JPH10223935A - 超電導体素子の製造方法 - Google Patents

超電導体素子の製造方法

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JPH10223935A
JPH10223935A JP9021886A JP2188697A JPH10223935A JP H10223935 A JPH10223935 A JP H10223935A JP 9021886 A JP9021886 A JP 9021886A JP 2188697 A JP2188697 A JP 2188697A JP H10223935 A JPH10223935 A JP H10223935A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
josephson junction
substrate
etched
temperature superconductor
thin film
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP9021886A
Other languages
English (en)
Inventor
Katsufumi Hashimoto
勝文 橋本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Oki Electric Industry Co Ltd
Original Assignee
Oki Electric Industry Co Ltd
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Publication date
Application filed by Oki Electric Industry Co Ltd filed Critical Oki Electric Industry Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板のエッチングによる段差部の高温超電導
体が正確にC軸方向をとり、ジョセフソン接合を得るこ
とができる超電導体素子の製造方法を提供する。 【解決手段】 基板11の一部をエッチングする工程
と、前記エッチングされた部分Aにエッチング段差部1
3の高さより低い厚さの高温超電導体薄膜を堆積して高
温超電導体下部電極14を形成する工程と、前記超電導
体下部電極14上にジョセフソン接合部16を開けてマ
スクする工程と、前記基板11のエッチングされていな
い表面及び前記開けられたジョセフソン接合部13に高
温超電導体薄膜を堆積して高温超電導体上部電極17及
びジョセフソン接合部16を形成する工程とを施す。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、超電導体素子に係
り、特に、高温超電導体を用いたジョセフソン素子の製
造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、この種の技術としては、“IEE
E TRANSACTIONS ONAPPLIED
SUPERCONDUCTIVITY,VOL.5,N
O2,JUNE 1995,P.3272”に開示され
るものがあり、その文献によれば、図2に示すように、
段差をつけた基板1上に、Bi2 Sr2 CaCu2 Ox
あるいはTl2 Ba2 Ca2 Cu3 10などのC軸方向
のコヒーレンスが極めて短い高温超電導体薄膜2を成膜
することにより、段差部3にスタックしたジョセフソン
接合を自然に得る製造方法が示されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た従来のジョセフソン素子の製造方法では、段差部の高
温超電導体が必ずしもC軸方向をとるとは限らず、C軸
方向でない場合には、ジョセフソン接合は得られないと
いった問題があった。本発明は、上記問題点を除去し、
基板のエッチングによる段差部の高温超電導体が正確に
C軸配向したジョセフソン接合を得ることができる超電
導体素子の製造方法を提供することを目的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するために、(1)超電導体素子の製造方法におい
て、基板の一部をエッチングする工程と、前記エッチン
グされた部分にエッチング段差部の高さより低い厚さの
高温超電導体薄膜を堆積して高温超電導体下部電極を形
成する工程と、前記超電導体下部電極上にジョセフソン
接合部を開けてマスクする工程と、前記基板のエッチン
グされていない表面及び前記開けられたジョセフソン接
合部に高温超電導体薄膜を堆積して高温超電導体上部電
極及びジョセフソン接合部を形成する工程とを施すよう
にしたものである。
【0005】本発明によれば、基板のエッチングによる
段差部分に正確にC軸配向したジョセフソン接合を得る
ことができる。また、エッチングされた基板部分の高温
超電導体下部電極の厚さを変えることによって、スタッ
クしたジョセフソン接合部の縦の長さをコントロールす
ることができる。
【0006】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照しながら説明する。図1は本発明の実施例
を示す超電導体素子の製造工程図である。以下、その超
電導体素子の製造方法について順次説明する。 (1)まず、図1(a)に示すように、基板11(例え
ば、LaAlO3 )の一部にマスク(あるいはレジス
ト)12を形成して、基板11の一部分をエッチングす
る。なお、Aはエッチングされた部分を示している。
【0007】(2)次いで、図1(b)に示すように、
マスク(あるいはレジスト)12をつけたまま、エッチ
ングされた部分AにBa2 Sr2 CaCu2 Oxあるい
はTl2 Ba2 Ca2 Cu3 10などの高温超電導体薄
膜を段差部13の途中まで成膜し、高温超電導体下部電
極14を形成する。 (3)次に、図1(c−1)〔平面図〕及び図1(c−
2)〔図1(c−1)のA−A線断面図〕に示すよう
に、マスク(あるいはレジスト)12を除去し、予定さ
れるジョセフソン接合部と上部電極部分が開かれた新し
いマスク(あるいはレジスト)15を形成する。
【0008】(4)次に、図1(d)に示すように、B
2 Sr2 CaCu2 OxあるいはTl2 Ba2 Ca2
Cu3 Oxを成膜し、ジョセフソン接合部16と高温超
電導体上部電極17を形成する。 このように、エッチングされた基板部分Aに最初に成膜
した高温超電導体薄膜が高温超電導体下部電極14を形
成し、段差部13にC軸方向に成膜された部分がスタッ
クしたジョセフソン接合部16を形成し、エッチングさ
れていない基板部分Bに成膜された高温超電導体薄膜か
らなる高温超電導体上部電極17を形成する。
【0009】このように、この実施例によれば、段差部
13に必ずC軸配向したジョセフソン接合を得ることが
できる。また、エッチングされた基板部分Aの高温超電
導体薄膜の厚さを変えることによって、スタックしたジ
ョセフソン接合部16の縦の長さをコントロールするこ
とができる。
【0010】なお、本発明は上記実施例に限定されるも
のではなく、本発明の趣旨に基づいて種々の変形が可能
であり、これらを本発明の範囲から排除するものではな
い。
【0011】
【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明に
よれば、基板のエッチングによる段差部に正確にC軸配
向したジョセフソン接合を得ることができる。また、エ
ッチングされた基板部分の高温超電導体下部電極の厚さ
を変えることによって、スタックしたジョセフソン接合
部の接合面積をコントロールすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例を示す超電導体素子の製造工程
図である。
【図2】従来の超電導体素子の製造方法を示す図であ
る。
【符号の説明】 11 基板 12,15 マスク(あるいはレジスト) 13 段差部 14 高温超電導体下部電極(高温超電導体薄膜) 16 ジョセフソン接合部 17 高温超電導体上部電極(高温超電導体薄膜)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】(a)基板の一部をエッチングする工程
    と、(b)前記エッチングされた部分にエッチング段差
    部の高さより低い厚さの高温超電導体薄膜を堆積して高
    温超電導体下部電極を形成する工程と、(c)前記超電
    導体下部電極上にジョセフソン接合部を開けてマスクす
    る工程と、(d)前記基板のエッチングされていない表
    面及び前記開けられたジョセフソン接合部に高温超電導
    体薄膜を堆積して高温超電導体上部電極及びジョセフソ
    ン接合部を形成する工程とを施すことを特徴とする超電
    導体素子の製造方法。
JP9021886A 1997-02-05 1997-02-05 超電導体素子の製造方法 Withdrawn JPH10223935A (ja)

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