JPH10235640A - 成形用材料の製造方法 - Google Patents

成形用材料の製造方法

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JPH10235640A
JPH10235640A JP9357266A JP35726697A JPH10235640A JP H10235640 A JPH10235640 A JP H10235640A JP 9357266 A JP9357266 A JP 9357266A JP 35726697 A JP35726697 A JP 35726697A JP H10235640 A JPH10235640 A JP H10235640A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】成形材料として好適な結晶化度の高いSPSペ
レットを安定的にかつ煩雑な操作によることなく効率的
に製造する方法を提供する。 【解決手段】主としてシンジオタクチック構造を有する
スチレン系重合体又はそれを含有する組成物であって、
スチレン系重合体又はそれを含有する組成物を溶融押出
して得られるストランドをその表面温度が該ストランド
を構成するスチレン系重合体又はそれを含有する組成物
の融点以下となるまで急冷し、その後該ストランドの表
面温度がそのガラス転移温度から20℃高い温度以下と
なるまで徐冷し、その後該ストランドをペレットとする
する成形用材料の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は成形用材料の製造方
法に関し、更に詳しくは主としてシンジオタクチック構
造を有するスチレン系重合体又はそれを含有する組成物
からなり、高い結晶化度を有する成形用材料の製造方法
に関する。
【0002】
【従来の技術】近年開発された、主としてシンジオタク
チック構造を有するスチレン系重合体およびそれを含む
組成物(以下、スチレン系重合体およびそれを含む組成
物を併せてSPSと称することがある)は、耐熱性や耐
薬品性等に優れたエンジニアリングプラスチックとして
既に広く知られ、種々の成形法、特に押出成形によりフ
ィルム,シート等に成形され、様々な用途に供されてい
る。
【0003】SPSのペレットを押出成形に用いる場
合、SPSペレットの結晶化度が低いと、SPSのペレ
ットの温度がガラス転移温度以上に達した時点で、ペレ
ットが軟化するため、押出成形機の入口付近のフィード
ゾーンでペレットが凝集したり、押出成形機のスクリュ
ーやバレルの内側にペレットが粘着したりする。その結
果、SPSのペレットを定常的に供給することが困難と
なったり、スクリューが停止するというトラブルを生じ
る恐れがあった。
【0004】かかる問題を回避する方法として、特開平
02−194044号には、押出機に供給するSPSペ
レットの溶融粘度及び結晶化度をある特定の値に制御す
ればよいこと、またそのようなペレットを製造する方法
として、溶融押出後、ストランドを空冷する方法あるい
は水冷した後にペレットを再度加熱する方法が開示され
ている。
【0005】しかしながら、SPSの結晶化度を高める
ためのに、一旦水冷した後、再度加熱するのは操作とし
て煩雑になる。また、溶融押出後、空冷する方法は、操
作としては簡便であるが、空冷条件によっては、空冷中
にストランドが切断されたり、得られるペレットの結晶
化度が異なったり、あるいは結晶化度を十分に高められ
ないなど、結晶化度の高いペレットを安定的に製造する
ことは困難であった。
【0006】そのため、成形用、特に押出成形用材料と
して最適な、高結晶化度のSPSペレットを安定的に、
しかも効率的に製造する方法の開発が強く望まれてい
た。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上述の事情に
鑑みてなされたもので、成形、特に押出成形材料として
好適な結晶化度の高いSPSペレットを安定的にかつ煩
雑な操作によることなく効率的に製造する方法を提供す
ることを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明者等はかかる状況
下鋭意研究を行った結果、SPSパウダーを溶融押し出
して得られるストランドを一旦特定の温度にまで急冷
し、その後徐冷することにより、結晶化度の高いSPS
ペレットが安定して得られることを見出すに至った。本
発明はかかる知見に基づいて完成されたものである。
【0009】即ち本発明は、主としてシンジオタクチッ
ク構造を有するスチレン系重合体又はそれを含有する組
成物であって、スチレン系重合体又はそれを含有する組
成物を溶融押出して得られるストランドをその表面温度
が該ストランドを構成するスチレン系重合体又はそれを
含有する組成物の融点以下となるまで急冷し、その後該
ストランドの表面温度がそのガラス転移温度から20℃
高い温度以下となるまで徐冷し、その後該ストランドを
ペレットとする成形用材料の製造方法を提供することを
目的とする。
【0010】また本発明は、その好ましい態様として、
ストランドをその表面温度が、該ストランドを構成する
スチレン系重合体又はそれを含有する組成物のガラス転
移温度より80℃高い温度以下でかつ該ガラス転移温度
より30℃低い温度以上の温度になるまで、より好まし
くはストランドの表面温度を基準に25℃/秒以上の平
均冷却速度で急冷して成形用材料を製造する方法であ
る。
【0011】また本発明は、その好ましい態様として、
急冷したストランドをストランドの表面温度を基準に2
0℃/秒以下の平均冷却速度で、より好ましくはストラ
ンドの表面温度が、室温からそのストランドを構成する
スチレン系重合体又はそれを含有する組成物のガラス転
移温度以下の温度範囲になるまで、あるいは少なくとも
2秒間徐冷して成形用材料を製造する方法である。
【0012】更に本発明は、その好ましい態様として、
徐冷したストランドを、徐冷後、該ストランドの表面温
度がそのストランドを構成するスチレン系重合体又はそ
れを含有する組成物のガラス転移温度から20℃低い温
度以下になるまで、再度急冷して成形用材料を製造する
方法である。
【0013】
【発明の実施の形態】以下に本発明を更に詳細に説明す
る。 1.主としてシンジオタクチック構造を有するスチレン
系重合体又はそれを含有する組成物 (1) 主としてシンジオタクチック構造を有するスチレン
系重合体 シンジオタクチック構造とは、立体構造がシンジオタク
チック構造、すなわち炭素−炭素結合から形成される主
鎖に対して側鎖であるフェニル基や置換フェニル基が交
互に反対方向に位置する立体構造を有するものであり、
そのタクティシティーは同位体炭素による核磁気共鳴法
13C−NMR法)により定量される。 13C−NMR法
により測定されるタクティシティーは、連続する複数個
の構成単位の存在割合、例えば2個の場合はダイアッ
ド,3個の場合はトリアッド,5個の場合はペンタッド
によって示すことができるが、本発明に言う主としてシ
ンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体とは、
通常はラセミダイアッドで、75%以上、好ましくは8
5%以上、若しくはラセミペンタッドで30%以上、好
ましくは50%以上のシンジオタクティシティーを有す
るポリスチレン,ポリ(アルキルスチレン),ポリ(ハロ
ゲン化スチレン),ポリ(ハロゲン化アルキルスチレ
ン),ポリ(アルコキシスチレン),ポリ(ビニル安息
香酸エステル),これらの水素化重合体及びこれらの混
合物、あるいはこれらを主成分とする共重合体を指称す
る。なお、ここでポリ(アルキルスチレン)としては、
ポリ(メチルスチレン),ポリ(エチルスチレン),ポ
リ(イソプロピルスチレン),ポリ(ターシャリ−ブチ
ルスチレン),ポリ(フェニルスチレン),ポリ(ビニ
ルナフタレン),ポリ(ビニルスチレン)などがあり、
ポリ(ハロゲン化スチレン)としては、ポリ(クロロス
チレン),ポリ(ブロモスチレン),ポリ(フルオロス
チレン) などがある。また、ポリ(ハロゲン化アルキル
スチレン)としては、ポリ(クロロメチルスチレン) な
ど、また、ポリ(アルコキシスチレン)としては、ポリ
(メトキシスチレン),ポリ(エトキシスチレン)など
がある。
【0014】これらのうち特に好ましいスチレン系重合
体としては、ポリスチレン,ポリ(p−メチルスチレ
ン),ポリ(m−メチルスチレン),ポリ(p−ターシ
ャリーブチルスチレン),ポリ(p−クロロスチレ
ン),ポリ(m−クロロスチレン),ポリ(p−フルオ
ロスチレン) ,水素化ポリスチレン及びこれらの構造単
位を含む共重合体が挙げられる。
【0015】このスチレン系重合体は、分子量について
特に制限はないが、重量平均分子量が好ましくは100
00以上、より好ましくは50000以上である。さら
に、分子量分布についてもその広狭は制約がなく、 様々
なものを充当することが可能である。ここで、重量平均
分子量が10000未満のものでは、得られる組成物あ
るいは成形品の熱的性質,力学的物性が低下する場合が
あり好ましくない。
【0016】このようなSPSの製造方法としては、特
に問わず、例えば不活性炭化水素溶媒中又は溶媒の不存
在下に、種々の公知の触媒を用いて、それぞれスチレン
系重合体に対応するスチレン系単量体(スチレン系単量
体の混合物を含む)をまたは共重合成分に相当する単量
体と共に重合することにより製造することができる。 (2) SPS以外の他の成分 本発明のSPSを含有する組成物において、SPSは、
通常は、10重量%以上,好ましくは30重量%以上,
さらに好ましくは50重量%以上、特に好ましくは70
重量%以上含まれる。組成物を構成する他の成分として
は、例えば、以下のものが挙げられる。
【0017】(a)ゴム状弾性体 ゴム状弾性体としては、例えば、天然ゴム,ポリブタジ
エン,ポリイソプレン,ポリイソブチレン,ネオプレ
ン、ポリスルフィドゴム、チオコールゴム、アクリルゴ
ム、ウレタンゴム、シリコーンゴム、エビクロロヒドリ
ンゴム、スチレン−ブタジエンブロック共重合体(SB
R),水素添加スチレン−ブタジエンブロック共重合体
(SEB),スチレン−ブタジエン−スチレンブロック
共重合体(SBS),水素添加スチレン−ブタジエン−
スチレンブロック共重合体(SEBS),スチレン−イ
ソプレンブロック共重合体(SIR),水素添加スチレ
ン−イソプレンブロック共重合体(SEP),スチレン
−イソプレン−スチレンブロック共重合体(SIS),
水素添加スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重
合体(SEPS),エチレンプロピレンゴム(EP
R),エチレンプロピレンジエンゴム(EPDM)、あ
るいはブタジエン−アクリロニトリル−スチレン−コア
シェルゴム(ABS),メチルメタクリレート−ブタジ
エン−スチレン−コアシェルゴム(MBS),メチルメ
タクリレート−ブチルアクリレート−スチレン−コアシ
ェルゴム(MAS),オクチルアクリレート−ブタジエ
ン−スチレン−コアシェルゴム(MABS),アルキル
アクリレート−ブタジエン−アクリロニトリル−スチレ
ンコアシェルゴム(AABS),ブタジエン−スチレン
−コアシェルゴム(SBR)、メチルメタクリレート−
ブチルアクリレートシロキサンをはじめとするシロキサ
ン含有コアシェルゴム等のコアシェルタイプの粒子状弾
性体、又はこれらを変性したゴム等が挙げられる。
【0018】これらの中で、特に、SBR、SEB、S
BS、SEBS、SIR,SEP、SIS、SEPS、
コアシェルゴム、EPM、EPDM、またはこれらを変
性したゴム等が好ましく用いられる。なお、これらゴム
状弾性体は、一種のみを単独で用いることも、又は二種
以上を組み合わせて用いることもできる。 (b)SPS以外の熱可塑性樹脂 熱可塑性樹脂は、上記SPS以外の樹脂であれば、従来
公知のものから任意に選択可能であり、具体的には、例
えば直鎖状高密度ポリエチレン,直鎖状低密度ポリエチ
レン,高圧法低密度ポリエチレン,アイソタクチックポ
リプロピレン,シンジオタクチックポリプロピレン,ブ
ロックポリプロピレン,ランダムポリプロピレン,ポリ
ブテン,1,2−ポリブタジエン,環状ポリオレフィ
ン,ポリ−4−メチルペンテンをはじめとするポリオレ
フィン系樹脂、ポリスチレン,HIPS,ABS,AS
をはじめとするポリスチレン系樹脂、ポリカーボネー
ト,ポリエチレンテレフタレート,ポリブチレンテレフ
タレートをはじめとするポリエステル系樹脂、ポリアミ
ド6,ポリアミド6,6 をはじめとするポリアミド系樹
脂、ポリフェニレンエーテル,ポリフェニレンスルフィ
ドなどが挙げられる。なお、熱可塑性樹脂は、一種のみ
を単独で用いることも、又は二種以上を組み合わせて用
いることもできる。
【0019】(c)無機充填材 無機充填材は、繊維状,粒状,粉状等、様々なものが用
いられる。例えば、上記繊維状の無機充填剤の材質的種
類としては、ガラス繊維,炭素繊維,ウィスカー等が挙
げられる。この繊維状の無機充填材の形状としては、ク
ロス状,マット状,集束切断状,短繊維状等の形態の
他,ウィスカー自体があるが、集束切断状の場合には、
長さが0.05〜50mm,繊維径が5〜20μmのも
のが好ましい。
【0020】一方、粒状又は粉状の無機充填材の材質と
しては、例えばタルク,カーボンブラック,グラファイ
ト,二酸化チタン,シリカ,マイカ,炭酸カルシウム,
硫酸カルシウム,炭酸バリウム,炭酸マグネシウム,硫
酸マグネシウム,硫酸バリウム,オキシサルフェート,
酸化スズ,アルミナ,カオリン,炭化ケイ素,金属粉
末,ガラスパウダー,ガラスフレーク,ガラスビーズ等
が挙げられる。このような無機充填材の中でも、特にガ
ラス充填材、例えばガラスパウダー,ガラスフレーク,
ガラスビーズ,ガラスフィラメント,ガラスファイバ
ー,ガラスロビング,ガラスマットが好ましい。
【0021】また、無機充填材としては、樹脂との接着
性を良好にするために、カップリング剤等で表面処理を
施したものが好適に用いられる。カップリング剤として
は、シラン系カップリング剤,チタン系カップリング剤
の他、従来公知のカップリング剤の中から任意に選択し
て用いることができる。このような無機充填材は、1種
類のみを用いてもよいが、必要により2種類以上を併用
してもよい。 (3) 本発明では、SPSの結晶化に要する時間を短縮す
るために、核剤を添加してもよい。ここで核剤として
は、アルミニウムジ(p−t−ブチルベンゾエート)を
はじめとするカルボン酸の金属塩,メチレンビス(2,
4−ジ−t−ブチルフェノール)アシッドホスフェート
ナトリウムをはじめとするリン酸の金属塩,タルク,フ
タロシアニン誘導体など、公知のものから任意に選択し
て用いることができる。なお、これらの核剤は一種のみ
を単独で用いることも、又は二種以上を組み合わせて用
いることもできる。
【0022】(4)本発明のSPSには、本発明の目的を
阻害しない範囲で、各種添加成分、例えば酸化防止剤,
核剤,可塑剤,離型剤,難燃剤,難燃助剤,帯電防止剤
などの添加剤を配合することができる。 (5)本発明のSPSにおいて、各種樹脂または添加剤を
配合する場合、各配合成分の混合方法は特に制限され
ず、添加順序,混合方式等の条件は任意に設定できる。
該配合物には、各配合成分を混合後、溶融混練したもの
も含まれる。溶融混練の方法も特に制限されず、通常行
われている公知の方法を利用できる。
【0023】2.成形用材料の製造方法 本発明においては、上記SPSを溶融押出して得られる
ストランドを、その表面温度がそのストランドを構成す
るSPSの融点以下となるまで急冷し、その後該ストラ
ンドを、その表面温度が同じくSPSのガラス転移温度
より20℃低い温度以下となるまで徐冷し、その後ペレ
ットとする。 SPSの溶融押出 本発明では、上記SPSを、通常SPSの融点以上、好
ましくは融点から融点より100℃高い温度以下の温度
に加熱し、溶融したSPSを押出してストランドとす
る。ここで用いられる溶融押出機としては、特に制限は
なく、通常樹脂の溶融押出しに使用されている一軸又は
好ましくは二軸の、ベント付き又はベントなしの各種押
出機を用いることができる。 ストランドの急冷工程 押出機のダイスより押し出されたストランドは、通常
は、まず水冷などの方法により冷却されるが、この場
合、SPSのストランド全体がガラス転移温度以下の温
度にまで急激に冷却されるため、SPSのストランド
は、結晶化度の低い状態で固化する。そのため、その後
カッティングして得られるSPSのペレットは、結晶化
度の低いものとなる。一方空冷等の方法により、ストラ
ンドを徐々に冷却すると、確かに高い結晶化度のSPS
が得られる。しかし、SPSのストランドを空冷等の方
法で徐冷すると、SPSのストランドをそのガラス転移
温度以下にまで冷却するのに長時間を要する。また、ス
トランドを連続的にペレタイズする場合、冷却時間が、
ペレタイザーの引き取り速度と押出機からペレタイザー
までの移動距離に依存するため、冷却時間が長くなる
と、引き取り速度を低くするか、ペレタイザーの引き取
り速度と押出機からペレタイザーまでの移動距離を長く
する必要が生じる。しかし、引き取り速度を遅くするこ
とは相対的に長い冷却距離が必要となり、押出機からペ
レタイザーの間の引き取り距離が必然的に長くなる。そ
のため、溶融したSPSのストランドが、引き取り工程
の途中で垂れ下がったり、最悪の場合、切断され連続的
なペレタイズができなくなるなどの問題が生じる。とこ
ろが、本発明では、溶融後、押出されたストランドの表
面温度が融点以下の温度となるまで急冷する。このた
め、表面はSPSの融点以下の温度で、内部は表面より
高い温度を維持したストランドが得られる。このような
ストランドは、その表面強度が強く、引き取り工程の途
中での垂れ下り、または切断を効果的に防止できる。ま
たその後、そのような温度分布を持つSPSのストラン
ドを徐々に冷却するため、ストランド内部の熱によりS
PS全体の結晶化が進行し結晶化度の高いSPSとする
ことができるのである。
【0024】このストランドの急冷は、通常その表面温
度がストランドを構成するSPSの融点以下となるま
で、好ましくは、SPSの融点以下で、SPSのガラス
転移温度より30℃低い温度以上の温度範囲となるま
で、さらに好ましくは、SPSのガラス転移温度より8
0℃高い温度以下で、SPSのガラス転移温度より10
℃低い温度以上の温度範囲となるまで、特に好ましくは
SPSのガラス転移温度より50℃高い温度以下でSP
Sのガラス転移温度より高い温度範囲となるまで急冷す
る。また、急冷するとは、ストランドの表面温度を基準
として通常25℃/秒以上の、好ましくは、50から3
00℃/秒程度の、さらに好ましくは、100から25
0℃/秒程度の平均冷却速度で冷却することである。平
均冷却速度が25℃/秒より遅いと、ストランド内部ま
でが冷却され、その後徐々に冷却してもストランドの結
晶化が進行しないことがある。一方、300℃/秒以上
の平均冷却速度で冷却することは、ストランドの表面温
度の制御が困難となったり、また特殊な冷却設備を要す
るため好ましくない。ここで、平均冷却速度とは、冷却
前と冷却後の温度差を冷却時間で除したものをいう。
【0025】また、ストランドを急冷する方法として
は、通常溶融したストランドの冷却に用いる方法であれ
ば特に制限はなく、ウォーターバス、温浴、オイルバス
等の方法を適宜用いることができる。好ましい急冷方法
は、ストランドを構成するSPSの種類により異なる
が、40〜90℃、好ましくは50〜70℃程度の温水
を用いた冷却が好ましい。温水の温度が40℃より低い
と、ストランド表面温度の制御が困難となり、ストラン
ド内部まで冷却され、結果としてその後にストランドを
徐々に冷却しても結晶化が十分に進行しないおそれがあ
る。一方90℃より高いと、ストランドの表面温度の冷
却が不十分となり、その後の冷却工程でストランドが垂
れ下がったり、切断してしまうことがある。 ストランドの徐冷工程 上述の工程で急冷されたストランドは、その後ストラン
ド全体が徐冷され、その過程でSPSの結晶化が進行す
る。
【0026】SPSの融点以下まで急冷されたストラン
ドは、この工程で、通常その表面温度がそのストランド
を構成するSPSのガラス転移温度より20℃高い温度
以下となるまで、好ましくは、SPSのガラス転移温度
より10℃高い温度以下で、室温以上の温度範囲となる
まで、さらに好ましくは、SPSのガラス転移温度以下
で50℃以上の温度範囲となるまで、徐冷される。徐冷
されたストランドの表面温度がSPSのガラス転移温度
より20℃以上高いと、その後のペレット化工程で、良
好にストランドを切断できないおそれがある。
【0027】なお、前述したようにストランドの内部温
度は、表面温度より高く、このようなストランド内部の
熱により、この徐冷工程でSPSの結晶化が促進され
る。そのため、徐冷方法によっては、徐冷後のストラン
ドの表面温度が、急冷後、すなわち徐冷前のものより高
くなることがある。そのような態様も本発明に含まれ
る。
【0028】本発明において、ストランドを徐冷すると
は、そのストランドの表面温度を基準として、−10か
ら20℃/秒、好ましくは−5から15℃/秒、更に好
ましくは1から10℃/秒、特に好ましくは2から6℃
/秒の平均冷却速度で徐々に冷却することである。ここ
で平均冷却速度が負の値となるのは、前述のような徐冷
後の表面温度が徐冷前のものより、高くなることを意味
する。平均冷却速度が、20℃/秒より速いとストラン
ドが十分に結晶化する前に、ストランド全体がガラス転
移温度の温度にまで冷却され、SPSの結晶化度を十分
に高めることができなくなる。一方、−10℃/秒より
遅くしてもそれに見合う結晶化度の上昇が見込めない。
このような平均冷却速度で徐冷する方法として、例えば
急冷したストランドを通常の引き取り装置でストランド
を引き取る際に、放冷または空冷する方法を挙げること
ができる。
【0029】本発明においては、ストランドを少なくと
も2秒間以上、好ましくは、3〜30秒間、更に好まし
くは、4〜10秒間程度徐冷するのが、好ましい。徐冷
時間が2秒間より短いと、結晶化度が十分に高いSPS
が得られないことがある。なお、ストランドを徐冷する
時間は、徐冷距離、すなわち、冷却装置と引き取り装置
の間でのストランドの移動距離と、ストランドの引き取
り速度を適宜調整することで調節することができる。
【0030】ストランドのペレット化工程 上記の工程で十分に結晶化したストランドは、そのまま
あるいは更に急冷した後に、公知の方法、例えばペレタ
イザーで切断されてペレットとなる。ここで、ストラン
ドを更に冷却した後にカッティングする場合、通常スト
ランドの表面温度が、そのストランドを構成するSPS
のガラス転移温度より20℃低い温度以下まで急冷する
ことが好ましい。徐冷したストランドを再度急冷するの
は、通常ストランドの温度がSPSのガラス転移温度以
下になるとストランドはそれ以上結晶化が進まないた
め、ストランド全体の温度がガラス転移温度以下となっ
た後まで徐冷を継続しても得られるペレットの結晶化度
に大きな差が生じないためである。また、ストランドを
急冷することで、徐冷距離を短くできるからである。従
ってこの工程での急冷には、特に制限はなく、最初の急
冷より早くても遅くてもよい。通常は水冷が好ましい。
【0031】以上に説明した本発明の方法により、結晶
化度が15%以上、更には30%以上と結晶化度の高い
SPSのペレットを安定的に得ることができる。かかる
SPSのペレットは、成形用原料として成形機、特には
押出成形機で溶融押出しされる際に、ガラス転移温度以
上の温度に達してもペレットが軟化することなく、その
まま融点以上の温度に達して溶融する。そのため、押出
成形機の入り口付近のフィードゾーンでペレットが凝集
したり、押出成形機のスクリューやバレルの内側へ粘着
したりする問題がなく、優れた成形用材料として使用す
ることができる。
【0032】
【実施例】本発明にかかる成形用材料の製造方法を実施
例によってさらに具体的に説明するが、本発 明はかか
る実施例によりなんら制限されるものではない。 〔製造例1〕SPSの製造 2リットルの反応容器に、精製スチレン1.0リット
ル、トリエチルアルミニウム1ミリモルを加え、75℃
に加熱したのち、予備混合触媒〔ペンタメチルシクロペ
ンタジエニルチタントリメトキシド90マイクロモル、
ジメチルアニリニウムテトラキス(ペンタフルオロフェ
ニル)ボレート90マイクロモル、トルエン29.1ミ
リモル、トリイソブチルアルミニウム1.8ミリモル〕
16.5ミリリットルを添加し、75℃で4.8時間重
合を行った。反応終了後、生成物をメタノールで繰り返
し洗浄し、乾燥して重合体380gを得た。上記の製造
工程を繰り返すことで、押出機に用いるのに必要な量の
重合体を製造した。この重合体の重量平均分子量を、
1,2,4−トリクロロベンゼンを溶媒とし、130℃
でゲルパーミエーションクロマトグラフィーにて測定し
たところ、272000であった。さらに、融点及び13
C−NMR測定により、この重合体はSPSであること
を確認した。
【0033】〔実施例1〕製造例1で得られたSPSパ
ウダーを、押出機TEX30(日本製鋼所社製,回転数
200rpm)を用いて、SPSパウダーのチャージ量
20kg/時間、ストランドの引き取り速度1m/秒,
ダイス温度300℃の条件で溶融押出した。ダイス出口
より押し出されたストランドを60℃のウォーターバス
に1秒間浸漬した後、25℃の大気中で5秒間引っ張っ
た。ウォーターバスから引き上げた際のストランドの表
面温度は、115℃で、大気中で5秒間引っ張り後のス
トランドの表面温度は、95℃であった。これから、ウ
ォーターバス内でのストランド表面の平均冷却速度は、
185℃/秒であったことになる。また、ストランドを
大気中で徐冷した際のストランド表面の平均冷却速度
は、4℃/秒であったことになる。その後再度ウォータ
ーバスに浸漬させることにより、ストランドを70℃ま
で冷却し、ペレタイザーにてペレットとした。このSP
Sペレットの結晶化度は30%であった。このペレット
をシート成形に用いたところ、ホッパー及びスクリュー
入口付近でのペレットの凝集はなく、円滑に安定してペ
レットが送り込まれ、押出量の変動もなく、外観の良好
で、押出方向の肉圧が均一なシートが連続して得られ
た。
【0034】〔実施例2〕実施例1において、再度ウォ
ーターバスに浸漬させてストランドを70℃まで冷却す
る代わりに、エアによりストランドを90℃に冷却し、
ペレタイザーにてペレットとした以外は実施例1と同様
にして実施例2のペレットを製造した。このSPSペレ
ットの結晶化度は35%であった。このペレットを用い
たシート成形時においても、実施例1と同様、安定して
シート成形が行われた。
【0035】〔実施例3〕実施例1で得られたペレット
を、10kg/時間の速度で攪拌機付ホッパー(カワタ
社製,容量70リットル)に供給し、そこへ150℃に
加熱した窒素ガスを2.4Nm3 /時間の流速で吹き込
み、ペレットを加熱した。加熱開始20分後に、抜き出
しバルブより一部抜き出し、そのペレットの結晶化度を
測定したところ、結晶化度は35%であった。このペレ
ットを実施例1と同様にシート成形に用いたが、実施例
1と同様、安定した押し出し量でシート成形を行うこと
ができた。
【0036】〔比較例1〕実施例1において、ストラン
ドを30℃のウォーターバスに10秒間浸漬し、その直
後にペレタイザーにてペレットとした以外は実施例1と
同様にして比較例1のSPSペレットを製造した。ウォ
ーターバスから引き上げた際のストランドの表面温度は
70℃であった。これから、ウォーターバス内でのスト
ランド表面の平均冷却速度は、23℃/秒となる。この
SPSペレットの結晶化度は10%であった。このペレ
ットをシート成形に用いたところ、スクリュー部分ある
いはその上部でペレットの一部が軟化凝集し、ペレット
を定常的に送り出すことが困難となり、得られたシート
表面に縞状の模様が観察された。
【0037】
【発明の効果】以上のように、本発明では、SPSのス
トランドを特定温度まで急冷し、その後徐冷すること
で、高い結晶化度を有するSPSのペレットを安定し
て、かつ効率的に製造することができる。また、そのS
PSペレットは、成形用材料として優れており、例えば
押出成形用材料として用いた場合に、ホッパー及びスク
リュー入口付近でのペレットの凝集はなく、成形機を円
滑に運転でき、外観の良好な成形体を得ることができ
る。

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 主としてシンジオタクチック構造を有す
    るスチレン系重合体又はそれを含有する組成物であっ
    て、スチレン系重合体又はそれを含有する組成物を溶融
    押出して得られるストランドをその表面温度が該ストラ
    ンドを構成するスチレン系重合体又はそれを含有する組
    成物の融点以下となるまで急冷し、その後該ストランド
    の表面温度がそのガラス転移温度から20℃高い温度以
    下となるまで徐冷し、その後該ストランドをペレットと
    することを特徴とする成形用材料の製造方法。
  2. 【請求項2】 ストランドをその表面温度が、該ストラ
    ンドを構成するスチレン系重合体又はそれを含有する組
    成物のガラス転移温度より80℃高い温度以下でかつ該
    ガラス転移温度より30℃低い温度以上の温度になるま
    で急冷することを特徴とする請求項1に記載の成形用材
    料の製造方法。
  3. 【請求項3】 ストランドをストランドの表面温度を基
    準に25℃/秒以上の平均冷却速度で急冷することを特
    徴とする請求項1または2のいずれかに記載の成形用材
    料の製造方法。
  4. 【請求項4】 急冷したストランドをストランドの表面
    温度を基準に20℃/秒以下の平均冷却速度で徐冷する
    ことを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1に記載
    の成形用材料の製造方法。
  5. 【請求項5】 急冷したストランドの表面温度が、室温
    からそのストランドを構成するスチレン系重合体又はそ
    れを含有する組成物のガラス転移温度以下の温度範囲に
    なるまで徐冷することを特徴とする請求項1ないし4の
    いずれか1に記載の成形用材料の製造方法。
  6. 【請求項6】 急冷したストランドを少なくとも2秒間
    徐冷することを特徴とする請求項4に記載の成形用材料
    の製造方法。
  7. 【請求項7】 徐冷したストランドを、徐冷後、該スト
    ランドの表面温度がそのストランドを構成するスチレン
    系重合体又はそれを含有する組成物のガラス転移温度か
    ら20℃低い温度以下になるまで、再度急冷することを
    特徴とする請求項4ないし6のいずれか1に記載の成形
    用材料の製造方法。
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