JPH1021688A - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

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JPH1021688A
JPH1021688A JP8173335A JP17333596A JPH1021688A JP H1021688 A JPH1021688 A JP H1021688A JP 8173335 A JP8173335 A JP 8173335A JP 17333596 A JP17333596 A JP 17333596A JP H1021688 A JPH1021688 A JP H1021688A
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line
bit
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JP8173335A
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Inventor
Toshimi Kobayashi
林 利 巳 小
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JFE Steel Corp
Original Assignee
Kawasaki Steel Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】出力信号の変化を検出して内部回路の制御を行
うことにより、動作を高速化することができ、低消費電
力化することができる半導体記憶装置を提供すること。 【解決手段】複数のワード行と複数のビット列、及びそ
れらにつながるメモリセルを有するメモリセル回路を備
え、クロック信号に同期して動作する半導体記憶装置で
あって、前記メモリセル回路の各ワード行のメモリセル
に対応して設けられたダミーセルを有するダミーセル回
路と、前記クロック信号に同期して内部回路を動作状態
とし、前記ダミーセル回路の出力の変化を検出して内部
回路を非動作状態とする内部制御回路とを有することに
より、上記課題を解決する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体記憶装置に
関するものであって、さらに詳しくは、クロック信号に
同期して動作する同期型メモリの動作の高速化および低
消費電力化に関するものである。
【0002】
【従来の技術】同期型メモリにおいては、例えば図4の
タイミングチャートに示されるように、通常、デューテ
ィ比50%のクロック信号が使用されており、このクロ
ック信号のハイレベル期間は、例えばワード線やセンス
アンプがオン状態とされて、読み出しおよび書き込み等
が行われるメモリ動作状態の期間とされ、逆に、クロッ
ク信号のローレベル期間は、ビット線およびビットバー
線のプリチャージおよびイコライズ等が行われるメモリ
非動作状態の期間とされている。
【0003】しかしながら、読み出しおよび書き込み等
のアクセスタイムは、一般的に、ビット線およびビット
バー線等のプリチャージタイムよりも大きいため、アク
セスタイムに応じてデューティ比50%のクロック信号
を用いていると、メモリ非動作状態の期間として余分
(無駄)な時間を取ることになって、動作の高速化を図
ることができない、換言すれば、デューティ比50%の
クロック信号を使っていては動作を高速化することがで
きないという問題点があった。
【0004】また、読み出し動作時に、負荷回路によっ
てビット線およびビットバー線をプリチャージしたま
ま、メモリセルの情報の読み出しを行う同期型メモリに
おいては、読み出し動作のためにワード線がアクティブ
状態とされ、メモリセルとビット線およびビットバー線
とが電気的に接続されている間、負荷回路に接続された
電源から、メモリセルに接続されたグランドに向かって
直流電流が流れてしまうため、消費電流が増大してしま
うという問題点もあった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、前記
従来技術に基づく問題点をかえりみて、出力信号の変化
を検出して内部回路の制御を行うことにより、動作を高
速化することができ、低消費電力化することができる半
導体記憶装置を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、複数のワード行と複数のビット列、及び
それらにつながるメモリセルを有するメモリセル回路を
備え、クロック信号に同期して動作する半導体記憶装置
であって、前記メモリセル回路の各ワード行のメモリセ
ルに対応して設けられたダミーセルを有するダミーセル
回路と、前記クロック信号に同期して内部回路を動作状
態とし、前記ダミーセル回路の出力の変化を検出して内
部回路を非動作状態とする内部制御回路とを有すること
を特徴とする半導体記憶装置を提供するものである。
【0007】
【発明の実施の形態】以下に、添付の図面に示す好適実
施例に基づいて、本発明の半導体記憶装置を詳細に説明
する。
【0008】図1は、本発明の半導体記憶装置である同
期型メモリの一実施例の構成回路図である。同図に示さ
れる同期型メモリ10は、本発明を適用する、例えばD
RAM,SRAM等の揮発性メモリの部分的な回路構成
を示すものであって、図示例においては、メモリセル回
路12、ダミーセル回路14、入出力回路16および制
御回路18等を有して構成されている。
【0009】ここで、メモリセル回路12は、図中上下
方向に複数のワード行、図中左右方向に複数のビット列
からなるメモリセルアレイを有するものである。メモリ
セル回路12は、図示例においては、メモリセル回路1
2の1ビット列分だけしか示していないが、各ビット列
毎に、プリチャージ回路20、複数のワード行からなる
メモリセル22、イコライザ24、センスアンプ26お
よびライトドライバ28等を有している。
【0010】同様に、ダミーセル回路14は、自分自身
の出力の変化によって上記メモリセル回路12の動作の
終了を検出するためのものであって、図中上下方向に、
メモリセル回路12のワード行に対応する複数のワード
行および1ビット列からなるダミーセルアレイを有して
いる。ダミーセル回路14は、プリチャージ回路20、
複数のワード行からなるダミーセル30、イコライザ2
4およびダミーセンスアンプ32等を有している。
【0011】メモリセル回路12のメモリセル22およ
びセンスアンプ26は、それぞれダミーセル回路14の
ダミーセル30およびダミーセンスアンプ32に対応す
るものであって、メモリセル回路12とダミーセル回路
14とは、ダミーセル回路14がライトドライバ28を
有していないことを除いて、基本的に同じ構成を有する
ものであるから、以下の説明においては、特に言及しな
い限りメモリセル回路12を代表例として説明を行うも
のとする。
【0012】メモリセル回路12(ダミーセル回路1
4)において、まず、プリチャージ回路20は、基本的
に、メモリセル回路12に書き込み動作も読み出し動作
も行われないメモリ非動作状態の期間に、ビット線BL
およびビットバー線BLnをともに電源電位にプリチャ
ージし、かつ、同電位にイコライズするためのものであ
って、図示例においては、3つのN型MOSトランジス
タ(以下、NMOSという)34a,34b,34cを
有して構成されている。
【0013】ここで、NMOS34a,34bのドレイ
ンはともに電源に接続され、そのソースは、それぞれビ
ット線BLおよびビットバー線BLnに接続されてい
る。また、NMOS34cの入出力端子(ソースまたは
ドレイン)は、それぞれビット線BLおよびビットバー
線BLnに接続され、NMOS34a,34b,34c
のゲートは、ともにビット線BLおよびビットバー線B
Lnのプリチャージを制御するプリチャージ線PREに
接続されている。
【0014】メモリセル22は1ビットの情報を保持す
るものであって、メモリセル22には、メモリセル22
への書き込みおよび読み出しを制御するワード線WLが
入力され、そのデータ入出力端子は、それぞれビット線
BLおよびビットバー線BLnに接続されている。
【0015】また、ダミーセル30は、対応するワード
行がアクセスされたときに、後述するダミーセンスアン
プ線DSAの出力レベルを変化させるために、非動作状
態のダミーセンスアンプ線DSAの反転レベルの1ビッ
トの情報を保持するものであって、ダミーセル30に
は、ダミーセル30への書き込みおよび読み出しを制御
するワード線WLが入力され、そのデータ入出力端子
は、それぞれダミービット線DBLおよびダミービット
バー線DBLnに接続されている。
【0016】ここで、図2に、上記メモリセル22(ダ
ミーセル30)の一実施例の構成回路図を示す。図示例
のメモリセル22は、SRAMメモリセルの一例であっ
て、P型MOSトランジスタ(以下、PMOSという)
36a,36bと、NMOS38a,38b,40a,
40bとを有している。PMOS36aおよびNMOS
38a、PMOS36bおよびNMOS38bは、とも
にCMOSインバータ42a,42bを構成し、その入
出力端子は互いにクロスカップル接続されている。
【0017】即ち、PMOS36a,36bのソースは
ともに電源に接続され、NMOS38a,38bのソー
スはともにグランドに接続されている。また、PMOS
36aおよびNMOS38aのゲートは短絡され、その
ドレインも短絡され、それぞれインバータ42aの入力
端子および出力端子とされている。同様に、PMOS3
6bおよびNMOS38bのゲートは短絡され、そのド
レインも短絡され、それぞれインバータ42bの入力端
子および出力端子とされている。
【0018】そして、インバータ42aの出力端子は、
インバータ42bの入力端子およびNMOS40aの一
方の入出力端子に接続され、同様に、インバータ42b
の出力端子は、インバータ42aの入力端子およびNM
OS40bの一方の入出力端子に接続されている。ま
た、NMOS40a,40bの他方の入出力端子は、そ
れぞれビット線BLおよびビットバー線BLnに接続さ
れ、そのゲートは、ともにワード線WLに接続されてい
る。
【0019】メモリセル22(ダミーセル30)は、例
えばこのような構成を有するものであるが、メモリセル
22(ダミーセル30)としては、SRAMメモリセ
ル、DRAMメモリセル、各種のROMメモリセルのい
ずれであってもよいことは当然のことである。
【0020】次いで、イコライザ24は、例えば書き込
み動作後のように、ビット線BLおよびビットバー線B
Lnの電位差が大きくなったときに、メモリ非動作状態
の期間において、ビット線BLおよびビットバー線BL
nを急速に同電位にイコライズするものであって、図示
例ではNMOSが用いられており、その入出力端子は、
それぞれビット線BLおよびビットバー線BLnに接続
され、そのゲートには、イコライズ線EQが入力されて
いる。
【0021】センスアンプ26は、ビット線BLおよび
ビットバー線BLnに発生する差電圧を検出し、その差
電圧を増幅出力するものであって、センスアンプ26に
は、センスアンプ26の動作を制御するセンスイネーブ
ル線SEが入力され、そのデータ入出力端子は、それぞ
れビット線BLおよびビットバー線BLnに接続され、
センスアンプ26の出力はセンスアンプ出力線SOに出
力されている。
【0022】同様に、ダミーセンスアンプ32は、ダミ
ービット線DBLおよびダミービットバー線DBLnに
発生する差電圧を検出し、その差電圧を増幅出力するも
のであって、ダミーセンスアンプ32には、ダミーセン
スアンプ32の動作を制御するセンスイネーブル線SE
が入力され、そのデータ入出力端子は、それぞれダミー
ビット線DBLおよびダミービットバー線DBLnに接
続され、ダミーセンスアンプ32の出力はダミーセンス
アンプ線DSAに出力されている。
【0023】ライトドライバ28は、書き込み動作時
に、ビット線BLおよびビットバー線BLnに、それぞ
れ書き込みデータおよびその反転データをドライブする
ものであって、図示例においては、指定されたカラムだ
けを選択的にドライブするカラムセレクタであるNMO
S44a,44bおよび駆動素子であるインバータ46
a,46b,46cを有して構成されている。
【0024】図示例のライトドライバ28において、イ
ンバータ46a,46cには後述する入出力回路16の
入力データラッチ48aの出力が入力され、インバータ
46aの出力はインバータ46bに入力され、インバー
タ46b,46cの出力は、それぞれNMOS44a,
44bのソースに接続されている。また、NMOS44
a,44bのドレインは、それぞれビット線BLおよび
ビットバー線BLnに接続され、そのゲートには、とも
にカラムセレクト線WRが入力されている。
【0025】次いで、入出力回路16は、入力データラ
ッチ48aおよび出力データラッチ48bを有してい
る。入力データラッチ48aのデータ入力端子Dおよび
反転イネーブル端子Gには、それぞれ入力データ線DI
およびラッチイネーブル線LEが入力され、その出力Q
はライトドライバ28に出力されている。同様に、出力
データラッチ48bのデータ入力端子Dおよびイネーブ
ル端子Gには、それぞれセンスアンプ出力線SOおよび
ラッチイネーブル線LEが入力され、その出力Qは出力
データ線DOに出力されている。
【0026】次に、制御回路18は、同期型メモリ10
の内部回路を制御する各種の制御信号を発生するもので
あって、ビット線BLおよびビットバー線BLn(ダミ
ービット線DBLおよびダミービットバー線DBLn)
のプリチャージおよびイコライズを制御するプリチャー
ジ制御回路74、ワード線WLを制御するワード線制御
回路50、ビット線BLおよびビットバー線BLn(ダ
ミービット線DBLおよびダミービットバー線DBL
n)のイコライズを制御するイコライズ制御回路52、
ビット列(カラム)への書き込みを制御する書き込み制
御回路54および内部回路の動作を制御する内部制御回
路56を有している。
【0027】制御回路18において、まず、プリチャー
ジ制御回路74は、インバータ76を有しており、イン
バータ76にはプリチャージイネーブル線PRNが入力
され、その出力はプリチャージ線PREに出力されてい
る。
【0028】ワード線制御回路50は、アドレスデータ
ラッチ58、NANDゲート60およびインバータ62
を有している。アドレスデータラッチ58のデータ入力
端子Dおよび反転イネーブル端子Gには、それぞれアド
レス線ADDRおよびラッチイネーブル線LEが入力さ
れ、その出力QはNANDゲート60の一方の入力端子
に入力されている。NANDゲート60の他方の入力端
子にはワードイネーブル線WEが入力され、その出力は
インバータ62に入力され、インバータ62の出力はワ
ード線WLに出力されている。
【0029】イコライズ制御回路52は、インバータ6
4を有しており、インバータ64にはイコライズイネー
ブル線EQNが入力され、その出力はイコライズ線EQ
に出力されている。書き込み制御回路54は、NAND
ゲート66およびインバータ68を有している。NAN
Dゲート66には、それぞれライト制御線WREおよび
ライトイネーブル線WRNが入力され、その出力はイン
バータ68に入力され、インバータ68の出力はカラム
セレクト線WRに出力されている。
【0030】内部制御回路56は、SRラッチ70およ
びバッファ72を有している。SRラッチ70のセット
端子Sおよびリセット端子Rには、それぞれクロック線
CLKから生成したCLK’線およびダミーセンスアン
プ線DSAが入力され、その出力は、それぞれのバッフ
ァ72によって、それぞれセンスイネーブル線SE、ワ
ードイネーブル線WE、ラッチイネーブル線LE、プリ
チャージイネーブル線PRN、イコライズイネーブル線
EQNおよびライトイネーブル線WRNに出力されてい
る。
【0031】なお、図示例においては、SRラッチ70
を用いているが、SRラッチに限定されるものではな
く、各種のラッチや、例えばJKフリップフロップ等の
各種のフリップフロップを用いてもよいことはいうまで
もないことである。また、図示例のSRラッチ70は、
入力端子S,Rに入力されるハイレベルのパルスによっ
て制御されるものであるが、例えばローレベルのパルス
で制御してもよいし、例えばエッジで制御するようにし
てもよい。CLK’線は、クロック線CLKと、それを
インバータ80a,80b,80cにより奇数段遅延し
た信号とをNANDゲート86に入力し、その出力をさ
らにインバータ82により反転することによって生成し
ている。これは、SRラッチ70のS,R端子が同時に
ハイレベルとなり、動作が不安定になるのを避けるため
である。
【0032】本発明の半導体記憶装置の一実施例である
同期型メモリ10は、基本的に以上のように構成され
る。なお、図示例においては、同期型のSRAMメモリ
セルを用いる揮発性メモリを例に挙げてその構成を説明
したが、本発明はこれに限定されず、例えば上記実施例
以外のSRAM,DRAM等の揮発性メモリや、各種の
ROM等の不揮発性メモリに適用可能なことはいうまで
もないことである。
【0033】次に、図3に示されるタイミングチャート
を参照しながら、上記同期型メモリ10の動作について
説明する。なお、ダミーセンスアンプ線DSAの非動作
時のレベルはローレベルであって、ダミーセル30に
は、ダミーセンスアンプ線DSAの非動作時のローレベ
ルの反転レベルであるハイレベルが保持されているもの
とする。
【0034】同期型メモリ10において、まず、メモリ
非動作状態の期間は、センスイネーブル線SE、ワード
イネーブル線WE、ラッチイネーブル線LE、プリチャ
ージイネーブル線PRN、イコライズイネーブル線EQ
Nおよびライトイネーブル線WRNはともにローレベル
であり、プリチャージ線PREおよびイコライズ線EQ
はともにハイレベルである。
【0035】従って、センスアンプ26およびダミーセ
ンスアンプ32は非動作状態であって、センスアンプ出
力線SOおよびダミーセンスアンプ線DSAはともにロ
ーレベルである。また、ワード線WLはローレベルであ
って、全てのメモリセル22は非動作状態である。ビッ
ト線BLおよびビットバー線BLn、ダミービット線D
BLおよびダミービットバー線DBLnはともに電源電
位にプリチャージされ、同電位にイコライズされてい
る。
【0036】また、入力データラッチ48aおよびアド
レスデータラッチ58はともにスルー(通過)状態であ
って、データ出力端子Qからは、それぞれアドレス線A
DDRおよび入力データ線DIのレベルが出力されてい
る。一方、出力データラッチ48bはラッチ(保持)状
態であって、ラッチイネーブル信号LEがローレベルに
変化する直前のセンスアンプ26の出力がデータ出力端
子Qから出力されている。カラムセレクト線WRはロー
レベルであって、ライトドライバ28の出力は、ビット
線BLおよびビットバー線BLnから電気的に切り離さ
れている。
【0037】次に、データの読み出し動作時において
は、まず、読み出すワード行に対応するアドレス信号が
アドレス線ADDRに入力される。次いで、クロック線
CLKがローレベルからハイレベルに変化すると、SR
ラッチ70がセットされてハイレベルとなり、センスイ
ネーブル線SE、ワードイネーブル線WE、ラッチイネ
ーブル線LE、プリチャージイネーブル線PRN、イコ
ライズイネーブル線EQNおよびライトイネーブル線W
RNはともにハイレベルに変化する。
【0038】このとき、入力データラッチ48aおよび
アドレスデータラッチ58はともにラッチ状態となり、
データ出力端子Qからは、ラッチイネーブル信号LEが
ハイレベルに変化する直前のアドレス線ADDRおよび
入力データ線DIのレベルが出力される。なお、読み出
し動作時には、ライト制御線WREがローレベルとさ
れ、カラムセレクト線WRがローレベルのままになって
いるため、ライトドライバ28の出力は、ビット線BL
およびビットバー線BLnから電気的に切り離されてい
る。
【0039】また、プリチャージ線PREおよびイコラ
イズ線EQはともにローレベルとなって、ビット線BL
およびビットバー線BLn、ダミービット線DBLおよ
びダミービットバー線DBLnのプリチャージおよびイ
コライズが終了され、ワード線WLがハイレベルとなっ
て、ビット線BLとビットバー線BLnとの間、ダミー
ビット線DBLとダミービットバー線DBLnとの間
に、メモリセル22およびダミーメモリセル30の記憶
情報に応じてそれぞれ差電圧が発生する。
【0040】次いで、ビット線BLとビットバー線BL
nとの間の差電圧は、センスアンプ26によって増幅さ
れ、センスアンプ出力線SOに出力される。また、出力
データラッチ48bはスルー状態となって、センスアン
プ26の出力が出力データ線DOに出力される。一方、
ダミービット線DBLとダミービットバー線DBLnと
の間の差電圧は、ダミーセンスアンプ32によって増幅
され、ダミーセンスアンプ線DSAはローレベルからハ
イレベルに変化する。
【0041】ダミーセンスアンプ線DSAがハイレベル
に変化すると、SRラッチ70がリセットされてローレ
ベルとなり、センスイネーブル線SE、ワードイネーブ
ル線WE、ラッチイネーブル線LE、プリチャージイネ
ーブル線PRN、イコライズイネーブル線EQNおよび
ライトイネーブル線WRNはともにローレベルに変化
し、同期型メモリ10はメモリ非動作状態となる。
【0042】次に、データの書き込み動作時において
は、まず、書き込まれるワード行に対応するアドレス信
号がアドレス線ADDRに入力され、書き込みデータが
入力データ線DIに入力される。次いで、クロック線C
LKがローレベルからハイレベルに変化すると、SRラ
ッチ70がセットされてハイレベルとなり、センスイネ
ーブル線SE、ワードイネーブル線WE、ラッチイネー
ブル線LE、プリチャージイネーブル線PRN、イコラ
イズイネーブル線EQNおよびライトイネーブル線WR
Nはともにハイレベルに変化する。
【0043】このとき、入力データラッチ48aおよび
アドレスデータラッチ58はともにラッチ状態となり、
そのデータ出力端子Qからは、それぞれラッチイネーブ
ル信号LEがハイレベルに変化する直前のアドレス線A
DDRおよび入力データ線DIのレベルが出力される。
プリチャージ線PREおよびイコライズ線EQはともに
ローレベルになって、ビット線BLおよびビットバー線
BLn、ダミービット線DBLおよびダミービットバー
線DBLnのプリチャージおよびイコライズが終了され
る。
【0044】ここで、書き込み動作時には、指定された
ビット列のライト制御線WREがハイレベルとされ、カ
ラムセレクト線WRがハイレベルに変化する。このた
め、ビット線BLおよびビットバー線BLnには、ライ
トドライバ28によって、それぞれ入力データラッチ4
8aの出力データおよびその反転データがドライブされ
る。次いで、ワード線WLがハイレベルとなってメモリ
セル22に書き込みデータが書き込まれるとともに、ダ
ミーメモリセル30の情報が読み出される。
【0045】次いで、ビット線BLとビットバー線BL
nとの間の差電圧は、センスアンプ26によって増幅さ
れ、センスアンプ出力線SOに出力される。また、出力
データラッチ48bはスルー状態となって、センスアン
プ26の出力が出力データ線DOに出力される。一方、
ダミービット線DBLとダミービットバー線DBLnと
の間の差電圧は、ダミーセンスアンプ32によって増幅
され、ダミーセンスアンプ線DSAにはハイレベルが出
力される。
【0046】ダミーセンスアンプ線DSAがハイレベル
に変化すると、SRラッチ70がリセットされてローレ
ベルとなり、センスイネーブル線SE、ワードイネーブ
ル線WE、ラッチイネーブル線LE、プリチャージイネ
ーブル線PRN、イコライズイネーブル線EQNおよび
ライトイネーブル線WRNはともにローレベルに変化し
て、同期型メモリ10はメモリ非動作状態に戻る。同期
型メモリ10は、基本的に以上のように動作する。
【0047】
【発明の効果】以上詳細に説明した様に、本発明の半導
体記憶装置によれば、出力が確定すると即座にワード線
をオフしてイコライズ動作に入り、次のアクセスまで
(次にワード線がオンになるまで)充分にビット線およ
びビットバー線をイコライズすることができるため、動
作を高速化することができる。また、デューティ比に係
わらず、クロックの周波数を最適化することができ、読
み出し動作時に、負荷回路によってビット線およびビッ
トバー線をプリチャージしたまま、メモリセルの情報の
読み出しを行ったとしても、直流電流が流れる時間を短
縮することができるため、消費電流を低減することがで
きる。さらに、ダミーセル回路がワード行数に応じた速
度で動作し、内部回路の制御信号を生成して自分自身で
非動作状態となるため、様々なメモリサイズに対応する
ことができるという利点がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の半導体記憶装置の一実施例の構成回
路図である。
【図2】 メモリセルの一実施例の構成回路図である。
【図3】 本発明の半導体記憶装置の動作を表す一実施
例のタイミングチャートである。
【図4】 同期型メモリの動作概念図である。
【符号の説明】
10 同期型メモリ 12 メモリセル回路 14 ダミーセル回路 16 入出力回路 18 制御回路 20 プリチャージ回路 22 メモリセル 24 イコライザ 26 センスアンプ 28 ライトドライバ 30 ダミーセル 32 ダミーセンスアンプ 34a,34b,34c,38a,38b,40a,4
0b,44a,44bN型MOSトランジスタ(NMO
S) 36a,36b P型MOSトランジスタ(PMOS) 42a,42b,46a,46b,46c,62,6
4,68,76,80a,80b,80c,82 イン
バータ 48a 入力データラッチ 48b 出力データラッチ 50 ワード線制御回路 52 イコライズ制御回路 54 書き込み制御回路 56 内部制御回路 58 アドレスデータラッチ 60,66,86 NANDゲート 70 SRラッチ 72 バッファ 74 プリチャージ制御回路 CLK クロック線 ADDR アドレス線 DI 入力データ線 DO 出力データ線 BL ビット線 BLn ビットバー線 DBL ダミービット線 DBLn ダミービットバー線 PRN プリチャージイネーブル線 PRE プリチャージ線 LE ラッチイネーブル線 WE ワードイネーブル線 WL ワード線 EQN イコライズイネーブル線 EQ イコライズ線 SE センスイネーブル線 SO センスアンプ出力線 DSA ダミーセンスアンプ線 WRN ライトイネーブル線 WRE ライト制御線 WR カラムセレクト線

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】複数のワード行と複数のビット列、及びそ
    れらにつながるメモリセルを有するメモリセル回路を備
    え、クロック信号に同期して動作する半導体記憶装置で
    あって、 前記メモリセル回路の各ワード行のメモリセルに対応し
    て設けられたダミーセルを有するダミーセル回路と、前
    記クロック信号に同期して内部回路を動作状態とし、前
    記ダミーセル回路の出力の変化を検出して内部回路を非
    動作状態とする内部制御回路とを有することを特徴とす
    る半導体記憶装置。
JP8173335A 1996-07-03 1996-07-03 半導体記憶装置 Pending JPH1021688A (ja)

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