JPH10207065A - 感光性組成物、感光性平版印刷版及び感光性平版印刷版の製版方法 - Google Patents
感光性組成物、感光性平版印刷版及び感光性平版印刷版の製版方法Info
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- JPH10207065A JPH10207065A JP9013880A JP1388097A JPH10207065A JP H10207065 A JPH10207065 A JP H10207065A JP 9013880 A JP9013880 A JP 9013880A JP 1388097 A JP1388097 A JP 1388097A JP H10207065 A JPH10207065 A JP H10207065A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photosensitive
- lithographic printing
- compound
- resin
- printing plate
- Prior art date
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- Pending
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 波長域800〜1300nmに属する近赤外
光源、特に900〜1200nmの波長域の半導体レー
ザーやYAGレーザーに対して高感度な感光性組成物な
らびにこれらの光源による直接製版に適したネガ型感光
性平版印刷版とその製版方法を提供する。 【解決手段】 (a)ノボラック樹脂またはポリビニル
フェノール樹脂から選ばれた樹脂化合物、(b)該樹脂
化合物を架橋し得るアミノ化合物誘導体、(c)ピリリ
ウム系化合物またはチオピリリウム系化合物から選ばれ
た赤外吸収色素、及び(d)光酸発生剤を含有してなる
感光性組成物、それを用いた感光性平版印刷版、及びそ
の製版方法。
光源、特に900〜1200nmの波長域の半導体レー
ザーやYAGレーザーに対して高感度な感光性組成物な
らびにこれらの光源による直接製版に適したネガ型感光
性平版印刷版とその製版方法を提供する。 【解決手段】 (a)ノボラック樹脂またはポリビニル
フェノール樹脂から選ばれた樹脂化合物、(b)該樹脂
化合物を架橋し得るアミノ化合物誘導体、(c)ピリリ
ウム系化合物またはチオピリリウム系化合物から選ばれ
た赤外吸収色素、及び(d)光酸発生剤を含有してなる
感光性組成物、それを用いた感光性平版印刷版、及びそ
の製版方法。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は特に近赤外線領域に
対し高感度なネガ型化学増幅型感光性組成物およびそれ
を塗設した平版印刷版に関する。特に、約800〜13
00nmの波長域に属する半導体レーザーやYAGレー
ザーによるダイレクト製版用に適した平版印刷版に関す
る。
対し高感度なネガ型化学増幅型感光性組成物およびそれ
を塗設した平版印刷版に関する。特に、約800〜13
00nmの波長域に属する半導体レーザーやYAGレー
ザーによるダイレクト製版用に適した平版印刷版に関す
る。
【0002】
【従来の技術】コンピュータ画像処理技術の進歩に伴
い、デジタル画像情報から、銀塩マスクフィルムへの出
力を行わずに、レーザー光あるいはサーマルヘッド等に
より、直接レジスト画像を形成する感光または感熱ダイ
レクト製版システムが注目されている。特に、高出力の
半導体レーザーやYAGレーザーを用いる、高解像度の
レーザー感光ダイレクト製版システムは、小型化、製版
作業時の環境光や版材コストの面から、その実現が強く
望まれていた。
い、デジタル画像情報から、銀塩マスクフィルムへの出
力を行わずに、レーザー光あるいはサーマルヘッド等に
より、直接レジスト画像を形成する感光または感熱ダイ
レクト製版システムが注目されている。特に、高出力の
半導体レーザーやYAGレーザーを用いる、高解像度の
レーザー感光ダイレクト製版システムは、小型化、製版
作業時の環境光や版材コストの面から、その実現が強く
望まれていた。
【0003】一方、従来より、レーザー感光または感熱
を利用した画像形成方法としては、昇華転写色素を利用
し色材画像を形成する方法ならびに平版を作成する方法
などが知られている。後者においては、例えば、ジアゾ
化合物の架橋反応を利用し、平版印刷版を作成する方法
(例えば、特開昭52−151024号、特公平2−5
1732号、特開昭50−15603号、特公平3−3
4051号、特公昭61−21831号、特公昭60−
12939号、米国特許第3664737号の公報また
は明細書等参照)、ニトロセルロースの分解反応を利用
し、平版印刷版を作製する方法(例えば、特開昭50−
102403号、特開昭50−102401号等の公報
参照)等が知られている。
を利用した画像形成方法としては、昇華転写色素を利用
し色材画像を形成する方法ならびに平版を作成する方法
などが知られている。後者においては、例えば、ジアゾ
化合物の架橋反応を利用し、平版印刷版を作成する方法
(例えば、特開昭52−151024号、特公平2−5
1732号、特開昭50−15603号、特公平3−3
4051号、特公昭61−21831号、特公昭60−
12939号、米国特許第3664737号の公報また
は明細書等参照)、ニトロセルロースの分解反応を利用
し、平版印刷版を作製する方法(例えば、特開昭50−
102403号、特開昭50−102401号等の公報
参照)等が知られている。
【0004】近年、化学増幅型のフォトレジストに長波
長光線吸収色素を組み合せた技術が散見される様になっ
た。例えば特開平6−43633号明細書には特定なス
クアリリウム色素に光酸発生剤およびバインダー等を組
合せた感光材料が開示されている。また、更にこれに類
する技法として赤外線吸収色素、潜伏性ブレンステッド
酸、レゾール樹脂およびノボラック樹脂を含む感光層を
半導体レーザー等により像状に露光し平版印刷版を作製
する技術が提案されており(特開平7−20629号明
細書)、更に、前記潜伏性ブレンステッド酸に代えs−
トリアジン化合物を用いる技術も開示されている(特開
平7−271029号明細書)。これら従来の技術は、
実用上、830nmの半導体レーザーに対しては一定レ
ベルの有用な技法を提供しているもののYAGレーザー
等の更に長波長のレーザーに対しては極めて不充分な感
度しか有していなかった。
長光線吸収色素を組み合せた技術が散見される様になっ
た。例えば特開平6−43633号明細書には特定なス
クアリリウム色素に光酸発生剤およびバインダー等を組
合せた感光材料が開示されている。また、更にこれに類
する技法として赤外線吸収色素、潜伏性ブレンステッド
酸、レゾール樹脂およびノボラック樹脂を含む感光層を
半導体レーザー等により像状に露光し平版印刷版を作製
する技術が提案されており(特開平7−20629号明
細書)、更に、前記潜伏性ブレンステッド酸に代えs−
トリアジン化合物を用いる技術も開示されている(特開
平7−271029号明細書)。これら従来の技術は、
実用上、830nmの半導体レーザーに対しては一定レ
ベルの有用な技法を提供しているもののYAGレーザー
等の更に長波長のレーザーに対しては極めて不充分な感
度しか有していなかった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の諸問
題に鑑みなされたものであり、即ち、波長域800〜1
300nmに属する近赤外光源、特に900〜1200
nmの波長域の半導体レーザーやYAGレーザーに対し
て高感度な感光性組成物ならびにこれらの光源による直
接製版に適したネガ型感光性平版印刷版とその製版方法
を提供するものである。
題に鑑みなされたものであり、即ち、波長域800〜1
300nmに属する近赤外光源、特に900〜1200
nmの波長域の半導体レーザーやYAGレーザーに対し
て高感度な感光性組成物ならびにこれらの光源による直
接製版に適したネガ型感光性平版印刷版とその製版方法
を提供するものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】かかる本発明の目的は、
(a)ノボラック樹脂またはポリビニルフェノール樹脂
から選ばれた樹脂化合物、(b)該樹脂化合物を架橋し
得るアミノ化合物誘導体、(c)ピリリウム系化合物ま
たはチオピリリウム系化合物から選ばれた赤外吸収色
素、及び(d)光酸発生剤を含有してなる感光性組成
物、それを用いた感光性平版印刷版、及びその製版方法
により達成される。
(a)ノボラック樹脂またはポリビニルフェノール樹脂
から選ばれた樹脂化合物、(b)該樹脂化合物を架橋し
得るアミノ化合物誘導体、(c)ピリリウム系化合物ま
たはチオピリリウム系化合物から選ばれた赤外吸収色
素、及び(d)光酸発生剤を含有してなる感光性組成
物、それを用いた感光性平版印刷版、及びその製版方法
により達成される。
【0007】
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明の感光性組成物の樹脂化合物成分(a)と
してはノボラック樹脂またはポリビニルフェノール樹脂
が用いられる。ノボラック樹脂としては、フェノール、
m−クレゾール、o−クレゾール、p−クレゾール、
2,5−キシレノール、3,5−キシレノール、レゾル
シン、ピロガロール、ビスフェノール、ビスフェノール
−A、トリスフェノール、o−エチルフェノール、m−
エチルフェノール、p−エチルフェノール、プロピルフ
ェノール、n−ブチルフェノール、t−ブチルフェノー
ル、1−ナフトール、2−ナフトール等の芳香族炭化水
素類の少なくとも1種を酸性触媒下、ホルムアルデヒ
ド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ベンズ
アルデヒド、フルフラール等のアルデヒド類及び、アセ
トン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンな
どのケトン類から選ばれた少なくとも1種のアルデヒド
類又はケトン類と重縮合させたものが挙げられる。
する。本発明の感光性組成物の樹脂化合物成分(a)と
してはノボラック樹脂またはポリビニルフェノール樹脂
が用いられる。ノボラック樹脂としては、フェノール、
m−クレゾール、o−クレゾール、p−クレゾール、
2,5−キシレノール、3,5−キシレノール、レゾル
シン、ピロガロール、ビスフェノール、ビスフェノール
−A、トリスフェノール、o−エチルフェノール、m−
エチルフェノール、p−エチルフェノール、プロピルフ
ェノール、n−ブチルフェノール、t−ブチルフェノー
ル、1−ナフトール、2−ナフトール等の芳香族炭化水
素類の少なくとも1種を酸性触媒下、ホルムアルデヒ
ド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ベンズ
アルデヒド、フルフラール等のアルデヒド類及び、アセ
トン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンな
どのケトン類から選ばれた少なくとも1種のアルデヒド
類又はケトン類と重縮合させたものが挙げられる。
【0008】ホルムアルデヒド及びアセトアルデヒドの
代わりに、それぞれパラホルムアルデヒド及びパラアル
デヒドを使用してもよい。ノボラック樹脂のゲルパーミ
ュエーションクロマトグラフィー(以下、GPCと略
す)測定によるポリスチレン換算重量平均分子量(以
下、GPC測定による重量平均分子量をMwと略す)が
好ましくは1,000〜15,000、特に好ましくは
1,500〜10,000のものが用いられる。
代わりに、それぞれパラホルムアルデヒド及びパラアル
デヒドを使用してもよい。ノボラック樹脂のゲルパーミ
ュエーションクロマトグラフィー(以下、GPCと略
す)測定によるポリスチレン換算重量平均分子量(以
下、GPC測定による重量平均分子量をMwと略す)が
好ましくは1,000〜15,000、特に好ましくは
1,500〜10,000のものが用いられる。
【0009】ノボラック樹脂の芳香族炭化水素類として
は、より好ましくは、フェノール、o−クレゾール、m
−クレゾール、p−クレゾール、2,5−キシレノー
ル、及び3,5−キシレノール、レゾルシンから選ばれ
る少なくとも1種のフェノール類をホルムアルデヒド、
アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒドなどのアルデ
ヒド類の中から選ばれる少なくとも1種と重縮合したノ
ボラック樹脂が挙げられる。
は、より好ましくは、フェノール、o−クレゾール、m
−クレゾール、p−クレゾール、2,5−キシレノー
ル、及び3,5−キシレノール、レゾルシンから選ばれ
る少なくとも1種のフェノール類をホルムアルデヒド、
アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒドなどのアルデ
ヒド類の中から選ばれる少なくとも1種と重縮合したノ
ボラック樹脂が挙げられる。
【0010】中でも、m−クレゾール:p−クレゾー
ル:2,5−キシレノール:3,5−キシレノール:レ
ゾルシンの混合割合がモル比で70〜100:0〜3
0:0〜20:0〜20:0〜20のフェノール類また
は、フェノール:m−クレゾール:p−クレゾールの混
合割合がモル比で10〜100:0〜60:0〜40の
フェノール類とアルデヒド類との重縮合物であるノボラ
ック樹脂が好ましい。アルデヒド類の中でも、特にホル
ムアルデヒドが好ましい。
ル:2,5−キシレノール:3,5−キシレノール:レ
ゾルシンの混合割合がモル比で70〜100:0〜3
0:0〜20:0〜20:0〜20のフェノール類また
は、フェノール:m−クレゾール:p−クレゾールの混
合割合がモル比で10〜100:0〜60:0〜40の
フェノール類とアルデヒド類との重縮合物であるノボラ
ック樹脂が好ましい。アルデヒド類の中でも、特にホル
ムアルデヒドが好ましい。
【0011】ポリビニルフェノール樹脂としては、o−
ヒドロキシスチレン、m−ヒドロキシスチレン、p−ヒ
ドロキシスチレン、2−(o−ヒドロキシフェニル)プ
ロピレン、2−(m−ヒドロキシフェニル)プロピレ
ン、2−(p−ヒドロキシフェニル)プロピレンなどの
ヒドロキシスチレン類の単独または2種以上の重合体が
挙げられる。ヒドロキシスチレン類は芳香環に塩素、臭
素、ヨウ素、フッ素等のハロゲンあるいはC1 〜C4 の
アルキル置換基等の置換基を有していてもよく、従って
ポリビニルフェノール類としては、芳香環にハロゲン又
はC1 〜C4 のアルキル置換基を有していても良いポリ
ビニルフェノールが挙げられる。
ヒドロキシスチレン、m−ヒドロキシスチレン、p−ヒ
ドロキシスチレン、2−(o−ヒドロキシフェニル)プ
ロピレン、2−(m−ヒドロキシフェニル)プロピレ
ン、2−(p−ヒドロキシフェニル)プロピレンなどの
ヒドロキシスチレン類の単独または2種以上の重合体が
挙げられる。ヒドロキシスチレン類は芳香環に塩素、臭
素、ヨウ素、フッ素等のハロゲンあるいはC1 〜C4 の
アルキル置換基等の置換基を有していてもよく、従って
ポリビニルフェノール類としては、芳香環にハロゲン又
はC1 〜C4 のアルキル置換基を有していても良いポリ
ビニルフェノールが挙げられる。
【0012】ポリビニルフェノール樹脂は、通常、置換
基を有していてもよいヒドロキシスチレン類を単独で又
は2種以上をラジカル重合開始剤またはカチオン重合開
始剤の存在下で重合することにより得られる。かかるポ
リビニルフェノール樹脂は、一部水素添加を行なったも
のでもよい。又、t−ブトキシカルボニル基、ピラニル
基、フラニル基などでポリビニルフェノール類の一部の
OH基を保護した樹脂でもよい。ポリビニルフェノール
樹脂のMwは、好ましくは1,000〜100,00
0、特に好ましくは1,500〜50,000のものが
用いられる。
基を有していてもよいヒドロキシスチレン類を単独で又
は2種以上をラジカル重合開始剤またはカチオン重合開
始剤の存在下で重合することにより得られる。かかるポ
リビニルフェノール樹脂は、一部水素添加を行なったも
のでもよい。又、t−ブトキシカルボニル基、ピラニル
基、フラニル基などでポリビニルフェノール類の一部の
OH基を保護した樹脂でもよい。ポリビニルフェノール
樹脂のMwは、好ましくは1,000〜100,00
0、特に好ましくは1,500〜50,000のものが
用いられる。
【0013】ポリビニルフェノール樹脂としては、より
好ましくは、芳香環にC1 〜C4 のアルキル置換基を有
していてもよいポリビニルフェノールが挙げられ、未置
換のポリビニルフェノールが特に好ましい。以上のノボ
ラック樹脂またはポリビニルフェノール樹脂の分子量
が、上記範囲よりも小さいとレジストとしての十分な塗
膜が得られず、この範囲よりも大きいと未露光部分のア
ルカリ現像液に対する溶解性が小さくなり、レジストの
パターンが得られない傾向にある。
好ましくは、芳香環にC1 〜C4 のアルキル置換基を有
していてもよいポリビニルフェノールが挙げられ、未置
換のポリビニルフェノールが特に好ましい。以上のノボ
ラック樹脂またはポリビニルフェノール樹脂の分子量
が、上記範囲よりも小さいとレジストとしての十分な塗
膜が得られず、この範囲よりも大きいと未露光部分のア
ルカリ現像液に対する溶解性が小さくなり、レジストの
パターンが得られない傾向にある。
【0014】上述の樹脂のうち、特に、ノボラック樹脂
が好ましい。本発明で用いられる感光性材料全固形分中
におけるこれら樹脂の使用割合は通常40%〜95%で
あり、好ましくは60%〜90%である。次に本発明に
使用される前記樹脂化合物を架橋し得るアミノ化合物誘
導体(b)について説明する。それらは酸の作用により
前記樹脂を架橋しうる化合物であり、例えば、官能基と
してメチロール基、それのアルコキシ構造であるアルコ
キシメチル基、その他、アセトキシメチル基等を少なく
とも二個有するアミノ化合物が挙げられる。具体的に
は、メラミン誘導体、例えばメトキシメチル化メラミン
〔三井サイアナミッド(株)製サイメル300シリーズ
(1)等〕、ベンゾグアナミン誘導体〔メチル/エチル
混合アルコキシ化ベンゾグアナミン樹脂(三井サイアナ
ミッド(株)製サイメル1100シリーズ(2)
等)〕、グリコールウリル誘導体〔テトラメチロールグ
リコールウリル樹脂、(三井サイアナミッド(株)製サ
イメル1100シリーズ(3)等)〕その他尿素樹脂誘
導体が挙げられる。
が好ましい。本発明で用いられる感光性材料全固形分中
におけるこれら樹脂の使用割合は通常40%〜95%で
あり、好ましくは60%〜90%である。次に本発明に
使用される前記樹脂化合物を架橋し得るアミノ化合物誘
導体(b)について説明する。それらは酸の作用により
前記樹脂を架橋しうる化合物であり、例えば、官能基と
してメチロール基、それのアルコキシ構造であるアルコ
キシメチル基、その他、アセトキシメチル基等を少なく
とも二個有するアミノ化合物が挙げられる。具体的に
は、メラミン誘導体、例えばメトキシメチル化メラミン
〔三井サイアナミッド(株)製サイメル300シリーズ
(1)等〕、ベンゾグアナミン誘導体〔メチル/エチル
混合アルコキシ化ベンゾグアナミン樹脂(三井サイアナ
ミッド(株)製サイメル1100シリーズ(2)
等)〕、グリコールウリル誘導体〔テトラメチロールグ
リコールウリル樹脂、(三井サイアナミッド(株)製サ
イメル1100シリーズ(3)等)〕その他尿素樹脂誘
導体が挙げられる。
【0015】これらの内、得られる平版印刷版の保存性
やインキ着肉性を考慮した場合、特定範囲の官能基を有
する特定のものが好ましい。即ち、アルコキシメチル基
を有するメラミン誘導体が好ましく、更に、それに含ま
れるメチロール基およびアルコキシメチル基の合計数に
対するアルコキシメチル基の数の割合が70%以上であ
るメラミン誘導体が好ましい。更に、より好ましくは、
前記割合が90%以上であるメラミン誘導体、特に好ま
しくは前記割合が95%以上であるメラミン誘導体が用
いられる。かかるメラミン誘導体はメラミンに特定量の
ホルムアルデヒドおよびアルコールを酸性条件下で反応
させる公知の方法に準じて得ることができる。得られた
メラミン誘導体における前記アルコキシメチル基の割合
は13C−NMRにより測定し特定することができる。前
記アルコキシメチル基を構成するアルコキシ基は炭素数
が1〜8のものが好ましい。
やインキ着肉性を考慮した場合、特定範囲の官能基を有
する特定のものが好ましい。即ち、アルコキシメチル基
を有するメラミン誘導体が好ましく、更に、それに含ま
れるメチロール基およびアルコキシメチル基の合計数に
対するアルコキシメチル基の数の割合が70%以上であ
るメラミン誘導体が好ましい。更に、より好ましくは、
前記割合が90%以上であるメラミン誘導体、特に好ま
しくは前記割合が95%以上であるメラミン誘導体が用
いられる。かかるメラミン誘導体はメラミンに特定量の
ホルムアルデヒドおよびアルコールを酸性条件下で反応
させる公知の方法に準じて得ることができる。得られた
メラミン誘導体における前記アルコキシメチル基の割合
は13C−NMRにより測定し特定することができる。前
記アルコキシメチル基を構成するアルコキシ基は炭素数
が1〜8のものが好ましい。
【0016】本発明における感光性材料全固形分中にお
けるこれらアミノ化合物誘導体の使用割合は好ましくは
5〜50重量%、特に好ましくは10〜30重量%であ
る。次に本発明に用いられるピリリウム系化合物または
チオピリリウム系化合物から選ばれた赤外吸収色素
(c)について説明する。該赤外吸収色素は、分子内に
ピリリウム塩またはチオピリリウム塩の部分構造を有す
る化合物である。下記第1表にその具体例を示す。
けるこれらアミノ化合物誘導体の使用割合は好ましくは
5〜50重量%、特に好ましくは10〜30重量%であ
る。次に本発明に用いられるピリリウム系化合物または
チオピリリウム系化合物から選ばれた赤外吸収色素
(c)について説明する。該赤外吸収色素は、分子内に
ピリリウム塩またはチオピリリウム塩の部分構造を有す
る化合物である。下記第1表にその具体例を示す。
【0017】
【表1】
【0018】
【表2】
【0019】
【表3】
【0020】
【表4】
【0021】
【表5】
【0022】これらの色素は常法に従って調製し得る。
本発明者らは、既に、特定なシアニン色素を含むこの種
の感光系を提案しているが(特願平8−193587
号)、これらは波長域800〜1300nm、特に90
0〜1200nmに対しては必ずしも充分な感応性が得
られていなかった。これに対し、我々はピリリウム塩ま
たはチオピリリウム塩の部分構造を有する色素を含む系
が、この目的に対し、通常、好ましい特性を与えること
を見い出し、本発明に至った。その内、より好ましい色
素類は前記一般式(I)で示される構造式を有するもの
である。該式においてR1 、R2 、R9 およびR10は置
換基を有していても良いフェニル基またはナフチル基を
示しており、該置換基として好ましいものはC1 〜C8
のアルキル基またはC1 〜C8 のアルコキシ基である。
R3 〜R8 は水素原子またはC1 〜C8 のアルキル基を
示すかあるいは各々独立にR3 とR4 、R5 とR6 また
は7 とR8 とが相互に結合して5または5員環を形成し
ても良く、該環には更に置換基としてC1 〜C6 のアル
キル基を有していても良い。Xは塩素、臭素などのハロ
ゲン原子または水素原子を示しており、l1 、l2 は各
々独立に0または1を示し、Z- は対アニオン、例え
ば、Cl-、Br- 、I- 、ClO4 -、BF4 -、PF6 -
等の無機酸アニオン、または、ベンゼンスルホン酸、p
−トルエンスルホン酸、ナフタレン−1−スルホン酸、
酢酸の様な有機酸アニオンを示している。
本発明者らは、既に、特定なシアニン色素を含むこの種
の感光系を提案しているが(特願平8−193587
号)、これらは波長域800〜1300nm、特に90
0〜1200nmに対しては必ずしも充分な感応性が得
られていなかった。これに対し、我々はピリリウム塩ま
たはチオピリリウム塩の部分構造を有する色素を含む系
が、この目的に対し、通常、好ましい特性を与えること
を見い出し、本発明に至った。その内、より好ましい色
素類は前記一般式(I)で示される構造式を有するもの
である。該式においてR1 、R2 、R9 およびR10は置
換基を有していても良いフェニル基またはナフチル基を
示しており、該置換基として好ましいものはC1 〜C8
のアルキル基またはC1 〜C8 のアルコキシ基である。
R3 〜R8 は水素原子またはC1 〜C8 のアルキル基を
示すかあるいは各々独立にR3 とR4 、R5 とR6 また
は7 とR8 とが相互に結合して5または5員環を形成し
ても良く、該環には更に置換基としてC1 〜C6 のアル
キル基を有していても良い。Xは塩素、臭素などのハロ
ゲン原子または水素原子を示しており、l1 、l2 は各
々独立に0または1を示し、Z- は対アニオン、例え
ば、Cl-、Br- 、I- 、ClO4 -、BF4 -、PF6 -
等の無機酸アニオン、または、ベンゼンスルホン酸、p
−トルエンスルホン酸、ナフタレン−1−スルホン酸、
酢酸の様な有機酸アニオンを示している。
【0023】一般式(I)の色素においてより好ましい
ものは、l1 、l2 の内少なくとも1つは1を取る場合
であり、更に好ましいものはl1 とl2 が両方が1であ
り、かつR5 とR6 とが相互に結合し、5または6員環
を形成したものであり、その内特に好ましいものは、更
に、R3 とR4 およびR7 とR8 とが相互に結合し5ま
たは6員環を形成したものである。Xはハロゲン原子が
好ましく、中でも塩素原子がより好ましい。更に前記し
た各5または6員環の内、少なくとも1つ以上の環にお
いてC1 〜C6 のアルキル基を有するものが溶解特性の
面から有利である。
ものは、l1 、l2 の内少なくとも1つは1を取る場合
であり、更に好ましいものはl1 とl2 が両方が1であ
り、かつR5 とR6 とが相互に結合し、5または6員環
を形成したものであり、その内特に好ましいものは、更
に、R3 とR4 およびR7 とR8 とが相互に結合し5ま
たは6員環を形成したものである。Xはハロゲン原子が
好ましく、中でも塩素原子がより好ましい。更に前記し
た各5または6員環の内、少なくとも1つ以上の環にお
いてC1 〜C6 のアルキル基を有するものが溶解特性の
面から有利である。
【0024】これらのピリリウムまたはチオピリリウム
赤外吸収色素(以下赤外吸収色素と略す)の含有量は、
感光性材料の全固形分に対して、0.1〜50重量%で
あり、好ましくは0.5〜30重量%、さらに好ましく
は1〜15重量%である。該含有量が0.1重量%より
低い場合には、著しい感度の低下が起こり、また50重
量%より高い場合は、安定性等の性能に悪影響を生じや
すい。
赤外吸収色素(以下赤外吸収色素と略す)の含有量は、
感光性材料の全固形分に対して、0.1〜50重量%で
あり、好ましくは0.5〜30重量%、さらに好ましく
は1〜15重量%である。該含有量が0.1重量%より
低い場合には、著しい感度の低下が起こり、また50重
量%より高い場合は、安定性等の性能に悪影響を生じや
すい。
【0025】本発明に使用される光照射により酸を発生
する光酸発生剤(d)としては、例えば 1)S.I.Schlesinger,Photog
r.Sci.Eng.,18,387(1974)、
T.S.Bal et al,Polymer,21,
423(1980)等に記載の、ジアゾニウム塩、 2)米国特許第4,069,055号、同4,069,
056号、同Re27,992号、特願平3−1401
40号の明細書等に記載の、アンモニウム塩、
する光酸発生剤(d)としては、例えば 1)S.I.Schlesinger,Photog
r.Sci.Eng.,18,387(1974)、
T.S.Bal et al,Polymer,21,
423(1980)等に記載の、ジアゾニウム塩、 2)米国特許第4,069,055号、同4,069,
056号、同Re27,992号、特願平3−1401
40号の明細書等に記載の、アンモニウム塩、
【0026】3)D.C.Necker et al,
Macromolecules,17,2468(19
84)、C.S.Wen et al,Teh.Pro
c.Conf.Rad.Curing ASIA,p4
78,Tokyo,Oct(1988)、米国特許第
4,069,055号、同4,069,056号等明細
書に記載の、ホスホニウム塩、
Macromolecules,17,2468(19
84)、C.S.Wen et al,Teh.Pro
c.Conf.Rad.Curing ASIA,p4
78,Tokyo,Oct(1988)、米国特許第
4,069,055号、同4,069,056号等明細
書に記載の、ホスホニウム塩、
【0027】4)J.V.Crivello et a
l,Macromolecules,10(6),13
07(1977),Chem.& Eng.News,
Nov.28,p31(1988)、欧州特許第10
4,143号、米国特許第339,049号、同第41
0,201号、特開平2−150848号、特開平2−
296514号の明細書または公報等に記載の、ヨード
ニウム塩、
l,Macromolecules,10(6),13
07(1977),Chem.& Eng.News,
Nov.28,p31(1988)、欧州特許第10
4,143号、米国特許第339,049号、同第41
0,201号、特開平2−150848号、特開平2−
296514号の明細書または公報等に記載の、ヨード
ニウム塩、
【0028】5)J.V.Crivello et a
l,Polymer J.17,73(1985)、
J.V.Crivello et al,J.Org.
Chem.,43,3055(1978)、W.R.W
att et al,J.Polymer Sci.,
Polymer Chem.Ed.,22,1789
(1984)、J.V.Crivello et a
l,Polymer Bull.,14,279(19
88)、J.V.Crivello et al,Ma
cromolecules,14(5),1141(1
981)、J.V.Crivello et al,
J.Polymer Sci.PolymerChe
m.Ed.,17,2877(1979)、欧州特許第
370,693号、同3,902,114号、同23
3,567号、同297,443号、同297,442
号、米国特許第4,933,377号、同161,81
1号、同410,201号、同339,049号、同
4,760,013号、同4,734,444号、同
2,833,827号、独国特許第2,904,626
号、同3,604,580号、同3,604,581号
の明細書または公報等に記載の、スルホニウム塩、
l,Polymer J.17,73(1985)、
J.V.Crivello et al,J.Org.
Chem.,43,3055(1978)、W.R.W
att et al,J.Polymer Sci.,
Polymer Chem.Ed.,22,1789
(1984)、J.V.Crivello et a
l,Polymer Bull.,14,279(19
88)、J.V.Crivello et al,Ma
cromolecules,14(5),1141(1
981)、J.V.Crivello et al,
J.Polymer Sci.PolymerChe
m.Ed.,17,2877(1979)、欧州特許第
370,693号、同3,902,114号、同23
3,567号、同297,443号、同297,442
号、米国特許第4,933,377号、同161,81
1号、同410,201号、同339,049号、同
4,760,013号、同4,734,444号、同
2,833,827号、独国特許第2,904,626
号、同3,604,580号、同3,604,581号
の明細書または公報等に記載の、スルホニウム塩、
【0029】6)J.V.Crivello et a
l,Macromolecules,10(6),13
07(1977)、J.V.Crivello et
al,J.Polymer Sci.,Polymer
Chem.Ed.,17,1047(1979)等に
記載の、セレノニウム塩、
l,Macromolecules,10(6),13
07(1977)、J.V.Crivello et
al,J.Polymer Sci.,Polymer
Chem.Ed.,17,1047(1979)等に
記載の、セレノニウム塩、
【0030】7)C.S.Wen et al,Te
h.Proc.Conf.Rad.Curing AS
IA,p478,Tokyo,Oct(1988)等に
記載の、アルソニウム塩等のオニウム塩、 8)米国特許第3,905,815号、特公昭46−4
605号、特開昭48−36281号、特開昭55−3
2070号、特開昭60−239736号、特開昭61
−169835号、特開昭61−169837号、特開
昭62−58241号、特開昭62−212401号、
特開昭63−70243号、特開昭63−298339
号の明細書または公報等に記載の、有機ハロゲン化合
物、
h.Proc.Conf.Rad.Curing AS
IA,p478,Tokyo,Oct(1988)等に
記載の、アルソニウム塩等のオニウム塩、 8)米国特許第3,905,815号、特公昭46−4
605号、特開昭48−36281号、特開昭55−3
2070号、特開昭60−239736号、特開昭61
−169835号、特開昭61−169837号、特開
昭62−58241号、特開昭62−212401号、
特開昭63−70243号、特開昭63−298339
号の明細書または公報等に記載の、有機ハロゲン化合
物、
【0031】9)K.Meier et al,J.R
ad.Curing,13(4),26(1986)、
T.P.Gill et al,Inorg.Che
m.,19,3007(1980)、D.Astru
c,Acc.Chem.Res.,19(12),37
7(1896)、特開平2−161445号公報等に記
載の、有機金属/有機ハロゲン化物、
ad.Curing,13(4),26(1986)、
T.P.Gill et al,Inorg.Che
m.,19,3007(1980)、D.Astru
c,Acc.Chem.Res.,19(12),37
7(1896)、特開平2−161445号公報等に記
載の、有機金属/有機ハロゲン化物、
【0032】10)S.Hayase et al,
J.Polymer Sci.,25,753(198
7)、E.Reichmanis et al,J.P
olymer Sci.,Polymer Chem.
Ed.23,1(1985)、Q.Q.Zhu et
al,J.Photochem.,36,85,39,
317(1987)、B.Amit et al,Te
trahedron Lett.,(24)2205
(1973)、D.H.R.Barton etal,
J.Chem Soc.,3571(1965)、P.
M.Collins et al,J.Chem.So
c.,Perkin I,1695(1975)、M.
Rudinstein et al,Tetrahed
ron Lett.,(17),1445(197
5)、J.W.Walker et al,J.Am.
Chem.Soc.,110,7170(1988)、
S.C.Busman et al,J.Imagin
g Technol.,11(4),191(198
5)、H.M.Houlihan et al,Mac
romolecules,21,2001(198
8)、P.M.Collinset al,J.Che
m.Soc.,Chem.Commun.,532(1
972)、S.Hayase et al,Macro
molecules,18,1799(1985)、
E.Reichmanis et al,J.Elec
trochem.Soc.,Solid State
Sci.Technol.,130(6)、F.M.H
oulihan et al,Macromolecu
les,21,2001(1988)、欧州特許第02
90,750号、同046,083号、同156,53
5号、同271,851号、同0,388,343号、
米国特許第3,901,710号、同4,181,53
1号、特開昭60−198538号、特開昭53−13
3022号の明細書または公報等に記載の、o−ニトロ
ベンジル型保護基を有する光酸発生剤、
J.Polymer Sci.,25,753(198
7)、E.Reichmanis et al,J.P
olymer Sci.,Polymer Chem.
Ed.23,1(1985)、Q.Q.Zhu et
al,J.Photochem.,36,85,39,
317(1987)、B.Amit et al,Te
trahedron Lett.,(24)2205
(1973)、D.H.R.Barton etal,
J.Chem Soc.,3571(1965)、P.
M.Collins et al,J.Chem.So
c.,Perkin I,1695(1975)、M.
Rudinstein et al,Tetrahed
ron Lett.,(17),1445(197
5)、J.W.Walker et al,J.Am.
Chem.Soc.,110,7170(1988)、
S.C.Busman et al,J.Imagin
g Technol.,11(4),191(198
5)、H.M.Houlihan et al,Mac
romolecules,21,2001(198
8)、P.M.Collinset al,J.Che
m.Soc.,Chem.Commun.,532(1
972)、S.Hayase et al,Macro
molecules,18,1799(1985)、
E.Reichmanis et al,J.Elec
trochem.Soc.,Solid State
Sci.Technol.,130(6)、F.M.H
oulihan et al,Macromolecu
les,21,2001(1988)、欧州特許第02
90,750号、同046,083号、同156,53
5号、同271,851号、同0,388,343号、
米国特許第3,901,710号、同4,181,53
1号、特開昭60−198538号、特開昭53−13
3022号の明細書または公報等に記載の、o−ニトロ
ベンジル型保護基を有する光酸発生剤、
【0033】11)M.Tunooka et al,
Polymer Preprints Japan,3
8(8)、G.Berner et al,J.Ra
d.Curing,13(4)、W.J.Mijs e
t al,Coating Technol.,55
(697),45(1983)、Akzo,H.Ada
chi et al,Polymer Preprin
ts,Japan,37(3)、欧州特許第0199,
672号、同84515号、同199,672号、同0
44,115号、同0101,122号、米国特許第
4,618,564号、同4,371,605号、同
4,431,774号、特開昭64−18143号、特
開平2−245756号、特願平3−140109号の
公報または明細書等に記載の、イミノスルフォネート等
に代表される、光分解してスルホン酸を発生する化合
物、特開昭61−166544号公報に記載のジスルホ
ン化合物を挙げることができる。
Polymer Preprints Japan,3
8(8)、G.Berner et al,J.Ra
d.Curing,13(4)、W.J.Mijs e
t al,Coating Technol.,55
(697),45(1983)、Akzo,H.Ada
chi et al,Polymer Preprin
ts,Japan,37(3)、欧州特許第0199,
672号、同84515号、同199,672号、同0
44,115号、同0101,122号、米国特許第
4,618,564号、同4,371,605号、同
4,431,774号、特開昭64−18143号、特
開平2−245756号、特願平3−140109号の
公報または明細書等に記載の、イミノスルフォネート等
に代表される、光分解してスルホン酸を発生する化合
物、特開昭61−166544号公報に記載のジスルホ
ン化合物を挙げることができる。
【0034】またこれらの光により酸を発生する基、あ
るいは化合物をポリマーの主鎖または側鎖に導入した化
合物、例えば、M.E.Woodhouse et a
l,J.Am.Chem.Soc.,104,5586
(1982)、S.P.Pappas et al,
J.Imaging Sci.,30(5),218
(1986)、S.Kondo et al.Macr
omol.Chem.Rapid Commun.,
9,625(1988)、Y.Yamada eta
l,Makromol.Chem.,152,153,
163(1972)、J.V.Crivello et
al,J.Polymer Sci.,Polyme
r Chem.Ed.,17,3845(1979)、
米国特許第3,849,137号、独国特許第3,91
4,407、特開昭63−26653号、特開昭55−
164824号、特開昭62−69263号、特開昭6
3−140387号、特開昭63−163452号、特
開昭62−153853号、特開昭63−146029
号の明細書または公報等に記載の化合物を用いることが
できる。
るいは化合物をポリマーの主鎖または側鎖に導入した化
合物、例えば、M.E.Woodhouse et a
l,J.Am.Chem.Soc.,104,5586
(1982)、S.P.Pappas et al,
J.Imaging Sci.,30(5),218
(1986)、S.Kondo et al.Macr
omol.Chem.Rapid Commun.,
9,625(1988)、Y.Yamada eta
l,Makromol.Chem.,152,153,
163(1972)、J.V.Crivello et
al,J.Polymer Sci.,Polyme
r Chem.Ed.,17,3845(1979)、
米国特許第3,849,137号、独国特許第3,91
4,407、特開昭63−26653号、特開昭55−
164824号、特開昭62−69263号、特開昭6
3−140387号、特開昭63−163452号、特
開昭62−153853号、特開昭63−146029
号の明細書または公報等に記載の化合物を用いることが
できる。
【0035】更に、V.N.R.Pillai,Syn
thesis,(1),1(1980)、A.Abad
et al,Tetrahedron Lett.,
(47)4555(1971)、D.H.R.Bart
on et al,J.Chem.Soc.,(C),
329(1970)、米国特許第3,779,778
号、欧州特許第126,712号等に記載の、光により
酸を発生する化合物も使用することができる。さらに具
体的には、例えば、下記第2表に示した化合物を挙げる
ことができる。
thesis,(1),1(1980)、A.Abad
et al,Tetrahedron Lett.,
(47)4555(1971)、D.H.R.Bart
on et al,J.Chem.Soc.,(C),
329(1970)、米国特許第3,779,778
号、欧州特許第126,712号等に記載の、光により
酸を発生する化合物も使用することができる。さらに具
体的には、例えば、下記第2表に示した化合物を挙げる
ことができる。
【0036】
【表6】
【0037】
【表7】
【0038】
【表8】
【0039】これらの内、より好ましいものはトリハロ
メチル基を2個以上有するs−トリアジン化合物、ジフ
ェニルヨードニウム塩および1−トリフェニルスルホニ
ウムである。これら光酸発生剤の含有量は、感光性材料
の全固形分に対し、0.1〜40重量%、好ましくは
0.5〜20重量%である。
メチル基を2個以上有するs−トリアジン化合物、ジフ
ェニルヨードニウム塩および1−トリフェニルスルホニ
ウムである。これら光酸発生剤の含有量は、感光性材料
の全固形分に対し、0.1〜40重量%、好ましくは
0.5〜20重量%である。
【0040】本発明に使用する感光性材料は、通常、上
記各成分を適当な溶媒に溶解して用いられる。溶媒とし
ては、使用成分に対して十分な溶解度を持ち、良好な塗
膜性を与える溶媒であれば特に制限はないが、メチルセ
ロソルブ、エチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテ
ート、エチルセロソルブアセテートなどのセロソルブ系
溶媒、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロ
ピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリ
コールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノ
メチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノ
エチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノ
ブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジ
メチルエーテルなどのプロピレングリコール系溶媒、酢
酸ブチル、酢酸アミル、酪酸エチル、酪酸ブチル、ジエ
チルオキサレート、ピルビン酸エチル、エチル−2−ヒ
ドロキシブチレート、エチルアセトアセテート、乳酸メ
チル、乳酸エチル、3−メトキシプロピオン酸メチルな
どのエステル系溶媒、ヘプタノール、ヘキサノール、ジ
アセトンアルコール、フルフリルアルコールなどのアル
コール系溶媒、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン
などのケトン系溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトアミド、N−メチルピロリドンなどの高極性溶
媒、あるいはこれらの混合溶媒、さらにはこれらに芳香
族炭化水素を添加したものなどが挙げられる。溶媒の使
用割合は、感光性材料の総量に対して通常重量比として
1〜20倍程度の範囲である。
記各成分を適当な溶媒に溶解して用いられる。溶媒とし
ては、使用成分に対して十分な溶解度を持ち、良好な塗
膜性を与える溶媒であれば特に制限はないが、メチルセ
ロソルブ、エチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテ
ート、エチルセロソルブアセテートなどのセロソルブ系
溶媒、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロ
ピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリ
コールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノ
メチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノ
エチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノ
ブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジ
メチルエーテルなどのプロピレングリコール系溶媒、酢
酸ブチル、酢酸アミル、酪酸エチル、酪酸ブチル、ジエ
チルオキサレート、ピルビン酸エチル、エチル−2−ヒ
ドロキシブチレート、エチルアセトアセテート、乳酸メ
チル、乳酸エチル、3−メトキシプロピオン酸メチルな
どのエステル系溶媒、ヘプタノール、ヘキサノール、ジ
アセトンアルコール、フルフリルアルコールなどのアル
コール系溶媒、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン
などのケトン系溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトアミド、N−メチルピロリドンなどの高極性溶
媒、あるいはこれらの混合溶媒、さらにはこれらに芳香
族炭化水素を添加したものなどが挙げられる。溶媒の使
用割合は、感光性材料の総量に対して通常重量比として
1〜20倍程度の範囲である。
【0041】なお、本発明の感光性材料は、その性能を
損なわない範囲で種々の添加剤、例えば染料、顔料、塗
布性改良剤、現像改良剤、密着性改良剤、感度改良剤、
感脂化剤等を含有することも可能である。本発明に使用
する感光性材料を支持体表面に設ける際に用いる塗布方
法としては、従来公知の方法、例えば、回転塗布、ワイ
ヤーバー塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ロー
ル塗布、ブレード塗布及びカーテン塗布等を用いること
が可能である。塗布量は用途により異なるが、例えば
0.1〜10.0g/m2 (固形分として)が好まし
い。また乾燥温度としては、例えば20〜150℃、好
ましくは30〜100℃が採用される。
損なわない範囲で種々の添加剤、例えば染料、顔料、塗
布性改良剤、現像改良剤、密着性改良剤、感度改良剤、
感脂化剤等を含有することも可能である。本発明に使用
する感光性材料を支持体表面に設ける際に用いる塗布方
法としては、従来公知の方法、例えば、回転塗布、ワイ
ヤーバー塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ロー
ル塗布、ブレード塗布及びカーテン塗布等を用いること
が可能である。塗布量は用途により異なるが、例えば
0.1〜10.0g/m2 (固形分として)が好まし
い。また乾燥温度としては、例えば20〜150℃、好
ましくは30〜100℃が採用される。
【0042】本発明に使用する感光性材料を用いた感光
層を設ける支持体としては、アルミニウム、亜鉛、鋼、
銅等の金属板、並びにクロム、亜鉛、銅、ニッケル、ア
ルミニウム、鉄等がメッキ又は蒸着された金属板、紙、
プラスチックフィルム及びガラス板、樹脂が塗布された
紙、アルミニウム等の金属箔が張られた紙、親水化処理
したプラスチックフィルム等が挙げられる。このうち好
ましいのはアルミニウム板である。本発明の感光性平版
印刷版の支持体としては、塩酸または硝酸溶液中での電
解エッチングまたはブラシ研磨による砂目立て処理、硫
酸溶媒中での陽極酸化処理および必要に応じて封孔処理
等の表面処理が施されているアルミニウム板を用いるこ
とがより好ましい。
層を設ける支持体としては、アルミニウム、亜鉛、鋼、
銅等の金属板、並びにクロム、亜鉛、銅、ニッケル、ア
ルミニウム、鉄等がメッキ又は蒸着された金属板、紙、
プラスチックフィルム及びガラス板、樹脂が塗布された
紙、アルミニウム等の金属箔が張られた紙、親水化処理
したプラスチックフィルム等が挙げられる。このうち好
ましいのはアルミニウム板である。本発明の感光性平版
印刷版の支持体としては、塩酸または硝酸溶液中での電
解エッチングまたはブラシ研磨による砂目立て処理、硫
酸溶媒中での陽極酸化処理および必要に応じて封孔処理
等の表面処理が施されているアルミニウム板を用いるこ
とがより好ましい。
【0043】本発明の感光性平版印刷版を画像露光する
光源としては好ましくは800〜1300nmの近赤外
レーザー光線を発生する光源であり、例えばYAGレー
ザー、半導体レーザー等を挙げることが出来る。
光源としては好ましくは800〜1300nmの近赤外
レーザー光線を発生する光源であり、例えばYAGレー
ザー、半導体レーザー等を挙げることが出来る。
【0044】また、レーザー光源は、通常、レンズによ
り集光された高強度の光線(ビーム)として感光材表面
を走査するが、それに感応する本発明のネガ型平版印刷
版の感度特性(mJ/cm2 )は感光材表面で受光する
レーザービームの光強度(mJ/s・cm2 )に依存す
ることがある。ここで、レーザービームの光強度(mJ
/cm2 )は、版面上でのレーザービームの単位時間当
たりのエネルギー量(mJ/s)を光パワーメーターに
より測定し、また感光材表面におけるビーム径(照射面
積;cm2 )を測定し、単位時間当たりのエネルギー量
を照射面積で除することにより求めることができる。レ
ーザービームの照射面積は、通常、レーザーピーク強度
のl/e2 強度を超える部分の面積で定義されるが、簡
易的には相反則を示す感光材を感光させて測定すること
もできる。
り集光された高強度の光線(ビーム)として感光材表面
を走査するが、それに感応する本発明のネガ型平版印刷
版の感度特性(mJ/cm2 )は感光材表面で受光する
レーザービームの光強度(mJ/s・cm2 )に依存す
ることがある。ここで、レーザービームの光強度(mJ
/cm2 )は、版面上でのレーザービームの単位時間当
たりのエネルギー量(mJ/s)を光パワーメーターに
より測定し、また感光材表面におけるビーム径(照射面
積;cm2 )を測定し、単位時間当たりのエネルギー量
を照射面積で除することにより求めることができる。レ
ーザービームの照射面積は、通常、レーザーピーク強度
のl/e2 強度を超える部分の面積で定義されるが、簡
易的には相反則を示す感光材を感光させて測定すること
もできる。
【0045】本発明に用いられる光源の光強度として
は、5.0×106 mJ/s・cm2以上であることが
好ましい。光強度が上記の範囲であれば、本発明のネガ
型平版印刷版の感度特性が向上し、走査露光時間が短く
することができ実用的に大きな利点が得られる。露光
後、好ましくは、後加熱工程(ポストエクスポージャー
ベーキング;以下、PEBと略す)を行ない、現像液に
て現像し画像を有する平版印刷版等を得ることができ
る。
は、5.0×106 mJ/s・cm2以上であることが
好ましい。光強度が上記の範囲であれば、本発明のネガ
型平版印刷版の感度特性が向上し、走査露光時間が短く
することができ実用的に大きな利点が得られる。露光
後、好ましくは、後加熱工程(ポストエクスポージャー
ベーキング;以下、PEBと略す)を行ない、現像液に
て現像し画像を有する平版印刷版等を得ることができ
る。
【0046】PEBの温度は50〜150℃の温度範囲
が好ましく特に90〜130℃が好ましい。上記現像液
としては特にアルカリ現像液が好ましい。上記アルカリ
現像液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、メタケイ酸ナ
トリウム、メタケイ酸カリウム、第二リン酸ナトリウ
ム、第三リン酸ナトリウム等のアルカリ金属塩の水溶液
が挙げられる。アルカリ金属塩の濃度は0.1〜20重
量%が好ましい。又、該現像液中に必要に応じアニオン
性界面活性剤、両性界面活性剤等やアルコール等の有機
溶媒を加えることができる。
が好ましく特に90〜130℃が好ましい。上記現像液
としては特にアルカリ現像液が好ましい。上記アルカリ
現像液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、メタケイ酸ナ
トリウム、メタケイ酸カリウム、第二リン酸ナトリウ
ム、第三リン酸ナトリウム等のアルカリ金属塩の水溶液
が挙げられる。アルカリ金属塩の濃度は0.1〜20重
量%が好ましい。又、該現像液中に必要に応じアニオン
性界面活性剤、両性界面活性剤等やアルコール等の有機
溶媒を加えることができる。
【0047】
【実施例】以下に本発明を実施例により具体的に説明す
るが、本発明はその要旨を越えない限り、これらの実施
例に限定されるものではない。なお実施例に記載した
「メトキシ化率」とは架橋剤中のメチロール基数とメト
キシメチル基数の合計数に対するメトキシメチル基数の
占める割合を意味している。
るが、本発明はその要旨を越えない限り、これらの実施
例に限定されるものではない。なお実施例に記載した
「メトキシ化率」とは架橋剤中のメチロール基数とメト
キシメチル基数の合計数に対するメトキシメチル基数の
占める割合を意味している。
【0048】〔アルミニウム板の作製〕厚さ0.24m
mのアルミニウム板(材質1050、調質H16)を、
5重量%の水酸化ナトリウム水溶液中で60℃で1分間
脱脂処理を行なった後、0.5モル/リットルの濃度の
塩酸水溶液中において、温度25℃、電流密度60A/
dm2 、処理時間30秒の条件で電解エッチング処理を
行なった。次いで5重量%水酸化ナトリウム水溶液中で
60℃、10秒間のデスマット処理を施した後、20重
量%硫酸溶液中で、温度20℃、電流密度3A/d
m2 、処理時間1分の条件で陽極酸化処理を行なった。
更に、80℃の熱水で20秒間熱水封孔処理を行ない、
平版印刷版用支持体のアルミニウム板を作製した。
mのアルミニウム板(材質1050、調質H16)を、
5重量%の水酸化ナトリウム水溶液中で60℃で1分間
脱脂処理を行なった後、0.5モル/リットルの濃度の
塩酸水溶液中において、温度25℃、電流密度60A/
dm2 、処理時間30秒の条件で電解エッチング処理を
行なった。次いで5重量%水酸化ナトリウム水溶液中で
60℃、10秒間のデスマット処理を施した後、20重
量%硫酸溶液中で、温度20℃、電流密度3A/d
m2 、処理時間1分の条件で陽極酸化処理を行なった。
更に、80℃の熱水で20秒間熱水封孔処理を行ない、
平版印刷版用支持体のアルミニウム板を作製した。
【0049】実施例1〜8 下記成分、 樹脂化合物;m−クレゾール/p−クレゾール/フェノールノボラック樹脂 (SK/188、住友ジュレス社製) 0.5g アミノ化合物誘導体;サイメル300(メトキシメチルメラミン系、メトキシ化 率90% 以上、三井サイアナミッド社製) 0.1g 赤外吸収色素;第3表記載の化合物 0.015g 光酸発生剤;第3表記載の化合物 0.015g 色材;ビクトリアピュアブルーBOH 0.005g 塗布溶媒;シクロヘキサノン/クロロホルム(=3V/1V) 6.5g より成る感光液を前述の方法で作製したアルミ板上にワ
イヤーバーで塗布し85℃、2分間乾燥させ膜厚20m
g/dm2 の感光性平版印刷版を得た。これを回転ドラ
ム上に取り付け黄色灯下でYAGレーザー(アプライド
テクノ社製、1064nm)をレンズで30μmビーム
径にしぼったレーザー光(480mw)により走査露光
を行なった。次いで100℃、3分間、後加熱を行ない
更に現像液SDR−1 (コニカ社製、ポジ型平版用)を
6倍希釈し25℃、30秒間現像を行なった。得られた
画線が30μm巾を与えるドラム回転数より感度をエネ
ルギー値として求めた。これらの結果を第3表に示す。
イヤーバーで塗布し85℃、2分間乾燥させ膜厚20m
g/dm2 の感光性平版印刷版を得た。これを回転ドラ
ム上に取り付け黄色灯下でYAGレーザー(アプライド
テクノ社製、1064nm)をレンズで30μmビーム
径にしぼったレーザー光(480mw)により走査露光
を行なった。次いで100℃、3分間、後加熱を行ない
更に現像液SDR−1 (コニカ社製、ポジ型平版用)を
6倍希釈し25℃、30秒間現像を行なった。得られた
画線が30μm巾を与えるドラム回転数より感度をエネ
ルギー値として求めた。これらの結果を第3表に示す。
【0050】
【表9】
【0051】第3表中、赤外吸収色素の欄の略号(S−
1、S−2、S−3、S−6、S−9、及びS−14)
は、それぞれ第1表に記載した化合物を表わす。第3表
中、光酸発生剤の欄の略号(T−1、T−4、T−5)
は、それぞれ第2表に記載した化合物を表わす。
1、S−2、S−3、S−6、S−9、及びS−14)
は、それぞれ第1表に記載した化合物を表わす。第3表
中、光酸発生剤の欄の略号(T−1、T−4、T−5)
は、それぞれ第2表に記載した化合物を表わす。
【0052】実施例9 実施例1と同一の感光性平版を暗所、室温下で3ケ月間
放置後、同様にして感度を測定したが感度変化は認めら
れなかった。
放置後、同様にして感度を測定したが感度変化は認めら
れなかった。
【0053】実施例10 実施例1において、サイメル300に代えてメトキシ化
率60%を有するメチロールメラミンを用いた以外は同
様にして評価した。初期感度は970mJ/cm2 であ
ったが暗所、室温下で3ケ月放置後は1100mJ/c
m2 と若干の感度低下が見られた。
率60%を有するメチロールメラミンを用いた以外は同
様にして評価した。初期感度は970mJ/cm2 であ
ったが暗所、室温下で3ケ月放置後は1100mJ/c
m2 と若干の感度低下が見られた。
【0054】実施例11〜13、参考例1 実施例7と同一の感光性平版に関して次の方法によりレ
ーザー光の光強度の影響を調べた。感光層表面でのレー
ザー受光エネルギーを480mWに固定し、光強度はレ
ンズによる集光度(ビーム径)を調節し、適宜変化さ
せ、それぞれに対応した感度を実施例1と同様な方法で
求めた。但し、感度は露光ビーム径を再現する画線幅を
与えるドラム回転数より求めた。なお、レーザー受光エ
ネルギーは光パワーメーターTQ8210(アドバンテ
スト社製)を用いて測定した。得られた結果を第4表に
示した。
ーザー光の光強度の影響を調べた。感光層表面でのレー
ザー受光エネルギーを480mWに固定し、光強度はレ
ンズによる集光度(ビーム径)を調節し、適宜変化さ
せ、それぞれに対応した感度を実施例1と同様な方法で
求めた。但し、感度は露光ビーム径を再現する画線幅を
与えるドラム回転数より求めた。なお、レーザー受光エ
ネルギーは光パワーメーターTQ8210(アドバンテ
スト社製)を用いて測定した。得られた結果を第4表に
示した。
【0055】
【表10】 *表中、>8,000mJ/cm2 とあるのは、露光量8,000mJ/cm2 では画像を形成しなかった事を意味する。
【0056】
【発明の効果】本発明は、近赤外光に対して高感度な感
光性組成物、及びそれを用いた感光性平版印刷版。
光性組成物、及びそれを用いた感光性平版印刷版。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C08L 61/20 C08L 61/20 G03F 7/00 503 G03F 7/00 503
Claims (9)
- 【請求項1】 (a)ノボラック樹脂またはポリビニル
フェノール樹脂から選ばれた樹脂化合物、(b)該樹脂
化合物を架橋し得るアミノ化合物誘導体、(c)ピリリ
ウム系化合物またはチオピリリウム系化合物から選ばれ
た赤外吸収色素、及び(d)光酸発生剤を含有してなる
感光性組成物。 - 【請求項2】 (c)の赤外吸収色素が、下記一般式
(I)で表される化合物から選ばれたものである請求項
1記載の感光性組成物。 【化1】 [式中、Y1 及びY2 は各々独立して酸素原子または硫
黄原子を示し、R1 、R 2 、R9 及びR10は各々独立し
て置換基を有していても良いフェニル基またはナフチル
基を示し、R3 〜R8 は各々独立して水素原子またはC
1 〜C8 のアルキル基を示すかあるいは各々独立してR
3 とR4 、R5 とR6 、またはR7 とR8とが相互に結
合して 【化2】 (但し、R11〜R13は水素原子またはC1 〜C6 のアル
キル基を示し、mは0または1を示す。)で表される連
結基を形成していても良い。また、Xは水素原子または
ハロゲン原子を示し、l1 及びl2 は各々独立して0ま
たは1を示し、Z - は対アニオンを示す。] - 【請求項3】 (b)のアミノ化合物誘導体が、アルコ
キシメチル基を有するメラミン誘導体である請求項1に
記載の感光性組成物。 - 【請求項4】 (b)のアミノ化合物誘導体が、アルコ
キシメチル基とメチロール基を有するメラミン誘導体で
あって、それらの合計基数に占めるアルコキシメチル基
の数の割合が90%以上である請求項1に記載の感光性
組成物。 - 【請求項5】 (d)の光酸発生剤が、トリハロメチル
基を2個以上有するs−トリアジン化合物、ジフェニル
ヨードニウム塩、またはトリフェニルスルホニウム塩で
ある請求項1に記載の感光性組成物。 - 【請求項6】 (a)の樹脂化合物がノボラック樹脂で
ある請求項1に記載の感光性組成物。 - 【請求項7】 支持体上に、請求項1乃至6の感光性組
成物を有する感光性平版印刷版。 - 【請求項8】 請求項7に記載の感光性平版印刷版を、
波長域800nm〜1300nmに属する半導体レーザ
ーもしくはYAGレーザーの光線で照射し、アルカリ水
溶液を主体とするアルカリ性現像液で現像する工程を含
む感光性平版印刷版の製版方法。 - 【請求項9】 前記半導体レーザーもしくはYAGレー
ザーの光線を、5×106 mJ/s・cm2 以上の光強
度にて走査露光する工程を含む請求項8に記載の感光性
平版印刷版の製版方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9013880A JPH10207065A (ja) | 1997-01-28 | 1997-01-28 | 感光性組成物、感光性平版印刷版及び感光性平版印刷版の製版方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9013880A JPH10207065A (ja) | 1997-01-28 | 1997-01-28 | 感光性組成物、感光性平版印刷版及び感光性平版印刷版の製版方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10207065A true JPH10207065A (ja) | 1998-08-07 |
Family
ID=11845532
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9013880A Pending JPH10207065A (ja) | 1997-01-28 | 1997-01-28 | 感光性組成物、感光性平版印刷版及び感光性平版印刷版の製版方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH10207065A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11176750A (ja) * | 1997-09-18 | 1999-07-02 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 水性塩基現像可能なフォトレジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法 |
WO2000034961A1 (fr) * | 1998-12-10 | 2000-06-15 | International Business Machines Corporation | Procede de formation d'un film conducteur transparent a l'aide d'une reserve amplifiee chimiquement |
-
1997
- 1997-01-28 JP JP9013880A patent/JPH10207065A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11176750A (ja) * | 1997-09-18 | 1999-07-02 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 水性塩基現像可能なフォトレジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法 |
WO2000034961A1 (fr) * | 1998-12-10 | 2000-06-15 | International Business Machines Corporation | Procede de formation d'un film conducteur transparent a l'aide d'une reserve amplifiee chimiquement |
US6632115B1 (en) * | 1998-12-10 | 2003-10-14 | International Business Machines Corporation | Method for forming transparent conductive film using chemically amplified resist |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040203 |