JPH10209125A - 流体温度の制御装置及びその方法 - Google Patents

流体温度の制御装置及びその方法

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JPH10209125A
JPH10209125A JP873997A JP873997A JPH10209125A JP H10209125 A JPH10209125 A JP H10209125A JP 873997 A JP873997 A JP 873997A JP 873997 A JP873997 A JP 873997A JP H10209125 A JPH10209125 A JP H10209125A
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cooling
fluid
heater
temperature
heating
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JP873997A
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Toshiyuki Kamei
利之 亀井
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Komatsu Ltd
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Komatsu Ltd
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    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05DSYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
    • G05D23/00Control of temperature
    • G05D23/19Control of temperature characterised by the use of electric means
    • G05D23/1925Control of temperature characterised by the use of electric means using a combination of auxiliary electric and non-electric power

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  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Control Of Temperature (AREA)
  • Devices That Are Associated With Refrigeration Equipment (AREA)
  • Drying Of Semiconductors (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 温度制御の精度が高くかつ熱応答性も高い流
体温度制御装置及び方法を提供する。 【解決手段】 熱交換器2において、容器21の内側を
温度制御対象の流体が流れ、この流体を容器21外側を
流れる冷却液で冷却し、容器21の中心にあるヒーティ
ングランプ25で流体を加熱する。流体を冷却すると
き、必要冷却量より若干大きい冷却量を発揮する流量で
冷却液を流すと共に、ランプ25も点灯し、ランプの加
熱量で調節することにより、総合的な冷却量を制御す
る。冷却が必要となる時点以前に、前もって冷却液を流
すと共にその冷却量を相殺する加熱量でランプを点灯し
ておき、冷却が必要になった時点からランプ出力を必要
冷却量分だけ減少させて冷却を開始する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の技術分野】本発明は、流体の温度を制御するた
めの装置及びその方法に関する。
【0002】
【従来の技術】流体の温度の制御方法の一つとして、特
公昭59−19276号に記載されたものがある。この
方法は、温度制御対象のプロセス流体とこれを加熱又は
冷却するための媒体流体とを隔壁をへだてて接触させ熱
交換を行うもので、隔壁を二重に設けその隔壁間に液体
を流入させ、この隔壁間の流体の液位を変化させること
により、上記2流体間の交換熱量を調節するようにした
ものである。
【0003】また、別の方法として、特開昭61−29
1898号に記載されたものは、温度制御対象流体の流
れる複数本の冷却流路にそれぞれ弁を設け、流体の温度
に応じて弁を開閉して冷却流路の数を変化させることで
冷却能力を変更するようにしたものである。
【0004】また、特開平7−159084号に開示さ
れた方法は、多数本の伝熱管内を流れる温度制御対象流
体と伝熱管の外側を流れる別の流体の間で熱交換を行う
方法であって、伝熱管内の流体の温度に応じて伝熱管の
本数をコントロールすることにより流体の温度を一定に
制御しようとするものである。
【0005】また、広く行われている方法として、温度
制御対象流体を冷却するための冷却液の流路に弁を設
け、対象流体の温度に応じて弁の開閉を行うことによ
り、対象流体の温度を制御する方法もある。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の流体温
度制御方法は、いずれも高精度の温度制御が要求される
用途や、高速の熱応答性が要求される用途には向いてい
ない。
【0007】このような用途の典型として、半導体製造
に用いられるプラズマエッチング装置のチャンバの温度
制御がある。チャンバの壁内には流体流管が配設されて
おり、この流体流管はチャンバ外の熱交換器に接続され
ていて、熱交換器からチャンバに至り、チャンバ壁内を
通って熱交換器へと戻る一つの循環流路を構成してい
る。この循環流路には、例えばエチレングリコールやフ
ロリナート(登録商標)のような温度制御に適した熱媒
体(流体)が流される。熱媒体は、熱交換器において加
熱又は冷却されて目標温度にされてから、チャンバに送
られてチャンバ内の温度を目標温度に保つために用いら
れ、そして再び熱交換器へ戻る。
【0008】プラズマエッチングプロセスでは、チャン
バ内を摂氏90度位に加熱した後、チャンバ内が一定温
度になったところでウェハをチャンバ内に入れ、そし
て、チャンバ内でプラズマを発生させてウェハをエッチ
ングする。この間、チャンバ内は一定温度に維持する必
要がある。1つ(又は1群)のウェハの処理後、次のウ
ェハを入れ替えて、同じことを繰り返す。また、定期的
に一旦チャンバを冷却して、チャンバ内をクリーニング
する必要がある。クリーニング後、再び、チャンバを摂
氏90度位に加熱して、エッチングを再開する。
【0009】チャンバ内の温度を摂氏90度に立ち上げ
るとき、熱交換器ではヒータにより熱媒体を加熱する
が、その後チャンバ内でプラズマを発生させると、一時
的にチャンバ内の温度が上がるため、その熱を奪うため
に熱交換器では冷却水を流すなどして熱媒体を冷却する
必要がある。また、クリーニング時には、チャンバ内温
度を90度から室温に下げるために、熱媒体を冷却する
必要がある。
【0010】クリーニング時の冷却は作業効率の面から
速やかであることが望ましく、そのため熱交換器の冷却
能力は高いことが要求される。これに対し、プラズマ発
生時の冷却は、プラズマによる温度上昇分(数度)を吸
収するだけで良く、かつチャンバ外壁や流体循環路から
の放熱もあるため、熱交換器の冷却能力は低くてよく、
かえって高い冷却能力では過冷却になるため望ましくな
い。さらに、プラズマ発生時の冷却は熱応答性が良好で
ある必要があり、かつ摂氏90度に一定に保つために制
御精度も良くなければならない。
【0011】しかし、上述した従来の流体温度制御方法
は、いずれも、冷却液の流量や熱交換面積の変更によっ
て冷却能力を制御しているため、上記用途に適する程に
は応答性が高くなくかつ制御精度も低い。
【0012】従って、本発明の目的は、温度制御の精度
が高くかつ熱応答性も高い流体温度制御装置及び方法を
提供することにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明に従う流体温度の
制御装置及び方法は、冷却液を用いて流体を冷却しつつ
同時にヒータを用いて流体を加熱し、そして、ヒータの
出力を調節することにより流体の温度を制御することが
できるように構成されている。
【0014】冷却液を用いて流体を冷却するとき、冷却
液又は流体の流量を変えたり、冷却液と流体間の熱交換
面積を変えることにより流体温度を制御することはでき
るが、この方法では高い熱応答性や高い温度制御精度を
得ることが難しい。一方、ヒータで流体を加熱すると
き、ヒータ出力を調節することにより流体温度を応答性
良くかつ高精度に制御することは比較的に容易である。
特に、ヒータとして、ヒーティングランプや電熱線ヒー
タのような電力を熱に変換するタイプのヒータを用いる
と、高い応答性と高い制御精度を得ることが特に容易で
ある。本発明によれば、冷却液による冷却とヒータによ
る加熱を同時に行いつつ、ヒータ出力の調節により流体
温度を制御するため、ヒータのもつ高い熱応答性と高い
制御精度を活かして流体を冷却することができる。
【0015】さらに、冷却液による冷却量をヒータの最
大加熱量以下の範囲に設定しておけば、ヒータ出力の調
節だけで冷却モードから加熱モードへ、また加熱モード
から冷却モードへと円滑に移行することもできる。
【0016】また、例えば上述したエッチングチャンバ
の温度制御の場合のように、エッチング開始時点から流
体を冷却を開始する必要がある場合、冷却を開始すべき
時点以前から上述の同時的な冷却と加熱による制御を開
始しておくと、ヒータ出力を冷却開始時点までは冷却液
の冷却量と相殺するように調節し、冷却開始時点以降は
必要な冷却量分だけ減少させるというようなヒータ出力
制御が容易に行え、結果として、実質的に応答遅れなく
冷却を開始することができる。
【0017】本発明に従う同時的な冷却と加熱による温
度制御を実行する動作モードは、ある温度制御システム
において、当該動作モードや、冷却液による冷却だけを
実行するモードや、ヒータによる加熱だけを実行するモ
ードなどの中から、状況に応じて最適なモードが選択さ
れるような態様で、適宜に使用することもできる。本発
明に従う動作モードは、例えば、大きい冷却能力を発揮
できる能力をもった熱交換器を用いて小さい冷却量で精
度良く流体温度を制御したいような場合に利用価値が高
い。
【0018】
【発明の実施の形態】図1は、本発明の流体温度制御装
置の一実施形態の構成を示す。
【0019】熱交換システム1は、流体である熱媒体を
冷却又は加熱してその温度を設定温度に制御しつつ、そ
の熱媒体を負荷7へ供給するものである。そのため、熱
交換システム1と負荷7との間に、熱媒体を運ぶための
熱媒体流管9、10が配設されている。熱媒体流管9、
10は、その中を流れる熱媒体が熱交換システム1から
負荷7に至り、負荷7内を通って再び熱交換システム1
へと戻るような循環流路11を構成している。熱媒体に
は、例えば水、エチレングリコール、フロリナート(登
録商標)、ガルデン(登録商標)のような負荷7の温度
制御に適した流体を用いることができる。負荷7は、例
えば半導体製造プロセスに用いるプラズマエッチング装
置のチャンバであるが、これに限らず、熱媒体を用いて
温度制御を行うことができる種々の装置であり得ること
は言うまでもない。
【0020】熱交換システム1は、熱媒体を循環流路1
1内で循環させるために循環流路11に接続されたポン
プ3と、循環流路11内を流れる熱媒体を冷却及び加熱
するために循環流路11に接続された熱交換器2とを有
する。熱交換器2は、後に詳細に説明するように、冷却
水を用いて熱媒体を冷却する機能と、ランプヒータを用
いて熱媒体を加熱する機能とを有する。そのため熱交換
器2には、冷却水供給管13と冷却水排出管12とが接
続されており、また、図示しないランプヒータが内蔵さ
れている。冷却水供給管13の途中部分は、2つの経路
つまり大流量経路14と微小流量経路15とに分れてい
る。大流量経路14は電磁式の開閉バルブ5を有し、こ
の電磁バルブ5が開くと冷却水が比較的大流量で熱交換
器12に流れる。微小流量経路15は、電磁式の開閉バ
ルブ6と開度調整可能な絞り弁4とを有し、電磁バルブ
6が開くと絞り弁4によって絞られた比較的に少流量の
冷却水が熱交換器12に流れる。
【0021】熱交換器2の熱媒体出口近傍の循環流管1
1の部分に、熱交換器2から出た熱媒体の温度を測定す
るための温度センサ8が設けられている。また、熱交換
システム1の外部に、負荷7の運転状態に応じて熱媒体
の目標温度を設定するメインコントローラ17が設けら
れている。温度センサ8の検出した温度及びメインコン
トローラ17の設定した温度はコントローラ16に入力
される。コントローラ16は、後に詳述するように、メ
インコントローラ17からの設定温度と温度センサ8か
らの検出温度とを受け、ポンプ3の駆動、バルブ5、6
の開閉制御、絞り弁4の開度調節及び熱交換器2内のヒ
ーティングランプの出力調節を行うものであり、例え
ば、プログラムされたマイクロコンピュータ(図示せ
ず)と、このコンピュータからの指令を受けてポンプ
3、バルブ5、6、絞り弁4及びヒーティングランプ4
をそれぞれ駆動するドライバ回路(図示せず)とを含
む。
【0022】図2は、熱交換器2の具体的な構成例を示
した熱交換器2の縦断面図であり、図3は、図2のA−
A線での熱交換器2の横断面図である。
【0023】熱交換器2は、両端面が塞がれ内側に空間
23aを有する円筒形の内側容器21と、やはり円筒形
で塞がれた両端面を有しかつ内側容器21を囲繞して内
側容器21の外側に空間23bを形成している外側容器
2とを有する。内側容器21は、その周壁の一端に近い
箇所に、熱媒体の入口21aを有し、かつ、周壁の他端
に近い箇所であって入口21aとは中心軸に対して対称
な箇所に、熱媒体の出口21bを有する。熱媒体の出口
21bの近傍に図1に示した温度センサ8が取付けられ
ている。また、外側容器22は、その周壁の一端に近い
箇所に、冷却液(例えば水)の入口22aを有し、か
つ、周壁の他端に近い箇所であって入口22aとは中心
軸に対して対称な箇所に、冷却液の出口22bを有す
る。
【0024】内側容器21は、熱伝導性、耐食性及び成
形性の良好な材料、例えばアルミニューム、銅、ステン
レススチールなどで作られる。外側容器22も同様な材
料で作られてよいし、或は、耐食性及び成形性は良好で
あるが熱伝導性の高くない別の材料、例えばプラスチッ
クや塩化ビニルやセラミックスなどで作ることもでき
る。内側容器21と外側容器22との接合部は、溶接や
ロウ付けやその他の適当な方法により、液を洩らさない
ようシールされる。
【0025】内側容器21の内側空間23a内には、中
心軸に沿って透明筒24が配置され、この透明筒24は
内側容器21の両端の壁26、26を貫通している。こ
の透明筒24内に、ヒーティングランプ25が挿入され
ている。透明筒24は、石英ガラスのような光透過性の
極めて高い耐熱性の材料で作られている。ヒーティング
ランプ25には、赤外線を多く出すものが好ましく、例
えばヒータ用のハロゲンランプが用いられる。このラン
プ25は、ブッシュ29によって透明筒24に接触しな
いように、透明筒24内の中心軸位置に支持されてい
る。
【0026】内側容器21の両端の壁26、26は、硬
質ゴムやプラスチックや金属のように適度な弾性と十分
な耐熱性とをもつ材料によって作られている。端壁2
6、26と内側容器21及び透明筒24との間の隙間を
シールするために、端壁26、26の外周面と内周面に
はそれぞれOリングのようなシールリングが填め込まれ
ている。
【0027】内側容器21の内周面には、容器21の中
心軸に平行に伸びた多数本の内側フィン28aが固定さ
れており、外周面にも中心軸に平行に伸びた多数本の外
側フィン28bが固定されている。内側フィン28a
は、内側空間23aの半径の方向に、つまり、ランプ2
5からの赤外線の放射方向に、真っ直ぐに立っている。
外側フィン28bも同様に、半径の方向に放射状に直立
しているが、必ずしもそうである必要はない。内側フィ
ン28aも外側フィン28bも、内側空間23a及び外
側空間23bのほぼ全体領域にわたって分散されて配置
されており、且つその全体領域にわたって実質的に一様
の密度(つまり、概略的に一様の間隔)で配置されてい
る。これらのフィン28a、28bは、熱伝導率が高
く、耐食性及び成形性も良好な、例えばアルミニュー
ム、銅、ステンレススチールのような材料で作られる。
更に、赤外線の吸収率も良い材料であることが望まし
い。
【0028】内側フィン28aの先端と透明筒24の外
周面との間には僅かな隙間がある。外側フィン28bの
先端と外側容器22の内周面との間にも僅かな隙間があ
る。
【0029】このように構成された熱交換器2におい
て、熱媒体は入口21aから内側空間23aに流入し内
側空間23aを通って出口21bから流出する。また、
冷却液は入口22aから外側空間23bに流入し外側空
間23bを通って出口22bから流出する。
【0030】熱媒体を加熱する場合、ランプ25が点灯
される。ランプ25から放射された赤外線は透明筒24
を通過して内側空間23aに入射する。もし、熱媒体が
光吸収性の極めて低い物質(例えばフロリナート)であ
れば、赤外線の大部分はフィン28aに吸収され、そこ
で生じた放射熱がフィン28aから熱媒体へと伝えられ
て、熱媒体が加熱される。もし、熱媒体が光吸収性を適
度にもつ物質(例えば水、エチレングリコールなど)で
あれば、赤外線はフィン88aだけでなく熱媒体自体に
も直接吸収され、その放射熱で熱媒体の温度が上昇す
る。いずれにしても、ランプ25からの放射熱は内側空
間23aの全体領域にほぼ一様に行き渡るため、内側空
間23a内の熱媒体はむらなく一様に近い態様で加熱さ
れる。
【0031】加熱量の制御は、熱媒体出口21bに配置
した温度センサ8(図1参照)からの検出温度に応じて
コントローラ16(図1参照)が、ランプ25の点灯時
間のデューティ制御や発光量制御を行うことにより行わ
れる。例えば、熱媒体の検出温度と設定温度との偏差を
PID演算することによりランプ25への供給電力を調
節する。
【0032】また、熱媒体を冷却する場合は、冷却液が
流される。熱媒体が保有する熱が内側フィン28a、内
側容器21及び外側フィン28bを通じて冷却液に伝え
られ、熱媒体が冷却される。必要な冷却能力に応じて、
図1に示したコントローラ16が、バルブ6、5を選択
的に開くことにより、冷却液の流量を大小に切り替え
る。例えば、大きい冷却能力が必要な時は、バルブ5を
開くことにより、大流量経路14を通して冷却液を大量
に流す(この冷却モードを以下、「大冷却モード」とい
う)。一方、小さい冷却能力が望ましい時は、バルブ5
を閉じバルブ6を開くことにより、微小流量経路15を
通して冷却液を少量流す(この冷却モードを以下、「微
小冷却モード」という)。
【0033】この実施形態において注目すべき点は、微
小冷却モードでは、冷却液を流すのに加えて、ランプ2
5も点灯することである。即ち、実際に必要な冷却量よ
りも若干大きい冷却量が得られるような流量で冷却液を
流すと共に、ランプ25も点灯し、そして、ランプ25
の加熱量をPID制御することによって、必要な冷却量
が総合的に得られるようにするのである。このように冷
却と加熱を併用することの一つの利点は、冷却水の冷却
量の調節ではなくランプ25の加熱量の調節によって総
合的な冷却量を制御するため、総合的な冷却量の制御精
度が高くかつ応答性も高いことである。
【0034】図4は、図1に示したコントローラ16が
行う制御の流れを示す。
【0035】ここでは、負荷7がプラズマエッチング装
置のチャンバである場合を想定している。発明が解決し
ようとする課題の欄で既に述べたように、プラズマエッ
チングプロセスでは、まずチャンバ内を摂氏90度程度
に加熱し、チャンバ内温度が一定になったところで、チ
ャンバ内にウェハを入れプラズマを発生させてエッチン
グを行う。また、定期的に、チャンバを室温まで冷却し
てクリーニングを行う。プラズマ発生時には、プラズマ
発生による温度上昇分(数度)だけ熱媒体を冷却する必
要があるが、このときの冷却能力は小さい方が望まし
い。一方、クリーニングのために冷却する時は、冷却能
力は大きい方が望ましい。図4に示したコントローラ1
6の制御は、このような要求を満たすように熱媒体を加
熱及び冷却することを目的としている。
【0036】図4に示すように、コントローラ16はま
ず、微小流量経路15の絞り弁4の開度を次のように調
整し固定する(S1)。即ち、予め分っている負荷7
(プラズマエッチングチャンバ)の最大発熱量をW1、
微小流量経路15を通して冷却液を流したときの熱交換
器2での冷却液による冷却量をW2、予め分っているヒ
ーティングランプ25の最大加熱量をW3、予め分って
いる熱交換システム及び負荷を含めた系全体で放熱量を
W4とすると、冷却量W2がW1≦W2≦(W3−W
4)の範囲内の適当値になるように、絞り弁4の開度を
決定する。
【0037】その後、メインコントローラ17からコン
トローラ16に設定温度(熱媒体の目標温度)SVが入
力されると(S2)、コントローラ16は、その設定温
度SVと温度センサ8が検出した熱媒体の現在温度PV
とを比較する(S3)。比較の結果、設定温度SVが現
在温度PVより5度以上高い場合は、ステップS4〜S
10の制御へ進む。一方、ステップS3の比較の結果、
設定温度SVが現在温度PVより5度以上低い場合は、
ステップS11〜S14の制御へ進む。典型的な例を挙
げると、エッチングプロセスの最初の開始時や定期クリ
ーニング後の再開時であって、チャンバ内を室温から摂
氏90度程度まで加熱するために、摂氏90度程度の設
定温度が入力された場合には、ステップS4〜S10の
制御へ進む。また、例えば、定期的なクリーニングを行
うためにチャンバ内を摂氏90度程度から室温まで冷却
するために、室温の設定温度が入力された場合には、ス
テップS11〜S14の制御へ進む。
【0038】エッチングプロセスを開始するためにステ
ップS4へ進んだ場合、まずバルブ5、6を閉じて冷却
水の流れを止める。同時に、ランプ25を点灯し、熱媒
体を設定温度SVまで加熱するように、現在温度PVと
設定温度SVに基づいてランプ25の出力をPID制御
する(S5)。即ち、温度センサ8からの現在温度PV
の絶対値とその時間的な変化とを計測し、それら計測値
に基づいて現在温度PVと設定温度SVとの偏差の比例
演算値、微分演算値及び積分演算値を求め、それら演算
値を統合した値に従ってランプ25への供給電力を調節
する。
【0039】このようにして熱媒体を加熱しつつ、現在
温度PVと設定温度SVとを比較し、両者の温度差が1
度以内になったか否かチェックする(S6)。温度差が
1度以内になると、微小冷却モードに入るための準備を
開始する。即ち、バルブ6を開いて、微小冷却経路15
を通して小流量での冷却液の供給を開始する(S7)。
冷却液の流量は、ステップS1で固定した絞り弁4の開
度に応じた一定値である。それによる冷却量W2は、既
に述べたようにW1≦W2≦(W3−W4)の条件を満
している。この冷却液の供給開始と同時に、それによる
冷却量W2を打ち消して総合的な冷却量がゼロになるよ
うにランプ25の出力を調節する(S8)。即ち、冷却
液の供給が開始されると、温度センサ8からの現在温度
PVが低下するが、コントローラ16はステップS5か
ら継続して現在温度PVを設定温度SVに一致させるよ
うランプ出力をフィードバック制御しているから、現在
温度PVが低下するとこれを阻止するようランプ出力を
増加させることになる。一般に、ランプ出力制御は応答
性が高く、冷却量変化による温度変動に追従できるた
め、結果として、冷却液の供給が開始されても、熱媒体
の温度は大きく低下すること無く、実質的には設定温度
SV(摂氏90度程度)で一定に保たれることになる。
【0040】微小冷却モードの準備ができた後、負荷
(チャンバ)7ではプラズマエッチングが開始される。
すると、微小冷却モードが次のように実行される。即
ち、チャンバ内ではプラズマによる熱が発生し、この熱
を熱媒体が吸収するため、コントローラ16は温度セン
サ8からの現在温度PVの上昇を検知することになる
(S9)。すると、コントローラ16は、既に継続して
ランプ出力のフィードバック制御を行っているから、現
在温度PVの上昇を阻止するようランプ出力を若干減少
させる(つまり、総合的な冷却量を増加させる)ことに
なる(S10)。ランプ制御の応答性は高いから、結果
として、熱媒体の温度は実質的にはあまり上昇せずに設
定温度SV(摂氏90度程度)で一定に保たれることに
なる。以後、エッチングが行われている間、微小冷却モ
ードによって熱媒体の温度は実質的に設定温度SVで一
定に保たれる。微小冷却モードでは、チャンバ内で発生
する熱量の変動などに対してランプ出力制御による冷却
量調節で対応するため、応答性が良く高い精度の制御が
実現できる。また、ランプ出力の調節だけで、冷却液流
量を一定にしたままで、冷却から加熱及び加熱から冷却
への移行が無段階的に円滑に行え、このことも高精度な
温度制御を容易にする。
【0041】さて、エッチングプロセスを一旦止めて定
期クリーニングを行う場合には、前述したようにステッ
プS2で室温の設定温度が入力されるため、制御はステ
ップS11以下へ進んで大冷却モードを開始する。ま
ず、ステップS11でバルブ5を開いて、大流量経路1
4を通し大流量で冷却液を熱交換器2へ供給する。これ
により、大きい冷却能力での冷却が開始される。この大
冷却モードの実行中、現在温度PVと設定温度SVを比
較し、両温度の差が1度以下になるまで冷却を続ける
(S12)。両温度の差が1度以下になると、バルブ
5、6を閉じて、大冷却モードを終了する(S13)。
同時に、ランプ25を点灯し、現在温度PVが設定温度
SV(室温)に一致するようにランプ出力をPIDフィ
ードバック制御する(S14)。結果として、チャンバ
はエッチングプロセス実行時の摂氏90度程度から、高
速に室温まで冷却されることになる。
【0042】図5は、本発明の第2の実施形態の構成を
示す。尚、既に説明した第1の実施形態と同一機能を有
する要素には同一の参照番号を付して重複した説明は省
略する(後に説明する実施形態についても同様)。
【0043】この第2の実施形態では、熱交換システム
31は、循環流路11内に、熱交換器32をバイパスす
るためのバイパス流路32を有し、このバイパス流路3
2には電磁式の開閉バルブ36が設けられている。温度
センサ8は、熱交換器2から出てきた熱媒体とバイパス
流路32からの熱媒体との合流点の近傍かつ下流に設け
られている。熱媒体を熱交換器2に供給するための熱媒
体流路は、熱交換器2の入口手前で、2つの流路つまり
主流路35と微小流路37とに分れており、主流路35
には電磁式の開閉バルブ35が、微小流路37には絞り
弁34が設けられている。冷却液の供給管13は単純な
1本の管であり、そこに電磁式の開閉バルブ39が設け
られている。コントローラ38は、温度センサ8からの
現在温度PVとメインコントローラ17からの設定温度
SVとを受けて、ポンプ3、電磁バルブ35、36、3
9、絞り弁34及び熱交換器2内のヒーティングランプ
25(図2、3参照)を駆動及び制御する。
【0044】この熱交換システム31では、第1の実施
形態で行っていた冷却液流量の大小の切り替えに代え
て、熱交換器2へ供給する熱媒体の流量を大小に切り替
えることにより、冷却液による冷却量を大小に切り替え
る。即ち、主流路33のバルブ35を開きバイパス流路
32のバルブ36を閉じると、熱媒体は全て熱交換器2
を通るため、大冷却モードが行える。逆に、主流路33
のバルブ35を閉じバイパス流路32のバルブ36を開
けると、微小流路34のみを通じて少量の熱媒体のみが
熱交換器2に入るため、微小冷却モードが行える。この
微小冷却モードでは、第1の実施形態と同様、ランプ出
力のフィードバック制御により総合的な冷却量が調節さ
れる。
【0045】図6は、コントローラ38が行う制御の流
れを示す。ここでも、負荷7がプラズマエッチング装置
のチャンバである場合を想定している(以下の実施形態
も同様である)。
【0046】コントローラ38はまず、微小流路37の
絞り弁34の開度を調整し固定する(S21)。この場
合も、第1の実施形態の場合と同様、負荷7(プラズマ
エッチングチャンバ)の最大発熱量をW1、微小冷却モ
ードでの冷却液による冷却量をW2、ランプ25の最大
加熱量をW3とすると、冷却量W2がW1≦W2≦(W
3−W4)の範囲内の適当値になるように、絞り弁34
の開度を決定する。
【0047】その後、メインコントローラ17からコン
トローラ38に設定温度(熱媒体の目標温度)SVが入
力される(S22)。それ以降の制御は、図4に示した
第1の実施形態でのそれと基本的に同様である。但し、
加熱モードでは、冷却液のバルブ39を閉じるだけでな
く、熱媒体のバイパス流路32のバルブ36も閉じる
(S24、S33)。また、微小冷却モード(その準備
も含めて)では、既に説明したように、バルブ39を開
いて冷却液を一定流量で流し、かつ、バルブ35を閉じ
バルブ36を開くことにより、熱媒体を小流量で熱交換
器2に送り、残りの熱媒体は熱交換器2をバイパスさせ
る(S27)。大冷却モードでは、既に説明したよう
に、バルブ39を開いて冷却液を一定流量で流し、か
つ、バルブ35を開きバルブ36を閉じることにより、
全ての熱媒体を熱交換器2に送る(S31)。
【0048】この実施形態でも、微小冷却モード及びそ
の準備段階では、総合的な冷却量をランプ出力のフィー
ドバック制御により調節しているので、良好な熱応答性
と高い温度制御精度が得られる。
【0049】図7は、本発明の第3の実施形態の構成を
示す。
【0050】この実施形態では、熱交換システム41
は、多数(N個)の冷却液出口を有した熱交換器42を
有する。この熱交換器42は、基本的には、図2、3に
示した熱交換器2と同様の構造(つまり、共に円筒形の
外側及び内側容器間に形成された冷却液の流れる空間2
3bと、内側容器内に形成された熱媒体の流れる空間2
3aと、その内側容器内に挿入された円柱形のヒーティ
ングランプ25とを備えた構造)をもつ。しかし、その
外側容器にはその軸方向に沿って、図示のようにN個の
冷却液出口が並んでおり、それらN個の冷却液出口にN
本の冷却液排出管44-1〜44-Nが接続されている。そ
れらN本の冷却液排出管44-1〜44-Nは、それぞれ電
磁式の開閉バルブ43-1〜43-Nを有し、先方で1本の
共通の冷却液排出管12に接続している。この共通の冷
却液排出管12には絞り弁46が設けられている。冷却
水供給管13は単純な1本の管であり、電磁式の開閉バ
ルブ39を有する。コントローラ37は、現在温度PV
と設定温度SVとを入力し、ポンプ3、バルブ39、4
3-1〜43-N、絞り弁46、ランプ25を駆動及び制御
する。
【0051】この熱交換システム41では、N本の冷却
液排出管44-1〜44-Nの電磁バルブ43-1〜43-Nを
選択的に開くことにより、冷却液と熱媒体との間の実質
的な熱交換面積を変化させて、冷却液による冷却量を加
減することができる。例えば、冷却液入口に最も近い冷
却液出口に接続された冷却液排出管44-1のバルブ43
-1を開くと、実質的な熱交換面積は最も小さくなるか
ら、冷却液による冷却量は最小となる。また、冷却液入
口からより遠い冷却液出口のバルブを開く程、実質的な
熱交換面積はより大きくなり、冷却液による冷却量はよ
り大きくなる。よって、最も遠い出口のバルブ43-Nを
開くと、実質的な熱交換面積は最大となり、冷却液によ
る冷却量は最大となる。本実施形態では、説明を簡単に
するため、大冷却モードでは最も遠い出口のバルブ43
-Nを開き、微小冷却モードでは最も近い出口のバルブ4
3-1を開き、残りのバルブ43-2〜43-N-1は閉じたま
まとする。しかし、実際は、大冷却モード及び微小冷却
モードでどの程度の冷却量を必要とするかに応じて、各
モードでどのバルブを開くかが決められることになる。
【0052】図8は、コントローラ47が行う制御の流
れを示す。
【0053】コントローラ47はまず、微小冷却モード
での冷却液による冷却量W2がW1≦W2≦(W3−W
4)になるように、微小冷却モードで開くべき冷却液排
出用のバルブ(この実施形態ではバルブ43-1)を選
び、かつ絞り弁46の開度を調整し固定する(S4
1)。さらに、大冷却モードで必要な冷却量に応じて、
大冷却モードで開くべき冷却液排出用のバルブ(この実
施形態ではバルブ43-N)を選ぶ(S42)。
【0054】その後、メインコントローラ17から設定
温度SVが入力されると、コントローラ47は、図4に
示した第1の実施形態でのそれと基本的に同様の制御を
実行する。但し、加熱モードでは、冷却液供給用のバル
ブ39を閉じて冷却液を止め(S44、S53)、微小
冷却モード(その準備も含めて)では、バルブ39とバ
ルブ43-1のみを開くことにより冷却液を小流量で熱交
換器2に送り(S47)、また、大冷却モードでは、バ
ルブ39とバルブ43-Nのみを開くことにより、冷却液
を大流量で熱交換器2に送る(S51)。
【0055】この実施形態でも、微小冷却モード及びそ
の準備段階では、総合的な冷却量をランプ出力のフィー
ドバック制御により調節しているので、良好な熱応答性
と高い温度制御精度が得られる。
【0056】図9は、本発明の第4の実施形態の構成を
示す。
【0057】この実施形態の熱交換システム51では、
第1の実施形態の場合と同様の冷却と加熱の両機能をも
つ熱交換器2の他に、冷却機能だけをもつ第2の熱交換
器53が、第1の熱交換器2の上流側に設けられてい
る。第2の熱交換器53は、図2、3に示した構造から
ランプ25を除去したような構造をもつ。第2の熱交換
器53は、その冷却量W2がW1≦W2≦(W3−W
4)の条件を満たすよう、比較的に小さい熱交換面積を
もった構成に設計されており、これに対し第1の熱交換
器2は、第2の熱交換器53よりかなり大きい冷却量が
発揮できるよう、比較的に大きい熱交換面積をもった構
造に設計されている。第2の熱交換器53には、冷却液
供給管57と冷却液排出管56が接続されており、冷却
液供給管57には電磁式の開閉バルブ55が設けられて
いる。コントローラ58は、現在温度PVと設定温度S
Vとを入力し、ポンプ3、バルブ39、55、第1の熱
交換器2内のランプ25を駆動及び制御する。
【0058】この熱交換システム51では、第1の熱交
換器2と第2の熱交換器53に選択的に冷却水を供給す
ることにより、冷却液による冷却量を大小に切り替える
ことができる。即ち、第1の熱交換器2に冷却液を流す
と、比較的大面積で熱交換が行われるため、大冷却モー
ドを実行することができる。第2の熱交換器53に冷却
液を流すときは、比較的小面積で熱交換が行われるの
で、微小冷却モードを実行することができる。微小冷却
モードでは、第1の熱交換器のランプ出力を制御するこ
とにより、総合的な冷却量を応答性良くかつ高精度に制
御できる。
【0059】図10は、コントローラ58が行う制御の
流れを示す。
【0060】メインコントローラ17から設定温度SV
が入力されると、コントローラ58は、図4に示した第
1の実施形態でのそれと基本的に同様の制御を実行す
る。但し、加熱モードでは、バルブ39、55を閉じて
両方の熱交換器2、53への冷却液供給を止め(S6
4、S73)、微小冷却モード(その準備も含めて)で
は、バルブ39を閉じバルブ55を開くことにより冷却
液を小流量で第2の熱交換器53へ送り(S67)、ま
た、大冷却モードでは、バルブ39を開きバルブ55を
閉じることにより、冷却液を大流量で第1の熱交換器2
に送る(S71)。
【0061】この実施形態でも、微小冷却モード及びそ
の準備段階では、総合的な冷却量をランプ出力のフィー
ドバック制御により調節しているので、良好な熱応答性
と高い温度制御精度が得られる。
【0062】以上、本発明の幾つかの実施形態を例示し
たが、本発明はそれ以外の種々の形態でも実施できるこ
とは言うまでもない。例えば、負荷はエッチングチャン
バである必要はない。熱交換器は、図2、3に示したよ
うな構造である必要はなく、ヒータもランプに限らす電
熱線ヒータであってもよい。大冷却モードと微小冷却モ
ードの2種類の冷却モードを持つ必要もなく、加熱モー
ドも持つ必要もない。要するに、冷却液による冷却とヒ
ータによる加熱とを同時に行い、加熱量調節により総合
的な熱交換量を制御するような動作モードがあればよ
い。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施形態の構成を示す回路図。
【図2】熱交換器の構造を示す縦断面図。
【図3】図2のA−A線での横断面図。
【図4】第1の実施形態での制御の流れを示すフローチ
ャート。
【図5】本発明の第2の実施形態の構成を示す回路図。
【図6】第2の実施形態での制御の流れを示すフローチ
ャート。
【図7】本発明の第3の実施形態の構成を示す回路図。
【図8】第3の実施形態での制御の流れを示すフローチ
ャート。
【図9】本発明の第4の実施形態の構成を示す回路図。
【図10】第4の実施形態での制御の流れを示すフロー
チャート。
【符号の説明】
2、53 熱交換器 4、34、46、59 絞り弁 5、6、35、36、39、44、55 電磁バルブ 8 温度センサ 11 熱媒体の循環流路 12 冷却液排出管 13 冷却液供給管 16、38、47、58 コントローラ

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 冷却液を用いて流体を冷却するための冷
    却手段と、 前記流体を加熱するためのヒータと、 前記冷却手段と前記ヒータを同時に駆動しつつ前記ヒー
    タの出力を調節することにより前記流体の温度を制御す
    るための同時駆動手段とを備えた流体温度の制御装置。
  2. 【請求項2】 前記ヒータがヒーティングランプ又は電
    熱線ヒータである請求項1記載の流体温度の制御装置。
  3. 【請求項3】 前記同時駆動手段が、前記流体の温度制
    御に必要な冷却量以上の冷却量を発揮するよう前記冷却
    手段を駆動する請求項1記載の流体温度の制御装置。
  4. 【請求項4】 前記同時駆動制御手段が、前記ヒータの
    もつ最大の加熱量以下の冷却量を発揮するよう前記冷却
    手段を駆動する請求項1及び3のいずれか一項記載の流
    体温度の制御装置。
  5. 【請求項5】 前記同時駆動手段が、前記流体を冷却す
    る必要の生じる時点の以前に作動を開始して、前記時点
    以降も作動を継続する請求項1記載の流体温度の制御装
    置。
  6. 【請求項6】 前記冷却手段のみを駆動する冷却駆動手
    段と、 前記ヒータのみを駆動する加熱駆動手段と、 前記同時駆動手段、前記冷却駆動手段及び前記加熱駆動
    手段を選択的に作動させるモード選択手段とをさらに備
    えた請求項1記載の流体温度の制御装置。
  7. 【請求項7】 流体が通る流体通路と、前記流体通路内
    の流体を冷却するために冷却液が通る冷却液通路と、前
    記流体通路内の流体を加熱するためのヒータとを有した
    熱交換器と、 前記熱交換器に前記流体を供給しかつ排出させるための
    流体系統と、 前記熱交換器に前記冷却液を供給しかつ排出させるため
    の冷却液系統と、 前記流体系統、前記冷却液系統及び前記ヒータを駆動し
    制御するためのコントローラとを備え、 前記コントローラが、前記流体系統、前記冷却液系統及
    び前記ヒータを同時に駆動しつつ前記ヒータの出力を調
    節することにより前記流体の温度を制御するための同時
    駆動手段を有する流体温度の制御装置。
  8. 【請求項8】 前記流体系統及び前記冷却液系統の少な
    くとも一方が、比較的に大きい冷却量が発揮されるよう
    な態様で前記流体又は冷却液を前記熱交換器に流すため
    の大冷却系統と、比較的に小さい冷却量が発揮されるよ
    うな態様で前記流体又は冷却液を前記熱交換器に流すた
    めの微小冷却系統とを有し、 前記コントローラの同時駆動手段が、前記流体系統、前
    記冷却液系統及び前記ヒータを同時に駆動するときに前
    記微小冷却系統を選択的に駆動するための微小冷却駆動
    手段を有する請求項7記載の流体温度の制御装置。
  9. 【請求項9】 冷却液を用いて流体を冷却しつつ同時に
    ヒータを用いて前記流体を加熱する同時駆動過程と、 前記同時駆動過程において、前記ヒータの出力を調節す
    ることにより前記流体の温度を制御する制御過程とを有
    した流体温度の制御方法。
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004079805A1 (ja) * 2003-03-07 2004-09-16 Tokyo Electron Limited 基板処理装置及び温度調節装置
US6878216B2 (en) 2001-09-03 2005-04-12 Tokyo Electron Limited Substrate processing method and substrate processing system
JP2008034409A (ja) * 2006-07-26 2008-02-14 Hitachi High-Technologies Corp プラズマ処理装置
JP2009194237A (ja) * 2008-02-15 2009-08-27 Tokyo Electron Ltd 熱処理装置、熱処理方法、塗布、現像装置及び記憶媒体
JP2010060147A (ja) * 2008-09-01 2010-03-18 Kurita Water Ind Ltd 液体加熱器および液体加熱方法
JP2010212564A (ja) * 2009-03-12 2010-09-24 Panasonic Corp ガスレーザ発振装置とガスレーザ加工機
WO2010110171A1 (ja) * 2009-03-24 2010-09-30 株式会社Kelk 流体加熱装置
WO2014103525A1 (ja) * 2012-12-25 2014-07-03 株式会社Kelk 温度制御装置

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02101531U (ja) * 1989-01-27 1990-08-13
JPH03119408A (ja) * 1989-10-03 1991-05-21 Tokyo Electron Ltd 温度調整装置及び温度調整方法
JP2796377B2 (ja) * 1989-10-25 1998-09-10 株式会社日立製作所 プラズマ処理方法および装置
JP3600271B2 (ja) * 1994-05-25 2004-12-15 東京エレクトロン株式会社 処理装置

Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6878216B2 (en) 2001-09-03 2005-04-12 Tokyo Electron Limited Substrate processing method and substrate processing system
US6990988B2 (en) 2001-09-03 2006-01-31 Tokyo Electron Limited Substrate processing method and substrate processing system
US8110044B2 (en) 2003-03-07 2012-02-07 Tokyo Electron Limited Substrate processing apparatus and temperature control device
KR100822076B1 (ko) * 2003-03-07 2008-04-14 동경 엘렉트론 주식회사 기판 처리 장치 및 온도 조절 장치
CN100421209C (zh) * 2003-03-07 2008-09-24 东京毅力科创株式会社 衬底处理装置和温度调节装置
WO2004079805A1 (ja) * 2003-03-07 2004-09-16 Tokyo Electron Limited 基板処理装置及び温度調節装置
JP2008034409A (ja) * 2006-07-26 2008-02-14 Hitachi High-Technologies Corp プラズマ処理装置
JP2009194237A (ja) * 2008-02-15 2009-08-27 Tokyo Electron Ltd 熱処理装置、熱処理方法、塗布、現像装置及び記憶媒体
JP2010060147A (ja) * 2008-09-01 2010-03-18 Kurita Water Ind Ltd 液体加熱器および液体加熱方法
US9485807B2 (en) 2008-09-01 2016-11-01 Kurita Water Industries Ltd. Liquid heating apparatus and liquid heating method
JP2010212564A (ja) * 2009-03-12 2010-09-24 Panasonic Corp ガスレーザ発振装置とガスレーザ加工機
JP2010223517A (ja) * 2009-03-24 2010-10-07 Kelk Ltd 流体加熱装置
US9062894B2 (en) 2009-03-24 2015-06-23 Kelk Ltd. Fluid heating device
WO2010110171A1 (ja) * 2009-03-24 2010-09-30 株式会社Kelk 流体加熱装置
WO2014103525A1 (ja) * 2012-12-25 2014-07-03 株式会社Kelk 温度制御装置
JP2014126957A (ja) * 2012-12-25 2014-07-07 Kelk Ltd 温度制御装置
CN104885026A (zh) * 2012-12-25 2015-09-02 科理克株式会社 温度控制装置
CN104885026B (zh) * 2012-12-25 2017-03-01 科理克株式会社 温度控制装置
US10497547B2 (en) 2012-12-25 2019-12-03 Kelk Ltd. Temperature control device

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