JPH10213528A - 透過型電子顕微鏡のための試料の作製方法とそれに用いる作製装置 - Google Patents

透過型電子顕微鏡のための試料の作製方法とそれに用いる作製装置

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Publication number
JPH10213528A
JPH10213528A JP1347397A JP1347397A JPH10213528A JP H10213528 A JPH10213528 A JP H10213528A JP 1347397 A JP1347397 A JP 1347397A JP 1347397 A JP1347397 A JP 1347397A JP H10213528 A JPH10213528 A JP H10213528A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sample
electron microscope
transmission electron
end point
etching
Prior art date
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Pending
Application number
JP1347397A
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English (en)
Inventor
Yoshifumi Hata
良文 畑
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electronics Corp
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Publication date
Application filed by Matsushita Electronics Corp filed Critical Matsushita Electronics Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 透過型電子顕微鏡のための試料を短時間で作
製できるようにする。 【解決手段】 配線パターン6を形成した終点検出パタ
ーンの上に透過型電子顕微鏡のための試料1、2、3を
裏返しに載せ、この試料1、2、3を裏面からエッチン
グし、このエッチングによって試料中央部に微小な穴が
開き、次いで配線パターン6がエッチングされて断線さ
れときに、この断線を検出する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、透過型電子顕微
鏡のための試料の作製が終了したことを検出する終点検
出パターンを用いた透過型電子顕微鏡のための試料の作
製方法およびそれに用いる作製装置に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】まず従来の透過型電子顕微鏡のための試
料の作製方法について説明する。図9は透過型電子顕微
鏡で観察する試料の断面模式図で、Si基板1の表面に
酸化膜2を形成するとともに、この酸化膜2の上にポリ
シリコン膜3を堆積したものである。
【0003】透過型電子顕微鏡は試料を透過した電子を
電子レンズで結像し観察像を得るものであるから、数1
00keVに加速された電子が十分に透過する程度の試
料膜厚でなければならない。そこで一般的な透過型電子
顕微鏡のための試料作製方法では、機械的な加工とイオ
ンビームによるスパッタエッチングとによって、図9に
示す試料の中央部に微小な穴を設ける。そしてこの微小
な穴の周辺の薄膜部分で、透過型電子顕微鏡による観察
を行う。
【0004】以下、図9に示すポリシリコン膜3を透過
型電子顕微鏡で観察するための試料の作製方法を説明す
る。まず、図10に示すように、機械的な切断、研磨に
よって、試料の裏側すなわちSi基板1の膜厚を薄くす
る。この時、試料中央部を薄くすれば、周辺部の試料膜
厚が厚い状態で中央部に微少な穴が開き、試料作製後の
試料の取り扱いに都合が良い。次に図11に示すよう
に、この機械加工した試料にイオン銃4からイオンビー
ム5を照射し、このイオンビーム5によって試料中央部
をスパッタエッチングする。このスパッタエッチングに
よって図12のように酸化膜2やポリシリコン膜3にく
ぼみが形成され、そして試料の中央部のポリシリコン膜
3に微小な穴が開いたら試料作製は終了である。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】このような従来の透過
型電子顕微鏡のための試料の作製方法では、イオンビー
ム5によるスパッタエッチング加工に約5時間程度の時
間を要し、しかも1つのイオン銃4で1試料を作製する
ことしかできないので、試料作製に多大な時間を要する
という問題があった。
【0006】そこでこの発明は、透過型電子顕微鏡のた
めの試料を短時間で作製できるようにすることを目的と
する。
【0007】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
にこの発明は、配線パターンを形成した終点検出パター
ンの上に透過型電子顕微鏡のための試料を裏返しに載
せ、上記試料を裏面からエッチングし、このエッチング
によって試料中央部に微小な穴が開き、次いで前記配線
パターンがエッチングされて断線されときに、この断線
を検出するものである。
【0008】このようにすると、終点検出パターンの配
線パターンを検出することで、試料の作製の完了の時点
を検出できるので、その時点でエッチングを終了する。
【0009】
【発明の実施の形態】請求項1に記載のこの発明は、配
線パターンを形成した終点検出パターンの上に透過型電
子顕微鏡のための試料を裏返しに載せ、上記試料を裏面
からエッチングし、このエッチングによって試料中央部
に微小な穴が開き、次いで前記配線パターンがエッチン
グされて断線されときに、この断線を検出するものであ
る。
【0010】このようにすると、配線パターンの断線を
検出することで、試料の作製の完了の時点を検出できる
ので、その時点でエッチングを終了することによって、
試料の作製時間を短縮することができる。
【0011】請求項2に記載のこの発明は、Si基板表
面に成膜した酸化膜上にポリシリコン膜を堆積し、この
ポリシリコン膜の一部を切り欠いて配線パターンを形成
することで、終点検出パターンを作製するものである。
【0012】このようにすると、終点検出パターンを容
易かつ確実に作製することができる。
【0013】請求項3に記載のこの発明は、終点検出パ
ターンに電圧を印加するための手段と、この終点検出パ
ターンの配線パターンが断線した時に上記配線に流れる
電流が切れたことを検出してエッチング終了信号を生成
する手段とを備えたものである。
【0014】これによると、終点検出パターンに電圧を
印加して、その配線パターンの断線時に電流が切れたこ
とを検出してエッチング終了信号を生成するため、配線
パターンの断線の検出と、それにもとづくエッチングの
終了とを確実に実行することができる。
【0015】以下、この発明の実施の形態について説明
する。図1は、この発明にもとづく終点検出パターンの
平面図である。この終点検出用パターンは、ポリシリコ
ン膜によって配線パターン6と電極7とを形成したもの
である。
【0016】まずこの終点検出パターンの作製方法を説
明する。図2と図3は、この終点検出パターンの作製方
法を説明する断面模式図である。すなわち、まず図2に
示すようにSi基板8上に酸化膜9を形成し、その上に
ポリシリコン膜10を堆積する。そして、図3に示すよ
うに、リソグラフィ法とドライエッチング法とによって
ポリシリコン膜10を部分的に切り欠くことで、配線パ
ターン6と電極7とが形成されて、図1に示すような終
点検出パターンが得られる。
【0017】次に、この終点検出パターンを用いた、透
過型電子顕微鏡のための試料の作製方法を説明する。ま
ず従来の試料の作製方法と同様に機械的加工によって試
料を加工する。その後、図4に示すように、この機械加
工した試料を終点検出パターンの上に裏返しに載せる。
すなわち試料のポリシリコン膜3が配線パターン6に重
なるようにする。
【0018】図5に示すように、終点検出パターンのポ
リシリコン膜の電極7から引き出した外部配線に電源1
1によって電圧を印加し、この外部配線上に電流が流れ
ていることを検出する検出回路12を設ける。そして、
この検出回路12で電流のON/OFFを検知し、その
検知結果についての信号をドライエッチング装置のコン
トローラ13に送る。
【0019】この配置のもとで、CF4ガスを用いたド
ライエッチングによって試料を裏面からエッチングす
る。すると、図6に示すように試料のSi基板1と酸化
膜2とポリシリコン膜3とがエッチングされ、やがて試
料の中央部に微小な穴が開く。さらにエッチングを継続
すると、図7に示すように検出パターンのポリシコン配
線6がエッチングされ、このポリシリコン配線6が断線
となる。
【0020】この断線となったことを検出回路12で検
出し、それによってエッチングを終了する信号をドライ
エッチング装置のコントローラ13に送る。上記説明で
はドライエッチング装置の中に1つの試料のみ入れた場
合を説明したが、実際にこの発明を実施する場合は、図
8に示すように複数の試料をドライエッチング装置の中
でエッチングし、エッチングを終了した試料から順に取
り出し、再度エッチングを繰り返すことによって、透過
型電子顕微鏡のための試料の作製時間を大幅に短縮する
ことができる。
【0021】
【発明の効果】この発明の透過型電子顕微鏡のための試
料の作製方法とそれに用いる作製装置によれば、試料の
作製が終了した時点でエッチングを終えることができる
ので、試料の作製時間を短縮することができ、しかも複
数の試料を同時にエッチング処理した場合にも、各々の
試料の作製が終了した時点でそれぞれエッチングを終え
ることができるので、その作製時間を大幅に短縮するこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の実施の形態における終点検出パター
ンの一例の平面図である。
【図2】図1の終点検出パターンの作製方法を説明する
断面図である。
【図3】図2の次の段階における終点検出パターンの作
製方法を説明する断面図である。
【図4】この発明の実施の形態の透過型電子顕微鏡のた
めの試料の作製方法を説明する図である。
【図5】この発明の実施の形態の透過型電子顕微鏡のた
めの試料の作製装置のブロック図である。
【図6】図4の次の段階における透過型電子顕微鏡のた
めの試料の作製方法を説明する図である。
【図7】図6の次の段階における透過型電子顕微鏡のた
めの試料の作製方法を説明する図である。
【図8】この発明の実施の形態の、複数の試料を同時に
処理可能な、透過型電子顕微鏡のための試料の作製装置
のブロック図である。
【図9】透過型電子顕微鏡で観察すべき試料の断面構造
を説明する図である。
【図10】透過型電子顕微鏡のための試料についての従
来の作製方法を説明する図である。
【図11】図10の次の段階における透過型電子顕微鏡
のための試料についての従来の作製方法を説明する図で
ある。
【図12】図11の次の段階における透過型電子顕微鏡
のための試料についての従来の作製方法を説明する図で
ある。
【符号の説明】
1 Si基板 2 酸化膜 3 ポリシリコン膜 6 配線パターン 7 電極 8 Si基板 9 酸化膜 11 電源 12 検出回路 13 コントローラ

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 配線パターンを形成した終点検出パター
    ンの上に透過型電子顕微鏡のための試料を裏返しに載
    せ、上記試料を裏面からエッチングし、このエッチング
    によって試料中央部に微小な穴が開き、次いで前記配線
    パターンがエッチングされて断線されときに、この断線
    を検出することを特徴とする透過型電子顕微鏡のための
    試料の作製方法。
  2. 【請求項2】 Si基板表面に成膜した酸化膜上にポリ
    シリコン膜を堆積し、このポリシリコン膜の一部を切り
    欠いて配線パターンを形成することで、終点検出パター
    ンを作製することを特徴とする請求項1記載の透過型電
    子顕微鏡のための試料の作製方法。
  3. 【請求項3】 請求項1または2記載の透過型電子顕微
    鏡のための試料の作製方法に使用するための装置であっ
    て、終点検出パターンに電圧を印加するための手段と、
    この終点検出パターンの配線パターンが断線した時に上
    記配線に流れる電流が切れたことを検出してエッチング
    終了信号を生成する手段とを備えたことを特徴とする透
    過型電子顕微鏡のための試料の作製装置。
JP1347397A 1997-01-28 1997-01-28 透過型電子顕微鏡のための試料の作製方法とそれに用いる作製装置 Pending JPH10213528A (ja)

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