WO1998032060A1 - Dispositif de regulation de la temperature d'un fluide et procede prevu a cet effet - Google Patents
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- WO1998032060A1 WO1998032060A1 PCT/JP1998/000103 JP9800103W WO9832060A1 WO 1998032060 A1 WO1998032060 A1 WO 1998032060A1 JP 9800103 W JP9800103 W JP 9800103W WO 9832060 A1 WO9832060 A1 WO 9832060A1
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- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
- G05D23/00—Control of temperature
- G05D23/19—Control of temperature characterised by the use of electric means
- G05D23/1925—Control of temperature characterised by the use of electric means using a combination of auxiliary electric and non-electric power
Definitions
- the present invention relates to an apparatus and a method for controlling the temperature of a fluid.
- the one described in Japanese Patent Publication No. 6-29 918 8 is provided with a valve in each of a plurality of cooling passages through which the fluid to be temperature-controlled flows, according to the temperature of the fluid.
- the cooling capacity is changed by opening and closing a valve to change the number of cooling channels.
- the method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-159804 performs heat exchange between a fluid to be temperature-controlled flowing through a large number of heat transfer tubes and another fluid flowing outside the heat transfer tubes.
- the method is to control the temperature of the fluid by controlling the number of tubes in accordance with the temperature of the fluid in the tubes.
- a widely used method is to control the temperature of the target fluid by providing a valve in the coolant flow path for cooling the target fluid and opening and closing the valve according to the temperature of the target fluid. There is also a way to do it.
- a typical example of such an application is temperature control of a chamber of a plasma etching apparatus used for semiconductor manufacturing.
- a fluid flow tube is disposed in the wall of the chamber, and the fluid flow tube is connected to an external heat exchanger. From the heat exchanger to the chamber, the fluid flow tube passes through the chamber wall. It constitutes one circulation channel that passes through and returns to the heat exchanger.
- a heat medium (fluid) suitable for temperature control such as ethylene glycol or Fluorinert (registered trademark), flows through the circulation channel. The heat medium is heated or cooled in the heat exchanger to a target temperature, then sent to the chamber to be used to maintain the temperature in the chamber at the target temperature, and then returns to the heat exchanger.
- the wafer is put into the chamber when the inside of the chamber reaches a certain temperature, and plasma is generated in the chamber to etch the wafer. . During this time, it is necessary to maintain a constant temperature in the chamber. After processing one (or one group), the next wafer is replaced and the same is repeated. In addition, it is necessary to cool the chamber once and clean the inside of the chamber. After cleaning, heat the chamber to around 90 degrees Celsius again and resume etching.
- the heat exchanger heats the heat medium in the heat exchanger overnight, but when plasma is subsequently generated in the chamber, the temperature in the chamber rises temporarily. However, in the heat exchanger, it is necessary to cool the heat medium by flowing cooling water to take away the heat. At the time of cleaning, it is necessary to cool the heating medium to lower the temperature in the chamber from 90 degrees to room temperature.
- Cooling at the time of cleaning is desirably rapid in terms of work efficiency, and therefore, the cooling capacity of the heat exchanger is required to be high.
- cooling when generating plasma requires only absorbing the temperature rise (a few degrees) due to the plasma, and also radiates heat from the outer wall of the chamber and the fluid circulation path. It may be low, and it is not desirable to use a high cooling capacity because it will cause overcooling.
- cooling during plasma generation The cooling must have good thermal responsiveness and good control accuracy to keep it constant at 90 degrees Celsius.
- An apparatus and method for controlling fluid temperature controls a temperature of a fluid by cooling a fluid using a cooling liquid while heating the fluid using a heater and a heater, and adjusting an output of the heater and the heater. be able to.
- the fluid temperature can be controlled by changing the flow rate of the coolant or the fluid, or by changing the heat exchange area between the coolant and the fluid. It is difficult to obtain responsiveness and high temperature control accuracy.
- the fluid temperature when heating a fluid with heat, it is relatively easy to control the fluid temperature with good response and high accuracy by adjusting the heat output.
- a heater that converts electric power into heat such as a heating lamp or a heating wire, is used as the heater, it is particularly easy to obtain high responsiveness and high control accuracy.
- the fluid temperature is controlled by adjusting the heat output while simultaneously performing the cooling by the coolant and the heating by the heat, the high thermal response and high control accuracy of the heater are utilized.
- the fluid can be cooled.
- the heating mode can be switched from cooling mode to heating mode only by adjusting the heating and cooling output, and from heating mode to cooling mode. You can also make a smooth transition to.
- the simultaneous cooling and heating described above are performed before the start of the cooling.
- the heat output is adjusted so that the heat output is offset by the cooling amount of the coolant until the start of cooling, and is reduced by the required amount of cooling after the start of cooling. Control can be performed easily, and as a result, cooling can be started with substantially no response delay.
- the operation mode for executing the temperature control by simultaneous cooling and heating is, in a certain temperature control system, the operation mode, a mode for executing only cooling by the cooling liquid, and a mode for executing only heating by heating and cooling. It can also be used as appropriate in such a way that the most suitable mode is selected from the above depending on the situation.
- the operation mode according to the present invention is highly useful, for example, when it is desired to precisely control the fluid temperature with a small amount of cooling by using a heat exchanger having the ability to exhibit a large cooling capacity.
- FIG. 1 is a circuit diagram showing a configuration of a first exemplary embodiment of the present invention.
- Figure 2 is a longitudinal sectional view showing the structure of the heat exchanger.
- Fig. 3 is a cross-sectional view taken along line A-A in Fig. 2.
- FIG. 4 is a flowchart showing a control flow according to the first embodiment.
- FIG. 5 is a circuit diagram showing a configuration of a second exemplary embodiment of the present invention.
- FIG. 6 is a flowchart illustrating a control flow according to the second embodiment.
- FIG. 7 is a circuit diagram showing a configuration of a third embodiment of the present invention.
- FIG. 8 is a flowchart showing a control flow according to the third embodiment.
- FIG. 9 is a circuit diagram showing a configuration of a fourth embodiment of the present invention.
- FIG. 10 is a flowchart illustrating a control flow according to the fourth embodiment.
- FIG. 1 shows the configuration of one embodiment of the fluid temperature control device of the present invention.
- the heat exchange system 1 supplies the heat medium to the load 7 while cooling or heating the heat medium as a fluid to control the temperature to a set temperature. Therefore, between the heat exchange system 1 and the load 7, the heat medium flow tubes 9, 10 for carrying the heat medium are provided.
- the heat medium flow tubes 9 and 10 constitute a circulation passage 11 through which the heat medium flows from the heat exchange system 1 to the load 7 and passes through the load 7 and returns to the heat exchange system 1 again. Has formed.
- a fluid suitable for controlling the temperature of the load 7, such as water, ethylene glycol, Fluorinert (registered trademark), or Galden (registered trademark) can be used.
- the load 7 is, for example, a chamber of a plasma etching apparatus used in a semiconductor manufacturing process, but is not limited to this, and it is needless to say that various apparatuses capable of performing temperature control using a heating medium can be used.
- the heat exchange system 1 includes a pump 3 connected to the circulation channel 11 for circulating the heat medium in the circulation channel 11 and a pump 3 for cooling and heating the heat medium flowing in the circulation channel 11. And a heat exchanger 2 connected to the circulation channel 11.
- the heat exchanger 2 has a function of cooling the heat medium using cooling water and a function of heating the heat medium using a lamp heater, as described in detail later. Therefore, the cooling water supply pipe 13 and the cooling water discharge pipe 12 are connected to the heat exchanger 2, and a lamp lamp (not shown) is built in the heat exchanger 2.
- the middle part of the cooling water supply pipe 13 is divided into two paths, that is, a large flow path 14 and a minute flow path 15.
- the large flow path 14 has an electromagnetic on-off valve 5.
- the micro flow path 15 has an electromagnetic on-off valve 6 and a throttle valve 4 whose opening can be adjusted.
- the electromagnetic valve 6 is opened, a relatively small amount of cooling water throttled by the throttle valve 4 is discharged. It flows to heat exchanger 12.
- the heat medium A temperature sensor 8 for measuring body temperature is provided in the portion of the circulation flow tube 1 1 near the heat medium outlet of the heat exchanger 2, the heat medium A temperature sensor 8 for measuring body temperature is provided. Further, outside the heat exchange system 1, a main controller 17 for setting a target temperature of the heat medium in accordance with an operation state of the load 7 is provided. The temperature detected by the temperature sensor 8 and the temperature set by the main controller 17 are input to the controller 16. The controller 16 receives the set temperature from the main controller 17 and the detected temperature from the temperature sensor 8 and drives the pump 3, controls the opening and closing of valves 5 and 6, and controls the throttle valve 4, as will be described in detail later. It adjusts the opening and adjusts the output of the heating lamp in the heat exchanger 2. For example, a microcomputer 3 (not shown) that is programmed and a pump 3 that receives instructions from this computer And a driver circuit (not shown) for driving the valves 5, 6, the throttle valve 4 and the hitting lamp 4 respectively.
- FIG. 2 is a vertical cross-sectional view of the heat exchanger 2 showing a specific configuration example of the heat exchanger 2
- FIG. 3 is a cross-sectional view of the heat exchanger 2 taken along line A--A in FIG. is there.
- the heat exchanger 2 has a cylindrical inner container 21 having both ends closed and having a space 23a inside, and a cylindrical inner container 21 having both ends also closed and surrounding the inner container 21. And an outer container 2 forming a space 23 b outside the inner container 21.
- the inner container 21 has a heat medium inlet 2 la at a position near one end of the peripheral wall, and is a position near the other end of the peripheral wall and is symmetric with respect to the central axis with the inlet 21 a. At an outlet of the heating medium.
- the temperature sensor 8 shown in FIG. 1 is attached near the heat medium outlet 21b.
- the outer container 22 has a cooling liquid (for example, water) inlet 22 a at a position near one end of the peripheral wall, and is located near the other end of the peripheral wall and is different from the inlet 22 a.
- a coolant outlet 22b is provided at a location symmetrical with respect to the central axis.
- the inner container 21 is made of a material having good thermal conductivity, corrosion resistance, and formability, such as aluminum, copper, and stainless steel.
- the outer container 22 may be made of a similar material, or may be made of another material having good corrosion resistance and moldability but not high thermal conductivity, such as plastic, vinyl chloride, and ceramics. . Inside The joint between the container 21 and the outer container 22 is sealed to prevent leakage of liquid by welding, brazing, or other appropriate method.
- a transparent tube 24 is arranged along the central axis, and the transparent tube 24 passes through the walls 26, 26 at both ends of the inner container 21. I have.
- a heating lamp 25 is inserted into the transparent tube 24.
- the transparent tube 24 is made of a heat-resistant material having a very high light transmittance, such as quartz glass.
- the heating lamp 25 preferably emits a large amount of infrared light. For example, a halogen lamp for heating is used.
- the lamp 25 is supported by a bush 29 at a center axis position in the transparent tube 24 so as not to contact the transparent tube 24.
- the walls 26, 26 at both ends of the inner container 21 are made of a material having moderate elasticity and sufficient heat resistance, such as hard rubber, plastic, or metal.
- the outer peripheral surface and the inner peripheral surface of the end walls 26, 26 have O-rings respectively. Seal ring is inserted.
- a number of inner fins 28 a extending parallel to the central axis of the container 21 are fixed to the inner peripheral surface of the inner container 21, and a number of inner fins 28 a extending parallel to the central axis are also provided on the outer peripheral surface.
- the outer fins 28b are fixed.
- the inner fin 28 a stands straight in the direction of the radius of the inner space 23 a, that is, in the direction of emission of infrared rays from the lamp 25.
- the outer fin 28b likewise stands radially upright in the radial direction, but need not be. Both the inner fins 28a and the outer fins 28b are distributed over substantially the entire area of the inner space 23a and the outer space 23b, and are substantially uniform over the entire area. They are arranged at a density (ie, roughly uniformly spaced).
- These fins 28a and 28b are made of a material having high thermal conductivity, good corrosion resistance and good formability, such as aluminum, copper, and stainless steel. Further, it is desirable that the material has a good infrared absorptance.
- the heat medium flows into the inner space 23a from the inlet 21a, flows out from the outlet 21b through the inner space 23a.
- the coolant flows into the outer space 23b from the inlet 22a, flows out of the outlet 22b through the outer space 23b.
- lamp 25 When heating the heating medium, lamp 25 is turned on. The infrared rays emitted from the lamp 25 pass through the transparent tube 24 and enter the inner space 23a. If the heat medium is a very light-absorbing substance (eg, florinate), most of the infrared light is absorbed by the fins 28a, and the radiant heat generated there is transferred from the fins 28a to the heat medium. As a result, the heating medium is heated. If the heat medium is a substance having an appropriate light-absorbing property (for example, water, ethylene glycol, etc.), infrared rays are directly absorbed not only by the fin 88a but also by the heat medium itself, and the radiant heat causes heat to be absorbed. The temperature of the medium increases. In any case, since the radiant heat from the lamp 25 is distributed almost uniformly to the entire area of the inner space 23a, the heat medium in the inner space 23a is uniformly and uniformly heated. .
- the heat medium in the inner space 23a is uniformly and uniformly heated. .
- the heating amount is controlled by the controller 16 (see Fig. 1) according to the temperature detected by the temperature sensor 8 (see Fig. 1) arranged at the heating medium outlet 21b. This is performed by performing control or light emission amount control. For example, the power supplied to the lamp 25 is adjusted by performing a PID calculation on the deviation between the detected temperature of the heat medium and the set temperature.
- a cooling liquid is flown. The heat of the heat medium is transmitted to the coolant through the inner fins 28a, the inner vessel 21 and the outer fins 28b, and the heat medium is cooled.
- the controller 16 shown in FIG. 1 switches the flow rate of the coolant by selectively selecting the valves 6 and 5 according to the required cooling capacity.
- this cooling mode is hereinafter referred to as “large cooling mode”.
- this cooling mode is hereinafter referred to as “micro cooling mode”.
- the lamp 25 in the minute cooling mode, is also turned on in addition to flowing the cooling liquid. That is, the cooling liquid is supplied at a flow rate that can provide a cooling amount slightly larger than the actual required cooling amount, the lamp 25 is also turned on, and the heating amount of the lamp 25 is controlled by PID control. This ensures that a large amount of cooling can be obtained comprehensively.
- One advantage of using both cooling and heating in this way is that the overall cooling amount is controlled by adjusting the heating amount of the lamp 25 instead of adjusting the cooling amount of the cooling water. The control accuracy is high and the response is high.
- FIG. 4 shows a flow of control performed by the controller 16 shown in FIG.
- the load 7 is a chamber of a plasma etching apparatus.
- the inside of the chamber is first heated to about 90 degrees Celsius, and when the temperature in the chamber becomes constant, the wafer is placed in the chamber. Plasma is generated and etching is performed. Periodically, the chamber is cooled to room temperature for cleaning. At the time of plasma generation, it is necessary to cool the heat medium by the temperature rise (several degrees) due to the plasma generation, but it is desirable that the cooling capacity at this time is small. On the other hand, when cooling for cleaning, a larger cooling capacity is desirable.
- the control of the controller 16 shown in FIG. 4 aims at heating and cooling the heat medium so as to satisfy such requirements.
- the controller 16 first adjusts and fixes the opening of the throttle valve 4 of the minute flow path 15 as follows (S l). That is, the maximum calorific value of the load 7 (plasma etching chamber) known in advance is Wl, and the amount of cooling by the coolant in the heat exchanger 2 when the coolant flows through the minute flow path 15 is W2. Heating known in advance Assuming that the maximum heating amount of '25 is W3 and the heat radiation amount of the entire system including the heat exchange system and load that is known in advance is W4, the cooling amount W2 is within the range of W1 ⁇ W2 ⁇ (W3-W4) The opening of the throttle valve 4 is determined so that the appropriate value is obtained.
- the controller 16 determines the current temperature of the heat medium detected by the temperature sensor 8 and the set temperature SV.
- the temperature is compared with PV (S3). If the set temperature SV is higher than the current temperature PV by 5 degrees or more as a result of the comparison, control proceeds to steps S4 to S10. On the other hand, as a result of the comparison in step S3, if the set temperature SV is lower than the current temperature PV by 5 degrees or more, the process proceeds to steps S11 to S14.
- a typical example is setting the temperature around 90 degrees Celsius at the beginning of the etching process or when resuming after periodic cleaning, in order to heat the chamber from room temperature to around 90 degrees Celsius. If the temperature has been input, the process proceeds to steps S4 to S10. In addition, for example, if the set temperature of the room temperature is input to cool the chamber from about 90 degrees Celsius to room temperature in order to perform periodic cleaning, the control of steps S11 to S14 is performed. Go to.
- step S4 When proceeding to step S4 to start the etching process, first close valves 5 and 6 to stop the flow of cooling water.
- the lamp 25 is turned on, and the output of the lamp 25 is PID controlled based on the current temperature PV and the set temperature SV so that the heat medium is heated to the set temperature SV (S5). That is, the absolute value of the current temperature PV from the temperature sensor 8 and its temporal change are measured, and based on those measured values, the proportional operation value, the differential operation value, and the integral of the deviation between the current temperature PV and the set temperature SV are calculated. The calculated values are obtained, and the power supplied to the lamp 25 is adjusted according to the value obtained by integrating the calculated values.
- the current temperature PV and the set temperature SV are compared, and it is checked whether or not the temperature difference between the two is within 1 degree (S6).
- the temperature difference is within 1 degree, preparation for entering the micro cooling mode is started. That is, open valve 6,
- the supply of the coolant at a small flow rate through the minute cooling path 15 is started (S7).
- the flow rate of the coolant is a constant value corresponding to the opening of the throttle valve 4 fixed in step S1.
- the cooling amount W 2 satisfies the condition of Wl ⁇ W2 ⁇ (W3 -W4).
- the output of the lamp 25 is adjusted so that the cooling amount W2 thereby is canceled and the total cooling amount becomes zero (S8). That is, when the supply of the coolant is started, the current temperature PV from the temperature sensor 8 decreases, but the controller 16 continues from step S5 to make the current temperature PV coincide with the set temperature SV. Since the lamp output is controlled by feedback, when the current temperature PV decreases, the lamp output is increased to prevent this. Generally, the lamp output control is highly responsive and can follow the temperature fluctuation due to the change of the cooling amount. Will be kept constant at the set temperature SV (about 90 degrees Celsius).
- the plasma etching is started in the load (chamber) 7.
- the micro cooling mode is executed as follows. That is, heat is generated by the plasma in the chamber, and the heat medium absorbs the heat, so that the controller 16 detects an increase in the current temperature PV from the temperature sensor 8 (S9). Then, since the controller 16 has already performed the feedback control of the lamp output, the lamp output is slightly reduced so as to prevent the current temperature PV from rising (that is, the total cooling amount is increased). (S10). Since the response of the lamp control is high, the temperature of the heating medium is kept substantially constant at the set temperature SV (about 90 degrees Celsius) without increasing substantially.
- the temperature of the heat medium is substantially kept constant at the set temperature SV by the minute cooling mode.
- the micro-cooling mode fluctuations in the amount of heat generated in the chamber can be responded to by adjusting the cooling amount by controlling the lamp output, so that highly responsive and highly accurate control can be realized.
- cooling can be performed while keeping the coolant flow rate constant only by adjusting the lamp output. The heating and the transition from heating to cooling can be smoothly performed steplessly, which also facilitates highly accurate temperature control.
- step S11 the control proceeds to step S11 or lower to start the large cooling mode.
- step S 11 the valve 5 is opened, and the coolant is supplied to the heat exchanger 2 at a large flow rate through the large flow path 14. As a result, cooling with a large cooling capacity is started.
- the current temperature PV and the set temperature SV are compared, and cooling is continued until the difference between the two temperatures becomes 1 degree or less (S12). When the difference between the two temperatures drops below 1 degree, close valves 5 and 6 and end the large cooling mode.
- the lamp 25 is turned on and PID feedback control of the lamp output is performed so that the current temperature PV matches the set temperature SV (room temperature) (S14).
- the chamber will be rapidly cooled from about 90 degrees Celsius during the etching process to room temperature.
- FIG. 5 shows a configuration of the second exemplary embodiment of the present invention. Elements having the same functions as those of the first embodiment described above are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted.
- the heat exchange system 31 has a bypass flow path 32 for bypassing the heat exchanger 32 in the circulation flow path 11, and the bypass flow path 32 has An electromagnetic on-off valve 36 is provided.
- the temperature sensor 8 is provided near and downstream of the junction of the heat medium coming out of the heat exchanger 2 and the heat medium from the bypass passage 32.
- the heat medium flow path for supplying the heat medium to the heat exchanger 2 is divided into two flow paths, a main flow path 35 and a micro flow path 37, just before the entrance of the heat exchanger 2.
- An electromagnetic opening / closing knob 35 is provided in the passage 35, and a throttle valve 34 is provided in the minute passage 37.
- the coolant supply pipe 13 is a simple single pipe, in which an electromagnetic on-off valve 39 is provided.
- the controller 38 is connected to the current temperature PV from the temperature sensor 8 and the main controller. In response to the set temperature SV from rollers 17, pump 3, solenoid valves 35, 36, 39, throttle valve 34, and heating lamp 25 inside heat exchanger 2 (see Figs. 2, 3) Drive and control
- the flow rate of the heat medium supplied to the heat exchanger 2 is switched between large and small in place of the switching of the flow rate of the coolant performed in the first embodiment.
- Switch the cooling amount between large and small. That is, when the valve 35 of the main flow path 33 is opened and the valve 36 of the bypass flow path 32 is closed, all the heat medium passes through the heat exchanger 2, so that the large cooling mode can be performed. Conversely, if the valve 35 of the main flow path 3 3 is closed and the valve 36 of the bypass flow path 32 is opened, only a small amount of heat medium enters the heat exchanger 2 through only the micro flow path 3 4. Can be performed.
- the minute cooling mode the overall cooling amount is adjusted by feedback control of the lamp output, as in the first embodiment.
- FIG. 6 shows the flow of control performed by the controller 38.
- the load 7 is a chamber of a plasma etching device (the same applies to the following embodiments).
- the controller 38 adjusts and fixes the opening of the throttle valve 34 of the minute flow path 37 (S21). Also in this case, as in the case of the first embodiment, the maximum heating value of the load 7 (plasma etching chamber) is Wl, the cooling amount by the cooling liquid in the minute cooling mode is W2, and the maximum heating amount of the lamp 25 is 25. Let W3 be W3, the opening of the throttle valve 34 is determined so that the cooling amount W2 becomes an appropriate value within the range of W1 ⁇ W2 ⁇ (W3-W4).
- the set temperature (target temperature of the heat medium) SV is input from the main controller 17 to the controller 38 (S22).
- the subsequent control is basically the same as that in the first embodiment shown in FIG.
- the valve 39 for the coolant is closed, but also the valve 36 of the bypass passage 32 for the heat medium is closed (S24, S33).
- the valve 39 is opened to allow the coolant to flow at a constant flow rate, and the valve 35 is closed and the valve 36 is closed.
- the heat medium is sent to the heat exchanger 2 at a small flow rate, and the remaining heat medium bypasses the heat exchanger 2 (S27).
- the valve 39 is opened to allow the coolant to flow at a constant flow rate
- the valve 35 is closed and the valve 36 is closed.
- the overall cooling amount is adjusted by the feedback control of the lamp output, so that good thermal responsiveness and high temperature control accuracy can be obtained.
- FIG. 7 shows a configuration of the third exemplary embodiment of the present invention.
- the heat exchange system 41 has a heat exchanger 42 with a number (N) of coolant outlets.
- the heat exchanger 42 basically has the same structure as the heat exchanger 2 shown in FIGS. 2 and 3 (that is, the space in which the coolant flows between the outer and inner vessels, both of which are cylindrical).
- 23 b a space 23 a formed in the inner container through which the heat medium flows, and a cylindrical hitting lamp 25 inserted into the inner container).
- N coolant outlets are arranged along the axial direction as shown in the figure, and N coolant outlet pipes 4 4-1 to 4-4 are provided at the N coolant outlets. 4 -N is connected.
- Each of the N cooling liquid discharge pipes 4 4-1 to 44-N has an electromagnetic on-off valve 4 3-1 to 43-N, and one common cooling liquid discharge pipe Connected to 2.
- a throttle valve 46 is provided in the common coolant discharge pipe 12.
- the cooling water supply pipe 13 is a simple single pipe and has an electromagnetic on-off valve 39.
- the controller 37 inputs the current temperature PV and the set temperature SV, and sets the pump 3, valve 39,
- the coolant and heat medium are selectively opened by selectively opening the electromagnetic valves 43-1 to 43-N of the N coolant discharge pipes 44-1 to 44-N.
- the amount of cooling by the cooling liquid can be adjusted by changing the substantial heat exchange area between the cooling medium and the cooling medium.
- the valve 4 3-1 of the coolant discharge pipe 4 4 -1 connected to the coolant outlet closest to the coolant inlet Opening 1 minimizes the amount of cooling by the coolant because the actual heat exchange area is the smallest.
- the more the valve at the coolant outlet that is farther from the coolant inlet is opened, the greater the actual heat exchange area and the greater the amount of cooling by the coolant.
- valve 43-N at the farthest outlet when the valve 43-N at the farthest outlet is opened, the substantial heat exchange area is maximized, and the amount of cooling by the coolant is maximized.
- the valve 43-N at the farthest outlet is opened in the large cooling mode
- the valve 43-1 at the closest outlet is opened in the micro cooling mode
- the remaining valves 43-2 to 43-N are opened.
- 43-N- 1 remains closed.
- which valve to open in each mode is determined according to the amount of cooling required in the large cooling mode and the minute cooling mode.
- FIG. 8 shows the flow of control performed by the controller 47.
- the controller 47 first sets a valve for discharging the coolant to be opened in the minute cooling mode (in this embodiment, so that the cooling amount W2 by the coolant in the minute cooling mode becomes W1 ⁇ W2 ⁇ (W3-W4). Select the valve 43-1) and adjust and fix the opening of the throttle valve 46 (S41). Further, according to the amount of cooling required in the large cooling mode, a valve for cooling fluid discharge (valve 43-N in this embodiment) to be set in the large cooling mode is selected (S43).
- the controller 47 executes basically the same control as that in the first embodiment shown in FIG. However, in the heating mode, the coolant is shut off by closing the coolant supply valve 39 (S44,
- the overall cooling amount is adjusted by feedback control of the lamp output, so that good thermal response and high temperature can be obtained. Degree control accuracy is obtained.
- FIG. 9 shows the configuration of the fourth embodiment of the present invention.
- a second heat exchanger 5 3 having only a cooling function is provided. Is provided upstream of the first heat exchanger 2.
- the second heat exchanger 53 has a structure in which the lamp 25 is removed from the structure shown in FIGS.
- the second heat exchanger 53 is designed to have a relatively small heat exchange area so that the cooling amount W 2 satisfies the condition of W l ⁇ W 2 ⁇ (W 3 -W 4).
- the first heat exchanger 2 is designed to have a relatively large heat exchange area so as to exhibit a considerably larger cooling amount than the second heat exchanger 53.
- a coolant supply pipe 57 and a coolant discharge pipe 56 are connected to the second heat exchanger 53, and an electromagnetic opening / closing valve 55 is provided in the coolant supply pipe 57. I have.
- the controller 58 inputs the current temperature PV and the set temperature SV, and drives and controls the pump 3, the knurls 39, 55, and the lamp 25 in the first heat exchanger 2.
- this heat exchange system 51 by selectively supplying the cooling water to the first heat exchanger 2 and the second heat exchanger 53, the amount of cooling by the cooling liquid can be switched between large and small. That is, when the coolant flows through the first heat exchanger 2, heat exchange is performed in a relatively large area, so that the large cooling mode can be executed. When the coolant is passed through the second heat exchanger 53, heat exchange is performed in a relatively small area, so that the minute cooling mode can be executed. In the minute cooling mode, the overall cooling amount can be controlled with high responsiveness and high accuracy by controlling the lamp output of the first heat exchanger.
- FIG. 10 shows the flow of control performed by the controller 58.
- valves 39, 55 are closed to supply coolant to both heat exchangers 2, 53.
- the valve 39 is closed and the valve 55 is opened, so that the second heat exchanger 5 3 (S67), and in the large cooling mode, the coolant is sent to the first heat exchanger 2 at a large flow rate by opening the knob 39 and closing the valve 55 (S71).
- the overall cooling amount is adjusted by the feedback control of the lamp output, so that good thermal responsiveness and high temperature control accuracy can be obtained.
- the controller in some embodiments described above can be implemented with a dedicated hardware circuit, a programmed computer, or a combination of both.
- the program for the computer can be installed or downloaded to the computer through various media such as various types of disk storage, semiconductor memory, or communication lines. .
- the load need not be an etch chamber.
- the heat exchanger does not need to have the structure as shown in Figs. 2 and 3, and the heat exchanger may be a heating wire, which is not limited to a lamp.
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Description
明 細 書
流体温度の制御装置及びその方法 技 術 分 野
本発明は、 流体の温度を制御するための装置及びその方法に関する。 技 術 背 景
流体の温度の制御方法の一つとして、 特公昭 5 9 - 1 9 2 7 6号に記載されたも のがある。 この方法は、 温度制御対象のプロセス流体とこれを加熱又は冷却するた めの媒体流体とを隔壁をへだてて接触させ熱交換を行うもので、 隔壁を二重に設け その隔壁間に液体を流入させ、 この隔壁間の流体の液位を変化させることにより、 上記 2流体間の交換熱量を調節するようにしたものである。
また、 別の方法として、 特閧昭 6 1 - 2 9 1 8 9 8号に記載されたものは、 温度 制御対象流体の流れる複数本の冷却流路にそれぞれ弁を設け、 流体の温度に応じて 弁を開閉して冷却流路の数を変化させることで冷却能力を変更するようにしたもの である。
また、 特開平 7— 1 5 9 0 8 4号に開示された方法は、 多数本の伝熱管内を流れ る温度制御対象流体と伝熱管の外側を流れる別の流体の間で熱交換を行う方法であ つて、 伝熱管内の流体の温度に応じて伝熱管の本数をコントロールすることにより 流体の温度を一定に制御しょうとするものである。
また、 広く行われている方法として、 温度制御対象流体を冷却するための冷却液 の流路に弁を設け、 対象流体の温度に応じて弁の開閉を行うことにより、 対象流体 の温度を制御する方法もある。
上述した従来の流体温度制御方法は、 いずれも高精度の温度制御が要求される用 途ゃ、 高速の熱応答性が要求される用途には向いていない。
このような用途の典型として、 半導体製造に用いられるブラズマエッチング装置 のチャンバの温度制御がある。 チャンバの壁内には流体流管が配設されており、 こ の流体流管はチヤン )、'外の熱交換器に接続されていて、 熱交換器からチャンバに至 り、 チャンバ壁内を通って熱交換器へと戻る一つの循環流路を構成している。 この 循環流路には、 例えばエチレングリコールやフロリナ一ト (登録商標) のような温 度制御に適した熱媒体 (流体) が流される。 熱媒体は、 熱交換器において加熱又は 冷却されて目標温度にされてから、 チャンバに送られてチャンバ内の温度を目標温 度に保っために用いられ、 そして再び熱交換器へ戻る。
プラズマエッチングプロセスでは、 チャンバ内を摂氏 9 0度位に加熱した後、 チ ヤンバ内が一定温度になったところでウェハをチャンバ内に入れ、 そして、 チャン バ内でプラズマを発生させてウェハをエッチングする。 この間、 チャンバ内は一定 温度に維持する必要がある。 1つ (又は 1群) のゥヱハの処理後、 次のウェハを入 れ替えて、 同じことを繰り返す。 また、 定期的に一旦チャンバを冷却して、 チャン バ内をクリーニングする必要がある。 クリーニング後、 再びチャンバを摂氏 9 0度 位に加熱して、 エッチングを再開する。
チャンバ内の温度を摂氏 9 0度に立ち上げるとき、 熱交換器ではヒ一夕により熱 媒体を加熱するが、 その後チャンバ内でプラズマを発生させると、 一時的にチャン バ内の温度が上がるため、 その熱を奪うために熱交換器では冷却水を流すなどして 熱媒体を冷却する必要がある。 また、 クリーニング時には、 チャンバ内温度を 9 0 度から室温に下げるために、 熱媒体を冷却する必要がある。
クリーニング時の冷却は作業効率の面から速やかであることが望ましく、 そのた め熱交換器の冷却能力は高いことが要求される。 これに対し、 プラズマ発生時の冷 却は、 プラズマによる温度上昇分 (数度) を吸収するだけで良く、 かつチャンバ外 壁や流体循環路からの放熱もあるため、 熱交換器の冷却能力は低くてよく、 かえつ て高い冷却能力では過冷却になるため望ましくない。 さらに、 プラズマ発生時の冷
却は熱応答性が良好である必要があり、 かつ摂氏 9 0度に一定に保っために制御精 度も良くなければならない。
しかし、 上述した従来の流体温度制御方法は、 いずれも、 冷却液の流量や熱交換 面積の変更によって冷却能力を制御しているため、 上記用途に適する程には応答性 が高くなくかつ制御精度も低い。
従って、 本発明の目的は、 温度制御の精度が高くかつ熱応答性も高い流体温度制 御装置及び方法を提供することにある。 発 明 の 開 示
本発明に従う流体温度の制御装置及び方法は、 冷却液を用いて流体を冷却しつつ 同時にヒー夕を用いて流体を加熱し、 そして、 ヒー夕の出力を調節することにより 流体の温度を制御することができる。
冷却液を用いて流体を冷却するとき、 冷却液又は流体の流量を変えたり、 冷却液 と流体間の熱交換面積を変えることにより流体温度を制御することはできるが、 こ の方法では高い熱応答性や高い温度制御精度を得ることが難しい。 一方、 ヒー夕で 流体を加熱するとき、 ヒー夕出力を調節することにより流体温度を応答性良くかつ 高精度に制御することは比較的に容易である。 特に、 ヒー夕として、 ヒーティング ランプや電熱線ヒ一夕のような電力を熱に変換するタイプのヒー夕を用いると、 高 い応答性と高い制御精度を得ることが特に容易である。 本発明によれば、 冷却液に よる冷却とヒ一夕による加熱を同時に行いつつ、 ヒ一夕出力の調節により流体温度 を制御するため、 ヒータのもつ高い熱応答性と高い制御精度を活かして流体を冷却 することができる。
さらに、冷却液による冷却量をヒー夕の最大加熱量以下の範囲に設定しておけば、 ヒー夕出力の調節だけで冷却モ一ドから加熱モードへ、 また加熱モ一ドから冷却モ ードへと円滑に移行することもできる。
また、 例えば上述したエッチングチャンバの温度制御の場合のように、 エツチン グ開始時点から流体の冷却を開始する必要がある場合、 冷却を開始すベき時点以前 から上述の同時的な冷却と加熱による制御を開始しておくと、 ヒー夕出力を冷却開 始時点までは冷却液の冷却量と相殺するように調節し、 冷却開始時点以降は必要な 冷却量分だけ減少させるというようなヒー夕出力制御が容易に行え、 結果として、 実質的に応答遅れなく冷却を開始することができる。
本発明に従う同時的な冷却と加熱による温度制御を実行する動作モードは、 ある 温度制御システムにおいて、 当該動作モードや、 冷却液による冷却だけを実行する モードや、 ヒー夕による加熱だけを実行するモードなどの中から、 状況に応じて最 適なモードが選択されるような態様で、 適宜に使用することもできる。 本発明に従 う動作モードは、 例えば、 大きい冷却能力を発揮できる能力をもった熱交換器を用 いて小さい冷却量で精度良く流体温度を制御したいような場合に利用価値が高い。 図面の簡単な説明
図 1は、 本発明の第 1の実施形態の構成を示す回路図。
図 2は、 熱交換器の構造を示す縦断面図。
図 3は、 図 2の A— A線での横断面図。
図 4は、 第 1の実施形態での制御の流れを示すフローチヤ一ト。
図 5は、 本発明の第 2の実施形態の構成を示す回路図。
図 6は、 第 2の実施形態での制御の流れを示すフローチャート。
図 7は、 本発明の第 3の実施形態の構成を示す回路図。
図 8は、 第 3の実施形態での制御の流れを示すフローチヤ一ト。
図 9は、 本発明の第 4の実施形態の構成を示す回路図。
図 1 0は、 第 4の実施形態での制御の流れを示すフローチャート。
発明を実施するための最良の形態
図 1は、 本発明の流体温度制御装置の一実施形態の構成を示す。
熱交換システム 1は、 流体である熱媒体を冷却又は加熱してその温度を設定温度 に制御しつつ、 その熱媒体を負荷 7へ供給するものである。 そのため、 熱交換シス テム 1と負荷 7との間に、 熱媒体を運ぶための熱媒体流管 9、 1 0が配設されてい る。 熱媒体流管 9、 1 0は、 その中を流れる熱媒体が熱交換システム 1から負荷 7 に至り、 負荷 7内を通って再び熱交換システム 1へと戻るような循環流路 1 1を構 成している。 熱媒体には、 例えば水、 エチレングリコ一ル、 フロリナート (登録商 標)、 ガルデン (登録商標) のような負荷 7の温度制御に適した流体を用いること ができる。 負荷 7は、 例えば半導体製造プロセスに用いるプラズマエッチング装置 のチャンバであるが、 これに限らず、 熱媒体を用いて温度制御を行うことができる 種々の装置であり得ることは言うまでもない。
熱交換システム 1は、 熱媒体を循環流路 1 1内で循環させるために循環流路 1 1 に接続されたポンプ 3と、 循環流路 1 1内を流れる熱媒体を冷却及び加熱するため に循環流路 1 1に接続された熱交換器 2とを有する。 熱交換器 2は、 後に詳細に説 明するように、 冷却水を用いて熱媒体を冷却する機能と、 ランプヒー夕を用いて熱 媒体を加熱する機能とを有する。 そのため熱交換器 2には、 冷却水供給管 1 3と冷 却水排出管 1 2とが接続されており、 また、 図示しないランプヒ一夕が内蔵されて いる。 冷却水供給管 1 3の途中部分は、 2つの経路つまり大流量経路 1 4と微小流 量経路 1 5とに分れている。 大流量経路 1 4は電磁式の開閉バルブ 5を有し、 この 電磁バルブ 5が開くと冷却水が比較的大流量で熱交換器 1 2に流れる。 微小流量経 路 1 5は、 電磁式の開閉バルブ 6と開度調整可能な絞り弁 4とを有し、 電磁バルブ 6が開くと絞り弁 4によって絞られた比較的に少流量の冷却水が熱交換器 1 2に流 れる。
熱交換器 2の熱媒体出口近傍の循環流管 1 1の部分に、 熱交換器 2から出た熱媒
体の温度を測定するための温度センサ 8が設けられている。 また、 熱交換システム 1の外部に、 負荷 7の運転状態に応じて熱媒体の目標温度を設定するメインコント ローラ 1 7が設けられている。 温度センサ 8の検出した温度及びメインコント口一 ラ 1 7の設定した温度はコントローラ 1 6に入力される。 コントローラ 1 6は、 後 に詳述するように、 メインコントローラ 1 7からの設定温度と温度センサ 8からの 検出温度とを受け、 ポンプ 3の駆動、 バルブ 5、 6の開閉制御、 絞り弁 4の開度調 節及び熱交換器 2内のヒ一ティングランプの出力調節を行うものであり、 例えば、 プログラムされたマイクロコンピュー夕 (図示せず) と、 このコンピュータからの 指令を受けてポンプ 3、 バルブ 5、 6、 絞り弁 4及びヒ一ティングランプ 4をそれ それ駆動するドライバ回路 (図示せず) とを含む。
図 2は、 熱交換器 2の具体的な構成例を示した熱交換器 2の縦断面図であり、 図 3は、 図 2の A— A線での熱交換器 2の横断面図である。
熱交換器 2は、 両端面が塞がれ内側に空間 2 3 aを有する円筒形の内側容器 2 1 と、 やはり円筒形で塞がれた両端面を有しかつ内側容器 2 1を囲繞して内側容器 2 1の外側に空間 2 3 bを形成している外側容器 2とを有する。 内側容器 2 1は、 そ の周壁の一端に近い箇所に、 熱媒体の入口 2 l aを有し、 かつ、 周壁の他端に近い 箇所であって入口 2 1 aとは中心軸に対して対称な箇所に、 熱媒体の出口 2 1 bを 有する。 熱媒体の出口 2 1 bの近傍に図 1に示した温度センサ 8が取付けられてい る。 また、 外側容器 2 2は、 その周壁の一端に近い箇所に、 冷却液 (例えば水) の 入口 2 2 aを有し、 かつ、 周壁の他端に近い箇所であって入口 2 2 aとは中心軸に 対して対称な箇所に、 冷却液の出口 2 2 bを有する。
内側容器 2 1は、 熱伝導性、 耐食性及び成形性の良好な材料、 例えばアルミニュ ーム、 銅、 ステンレススチールなどで作られる。 外側容器 2 2も同様な材料で作ら れてよいし、或は、耐食性及び成形性は良好であるが熱伝導性の高くない別の材料、 例えばプラスチックや塩化ビニルやセラミックスなどで作ることもできる。 内側容
器 2 1と外側容器 2 2との接合部は、溶接やロウ付けやその他の適当な方法により、 液を洩らさないようシールされる。
内側容器 2 1の内側空間 2 3 a内には、 中心軸に沿って透明筒 2 4が配置され、 この透明筒 2 4は内側容器 2 1の両端の壁 2 6、 2 6を貫通している。 この透明筒 2 4内に、 ヒーティングランプ 2 5が揷入されている。 透明筒 2 4は、 石英ガラス のような光透過性の極めて高い耐熱性の材料で作られている。 ヒーティングランプ 2 5には、 赤外線を多く出すものが好ましく、 例えばヒー夕用のハロゲンランプが 用いられる。 このランプ 2 5は、 ブッシュ 2 9によって透明筒 2 4に接触しないよ うに、 透明筒 2 4内の中心軸位置に支持されている。
内側容器 2 1の両端の壁 2 6、 2 6は、 硬質ゴムやプラスチックや金属のように 適度な弾性と十分な耐熱性とをもつ材料によって作られている。 端壁 2 6、 2 6と 内側容器 2 1及び透明筒 2 4との間の隙間をシールするために、 端壁 2 6、 2 6の 外周面と内周面にはそれぞれ 0リングのようなシ一ルリングが填め込まれている。 内側容器 2 1の内周面には、 容器 2 1の中心軸に平行に伸びた多数本の内側フィ ン 2 8 aが固定されており、 外周面にも中心軸に平行に伸びた多数本の外側フィン 2 8 bが固定されている。 内側フイン 2 8 aは、 内側空間 2 3 aの半径の方向に、 つまり、 ランプ 2 5からの赤外線の放射方向に、 真っ直ぐに立っている。 外側フィ ン 2 8 bも同様に、 半径の方向に放射状に直立しているが、 必ずしもそうである必 要はない。 内側フイン 2 8 aも外側フイン 2 8 bも、 内側空間 2 3 a及び外側空間 2 3 bのほぼ全体領域にわたって分散されて配置されており、 且つその全体領域に わたって実質的に一様の密度 (つまり、 概略的に一様の間隔) で配置されている。 これらのフィン 2 8 a、 2 8 bは、 熱伝導率が高く、 耐食性及び成形性も良好な、 例えばアルミニューム、 銅、 ステンレススチールのような材料で作られる。 更に、 赤外線の吸収率も良い材料であることが望ましい。
内側フィン 2 8 aの先端と透明筒 2 4の外周面との間には僅かな隙間がある。 外
側フィン 2 8 bの先端と外側容器 2 2の内周面との間にも僅かな隙間がある。
このように構成された熱交換器 2において、 熱媒体は入口 2 1 aから内側空間 2 3 aに流入し内側空間 2 3 aを通って出口 2 l bから流出する。 また、 冷却液は入 口 2 2 aから外側空間 2 3 bに流入し外側空間 2 3 bを通って出口 2 2 bから流出 する。
熱媒体を加熱する場合、 ランプ 2 5が点灯される。 ランプ 2 5から放射された赤 外線は透明筒 2 4を通過して内側空間 2 3 aに入射する。 もし、 熱媒体が光吸収性 の極めて低い物質 (例えばフロリナ一ト) であれば、 赤外線の大部分はフィン 2 8 aに吸収され、 そこで生じた放射熱がフィン 2 8 aから熱媒体へと伝えられて、 熱 媒体が加熱される。 もし、 熱媒体が光吸収性を適度にもつ物質 (例えば水、 ェチレ ングリコールなど) であれば、 赤外線はフイン 8 8 aだけでなく熱媒体自体にも直 接吸収され、 その放射熱で熱媒体の温度が上昇する。 いずれにしても、 ランプ 2 5 からの放射熱は内側空間 2 3 aの全体領域にほぼ一様に行き渡るため、 内側空間 2 3 a内の熱媒体はむらなく一様に近い態様で加熱される。
加熱量の制御は、 熱媒体出口 2 1 bに配置した温度センサ 8 (図 1参照) からの 検出温度に応じてコントローラ 1 6 (図 1参照) が、 ランプ 2 5の点灯時間のデュ —ティ制御や発光量制御を行うことにより行われる。 例えば、 熱媒体の検出温度と 設定温度との偏差を P I D演算することによりランプ 2 5への供給電力を調節する。 また、 熱媒体を冷却する場合は、 冷却液が流される。 熱媒体が保有する熱が内側 フィン 2 8 a、 内側容器 2 1及び外側フイン 2 8 bを通じて冷却液に伝えられ、 熱 媒体が冷却される。 必要な冷却能力に応じて、 図 1に示したコントローラ 1 6が、 バルブ 6、 5を選択的に閧くことにより、 冷却液の流量を大小に切り替える。 例え ば、 大きい冷却能力が必要な時は、 ノ レブ 5を開くことにより、 大流量経路 1 4を 通して冷却液を大量に流す (この冷却モードを以下、 「大冷却モード」 という)。 一 方、 小さい冷却能力が望ましい時は、 バルブ 5を閉じバルブ 6を開くことにより、
微小流量経路 1 5を通して冷却液を少量流す (この冷却モードを以下、 「微小冷却 モード」 という)。
この実施形態において注目すべき点は、 微小冷却モードでは、 冷却液を流すのに 加えて、 ランプ 2 5も点灯することである。 即ち、 実際に必要な冷却量よりも若干 大きい冷却量が得られるような流量で冷却液を流すと共に、 ランプ 2 5も点灯し、 そして、 ランプ 2 5の加熱量を P I D制御することによって、 必要な冷却量が総合 的に得られるようにするのである。 このように冷却と加熱を併用することの一つの 利点は、 冷却水の冷却量の調節ではなくランプ 2 5の加熱量の調節によって総合的 な冷却量を制御するため、 総合的な冷却量の制御精度が高くかつ応答性も高いこと である。
図 4は、 図 1に示したコントローラ 1 6が行う制御の流れを示す。
ここでは、 負荷 7がブラズマエッチング装置のチヤンバである場合を想定してい る。 発明が解決しょうとする課題の欄で既に述べたように、 プラズマエッチングプ ロセスでは、 まずチャンバ内を摂氏 9 0度程度に加熱し、 チャンバ内温度が一定に なったところで、 チャンバ内にウェハを入れプラズマを発生させてエツチングを行 う。 また、 定期的に、 チャンバを室温まで冷却してクリーニングを行う。 プラズマ 発生時には、 プラズマ発生による温度上昇分 (数度) だけ熱媒体を冷却する必要が あるが、 このときの冷却能力は小さい方が望ましい。 一方、 クリーニングのために 冷却する時は、 冷却能力は大きい方が望ましい。 図 4に示したコントローラ 1 6の 制御は、 このような要求を満たすように熱媒体を加熱及び冷却することを目的とし ている。
図 4に示すように、 コントローラ 1 6はまず、 微小流量経路 1 5の絞り弁 4の開 度を次のように調整し固定する (S l )。 即ち、 予め分っている負荷 7 (プラズマ エッチングチャンバ) の最大発熱量を W l、 微小流量経路 1 5を通して冷却液を流 したときの熱交換器 2での冷却液による冷却量を W 2、 予め分っているヒーティン
'25の最大加熱量を W 3、 予め分っている熱交換システム及び負荷を含め た系全体での放熱量を W4とすると、 冷却量 W2が W1≤W2≤ (W3 -W4 ) の範囲内の適当値になるように、 絞り弁 4の開度を決定する。
その後、 メインコントローラ 17からコントローラ 16に設定温度 (熱媒体の目 標温度) SVが入力されると (S 2)、 コントローラ 1 6は、 その設定温度 SVと 温度センサ 8が検出した熱媒体の現在温度 PVとを比較する(S 3)。比較の結果、 設定温度 SVが現在温度 PVより 5度以上高い場合は、 ステップ S 4〜S 10の制 御へ進む。 一方、 ステップ S 3の比較の結果、 設定温度 SVが現在温度 PVより 5 度以上低い場合は、ステップ S 1 1〜S 14の制御へ進む。典型的な例を挙げると、 エッチングプロセスの最初の開始時や定期クリ一ニング後の再開時であって、 チヤ ンバ内を室温から摂氏 90度程度まで加熱するために、 摂氏 90度程度の設定温度 が入力された場合には、 ステップ S 4〜S 10の制御へ進む。 また、 例えば、 定期 的なクリ一ニングを行うためにチヤンバ内を摂氏 90度程度から室温まで冷却する ために、 室温の設定温度が入力された場合には、 ステップ S 1 1〜S 14の制御へ 進む。
エッチングプロセスを開始するためにステップ S 4へ進んだ場合、まずバルブ 5、 6を閉じて冷却水の流れを止める。 同時に、 ランプ 25を点灯し、 熱媒体を設定温 度 SVまで加熱するように、 現在温度 PVと設定温度 SVに基づいてランプ 25の 出力を P ID制御する (S 5)。 即ち、 温度センサ 8からの現在温度 PVの絶対値 とその時間的な変化とを計測し、 それら計測値に基づいて現在温度 PVと設定温度 SVとの偏差の比例演算値、 微分演算値及び積分演算値を求め、 それら演算値を統 合した値に従ってランプ 25への供給電力を調節する。
このようにして熱媒体を加熱しつつ、 現在温度 P Vと設定温度 S Vとを比較し、 両者の温度差が 1度以内になったか否かチェックする (S 6)。 温度差が 1度以内 になると、微小冷却モードに入るための準備を開始する。即ち、 バルブ 6を開いて、
微小冷却経路 15を通して小流量での冷却液の供給を開始する (S 7)。 冷却液の 流量は、 ステップ S 1で固定した絞り弁 4の開度に応じた一定値である。 それによ る冷却量 W 2は、 既に述べたように Wl≤W2 ^ (W3 -W4) の条件を満して いる。 この冷却液の供給開始と同時に、 それによる冷却量 W2を打ち消して総合的 な冷却量がゼロになるようにランプ 25の出力を調節する (S 8)。 即ち、 冷却液 の供給が開始されると、 温度センサ 8からの現在温度 PVが低下するが、 コント口 —ラ 16はステップ S 5から継続して現在温度 PVを設定温度 SVに一致させるよ うランプ出力をフィ一ドバック制御しているから、 現在温度 P Vが低下するとこれ を阻止するようランプ出力を増加させることになる。 一般に、 ランプ出力制御は応 答性が高く、 冷却量変化による温度変動に追従できるため、 結果として、 冷却液の 供給が開始されても、 熱媒体の温度は大きく低下すること無く、 実質的には設定温 度 SV (摂氏 90度程度) で一定に保たれることになる。
微小冷却モードの準備ができた後、 負荷 (チャンバ) 7ではプラズマエッチング が開始される。 すると、 微小冷却モードが次のように実行される。 即ち、 チャンバ 内ではプラズマによる熱が発生し、 この熱を熱媒体が吸収するため、 コントローラ 16は温度センサ 8からの現在温度 PVの上昇を検知することになる (S 9)。 す ると、 コントローラ 16は、 既に継続してランプ出力のフィードバック制御を行つ ているから、 現在温度 PVの上昇を阻止するようランプ出力を若干減少させる (つ まり、 総合的な冷却量を増加させる) ことになる (S 10)。 ランプ制御の応答性 は高いから、 結果として、 熱媒体の温度は実質的にはあまり上昇せずに設定温度 S V (摂氏 90度程度) で一定に保たれることになる。 以後、 エッチングが行われて いる間、 微小冷却モ一ドによつて熱媒体の温度は実質的に設定温度 S Vで一定に保 たれる。 微小冷却モードでは、 チャンバ内で発生する熱量の変動などに対してラン プ出力制御による冷却量調節で対応するため、 応答性が良く高い精度の制御が実現 できる。 また、 ランプ出力の調節だけで、 冷却液流量を一定にしたままで、 冷却か
ら加熱及び加熱から冷却への移行が無段階的に円滑に行え、 このことも高精度な温 度制御を容易にする。
さて、 エッチングプロセスを一旦止めて定期クリーニングを行う場合には、 前述 したようにステップ S 2で室温の設定温度が入力されるため、 制御はステツプ S 1 1以下へ進んで大冷却モードを開始する。 まず、 ステップ S 1 1でバルブ 5を開い て、 大流量経路 1 4を通し大流量で冷却液を熱交換器 2へ供給する。 これにより、 大きい冷却能力での冷却が開始される。 この大冷却モードの実行中、 現在温度 P V と設定温度 S Vを比較し、両温度の差が 1度以下になるまで冷却を続ける(S 1 2 )。 両温度の差が 1度以下になると、 バルブ 5、 6を閉じて、 大冷却モードを終了する
( S 1 3 )。 同時に、 ランプ 2 5を点灯し、 現在温度 P Vが設定温度 S V (室温) に一致するようにランプ出力を P I Dフィードバック制御する (S 1 4 )。 結果と して、 チャンバはエッチングプロセス実行時の摂氏 9 0度程度から、 高速に室温ま で冷却されることになる。
図 5は、 本発明の第 2の実施形態の構成を示す。 尚、 既に説明した第 1の実施形 態と同一機能を有する要素には同一の参照番号を付して重複した説明は省略する
(後に説明する実施形態についても同様)。
この第 2の実施形態では、 熱交換システム 3 1は、 循環流路 1 1内に、 熱交換器 3 2をバイパスするためのバイパス流路 3 2を有し、 このバイパス流路 3 2には電 磁式の開閉バルブ 3 6が設けられている。 温度センサ 8は、 熱交換器 2から出てき た熱媒体とバイパス流路 3 2からの熱媒体との合流点の近傍かつ下流に設けられて いる。 熱媒体を熱交換器 2に供給するための熱媒体流路は、 熱交換器 2の入口手前 で、 2つの流路つまり主流路 3 5と微小流路 3 7とに分れており、 主流路 3 5には 電磁式の開閉ノ レブ 3 5が、 微小流路 3 7には絞り弁 3 4が設けられている。 冷却 液の供給管 1 3は単純な 1本の管であり、 そこに電磁式の開閉バルブ 3 9が設けら れている。 コントローラ 3 8は、 温度センサ 8からの現在温度 P Vとメインコント
ローラ 1 7からの設定温度 S Vとを受けて、 ポンプ 3、 電磁バルブ 3 5、 3 6、 3 9、 絞り弁 3 4及び熱交換器 2内のヒーティングランプ 2 5 (図 2、 3参照) を駆 動及び制御する。
この熱交換システム 3 1では、 第 1の実施形態で行っていた冷却液流量の大小の 切り替えに代えて、 熱交換器 2へ供給する熱媒体の流量を大小に切り替えることに より、 冷却液による冷却量を大小に切り替える。 即ち、 主流路 3 3のバルブ 3 5を 開きバイパス流路 3 2のバルブ 3 6を閉じると、 熱媒体は全て熱交換器 2を通るた め、 大冷却モードが行える。 逆に、 主流路 3 3のバルブ 3 5を閉じバイパス流路 3 2のバルブ 3 6を開けると、 微小流路 3 4のみを通じて少量の熱媒体のみが熱交換 器 2に入るため、 微小冷却モードが行える。 この微小冷却モードでは、 第 1の実施 形態と同様、ランプ出力のフィードバック制御により総合的な冷却量が調節される。 図 6は、 コントローラ 3 8が行う制御の流れを示す。 ここでも、 負荷 7がプラズ マエツチング装置のチヤンバである場合を想定している (以下の実施形態も同様で ある)。
コントローラ 3 8はまず、微小流路 3 7の絞り弁 3 4の開度を調整し固定する(S 2 1 )。 この場合も、 第 1の実施形態の場合と同様、 負荷 7 (プラズマエッチング チャンバ) の最大発熱量を W l、 微小冷却モードでの冷却液による冷却量を W 2、 ランプ 2 5の最大加熱量を W 3とすると、 冷却量 W 2が W 1≤W 2≤ (W 3 - W 4 ) の範囲内の適当値になるように、 絞り弁 3 4の開度を決定する。
その後、 メインコントローラ 1 7からコントローラ 3 8に設定温度 (熱媒体の目 標温度) S Vが入力される (S 2 2 )。 それ以降の制御は、 図 4に示した第 1の実 施形態でのそれと基本的に同様である。 但し、 加熱モードでは、 冷却液のバルブ 3 9を閉じるだけでなく、熱媒体のバイパス流路 3 2のバルブ 3 6も閉じる(S 2 4、 S 3 3 )。 また、 微小冷却モード (その準備も含めて) では、 既に説明したように、 バルブ 3 9を開いて冷却液を一定流量で流し、 かつ、 バルブ 3 5を閉じバルブ 3 6
を開くことにより、 熱媒体を小流量で熱交換器 2に送り、 残りの熱媒体は熱交換器 2をバイパスさせる (S 2 7 )。 大冷却モードでは、 既に説明したように、 バルブ
3 9を開いて冷却液を一定流量で流し、 かつ、 バルブ 3 5を開きバルブ 3 6を閉じ ることにより、 全ての熱媒体を熱交換器 2に送る (S 3 1 )。
この実施形態でも、 微小冷却モード及びその準備段階では、 総合的な冷却量をラ ンプ出力のフィードバック制御により調節しているので、 良好な熱応答性と高い温 度制御精度が得られる。
図 7は、 本発明の第 3の実施形態の構成を示す。
この実施形態では、 熱交換システム 4 1は、 多数 (N個) の冷却液出口を有した 熱交換器 4 2を有する。 この熱交換器 4 2は、 基本的には、 図 2、 3に示した熱交 換器 2と同様の構造 (つまり、 共に円筒形の外側及び内側容器間に形成された冷却 液の流れる空間 2 3 bと、 内側容器内に形成された熱媒体の流れる空間 2 3 aと、 その内側容器内に挿入された円柱形のヒ一ティングランプ 2 5とを備えた構造) を もつ。 しかし、 その外側容器にはその軸方向に沿って、 図示のように N個の冷却液 出口が並んでおり、 それら N個の冷却液出口に N本の冷却液排出管 4 4 - 1〜 4 4 -N が接続されている。 それら N本の冷却液排出管 4 4 -1〜4 4 -N は、 それぞれ電磁 式の開閉バルブ 4 3 - 1〜4 3 - N を有し、 先方で 1本の共通の冷却液排出管 1 2に 接続している。 この共通の冷却液排出管 1 2には絞り弁 4 6が設けられている。 冷 却水供給管 1 3は単純な 1本の管であり、 電磁式の開閉バルブ 3 9を有する。 コン トロ一ラ 3 7は、 現在温度 P Vと設定温度 S Vとを入力し、 ポンプ 3、 バルブ 3 9、
4 3 - 1〜4 3 - N、 絞り弁 4 6、 ランプ 2 5を駆動及び制御する。
この熱交換システム 4 1では、 N本の冷却液排出管 4 4 - 1〜4 4 -N の電磁バル ブ 4 3 - 1〜4 3 - N を選択的に開くことにより、 冷却液と熱媒体との間の実質的な 熱交換面積を変化させて、 冷却液による冷却量を加減することができる。 例えば、 冷却液入口に最も近い冷却液出口に接続された冷却液排出管 4 4 -1 のバルブ 4 3 -
1 を開くと、 実質的な熱交換面積は最も小さくなるから、 冷却液による冷却量は最 小となる。 また、 冷却液入口からより遠い冷却液出口のバルブを開く程、 実質的な 熱交換面積はより大きくなり、 冷却液による冷却量はより大きくなる。 よって、 最 も遠い出口のバルブ 43-N を開くと、 実質的な熱交換面積は最大となり、 冷却液 による冷却量は最大となる。 本実施形態では、 説明を簡単にするため、 大冷却モー ドでは最も遠い出口のバルブ 43- N を開き、 微小冷却モードでは最も近い出口の バルブ 43-1 を開き、 残りのバルブ 43- 2〜43-N- 1 は閉じたままとする。 しか し、 実際は、 大冷却モード及び微小冷却モードでどの程度の冷却量を必要とするか に応じて、 各モードでどのバルブを開くかが決められることになる。
図 8は、 コントローラ 47が行う制御の流れを示す。
コントローラ 47はまず、 微小冷却モードでの冷却液による冷却量 W 2が W 1 ≤W2≤ (W3-W4) になるように、 微小冷却モードで開くべき冷却液排出用 のバルブ (この実施形態ではバルブ 43-1) を選び、 かつ絞り弁 46の開度を調整 し固定する (S41)。 さらに、 大冷却モードで必要な冷却量に応じて、 大冷却モ ―ドで閧くべき冷却液排出用のバルブ(この実施形態ではバルブ 43-N)を選ぶ(S
42)。
その後、 メインコントローラ 17から設定温度 SVが入力されると、 コント口一 ラ 47は、図 4に示した第 1の実施形態でのそれと基本的に同様の制御を実行する。 但し、加熱モードでは、 冷却液供給用のバルブ 39を閉じて冷却液を止め( S 44、
553)、 微小冷却モード (その準備も含めて) では、 バルブ 39とバルブ 43-1 のみを開くことにより冷却液を小流量で熱交換器 2に送り (S 47)、 また、 大冷 却モードでは、 ノ ノレブ 39とバルブ 43-N のみを開くことにより、 冷却液を大流 量で熱交換器 2に送る (S 51)。
この実施形態でも、 微小冷却モード及びその準備段階では、 総合的な冷却量をラ ンプ出力のフィードバック制御により調節しているので、 良好な熱応答性と高い温
度制御精度が得られる。
図 9は、 本発明の第 4の実施形態の構成を示す。
この実施形態の熱交換システム 5 1では、 第 1の実施形態の場合と同様の冷却と 加熱の両機能をもつ熱交換器 2の他に、冷却機能だけをもつ第 2の熱交換器 5 3が、 第 1の熱交換器 2の上流側に設けられている。 第 2の熱交換器 5 3は、 図 2、 3に 示した構造からランプ 2 5を除去したような構造をもつ。 第 2の熱交換器 5 3は、 その冷却量 W 2が W l≤W 2≤ (W 3 -W 4 ) の条件を満たすよう、 比較的に小 さい熱交換面積をもった構成に設計されており、 これに対し第 1の熱交換器 2は、 第 2の熱交換器 5 3よりかなり大きい冷却量が発揮できるよう、 比較的に大きい熱 交換面積をもった構造に設計されている。 第 2の熱交換器 5 3には、 冷却液供給管 5 7と冷却液排出管 5 6が接続されており、 冷却液供給管 5 7には電磁式の開閉バ ルブ 5 5が設けられている。 コントローラ 5 8は、 現在温度 P Vと設定温度 S Vと を入力し、 ポンプ 3、 ノ レブ 3 9、 5 5、 第 1の熱交換器 2内のランプ 2 5を駆動 及び制御する。
この熱交換システム 5 1では、 第 1の熱交換器 2と第 2の熱交換器 5 3に選択的 に冷却水を供給することにより、 冷却液による冷却量を大小に切り替えることがで きる。 即ち、 第 1の熱交換器 2に冷却液を流すと、 比較的大面積で熱交換が行われ るため、 大冷却モードを実行することができる。 第 2の熱交換器 5 3に冷却液を流 すときは、 比較的小面積で熱交換が行われるので、 微小冷却モードを実行すること ができる。 微小冷却モードでは、 第 1の熱交換器のランプ出力を制御することによ り、 総合的な冷却量を応答性良くかつ高精度に制御できる。
図 1 0は、 コントローラ 5 8が行う制御の流れを示す。
メインコントローラ 1 7から設定温度 S Vが入力されると、コントローラ 5 8は、 図 4に示した第 1の実施形態でのそれと基本的に同様の制御を実行する。 但し、 加 熱モードでは、 バルブ 3 9、 5 5を閉じて両方の熱交換器 2、 5 3への冷却液供給
を止め (S 6 4、 S 7 3 )、 微小冷却モード (その準備も含めて) では、 バルブ 3 9を閉じバルブ 5 5を開くことにより冷却液を小流量で第 2の熱交換器 5 3へ送り ( S 6 7 )、 また、 大冷却モードでは、 ノ レブ 3 9を開きバルブ 5 5を閉じること により、 冷却液を大流量で第 1の熱交換器 2に送る (S 7 1 )。
この実施形態でも、 微小冷却モード及びその準備段階では、 総合的な冷却量をラ ンプ出力のフィードバック制御により調節しているので、 良好な熱応答性と高い温 度制御精度が得られる。
上述した幾つかの実施形態におけるコントローラは、専用ハードウェア回路でも、 プログラムされたコンピュータでも、 或いは、 両者の組み合わせでも実施すること ができる。 コンピュータを用いて上記コントローラを実施する場合、 そのコンビュ —夕ためのプログラムは、 各種のディスク型ストレージ、 半導体メモリ、 或いは通 信回線などの種々の媒体を通じてコンピュータにィンストール又は口一ドすること ができる。
以上、 本発明の幾つかの実施形態を例示したが、 本発明はそれ以外の種々の形態 でも実施できることは言うまでもない。 例えば、 負荷はエッチングチャンバである 必要はない。 熱交換器は、 図 2、 3に示したような構造である必要はなく、 ヒ一夕 もランプに限らす電熱線ヒ一夕であってもよい。 大冷却モ一ドと微小冷却モードの 2種類の冷却モードを持つ必要もなく、 加熱モードも持つ必要もない。 要するに、 冷却液による冷却とヒー夕による加熱とを同時に行い、 加熱量調節により総合的な 熱交換量を制御するような動作モ一ドがあればよい。
Claims
1 . 冷却液を用いて流体を冷却する冷却器と、
前記流体を加熱するヒ一夕と、
前記流体の温度を制御するために、 前記冷却器と前記ヒー夕を同時に駆動しつつ 前記ヒ一夕の出力を調節する同時駆動手段と
を備えた流体温度の制御装置。
2 . 前記ヒー夕がヒーティングランプ又は電熱線ヒー夕である請求項 1記載の 流体温度の制御装置。
3 . 前記同時駆動手段が、 前記流体の温度制御に必要な冷却量以上の冷却量を 発揮するよう、 前記冷却器を駆動する請求項 1記載の流体温度の制御装置。
4 . 前記同時駆動手段が、 前記ヒー夕のもつ最大の加熱量以下の冷却量を発揮 するよう、 前記冷却器を駆動する請求項 1及び 3のいずれか一項記載の流体温度の 制御装置。
5 . 前記同時駆動手段が、 前記流体を冷却する必要の生じる時点の以前に作動 を開始して、 前記時点以降も作動を継続する請求項 1記載の流体温度の制御装置。
6 . 前記冷却器のみを駆動する冷却駆動手段と、
前記ヒー夕のみを駆動する加熱駆動手段と、
前記同時駆動手段、 前記冷却駆動手段及び前記加熱駆動手段を選択的に作動させ るモード選択手段と
をさらに備えた請求項 1記載の流体温度の制御装置。
7 . 流体が通る流体通路と、 前記流体通路内の流体を冷却するために冷却液が 通る冷却液通路と、 前記流体通路内の流体を加熱するためのヒー夕とを有した熱交 換器と、
前記熱交換器に前記流体を供給しかつ排出させるための流体系統と、
前記熱交換器に前記冷却液を供給しかつ排出させるための冷却液系統と、 前記流体系統、 前記冷却液系統及び前記ヒー夕を駆動し制御するためのコント口 一ラとを備え、
前記コントローラが、 前記流体系統、 前記冷却液系統及び前記ヒー夕を同時に駆 動しつつ、 前記流体の温度を制御するために前記ヒータの出力を調節する同時駆動 モードを有する流体温度の制御システム。
8 . 前記流体系統及び前記冷却液系統の少なくとも一方が、
比較的に大きい冷却量が発揮されるような態様で前記流体又は冷却液を前記熱交 換器に流すための大冷却系統と、
比較的に小さい冷却量が発揮されるような態様で前記流体又は冷却液を前記熱交 換器に流すための微小冷却系統と
を有し、
前記コントローラが、 前記同時駆動モードにおいて、 前記微小冷却系統を選択的 に駆動する請求項 7記載の流体温度の制御システム。
9 . 前記ヒー夕がヒ一ティングランプ又は電熱線ヒー夕である請求項 7記載の 流体温度の制御システム。
1 0 . 前記コントローラが、 前記同時駆動モードにおいて、 前記流体の温度制 御に必要な冷却量以上の冷却量を発揮するよう、 前記冷却液系統を駆動する請求項 7記載の流体温度の制御システム。
1 1 . 前記コントローラが、 前記同時駆動モードにおいて、 前記ヒー夕のもつ 最大の加熱量以下の冷却量を発揮するよう、 前記冷却液系統を駆動する請求項 7及 び 1 0のいずれか一項記載の流体温度の制御システム。
1 2 . 前記コントローラが、 前記流体を冷却する必要の生じる時点の以前に前 記同時駆動モードを開始して、 前記時点以降も前記同時駆動モードを継続する請求 項 7記載の流体温度の制御システム。
1 3 . 前記コントローラが、
前記同時駆動モードと、
前記流体系統を駆動しつつ、 前記冷却液系統及び前記ヒー夕の内の前記冷却液系 統のみを駆動する冷却モードと、
前記流体系統を駆動しつつ、 前記冷却液系統及び前記ヒー夕の内の前記ヒー夕の みを駆動する加熱モードと
を有する請求項 7記載の流体温度の制御システム。
1 4 . 冷却液を用いて流体を冷却しつつ同時にヒ一夕を用いて前記流体を加熱 する同時駆動過程と、
前記同時駆動過程において、 前記ヒータの出力を調節することにより前記流体の 温度を制御する制御過程と
を有した流体温度の制御方法。
1 5 . 前記ヒー夕がヒーティングランプ又は電熱線ヒー夕である請求項 1 4記 載の流体温度の制御方法。
1 6 . 前記同時駆動過程において、 前記流体の温度制御に必要な冷却量以上の 冷却量で前記流体を冷却する請求項 1 4記載の流体温度の制御方法。
1 7 . 前記同時駆動モードにおいて、 前記ヒー夕のもつ最大の加熱量以下の冷 却量をで前記流体を冷却する請求項 1 4及び 1 6のいずれか一項記載の流体温度の 制御方法。
1 8 . 前記同時駆動過程が、 前記流体を冷却する必要の生じる時点の以前から 開始して、 前記時点以降も継続する請求項 1 4記載の流体温度の制御方法。
1 9 . 前記流体の冷却のみを行う冷却過程と、
前記流体の加熱のみを行う過熱過程と、
前記同時駆動過程、 前記冷却過程及び前記加熱過程の内のいずれか一つを選択す る選択過程と
を更に有する請求項 1 4記載の流体温度の制御方法。
2 0 . 冷却液を用いて流体を冷却する冷却器と前記流体を加熱するヒー夕とを 制御するコントローラにおいて、
前記冷却器と前記ヒー夕を同時に駆動しつつ、 前記流体の温度を制御するために 前記ヒー夕の出力を調節する同時駆動モードを有するコントローラ。
2 1 . 前記ヒー夕がヒーティングランプ又は電熱線ヒー夕である請求項 2 0記 載のコントローラ。
2 2 . 前記同時駆動モ一ドにおいて、 前記流体の温度制御に必要な冷却量以上 の冷却量を発揮するよう、 前記冷却器を駆動する請求項 2 0記載のコントローラ。
2 3 . 前記同時駆動モードにおいて、 前記ヒー夕のもつ最大の加熱量以下の冷 却量を発揮するよう、 前記冷却器を駆動する請求項 2 0及び 2 2のいずれか一項記 載のコントローラ。
2 4 . 前記同時駆動モードを、 前記流体を冷却する必要の生じる時点の以前 k ら開始して、 前記時点以降も継続する請求項 2 0記載のコントローラ。
2 5 . 前記冷却器のみを駆動する冷却モードと、
前記ヒ一夕のみを駆動するモードと、
を更に有し、 前記同時駆動モード、 前記冷却モード及び前記加熱モードを選択的に 実行する請求項 2 0記載のコントローラ。
2 6 . 冷却液を用いて流体を冷却する冷却器と前記流体を加熱するヒ一夕とを制 御するコントローラであって、 前記冷却器と前記ヒ一夕を同時に駆動しつつ、 前記 流体の温度を制御するために前記ヒー夕の出力を調節する同時駆動モードを有する コントロ一ラとして、 コンピュータを機能させるためのコンピュータプログラムを 担持したコンピュー夕読み取り可能な記録媒体。
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