JP2008267644A - ガス加熱装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】導入されるガスの流量にかかわらず、ガスを十分且つ効率よく加熱できるガス加熱装置を提供する。
【解決手段】加熱されるガスを流通させるケース10と、該ケース内に設けられたヒータ30と、ケース内の該ヒータの周囲に配置され、加熱されるガスを流通させるガス流路20とを備える。
【選択図】図1
【解決手段】加熱されるガスを流通させるケース10と、該ケース内に設けられたヒータ30と、ケース内の該ヒータの周囲に配置され、加熱されるガスを流通させるガス流路20とを備える。
【選択図】図1
Description
本発明は、熱源から熱を与えることによりガスを加熱するガス加熱装置に関する。
図2は、従来のガス加熱装置の概略的な構造を示している。このガス加熱装置は、加熱されるガスの流路となるケース90と、ケース90内に配置されたヒータ91とを含んでいる。ガス導入路92からケース90内に導入されたガスは、ケース90内を通過する際にヒータ91から熱を受け取り、ガス導出路93から導出される。
特開平8−261691号公報
このようなガス加熱装置においては、次のような問題が生じている。即ち、ガスの流量が多い場合には、ケース90内においてガスが乱流となり、多くの量のガスがヒータ91に接触するので、ガスの温度は容易に上昇する。ところが、ガスの流量が少ない場合には、図2の二点鎖線に示すように、ガス導入路92から導入されたガスが、あまり広がることなく、ガス導出路93の方に向かってしまう。そのため、ガスがあまりヒータ91に接触することなくケース90の外に導出されてしまうので、ガスを十分に加熱することができない。
関連する技術として、特許文献1には、冷熱媒流体の流量に応じて、冷熱媒流体の流路の接続状態を直列と並列とに切り替える熱交換器が開示されている。即ち、特許文献1においては、冷熱媒流体の流速を調節することにより、伝熱係数を維持している。しかしながら、特許文献1には、被熱交換流体側の気流の状態や、その状態に応じた熱交換効率については記載されていない。
そこで、本発明は、加熱されるガスの流量にかかわらず、ガスを十分且つ効率良く加熱できるガス加熱装置を提供することを目的とする。
上記目的を達成するため、本発明の1つの観点に係るガス加熱装置は、加熱されるガスを流通させる第1の流路と、前記第1の流路内に設けられた熱源と、前記第1の流路内の前記熱源の周囲に配置され、加熱されるガスを流通させる第2の流路とを備える。
かかる構成とすることにより、加熱されるガスの流量に応じてガスの流路を変更することができる。従って、ガス流量が少ない場合にはガスを第2の経路に流通させることにより、ガスの流速を上げて、第2の流路の内壁とガスとの熱伝導を高めることが可能になる。
ここで、前記第2の流路を、前記熱源の周囲を旋回するように螺旋状に配置することにより、第2の流路が長くなると共に、第2の流路が熱源に接近するので、熱源の熱を第2の流路に十分に伝導させることができる。
また、加熱されるガスの供給源と前記第1の流路又は前記第2の流路とを連通させる弁と、前記第1の流路又は前記第2の流路と加熱されたガスの供給先とを連通させる弁とをさらに備えても良い。それにより、ガスの流路を容易に切り替えることができる。
加えて、加熱されるガスの流量に応じて前記第1及び第2の弁の動作を制御する制御手段をさらに設けることにより、ガス流量に応じて適切な流路にガスを流通させることができる。
本発明によれば、加熱されるガスの流量が多い場合には、ガスを第1の流路に流通させることにより、効率良くガスを加熱することができ、ガスの流量が少ない場合には、ガスを第2の流路に流通させてガスの流速を上げることにより、ガスを十分に加熱することができる。従って、ガス流量にかかわらず、ガスを十分且つ効率良く加熱することが可能になる。
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら詳しく説明する。なお、同一の構成要素には同一の参照番号を付して、説明を省略する。
図1は、本発明の一実施形態に係るガス加熱装置の内部構造を示す模式図である。このガス加熱装置は、加熱されるガスの流路であるケース10と、加熱されるガスのもう1つの流路であるガス配管20と、ガスを加熱する熱源としてのヒータ30とを含んでいる。ヒータ30は、例えば、外部の電源から供給される電気により発熱する発熱体であり、ケース10内に配設されている。
図1は、本発明の一実施形態に係るガス加熱装置の内部構造を示す模式図である。このガス加熱装置は、加熱されるガスの流路であるケース10と、加熱されるガスのもう1つの流路であるガス配管20と、ガスを加熱する熱源としてのヒータ30とを含んでいる。ヒータ30は、例えば、外部の電源から供給される電気により発熱する発熱体であり、ケース10内に配設されている。
ケース10には、加熱されるガスが導入されるガス導入路11と、加熱されたガスが導出されるガス導出路12とが設けられている。ケース10に導入されたガスは、ケース10を通過する間にヒータ30から熱を受け取ることにより加熱され、ケース10から導出される。
ガス配管20は、ケース10内の熱源30の周囲に、例えば螺旋状となるように配設されている。また、ガス配管20へのガス導入路21、及び、ガス配管20からのガス導出路22は、ケース10の壁部に取り付けられており、それにより、ガス配管20は、ケース10の外側に連通する。
ガス導入路11及びガス導入路21の上流には、三方弁41が設けられている。三方弁41は、その上流に設けられた流路1をガス導入路11又はガス導入路21に連通させることにより、ガス供給源から供給されるガスをケース10又はガス配管20に導入する。一方、ガス導出路12及びガス導出路22の下流には、三方弁42が設けられている。三方弁42は、その下流に設けられた流路2にガス導出路12又はガス導出路22を連通させることにより、ケース10又はガス配管20を通過したガスをガス供給先に送り出す。
三方弁41及び42の動作は、図示しない制御装置により、加熱されるガス(ガス供給源から供給されるガス)の流量に応じて制御されている。即ち、制御装置は、ガス流量が多い場合には、ガスがケース10内を通過するように、三方弁41及び42を切り替える。一方、制御装置は、ガス流量が少ない場合には、ガスがガス配管20内を通過するように、三方弁41及び42を切り替える。
このようにガスの流路を変更する理由は、次の通りである。
ガス配管20をヒータ30の周囲を旋回するように螺旋状に配置することにより、ガス配管20は、熱伝導によって、より多くの熱をヒータ30から受け取るようになる。また、ガス配管20の内径はケース10の内径(幅)よりも小さいので、ガス配管20内においてはガスの流速が上がる。それにより、ガス配管20の内壁と、そこを通過するガスとの間の熱伝導効率が向上する。従って、ガス流量が小さい場合には、ガスをガス配管20に導入することにより、ガスを十分に加熱することができる。
ガス配管20をヒータ30の周囲を旋回するように螺旋状に配置することにより、ガス配管20は、熱伝導によって、より多くの熱をヒータ30から受け取るようになる。また、ガス配管20の内径はケース10の内径(幅)よりも小さいので、ガス配管20内においてはガスの流速が上がる。それにより、ガス配管20の内壁と、そこを通過するガスとの間の熱伝導効率が向上する。従って、ガス流量が小さい場合には、ガスをガス配管20に導入することにより、ガスを十分に加熱することができる。
一方、ガス流量が大きい場合には、ガスをケース10内に導入する。すると、ガスはケース10内に広がって乱流となり、ヒータ30に広く接触する。それにより、ガスを十分且つ効率良く加熱してすることができる。
以上説明したガス加熱装置は、例えば、水素と酸素との電気化学反応により発電する燃料電池システムにおいて、燃料電池に供給される水素ガスや空気を適切な温度まで加温する装置として用いられる。
また、以上説明した本実施形態においては、自ら発熱するヒータによってガスを加熱したが、ヒータの代わりに、外部に設けられた熱源の熱を伝達する熱媒を循環させる媒体循環流路を配置しても良い。その場合には、熱媒とガスとの間で熱交換させることにより、ガスを所望の温度に制御することが可能になる。また、熱媒の代わりに冷媒を配置することにより、ガス冷却装置(ガス温度制御装置)を構成することも可能である。
10…ケース、11、21…ガス導入路、12、22…ガス導出路、20…ガス配管、30…ヒータ、41、42…三方弁
Claims (4)
- 加熱されるガスを流通させる第1の流路と、
前記第1の流路内に設けられた熱源と、
前記第1の流路内の前記熱源の周囲に配置され、加熱されるガスを流通させる第2の流路と、
を備えるガス加熱装置。 - 前記第2の流路が、前記熱源の周囲を旋回するように螺旋状に配置されている、請求項1記載のガス加熱装置。
- 加熱されるガスの供給源と、前記第1の流路又は前記第2の流路とを連通させる第1の弁と、
前記第1の流路又は前記第2の流路と、加熱されたガスの供給先とを連通させる第2の弁と、
をさらに備える請求項1又は2記載のガス加熱装置。 - 加熱されるガスの流量に応じて、前記第1及び第2の弁の動作を制御する制御手段をさらに備える請求項3記載のガス加熱装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007108632A JP2008267644A (ja) | 2007-04-17 | 2007-04-17 | ガス加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007108632A JP2008267644A (ja) | 2007-04-17 | 2007-04-17 | ガス加熱装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008267644A true JP2008267644A (ja) | 2008-11-06 |
Family
ID=40047384
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007108632A Pending JP2008267644A (ja) | 2007-04-17 | 2007-04-17 | ガス加熱装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2008267644A (ja) |
-
2007
- 2007-04-17 JP JP2007108632A patent/JP2008267644A/ja active Pending
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