JPH10231147A - 透明帯電防止ガラス板 - Google Patents
透明帯電防止ガラス板Info
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- JPH10231147A JPH10231147A JP372798A JP372798A JPH10231147A JP H10231147 A JPH10231147 A JP H10231147A JP 372798 A JP372798 A JP 372798A JP 372798 A JP372798 A JP 372798A JP H10231147 A JPH10231147 A JP H10231147A
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- glass
- tin oxide
- film
- glass plate
- oxide film
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- Glass Compositions (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】ガラス板上に被覆された酸化錫膜の摩耗が進ん
でも電気抵抗の上昇が少ない複写機天板用に適した帯電
防止ガラス板を提供すること。 【解決手段】一方の表面に酸化錫被膜を被覆したガラス
板の両面について、ガラス中のナトリウムイオンをカリ
ウムイオンに置換する化学強化処理を施し、酸化錫膜中
のカリウムの濃度を０．１〜１０．０重量％、ガラス板
の表面応力を２０〜１００ｋｇ／ｍｍ2とする。酸化錫
膜の厚みは１〜１００ｎｍとするのが好ましい。
でも電気抵抗の上昇が少ない複写機天板用に適した帯電
防止ガラス板を提供すること。 【解決手段】一方の表面に酸化錫被膜を被覆したガラス
板の両面について、ガラス中のナトリウムイオンをカリ
ウムイオンに置換する化学強化処理を施し、酸化錫膜中
のカリウムの濃度を０．１〜１０．０重量％、ガラス板
の表面応力を２０〜１００ｋｇ／ｍｍ2とする。酸化錫
膜の厚みは１〜１００ｎｍとするのが好ましい。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は導電ガラスに関し、
特に高強度・高耐摩耗性能を有する透明帯電防止ガラス
板に関する。
特に高強度・高耐摩耗性能を有する透明帯電防止ガラス
板に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、導電ガラスは、各種ディスプレー
・薄膜太陽電池などの電極、また透明タッチセンサー、
透明帯電防止体、透明電磁波遮蔽体など様々な分野で応
用が図られている。導電ガラスはもっぱら、ガラス上に
透明導電性の被膜材料をコーティングすることで得られ
ている。この種の材料としては、半金属的挙動を示す酸
化物材料が好んで使用され、代表的なものとしては酸化
錫、酸化インジウム錫（以下ＩＴＯと記述する）、酸化
亜鉛、酸化カドミウム錫などが挙げられる。
・薄膜太陽電池などの電極、また透明タッチセンサー、
透明帯電防止体、透明電磁波遮蔽体など様々な分野で応
用が図られている。導電ガラスはもっぱら、ガラス上に
透明導電性の被膜材料をコーティングすることで得られ
ている。この種の材料としては、半金属的挙動を示す酸
化物材料が好んで使用され、代表的なものとしては酸化
錫、酸化インジウム錫（以下ＩＴＯと記述する）、酸化
亜鉛、酸化カドミウム錫などが挙げられる。
【０００３】用途によっては、導電ガラスが通常使用空
間に露出するため、高い耐摩耗性、耐薬品性（耐酸、耐
アルカリ性）を要求されるものもある。また、安全性を
確保するため、ガラス自体も通常板ガラスより著しく高
い強度を要求される場合がある。高い強度のガラスを得
るためには通常、軟化点以上に加熱したガラスを、急速
に表面から冷却して圧縮応力を得る風冷強化と言われる
手段ないしは、ガラスをカリウムイオンを含む溶融塩に
浸漬し、ガラス中のナトリウムイオンと交換させ、イオ
ンの大きさの違いに基づいて表面圧縮応力を得る化学強
化と呼ばれる手段が好まれる。いずれにせよ、ガラスの
強度を増加させる工程では４００℃から６００℃程度の
高温にさらされることになる。
間に露出するため、高い耐摩耗性、耐薬品性（耐酸、耐
アルカリ性）を要求されるものもある。また、安全性を
確保するため、ガラス自体も通常板ガラスより著しく高
い強度を要求される場合がある。高い強度のガラスを得
るためには通常、軟化点以上に加熱したガラスを、急速
に表面から冷却して圧縮応力を得る風冷強化と言われる
手段ないしは、ガラスをカリウムイオンを含む溶融塩に
浸漬し、ガラス中のナトリウムイオンと交換させ、イオ
ンの大きさの違いに基づいて表面圧縮応力を得る化学強
化と呼ばれる手段が好まれる。いずれにせよ、ガラスの
強度を増加させる工程では４００℃から６００℃程度の
高温にさらされることになる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、導電ガ
ラスの電気的特性と膜の機械的強度並びにガラス強度を
同時に満足させるのは困難であった。例えば、透明導電
膜として代表的なＩＴＯ膜では、優れた電気特性を示す
のであるが、膜の耐摩耗性・耐薬品性は弱い上にガラス
板の強度を得るために風冷強化または化学強化処理を行
うと、電気特性が劣化したりあるいは膜が欠損するとい
う問題に直面する
ラスの電気的特性と膜の機械的強度並びにガラス強度を
同時に満足させるのは困難であった。例えば、透明導電
膜として代表的なＩＴＯ膜では、優れた電気特性を示す
のであるが、膜の耐摩耗性・耐薬品性は弱い上にガラス
板の強度を得るために風冷強化または化学強化処理を行
うと、電気特性が劣化したりあるいは膜が欠損するとい
う問題に直面する
【０００５】一方酸化錫膜では、耐摩耗性能がＩＴＯ膜
に比して優れている。しかし、これを風冷強化してガラ
スの強度を増そうとすると、その工程の急激な温度変化
のために、しばしば膜に亀裂が生じたり、著しくガラス
が変形してしまう。従ってこの風冷強化処理に当たって
は、厳密な温度管理が必要となり、ともすれば生産性を
損なうことになる。
に比して優れている。しかし、これを風冷強化してガラ
スの強度を増そうとすると、その工程の急激な温度変化
のために、しばしば膜に亀裂が生じたり、著しくガラス
が変形してしまう。従ってこの風冷強化処理に当たって
は、厳密な温度管理が必要となり、ともすれば生産性を
損なうことになる。
【０００６】さらに、予め風冷・化学強化処理を施した
ガラスに透明導電膜を施すことも考えられるが、この場
合膜付け処理温度が高温であると、表面圧縮応力層が原
子の移動拡散によって消失してしまう。
ガラスに透明導電膜を施すことも考えられるが、この場
合膜付け処理温度が高温であると、表面圧縮応力層が原
子の移動拡散によって消失してしまう。
【０００７】したがって、十分なガラス強度を持った導
電ガラスを作製するための手段としては、強化処理を施
した後、低温で膜付け処理が行なえる方法（例えば真空
蒸着、スパッタ法）にならざるをえないが、この種の設
備は真空を必要とし、膜付けコストが高くなるのはやむ
を得ない実状であった。
電ガラスを作製するための手段としては、強化処理を施
した後、低温で膜付け処理が行なえる方法（例えば真空
蒸着、スパッタ法）にならざるをえないが、この種の設
備は真空を必要とし、膜付けコストが高くなるのはやむ
を得ない実状であった。
【０００８】本発明は上記従来の問題点を解決し、高強
度・高耐摩耗性能を有する導電ガラスおよびその製造方
法を提供することを目的とする。
度・高耐摩耗性能を有する導電ガラスおよびその製造方
法を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は、ガラス中のナ
トリウムイオンをカリウムイオンに置換する化学強化処
理が施されたガラス板上に、カリウムを含む酸化錫を主
成分とする被膜が施された透明帯電防止ガラス板であっ
て、前記化学強化処理は、被膜の被覆の後に被膜中のカ
リウムの濃度が０．１〜１０．０重量％、ガラス板の表
面応力が２０〜１００ｋｇ／ｍｍ2となるように行わ
れ、これにより摺動摩耗による酸化錫膜の電気抵抗変化
が小さくなるようにされた透明帯電防止ガラス板であ
る。
トリウムイオンをカリウムイオンに置換する化学強化処
理が施されたガラス板上に、カリウムを含む酸化錫を主
成分とする被膜が施された透明帯電防止ガラス板であっ
て、前記化学強化処理は、被膜の被覆の後に被膜中のカ
リウムの濃度が０．１〜１０．０重量％、ガラス板の表
面応力が２０〜１００ｋｇ／ｍｍ2となるように行わ
れ、これにより摺動摩耗による酸化錫膜の電気抵抗変化
が小さくなるようにされた透明帯電防止ガラス板であ
る。
【００１０】本発明を製造する方法は、ガラス上に酸化
錫被膜が形成された後、溶融硝酸カリウムと接触され、
ガラスおよび該被膜中にカリウムを含ませて製造され
る。
錫被膜が形成された後、溶融硝酸カリウムと接触され、
ガラスおよび該被膜中にカリウムを含ませて製造され
る。
【００１１】本発明の酸化錫被膜は、熱分解法によって
形成されてもよい。
形成されてもよい。
【００１２】（作用）本発明によれば、適当な厚みの酸
化錫膜を成膜した後、化学強化の手法をとれば、膜の電
気的特性を大きく損なうことなくガラスに強度がもたせ
られて、かつ酸化錫膜にカリウムが含まれることによっ
て膜の耐摩耗性能も向上させることが可能となった。
化錫膜を成膜した後、化学強化の手法をとれば、膜の電
気的特性を大きく損なうことなくガラスに強度がもたせ
られて、かつ酸化錫膜にカリウムが含まれることによっ
て膜の耐摩耗性能も向上させることが可能となった。
【００１３】酸化錫の成膜手段としては、真空蒸着法、
スパッタ法、スプレー法、ＣＶＤ法、ディッピング法な
ど種々の方法があるが、この中でもコスト・生産性の点
からスプレー・ＣＶＤなどのいわゆる熱分解法が有利で
ある。熱分解法では、熱分解性を有する錫化合物が主原
料となり、具体的にはＳｎＣｌ4、（ＣnＨ2n+1）4Ｓｎ
（ただし、ｎ＝１〜４）、Ｃ4Ｈ9ＳｎＣｌ3、（ＣＨ3）
2ＳｎＣｌ2、（Ｃ4Ｈ9）2Ｓｎ（ＯＣＯＣＨ3）2等を使
用するのが一般的である。また、電気的特性を向上させ
るために、フッ素がしばしば膜に添加されるが、この原
料としてはＨＦ、ＣＣｌ2Ｆ2，ＣＨＣｌＦ2、ＣＨ3ＣＨ
Ｆ2、ＣＦ3Ｂｒ、ＣＦ3ＣＯＯＨ、ＮＨ4Ｆ等が知られて
いる。これらの原料の蒸気を酸素等の酸化性ガスと共に
加熱したガラスに接触させて膜を得るか、またはアルコ
ール、ベンゼン、トルエン等の有機溶媒に溶解して加熱
されたガラスに噴霧して膜を得る。
スパッタ法、スプレー法、ＣＶＤ法、ディッピング法な
ど種々の方法があるが、この中でもコスト・生産性の点
からスプレー・ＣＶＤなどのいわゆる熱分解法が有利で
ある。熱分解法では、熱分解性を有する錫化合物が主原
料となり、具体的にはＳｎＣｌ4、（ＣnＨ2n+1）4Ｓｎ
（ただし、ｎ＝１〜４）、Ｃ4Ｈ9ＳｎＣｌ3、（ＣＨ3）
2ＳｎＣｌ2、（Ｃ4Ｈ9）2Ｓｎ（ＯＣＯＣＨ3）2等を使
用するのが一般的である。また、電気的特性を向上させ
るために、フッ素がしばしば膜に添加されるが、この原
料としてはＨＦ、ＣＣｌ2Ｆ2，ＣＨＣｌＦ2、ＣＨ3ＣＨ
Ｆ2、ＣＦ3Ｂｒ、ＣＦ3ＣＯＯＨ、ＮＨ4Ｆ等が知られて
いる。これらの原料の蒸気を酸素等の酸化性ガスと共に
加熱したガラスに接触させて膜を得るか、またはアルコ
ール、ベンゼン、トルエン等の有機溶媒に溶解して加熱
されたガラスに噴霧して膜を得る。
【００１４】膜厚は電気抵抗を低くするという点からは
厚いほうがよいが、あまり厚いと膜の光吸収により透明
性が損なわれたり、化学強化工程でのイオン交換が困難
となる。実用的な膜厚範囲は１〜１００ｎｍ、望ましく
は５〜５０ｎｍである。
厚いほうがよいが、あまり厚いと膜の光吸収により透明
性が損なわれたり、化学強化工程でのイオン交換が困難
となる。実用的な膜厚範囲は１〜１００ｎｍ、望ましく
は５〜５０ｎｍである。
【００１５】化学強化は硝酸カリウムのようなカリウム
を含む塩を溶融させ、所定時間ガラスを浸漬させて行
う。
を含む塩を溶融させ、所定時間ガラスを浸漬させて行
う。
【００１６】こうして得られた導電ガラスは、その電気
抵抗値は化学強化処理前に比べ若干増加するが透明帯電
防止体として実用上大きな障害ではない。
抵抗値は化学強化処理前に比べ若干増加するが透明帯電
防止体として実用上大きな障害ではない。
【００１７】この膜の耐摩耗性能を調べるために、往復
摺動試験器を用いて電気抵抗値の変化を測定したとこ
ろ、化学強化を施したもののほうが初期抵抗値は高いも
のの変化の程度は小さく、最終的には抵抗値が逆転し化
学強化を施したものが高い耐久性能を持つに至った。こ
の詳細な原因は不明であるが、図２に示す如く酸化錫膜
中にほぼ均一に分布しているカリウムが何らかの関与を
していると考えてよかろう。
摺動試験器を用いて電気抵抗値の変化を測定したとこ
ろ、化学強化を施したもののほうが初期抵抗値は高いも
のの変化の程度は小さく、最終的には抵抗値が逆転し化
学強化を施したものが高い耐久性能を持つに至った。こ
の詳細な原因は不明であるが、図２に示す如く酸化錫膜
中にほぼ均一に分布しているカリウムが何らかの関与を
していると考えてよかろう。
【００１８】化学強化工程で侵入する酸化錫膜中のカリ
ウム濃度は、０．１〜１０重量％が望ましい。カリウム
濃度が０．１重量％より低いと耐摩耗性能の向上への効
果が薄れる。また１０重量％より高いと膜の電気抵抗が
高くなる等の悪影響が現れる。
ウム濃度は、０．１〜１０重量％が望ましい。カリウム
濃度が０．１重量％より低いと耐摩耗性能の向上への効
果が薄れる。また１０重量％より高いと膜の電気抵抗が
高くなる等の悪影響が現れる。
【００１９】またガラスの強度を光弾性法を用いたガラ
ス表面応力測定器で評価したところ、酸化錫の膜のない
試料と遜色のない強度を有する膜が得られることがわか
った。化学強化の妥当性に関してガラス表面のカリウム
の深さ方向濃度プロファイルを見たが、図１に示すよう
に膜の有無に関わらず同じプロファイルが得られた。
ス表面応力測定器で評価したところ、酸化錫の膜のない
試料と遜色のない強度を有する膜が得られることがわか
った。化学強化の妥当性に関してガラス表面のカリウム
の深さ方向濃度プロファイルを見たが、図１に示すよう
に膜の有無に関わらず同じプロファイルが得られた。
【００２０】化学強化処理によるガラス表面応力の値は
２０〜１００ｋｇ／ｍｍ2の値が望ましい。表面応力値
が１００ｋｇ／ｍｍ2以上では、ガラスの破壊応力値
（約２００〜３００ｋｇ／ｍｍ2）に近づき、応力不安
定となり自己破壊の恐れが生じ好ましくない。また表面
応力値が２０ｋｇ／ｍｍ2以下であるとガラスの強度上
昇には事実上結びつかない上に、非膜面（正常に化学強
化される）の表面応力との差が大きくなり反り等の悪影
響が生じてしまう。
２０〜１００ｋｇ／ｍｍ2の値が望ましい。表面応力値
が１００ｋｇ／ｍｍ2以上では、ガラスの破壊応力値
（約２００〜３００ｋｇ／ｍｍ2）に近づき、応力不安
定となり自己破壊の恐れが生じ好ましくない。また表面
応力値が２０ｋｇ／ｍｍ2以下であるとガラスの強度上
昇には事実上結びつかない上に、非膜面（正常に化学強
化される）の表面応力との差が大きくなり反り等の悪影
響が生じてしまう。
【００２１】
（実施例１）よく洗浄した１００ｍｍ角のフロート板ガ
ラス（５ｍｍ厚）を用意し、基板とした。これに以下の
方法で酸化錫膜を施した。
ラス（５ｍｍ厚）を用意し、基板とした。これに以下の
方法で酸化錫膜を施した。
【００２２】モノブチル錫トリクロライドと水蒸気、酸
素ガス、１,１-ジフルオロエタンガスおよび窒素ガスよ
りなる混合気体を用い，ＣＶＤ法により作製した。ガラ
スの加熱温度は５４０℃であった。錫原料の流量を適宜
変更させ、膜厚の異なる３種類の膜を得た。この導電ガ
ラスの電気抵抗値（１ｃｍ間隔の２端子間抵抗）および
Ｃ光線透過率は表１に記載した通りである。
素ガス、１,１-ジフルオロエタンガスおよび窒素ガスよ
りなる混合気体を用い，ＣＶＤ法により作製した。ガラ
スの加熱温度は５４０℃であった。錫原料の流量を適宜
変更させ、膜厚の異なる３種類の膜を得た。この導電ガ
ラスの電気抵抗値（１ｃｍ間隔の２端子間抵抗）および
Ｃ光線透過率は表１に記載した通りである。
【００２３】次にこの３種類の導電ガラスを溶融状態の
硝酸カリウム（温度４７０℃）に４．５時間浸漬しその
後引き上げてから徐冷した。比較のために酸化錫膜のな
いフロート板ガラス（５ｍｍ厚）も同時に浸漬した。そ
の後水洗し、電気抵抗値およびＣ光線透過率を測定し
た。
硝酸カリウム（温度４７０℃）に４．５時間浸漬しその
後引き上げてから徐冷した。比較のために酸化錫膜のな
いフロート板ガラス（５ｍｍ厚）も同時に浸漬した。そ
の後水洗し、電気抵抗値およびＣ光線透過率を測定し
た。
【００２４】
【表１】 表１ ＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝ No. SnO2 化学強化処理前 化学強化処理後 ガラス 膜厚 抵抗Ω 透過率％ 抵抗Ω 透過率％ 表面応力 ｎｍ kg／mm2 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 1-0 なし − 88.1 − 88.3 44.5 1-1 8.5 2.06×106 87.9 1.60×107 87.7 44.5 1-2 10.5 2.80×105 86.8 2.30×106 86.8 44.7 1-3 20.0 1.90×104 84.0 1.00×105 84.1 44.5 ＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝
【００２５】このサンプルから５０×７０ｍｍの小片を
切り出し、この膜の耐摩耗性能を調べるために、往復摺
動試験器を用いて電気抵抗値の変化を測定した。この結
果は図３に示す。膜の電気抵抗の変化は、化学強化処理
をしないものに比較して小さくなり、帯電防止性能が維
持されることがわかる。
切り出し、この膜の耐摩耗性能を調べるために、往復摺
動試験器を用いて電気抵抗値の変化を測定した。この結
果は図３に示す。膜の電気抵抗の変化は、化学強化処理
をしないものに比較して小さくなり、帯電防止性能が維
持されることがわかる。
【００２６】次いでガラスサンプルから３０ｍｍ角の小
片を切り出し、東芝硝子製硝子表面応力測定装置により
上記強化処理を行ったガラスの表面応力を測定した。こ
れらの結果を同じく表１に記載した。
片を切り出し、東芝硝子製硝子表面応力測定装置により
上記強化処理を行ったガラスの表面応力を測定した。こ
れらの結果を同じく表１に記載した。
【００２７】イオン交換が行なわれているかどうかを確
認するため、ＥＰＭＡ（電子線マイクロアナライザー）
によりガラス表面からカリウムイオンの深さ方向濃度プ
ロファイルを観察した。結果を図１に示す。
認するため、ＥＰＭＡ（電子線マイクロアナライザー）
によりガラス表面からカリウムイオンの深さ方向濃度プ
ロファイルを観察した。結果を図１に示す。
【００２８】また、酸化錫膜への化学強化工程の影響を
把握するためＸＰＳ（Ｘ線光電子分光）によりＳｎ、
Ｋ、Ｎａ、Ｓｉ原子の深さ方向濃度プロファイルを観察
した結果を図２に示した。
把握するためＸＰＳ（Ｘ線光電子分光）によりＳｎ、
Ｋ、Ｎａ、Ｓｉ原子の深さ方向濃度プロファイルを観察
した結果を図２に示した。
【００２９】（実施例２）よく洗浄した１００ｍｍ角の
フロート板ガラス（５ｍｍ厚）を用意し、基板とした。
これに以下の方法で酸化錫膜を施した。
フロート板ガラス（５ｍｍ厚）を用意し、基板とした。
これに以下の方法で酸化錫膜を施した。
【００３０】ジブチル錫ジアセテートとトリフルオロア
セテート、イソプロパノールを以下の割合で混合し、こ
の液を６００℃に加熱したガラスに噴霧して酸化錫膜を
作製 ジブチル錫ジアセテート １０．０ｇ トリフルオロアセテート １．６ｇ イソプロパノール ２００ｃｃ した。噴霧時間を変更させて膜厚の異なる３種類の膜を
得た。この導電ガラスの電気抵抗値（１ｃｍ間隔の２端
子間抵抗）およびＣ光線透過率は表２に記載した通りで
ある。
セテート、イソプロパノールを以下の割合で混合し、こ
の液を６００℃に加熱したガラスに噴霧して酸化錫膜を
作製 ジブチル錫ジアセテート １０．０ｇ トリフルオロアセテート １．６ｇ イソプロパノール ２００ｃｃ した。噴霧時間を変更させて膜厚の異なる３種類の膜を
得た。この導電ガラスの電気抵抗値（１ｃｍ間隔の２端
子間抵抗）およびＣ光線透過率は表２に記載した通りで
ある。
【００３１】
【表２】 表２ ＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝ No. SnO2 化学強化処理前 化学強化処理後 ガラス 膜厚 抵抗Ω 透過率％ 抵抗Ω 透過率％ 表面応力 ｎｍ kg／mm2 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 2-0 なし − 89.5 − 89.5 54.9 2-1 5.0 1.03×107 88.8 5.05×107 88.3 50.5 2-2 9.0 9.07×105 84.8 4.55×106 87.6 48.4 2-3 15.0 6.80×104 84.8 1.95×105 84.7 44.5 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
【００３２】次にこの４種の導電ガラスを溶融状態の硝
酸カリウム（温度４７０℃）に４．５時間浸漬しその後
引き上げてから徐令した。比較のために酸化錫膜のない
フロート板ガラス（５ｍｍ厚）も同時に浸漬した。その
後水洗し、電気抵抗値およびＣ光線透過率を測定した。
酸カリウム（温度４７０℃）に４．５時間浸漬しその後
引き上げてから徐令した。比較のために酸化錫膜のない
フロート板ガラス（５ｍｍ厚）も同時に浸漬した。その
後水洗し、電気抵抗値およびＣ光線透過率を測定した。
【００３３】次いでガラスサンプルから３０ｍｍ角の小
片を切り出し東芝硝子製硝子表面応力測定装置により上
記強化処理を行ったガラスの表面応力を測定した。これ
らの結果を同じく表２に記載した。
片を切り出し東芝硝子製硝子表面応力測定装置により上
記強化処理を行ったガラスの表面応力を測定した。これ
らの結果を同じく表２に記載した。
【００３４】残ったサンプルから５０×７０ｍｍの小片
を切り出し、この膜の耐摩耗性能を調べるために、往復
摺動試験器を用いて電気抵抗値の変化を測定した。この
結果は実施例１と同様であった。
を切り出し、この膜の耐摩耗性能を調べるために、往復
摺動試験器を用いて電気抵抗値の変化を測定した。この
結果は実施例１と同様であった。
【００３５】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、酸化錫膜
の中に化学強化処理を行なうことによって膜を通してガ
ラスがイオン交換を受け、強度の高いガラスが得られる
と同時に、膜の耐摩耗性能も著しく増加されることがわ
かった。
の中に化学強化処理を行なうことによって膜を通してガ
ラスがイオン交換を受け、強度の高いガラスが得られる
と同時に、膜の耐摩耗性能も著しく増加されることがわ
かった。
【図１】図１は本発明の実施例における酸化錫膜付けガ
ラスの化学強化処理後のＮａ、Ｋイオンの深さ方向プロ
ファイルである。
ラスの化学強化処理後のＮａ、Ｋイオンの深さ方向プロ
ファイルである。
【図２】図２は本発明の実施例における酸化錫膜付けガ
ラスの化学強化処理後の膜中およびガラス表面のＳｎ、
Ｓｉ、Ｎａ、Ｋの深さ方向プロファイルである。
ラスの化学強化処理後の膜中およびガラス表面のＳｎ、
Ｓｉ、Ｎａ、Ｋの深さ方向プロファイルである。
【図３】図３は本発明の実施例における酸化錫膜付けガ
ラスの化学強化処理前および後のガラスの耐摩耗性能試
験結果である。
ラスの化学強化処理前および後のガラスの耐摩耗性能試
験結果である。
Claims (1)
- 【請求項１】ガラス中のナトリウムイオンをカリウムイ
オンに置換する化学強化処理が施されたガラス板上に、
カリウムを含む酸化錫を主成分とする被膜が施された透
明帯電防止ガラス板であって、前記化学強化処理は、被
膜の被覆の後に被膜中のカリウムの濃度が０．１〜１
０．０重量％、ガラス板の表面応力が２０〜１００ｋｇ
／ｍｍ2となるように行われ、これにより摺動摩耗によ
る酸化錫膜の電気抵抗変化が小さくなるようにされた透
明帯電防止ガラス板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP372798A JPH10231147A (ja) | 1998-01-12 | 1998-01-12 | 透明帯電防止ガラス板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP372798A JPH10231147A (ja) | 1998-01-12 | 1998-01-12 | 透明帯電防止ガラス板 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3192657A Division JP2792276B2 (ja) | 1991-04-03 | 1991-04-03 | 導電ガラス |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10231147A true JPH10231147A (ja) | 1998-09-02 |
Family
ID=11565318
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP372798A Pending JPH10231147A (ja) | 1998-01-12 | 1998-01-12 | 透明帯電防止ガラス板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10231147A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016533316A (ja) * | 2013-09-13 | 2016-10-27 | コーニング インコーポレイテッド | 耐破壊性を有する多層基体、および耐破壊性を有する多層基体を含む物品 |
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1998
- 1998-01-12 JP JP372798A patent/JPH10231147A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016533316A (ja) * | 2013-09-13 | 2016-10-27 | コーニング インコーポレイテッド | 耐破壊性を有する多層基体、および耐破壊性を有する多層基体を含む物品 |
| US10160688B2 (en) | 2013-09-13 | 2018-12-25 | Corning Incorporated | Fracture-resistant layered-substrates and articles including the same |
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