタクチックポ
リスチレングラフト共重合体を得るためのマクロモノマ
ーとしての用途や、シンジオタクチックポリスチレンと
ゴム成分との組成物や一般的なポリスチレンとゴム成分
との組成物における相溶化剤を得るための素材として極
めて有用なエチレン系共重合体及びその効率的な製造方
法に関する。
下で、靱性，伸び等が改良されたシンジオタクチックポ
リスチレングラフト共重合体を得るためのマクロモノマ
ーとしての用途や、シンジオタクチックポリスチレンと
ゴム成分との組成物や一般的なポリスチレンとゴム成分
との組成物における相溶化剤を得るための素材として極
めて有用なエチレン系共重合体及びその効率的な製造方
法に関する。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記目的
を達成するために鋭意研究を重ねた結果、エチレン鎖中
にスチレン系ビニル基を持たせることにより、ポリスチ
レングラフト共重合体を得るための有効なコモノマーと
なりうること、及び該ポリスチレングラフト共重合体が
ポリスチレンとゴム成分との組成物における相溶化剤と
なりうることを見出し、本発明を完成したものである。
を達成するために鋭意研究を重ねた結果、エチレン鎖中
にスチレン系ビニル基を持たせることにより、ポリスチ
レングラフト共重合体を得るための有効なコモノマーと
なりうること、及び該ポリスチレングラフト共重合体が
ポリスチレンとゴム成分との組成物における相溶化剤と
なりうることを見出し、本発明を完成したものである。
【０００７】即ち、本発明は、以下を提供するものであ
る。 （１）芳香族ビニルモノマー（Ａ）、エチレン（Ｂ）、
及びジエン系モノマー（Ｃ）の共重合体であって、芳香
族ビニルモノマー（Ａ）に由来する繰返し単位が１〜９
８モル％、エチレン（Ｂ）に由来する繰返し単位が１〜
９８モル％、及びジエン系モノマー（Ｃ）に由来する繰
返し単位が０.0０１〜１０モル％であり、分子鎖中にジ
エン系モノマーに由来するビニル基を有するエチレン系
共重合体。 （２）芳香族ビニルモノマー（Ａ）、エチレン（Ｂ）、
ジエン系モノマー（Ｃ）、及びα−オレフィン（Ｄ）の
共重合体であって、芳香族ビニルモノマー（Ａ）に由来
する繰返し単位が１〜９８モル％、エチレン（Ｂ）に由
来する繰返し単位が１〜９８モル％、及びジエン系モノ
マー（Ｃ）に由来する繰返し単位が０.0０１〜１０モル
％、及びα−オレフィン（Ｄ）に由来する繰返し単位０
〜９０モル％（０を含まず）であり、分子鎖中にジエン
系モノマーに由来するビニル基を有するエチレン系共重
合体。 （３）ジエン系モノマー（Ｃ）が、スチレン系ビニル基
を有するジエンである上記（１）又は（２）に記載のエ
チレン系共重合体。 （４）（ａ）遷移金属化合物，（ｂ）（イ）一般式
（１）
る。 （１）芳香族ビニルモノマー（Ａ）、エチレン（Ｂ）、
及びジエン系モノマー（Ｃ）の共重合体であって、芳香
族ビニルモノマー（Ａ）に由来する繰返し単位が１〜９
８モル％、エチレン（Ｂ）に由来する繰返し単位が１〜
９８モル％、及びジエン系モノマー（Ｃ）に由来する繰
返し単位が０.0０１〜１０モル％であり、分子鎖中にジ
エン系モノマーに由来するビニル基を有するエチレン系
共重合体。 （２）芳香族ビニルモノマー（Ａ）、エチレン（Ｂ）、
ジエン系モノマー（Ｃ）、及びα−オレフィン（Ｄ）の
共重合体であって、芳香族ビニルモノマー（Ａ）に由来
する繰返し単位が１〜９８モル％、エチレン（Ｂ）に由
来する繰返し単位が１〜９８モル％、及びジエン系モノ
マー（Ｃ）に由来する繰返し単位が０.0０１〜１０モル
％、及びα−オレフィン（Ｄ）に由来する繰返し単位０
〜９０モル％（０を含まず）であり、分子鎖中にジエン
系モノマーに由来するビニル基を有するエチレン系共重
合体。 （３）ジエン系モノマー（Ｃ）が、スチレン系ビニル基
を有するジエンである上記（１）又は（２）に記載のエ
チレン系共重合体。 （４）（ａ）遷移金属化合物，（ｂ）（イ）一般式
（１）
【０００８】
【化６】
【０００９】（式中、Ｒ1 〜Ｒ5 はそれぞれ炭素数１〜
８のアルキル基を示し、それらはたがいに同一でも異な
っていてもよく、Ｙ1 〜Ｙ3 はそれぞれ周期律表１３族
元素を示し、それらはたがいに同一でも異なっていても
よく、ａ及びｂはそれぞれ０〜５０の数を示すが、ａ＋
ｂは１以上である。） 及び／又は一般式（２）
８のアルキル基を示し、それらはたがいに同一でも異な
っていてもよく、Ｙ1 〜Ｙ3 はそれぞれ周期律表１３族
元素を示し、それらはたがいに同一でも異なっていても
よく、ａ及びｂはそれぞれ０〜５０の数を示すが、ａ＋
ｂは１以上である。） 及び／又は一般式（２）
【００１０】
【化７】
【００１１】（式中、Ｒ6 及びＲ7 はそれぞれ炭素数１
〜８のアルキル基を示し、それらはたがいに同一でも異
なっていてもよく、Ｙ4 及びＹ5 はそれぞれ周期律表１
３族元素を示し、それらはたがいに同一でも異なってい
てもよく、ｃ及びｄはそれぞれ０〜５０の数を示すが、
ｃ＋ｄは１以上である。）で表される酸素含有化合物、
及び／又は（ロ）該（ａ）成分の遷移金属化合物と反応
してイオン性の錯体を形成しうる化合物を用いて形成さ
れる触媒を用いて、各モノマーを共重合させることを特
徴とする上記（１）〜（３）に記載のエチレン系共重合
体の製造方法。 （５）（ａ）遷移金属化合物，（ｂ）（イ）一般式
（１）
〜８のアルキル基を示し、それらはたがいに同一でも異
なっていてもよく、Ｙ4 及びＹ5 はそれぞれ周期律表１
３族元素を示し、それらはたがいに同一でも異なってい
てもよく、ｃ及びｄはそれぞれ０〜５０の数を示すが、
ｃ＋ｄは１以上である。）で表される酸素含有化合物、
及び／又は（ロ）該（ａ）成分の遷移金属化合物と反応
してイオン性の錯体を形成しうる化合物を用いて形成さ
れる触媒を用いて、各モノマーを共重合させることを特
徴とする上記（１）〜（３）に記載のエチレン系共重合
体の製造方法。 （５）（ａ）遷移金属化合物，（ｂ）（イ）一般式
（１）
【００１２】
【化８】
【００１３】（式中、Ｒ1 〜Ｒ5 はそれぞれ炭素数１〜
８のアルキル基を示し、それらはたがいに同一でも異な
っていてもよく、Ｙ1 〜Ｙ3 はそれぞれ周期律表１３族
元素を示し、それらはたがいに同一でも異なっていても
よく、ａ及びｂはそれぞれ０〜５０の数を示すが、ａ＋
ｂは１以上である。） 及び／又は一般式（２）
８のアルキル基を示し、それらはたがいに同一でも異な
っていてもよく、Ｙ1 〜Ｙ3 はそれぞれ周期律表１３族
元素を示し、それらはたがいに同一でも異なっていても
よく、ａ及びｂはそれぞれ０〜５０の数を示すが、ａ＋
ｂは１以上である。） 及び／又は一般式（２）
【００１４】
【化９】
【００１５】（式中、Ｒ6 及びＲ7 はそれぞれ炭素数１
〜８のアルキル基を示し、それらはたがいに同一でも異
なっていてもよく、Ｙ4 及びＹ5 はそれぞれ周期律表１
３族元素を示し、それらはたがいに同一でも異なってい
てもよく、ｃ及びｄはそれぞれ０〜５０の数を示すが、
ｃ＋ｄは１以上である。）で表される酸素含有化合物、
及び／又は（ロ）該（ａ）成分の遷移金属化合物と反応
してイオン性の錯体を形成しうる化合物、及び（ｃ）ア
ルキル化剤を用いて形成される触媒を用いて、各モノマ
ーを共重合させることを特徴とする上記（１）〜（３）
に記載のエチレン系共重合体の製造方法。 （６）（ａ）遷移金属化合物が、下記一般式（３）で表
されるものであることを特徴とする上記（４）又は
（５）に記載のエチレン系共重合体の製造方法。
〜８のアルキル基を示し、それらはたがいに同一でも異
なっていてもよく、Ｙ4 及びＹ5 はそれぞれ周期律表１
３族元素を示し、それらはたがいに同一でも異なってい
てもよく、ｃ及びｄはそれぞれ０〜５０の数を示すが、
ｃ＋ｄは１以上である。）で表される酸素含有化合物、
及び／又は（ロ）該（ａ）成分の遷移金属化合物と反応
してイオン性の錯体を形成しうる化合物、及び（ｃ）ア
ルキル化剤を用いて形成される触媒を用いて、各モノマ
ーを共重合させることを特徴とする上記（１）〜（３）
に記載のエチレン系共重合体の製造方法。 （６）（ａ）遷移金属化合物が、下記一般式（３）で表
されるものであることを特徴とする上記（４）又は
（５）に記載のエチレン系共重合体の製造方法。
【００１６】
【化１０】
【００１７】（式中、Ｍはチタン，ジルコニウム又はハ
フニウムであり、Ｃｐ* は、Ｍにη5結合様式で結合す
るシクロペンタジエニル基，置換シクロペンタジエニル
基又はインデニル基，置換インデニル基，フルオレニル
基，置換フルオレニル基，ヘキサヒドロアズレニル基，
置換ヘキサヒドロアズレニル基，テトラヒドロインデニ
ル基，置換テトラヒドロインデニル基，テトラヒドロフ
ルオレニル基，置換テトラヒドロフルオレニル基，オク
タヒドロフルオレニル基，置換オクタヒドロフルオレニ
ル基である。Ｘはσ配位子を示し、ｎは１又は２であ
り、複数のＸはたがいに同一でも異なっていてもよく、
また、任意の基を介して結合していてもよい。Ｙは、
Ｏ，Ｓ，ＮＲ，ＰＲ又はＣＲ2 であるか、又はＯＲ，Ｓ
Ｒ，ＮＲ2 又はＰＲ2 から選ばれた中性の２個電子供与
性配位子であり、Ｚは、ＳｉＲ2 ，ＣＲ 2 ，ＳｉＲ2 Ｓ
ｉＲ2 ，ＣＲ2 ＣＲ2 ，ＣＲ＝ＣＲ，ＣＲＳｉＲ2 ，Ｇ
ｅＲ2 ，ＢＲ，ＢＲ2 であり、ここにおいて、Ｒは、各
々の場合に、水素，アルキル基，アリール基，シリル
基，ハロゲン化アルキル，ハロゲン化アリール，及び２
０個までの非水素原子をもつそれらの組み合わせから選
ばれた部分である。さらに、２個又はそれ以上の上記Ｒ
基はＺ，又はＹとＺの双方から縮合環系を形成していて
もよい。）
フニウムであり、Ｃｐ* は、Ｍにη5結合様式で結合す
るシクロペンタジエニル基，置換シクロペンタジエニル
基又はインデニル基，置換インデニル基，フルオレニル
基，置換フルオレニル基，ヘキサヒドロアズレニル基，
置換ヘキサヒドロアズレニル基，テトラヒドロインデニ
ル基，置換テトラヒドロインデニル基，テトラヒドロフ
ルオレニル基，置換テトラヒドロフルオレニル基，オク
タヒドロフルオレニル基，置換オクタヒドロフルオレニ
ル基である。Ｘはσ配位子を示し、ｎは１又は２であ
り、複数のＸはたがいに同一でも異なっていてもよく、
また、任意の基を介して結合していてもよい。Ｙは、
Ｏ，Ｓ，ＮＲ，ＰＲ又はＣＲ2 であるか、又はＯＲ，Ｓ
Ｒ，ＮＲ2 又はＰＲ2 から選ばれた中性の２個電子供与
性配位子であり、Ｚは、ＳｉＲ2 ，ＣＲ 2 ，ＳｉＲ2 Ｓ
ｉＲ2 ，ＣＲ2 ＣＲ2 ，ＣＲ＝ＣＲ，ＣＲＳｉＲ2 ，Ｇ
ｅＲ2 ，ＢＲ，ＢＲ2 であり、ここにおいて、Ｒは、各
々の場合に、水素，アルキル基，アリール基，シリル
基，ハロゲン化アルキル，ハロゲン化アリール，及び２
０個までの非水素原子をもつそれらの組み合わせから選
ばれた部分である。さらに、２個又はそれ以上の上記Ｒ
基はＺ，又はＹとＺの双方から縮合環系を形成していて
もよい。）
【００１８】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態につ
いて説明する。 １．エチレン系共重合体 本発明にかかるエチレン系共重合体は、芳香族ビニルモ
ノマー（Ａ）、エチレン（Ｂ）、ジエン系モノマー
（Ｃ）、及び必要に応じて用いられるα−オレフィン
（Ｄ）の共重合体であって、分子鎖中にジエン系モノマ
ーに由来するビニル基を有するエチレン系共重合体であ
る。 （１）芳香族ビニルモノマー（Ａ） 本発明で用いる芳香族ビニルモノマー（Ａ）は、一般式
（４）で表される化合物である。
いて説明する。 １．エチレン系共重合体 本発明にかかるエチレン系共重合体は、芳香族ビニルモ
ノマー（Ａ）、エチレン（Ｂ）、ジエン系モノマー
（Ｃ）、及び必要に応じて用いられるα−オレフィン
（Ｄ）の共重合体であって、分子鎖中にジエン系モノマ
ーに由来するビニル基を有するエチレン系共重合体であ
る。 （１）芳香族ビニルモノマー（Ａ） 本発明で用いる芳香族ビニルモノマー（Ａ）は、一般式
（４）で表される化合物である。
【００１９】
【化１１】
【００２０】〔式中、Ｘ1 は次の〜のいずれかを示
す。水素原子，ハロゲン原子，あるいは炭素原
子，スズ原子及びケイ素原子から選ばれたいずれか一種
以上を含む置換基。ｎは１〜５の整数を示し、ｎが２以
上のときは、各Ｘ1 は、同じでも異なっていてもよ
い。〕で表される化合物が使用される。具体的には、ス
チレン，ｐ−メチルスチレン，ｍ−メチルスチレン，ｏ
−メチルスチレン，２，４−ジメチルスチレン，２，５
−ジメチルスチレン，３，４−ジメチルスチレン，３，
５−ジメチルスチレン，ｐ−エチルスチレン，ｍ−エチ
ルスチレン，ｐ−ターシャリーブチルスチレン等のアル
キルスチレン；ｐ−クロロスチレン，ｍ−クロロスチレ
ン，ｏ−クロロスチレン，ｐ−ブロモスチレン，ｍ−ブ
ロモスチレン，ｏ−ブロモスチレン，ｐ−フルオロスチ
レン，ｍ−フルオロスチレン，ｏ−フルオロスチレン，
ｏ−メチル−ｐ−フルオロスチレン等のハロゲン化スチ
レン、メトキシスチレン，エトキシスチレン，ｔ−ブト
キシスチレン等のアルコキシスチレン、ビニルビフェニ
ル類、ビニルフェニルナフタレン類、ビニルフェニルア
ントラセン類、ハロゲン化ビニルビフェニル類、トリア
ルキルシリルビニルビフェニル類、ハロゲン置換アルキ
ルスチレン、アルキルシリルスチレン類、フェニル基含
有シリルスチレン類、ハロゲン含有シリルスチレン類、
シリル基含有シリルスチレン類、あるいはこれらを二種
以上を混合したものが挙げられる。さらには、ビニルナ
フタレン類やビニルアントラセン類、或いはこれらの置
換体等も用いることができる。 （２）エチレン（Ｂ） 特に問わず、水素がハロゲン等で置換されたものでもよ
い。 （３）ジエン系モノマー（Ｃ） 本発明で用いるジエン系モノマー（Ｃ）とは、分子内に
炭素−炭素二重結合を２つ以上有するモノマーをいう。
例えば、ブタジエン、イソプレン、クロロプレン、１，
３−ヘキサジエン、１，３−ヘプタジエンなどの炭素数
４〜２０の共役ジエン系化合物、シクロペタジエン、
２，５−ノルボルナジエン、１，３−シクロヘキサジエ
ン、１，４−シクロヘキサジエン、１，３−シクロオク
タジエン、１，５−シクロオクタなどの環状ジエン系化
合物、ビニルノルボルネンなどの環状オレフィンが挙げ
られる。さらには、下記一般式（５）や（６）で表され
るスチレン系ビニルを有するビニルスチレン系化合物が
好ましく挙げられる。
す。水素原子，ハロゲン原子，あるいは炭素原
子，スズ原子及びケイ素原子から選ばれたいずれか一種
以上を含む置換基。ｎは１〜５の整数を示し、ｎが２以
上のときは、各Ｘ1 は、同じでも異なっていてもよ
い。〕で表される化合物が使用される。具体的には、ス
チレン，ｐ−メチルスチレン，ｍ−メチルスチレン，ｏ
−メチルスチレン，２，４−ジメチルスチレン，２，５
−ジメチルスチレン，３，４−ジメチルスチレン，３，
５−ジメチルスチレン，ｐ−エチルスチレン，ｍ−エチ
ルスチレン，ｐ−ターシャリーブチルスチレン等のアル
キルスチレン；ｐ−クロロスチレン，ｍ−クロロスチレ
ン，ｏ−クロロスチレン，ｐ−ブロモスチレン，ｍ−ブ
ロモスチレン，ｏ−ブロモスチレン，ｐ−フルオロスチ
レン，ｍ−フルオロスチレン，ｏ−フルオロスチレン，
ｏ−メチル−ｐ−フルオロスチレン等のハロゲン化スチ
レン、メトキシスチレン，エトキシスチレン，ｔ−ブト
キシスチレン等のアルコキシスチレン、ビニルビフェニ
ル類、ビニルフェニルナフタレン類、ビニルフェニルア
ントラセン類、ハロゲン化ビニルビフェニル類、トリア
ルキルシリルビニルビフェニル類、ハロゲン置換アルキ
ルスチレン、アルキルシリルスチレン類、フェニル基含
有シリルスチレン類、ハロゲン含有シリルスチレン類、
シリル基含有シリルスチレン類、あるいはこれらを二種
以上を混合したものが挙げられる。さらには、ビニルナ
フタレン類やビニルアントラセン類、或いはこれらの置
換体等も用いることができる。 （２）エチレン（Ｂ） 特に問わず、水素がハロゲン等で置換されたものでもよ
い。 （３）ジエン系モノマー（Ｃ） 本発明で用いるジエン系モノマー（Ｃ）とは、分子内に
炭素−炭素二重結合を２つ以上有するモノマーをいう。
例えば、ブタジエン、イソプレン、クロロプレン、１，
３−ヘキサジエン、１，３−ヘプタジエンなどの炭素数
４〜２０の共役ジエン系化合物、シクロペタジエン、
２，５−ノルボルナジエン、１，３−シクロヘキサジエ
ン、１，４−シクロヘキサジエン、１，３−シクロオク
タジエン、１，５−シクロオクタなどの環状ジエン系化
合物、ビニルノルボルネンなどの環状オレフィンが挙げ
られる。さらには、下記一般式（５）や（６）で表され
るスチレン系ビニルを有するビニルスチレン系化合物が
好ましく挙げられる。
【００２１】
【化１２】
【００２２】
【化１３】
【００２３】（式中、Ｘ2 はベンゼン，ナフタレン，ア
ントラセン等の芳香族化合物残基、トルエン，キシレ
ン，エチルベンゼン等、炭素数が１〜２０のアルキル基
で置換された芳香族化合物残基、クロロベンゼン，ブロ
モベンゼン等のハロゲン置換芳香族化合物残基であり、
Ｙ6 はＣＨ2 、アルキレン基、アルキリデン基を示し、
ｎは０又は１〜２０の整数を示す。） 具体的には、一般式（５）で表される化合物としては、
ｏ−ジビニルベンゼン、ｍ−ジビニルベンゼン、ｐ−ジ
ビニルベンゼン、（ｏ−，ｍ−，ｐ−）ジビニルトルエ
ン、（ｏ−，ｍ−，ｐ−）２−プロペニルスチレン、
（ｏ−，ｍ−，ｐ−）３−ブテニルスチレン、（ｏ−，
ｍ−，ｐ−）４−ペンテニルスチレン等が挙げられ、一
般式（６）で表される化合物としては、以下の化合物が
挙げられる。
ントラセン等の芳香族化合物残基、トルエン，キシレ
ン，エチルベンゼン等、炭素数が１〜２０のアルキル基
で置換された芳香族化合物残基、クロロベンゼン，ブロ
モベンゼン等のハロゲン置換芳香族化合物残基であり、
Ｙ6 はＣＨ2 、アルキレン基、アルキリデン基を示し、
ｎは０又は１〜２０の整数を示す。） 具体的には、一般式（５）で表される化合物としては、
ｏ−ジビニルベンゼン、ｍ−ジビニルベンゼン、ｐ−ジ
ビニルベンゼン、（ｏ−，ｍ−，ｐ−）ジビニルトルエ
ン、（ｏ−，ｍ−，ｐ−）２−プロペニルスチレン、
（ｏ−，ｍ−，ｐ−）３−ブテニルスチレン、（ｏ−，
ｍ−，ｐ−）４−ペンテニルスチレン等が挙げられ、一
般式（６）で表される化合物としては、以下の化合物が
挙げられる。
【００２４】
【化１４】
【００２５】（４）α−オレフィン（Ｄ） エチレンを除くα−オレフィンモノマーである。具体的
には、プロピレン；ブテン−１；ペンテン−１；ヘキセ
ン−１；ヘプテン−１；オクテン−１；ノネン−１；デ
セン−１；４−フェニルブテン−１；６−フェニルヘキ
セン−１；３−メチルブテン−１；４−メチルペンテン
−１；３−メチルペンテン−１；３−メチルヘキセン−
１；４−メチルヘキセン−１；５−メチルヘキセン−
１；３，３−ジメチルペンテン−１；３，４−ジメチル
ペンテン−１；４，４−ジメチルペンテン−１；ビニル
シクロヘキサンなどのα−オレフィン、ヘキサフルオロ
プロペン；テトラフルオロエチレン；２−フルオロプロ
ペン；フルオロエチレン；１，１−ジフルオロエチレ
ン；３−フルオロプロペン；トリフルオロエチレン；
３，４−ジクロロブテン−１などのハロゲン置換α−オ
レフィン、シクロペンテン；シクロヘキセン；ノルボル
ネン；５−メチルノルボルネン；５−エチルノルボルネ
ン；５−プロピルノルボルネン；５，６−ジメチルノル
ボルネン；１−メチルノルボルネン；７−メチルノルボ
ルネン；５，５，６−トリメチルノルボルネン；５−フ
ェニルノルボルネン；５−ベンジルノルボルネンなどの
環状オレフィンなどが挙げられ、これらの１種又は２種
以上が用いられる。 （５）本発明にかかるエチレン系共重合体は、前記の各
モノマーを共重合してなるものである。
には、プロピレン；ブテン−１；ペンテン−１；ヘキセ
ン−１；ヘプテン−１；オクテン−１；ノネン−１；デ
セン−１；４−フェニルブテン−１；６−フェニルヘキ
セン−１；３−メチルブテン−１；４−メチルペンテン
−１；３−メチルペンテン−１；３−メチルヘキセン−
１；４−メチルヘキセン−１；５−メチルヘキセン−
１；３，３−ジメチルペンテン−１；３，４−ジメチル
ペンテン−１；４，４−ジメチルペンテン−１；ビニル
シクロヘキサンなどのα−オレフィン、ヘキサフルオロ
プロペン；テトラフルオロエチレン；２−フルオロプロ
ペン；フルオロエチレン；１，１−ジフルオロエチレ
ン；３−フルオロプロペン；トリフルオロエチレン；
３，４−ジクロロブテン−１などのハロゲン置換α−オ
レフィン、シクロペンテン；シクロヘキセン；ノルボル
ネン；５−メチルノルボルネン；５−エチルノルボルネ
ン；５−プロピルノルボルネン；５，６−ジメチルノル
ボルネン；１−メチルノルボルネン；７−メチルノルボ
ルネン；５，５，６−トリメチルノルボルネン；５−フ
ェニルノルボルネン；５−ベンジルノルボルネンなどの
環状オレフィンなどが挙げられ、これらの１種又は２種
以上が用いられる。 （５）本発明にかかるエチレン系共重合体は、前記の各
モノマーを共重合してなるものである。
【００２６】該エチレン系共重合体においては、好ま
しくは、芳香族ビニル系モノマー（Ａ）に由来する繰返
し単位が１〜９８モル％、好ましくは３〜５０モル％、
さらに好ましくは５〜３５モル％、エチレン（Ｂ）に由
来する繰返し単位が１〜９８モル％、好ましくは５０〜
９７モル％、さらに好ましくは６５〜９５モル％、、及
びジエン系モノマー（Ｃ）に由来する繰返し単位が０.0
０１〜１０モル％、好ましくは０.0１〜５モル％、さら
に好ましくは０.0５〜３モル％からなるものである。ま
た、α−オレフィン（Ｄ）をモノマーとして用いる場合
には、α−オレフィン（Ｄ）に由来する繰返し単位が０
〜９０モル％（０を含まず）、好ましくは０〜５０モル
％、さらに好ましくは０〜３０モル％からなるものであ
る。芳香族ビニルモノマー（Ａ）に由来する繰返し単位
が９８モル％を超えると、本発明にかかる共重合体自体
の脆性が大きくなってしまい、１モル％未満では芳香族
ビニル樹脂との相溶性が低下するおそれがあり、マクロ
モノマーとして用いる場合そのグラフト能が低下するお
それがある。エチレン（Ｂ）に由来する繰返し単位が１
モル％未満では、やはり共重合体自体の脆性が大きくな
ってしまい、９８モル％を超えると、結晶性が高くなり
グラフト共重合させる際の溶解性が低下するおそれがあ
る。ジエン系モノマー（Ｃ）に由来する繰返し単位が
０.0０１モル％未満ではマクロモノマーとして用いる場
合、そのグラフト能が十分ではなく、１０モル％を超え
ると架橋反応を併発するおそれがある。さらにα−オレ
フィン（Ｄ）に由来する繰返し単位が９０モル％を超え
ると、結晶性が高くなりグラフト共重合させる際の溶解
性が低下するおそれがある。
しくは、芳香族ビニル系モノマー（Ａ）に由来する繰返
し単位が１〜９８モル％、好ましくは３〜５０モル％、
さらに好ましくは５〜３５モル％、エチレン（Ｂ）に由
来する繰返し単位が１〜９８モル％、好ましくは５０〜
９７モル％、さらに好ましくは６５〜９５モル％、、及
びジエン系モノマー（Ｃ）に由来する繰返し単位が０.0
０１〜１０モル％、好ましくは０.0１〜５モル％、さら
に好ましくは０.0５〜３モル％からなるものである。ま
た、α−オレフィン（Ｄ）をモノマーとして用いる場合
には、α−オレフィン（Ｄ）に由来する繰返し単位が０
〜９０モル％（０を含まず）、好ましくは０〜５０モル
％、さらに好ましくは０〜３０モル％からなるものであ
る。芳香族ビニルモノマー（Ａ）に由来する繰返し単位
が９８モル％を超えると、本発明にかかる共重合体自体
の脆性が大きくなってしまい、１モル％未満では芳香族
ビニル樹脂との相溶性が低下するおそれがあり、マクロ
モノマーとして用いる場合そのグラフト能が低下するお
それがある。エチレン（Ｂ）に由来する繰返し単位が１
モル％未満では、やはり共重合体自体の脆性が大きくな
ってしまい、９８モル％を超えると、結晶性が高くなり
グラフト共重合させる際の溶解性が低下するおそれがあ
る。ジエン系モノマー（Ｃ）に由来する繰返し単位が
０.0０１モル％未満ではマクロモノマーとして用いる場
合、そのグラフト能が十分ではなく、１０モル％を超え
ると架橋反応を併発するおそれがある。さらにα−オレ
フィン（Ｄ）に由来する繰返し単位が９０モル％を超え
ると、結晶性が高くなりグラフト共重合させる際の溶解
性が低下するおそれがある。
【００２７】また、本発明にかかるエチレン系共重合
体は、デカリン中で１３５℃で測定した極限粘度〔η〕
が０.0１〜１５ｄｌ／ｇ、好ましくは０.1〜１２ｄｌ／
ｇ、さらに好ましくは０.5〜１０ｄｌ／ｇである。０.0
１未満であるとグラフト化したときの相溶化能が悪く、
１５を超えるとグラフト重合の際の溶解性が悪くなるお
それがある。また、ＧＰＣで測定した分子量分布が８以
下、好ましくは６以下、さらに好ましくは４以下であ
る。８を超えるとグラフト重合の際の効率が低下し、グ
ラフト共重合体の物性が低下するおそれがある。 ２．エチレン系共重合体の製造方法 本発明にかかるエチレン系共重合体の製造方法は特に問
わない。例えば、四塩化バナジウムやオキシ三塩化バナ
ジウム、四塩化チタンなどのバナジウムやチタンのハロ
ゲン含有物や、トリ（アセチルアセトナート）バナジウ
ム、トリ（２−メチル−１，３−ブタンジナト）バナジ
ウム、トリ（１，３−ブタンジナト）バナジウム等のバ
ナジウム化合物と、トリアルキルアルミニウムやジアル
キルモノハロゲン化アルミニウムなどの有機アルミニウ
ムの組み合わせによる触媒が挙げられる。
体は、デカリン中で１３５℃で測定した極限粘度〔η〕
が０.0１〜１５ｄｌ／ｇ、好ましくは０.1〜１２ｄｌ／
ｇ、さらに好ましくは０.5〜１０ｄｌ／ｇである。０.0
１未満であるとグラフト化したときの相溶化能が悪く、
１５を超えるとグラフト重合の際の溶解性が悪くなるお
それがある。また、ＧＰＣで測定した分子量分布が８以
下、好ましくは６以下、さらに好ましくは４以下であ
る。８を超えるとグラフト重合の際の効率が低下し、グ
ラフト共重合体の物性が低下するおそれがある。 ２．エチレン系共重合体の製造方法 本発明にかかるエチレン系共重合体の製造方法は特に問
わない。例えば、四塩化バナジウムやオキシ三塩化バナ
ジウム、四塩化チタンなどのバナジウムやチタンのハロ
ゲン含有物や、トリ（アセチルアセトナート）バナジウ
ム、トリ（２−メチル−１，３−ブタンジナト）バナジ
ウム、トリ（１，３−ブタンジナト）バナジウム等のバ
ナジウム化合物と、トリアルキルアルミニウムやジアル
キルモノハロゲン化アルミニウムなどの有機アルミニウ
ムの組み合わせによる触媒が挙げられる。
【００２８】さらには、（ａ）遷移金属化合物，（ｂ）
（イ）酸素含有化合物、及び／又は（ロ）該（ａ）成分
の遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成しう
る化合物、及び必要に応じて（ｃ）アルキル化剤からな
る触媒を用いて共重合することが好ましく行なわれる。 （１）触媒の各成分 （ａ）遷移金属化合物 遷移金属化合物（ａ）としては、各種のものが使用可能
であるが、通常は以下に記すものが好ましく用いられ
る。 （ｉ）下記一般式（３）で表される化合物
（イ）酸素含有化合物、及び／又は（ロ）該（ａ）成分
の遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成しう
る化合物、及び必要に応じて（ｃ）アルキル化剤からな
る触媒を用いて共重合することが好ましく行なわれる。 （１）触媒の各成分 （ａ）遷移金属化合物 遷移金属化合物（ａ）としては、各種のものが使用可能
であるが、通常は以下に記すものが好ましく用いられ
る。 （ｉ）下記一般式（３）で表される化合物
【００２９】
【化１５】
【００３０】（式中、Ｍはチタン，ジルコニウム又はハ
フニウムであり、Ｃｐ* は、Ｍにη5結合様式で結合す
るシクロペンタジエニル基，置換シクロペンタジエニル
基又はインデニル基，置換インデニル基，フルオレニル
基，置換フルオレニル基，ヘキサヒドロアズレニル基，
置換ヘキサヒドロアズレニル基，テトラヒドロインデニ
ル基，置換テトラヒドロインデニル基，テトラヒドロフ
ルオレニル基，置換テトラヒドロフルオレニル基，オク
タヒドロフルオレニル基，置換オクタヒドロフルオレニ
ル基である。Ｘはσ配位子を示し、ｎは１又は２であ
り、複数のＸはたがいに同一でも異なっていてもよく、
また、任意の基を介して結合していてもよい。Ｙは、
Ｏ，Ｓ，ＮＲ，ＰＲ又はＣＲ2 であるか、又はＯＲ，Ｓ
Ｒ，ＮＲ2 又はＰＲ2 から選ばれた中性の２個電子供与
性配位子であり、Ｚは、ＳｉＲ2 ，ＣＲ 2 ，ＳｉＲ2 Ｓ
ｉＲ2 ，ＣＲ2 ＣＲ2 ，ＣＲ＝ＣＲ，ＣＲＳｉＲ2 ，Ｇ
ｅＲ2 ，ＢＲ，ＢＲ2 であり、ここにおいて、Ｒは、各
々の場合に、水素，アルキル基，アリール基，シリル
基，ハロゲン化アルキル，ハロゲン化アリール，及び２
０個までの非水素原子をもつそれらの組み合わせから選
ばれた部分である。さらに、２個又はそれ以上の上記Ｒ
基はＺ，又はＹとＺの双方から縮合環系を形成していて
もよい。） ここにおいて、置換シクロペンタジエニル基は、例え
ば、炭素数１〜６のアルキル基で１個以上置換されたシ
クロペンタジエニル基、具体的には、メチルシクロペン
タジエニル基；１，２−ジメチルシクロペンタジエニル
基；１，２，４−トリメチルシクロペンタジエニル基；
１，２，３，４−テトラメチルシクロペンタジエニル
基；トリメチルシリルシクロペンタジエニル基；１，３
−ジ（トリメチルシリル）シクロペンタジエニル基；タ
ーシャリーブチルシクロペンタジエニル基；１，３−ジ
（ターシャリーブチル）シクロペンタジエニル基；炭素
数１〜２０のハイドロカルビル基，ハロハイドロカルビ
ル基等である。また、置換インデニル基は、例えば、メ
チルインデニル基，ジメチルインデニル基，テトラメチ
ルインデニル基，ヘキサメチルインデニル基であり、置
換テトラヒドロインデニル基としては、例えば、４，
５，６，７−テトラヒドロインデニル基；１−メチル−
４，５，６，７−テトラヒドロインデニル基；２−メチ
ル−４，５，６，７−テトラヒドロインデニル基；１，
２−ジメチル−４，５，６，７−テトラヒドロインデニ
ル基；１，３−ジメチル−４，５，６，７−テトラヒド
ロインデニル基；１，２，３−トリメチル−４，５，
６，７−テトラヒドロインデニル基；１，２，３，４，
５，６，７−ヘプタメチル−４，５，６，７−テトラヒ
ドロインデニル基；１，２，４，５，６，７−ヘキサメ
チル−４，５，６，７−テトラヒドロインデニル基；
１，３，４，５，６，７−ヘキサメチル−４，５，６，
７−テトラヒドロインデニル基；４，５，６，７−テト
ラヒドロ−１，２，３トリメチルインデニル基等であ
り、置換フルオレニル基は、例えば、メチルフルオレニ
ル基，ジメチルフルオレニル基，テトラメチルフルオレ
ニル基，オクタメチルフルオレニル基である。置換テト
ラヒドロフルオレニル基は、例えば、１，２，３，４−
テトラヒドロフルオレニル基；９−メチル−１，２，
３，４−テトラヒドロフルオレニル基であり、置換オク
タヒドロフルオレニル基は、例えば、９−メチル−オク
タヒドロフルオレニル基等である。置換ヘキサヒドロア
ズレニル基としては、例えば、１−メチルヘキサヒドロ
アズレニル基，２−メチルヘキサヒドロアズレニル基，
１，２−ジメチルヘキサヒドロアズレニル基，１，３−
ジメチルヘキサヒドロアズレニル基，１，２，３−トリ
メチルヘキサヒドロアズレニル基である。
フニウムであり、Ｃｐ* は、Ｍにη5結合様式で結合す
るシクロペンタジエニル基，置換シクロペンタジエニル
基又はインデニル基，置換インデニル基，フルオレニル
基，置換フルオレニル基，ヘキサヒドロアズレニル基，
置換ヘキサヒドロアズレニル基，テトラヒドロインデニ
ル基，置換テトラヒドロインデニル基，テトラヒドロフ
ルオレニル基，置換テトラヒドロフルオレニル基，オク
タヒドロフルオレニル基，置換オクタヒドロフルオレニ
ル基である。Ｘはσ配位子を示し、ｎは１又は２であ
り、複数のＸはたがいに同一でも異なっていてもよく、
また、任意の基を介して結合していてもよい。Ｙは、
Ｏ，Ｓ，ＮＲ，ＰＲ又はＣＲ2 であるか、又はＯＲ，Ｓ
Ｒ，ＮＲ2 又はＰＲ2 から選ばれた中性の２個電子供与
性配位子であり、Ｚは、ＳｉＲ2 ，ＣＲ 2 ，ＳｉＲ2 Ｓ
ｉＲ2 ，ＣＲ2 ＣＲ2 ，ＣＲ＝ＣＲ，ＣＲＳｉＲ2 ，Ｇ
ｅＲ2 ，ＢＲ，ＢＲ2 であり、ここにおいて、Ｒは、各
々の場合に、水素，アルキル基，アリール基，シリル
基，ハロゲン化アルキル，ハロゲン化アリール，及び２
０個までの非水素原子をもつそれらの組み合わせから選
ばれた部分である。さらに、２個又はそれ以上の上記Ｒ
基はＺ，又はＹとＺの双方から縮合環系を形成していて
もよい。） ここにおいて、置換シクロペンタジエニル基は、例え
ば、炭素数１〜６のアルキル基で１個以上置換されたシ
クロペンタジエニル基、具体的には、メチルシクロペン
タジエニル基；１，２−ジメチルシクロペンタジエニル
基；１，２，４−トリメチルシクロペンタジエニル基；
１，２，３，４−テトラメチルシクロペンタジエニル
基；トリメチルシリルシクロペンタジエニル基；１，３
−ジ（トリメチルシリル）シクロペンタジエニル基；タ
ーシャリーブチルシクロペンタジエニル基；１，３−ジ
（ターシャリーブチル）シクロペンタジエニル基；炭素
数１〜２０のハイドロカルビル基，ハロハイドロカルビ
ル基等である。また、置換インデニル基は、例えば、メ
チルインデニル基，ジメチルインデニル基，テトラメチ
ルインデニル基，ヘキサメチルインデニル基であり、置
換テトラヒドロインデニル基としては、例えば、４，
５，６，７−テトラヒドロインデニル基；１−メチル−
４，５，６，７−テトラヒドロインデニル基；２−メチ
ル−４，５，６，７−テトラヒドロインデニル基；１，
２−ジメチル−４，５，６，７−テトラヒドロインデニ
ル基；１，３−ジメチル−４，５，６，７−テトラヒド
ロインデニル基；１，２，３−トリメチル−４，５，
６，７−テトラヒドロインデニル基；１，２，３，４，
５，６，７−ヘプタメチル−４，５，６，７−テトラヒ
ドロインデニル基；１，２，４，５，６，７−ヘキサメ
チル−４，５，６，７−テトラヒドロインデニル基；
１，３，４，５，６，７−ヘキサメチル−４，５，６，
７−テトラヒドロインデニル基；４，５，６，７−テト
ラヒドロ−１，２，３トリメチルインデニル基等であ
り、置換フルオレニル基は、例えば、メチルフルオレニ
ル基，ジメチルフルオレニル基，テトラメチルフルオレ
ニル基，オクタメチルフルオレニル基である。置換テト
ラヒドロフルオレニル基は、例えば、１，２，３，４−
テトラヒドロフルオレニル基；９−メチル−１，２，
３，４−テトラヒドロフルオレニル基であり、置換オク
タヒドロフルオレニル基は、例えば、９−メチル−オク
タヒドロフルオレニル基等である。置換ヘキサヒドロア
ズレニル基としては、例えば、１−メチルヘキサヒドロ
アズレニル基，２−メチルヘキサヒドロアズレニル基，
１，２−ジメチルヘキサヒドロアズレニル基，１，３−
ジメチルヘキサヒドロアズレニル基，１，２，３−トリ
メチルヘキサヒドロアズレニル基である。
【００３１】また、Ｘはσ配位子であるが、具体的に
は、ハイドライド，ハロゲン，アルキル，シリル，アリ
ール，アリールシリル，アミド，アリールオキシ，アル
コキシ，シリルオキシ，ホスファイド，サルファイド，
アシル，シアニド，アジド，アセチルアセトネート等、
及びこれらの組み合わせをあげることができる。具体的
な化合物としては、（ｔ−ブチルアミド）（テトラメチ
ル−η5 −シクロペンタジエニル）１，２−エタンジイ
ルジルコニウムジクロライド，（ｔ−ブチルアミド）
（テトラメチル−η5 −シクロペンタジエニル）１，２
−エタンジイルチタンジクロライド，（メチルアミド）
（テトラメチル−η5 −シクロペンタジエニル）１，２
−エタンジイルジルコニウムジクロライド，（メチルア
ミド）（テトラメチル−η5 −シクロペンタジエニル）
１，２−エタンジイルチタンジクロライド，（エチルア
ミド）（テトラメチル−η5 −シクロペンタジエニル）
−メチレンチタンジクロライド，（ｔ−ブチルアミド）
ジメチル（テトラメチル−η5 −シクロペンタジエニ
ル）シランチタンジクロライド，（ｔ−ブチルアミド）
ジメチル（テトラメチル−η5 −シクロペンタジエニ
ル）シランジルコニウムジクロライド，（ｔ−ブチルア
ミド）ジメチル（テトラメチル−η5 −シクロペンタジ
エニル）シランチタンジメチル，（ｔ−ブチルアミド）
ジメチル（テトラメチル−η5 −シクロペンタジエニ
ル）シランジルコニウムジメチル，（ｔ−ブチルアミ
ド）ジメチル（テトラメチル−η5 −シクロペンタジエ
ニル）シランチタンジベンジル，（ｔ−ブチルアミド）
ジメチル（テトラメチル−η5 −シクロペンタジエニ
ル）シランジルコニウムジベンジル，（ベンジルアミ
ド）ジメチル（テトラメチル−η5 −シクロペンタジエ
ニル）シランチタンジクロライド，（フェニルホスフィ
ド）ジメチル（テトラメチル−η5 −シクロペンタジエ
ニル）シランジルコニウムジベンジル，（ｔ−ブチルア
ミド）ジメチル（テトラメチル−η5 −シクロペンタジ
エニル）シランチタンクロライド，（ジメチルアミノエ
チル）テトラメチル−シクロペンタジエニルチタニウム
（III)ジクロリド,９−（ジメチルアミノエチル）オク
タヒドロ−フルオレニルチタニウム（III)ジクロリド,
（ジ−ｎ−ブチルアミノエチル）テトラメチル−シクロ
ペンタジエニルチタニウム（III)ジクロリド, （ジメチ
ルアミノメチル）テトラメチル−シクロペンタジエニル
チタニウム（III)ジクロリド, （ジメチルアミノプロピ
ル）テトラメチル−シクロペンタジエニルチタニウム
（III)ジクロリド等が挙げられる。 （ii）下記一般式（７）で表される化合物
は、ハイドライド，ハロゲン，アルキル，シリル，アリ
ール，アリールシリル，アミド，アリールオキシ，アル
コキシ，シリルオキシ，ホスファイド，サルファイド，
アシル，シアニド，アジド，アセチルアセトネート等、
及びこれらの組み合わせをあげることができる。具体的
な化合物としては、（ｔ−ブチルアミド）（テトラメチ
ル−η5 −シクロペンタジエニル）１，２−エタンジイ
ルジルコニウムジクロライド，（ｔ−ブチルアミド）
（テトラメチル−η5 −シクロペンタジエニル）１，２
−エタンジイルチタンジクロライド，（メチルアミド）
（テトラメチル−η5 −シクロペンタジエニル）１，２
−エタンジイルジルコニウムジクロライド，（メチルア
ミド）（テトラメチル−η5 −シクロペンタジエニル）
１，２−エタンジイルチタンジクロライド，（エチルア
ミド）（テトラメチル−η5 −シクロペンタジエニル）
−メチレンチタンジクロライド，（ｔ−ブチルアミド）
ジメチル（テトラメチル−η5 −シクロペンタジエニ
ル）シランチタンジクロライド，（ｔ−ブチルアミド）
ジメチル（テトラメチル−η5 −シクロペンタジエニ
ル）シランジルコニウムジクロライド，（ｔ−ブチルア
ミド）ジメチル（テトラメチル−η5 −シクロペンタジ
エニル）シランチタンジメチル，（ｔ−ブチルアミド）
ジメチル（テトラメチル−η5 −シクロペンタジエニ
ル）シランジルコニウムジメチル，（ｔ−ブチルアミ
ド）ジメチル（テトラメチル−η5 −シクロペンタジエ
ニル）シランチタンジベンジル，（ｔ−ブチルアミド）
ジメチル（テトラメチル−η5 −シクロペンタジエニ
ル）シランジルコニウムジベンジル，（ベンジルアミ
ド）ジメチル（テトラメチル−η5 −シクロペンタジエ
ニル）シランチタンジクロライド，（フェニルホスフィ
ド）ジメチル（テトラメチル−η5 −シクロペンタジエ
ニル）シランジルコニウムジベンジル，（ｔ−ブチルア
ミド）ジメチル（テトラメチル−η5 −シクロペンタジ
エニル）シランチタンクロライド，（ジメチルアミノエ
チル）テトラメチル−シクロペンタジエニルチタニウム
（III)ジクロリド,９−（ジメチルアミノエチル）オク
タヒドロ−フルオレニルチタニウム（III)ジクロリド,
（ジ−ｎ−ブチルアミノエチル）テトラメチル−シクロ
ペンタジエニルチタニウム（III)ジクロリド, （ジメチ
ルアミノメチル）テトラメチル−シクロペンタジエニル
チタニウム（III)ジクロリド, （ジメチルアミノプロピ
ル）テトラメチル−シクロペンタジエニルチタニウム
（III)ジクロリド等が挙げられる。 （ii）下記一般式（７）で表される化合物
【００３２】
【化１６】
【００３３】（式中、Ｍ1 は元素の周期律表の第４族の
遷移金属元素を、Ｃｐはシクロペンタジエニル骨格を有
する基を表す。Ｙ7 はＯ，Ｓ，ＮＲ，ＰＲ又はＣＲ2 で
あるか、又はＯＲ，ＳＲ，ＮＲ2 又はＰＲ2 から選ばれ
た中性の２個電子供与性配位子であり、Ｂは元素の周期
律表の第１４族の原子を表す（ただし、Ｒは、各々の場
合に、水素，アルキル基，アリール基，シリル基，ハロ
ゲン化アルキル，ハロゲン化アリール，及び２０個まで
の非水素原子をもつそれらの組み合わせから選ばれた部
分である）。Ｘ3 ，Ｘ4 は水素原子、ハロゲン原子、炭
素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のハロゲン
化炭化水素基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数
１〜２０のアリールオキシ基又は炭素数２〜２０の２置
換アミノ基を表し、それらは同一でも異なっていてもよ
い。Ｒ8 〜Ｒ13は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜
２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のハロゲン化炭化水
素基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０
のアリールオキシ基又は炭素数２〜２０の２置換アミノ
基又は炭素数１〜２０のシリル基を表し、それらは同一
でも異なっていてもよい。さらにそれらは任意に結合し
て環を形成してもよい。） 上記Ｃｐにおけるシクロペンタジエニル骨格を有する基
とは、シクロペンタジエニル基，置換シクロペンタジエ
ニル基又はインデニル基，置換インデニル基，フルオレ
ニル基，置換フルオレニル基，ヘキサヒドロアズレニル
基，置換ヘキサヒドロアズレニル基，テトラヒドロイン
デニル基，置換テトラヒドロインデニル基，テトラヒド
ロフルオレニル基，置換テトラヒドロフルオレニル基，
オクタヒドロフルオレニル基，置換オクタヒドロフルオ
レニル基等をいう。また、Ｂとしては、炭素原子、珪素
原子、ゲルマニウム原子が挙げられ、中でも、炭素原
子、珪素原子が好ましい。
遷移金属元素を、Ｃｐはシクロペンタジエニル骨格を有
する基を表す。Ｙ7 はＯ，Ｓ，ＮＲ，ＰＲ又はＣＲ2 で
あるか、又はＯＲ，ＳＲ，ＮＲ2 又はＰＲ2 から選ばれ
た中性の２個電子供与性配位子であり、Ｂは元素の周期
律表の第１４族の原子を表す（ただし、Ｒは、各々の場
合に、水素，アルキル基，アリール基，シリル基，ハロ
ゲン化アルキル，ハロゲン化アリール，及び２０個まで
の非水素原子をもつそれらの組み合わせから選ばれた部
分である）。Ｘ3 ，Ｘ4 は水素原子、ハロゲン原子、炭
素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のハロゲン
化炭化水素基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数
１〜２０のアリールオキシ基又は炭素数２〜２０の２置
換アミノ基を表し、それらは同一でも異なっていてもよ
い。Ｒ8 〜Ｒ13は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜
２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のハロゲン化炭化水
素基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０
のアリールオキシ基又は炭素数２〜２０の２置換アミノ
基又は炭素数１〜２０のシリル基を表し、それらは同一
でも異なっていてもよい。さらにそれらは任意に結合し
て環を形成してもよい。） 上記Ｃｐにおけるシクロペンタジエニル骨格を有する基
とは、シクロペンタジエニル基，置換シクロペンタジエ
ニル基又はインデニル基，置換インデニル基，フルオレ
ニル基，置換フルオレニル基，ヘキサヒドロアズレニル
基，置換ヘキサヒドロアズレニル基，テトラヒドロイン
デニル基，置換テトラヒドロインデニル基，テトラヒド
ロフルオレニル基，置換テトラヒドロフルオレニル基，
オクタヒドロフルオレニル基，置換オクタヒドロフルオ
レニル基等をいう。また、Ｂとしては、炭素原子、珪素
原子、ゲルマニウム原子が挙げられ、中でも、炭素原
子、珪素原子が好ましい。
【００３４】上記一般式（７）で表される化合物として
は、具体的には、イソプロピリデン（シクロペンタジエ
ニル）（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキ
シ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（メチ
ルシクロペンタジエニル）（３−ｔ−ブチル−５−メチ
ル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプ
ロピリデン（ジメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔ
−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジ
クロライド、イソプロピリデン（トリメチルシクロペン
タジエニル）（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−フェ
ノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン
（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔ−ブチ
ル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロラ
イド、イソプロピリデン（ｎ−プロピルシクロペンタジ
エニル）（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキ
シ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（第１
級ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔ−ブチル−５
−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、
イソプロピリデン（フェニルシクロペンタジエニル）
（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタ
ニウムジクロライド、イソプロピリデン（シクロペンタ
ジエニル）（３−ｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニ
ウムジクロライド、イソプロピリデン（メチルシクロペ
ンタジエニル）（３−ｔ−ブチル−２−フェノキシ）チ
タニウムジクロライド、イソプロピリデン（ジメチルシ
クロペンタジエニル）（３−ｔ−ブチル−２−フェノキ
シ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（トリ
メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔ−ブチル−２−
フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデ
ン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔ−ブ
チル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソ
プロピリデン（ｎ−プロピルシクロペンタジエニル）
（３−ｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロ
ライド、イソプロピリデン（第１級ブチルシクロペンタ
ジエニル）（３−ｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニ
ウムジクロライド、イソプロピリデン（フェニルシクロ
ペンタジエニル）（３−ｔ−ブチル−２−フェノキシ）
チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（シクロペ
ンタジエニル）（２−フェノキシ）チタニウムジクロラ
イド、イソプロピリデン（メチルシクロペンタジエニ
ル）（２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソ
プロピリデン（ジメチルシクロペンタジエニル）（２−
フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデ
ン（トリメチルシクロペンタジエニル）（２−フェノキ
シ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（テト
ラメチルシクロペンタジエニル）（２−フェノキシ）チ
タニウムジクロライド、イソプロピリデン（ｎ−プロピ
ルシクロペンタジエニル）（２−フェノキシ）チタニウ
ムジクロライド、イソプロピリデン（第１級ブチルシク
ロペンタジエニル）（２−フェノキシ）チタニウムジク
ロライド、イソプロピリデン（フェニルシクロペンタジ
エニル）（２−フェノキシ）チタニウムジクロライド等
が挙げられる。また、上記の具体例におけるチタニウム
をジルコニウム或いはハフニウムに変更した化合物、及
びそれらをイソプロピリデンをジメチルシリレン、ジフ
ェニルシリレン、メチレンに変更した化合物についても
同様に例示できる。更に、ジクロライドをジブロマイ
ド、ジアイオダイド、ジメチル、ジベンジル、ジメトキ
シド、ジエトキシドに変更した化合物についても同様に
例示できる。 （iii)以下の一般式（８）又は一般式（９）で表される
化合物
は、具体的には、イソプロピリデン（シクロペンタジエ
ニル）（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキ
シ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（メチ
ルシクロペンタジエニル）（３−ｔ−ブチル−５−メチ
ル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプ
ロピリデン（ジメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔ
−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジ
クロライド、イソプロピリデン（トリメチルシクロペン
タジエニル）（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−フェ
ノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン
（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔ−ブチ
ル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロラ
イド、イソプロピリデン（ｎ−プロピルシクロペンタジ
エニル）（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキ
シ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（第１
級ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔ−ブチル−５
−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、
イソプロピリデン（フェニルシクロペンタジエニル）
（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタ
ニウムジクロライド、イソプロピリデン（シクロペンタ
ジエニル）（３−ｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニ
ウムジクロライド、イソプロピリデン（メチルシクロペ
ンタジエニル）（３−ｔ−ブチル−２−フェノキシ）チ
タニウムジクロライド、イソプロピリデン（ジメチルシ
クロペンタジエニル）（３−ｔ−ブチル−２−フェノキ
シ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（トリ
メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔ−ブチル−２−
フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデ
ン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔ−ブ
チル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソ
プロピリデン（ｎ−プロピルシクロペンタジエニル）
（３−ｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロ
ライド、イソプロピリデン（第１級ブチルシクロペンタ
ジエニル）（３−ｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニ
ウムジクロライド、イソプロピリデン（フェニルシクロ
ペンタジエニル）（３−ｔ−ブチル−２−フェノキシ）
チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（シクロペ
ンタジエニル）（２−フェノキシ）チタニウムジクロラ
イド、イソプロピリデン（メチルシクロペンタジエニ
ル）（２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソ
プロピリデン（ジメチルシクロペンタジエニル）（２−
フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデ
ン（トリメチルシクロペンタジエニル）（２−フェノキ
シ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（テト
ラメチルシクロペンタジエニル）（２−フェノキシ）チ
タニウムジクロライド、イソプロピリデン（ｎ−プロピ
ルシクロペンタジエニル）（２−フェノキシ）チタニウ
ムジクロライド、イソプロピリデン（第１級ブチルシク
ロペンタジエニル）（２−フェノキシ）チタニウムジク
ロライド、イソプロピリデン（フェニルシクロペンタジ
エニル）（２−フェノキシ）チタニウムジクロライド等
が挙げられる。また、上記の具体例におけるチタニウム
をジルコニウム或いはハフニウムに変更した化合物、及
びそれらをイソプロピリデンをジメチルシリレン、ジフ
ェニルシリレン、メチレンに変更した化合物についても
同様に例示できる。更に、ジクロライドをジブロマイ
ド、ジアイオダイド、ジメチル、ジベンジル、ジメトキ
シド、ジエトキシドに変更した化合物についても同様に
例示できる。 （iii)以下の一般式（８）又は一般式（９）で表される
化合物
【００３５】
【化１７】
【００３６】
【化１８】
【００３７】（式中、ここでＡ1 及びＡ2 は、非置換又
は置換シクロペンタジエニル基、インデニル基又はフル
オレニル基であり、Ａ3 及びＡ4 は、水素原子、炭素数
１〜１０のアルキル基、又はそれぞれ炭素数６〜２０の
アリール基、アルキルアリール基、アリールアルキル基
もしくはハロゲン化アリール基、又は酸素、窒素、硫黄
もしくは珪素から選ばれたヘテロ原子を含む炭素数１〜
２０の炭化水素基であり、ＱはＡ1 及びＡ2 を連結する
炭素数２〜１０の炭化水素基又は珪素、ゲルマニウムも
しくはスズを含む炭素数１〜１０の炭化水素基、又は炭
素、珪素、ゲルマニウムもしくはスズ原子であり、ま
た、Ａ3 及びＡ4 は互いに連結していてＡ3，Ａ4 及び
Ｑの間で環構造を形成していてもよい。Ｒ14及びＲ15は
ハロゲン原子、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル
基、珪素含有アルキル基、それぞれ炭素数６〜２０のア
リール基、アルキルアリール基もしくはアリールアルキ
ル基であり、かつＭ2 はチタン、シルコニウム又はハフ
ニウムである。） 上記において、Ａ1 及びＡ2 として、具体的には、シク
ロペンタジエニル基、メチルシクロペンタジエニル基、
ジメチルシクロペンタジエニル基、テトラメチルシクロ
ペンタジエニル基、インデニル基、３−メチルインデニ
ル基、テトラヒドロインデニル基、フルオレニル基、メ
チルフルオレニル基、２，７−ジ−ｔ−ブチルフルオレ
ニル基等を挙げることができる。
は置換シクロペンタジエニル基、インデニル基又はフル
オレニル基であり、Ａ3 及びＡ4 は、水素原子、炭素数
１〜１０のアルキル基、又はそれぞれ炭素数６〜２０の
アリール基、アルキルアリール基、アリールアルキル基
もしくはハロゲン化アリール基、又は酸素、窒素、硫黄
もしくは珪素から選ばれたヘテロ原子を含む炭素数１〜
２０の炭化水素基であり、ＱはＡ1 及びＡ2 を連結する
炭素数２〜１０の炭化水素基又は珪素、ゲルマニウムも
しくはスズを含む炭素数１〜１０の炭化水素基、又は炭
素、珪素、ゲルマニウムもしくはスズ原子であり、ま
た、Ａ3 及びＡ4 は互いに連結していてＡ3，Ａ4 及び
Ｑの間で環構造を形成していてもよい。Ｒ14及びＲ15は
ハロゲン原子、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル
基、珪素含有アルキル基、それぞれ炭素数６〜２０のア
リール基、アルキルアリール基もしくはアリールアルキ
ル基であり、かつＭ2 はチタン、シルコニウム又はハフ
ニウムである。） 上記において、Ａ1 及びＡ2 として、具体的には、シク
ロペンタジエニル基、メチルシクロペンタジエニル基、
ジメチルシクロペンタジエニル基、テトラメチルシクロ
ペンタジエニル基、インデニル基、３−メチルインデニ
ル基、テトラヒドロインデニル基、フルオレニル基、メ
チルフルオレニル基、２，７−ジ−ｔ−ブチルフルオレ
ニル基等を挙げることができる。
【００３８】また、Ａ3 及びＡ4 として、具体的には、
水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、フェニル
基、トルイル基、フルオロフェニル基、メトキシフェニ
ル基、ベンジル基等を挙げることができる。さらに、Ａ
3 及びＡ4 が互いに連結していてＡ3 ，Ａ4 及びＱの間
で環構造を形成している場合、Ａ3 ，Ａ4 及びＱがなす
基としては、シクロペンチリデン基、シクロヘキシリデ
ン基、テトラヒドロピラン−４−イリデン基等を挙げる
ことができる。
水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、フェニル
基、トルイル基、フルオロフェニル基、メトキシフェニ
ル基、ベンジル基等を挙げることができる。さらに、Ａ
3 及びＡ4 が互いに連結していてＡ3 ，Ａ4 及びＱの間
で環構造を形成している場合、Ａ3 ，Ａ4 及びＱがなす
基としては、シクロペンチリデン基、シクロヘキシリデ
ン基、テトラヒドロピラン−４−イリデン基等を挙げる
ことができる。
【００３９】Ｒ14及びＲ15の好ましい具体例としては、
塩素原子、メチル基、フェニル基、トリメチルシリルメ
チル基等を挙げることができる。上記の遷移金属化合物
として、具体的には、エチレンビス（１−インデニル）
ジルコニウムジクロリド、エチレンビス（テトラヒドロ
−１−インデニル）ジルコニウムジクロリド、イソプロ
ピリデン（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）ジ
ルコニウムジクロリド、メチルフェニメチレン（シクロ
ペンタジエニル）（フルオレニル）ジルコニウムジクロ
リド、ジフェニメチレン（シクロペンタジエニル）（フ
ルオレニル）ジルコニウムジクロリド等を挙げることが
できる。 （iv) 以下の一般式（10）で表されるπ配位子Ｒ16を１
個有する遷移金属化合物 Ｍ3 Ｒ16Ｘ5ｎ ・・・ （10） （式中、Ｍ3 は元素の周期律表の第４族の遷移金属元素
及びランタノイド系金属元素を表す。Ｒ16はπ配位子を
示し、具体的にはシクロペンタジエニル骨格を有する基
を表す。Ｘ5 は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２
０の炭化水素基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素
数１〜２０のチオアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリ
ール基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数６
〜２０のチオアリールオキシ基、アミノ基、アルキルシ
リル基等を表し、複数のＸ5 は同一でも異なっていても
よい。また該Ｘ5 は特定の基を介してＲ16と結合してい
てもよい。ｎはＭ3 の価数を示す。
塩素原子、メチル基、フェニル基、トリメチルシリルメ
チル基等を挙げることができる。上記の遷移金属化合物
として、具体的には、エチレンビス（１−インデニル）
ジルコニウムジクロリド、エチレンビス（テトラヒドロ
−１−インデニル）ジルコニウムジクロリド、イソプロ
ピリデン（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）ジ
ルコニウムジクロリド、メチルフェニメチレン（シクロ
ペンタジエニル）（フルオレニル）ジルコニウムジクロ
リド、ジフェニメチレン（シクロペンタジエニル）（フ
ルオレニル）ジルコニウムジクロリド等を挙げることが
できる。 （iv) 以下の一般式（10）で表されるπ配位子Ｒ16を１
個有する遷移金属化合物 Ｍ3 Ｒ16Ｘ5ｎ ・・・ （10） （式中、Ｍ3 は元素の周期律表の第４族の遷移金属元素
及びランタノイド系金属元素を表す。Ｒ16はπ配位子を
示し、具体的にはシクロペンタジエニル骨格を有する基
を表す。Ｘ5 は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２
０の炭化水素基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素
数１〜２０のチオアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリ
ール基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数６
〜２０のチオアリールオキシ基、アミノ基、アルキルシ
リル基等を表し、複数のＸ5 は同一でも異なっていても
よい。また該Ｘ5 は特定の基を介してＲ16と結合してい
てもよい。ｎはＭ3 の価数を示す。
【００４０】上記一般式（10）で表される化合物とし
て、例えば、モノ（シクロペンタジエニル）遷移金属化
合物、モノ（インデニル）遷移金属化合物、モノ（フル
オレニル）遷移金属化合物などがある。置換シクロペン
タジエニル基は、例えば、炭素数１〜６のアルキル基で
１個以上置換されたシクロペンタジエニル基、具体的に
は、メチルシクロペンタジエニル基；１，３−ジメチル
シクロペンタジエニル基；１，２，４−トリメチルシク
ロペンタジエニル基；１，２，３，４−テトラメチルシ
クロペンタジエニル基；トリメチルシリルシクロペンタ
ジエニル基；１，３−ジ（トリメチルシリル）シクロペ
ンタジエニル基；ターシャリーブチルシクロペンタジエ
ニル基；１，３−ジ（ターシャリーブチル）シクロペン
タジエニル基；ペンタメチルシクロペンタジエニル基な
どである。遷移金属としてはチタンが好ましく用いられ
る。チタン化合物の具体例としては、シクロペンタジエ
ニルトリメチルチタン、シクロペンタジエニルトリエチ
ルチタン、シクロペンタジエニルトリプロピルチタン、
シクロペンタジエニルトリブチルチタン、メチルシクロ
ペンタジエニルトリメチルチタン、１，２−ジメチルシ
クロペンタジエニルトリメチルチタン、１，２，４−ト
リメチルシクロペンタジエニルトリメチルチタン、１，
２，３，４−テトラメチルシクロペンタジエニルトリメ
チルチタン、ペンタメチルシクロペンタジエニルトリメ
チルチタン、ペンタメチルシクロペンタジエニルトリメ
チルチタン、ペンタメチルシクロペンタジエニルトリエ
チルチタン、ペンタメチルシクロペンタジエニルトリプ
ロピルチタン、ペンタメチルシクロペンタジエニルトリ
ブチルチタン、シクロペンタジエニルメチルチタンジク
ロリド、シクロペンタジエニルエチルチタンジクロリ
ド、ペンタメチルシクロペンタジエニルメチルチタンジ
クロリド、ペンタメチルシクロペンタジエニルエチルチ
タンジクロリド、シクロペンタジエニルジメチルチタン
モノクロリド、シクロペンタジエニルジエチルチタンモ
ノクロリド、シクロペンタジエニルチタントリメトキシ
ド、シクロペンタジエニルチタントリエトキシド、シク
ロペンタジエニルチタントリプロポキシド、シクロペン
タジエニルチタントリフェノキシド、ペンタメチルシク
ロペンタジエニルチタントリメトキシド、ペンタメチル
シクロペンタジエニルチタントリエトキシド、ペンタメ
チルシクロペンタジエニルチタントリプロポキシド、ペ
ンタメチルシクロペンタジエニルチタントリフェノキシ
ド、シクロペンタジエニルチタントリクロリド、ペンタ
メチルシクロペンタジエニルチタントリクロリド、シク
ロペンタジエニルメトキシチタンジクロリド、シクロペ
ンタジエニルジメトキシチタンクロリド、ペンタメチル
シクロペンタジエニルメトキシチタンジクロリド、シク
ロペンタジエニルトリベンジルチタン、ペンタメチルシ
クロペンタジエニルメチルジエトキシチタン、インデニ
ルチタントリクロリド、インデニルチタントリメトキシ
ド、インデニルチタントリエトキシド、インデニルトリ
メチルチタン、インデニルトリベンジルチタン、ペンタ
メチルシクロペンタジエニルチタントリチオメトキシ
ド、ペンタメチルシクロペンタジエニルチタントリチオ
フェノキシド等が挙げられる。
て、例えば、モノ（シクロペンタジエニル）遷移金属化
合物、モノ（インデニル）遷移金属化合物、モノ（フル
オレニル）遷移金属化合物などがある。置換シクロペン
タジエニル基は、例えば、炭素数１〜６のアルキル基で
１個以上置換されたシクロペンタジエニル基、具体的に
は、メチルシクロペンタジエニル基；１，３−ジメチル
シクロペンタジエニル基；１，２，４−トリメチルシク
ロペンタジエニル基；１，２，３，４−テトラメチルシ
クロペンタジエニル基；トリメチルシリルシクロペンタ
ジエニル基；１，３−ジ（トリメチルシリル）シクロペ
ンタジエニル基；ターシャリーブチルシクロペンタジエ
ニル基；１，３−ジ（ターシャリーブチル）シクロペン
タジエニル基；ペンタメチルシクロペンタジエニル基な
どである。遷移金属としてはチタンが好ましく用いられ
る。チタン化合物の具体例としては、シクロペンタジエ
ニルトリメチルチタン、シクロペンタジエニルトリエチ
ルチタン、シクロペンタジエニルトリプロピルチタン、
シクロペンタジエニルトリブチルチタン、メチルシクロ
ペンタジエニルトリメチルチタン、１，２−ジメチルシ
クロペンタジエニルトリメチルチタン、１，２，４−ト
リメチルシクロペンタジエニルトリメチルチタン、１，
２，３，４−テトラメチルシクロペンタジエニルトリメ
チルチタン、ペンタメチルシクロペンタジエニルトリメ
チルチタン、ペンタメチルシクロペンタジエニルトリメ
チルチタン、ペンタメチルシクロペンタジエニルトリエ
チルチタン、ペンタメチルシクロペンタジエニルトリプ
ロピルチタン、ペンタメチルシクロペンタジエニルトリ
ブチルチタン、シクロペンタジエニルメチルチタンジク
ロリド、シクロペンタジエニルエチルチタンジクロリ
ド、ペンタメチルシクロペンタジエニルメチルチタンジ
クロリド、ペンタメチルシクロペンタジエニルエチルチ
タンジクロリド、シクロペンタジエニルジメチルチタン
モノクロリド、シクロペンタジエニルジエチルチタンモ
ノクロリド、シクロペンタジエニルチタントリメトキシ
ド、シクロペンタジエニルチタントリエトキシド、シク
ロペンタジエニルチタントリプロポキシド、シクロペン
タジエニルチタントリフェノキシド、ペンタメチルシク
ロペンタジエニルチタントリメトキシド、ペンタメチル
シクロペンタジエニルチタントリエトキシド、ペンタメ
チルシクロペンタジエニルチタントリプロポキシド、ペ
ンタメチルシクロペンタジエニルチタントリフェノキシ
ド、シクロペンタジエニルチタントリクロリド、ペンタ
メチルシクロペンタジエニルチタントリクロリド、シク
ロペンタジエニルメトキシチタンジクロリド、シクロペ
ンタジエニルジメトキシチタンクロリド、ペンタメチル
シクロペンタジエニルメトキシチタンジクロリド、シク
ロペンタジエニルトリベンジルチタン、ペンタメチルシ
クロペンタジエニルメチルジエトキシチタン、インデニ
ルチタントリクロリド、インデニルチタントリメトキシ
ド、インデニルチタントリエトキシド、インデニルトリ
メチルチタン、インデニルトリベンジルチタン、ペンタ
メチルシクロペンタジエニルチタントリチオメトキシ
ド、ペンタメチルシクロペンタジエニルチタントリチオ
フェノキシド等が挙げられる。
【００４１】（ｂ）（イ）酸素含有化合物及び／又は
（ロ）遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成
しうる化合物 本発明において用いられる重合用触媒の（ｂ）成分とし
ては、以下に示す、（イ）酸素含有化合物及び／又は
（ロ）遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成
しうる化合物である。 （イ）成分の酸素含有化合物 下記一般式（２）で表される化合物
（ロ）遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成
しうる化合物 本発明において用いられる重合用触媒の（ｂ）成分とし
ては、以下に示す、（イ）酸素含有化合物及び／又は
（ロ）遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成
しうる化合物である。 （イ）成分の酸素含有化合物 下記一般式（２）で表される化合物
【００４２】
【化１９】 及び／又は一般式（３）
【００４３】
【化２０】 で表される酸素含有化合物である。上記一般式（２) 及
び（３）において、Ｒ1 〜Ｒ7 はそれぞれ炭素数１〜８
のアルキル基を示し、具体的にはメチル基，エチル基，
ｎ−プロピル基，イソプロピル基，各種ブチル基，各種
ペンチル基，各種ヘキシル基，各種ヘプチル基，各種オ
クチル基が挙げられる。Ｒ1 〜Ｒ5 はたがいに同一でも
異なっていてもよく、Ｒ6 及びＲ7 はたがいに同一でも
異なっていてもよい。Ｙ1 〜Ｙ5 はそれぞれ周期律表１
３族元素を示し、具体的にはＢ，Ａｌ，Ｇａ，Ｉｎ及び
Ｔｌが挙げられるが、これらの中でＢ及びＡｌが好適で
ある。Ｙ1 〜Ｙ3 はたがいに同一でも異なっていてもよ
く、Ｙ4 及びＹ5 はたがいに同一でも異なっていてもよ
い。また、ａ〜ｄはそれぞれ０〜５０の数であるが、
（ａ＋ｂ）及び（ｃ＋ｄ）はそれぞれ１以上である。ａ
〜ｄとしては、それぞれ１〜２０の範囲が好ましく、特
に１〜５の範囲が好ましい。
び（３）において、Ｒ1 〜Ｒ7 はそれぞれ炭素数１〜８
のアルキル基を示し、具体的にはメチル基，エチル基，
ｎ−プロピル基，イソプロピル基，各種ブチル基，各種
ペンチル基，各種ヘキシル基，各種ヘプチル基，各種オ
クチル基が挙げられる。Ｒ1 〜Ｒ5 はたがいに同一でも
異なっていてもよく、Ｒ6 及びＲ7 はたがいに同一でも
異なっていてもよい。Ｙ1 〜Ｙ5 はそれぞれ周期律表１
３族元素を示し、具体的にはＢ，Ａｌ，Ｇａ，Ｉｎ及び
Ｔｌが挙げられるが、これらの中でＢ及びＡｌが好適で
ある。Ｙ1 〜Ｙ3 はたがいに同一でも異なっていてもよ
く、Ｙ4 及びＹ5 はたがいに同一でも異なっていてもよ
い。また、ａ〜ｄはそれぞれ０〜５０の数であるが、
（ａ＋ｂ）及び（ｃ＋ｄ）はそれぞれ１以上である。ａ
〜ｄとしては、それぞれ１〜２０の範囲が好ましく、特
に１〜５の範囲が好ましい。
【００４４】このような触媒成分として用いる酸素含有
化合物、特にアルキルアルミノキサンの好適な例は、 1
Ｈ−ＮＭＲスペクトルで観測されるアルミニウム・メチ
ル基（Ａｌ−ＣＨ3 ）結合に基づくメチルプロトンシグ
ナル領域における高磁場成分が５０％以下のものであ
る。つまり、上記の接触生成物を室温下、トルエン溶媒
中でその 1Ｈ−ＮＭＲスペクトルを観測すると、「Ａｌ
−ＣＨ3 」に基づくメチルプロトンシグナルはテトラメ
チルシラン（ＴＭＳ）基準において1.０〜−0.５ｐｐｍ
の範囲に見られる。ＴＭＳのプロトンシグナル（０ｐｐ
ｍ）が「Ａｌ−ＣＨ3 」に基づくメチルプロトン観測領
域にあるため、この「Ａｌ−ＣＨ3 」に基づくメチルプ
ロトンシグナルを、ＴＭＳ基準におけるトルエンのメチ
ルプロトンシグナル2.３５ｐｐｍを基準に測定し高磁場
成分（即ち、0.１〜−0.５ｐｐｍ）と他の磁場成分（即
ち、1.０〜−0.１ｐｐｍ）とに分けたときに、該高磁場
成分が全体の５０％以下、好ましくは４５〜５％のもの
が触媒成分として好適に使用できる。 （ロ）遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成
しうる化合物 遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成しうる
化合物としては、複数の基が金属に結合したアニオンと
カチオンとからなる配位錯化合物又はルイス酸を挙げる
ことができる。複数の基が金属に結合したアニオンとカ
チオンとからなる配位錯化合物としては様々なものがあ
るが、例えば下記一般式（11) 又は（12）で表される化
合物を好適に使用することができる。
化合物、特にアルキルアルミノキサンの好適な例は、 1
Ｈ−ＮＭＲスペクトルで観測されるアルミニウム・メチ
ル基（Ａｌ−ＣＨ3 ）結合に基づくメチルプロトンシグ
ナル領域における高磁場成分が５０％以下のものであ
る。つまり、上記の接触生成物を室温下、トルエン溶媒
中でその 1Ｈ−ＮＭＲスペクトルを観測すると、「Ａｌ
−ＣＨ3 」に基づくメチルプロトンシグナルはテトラメ
チルシラン（ＴＭＳ）基準において1.０〜−0.５ｐｐｍ
の範囲に見られる。ＴＭＳのプロトンシグナル（０ｐｐ
ｍ）が「Ａｌ−ＣＨ3 」に基づくメチルプロトン観測領
域にあるため、この「Ａｌ−ＣＨ3 」に基づくメチルプ
ロトンシグナルを、ＴＭＳ基準におけるトルエンのメチ
ルプロトンシグナル2.３５ｐｐｍを基準に測定し高磁場
成分（即ち、0.１〜−0.５ｐｐｍ）と他の磁場成分（即
ち、1.０〜−0.１ｐｐｍ）とに分けたときに、該高磁場
成分が全体の５０％以下、好ましくは４５〜５％のもの
が触媒成分として好適に使用できる。 （ロ）遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成
しうる化合物 遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成しうる
化合物としては、複数の基が金属に結合したアニオンと
カチオンとからなる配位錯化合物又はルイス酸を挙げる
ことができる。複数の基が金属に結合したアニオンとカ
チオンとからなる配位錯化合物としては様々なものがあ
るが、例えば下記一般式（11) 又は（12）で表される化
合物を好適に使用することができる。
【００４５】 （〔Ｌ1 −Ｈ〕g+）h （〔Ｍ4 Ｘ6 Ｘ7 ・・・Ｘn 〕(n-m)-）i ・・・（11) （〔Ｌ2 〕g+）h （〔Ｍ5 Ｘ6 Ｘ7 ・・・Ｘn 〕(n-m)-）i ・・・（12） 〔式（８) 又は（９）中、Ｌ2 は後述のＭ6 ，Ｒ17Ｒ18
Ｍ7 又はＲ19 3 Ｃであり、Ｌ1 はルイス塩基、Ｍ4 及び
Ｍ5 はそれぞれ周期律表の５族〜１５族から選ばれる金
属、Ｍ6 は周期律表の１族及び８族〜１２族から選ばれ
る金属、Ｍ7 は周期律表の８族〜１０族から選ばれる金
属、Ｘ6 〜Ｘn はそれぞれ水素原子，ジアルキルアミノ
基，アルコキシ基，アリールオキシ基，炭素数１〜２０
のアルキル基，炭素数６〜２０のアリール基，アルキル
アリール基，アリールアルキル基，置換アルキル基，有
機メタロイド基又はハロゲン原子を示す。Ｒ17及びＲ18
はそれぞれシクロペンタジエニル基，置換シクロペンタ
ジエニル基，インデニル基又はフルオレニル基、Ｒ19は
アルキル基を示す。ｍはＭ4 ，Ｍ5 の原子価で１〜７の
整数、ｎは２〜８の整数、ｇはＬ1 −Ｈ，Ｌ2 のイオン
価数で１〜７の整数、ｈは１以上の整数，ｉ＝ｈ×ｇ／
（ｎ−ｍ）である。〕 Ｍ4 及びＭ5 の具体例としてはＢ，Ａｌ，Ｓｉ，Ｐ，Ａ
ｓ，Ｓｂなどの各原子、Ｍ6 の具体例としてはＡｇ，Ｃ
ｕ，Ｎａ，Ｌｉなどの各原子、Ｍ7 の具体例としてはＦ
ｅ，Ｃｏ，Ｎｉなどの各原子が挙げられる。Ｘ6 〜Ｘn
の具体例としては、例えば、ジアルキルアミノ基として
ジメチルアミノ基，ジエチルアミノ基など、アルコキシ
基としてメトキシ基，エトキシ基，ｎ−ブトキシ基な
ど、アリールオキシ基としてフェノキシ基，２，６−ジ
メチルフェノキシ基，ナフチルオキシ基など、炭素数１
〜２０のアルキル基としてメチル基，エチル基，ｎ−プ
ロピル基，イソプロピル基，ｎ−ブチル基，ｎ−オクチ
ル基，２−エチルヘキシル基など、炭素数６〜２０のア
リール基，アルキルアリール基若しくはアリールアルキ
ル基としてフェニル基，ｐ−トリル基，ベンジル基，ペ
ンタフルオロフェニル基，３，５−ジ（トリフルオロメ
チル）フェニル基，４−ターシャリ−ブチルフェニル
基，２，６−ジメチルフェニル基，３，５−ジメチルフ
ェニル基，２，４−ジメチルフェニル基，１，２−ジメ
チルフェニル基など、ハロゲンとしてＦ，Ｃｌ，Ｂｒ，
Ｉ、有機メタロイド基として五メチルアンチモン基，ト
リメチルシリル基，トリメチルゲルミル基，ジフェニル
アルシン基，ジシクロヘキシルアンチモン基，ジフェニ
ル硼素基などが挙げられる。Ｒ17及びＲ18のそれぞれで
表される置換シクロペンタジエニル基の具体例として
は、メチルシクロペンタジエニル基，ブチルシクロペン
タジエニル基，ペンタメチルシクロペンタジエニル基な
どが挙げられる。
Ｍ7 又はＲ19 3 Ｃであり、Ｌ1 はルイス塩基、Ｍ4 及び
Ｍ5 はそれぞれ周期律表の５族〜１５族から選ばれる金
属、Ｍ6 は周期律表の１族及び８族〜１２族から選ばれ
る金属、Ｍ7 は周期律表の８族〜１０族から選ばれる金
属、Ｘ6 〜Ｘn はそれぞれ水素原子，ジアルキルアミノ
基，アルコキシ基，アリールオキシ基，炭素数１〜２０
のアルキル基，炭素数６〜２０のアリール基，アルキル
アリール基，アリールアルキル基，置換アルキル基，有
機メタロイド基又はハロゲン原子を示す。Ｒ17及びＲ18
はそれぞれシクロペンタジエニル基，置換シクロペンタ
ジエニル基，インデニル基又はフルオレニル基、Ｒ19は
アルキル基を示す。ｍはＭ4 ，Ｍ5 の原子価で１〜７の
整数、ｎは２〜８の整数、ｇはＬ1 −Ｈ，Ｌ2 のイオン
価数で１〜７の整数、ｈは１以上の整数，ｉ＝ｈ×ｇ／
（ｎ−ｍ）である。〕 Ｍ4 及びＭ5 の具体例としてはＢ，Ａｌ，Ｓｉ，Ｐ，Ａ
ｓ，Ｓｂなどの各原子、Ｍ6 の具体例としてはＡｇ，Ｃ
ｕ，Ｎａ，Ｌｉなどの各原子、Ｍ7 の具体例としてはＦ
ｅ，Ｃｏ，Ｎｉなどの各原子が挙げられる。Ｘ6 〜Ｘn
の具体例としては、例えば、ジアルキルアミノ基として
ジメチルアミノ基，ジエチルアミノ基など、アルコキシ
基としてメトキシ基，エトキシ基，ｎ−ブトキシ基な
ど、アリールオキシ基としてフェノキシ基，２，６−ジ
メチルフェノキシ基，ナフチルオキシ基など、炭素数１
〜２０のアルキル基としてメチル基，エチル基，ｎ−プ
ロピル基，イソプロピル基，ｎ−ブチル基，ｎ−オクチ
ル基，２−エチルヘキシル基など、炭素数６〜２０のア
リール基，アルキルアリール基若しくはアリールアルキ
ル基としてフェニル基，ｐ−トリル基，ベンジル基，ペ
ンタフルオロフェニル基，３，５−ジ（トリフルオロメ
チル）フェニル基，４−ターシャリ−ブチルフェニル
基，２，６−ジメチルフェニル基，３，５−ジメチルフ
ェニル基，２，４−ジメチルフェニル基，１，２−ジメ
チルフェニル基など、ハロゲンとしてＦ，Ｃｌ，Ｂｒ，
Ｉ、有機メタロイド基として五メチルアンチモン基，ト
リメチルシリル基，トリメチルゲルミル基，ジフェニル
アルシン基，ジシクロヘキシルアンチモン基，ジフェニ
ル硼素基などが挙げられる。Ｒ17及びＲ18のそれぞれで
表される置換シクロペンタジエニル基の具体例として
は、メチルシクロペンタジエニル基，ブチルシクロペン
タジエニル基，ペンタメチルシクロペンタジエニル基な
どが挙げられる。
【００４６】本発明において、複数の基が金属に結合し
たアニオンとしては、具体的にはＢ( Ｃ6 Ｆ5)4 - ，Ｂ
( Ｃ6 ＨＦ4)4 - ，Ｂ( Ｃ6 Ｈ2 Ｆ3)4 - ，Ｂ( Ｃ6 Ｈ
3 Ｆ 2)4 - ，Ｂ( Ｃ6 Ｈ4 Ｆ)4 - ，Ｂ( Ｃ6 ＣＦ3 Ｆ4)
4 - ，Ｂ( Ｃ6 Ｈ5）4 - ，ＰＦ6 - ，Ｐ( Ｃ6 Ｆ5)6
- ，Ａｌ（Ｃ6 ＨＦ4)4 - などが挙げら。また、金属カ
チオンとしては、Ｃｐ2 Ｆｅ+ ，（ＭｅＣｐ）2 Ｆ
ｅ+ ，（ｔＢｕＣｐ）2 Ｆｅ+ ，（Ｍｅ2 Ｃｐ）2 Ｆｅ
+ ，（Ｍｅ3 Ｃｐ）2 Ｆｅ+ ，（Ｍｅ4 Ｃｐ）2 Ｆ
ｅ+ ，（Ｍｅ5 Ｃｐ）2 Ｆｅ+ ，Ａｇ+ , Ｎａ+ ，Ｌｉ
+ などが挙げられ、またその他カチオンとしては、ピリ
ジニウム，２，４−ジニトロ−Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリ
ニウム，ジフェニルアンモニウム，ｐ−ニトロアニリニ
ウム，２，５−ジクロロアニリン，ｐ−ニトロ−Ｎ，Ｎ
−ジメチルアニリニウム，キノリニウム，Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアニリニウム，Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウムなど
の窒素含有化合物、トリフェニルカルベニウム，トリ
（４−メチルフェニル）カルベニウム，トリ（４−メト
キシフェニル）カルベニウムなどのカルベニウム化合
物、ＣＨ 3 ＰＨ3 + ，Ｃ2 Ｈ5 ＰＨ3 + ，Ｃ3 Ｈ7 ＰＨ
3 + ，（ＣＨ3 ）2 ＰＨ2 + ，（Ｃ2 Ｈ5 ）2 Ｐ
Ｈ2 + ，（Ｃ3 Ｈ7 ）2 ＰＨ2 + ，（ＣＨ3 ）3 Ｐ
Ｈ +，（Ｃ2Ｈ5 ）3 ＰＨ +，（Ｃ3 Ｈ7 ）3 ＰＨ +，
（ＣＦ3 ）3 ＰＨ +，（ＣＨ3 ）4 Ｐ + ，（Ｃ2 Ｈ5 ）
4 Ｐ+ ，（Ｃ3 Ｈ7 ）4 Ｐ+ 等のアルキルフォスフォニ
ウムイオン，及びＣ6 Ｈ5 ＰＨ3 + ，（Ｃ6 Ｈ5 ）2 Ｐ
Ｈ2 + ，（Ｃ6 Ｈ5 ）3 ＰＨ+，（Ｃ6 Ｈ5 ）4 Ｐ+ ，
（Ｃ2 Ｈ5 ）2 （Ｃ6 Ｈ5 ）ＰＨ+ ，（ＣＨ3 ）（Ｃ6
Ｈ5 ）ＰＨ2 + ，（ＣＨ3 ）2 （Ｃ6 Ｈ5 ）ＰＨ+ ，
（Ｃ2 Ｈ5 ）2 （Ｃ6 Ｈ5）2 Ｐ+ などのアリールフォ
スフォニウムイオンなどが挙げられる。
たアニオンとしては、具体的にはＢ( Ｃ6 Ｆ5)4 - ，Ｂ
( Ｃ6 ＨＦ4)4 - ，Ｂ( Ｃ6 Ｈ2 Ｆ3)4 - ，Ｂ( Ｃ6 Ｈ
3 Ｆ 2)4 - ，Ｂ( Ｃ6 Ｈ4 Ｆ)4 - ，Ｂ( Ｃ6 ＣＦ3 Ｆ4)
4 - ，Ｂ( Ｃ6 Ｈ5）4 - ，ＰＦ6 - ，Ｐ( Ｃ6 Ｆ5)6
- ，Ａｌ（Ｃ6 ＨＦ4)4 - などが挙げら。また、金属カ
チオンとしては、Ｃｐ2 Ｆｅ+ ，（ＭｅＣｐ）2 Ｆ
ｅ+ ，（ｔＢｕＣｐ）2 Ｆｅ+ ，（Ｍｅ2 Ｃｐ）2 Ｆｅ
+ ，（Ｍｅ3 Ｃｐ）2 Ｆｅ+ ，（Ｍｅ4 Ｃｐ）2 Ｆ
ｅ+ ，（Ｍｅ5 Ｃｐ）2 Ｆｅ+ ，Ａｇ+ , Ｎａ+ ，Ｌｉ
+ などが挙げられ、またその他カチオンとしては、ピリ
ジニウム，２，４−ジニトロ−Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリ
ニウム，ジフェニルアンモニウム，ｐ−ニトロアニリニ
ウム，２，５−ジクロロアニリン，ｐ−ニトロ−Ｎ，Ｎ
−ジメチルアニリニウム，キノリニウム，Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアニリニウム，Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウムなど
の窒素含有化合物、トリフェニルカルベニウム，トリ
（４−メチルフェニル）カルベニウム，トリ（４−メト
キシフェニル）カルベニウムなどのカルベニウム化合
物、ＣＨ 3 ＰＨ3 + ，Ｃ2 Ｈ5 ＰＨ3 + ，Ｃ3 Ｈ7 ＰＨ
3 + ，（ＣＨ3 ）2 ＰＨ2 + ，（Ｃ2 Ｈ5 ）2 Ｐ
Ｈ2 + ，（Ｃ3 Ｈ7 ）2 ＰＨ2 + ，（ＣＨ3 ）3 Ｐ
Ｈ +，（Ｃ2Ｈ5 ）3 ＰＨ +，（Ｃ3 Ｈ7 ）3 ＰＨ +，
（ＣＦ3 ）3 ＰＨ +，（ＣＨ3 ）4 Ｐ + ，（Ｃ2 Ｈ5 ）
4 Ｐ+ ，（Ｃ3 Ｈ7 ）4 Ｐ+ 等のアルキルフォスフォニ
ウムイオン，及びＣ6 Ｈ5 ＰＨ3 + ，（Ｃ6 Ｈ5 ）2 Ｐ
Ｈ2 + ，（Ｃ6 Ｈ5 ）3 ＰＨ+，（Ｃ6 Ｈ5 ）4 Ｐ+ ，
（Ｃ2 Ｈ5 ）2 （Ｃ6 Ｈ5 ）ＰＨ+ ，（ＣＨ3 ）（Ｃ6
Ｈ5 ）ＰＨ2 + ，（ＣＨ3 ）2 （Ｃ6 Ｈ5 ）ＰＨ+ ，
（Ｃ2 Ｈ5 ）2 （Ｃ6 Ｈ5）2 Ｐ+ などのアリールフォ
スフォニウムイオンなどが挙げられる。
【００４７】一般式（11) 及び（12）の化合物の中で、
具体的には、下記のものを特に好適に使用できる。一般
式（11) の化合物としては、例えばテトラフェニル硼酸
トリエチルアンモニウム，テトラフェニル硼酸トリ（ｎ
−ブチル）アンモニウム，テトラフェニル硼酸トリメチ
ルアンモニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニ
ル）硼酸トリエチルアンモニウム，テトラキス（ペンタ
フルオロフェニル）硼酸トリ（ｎ−ブチル）アンモニウ
ム，ヘキサフルオロ砒素酸トリエチルアンモニウム，テ
トラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸ピリジニウ
ム，テトラ（ペンタフルオロフェニル）硼酸ピロリニウ
ム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸Ｎ，Ｎ
−ジメチルアニリニウム，テトラキス（ペンタフルオロ
フェニル）硼酸メチルジフェニルアンモニウムなどが挙
げられる。一方、一般式（12）の化合物としては、例え
ばテトラフェニル硼酸フェロセニウム，テトラキス（ペ
ンタフルオロフェニル）硼酸ジメチルフェロセニウム，
テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸フェロセニ
ウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸デカ
メチルフェロセニウム，テトラキス（ペンタフルオロフ
ェニル）硼酸アセチルフェロセニウム，テトラキス（ペ
ンタフルオロフェニル）硼酸ホルミルフェロセニウム，
テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸シアノフェ
ロセニウム，テトラフェニル硼酸銀，テトラキス（ペン
タフルオロフェニル）硼酸銀，テトラフェニル硼酸トリ
チル，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸トリ
チル，ヘキサフルオロ砒素酸銀，ヘキサフルオロアンチ
モン酸銀，テトラフルオロ硼酸銀などが挙げられる。
具体的には、下記のものを特に好適に使用できる。一般
式（11) の化合物としては、例えばテトラフェニル硼酸
トリエチルアンモニウム，テトラフェニル硼酸トリ（ｎ
−ブチル）アンモニウム，テトラフェニル硼酸トリメチ
ルアンモニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニ
ル）硼酸トリエチルアンモニウム，テトラキス（ペンタ
フルオロフェニル）硼酸トリ（ｎ−ブチル）アンモニウ
ム，ヘキサフルオロ砒素酸トリエチルアンモニウム，テ
トラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸ピリジニウ
ム，テトラ（ペンタフルオロフェニル）硼酸ピロリニウ
ム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸Ｎ，Ｎ
−ジメチルアニリニウム，テトラキス（ペンタフルオロ
フェニル）硼酸メチルジフェニルアンモニウムなどが挙
げられる。一方、一般式（12）の化合物としては、例え
ばテトラフェニル硼酸フェロセニウム，テトラキス（ペ
ンタフルオロフェニル）硼酸ジメチルフェロセニウム，
テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸フェロセニ
ウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸デカ
メチルフェロセニウム，テトラキス（ペンタフルオロフ
ェニル）硼酸アセチルフェロセニウム，テトラキス（ペ
ンタフルオロフェニル）硼酸ホルミルフェロセニウム，
テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸シアノフェ
ロセニウム，テトラフェニル硼酸銀，テトラキス（ペン
タフルオロフェニル）硼酸銀，テトラフェニル硼酸トリ
チル，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸トリ
チル，ヘキサフルオロ砒素酸銀，ヘキサフルオロアンチ
モン酸銀，テトラフルオロ硼酸銀などが挙げられる。
【００４８】また、ルイス酸として、例えばＢ（Ｃ6 Ｆ
5)3 ，Ｂ（Ｃ6 ＨＦ4)3 ，Ｂ（Ｈ2Ｆ3)3,Ｂ（Ｃ6 Ｈ3
Ｆ2)3,Ｂ（Ｃ6 Ｈ4 Ｆ)3, Ｂ（Ｃ6 ＣＦ3 ＦＰＦ5,Ｐ
（Ｃ6Ｆ5)5 , Ａｌ（Ｃ6 ＨＦ4)3 なども用いることが
できる。 本発明の重合用触媒においては、上記（ｂ）
成分として、（イ）成分の酸素含有化合物のみを一種又
は二種以上組み合わせて用いてもよく、また（ロ）成分
の遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成しう
る化合物のみを一種又は二種以上組み合わせて用いても
よい。あるいは、該（イ）成分及び（ロ）成分を適当に
組み合わせて用いてもよい。 （ｃ）アルキル化剤 アルキル化剤としては様々なものがあるが、例えば、一
般式（13) Ｒ20 m Ａl(ＯＲ21) n Ｘ8 3-m-n ・・・（13) 〔式中、Ｒ20及びＲ21は、それぞれ炭素数１〜８、好ま
しくは１〜４のアルキル基を示し、Ｘ8 は水素原子ある
いはハロゲン原子を示す。また、ｍは０＜ｍ≦３、好ま
しくは２あるいは３、最も好ましくは３であり、ｎは０
≦ｎ＜３、好ましくは０あるいは１である。〕で表わさ
れるアルキル基含有アルミニウム化合物や一般式（14) Ｒ20 2 Ｍｇ ・・・（14） 〔式中、Ｒ20は前記と同じである。〕で表わされるアル
キル基含有マグネシウム化合物、さらには一般式（15) Ｒ20 2 Ｚｎ ・・・（15)
〔式中、Ｒ20は前記と同じである。〕で
表わされるアルキル基含有亜鉛化合物等が挙げられる。
5)3 ，Ｂ（Ｃ6 ＨＦ4)3 ，Ｂ（Ｈ2Ｆ3)3,Ｂ（Ｃ6 Ｈ3
Ｆ2)3,Ｂ（Ｃ6 Ｈ4 Ｆ)3, Ｂ（Ｃ6 ＣＦ3 ＦＰＦ5,Ｐ
（Ｃ6Ｆ5)5 , Ａｌ（Ｃ6 ＨＦ4)3 なども用いることが
できる。 本発明の重合用触媒においては、上記（ｂ）
成分として、（イ）成分の酸素含有化合物のみを一種又
は二種以上組み合わせて用いてもよく、また（ロ）成分
の遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成しう
る化合物のみを一種又は二種以上組み合わせて用いても
よい。あるいは、該（イ）成分及び（ロ）成分を適当に
組み合わせて用いてもよい。 （ｃ）アルキル化剤 アルキル化剤としては様々なものがあるが、例えば、一
般式（13) Ｒ20 m Ａl(ＯＲ21) n Ｘ8 3-m-n ・・・（13) 〔式中、Ｒ20及びＲ21は、それぞれ炭素数１〜８、好ま
しくは１〜４のアルキル基を示し、Ｘ8 は水素原子ある
いはハロゲン原子を示す。また、ｍは０＜ｍ≦３、好ま
しくは２あるいは３、最も好ましくは３であり、ｎは０
≦ｎ＜３、好ましくは０あるいは１である。〕で表わさ
れるアルキル基含有アルミニウム化合物や一般式（14) Ｒ20 2 Ｍｇ ・・・（14） 〔式中、Ｒ20は前記と同じである。〕で表わされるアル
キル基含有マグネシウム化合物、さらには一般式（15) Ｒ20 2 Ｚｎ ・・・（15)
〔式中、Ｒ20は前記と同じである。〕で
表わされるアルキル基含有亜鉛化合物等が挙げられる。
【００４９】これらのアルキル基含有化合物のうち、ア
ルキル基含有アルミニウム化合物、とりわけトリアルキ
ルアルミニウムやジアルキルアルミニウム化合物が好ま
しい。 （２）触媒の調製方法 重合に供せられる触媒における（ａ）成分と（ｂ）成分
と所望により用いられる（ｃ）成分との接触方法として
は、例えば（ａ）成分と（ｂ）成分との接触混合物
に、（ｃ）成分を加えて触媒とし、重合すべき各モノマ
ーと接触させる方法、（ｂ）成分と（ｃ）成分との接
触混合物に（ａ）成分を加えて触媒とし、重合すべきモ
ノマーと接触させる方法、（ａ）成分と（ｃ）成分と
の接触混合物に（ｂ）成分を加えて触媒とし、重合すべ
きモノマーと接触させる方法、重合すべきモノマー成
分に（ａ），（ｂ），（ｃ）成分を別々に接触させる方
法、重合すべきモノマー成分と（ｃ）成分との接触混
合物に、上記の〜で調製して触媒を接触させる方法
などがある。
ルキル基含有アルミニウム化合物、とりわけトリアルキ
ルアルミニウムやジアルキルアルミニウム化合物が好ま
しい。 （２）触媒の調製方法 重合に供せられる触媒における（ａ）成分と（ｂ）成分
と所望により用いられる（ｃ）成分との接触方法として
は、例えば（ａ）成分と（ｂ）成分との接触混合物
に、（ｃ）成分を加えて触媒とし、重合すべき各モノマ
ーと接触させる方法、（ｂ）成分と（ｃ）成分との接
触混合物に（ａ）成分を加えて触媒とし、重合すべきモ
ノマーと接触させる方法、（ａ）成分と（ｃ）成分と
の接触混合物に（ｂ）成分を加えて触媒とし、重合すべ
きモノマーと接触させる方法、重合すべきモノマー成
分に（ａ），（ｂ），（ｃ）成分を別々に接触させる方
法、重合すべきモノマー成分と（ｃ）成分との接触混
合物に、上記の〜で調製して触媒を接触させる方法
などがある。
【００５０】上記（ａ）成分と（ｂ）成分と所望により
用いられる（ｃ）成分との接触は、重合温度下で行える
ことはもちろん、−２０〜２００℃の範囲で行うことも
可能である。また、触媒の各成分を投入する前に、不純
物を捕捉するために、トリイソブチルアルミニウム等の
有機アルミニウム類を添加してもよい。 （２）重合方法 重合方法としては、塊状重合でもよく、ペンタン，ヘキ
サン，ヘプタンなどの脂肪族炭化水素、シクロヘキサン
などの脂環族炭化水素あるいはベンゼン，トルエン，キ
シレン，エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素溶媒中で
行ってもよい。また、重合温度は特に制限はないが、一
般には０〜２００℃、好ましくは２０〜１００℃であ
る。
用いられる（ｃ）成分との接触は、重合温度下で行える
ことはもちろん、−２０〜２００℃の範囲で行うことも
可能である。また、触媒の各成分を投入する前に、不純
物を捕捉するために、トリイソブチルアルミニウム等の
有機アルミニウム類を添加してもよい。 （２）重合方法 重合方法としては、塊状重合でもよく、ペンタン，ヘキ
サン，ヘプタンなどの脂肪族炭化水素、シクロヘキサン
などの脂環族炭化水素あるいはベンゼン，トルエン，キ
シレン，エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素溶媒中で
行ってもよい。また、重合温度は特に制限はないが、一
般には０〜２００℃、好ましくは２０〜１００℃であ
る。
【００５１】また、得られるエチレン系共重合体におい
ては、各モノマーに由来する繰り返し単位の含有割合に
ついては、重合に供する各モノマーの使用量によって適
宜、制御することが可能である。
ては、各モノマーに由来する繰り返し単位の含有割合に
ついては、重合に供する各モノマーの使用量によって適
宜、制御することが可能である。
【００５２】
【実施例】次に、実施例により本発明をさらに詳しく説
明する。 〔実施例１〕２リットルの耐圧重合槽に、脱水したトル
エン２６０ミリリットル、活性アルミナにより処理した
精製スチレン６００ミリリットル、活性アルミナにより
処理したパラジビニルベンゼン（新日鉄化学社製、高純
度パラ体，Ｔ−３０）４.5ミリリットル、及びメチルア
ルミノキサン（アルベマール社製）をアルミ濃度で９ミ
リモルを投入後、エチレンを圧力で０.6ＭＰａに一定に
保持し、十分にエチレンを溶解させた後、（η5 −１，
２，３，４−テトラヒドロ−９−フルオレニル）（ｔ−
ブチルアミド）ジメチルシランチタニウムジクロリドを
チタン濃度で１５マイクロモル添加し、７０℃にてエチ
レン圧一定の下、３０分間重合した。
明する。 〔実施例１〕２リットルの耐圧重合槽に、脱水したトル
エン２６０ミリリットル、活性アルミナにより処理した
精製スチレン６００ミリリットル、活性アルミナにより
処理したパラジビニルベンゼン（新日鉄化学社製、高純
度パラ体，Ｔ−３０）４.5ミリリットル、及びメチルア
ルミノキサン（アルベマール社製）をアルミ濃度で９ミ
リモルを投入後、エチレンを圧力で０.6ＭＰａに一定に
保持し、十分にエチレンを溶解させた後、（η5 −１，
２，３，４−テトラヒドロ−９−フルオレニル）（ｔ−
ブチルアミド）ジメチルシランチタニウムジクロリドを
チタン濃度で１５マイクロモル添加し、７０℃にてエチ
レン圧一定の下、３０分間重合した。
【００５３】重合後はエチレンを脱気後、メタノールを
少量添加し、重合を停止した。得られた粘稠な溶液はメ
タノール中に沈殿させ、重合物を回収した後、５０℃で
減圧乾燥し、８3.８グラムのエチレン系共重合体を得
た。1Ｈ−ＮＭＲから得られた組成は、エチレン／スチ
レン／ジビニルベンゼン＝７8.４／２1.５／０.1（モル
％）であった。ジビニルベンゼン量はＮＭＲ上のビニル
基に由来するピークより算出したものであり、分子鎖中
にスチレン系ビニル基が存在していることが確認され
た。
少量添加し、重合を停止した。得られた粘稠な溶液はメ
タノール中に沈殿させ、重合物を回収した後、５０℃で
減圧乾燥し、８3.８グラムのエチレン系共重合体を得
た。1Ｈ−ＮＭＲから得られた組成は、エチレン／スチ
レン／ジビニルベンゼン＝７8.４／２1.５／０.1（モル
％）であった。ジビニルベンゼン量はＮＭＲ上のビニル
基に由来するピークより算出したものであり、分子鎖中
にスチレン系ビニル基が存在していることが確認され
た。
【００５４】ゲル状の架橋物は生成せず、得られたエチ
レン系共重合体の〔η〕は１.3であり、ＧＰＣ測定によ
る分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１.8７であった。 〔実施例２〕脱水したトルエンを５００ミリリットル、
活性アルミナにより処理した精製スチレンを９３０ミリ
リットル、活性アルミナにより処理したパラジビニルベ
ンゼン（新日鉄化学社製、高純度パラ体，Ｔ−３０）１
0.5 ミリリットル、及びメチルアルミノキサン（アルベ
マール社製）をアルミ濃度で１８ミリモルとし、さらに
トリイソブチルアルミノキサン（東ソーアクゾ社製）を
アルミ濃度で０.5ミリモルを加え、（η5 −１，２，
３，４−テトラヒドロ−９−フルオレニル）（ｔ−ブチ
ルアミド）ジメチルシランチタニウムジクロリドをチタ
ン濃度で３０マイクロモルとし、重合温度を９０℃とし
た以外は、実施例１と同様に行った。１１５.3グラムの
エチレン系共重合体を得た。
レン系共重合体の〔η〕は１.3であり、ＧＰＣ測定によ
る分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１.8７であった。 〔実施例２〕脱水したトルエンを５００ミリリットル、
活性アルミナにより処理した精製スチレンを９３０ミリ
リットル、活性アルミナにより処理したパラジビニルベ
ンゼン（新日鉄化学社製、高純度パラ体，Ｔ−３０）１
0.5 ミリリットル、及びメチルアルミノキサン（アルベ
マール社製）をアルミ濃度で１８ミリモルとし、さらに
トリイソブチルアルミノキサン（東ソーアクゾ社製）を
アルミ濃度で０.5ミリモルを加え、（η5 −１，２，
３，４−テトラヒドロ−９−フルオレニル）（ｔ−ブチ
ルアミド）ジメチルシランチタニウムジクロリドをチタ
ン濃度で３０マイクロモルとし、重合温度を９０℃とし
た以外は、実施例１と同様に行った。１１５.3グラムの
エチレン系共重合体を得た。
【００５５】1Ｈ−ＮＭＲから得られた組成は、エチレ
ン／スチレン／ジビニルベンゼン＝７1.１／２8.６／
０.4（モル％）であった。ジビニルベンゼン量はＮＭＲ
上のビニル基に由来するピークより算出したものであ
り、分子鎖中にスチレン系ビニル基が存在していること
が確認された。ゲル状の架橋物は生成せず、得られたエ
チレン系共重合体の〔η〕は１.4であり、ＧＰＣ測定に
よる分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１.8９であった。 〔実施例３〕耐圧容器を１リットルとし、トルエンを用
いず、活性アルミナにより処理した精製スチレンを２０
０ミリリットル、活性アルミナにより処理したパラジビ
ニルベンゼン（新日鉄化学社製、高純度パラ体，Ｔ−３
０）１.5ミリリットル、及びメチルアルミノキサン（ア
ルベマール社製）をアルミ濃度で５.0ミリモル添加し
た。これにエチレンとプロピレンのモル比が８対２にな
るように制御した混合ガスを槽内圧力が０.6ＭＰａにな
るように連続的に添加し、十分溶解させた。その後、
（η5 −１，２，３，４−テトラヒドロ−９−フルオレ
ニル）（ｔ−ブチルアミド）ジメチルシランチタニウム
ジクロリドをチタン濃度で５マイクロモル添加して重合
を実施した以外は、実施例１と同様に行い、１５.2グラ
ムの重合体を得た。
ン／スチレン／ジビニルベンゼン＝７1.１／２8.６／
０.4（モル％）であった。ジビニルベンゼン量はＮＭＲ
上のビニル基に由来するピークより算出したものであ
り、分子鎖中にスチレン系ビニル基が存在していること
が確認された。ゲル状の架橋物は生成せず、得られたエ
チレン系共重合体の〔η〕は１.4であり、ＧＰＣ測定に
よる分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１.8９であった。 〔実施例３〕耐圧容器を１リットルとし、トルエンを用
いず、活性アルミナにより処理した精製スチレンを２０
０ミリリットル、活性アルミナにより処理したパラジビ
ニルベンゼン（新日鉄化学社製、高純度パラ体，Ｔ−３
０）１.5ミリリットル、及びメチルアルミノキサン（ア
ルベマール社製）をアルミ濃度で５.0ミリモル添加し
た。これにエチレンとプロピレンのモル比が８対２にな
るように制御した混合ガスを槽内圧力が０.6ＭＰａにな
るように連続的に添加し、十分溶解させた。その後、
（η5 −１，２，３，４−テトラヒドロ−９−フルオレ
ニル）（ｔ−ブチルアミド）ジメチルシランチタニウム
ジクロリドをチタン濃度で５マイクロモル添加して重合
を実施した以外は、実施例１と同様に行い、１５.2グラ
ムの重合体を得た。
【００５６】1Ｈ−ＮＭＲから得られた組成は、エチレ
ン／プロピレン／スチレン／ジビニルベンゼン＝６8.５
／１2.２／１9.１／０.3（モル％）であった。ジビニル
ベンゼン量はＮＭＲ上のビニル基に由来するピークより
算出したものであり、分子鎖中にスチレン系ビニル基が
存在していることが確認された。ゲル状の架橋物は生成
せず、得られた重合体の〔η〕は１.2であり、ＧＰＣ測
定による分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１.5１であった。
ン／プロピレン／スチレン／ジビニルベンゼン＝６8.５
／１2.２／１9.１／０.3（モル％）であった。ジビニル
ベンゼン量はＮＭＲ上のビニル基に由来するピークより
算出したものであり、分子鎖中にスチレン系ビニル基が
存在していることが確認された。ゲル状の架橋物は生成
せず、得られた重合体の〔η〕は１.2であり、ＧＰＣ測
定による分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１.5１であった。
【００５７】
【発明の効果】本発明により得られたエチレン系共重合
体は、耐熱性，耐薬品性等に優れるとともに、良好な靱
性，伸び及び相溶化能を有し、複合材料の素材や耐熱エ
ラストマーとして有用なシンジオタクチックポリスチレ
ングラフト共重合体を得るためのマクロモノマーとして
の用途や、シンジオタクチックポリスチレンとゴム成分
との組成物や一般的なポリスチレンとゴム成分との組成
物における相溶化剤を得るための素材として極めて有用
である。また、本発明の製造方法により、該エチレン系
共重合体を効率的に得ることができる。
体は、耐熱性，耐薬品性等に優れるとともに、良好な靱
性，伸び及び相溶化能を有し、複合材料の素材や耐熱エ
ラストマーとして有用なシンジオタクチックポリスチレ
ングラフト共重合体を得るためのマクロモノマーとして
の用途や、シンジオタクチックポリスチレンとゴム成分
との組成物や一般的なポリスチレンとゴム成分との組成
物における相溶化剤を得るための素材として極めて有用
である。また、本発明の製造方法により、該エチレン系
共重合体を効率的に得ることができる。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０８Ｆ 212:00 236:04 210:00）
Claims (6)
- 【請求項１】 芳香族ビニルモノマー（Ａ）、エチレン
（Ｂ）、及びジエン系モノマー（Ｃ）の共重合体であっ
て、芳香族ビニルモノマー（Ａ）に由来する繰返し単位
が１〜９８モル％、エチレン（Ｂ）に由来する繰返し単
位が１〜９８モル％、及びジエン系モノマー（Ｃ）に由
来する繰返し単位が０.0０１〜１０モル％であり、分子
鎖中にジエン系モノマーに由来するビニル基を有するエ
チレン系共重合体。 - 【請求項２】 芳香族ビニルモノマー（Ａ）、エチレン
（Ｂ）、ジエン系モノマー（Ｃ）、及びα−オレフィン
（Ｄ）の共重合体であって、芳香族ビニルモノマー
（Ａ）に由来する繰返し単位が１〜９８モル％、エチレ
ン（Ｂ）に由来する繰返し単位が１〜９８モル％、及び
ジエン系モノマー（Ｃ）に由来する繰返し単位が０.0０
１〜１０モル％、及びα−オレフィン（Ｄ）に由来する
繰返し単位０〜９０モル％（０を含まず）であり、分子
鎖中にジエン系モノマーに由来するビニル基を有するエ
チレン系共重合体。 - 【請求項３】 ジエン系モノマー（Ｃ）が、スチレン系
ビニル基を有するジエンである請求項１又は２に記載の
エチレン系共重合体。 - 【請求項４】 （ａ）遷移金属化合物，（ｂ）（イ）一
般式（１） 【化１】 （式中、Ｒ1 〜Ｒ5 はそれぞれ炭素数１〜８のアルキル
基を示し、それらはたがいに同一でも異なっていてもよ
く、Ｙ1 〜Ｙ3 はそれぞれ周期律表１３族元素を示し、
それらはたがいに同一でも異なっていてもよく、ａ及び
ｂはそれぞれ０〜５０の数を示すが、ａ＋ｂは１以上で
ある。） 及び／又は一般式（２） 【化２】 （式中、Ｒ6 及びＲ7 はそれぞれ炭素数１〜８のアルキ
ル基を示し、それらはたがいに同一でも異なっていても
よく、Ｙ4 及びＹ5 はそれぞれ周期律表１３族元素を示
し、それらはたがいに同一でも異なっていてもよく、ｃ
及びｄはそれぞれ０〜５０の数を示すが、ｃ＋ｄは１以
上である。）で表される酸素含有化合物、及び／又は
（ロ）該（ａ）成分の遷移金属化合物と反応してイオン
性の錯体を形成しうる化合物を用いて形成される触媒を
用いて、各モノマーを共重合させることを特徴とする請
求項１〜３に記載のエチレン系共重合体の製造方法。 - 【請求項５】 （ａ）遷移金属化合物，（ｂ）（イ）一
般式（１） 【化３】 （式中、Ｒ1 〜Ｒ5 はそれぞれ炭素数１〜８のアルキル
基を示し、それらはたがいに同一でも異なっていてもよ
く、Ｙ1 〜Ｙ3 はそれぞれ周期律表１３族元素を示し、
それらはたがいに同一でも異なっていてもよく、ａ及び
ｂはそれぞれ０〜５０の数を示すが、ａ＋ｂは１以上で
ある。） 及び／又は一般式（２） 【化４】 （式中、Ｒ6 及びＲ7 はそれぞれ炭素数１〜８のアルキ
ル基を示し、それらはたがいに同一でも異なっていても
よく、Ｙ4 及びＹ5 はそれぞれ周期律表１３族元素を示
し、それらはたがいに同一でも異なっていてもよく、ｃ
及びｄはそれぞれ０〜５０の数を示すが、ｃ＋ｄは１以
上である。）で表される酸素含有化合物、及び／又は
（ロ）該（ａ）成分の遷移金属化合物と反応してイオン
性の錯体を形成しうる化合物、及び（ｃ）アルキル化剤
を用いて形成される触媒を用いて、各モノマーを共重合
させることを特徴とする請求項１〜３に記載のエチレン
系共重合体の製造方法。 - 【請求項６】 （ａ）遷移金属化合物が、下記一般式
（３）で表されるものであることを特徴とする請求項４
又は５に記載のエチレン系共重合体の製造方法。 【化５】 （式中、Ｍはチタン，ジルコニウム又はハフニウムであ
り、Ｃｐ* は、Ｍにη5結合様式で結合するシクロペン
タジエニル基，置換シクロペンタジエニル基又はインデ
ニル基，置換インデニル基，フルオレニル基，置換フル
オレニル基，ヘキサヒドロアズレニル基，置換ヘキサヒ
ドロアズレニル基，テトラヒドロインデニル基，置換テ
トラヒドロインデニル基，テトラヒドロフルオレニル
基，置換テトラヒドロフルオレニル基，オクタヒドロフ
ルオレニル基，置換オクタヒドロフルオレニル基であ
る。Ｘはσ配位子を示し、ｎは１又は２であり、複数の
Ｘはたがいに同一でも異なっていてもよく、また、任意
の基を介して結合していてもよい。Ｙは、Ｏ，Ｓ，Ｎ
Ｒ，ＰＲ又はＣＲ2 であるか、又はＯＲ，ＳＲ，ＮＲ2
又はＰＲ2 から選ばれた中性の２個電子供与性配位子で
あり、Ｚは、ＳｉＲ2 ，ＣＲ 2 ，ＳｉＲ2 ＳｉＲ2 ，Ｃ
Ｒ2 ＣＲ2 ，ＣＲ＝ＣＲ，ＣＲＳｉＲ2 ，ＧｅＲ2 ，Ｂ
Ｒ，ＢＲ2 であり、ここにおいて、Ｒは、各々の場合
に、水素，アルキル基，アリール基，シリル基，ハロゲ
ン化アルキル，ハロゲン化アリール，及び２０個までの
非水素原子をもつそれらの組み合わせから選ばれた部分
である。さらに、２個又はそれ以上の上記Ｒ基はＺ，又
はＹとＺの双方から縮合環系を形成していてもよい。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10264715A JPH11189620A (ja) | 1997-10-24 | 1998-09-18 | エチレン系共重合体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29234897 | 1997-10-24 | ||
| JP9-292348 | 1997-10-24 | ||
| JP10264715A JPH11189620A (ja) | 1997-10-24 | 1998-09-18 | エチレン系共重合体及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11189620A true JPH11189620A (ja) | 1999-07-13 |
Family
ID=26546635
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10264715A Pending JPH11189620A (ja) | 1997-10-24 | 1998-09-18 | エチレン系共重合体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11189620A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013144814A (ja) * | 2008-07-18 | 2013-07-25 | Denki Kagaku Kogyo Kk | オレフィン−芳香族ポリエン共重合体 |
| WO2019078083A1 (ja) * | 2017-10-20 | 2019-04-25 | 株式会社ブリヂストン | 多元共重合体、ゴム組成物、架橋ゴム組成物、ゴム製品、及びタイヤ |
| CN113242798A (zh) * | 2018-12-18 | 2021-08-10 | 米其林集团总公司 | 共轭二烯与乙烯的共聚物 |
-
1998
- 1998-09-18 JP JP10264715A patent/JPH11189620A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013144814A (ja) * | 2008-07-18 | 2013-07-25 | Denki Kagaku Kogyo Kk | オレフィン−芳香族ポリエン共重合体 |
| WO2019078083A1 (ja) * | 2017-10-20 | 2019-04-25 | 株式会社ブリヂストン | 多元共重合体、ゴム組成物、架橋ゴム組成物、ゴム製品、及びタイヤ |
| JPWO2019078083A1 (ja) * | 2017-10-20 | 2020-11-26 | 株式会社ブリヂストン | 多元共重合体、ゴム組成物、架橋ゴム組成物、ゴム製品、及びタイヤ |
| CN113242798A (zh) * | 2018-12-18 | 2021-08-10 | 米其林集团总公司 | 共轭二烯与乙烯的共聚物 |
| CN113242798B (zh) * | 2018-12-18 | 2023-10-27 | 米其林集团总公司 | 共轭二烯与乙烯的共聚物 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20041206 |