JPH10237027A - アミン類の製造法 - Google Patents
アミン類の製造法Info
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- JPH10237027A JPH10237027A JP5976897A JP5976897A JPH10237027A JP H10237027 A JPH10237027 A JP H10237027A JP 5976897 A JP5976897 A JP 5976897A JP 5976897 A JP5976897 A JP 5976897A JP H10237027 A JPH10237027 A JP H10237027A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】アミン類を工業的に有利に製造し得る方法を提
供すること。 【解決手段】一般式（Ｉ）： 【化１】 （Ｒ1 、Ｒ2 又はＲ3 は、同一でも異なっていてもよ
く、水素原子、本反応条件下で安定な置換基を有してい
てもよい炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜１８
のアリール基、原子数３〜２２の複素環基、又は炭素数
７〜２０のアラルキル基を表す。またＲ1 とＲ2 は一緒
になって環を形成していてもよく、かつ本反応条件下で
安定な置換基を有していてもよい。ただし、Ｒ1 、Ｒ2
及びＲ3 がすべて水素原子である場合を除く。）で示さ
れる置換アミド類を硫酸と水素化金属ホウ素とから得ら
れる還元剤で処理することによる、一般式（II）： 【化２】 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ3 は前記と同じ。）で示され
るアミン類の製造法。
供すること。 【解決手段】一般式（Ｉ）： 【化１】 （Ｒ1 、Ｒ2 又はＲ3 は、同一でも異なっていてもよ
く、水素原子、本反応条件下で安定な置換基を有してい
てもよい炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜１８
のアリール基、原子数３〜２２の複素環基、又は炭素数
７〜２０のアラルキル基を表す。またＲ1 とＲ2 は一緒
になって環を形成していてもよく、かつ本反応条件下で
安定な置換基を有していてもよい。ただし、Ｒ1 、Ｒ2
及びＲ3 がすべて水素原子である場合を除く。）で示さ
れる置換アミド類を硫酸と水素化金属ホウ素とから得ら
れる還元剤で処理することによる、一般式（II）： 【化２】 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ3 は前記と同じ。）で示され
るアミン類の製造法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はアミン類の製造法に
関する。さらに詳しくは、置換アミド類を還元すること
によりアミン類を製造する方法に関する。
関する。さらに詳しくは、置換アミド類を還元すること
によりアミン類を製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】アミン類は、医薬、農薬等の中間体とし
て有用であり、従来は一般式（Ｉ）で示される置換アミ
ド類から水素化アルミニウムリチウムで還元することに
より（H. C. Brown and N. M. Yoon, J. Am. Chem. S
oc., 88, 1464 (1966)、A. C. Cope and E. Ciganek,
Organic Syntheses, Coll. Vol. IV p339 (1963) 、
R. B. Moffett, Organic Syntheses, Coll. Vol. IV p3
54 (1963))、あるいはボランで還元することにより（
H. C. Brown and P. Heim, J. Org. Chem., 38,912 (19
73)、R. D. Schuctz, G. P. Nieles, and R. L. Titus,
J. Org. Chem.,33, 1556 (1968)、H. C. Murray, L.
M. Reineke, and Tonken, J. Org. Chem.33, 3207 (196
8)）製造されてきた。しかしこれらの方法では還元剤の
取り扱い及び保管に注意を要し、また希薄溶液で反応が
行われるため容積効率が悪く、工業的に有利な方法とは
いえない。
て有用であり、従来は一般式（Ｉ）で示される置換アミ
ド類から水素化アルミニウムリチウムで還元することに
より（H. C. Brown and N. M. Yoon, J. Am. Chem. S
oc., 88, 1464 (1966)、A. C. Cope and E. Ciganek,
Organic Syntheses, Coll. Vol. IV p339 (1963) 、
R. B. Moffett, Organic Syntheses, Coll. Vol. IV p3
54 (1963))、あるいはボランで還元することにより（
H. C. Brown and P. Heim, J. Org. Chem., 38,912 (19
73)、R. D. Schuctz, G. P. Nieles, and R. L. Titus,
J. Org. Chem.,33, 1556 (1968)、H. C. Murray, L.
M. Reineke, and Tonken, J. Org. Chem.33, 3207 (196
8)）製造されてきた。しかしこれらの方法では還元剤の
取り扱い及び保管に注意を要し、また希薄溶液で反応が
行われるため容積効率が悪く、工業的に有利な方法とは
いえない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記従来技
術に鑑みてなされたものであり、アミン類を工業的に有
利に製造し得る方法を提供する方法を目的とする。
術に鑑みてなされたものであり、アミン類を工業的に有
利に製造し得る方法を提供する方法を目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の状
況に鑑み、置換アミド類の還元方法について鋭意研究し
たところ、置換アミド類を水素化ホウ素ナトリウムと硫
酸とから得られる還元剤で処理することにより簡便かつ
容易に、そして高容積効率で目的のアミン類を製造する
ことができることを見いだした。本発明はかかる事実に
基づき、さらに研究を進めて完成するに至ったものであ
る。
況に鑑み、置換アミド類の還元方法について鋭意研究し
たところ、置換アミド類を水素化ホウ素ナトリウムと硫
酸とから得られる還元剤で処理することにより簡便かつ
容易に、そして高容積効率で目的のアミン類を製造する
ことができることを見いだした。本発明はかかる事実に
基づき、さらに研究を進めて完成するに至ったものであ
る。
【０００５】即ち、本発明の要旨は、（１） 一般式
（Ｉ）：
（Ｉ）：
【０００６】
【化３】
【０００７】（式中、Ｒ1 、Ｒ2 又はＲ3 は、同一でも
異なっていてもよく、それぞれ水素原子、本反応条件下
で安定な置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の直
鎖もしくは分岐の、又は環状のアルキル基、本反応条件
下で安定な置換基を有していてもよい炭素数６〜１８の
アリール基、本反応条件下で安定な置換基を有していて
もよい原子数３〜２２の複素環基、又は本反応条件下で
安定な置換基を有していてもよい炭素数７〜２０のアラ
ルキル基を表す。またＲ1 とＲ2 は一緒になって環を形
成していてもよく、かつ本反応条件下で安定な置換基を
有していてもよい。ただし、Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ3 がすべ
て水素原子である場合を除く。）で示される置換アミド
類を硫酸と水素化金属ホウ素とから得られる還元剤で処
理することによる、一般式（II）：
異なっていてもよく、それぞれ水素原子、本反応条件下
で安定な置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の直
鎖もしくは分岐の、又は環状のアルキル基、本反応条件
下で安定な置換基を有していてもよい炭素数６〜１８の
アリール基、本反応条件下で安定な置換基を有していて
もよい原子数３〜２２の複素環基、又は本反応条件下で
安定な置換基を有していてもよい炭素数７〜２０のアラ
ルキル基を表す。またＲ1 とＲ2 は一緒になって環を形
成していてもよく、かつ本反応条件下で安定な置換基を
有していてもよい。ただし、Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ3 がすべ
て水素原子である場合を除く。）で示される置換アミド
類を硫酸と水素化金属ホウ素とから得られる還元剤で処
理することによる、一般式（II）：
【０００８】
【化４】
【０００９】（式中、Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ3 は一般式
（Ｉ) におけるＲ1 、Ｒ2 及びＲ3 とそれぞれ同一の意
義を表す。）で示されるアミン類の製造法、（２） 有
機溶媒の存在下又は非存在下に一般式（Ｉ) で示される
置換アミド類と水素化金属ホウ素の混合物中に硫酸を添
加することを特徴とする前記（１）記載の製造法、
（３） 水素化金属ホウ素が水素化ホウ素ナトリウムで
あること特徴とする前記（１）又は（２）記載の製造
法、（４） 還元剤で処理するときに使用する有機溶媒
の量が一般式（Ｉ) で示される置換アミド類の１〜５重
量倍であることを特徴とする前記（２）または（３）記
載の製造法、（５） 還元剤で処理するときに使用する
有機溶媒が、テトラヒドロフランであることを特徴とす
る前記（２）〜（４）いずれか１項に記載の製造法、並
びに（６） 一般式（Ｉ）で示される置換アミド類のＲ
1 が水素原子であることを特徴とする前記（１）〜
（５）いずれか１項に記載の製造法に関する。
（Ｉ) におけるＲ1 、Ｒ2 及びＲ3 とそれぞれ同一の意
義を表す。）で示されるアミン類の製造法、（２） 有
機溶媒の存在下又は非存在下に一般式（Ｉ) で示される
置換アミド類と水素化金属ホウ素の混合物中に硫酸を添
加することを特徴とする前記（１）記載の製造法、
（３） 水素化金属ホウ素が水素化ホウ素ナトリウムで
あること特徴とする前記（１）又は（２）記載の製造
法、（４） 還元剤で処理するときに使用する有機溶媒
の量が一般式（Ｉ) で示される置換アミド類の１〜５重
量倍であることを特徴とする前記（２）または（３）記
載の製造法、（５） 還元剤で処理するときに使用する
有機溶媒が、テトラヒドロフランであることを特徴とす
る前記（２）〜（４）いずれか１項に記載の製造法、並
びに（６） 一般式（Ｉ）で示される置換アミド類のＲ
1 が水素原子であることを特徴とする前記（１）〜
（５）いずれか１項に記載の製造法に関する。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下に本発明について説明する。
本発明に使用される原料化合物は、一般式（Ｉ）で示さ
れる置換アミド類である。一般式（Ｉ）中のＲ1 、Ｒ2
又はＲ3 は、同一でも異なっていてもよく、それぞれ水
素原子、本反応条件下で安定な置換基を有していてもよ
い炭素数１〜２０の直鎖もしくは分岐の、又は環状のア
ルキル基、本反応条件下で安定な置換基を有していても
よい炭素数６〜１８のアリール基、本反応条件下で安定
な置換基を有していてもよい原子数３〜２２の複素環
基、又は本反応条件下で安定な置換基を有していてもよ
い炭素数７〜２０のアラルキル基を表す。またＲ1 とＲ
2 は一緒になって環を形成していてもよく、かつ本反応
条件下で安定な置換基を有していてもよい。ただし、Ｒ
1 、Ｒ2 及びＲ3 がすべて水素原子である場合を除く。
本発明に使用される原料化合物は、一般式（Ｉ）で示さ
れる置換アミド類である。一般式（Ｉ）中のＲ1 、Ｒ2
又はＲ3 は、同一でも異なっていてもよく、それぞれ水
素原子、本反応条件下で安定な置換基を有していてもよ
い炭素数１〜２０の直鎖もしくは分岐の、又は環状のア
ルキル基、本反応条件下で安定な置換基を有していても
よい炭素数６〜１８のアリール基、本反応条件下で安定
な置換基を有していてもよい原子数３〜２２の複素環
基、又は本反応条件下で安定な置換基を有していてもよ
い炭素数７〜２０のアラルキル基を表す。またＲ1 とＲ
2 は一緒になって環を形成していてもよく、かつ本反応
条件下で安定な置換基を有していてもよい。ただし、Ｒ
1 、Ｒ2 及びＲ3 がすべて水素原子である場合を除く。
【００１１】炭素数１〜２０のアルキル基としては、メ
チル基、エチル基、プロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒ
ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、
ノニル基、カプリル基、ラウリル基、パルミチル基、ス
テアリル基等が例示できる。炭素数６〜１８のアリール
基としては、フェニル基、ナフチル基等が例示できる。
原子数３〜２２の複素環基としては、アジリジル基、フ
リル基、チェニル基、ピロリル基、ピリジル基、キノリ
ル基、ベンゾフリル基、オキサゾリル基、チアゾリル
基、イミダゾリル基、ピラジル基、ピリミジル基、キナ
ゾリニル基、プリニル基等が挙げられる。炭素数７〜２
０のアラルキル基としては、ベンジル基、フェニルエチ
ル基、フェニルプロピル基、フェニルブチル基、フェニ
ルペンチル基、フェニルヘキシル基等が例示できる。ま
たＲ1 とＲ2 は一緒になって環を形成していてもよい
が、一緒になったＲ1とＲ2 としては、不飽和結合を有
していてもよく、あるいは複素原子を有していてもよい
原子数２〜１５の二価の基であって、本反応条件下で安
定な置換基を有してもよく、また芳香環と縮合していて
もよい。例えば、かかる二価の基としてはエチレン基、
トリメチレン基、テトラメチレン基、エチルエチレン
基、プロペニレン基等が挙げられる。なお、Ｒ1 は水素
原子であることが好ましい。
チル基、エチル基、プロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒ
ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、
ノニル基、カプリル基、ラウリル基、パルミチル基、ス
テアリル基等が例示できる。炭素数６〜１８のアリール
基としては、フェニル基、ナフチル基等が例示できる。
原子数３〜２２の複素環基としては、アジリジル基、フ
リル基、チェニル基、ピロリル基、ピリジル基、キノリ
ル基、ベンゾフリル基、オキサゾリル基、チアゾリル
基、イミダゾリル基、ピラジル基、ピリミジル基、キナ
ゾリニル基、プリニル基等が挙げられる。炭素数７〜２
０のアラルキル基としては、ベンジル基、フェニルエチ
ル基、フェニルプロピル基、フェニルブチル基、フェニ
ルペンチル基、フェニルヘキシル基等が例示できる。ま
たＲ1 とＲ2 は一緒になって環を形成していてもよい
が、一緒になったＲ1とＲ2 としては、不飽和結合を有
していてもよく、あるいは複素原子を有していてもよい
原子数２〜１５の二価の基であって、本反応条件下で安
定な置換基を有してもよく、また芳香環と縮合していて
もよい。例えば、かかる二価の基としてはエチレン基、
トリメチレン基、テトラメチレン基、エチルエチレン
基、プロペニレン基等が挙げられる。なお、Ｒ1 は水素
原子であることが好ましい。
【００１２】本反応条件下で安定な置換基としては、メ
チル基、エチル基、イソプロピル基等の直鎖又は分岐の
アルキル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、
ブロモメチル基等の置換アルキル基、メトキシ基、エト
キシ基等のアルコキシ基、置換基を有していてもよいフ
ェニル基、置換基を有していてもよい含窒素複素環基、
フッ素原子、クロル原子、ブロム原子等のハロゲン原
子、アミノ基、水酸基、チオール基、アルキル置換チオ
ール基、ニトロ基等が例示できる。
チル基、エチル基、イソプロピル基等の直鎖又は分岐の
アルキル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、
ブロモメチル基等の置換アルキル基、メトキシ基、エト
キシ基等のアルコキシ基、置換基を有していてもよいフ
ェニル基、置換基を有していてもよい含窒素複素環基、
フッ素原子、クロル原子、ブロム原子等のハロゲン原
子、アミノ基、水酸基、チオール基、アルキル置換チオ
ール基、ニトロ基等が例示できる。
【００１３】一般式（Ｉ）で示される置換アミド類の具
体例としては、例えば、アセトアニリド、プロピオンア
ニリド、アセトアミド、ヘキサンアミド、オクタンアミ
ド、４−メチルペンタンアミド、４−（２−ピリジル）
ペンタンアミド、４−クロロペンタンアミド、Ｎ−メチ
ルアセトアミド、Ｎ−メチルヘキサンアミド、Ｎ−メチ
ルオクタンアミド、Ｎ−メチルペンタンアミド、Ｎ−メ
チル−４−（２−ピリジル）ペンタンアミド、Ｎ−メチ
ル−４−クロロペンタンアミド、Ｎ−エチル，Ｎ−シク
ロヘキシルアセトアミド、Ｎ−エチル，Ｎ−シクロヘキ
シルヘキサンアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルオクタンアミ
ド、Ｎ−エチル，Ｎ−（２−ピリジル）ペンチルペンタ
ンアミド、Ｎ−エチル，Ｎ−（４−クロロペンチル）ペ
ンタンアミド、ベンズアミド、Ｎ−メチルベンズアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンズアミド、Ｎ−ベンジルベン
ズアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルプロピオンアミド、α−ア
セチルアミノナフタレン、β−アセチルアミノナフタレ
ン、１−アセチルアミノ−４−ブロモナフタレン、Ｎ−
（α−メチル−ベンジル）−３−フェニルプロピオンア
ミド、Ｎ−（α−メチル−ベンジル）−３−（２−クロ
ロフェニル）プロピオンアミド、Ｎ−（α−メチル−ベ
ンジル）−３−フェニルブチルアミド、Ｎ−（α−メチ
ル−ベンジル）−３−フェニルヘキサンアミド、Ｎ−
（α−メチル−３−メトキシベンジル）−３−フェニル
プロピオンアミド、Ｎ−（α−メチル−３−メトキシベ
ンジル）−３−（２−クロロフェニル）プロピオンアミ
ド、Ｎ−（α−メチル−ベンジル）−ニコチンアミド、
２−メトキシ−７−アセチルアミノテトラリン、Ｎ−
（α−（３，４−ジメトキシベンジル）−エチル）ベン
ズアミド、フェニルアセトアミド、Ｎ−メチルフェニル
アセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルフェニルアセトアミ
ド、Ｎ−（２−ピリジル），Ｎ−メチルフェニルアセト
アミド、Ｎ−ピラジル，Ｎ−メチルフェニルアセトアミ
ド、Ｎ−インドリイジイニル，Ｎ−メチルフェニルアセ
トアミド、Ｎ−（３−フリル），Ｎ−メチルフェニルア
セトアミド、Ｎ−（２−チェニル），Ｎ−メチルフェニ
ルアセトアミド、Ｎ−（２−ピイロリル），Ｎ−メチル
フェニルアセトアミド、ニコチンアミド、Ｎ，Ｎ−ジエ
チル−２−フラアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−メチル−８−
キノリンカルボキサミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−２−ピロ
ールカルボキサミド、１−アセチル−１，２，３，４−
テトラヒドロキノリン、１−アセチル−ピロリジン、１
−アセチル−イミダゾリジン、１−アセチルアミノアク
リジン、２−ベンズアミドキノリン、２−（アセチルメ
チルアミノ）ジベンゾフラン、３−シクロヘキサンカル
ボキシアミドジベンゾフラン等を例示できる。
体例としては、例えば、アセトアニリド、プロピオンア
ニリド、アセトアミド、ヘキサンアミド、オクタンアミ
ド、４−メチルペンタンアミド、４−（２−ピリジル）
ペンタンアミド、４−クロロペンタンアミド、Ｎ−メチ
ルアセトアミド、Ｎ−メチルヘキサンアミド、Ｎ−メチ
ルオクタンアミド、Ｎ−メチルペンタンアミド、Ｎ−メ
チル−４−（２−ピリジル）ペンタンアミド、Ｎ−メチ
ル−４−クロロペンタンアミド、Ｎ−エチル，Ｎ−シク
ロヘキシルアセトアミド、Ｎ−エチル，Ｎ−シクロヘキ
シルヘキサンアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルオクタンアミ
ド、Ｎ−エチル，Ｎ−（２−ピリジル）ペンチルペンタ
ンアミド、Ｎ−エチル，Ｎ−（４−クロロペンチル）ペ
ンタンアミド、ベンズアミド、Ｎ−メチルベンズアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンズアミド、Ｎ−ベンジルベン
ズアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルプロピオンアミド、α−ア
セチルアミノナフタレン、β−アセチルアミノナフタレ
ン、１−アセチルアミノ−４−ブロモナフタレン、Ｎ−
（α−メチル−ベンジル）−３−フェニルプロピオンア
ミド、Ｎ−（α−メチル−ベンジル）−３−（２−クロ
ロフェニル）プロピオンアミド、Ｎ−（α−メチル−ベ
ンジル）−３−フェニルブチルアミド、Ｎ−（α−メチ
ル−ベンジル）−３−フェニルヘキサンアミド、Ｎ−
（α−メチル−３−メトキシベンジル）−３−フェニル
プロピオンアミド、Ｎ−（α−メチル−３−メトキシベ
ンジル）−３−（２−クロロフェニル）プロピオンアミ
ド、Ｎ−（α−メチル−ベンジル）−ニコチンアミド、
２−メトキシ−７−アセチルアミノテトラリン、Ｎ−
（α−（３，４−ジメトキシベンジル）−エチル）ベン
ズアミド、フェニルアセトアミド、Ｎ−メチルフェニル
アセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルフェニルアセトアミ
ド、Ｎ−（２−ピリジル），Ｎ−メチルフェニルアセト
アミド、Ｎ−ピラジル，Ｎ−メチルフェニルアセトアミ
ド、Ｎ−インドリイジイニル，Ｎ−メチルフェニルアセ
トアミド、Ｎ−（３−フリル），Ｎ−メチルフェニルア
セトアミド、Ｎ−（２−チェニル），Ｎ−メチルフェニ
ルアセトアミド、Ｎ−（２−ピイロリル），Ｎ−メチル
フェニルアセトアミド、ニコチンアミド、Ｎ，Ｎ−ジエ
チル−２−フラアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−メチル−８−
キノリンカルボキサミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−２−ピロ
ールカルボキサミド、１−アセチル−１，２，３，４−
テトラヒドロキノリン、１−アセチル−ピロリジン、１
−アセチル−イミダゾリジン、１−アセチルアミノアク
リジン、２−ベンズアミドキノリン、２−（アセチルメ
チルアミノ）ジベンゾフラン、３−シクロヘキサンカル
ボキシアミドジベンゾフラン等を例示できる。
【００１４】本発明の反応は、原料化合物である置換ア
ミド類を水素化金属ホウ素と硫酸とから得られる還元剤
で処理することにより行われる。
ミド類を水素化金属ホウ素と硫酸とから得られる還元剤
で処理することにより行われる。
【００１５】本発明に用いられる水素化金属ホウ素とし
ては、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素亜鉛、水
素化ホウ素カリウム、シアン化水素化ホウ素ナトリウ
ム、水素化ホウ素リチウム、水素化二ホウ素ナトリウム
等が挙げられるが、水素化ホウ素ナトリウムが特に好ま
しい。水素化金属ホウ素の使用量は、原料化合物である
一般式（Ｉ）の置換アミド類の１〜５モル倍、好ましく
は１．５〜３モル倍であることが望ましい。アミド基以
外に、チオール基、水酸基、アミノ基、窒素原子を含む
複素環基を含む場合は、チオール基、水酸基、アミノ基
に対して等モル、窒素原子を含む複素環基に対しては該
窒素原子と等モルの水素化金属ホウ素を増量することが
好ましい。
ては、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素亜鉛、水
素化ホウ素カリウム、シアン化水素化ホウ素ナトリウ
ム、水素化ホウ素リチウム、水素化二ホウ素ナトリウム
等が挙げられるが、水素化ホウ素ナトリウムが特に好ま
しい。水素化金属ホウ素の使用量は、原料化合物である
一般式（Ｉ）の置換アミド類の１〜５モル倍、好ましく
は１．５〜３モル倍であることが望ましい。アミド基以
外に、チオール基、水酸基、アミノ基、窒素原子を含む
複素環基を含む場合は、チオール基、水酸基、アミノ基
に対して等モル、窒素原子を含む複素環基に対しては該
窒素原子と等モルの水素化金属ホウ素を増量することが
好ましい。
【００１６】本発明に用いられる硫酸の使用量は、水素
化金属ホウ素と本発明の還元剤を形成するのに必要な量
を超える部分は前記還元剤を分解するので、通常水素化
金属ホウ素の０．５モル倍またはそれ以下であることが
好ましい。
化金属ホウ素と本発明の還元剤を形成するのに必要な量
を超える部分は前記還元剤を分解するので、通常水素化
金属ホウ素の０．５モル倍またはそれ以下であることが
好ましい。
【００１７】本発明の反応は、有機溶媒の存在又は非存
在下に、水素化金属ホウ素と原料化合物である一般式
（Ｉ）の置換アミド類との混合物中に硫酸を添加するこ
とにより反応させることが好ましい。これは、この方法
をとることにより、反応が逐次的に進行し、従来法と比
較して高容積効率でアミン類を製造することができるた
めである。還元剤で処理するときに使用する有機溶媒と
しては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジオキソラ
ン等が使用できるが、テトラヒドロフランが特に好まし
い。また、これらの溶媒とハロゲン化炭化水素、芳香族
炭化水素、脂肪族炭化水素等の溶媒との混合溶媒も使用
できる。また、有機溶媒の使用量は、原料化合物である
一般式（Ｉ）の置換アミド類の１〜５重量倍が好まし
い。有機溶媒を大量に使用すると、容積効率が低下する
からである。
在下に、水素化金属ホウ素と原料化合物である一般式
（Ｉ）の置換アミド類との混合物中に硫酸を添加するこ
とにより反応させることが好ましい。これは、この方法
をとることにより、反応が逐次的に進行し、従来法と比
較して高容積効率でアミン類を製造することができるた
めである。還元剤で処理するときに使用する有機溶媒と
しては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジオキソラ
ン等が使用できるが、テトラヒドロフランが特に好まし
い。また、これらの溶媒とハロゲン化炭化水素、芳香族
炭化水素、脂肪族炭化水素等の溶媒との混合溶媒も使用
できる。また、有機溶媒の使用量は、原料化合物である
一般式（Ｉ）の置換アミド類の１〜５重量倍が好まし
い。有機溶媒を大量に使用すると、容積効率が低下する
からである。
【００１８】一般式（Ｉ）で示される置換アミド類を硫
酸と水素化金属ホウ素とから得られる還元剤で処理する
際の温度は、通常０〜７０℃、好ましくは４０〜６０
℃、さらに好ましくは５０〜５５℃である。反応時間
は、反応温度等にもよるが、通常硫酸を滴下した後１〜
１０時間、好ましくは１〜４時間である。
酸と水素化金属ホウ素とから得られる還元剤で処理する
際の温度は、通常０〜７０℃、好ましくは４０〜６０
℃、さらに好ましくは５０〜５５℃である。反応時間
は、反応温度等にもよるが、通常硫酸を滴下した後１〜
１０時間、好ましくは１〜４時間である。
【００１９】反応終了後、反応液から目的のアミン類を
回収するには、通常の方法が適用できる。例えば、反応
終了後、反応液に希塩酸を添加して過剰の還元剤を分解
し、室温まで冷却した後水酸化ナトリウム水溶液で中和
し、トルエン等の有機溶媒で目的の生成物を抽出する。
ついで水洗・乾燥した後溶媒を留去して、目的のアミン
類を得ることができる。
回収するには、通常の方法が適用できる。例えば、反応
終了後、反応液に希塩酸を添加して過剰の還元剤を分解
し、室温まで冷却した後水酸化ナトリウム水溶液で中和
し、トルエン等の有機溶媒で目的の生成物を抽出する。
ついで水洗・乾燥した後溶媒を留去して、目的のアミン
類を得ることができる。
【００２０】本発明の製造法で得られる一般式（II）で
示されるアミン類としては、具体的には、例えば、Ｎ−
エチルアニリン、Ｎ−プロピルアニリン、エチルアミ
ン、ヘキシルアミン、オクチルアミン、４−メチルペン
チルアミン、４−（２−ピリジル）ペンチルアミン、４
−クロロペンチルアミン、Ｎ−メチルエチルアミン、Ｎ
−メチルヘキシルアミン、Ｎ−メチルオクチルアミン、
Ｎ−メチルペンチルアミン、Ｎ−メチル−４−（２−ピ
リジル）ペンチルアミン、Ｎ−メチル−４−クロロペン
チルアミン、Ｎ−エチル，Ｎ−シクロヘキシルエチルア
ミン、Ｎ−エチル，Ｎ−シクロヘキシルヘキシルアミ
ン、Ｎ，Ｎ−ジエチルオクチルアミン、Ｎ−エチル，Ｎ
−（２−ピリジル）ペンチルペンチルアミン、Ｎ−エチ
ル，Ｎ−（２−クロロペンチル）ペンチルアミン、ベン
ジルアミン、Ｎ−メチルベンジルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルベンジルアミン、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミン、Ｎ，
Ｎ−ジメチルプロピルアミン、α−（Ｎ−エチル）アミ
ノナフタレン、β−（Ｎ−エチル）アミノナフタレン、
１−（Ｎ−エチル）−４−ブロモアミノナフタレン、Ｎ
−（α−メチル−ベンジル）−３−フェニルプロピルア
ミン、Ｎ−（α−メチル−ベンジル）−３−（２−クロ
ロフェニル）プロピルアミン、Ｎ−（α−メチル−ベン
ジル）−３−フェニルブチルアミン、Ｎ−（α−メチル
−ベンジル）−３−フェニルヘキシルアミン、Ｎ−（α
−メチル−３−メトキシベンジル）−３−フェニルプロ
ピルアミン、Ｎ−（α−メチル−３−メトキシベンジ
ル）−３−（２−クロロフェニル）−１−プロピルアミ
ン、Ｎ−（α−メチルベンジル）−ニコチニルアミン、
Ｎ−エチル−２−メトキシテトラミン、Ｎ−（α−
（３，４−ジメトキシベンジル）−エチル）ベンジルア
ミン、フェニルエチルアミン、Ｎ−メチルフェニルエチ
ルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルフェニルエチルアミン、Ｎ
−（２−ピリジル），Ｎ−メチルフェニルエチルアミ
ン、Ｎ−ピラジル，Ｎ−メチルフェニルエチルアミン、
Ｎ−インドイジイニル，Ｎ−メチルフェニルエチルアミ
ン、Ｎ−（３−フリル），Ｎ−メチルフェニルエチルア
ミン、Ｎ−（２−チェニル），Ｎ−メチルフェニルエチ
ルアミン、Ｎ−（２−ピイロリル），Ｎ−メチルフェニ
ルエチルアミン、３−ピリジルメチルアミン、Ｎ，Ｎ−
ジエチルフリルメチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチル−２−
アミノメチルフラン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−２−アミノメ
チルピロール、Ｎ−エチル−Ｎ−メチル−８−アミノメ
チルキノリン、Ｎ−エチル−１，２，３，４−テトラヒ
ドロキノリン、Ｎ−エチル−ピロリジン、Ｎ−エチル−
イミダゾリジン、Ｎ−エチル−１−アミノアクリジン、
Ｎ−ベンジル−２−アミノキノリン、Ｎ−エチル，Ｎ−
メチル−３−ジベンゾフラン、Ｎ−シクロヘキシルメチ
ル−３−ジベンゾフラン等を例示できる。
示されるアミン類としては、具体的には、例えば、Ｎ−
エチルアニリン、Ｎ−プロピルアニリン、エチルアミ
ン、ヘキシルアミン、オクチルアミン、４−メチルペン
チルアミン、４−（２−ピリジル）ペンチルアミン、４
−クロロペンチルアミン、Ｎ−メチルエチルアミン、Ｎ
−メチルヘキシルアミン、Ｎ−メチルオクチルアミン、
Ｎ−メチルペンチルアミン、Ｎ−メチル−４−（２−ピ
リジル）ペンチルアミン、Ｎ−メチル−４−クロロペン
チルアミン、Ｎ−エチル，Ｎ−シクロヘキシルエチルア
ミン、Ｎ−エチル，Ｎ−シクロヘキシルヘキシルアミ
ン、Ｎ，Ｎ−ジエチルオクチルアミン、Ｎ−エチル，Ｎ
−（２−ピリジル）ペンチルペンチルアミン、Ｎ−エチ
ル，Ｎ−（２−クロロペンチル）ペンチルアミン、ベン
ジルアミン、Ｎ−メチルベンジルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルベンジルアミン、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミン、Ｎ，
Ｎ−ジメチルプロピルアミン、α−（Ｎ−エチル）アミ
ノナフタレン、β−（Ｎ−エチル）アミノナフタレン、
１−（Ｎ−エチル）−４−ブロモアミノナフタレン、Ｎ
−（α−メチル−ベンジル）−３−フェニルプロピルア
ミン、Ｎ−（α−メチル−ベンジル）−３−（２−クロ
ロフェニル）プロピルアミン、Ｎ−（α−メチル−ベン
ジル）−３−フェニルブチルアミン、Ｎ−（α−メチル
−ベンジル）−３−フェニルヘキシルアミン、Ｎ−（α
−メチル−３−メトキシベンジル）−３−フェニルプロ
ピルアミン、Ｎ−（α−メチル−３−メトキシベンジ
ル）−３−（２−クロロフェニル）−１−プロピルアミ
ン、Ｎ−（α−メチルベンジル）−ニコチニルアミン、
Ｎ−エチル−２−メトキシテトラミン、Ｎ−（α−
（３，４−ジメトキシベンジル）−エチル）ベンジルア
ミン、フェニルエチルアミン、Ｎ−メチルフェニルエチ
ルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルフェニルエチルアミン、Ｎ
−（２−ピリジル），Ｎ−メチルフェニルエチルアミ
ン、Ｎ−ピラジル，Ｎ−メチルフェニルエチルアミン、
Ｎ−インドイジイニル，Ｎ−メチルフェニルエチルアミ
ン、Ｎ−（３−フリル），Ｎ−メチルフェニルエチルア
ミン、Ｎ−（２−チェニル），Ｎ−メチルフェニルエチ
ルアミン、Ｎ−（２−ピイロリル），Ｎ−メチルフェニ
ルエチルアミン、３−ピリジルメチルアミン、Ｎ，Ｎ−
ジエチルフリルメチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチル−２−
アミノメチルフラン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−２−アミノメ
チルピロール、Ｎ−エチル−Ｎ−メチル−８−アミノメ
チルキノリン、Ｎ−エチル−１，２，３，４−テトラヒ
ドロキノリン、Ｎ−エチル−ピロリジン、Ｎ−エチル−
イミダゾリジン、Ｎ−エチル−１−アミノアクリジン、
Ｎ−ベンジル−２−アミノキノリン、Ｎ−エチル，Ｎ−
メチル−３−ジベンゾフラン、Ｎ−シクロヘキシルメチ
ル−３−ジベンゾフラン等を例示できる。
【００２１】本発明の製造法によって得られるアミン類
は医薬、農薬等の中間体として有用である。
は医薬、農薬等の中間体として有用である。
【００２２】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳しく説
明するが、本発明はかかる実施例によりなんら限定され
るものではない。
明するが、本発明はかかる実施例によりなんら限定され
るものではない。
【００２３】実施例１ 温度計、攪拌機、コンデンサーを取り付けた５００ｍｌ
の四つ口フラスコに、水素化ホウ素ナトリウム７．１４
ｇ（１８９ミリモル）、（Ｒ）−Ｎ−（α−メチル−３
−メトキシベンジル）−３−（２−クロロフェニル）−
１−プロピオンアミド２０ｇ（６２．９ミリモル）及び
テトラヒドロフラン６０ｇを仕込み、フラスコ系内を窒
素で置換し、以後コンデンサー上部より反応中は窒素シ
ールを実施した。５５〜６０℃に昇温後、硫酸９．２６
ｇ（９４．４ミリモル）のテトラヒドロフラン溶液４０
ｇを３．５時間かけて滴下し、同温度で１時間保温し
た。
の四つ口フラスコに、水素化ホウ素ナトリウム７．１４
ｇ（１８９ミリモル）、（Ｒ）−Ｎ−（α−メチル−３
−メトキシベンジル）−３−（２−クロロフェニル）−
１−プロピオンアミド２０ｇ（６２．９ミリモル）及び
テトラヒドロフラン６０ｇを仕込み、フラスコ系内を窒
素で置換し、以後コンデンサー上部より反応中は窒素シ
ールを実施した。５５〜６０℃に昇温後、硫酸９．２６
ｇ（９４．４ミリモル）のテトラヒドロフラン溶液４０
ｇを３．５時間かけて滴下し、同温度で１時間保温し
た。
【００２４】５℃にまで冷却した後、水５１ｇおよび３
５重量％塩酸水溶液１２．８ｇを初期の発泡に注意しな
がら滴下した。還流下で２時間攪拌後、濃縮し、この混
合物に水９６ｇ、トルエン９６ｇおよび２８％水酸化ナ
トリウム水溶液３８．２ｇを加えて攪拌、静置した後、
トルエン層を分液した。ついで水３８．２ｇで洗浄し、
硫酸マグネシウムで乾燥した後濾過し、濃縮して（Ｒ）
−Ｎ−（α−メチル−３−メトキシベンジル）−３−
（２−クロロフェニル）−１−プロピルアミン１９ｇを
得た（収率９９％）。
５重量％塩酸水溶液１２．８ｇを初期の発泡に注意しな
がら滴下した。還流下で２時間攪拌後、濃縮し、この混
合物に水９６ｇ、トルエン９６ｇおよび２８％水酸化ナ
トリウム水溶液３８．２ｇを加えて攪拌、静置した後、
トルエン層を分液した。ついで水３８．２ｇで洗浄し、
硫酸マグネシウムで乾燥した後濾過し、濃縮して（Ｒ）
−Ｎ−（α−メチル−３−メトキシベンジル）−３−
（２−クロロフェニル）−１−プロピルアミン１９ｇを
得た（収率９９％）。
【００２５】物性値は、以下のとおりであった。 1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，２７０．０５ＭＨｚ） δ（ｐｐｍ）：１．８６（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ） ２．２３（ｔｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．７Ｈｚ、７．７Ｈｚ） ２．６７（ｍ，４Ｈ） ３．８７（ｓ，３Ｈ） ４．１５（ｂｒ ｄ，１Ｈ） ６．８９−７．６５（ｍ，８Ｈ） ９．８３（ｂｒ ｓ，１Ｈ） １０．２４（ｂｒ ｓ，１Ｈ）
【００２６】以上の結果より、１施例の方法によれば、
簡便かつ高収率で工業的に有利にアミン類を製造するこ
とができることがわる。
簡便かつ高収率で工業的に有利にアミン類を製造するこ
とができることがわる。
【００２７】
【発明の効果】本発明の製造法により、置換アミド類よ
りアミン類を簡便かつ高収率で工業的に有利に製造する
ことができるという効果が奏される。
りアミン類を簡便かつ高収率で工業的に有利に製造する
ことができるという効果が奏される。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０７Ｃ 211/26 Ｃ０７Ｃ 211/26 211/33 211/33 211/43 211/43 (72)発明者 米谷 徳郎 大阪市西淀川区歌島３丁目１番21号 住化 ファインケム株式会社総合研究所内
Claims (6)
- 【請求項１】 一般式（Ｉ）： 【化１】 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 又はＲ3 は、同一でも異なっていて
もよく、それぞれ水素原子、本反応条件下で安定な置換
基を有していてもよい炭素数１〜２０の直鎖もしくは分
岐の、又は環状のアルキル基、本反応条件下で安定な置
換基を有していてもよい炭素数６〜１８のアリール基、
本反応条件下で安定な置換基を有していてもよい原子数
３〜２２の複素環基、又は本反応条件下で安定な置換基
を有していてもよい炭素数７〜２０のアラルキル基を表
す。またＲ1 とＲ2 は一緒になって環を形成していても
よく、かつ本反応条件下で安定な置換基を有していても
よい。ただし、Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ3 がすべて水素原子で
ある場合を除く。）で示される置換アミド類を硫酸と水
素化金属ホウ素とから得られる還元剤で処理することに
よる、一般式（II）： 【化２】 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ3 は一般式（Ｉ) におけるＲ
1 、Ｒ2 及びＲ3 とそれぞれ同一の意義を表す。）で示
されるアミン類の製造法。 - 【請求項２】 有機溶媒の存在下又は非存在下に一般式
（Ｉ) で示される置換アミド類と水素化金属ホウ素の混
合物中に硫酸を添加することを特徴とする請求項１記載
の製造法。 - 【請求項３】 水素化金属ホウ素が水素化ホウ素ナトリ
ウムであること特徴とする請求項１又は２記載の製造
法。 - 【請求項４】 還元剤で処理するときに使用する有機溶
媒の量が一般式（Ｉ) で示される置換アミド類の１〜５
重量倍であることを特徴とする請求項２または３記載の
製造法。 - 【請求項５】 還元剤で処理するときに使用する有機溶
媒が、テトラヒドロフランであることを特徴とする請求
項２〜４いずれか１項に記載の製造法。 - 【請求項６】 一般式（Ｉ）で示される置換アミド類の
Ｒ1 が水素原子であることを特徴とする請求項１〜５い
ずれか１項に記載の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5976897A JPH10237027A (ja) | 1997-02-26 | 1997-02-26 | アミン類の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5976897A JPH10237027A (ja) | 1997-02-26 | 1997-02-26 | アミン類の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10237027A true JPH10237027A (ja) | 1998-09-08 |
Family
ID=13122801
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5976897A Pending JPH10237027A (ja) | 1997-02-26 | 1997-02-26 | アミン類の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10237027A (ja) |
-
1997
- 1997-02-26 JP JP5976897A patent/JPH10237027A/ja active Pending
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