JPH1020324A - 反射型液晶表示装置 - Google Patents

反射型液晶表示装置

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JPH1020324A
JPH1020324A JP8193887A JP19388796A JPH1020324A JP H1020324 A JPH1020324 A JP H1020324A JP 8193887 A JP8193887 A JP 8193887A JP 19388796 A JP19388796 A JP 19388796A JP H1020324 A JPH1020324 A JP H1020324A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 容易に形成することができ、均一な明るさの
画像表示を得ることのできる反射型液晶表示装置を提供
することを目的とする。 【解決手段】 半導体基板と、該半導体基板に対向配置
され透明電極を設けた透明基板と、該両基板間に封止さ
れた液晶層と、該半導体基板上に画素配列に対応してマ
トリクス状に形成された複数のスイッチング素子と、該
スイッチング素子の上方に該画素配列に対応しかつ間隙
を介してマトリクス状に形成された画素電極とを有する
反射型液晶表示パネルと、該反射型液晶表示パネルを固
定する固定基板とからなる反射型液晶表示装置であっ
て、固定基板に半導体基板の外形より大きくかつ透明基
板より第1の方向の幅の狭い孔を設け、半導体基板が孔
内に配置され、透明基板の第1の方向における両端部と
固定基板とが接着剤により固着されていることを特徴と
する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【0001】
【0002】
【産業上の利用分野】本発明は、反射型液晶表示装置に
関する。
【0003】
【0002】
【0004】
【従来の技術】従来の反射型液晶表示装置の主要部外観
構造図を図4に示す。同図において、反射型液晶表示装
置は、反射型液晶表示パネル109とこれを固定する固
定基板110からなる。また、図5は、図4における反
射型液晶表示装置の概略断面構造図を示し、同図からわ
かるように、反射型液晶表示パネル109は、シリコン
基板101とこれに対向するガラス基板102との間に
液晶層103を封入して形成され、このシリコン基板1
01上には、図6に示すように、マトリクス状に配置さ
れたソース104a、ゲート104b、ドレイン104
cからなる複数のMOS FET(スイッチング素子)
104と、それぞれのMOS FET104を被覆する
絶縁層105と、絶縁層105上に間隙106を介して
マトリクス状に配置されたアルミニウムからなり反射膜
を兼ねる画素電極107が形成されている。一方、ガラ
ス基板102上には、透明電極108が全面に形成され
ている。図6は、図5における反射型液晶表示パネル1
09の断面の一部詳細図を示す。
【0005】
【0003】
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述の反射
型液晶表示装置では、図5に示す概略断面構造図からわ
かるように、反射型液晶表示パネルを固定基板に固定す
る際、シリコン基板101と固定基板110とが接着剤
111により固着されることになる。この場合、接着剤
111が硬化するときに収縮等の応力が直接シリコン基
板101に加わる。また、接着剤111が熱硬化性のも
のであれば、熱による応力もシリコン基板101に加わ
る。この応力がシリコン基板101上に形成された各画
素電極107に加わることにより、液晶層に対する凹凸
となって現れる。これにより、液晶層の厚さにばらつき
が生じ、結果的に各画素の表示データによらない不均一
な明るさの画像表示となる。
【0007】
【0004】本発明は、上述の事情に鑑みてなされたも
のであり、容易に形成することができ、均一な明るさの
画像表示を得ることのできる反射型液晶表示装置を提供
することを目的とする。
【0008】
【0005】
【0009】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
半導体基板と、該半導体基板に対向配置され透明電極を
設けた透明基板と、該両基板間に封止された液晶層と、
該半導体基板上に画素配列に対応してマトリクス状に形
成された複数のスイッチング素子と、該スイッチング素
子の上方に該画素配列に対応しかつ間隙を介してマトリ
クス状に形成された画素電極とを有する反射型液晶表示
パネルと、該反射型液晶表示パネルを固定する固定基板
とからなる反射型液晶表示装置であって、固定基板に半
導体基板の外形より大きくかつ透明基板より第1の方向
の幅の狭い孔を設け、半導体基板が孔内に配置され、透
明基板の第1の方向における両端部と固定基板とが接着
剤により固着されていることを特徴とする。
【0010】
【0006】また、請求項2記載の発明は、請求項1記
載の反射型液晶表示装置において、少なくとも第1の方
向における固定基板の孔周辺に第1の端子が設けられる
と共に、接着剤は、導電性を有する紫外線硬化型接着剤
からなり、透明基板の第1の方向における両端部の透明
電極と固定基板の端子とが、導電性を有する紫外線硬化
型接着剤により電気的に接続されていることを特徴とす
る。
【0011】
【0007】また、請求項3記載の発明は、請求項1又
は2記載の反射型液晶表示装置において、第1の方向と
直交する第2の方向における半導体基板の端部に第2の
端子が設けられると共に、間隙を介して対向する固定基
板上に第3の端子が設けられ、第2の端子が設けられた
半導体基板の表面と第3の端子が設けられた固定基板の
表面とが略同一平面上に位置するように設定され、第2
の端子と第3の端子とが導線で接続されてなることを特
徴とする。
【0012】
【0008】
【0013】
【作用】本発明は以上のように構成したので、液晶層が
半導体基板と透明基板間に封止されて形成される反射型
液晶表示パネルを、固定基板に固定する際に、半導体基
板を固定基板の孔内に配置すると共に、透明基板の第1
の方向における両端部と固定基板とを接着剤により固着
するようにしたので、接着剤が硬化するときに熱や収縮
等の応力が半導体基板に加わることがなく、液晶層の厚
さが均一な状態に保たれる。
【0014】
【0009】また、反射型液晶表示パネルを、固定基板
に固定する際に、導電性を有する紫外線硬化型接着剤を
用いて、固定基板の孔周辺に設けられた端子と、透明基
板上に設けられた透明電極を電気的に接続するようにし
たので、液晶表示パネルを固定基板に固定した後に、端
子と透明電極を接続する工程を追加する必要がなく、容
易に反射型液晶表示装置が形成される。
【0015】
【0010】また、反射型液晶表示パネルを、紫外線硬
化型接着剤によって固定基板に固定した場合に、シリコ
ン基板上に形成された各端子は、固定基板上に対応して
形成された各端子とほぼ同じ高さに配置されるので、シ
リコン基板上の各端子と固定基板上の各端子とを導線で
容易に接続することができる。
【0016】
【0011】
【0017】
【発明の実施の形態】本発明の反射型液晶表示装置の一
実施形態について、その具体的な構成を図面を引用して
説明する。図1は、本発明の一実施形態における反射型
液晶表示装置の主要構造を示す図であり、(a)は装置
の上方から見た平面図を示し、(b)は(a)に示され
た互いに直交するX−Y軸のうち、Y軸に沿ったA−A
断面を示し、(c)は(a)に示された互いに直交する
X−Y軸のうち、X軸に沿ったB−B断面を示してい
る。
【0018】
【0012】図1に示すように、反射型液晶表示装置
は、P型のシリコン基板1と、一部にスペーサ等を介在
させてシリコン基板1に対向するガラス基板2と、真空
吸引等によってこれらの基板間の封止剤6によって閉じ
られた空間内へ封入された液晶3と、を有してなる液晶
表示パネルが、ガラスエポキシ基板などで形成された固
定基板4に組み込まれて、紫外線硬化型接着剤5により
ガラス基板2を固定基板4に固着して形成される。
【0019】
【0013】ガラス基板2は、液晶3側表面上に、コモ
ン電圧に保持される又は接地されるITO等の透明電極
7と、斜め蒸着したシリコン酸化物からなる図示しない
配向膜とが順次積層され形成されている。なお、ブラッ
クマトリクスは除かれたものとなっている。また、配向
膜はポーラス状となっている。液晶3は、垂直配列タイ
プのネマチック液晶である。
【0020】
【0014】紫外線硬化型接着剤5は導電性を有し、液
晶表示パネルが固定基板4に固着される接着剤として用
いられる際に、固定基板4上に設けられた端子13とガ
ラス基板2上に形成される透明電極7とを同時に一体に
固定し電気的に接続する。
【0021】
【0015】図2は、上記液晶表示パネルの断面の一部
をより詳細に表したものであり、同図に示すように、シ
リコン基板1上には、マトリクス状に配置されたソース
8a、ゲート8b、ドレイン8cからなる複数のMOS
FET(スイッチング素子)8と、それぞれのMOS
FET8を被覆する絶縁層9と、絶縁層9上に複数の
間隙10を介してマトリクス状に配置されたアルミニウ
ムからなり反射膜を兼ねる複数の画素電極11が形成さ
れている。
【0022】
【0016】さらに、画素電極11上には、入射光を反
射する誘電体ミラー12と、斜め蒸着したシリコン酸化
物からなる図示しない配向膜とが順次積層されて形成さ
れている。また、誘電体ミラー12は、例えば、TiO
2 とSiO2 が交互にEB蒸着されて積層された多層膜
などで構成され、ポーラス状となっている。また、誘電
体ミラー12上の配向膜もポーラス状となっている。
【0023】
【0017】各画素電極11は、対応するMOS FE
T(スイッチング素子)8を介して、図1に示すシリコ
ン基板1上に形成された複数の端子14の一部に電気的
に接続されて、さらに各端子14は、導線15等を介し
て、固定基板4上において各端子14に対応して設けら
れた複数の端子16にそれぞれ電気的に接続される。
【0024】
【0018】以上のような構造を採用したことから、本
実施形態における液晶表示パネルは、一般的なCMOS
製造用のシリコンプロセスや液晶パネル製造プロセスに
よって形成することができる。
【0025】
【0019】また、図3は、上記液晶表示パネルが固定
基板4に組み込まれる様子を表したものであり、固定基
板4は、同図に示すように、シリコン基板1の外形形状
に沿って形成され、シリコン基板1の外形形状よりも大
きな寸法で開口される開口部1aを有する。また、開口
部1aは、シリコン基板1に対向するガラス基板2の第
1の方向(図3中X方向)が、ガラス基板2の幅より狭
い開口幅を有して形成される。
【0026】
【0020】したがって、シリコン基板1及びガラス基
板2を有する液晶表示パネルは、図3の矢印Cに沿って
固定基板4に組み込まれた場合、シリコン基板1が開口
部1a内の領域1b(図3中の一点鎖線内の部分)に配
置されると共に、ガラス基板2のX方向における両端部
が、固定基板4上の領域4a(図3中の二点鎖線内の部
分)に配置される。
【0027】
【0021】なお、端子13は、図3に示すように、固
定基板4上における開口部1aの周囲の一部に連続して
形成されていて、その一部が、ガラス基板2のX方向に
おける両端部に対応する領域4a内に配置されて形成さ
れる。
【0028】
【0022】このことにより、予め、ガラス基板2のX
方向における両端部に対応する固定基板4上の領域に塗
布された図示しない紫外線硬化型接着剤5が、固定基板
4及びガラス基板2のX方向における両端部に挟持さ
れ、次いで、ガラス基板2上から照射される紫外線によ
って硬化することにより、図1に示すように、ガラス基
板2のX方向における両端部と固定基板4とが固着され
る。
【0029】
【0023】なお、紫外線硬化型接着剤5が塗布された
固定基板4及びガラス基板2の部分は、紫外線硬化型接
着剤5の硬化の際に、接着剤の硬化促進のための加熱に
よる熱応力や、硬化による接着剤の収縮等の応力が加え
られるが、シリコン基板1は、シリコン基板1の開口部
1a内の領域1bに配置されていて、シリコン基板1と
離間しているので、上記各応力を受けることはない。
【0030】
【0024】また、紫外線硬化型接着剤5によって固定
基板4上に固着されるガラス基板2は、熱容量が大き
く、剛性を有し、しかも、紫外線硬化型接着剤5が塗布
された部分が液晶3を封入した中央部分から離間した領
域に配置されるので、上記各応力をうけても、ガラス基
板2の液晶3を封入した部分が影響を受けることがな
い。したがって、表示パネルは固定基板4に組み込まれ
る以前の初期性能を維持することができる。
【0031】
【0025】また、端子13は、領域4a内にその一部
が配置されて形成されるので、導電性を有する紫外線硬
化型接着剤5と共にガラス基板2上に固着され、ガラス
基板2上に形成された図示しない透明電極7に安定して
電気的に接続される。したがって、液晶表示パネルを固
定基板4に固定した後に、端子13と透明電極7を接続
する工程が不要となり、容易に形成される。
【0032】
【0026】液晶表示パネルは以上説明したように、先
に述べたガラス基板2の第1の方向(図3中X方向)に
おける両端部が、ガラス基板2上の透明電極7と共に固
定基板4に組み込まれ、紫外線硬化型接着剤5によって
固定されると同時に、端子13と透明電極7が安定して
電気的に接続される。また、この状態において、シリコ
ン基板1上に形成された各端子14は、各端子14に対
応して固定基板4上に形成された各端子16とほぼ同じ
高さに配置されるので、端子14及び16を導線15で
容易に接続することができる。
【0033】
【0027】
【0034】
【発明の効果】本発明は以上のように構成したため、液
晶層が半導体基板と透明基板間に封止されて形成される
反射型液晶表示パネルを、固定基板に固定する際に、半
導体基板を固定基板の孔内に配置すると共に、透明基板
の第1の方向における両端部と固定基板とを接着剤によ
り固着するようにしたので、接着剤が硬化するときに熱
や収縮等の応力が半導体基板に加わることがなく、液晶
層の厚さが均一な状態に保たれ、均一な明るさの画像表
示を得ることができる。
【0035】
【0028】また、反射型液晶表示パネルを、固定基板
に固定する際に、導電性を有する紫外線硬化型接着剤を
用いて、固定基板の孔周辺に設けられた端子と、透明基
板上に設けられた透明電極を電気的に接続するようにし
たので、液晶表示パネルを固定基板に固定した後に、端
子と透明電極を接続する工程を追加する必要がなく、容
易に反射型液晶表示装置が形成される。
【0036】
【0029】また、また、反射型液晶表示パネルを、紫
外線硬化型接着剤によって固定基板に固定した場合に、
シリコン基板上に形成された各端子は、固定基板上に対
応して形成された各端子とほぼ同じ高さに配置されるの
で、シリコン基板上の各端子と固定基板上の各端子とを
導線で容易に接続して反射型液晶表示装置を形成するこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態における反射型液晶表示装
置の主要構造を示す図である。
【図2】本発明の一実施形態における反射型液晶表示装
置の液晶表示パネルの断面の一部をより詳細に表したも
のである。
【図3】本発明の一実施形態における反射型液晶表示装
置の液晶表示パネルが固定基板に組み込まれる様子を表
した図である。
【図4】従来の反射型液晶表示装置の主要部外観構造図
である。
【図5】従来の反射型液晶表示装置の概略断面構造図で
ある。
【図6】従来の反射型液晶表示装置の反射型液晶表示パ
ネルの断面の一部詳細図である。
【符号の説明】
1・・・・・・シリコン基板 1a・・・・・開口部 1b・・・・・領域 2・・・・・・ガラス基板 3・・・・・・液晶 4・・・・・・固定基板 4a・・・・・領域 5・・・・・・紫外線硬化型接着剤 6・・・・・・封止剤 7・・・・・・透明電極 8・・・・・・MOS FET(スイッチング素子) 8a・・・・・ソース 8b・・・・・ゲート 8c・・・・・ドレイン 9・・・・・・絶縁層 10・・・・・間隙 11・・・・・画素電極 12・・・・・誘電体ミラー 13・・・・・端子 14・・・・・端子 15・・・・・導線 16・・・・・端子
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成9年5月16日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の詳細な説明
【補正方法】変更
【補正内容】
【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、反射型液晶表示装置に
関する。
【0002】
【従来の技術】従来の反射型液晶表示装置の主要部外観
構造図を図4に示す。同図において、反射型液晶表示装
置は、反射型液晶表示パネル109とこれを固定する固
定基板110からなる。また、図5は、図4における反
射型液晶表示装置の概略断面構造図を示し、同図からわ
かるように、反射型液晶表示パネル109は、シリコン
基板101とこれに対向するガラス基板102との間に
液晶層103を封入して形成され、このシリコン基板1
01上には、図6に示すように、マトリクス状に配置さ
れたソース104a、ゲート104b、ドレイン104
cからなる複数のMOS FET(スイッチング素子)
104と、それぞれのMOS FET104を被覆する
絶縁層105と、絶縁層105上に間隙106を介して
マトリクス状に配置されたアルミニウムからなり反射膜
を兼ねる画素電極107が形成されている。一方、ガラ
ス基板102上には、透明電極108が全面に形成され
ている。図6は、図5における反射型液晶表示パネル1
09の断面の一部詳細図を示す。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述の反射
型液晶表示装置では、図5に示す概略断面構造図からわ
かるように、反射型液晶表示パネルを固定基板に固定す
る際、シリコン基板101と固定基板110とが接着剤
111により固着されることになる。この場合、接着剤
111が硬化するときに収縮等の応力が直接シリコン基
板101に加わる。また、接着剤111が熱硬化性のも
のであれば、熱による応力もシリコン基板101に加わ
る。この応力がシリコン基板101上に形成された各画
素電極107に加わることにより、液晶層に対する凹凸
となって現れる。これにより、液晶層の厚さにばらつき
が生じ、結果的に各画素の表示データによらない不均一
な明るさの画像表示となる。
【0004】本発明は、上述の事情に鑑みてなされたも
のであり、容易に形成することができ、均一な明るさの
画像表示を得ることのできる反射型液晶表示装置を提供
することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
半導体基板と、該半導体基板に対向配置され透明電極を
設けた透明基板と、該両基板間に封止された液晶層と、
該半導体基板上に画素配列に対応してマトリクス状に形
成された複数のスイッチング素子と、該スイッチング素
子の上方に該画素配列に対応しかつ間隙を介してマトリ
クス状に形成された画素電極とを有する反射型液晶表示
パネルと、該反射型液晶表示パネルを固定する固定基板
とからなる反射型液晶表示装置であって、固定基板に半
導体基板の外形より大きくかつ透明基板より第1の方向
の幅の狭い孔を設け、半導体基板が孔内に配置され、透
明基板の第1の方向における両端部と固定基板とが接着
剤により固着されていることを特徴とする。
【0006】また、請求項2記載の発明は、請求項1記
載の反射型液晶表示装置において、少なくとも第1の方
向における固定基板の孔周辺に第1の端子が設けられる
と共に、接着剤は、導電性を有する紫外線硬化型接着剤
からなり、透明基板の第1の方向における両端部の透明
電極と固定基板の端子とが、導電性を有する紫外線硬化
型接着剤により電気的に接続されていることを特徴とす
る。
【0007】また、請求項3記載の発明は、請求項1又
は2記載の反射型液晶表示装置において、第1の方向と
直交する第2の方向における半導体基板の端部に第2の
端子が設けられると共に、間隙を介して対向する固定基
板上に第3の端子が設けられ、第2の端子が設けられた
半導体基板の表面と第3の端子が設けられた固定基板の
表面とが略同一平面上に位置するように設定され、第2
の端子と第3の端子とが導線で接続されてなることを特
徴とする。
【0008】
【作用】本発明は以上のように構成したので、液晶層が
半導体基板と透明基板間に封止されて形成される反射型
液晶表示パネルを、固定基板に固定する際に、半導体基
板を固定基板の孔内に配置すると共に、透明基板の第1
の方向における両端部と固定基板とを接着剤により固着
するようにしたので、接着剤が硬化するときに熱や収縮
等の応力が半導体基板に加わることがなく、液晶層の厚
さが均一な状態に保たれる。
【0009】また、反射型液晶表示パネルを、固定基板
に固定する際に、導電性を有する紫外線硬化型接着剤を
用いて、固定基板の孔周辺に設けられた端子と、透明基
板上に設けられた透明電極を電気的に接続するようにし
たので、液晶表示パネルを固定基板に固定した後に、端
子と透明電極を接続する工程を追加する必要がなく、容
易に反射型液晶表示装置が形成される。
【0010】また、反射型液晶表示パネルを、紫外線硬
化型接着剤によって固定基板に固定した場合に、シリコ
ン基板上に形成された各端子は、固定基板上に対応して
形成された各端子とほぼ同じ高さに配置されるので、シ
リコン基板上の各端子と固定基板上の各端子とを導線で
容易に接続することができる。
【0011】
【発明の実施の形態】本発明の反射型液晶表示装置の一
実施形態について、その具体的な構成を図面を引用して
説明する。図1は、本発明の一実施形態における反射型
液晶表示装置の主要構造を示す図であり、(a)は装置
の上方から見た平面図を示し、(b)は(a)に示され
た互いに直交するX−Y軸のうち、Y軸に沿ったA−A
断面を示し、(c)は(a)に示された互いに直交する
X−Y軸のうち、X軸に沿ったB−B断面を示してい
る。
【0012】図1に示すように、反射型液晶表示装置
は、P型のシリコン基板1と、一部にスペーサ等を介在
させてシリコン基板1に対向するガラス基板2と、真空
吸引等によってこれらの基板間の封止剤6によって閉じ
られた空間内へ封入された液晶3と、を有してなる液晶
表示パネルが、ガラスエポキシ基板などで形成された固
定基板4に組み込まれて、紫外線硬化型接着剤5により
ガラス基板2を固定基板4に固着して形成される。
【0013】ガラス基板2は、液晶3側表面上に、コモ
ン電圧に保持される又は接地されるITO等の透明電極
7と、斜め蒸着したシリコン酸化物からなる図示しない
配向膜とが順次積層され形成されている。なお、ブラッ
クマトリクスは除かれたものとなっている。また、配向
膜はポーラス状となっている。液晶3は、垂直配列タイ
プのネマチック液晶である。
【0014】紫外線硬化型接着剤5は導電性を有し、液
晶表示パネルが固定基板4に固着される接着剤として用
いられる際に、固定基板4上に設けられた端子13とガ
ラス基板2上に形成される透明電極7とを同時に一体に
固定し電気的に接続する。
【0015】図2は、上記液晶表示パネルの断面の一部
をより詳細に表したものであり、同図に示すように、シ
リコン基板1上には、マトリクス状に配置されたソース
8a、ゲート8b、ドレイン8cからなる複数のMOS
FET(スイッチング素子)8と、それぞれのMOS
FET8を被覆する絶縁層9と、絶縁層9上に複数の
間隙10を介してマトリクス状に配置されたアルミニウ
ムからなり反射膜を兼ねる複数の画素電極11が形成さ
れている。
【0016】さらに、画素電極11上には、入射光を反
射する誘電体ミラー12と、斜め蒸着したシリコン酸化
物からなる図示しない配向膜とが順次積層されて形成さ
れている。また、誘電体ミラー12は、例えば、TiO
とSiOが交互にEB蒸着されて積層された多層膜
などで構成され、ポーラス状となっている。また、誘電
体ミラー12上の配向膜もポーラス状となっている。
【0017】各画素電極11は、対応するMOS FE
T(スイッチング素子)8を介して、図1に示すシリコ
ン基板1上に形成された複数の端子14の一部に電気的
に接続されて、さらに各端子14は、導線15等を介し
て、固定基板4上において各端子14に対応して設けら
れた複数の端子16にそれぞれ電気的に接続される。
【0018】以上のような構造を採用したことから、本
実施形態における液晶表示パネルは、一般的なCMOS
製造用のシリコンプロセスや液晶パネル製造プロセスに
よって形成することができる。
【0019】また、図3は、上記液晶表示パネルが固定
基板4に組み込まれる様子を表したものであり、固定基
板4は、同図に示すように、シリコン基板1の外形形状
に沿って形成され、シリコン基板1の外形形状よりも大
きな寸法で開口される開口部1aを有する。また、開口
部1aは、シリコン基板1に対向するガラス基板2の第
1の方向(図3中X方向)が、ガラス基板2の幅より狭
い開口幅を有して形成される。
【0020】したがって、シリコン基板1及びガラス基
板2を有する液晶表示パネルは、図3の矢印Cに沿って
固定基板4に組み込まれた場合、シリコン基板1が開口
部1a内の領域1b(図3中の一点鎖線内の部分)に配
置されると共に、ガラス基板2のX方向における両端部
が、固定基板4上の領域4a(図3中の二点鎖線内の部
分)に配置される。
【0021】なお、端子13は、図3に示すように、固
定基板4上における開口部1aの周囲の一部に連続して
形成されていて、その一部が、ガラス基板2のX方向に
おける両端部に対応する領域4a内に配置されて形成さ
れる。
【0022】このことにより、予め、ガラス基板2のX
方向における両端部に対応する固定基板4上の領域に塗
布された図示しない紫外線硬化型接着剤5が、固定基板
4及びガラス基板2のX方向における両端部に挟持さ
れ、次いで、ガラス基板2上から照射される紫外線によ
って硬化することにより、図1に示すように、ガラス基
板2のX方向における両端部と固定基板4とが固着され
る。
【0023】なお、紫外線硬化型接着剤5が塗布された
固定基板4及びガラス基板2の部分は、紫外線硬化型接
着剤5の硬化の際に、接着剤の硬化促進のための加熱に
よる熱応力や、硬化による接着剤の収縮等の応力が加え
られるが、シリコン基板1は、シリコン基板1の開口部
1a内の領域1bに配置されていて、シリコン基板1と
離間しているので、上記各応力を受けることはない。
【0024】また、紫外線硬化型接着剤5によって固定
基板4上に固着されるガラス基板2は、熱容量が大き
く、剛性を有し、しかも、紫外線硬化型接着剤5が塗布
された部分が液晶3を封入した中央部分から離間した領
域に配置されるので、上記各応力をうけても、ガラス基
板2の液晶3を封入した部分が影響を受けることがな
い。したがって、表示パネルは固定基板4に組み込まれ
る以前の初期性能を維持することができる。
【0025】また、端子13は、領域4a内にその一部
が配置されて形成されるので、導電性を有する紫外線硬
化型接着剤5と共にガラス基板2上に固着され、ガラス
基板2上に形成された図示しない透明電極7に安定して
電気的に接続される。したがって、液晶表示パネルを固
定基板4に固定した後に、端子13と透明電極7を接続
する工程が不要となり、容易に形成される。
【0026】液晶表示パネルは以上説明したように、先
に述べたガラス基板2の第1の方向(図3中X方向)に
おける両端部が、ガラス基板2上の透明電極7と共に固
定基板4に組み込まれ、紫外線硬化型接着剤5によって
固定されると同時に、端子13と透明電極7が安定して
電気的に接続される。また、この状態において、シリコ
ン基板1上に形成された各端子14は、各端子14に対
応して固定基板4上に形成された各端子16とほぼ同じ
高さに配置されるので、端子14及び16を導線15で
容易に接続することができる。
【0027】
【発明の効果】本発明は以上のように構成したため、液
晶層が半導体基板と透明基板間に封止されて形成される
反射型液晶表示パネルを、固定基板に固定する際に、半
導体基板を固定基板の孔内に配置すると共に、透明基板
の第1の方向における両端部と固定基板とを接着剤によ
り固着するようにしたので、接着剤が硬化するときに熱
や収縮等の応力が半導体基板に加わることがなく、液晶
層の厚さが均一な状態に保たれ、均一な明るさの画像表
示を得ることができる。
【0028】また、反射型液晶表示パネルを、固定基板
に固定する際に、導電性を有する紫外線硬化型接着剤を
用いて、固定基板の孔周辺に設けられた端子と、透明基
板上に設けられた透明電極を電気的に接続するようにし
たので、液晶表示パネルを固定基板に固定した後に、端
子と透明電極を接続する工程を追加する必要がなく、容
易に反射型液晶表示装置が形成される。
【0029】また、また、反射型液晶表示パネルを、紫
外線硬化型接着剤によって固定基板に固定した場合に、
シリコン基板上に形成された各端子は、固定基板上に対
応して形成された各端子とほぼ同じ高さに配置されるの
で、シリコン基板上の各端子と固定基板上の各端子とを
導線で容易に接続して反射型液晶表示装置を形成するこ
とができる。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体基板と、該半導体基板に対向配置
    され透明電極を設けた透明基板と、該両基板間に封止さ
    れた液晶層と、該半導体基板上に画素配列に対応してマ
    トリクス状に形成された複数のスイッチング素子と、該
    スイッチング素子の上方に該画素配列に対応しかつ間隙
    を介してマトリクス状に形成された画素電極とを有する
    反射型液晶表示パネルと、該反射型液晶表示パネルを固
    定する固定基板とからなる反射型液晶表示装置であっ
    て、 前記固定基板に前記半導体基板の外形より大きくかつ前
    記透明基板より第1の方向の幅の狭い孔を設け、前記半
    導体基板が前記孔内に配置され、前記透明基板の第1の
    方向における両端部と前記固定基板とが接着剤により固
    着されていることを特徴とする反射型液晶表示装置。
  2. 【請求項2】 少なくとも前記第1の方向における前記
    固定基板の孔周辺に第1の端子が設けられると共に、前
    記接着剤は、導電性を有する紫外線硬化型接着剤からな
    り、前記透明基板の前記第1の方向における両端部の透
    明電極と前記固定基板の端子とが、前記導電性を有する
    紫外線硬化型接着剤により電気的に接続されていること
    を特徴とする請求項1記載の反射型液晶表示装置。
  3. 【請求項3】 前記第1の方向と直交する第2の方向に
    おける前記半導体基板の端部に第2の端子が設けられる
    と共に、間隙を介して対向する前記固定基板上に第3の
    端子が設けられ、前記第2の端子が設けられた前記半導
    体基板の表面と前記第3の端子が設けられた前記固定基
    板の表面とが略同一平面上に位置するように設定され、
    前記第2の端子と前記第3の端子とが導線で接続されて
    なることを特徴とする請求項1又は2記載の反射型液晶
    表示装置。
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