JPH10186698A - 感光体およびグロー放電分解装置 - Google Patents
感光体およびグロー放電分解装置Info
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- JPH10186698A JPH10186698A JP34826096A JP34826096A JPH10186698A JP H10186698 A JPH10186698 A JP H10186698A JP 34826096 A JP34826096 A JP 34826096A JP 34826096 A JP34826096 A JP 34826096A JP H10186698 A JPH10186698 A JP H10186698A
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- substrate
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Abstract
(57)【要約】
【課題】円筒状基板の端部での膜剥がれが生じなくな
り、コロ当て制御の精度を高めて、さらに異常放電の発
生を防止した高信頼性の感光体を提供する。 【解決手段】円筒状基板１４外周面の端部以外の領域で
は一様な膜厚に、かつ端部では端面に向けて膜厚が漸次
薄くなる漸次薄膜領域１６ｅが設けられるように、円筒
状基板１４の外周面上にａ−Ｓｉ膜１６を成膜形成した
感光体。
り、コロ当て制御の精度を高めて、さらに異常放電の発
生を防止した高信頼性の感光体を提供する。 【解決手段】円筒状基板１４外周面の端部以外の領域で
は一様な膜厚に、かつ端部では端面に向けて膜厚が漸次
薄くなる漸次薄膜領域１６ｅが設けられるように、円筒
状基板１４の外周面上にａ−Ｓｉ膜１６を成膜形成した
感光体。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はアモルファスシリコ
ンを感光層とした感光体、ならびにこの感光体を作製す
るグロー放電分解装置に関するものである。
ンを感光層とした感光体、ならびにこの感光体を作製す
るグロー放電分解装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】今日、アモルファスシリコン（以下、ア
モルフスシリコンをａ−Ｓｉと略記する）を光導電層と
した感光体が、すでに実用化されているが、このａ−Ｓ
ｉ感光体はアルミニウム製ドラム（円筒状基板）の外周
面にａ−Ｓｉ膜をグロー放電分解法により成膜形成して
得られる。
モルフスシリコンをａ−Ｓｉと略記する）を光導電層と
した感光体が、すでに実用化されているが、このａ−Ｓ
ｉ感光体はアルミニウム製ドラム（円筒状基板）の外周
面にａ−Ｓｉ膜をグロー放電分解法により成膜形成して
得られる。
【０００３】その成膜形成には、基板温度を約３００℃
に設定しているので、成膜後に基板温度が室温にまでに
下がると、ａ−Ｓｉ膜とアルミニウム製ドラムとの熱膨
張率の差に起因して、ドラム端部に応力が集中し、これ
により、ドラム端部が変形したり、その端部付近に成膜
されたａ−Ｓｉ膜が剥離するという問題点があった。
に設定しているので、成膜後に基板温度が室温にまでに
下がると、ａ−Ｓｉ膜とアルミニウム製ドラムとの熱膨
張率の差に起因して、ドラム端部に応力が集中し、これ
により、ドラム端部が変形したり、その端部付近に成膜
されたａ−Ｓｉ膜が剥離するという問題点があった。
【０００４】かかる問題点を解決するために、ドラム端
部を覆うマスク体を設置して、その端部が成膜されない
ようにしたグロー放電分解装置が提案されている（実開
昭６４−２２７７１号参照）。
部を覆うマスク体を設置して、その端部が成膜されない
ようにしたグロー放電分解装置が提案されている（実開
昭６４−２２７７１号参照）。
【０００５】
【発明が解決しようとする問題点】しかしながら、上記
提案のグロー放電分解装置でもって作製した感光体を画
像形成装置に装着して稼働させた場合に、ドラム端部
（アルミニウム露出面）にコロを当て、ドラムを回転さ
せる機構を採用しているので、ドラム面が削れ、これに
よってコロ当て制御の精度を十分にだすことができなく
なったり、また、発生した屑によって使用時に異常放電
を引き起こすという問題点があった。
提案のグロー放電分解装置でもって作製した感光体を画
像形成装置に装着して稼働させた場合に、ドラム端部
（アルミニウム露出面）にコロを当て、ドラムを回転さ
せる機構を採用しているので、ドラム面が削れ、これに
よってコロ当て制御の精度を十分にだすことができなく
なったり、また、発生した屑によって使用時に異常放電
を引き起こすという問題点があった。
【０００６】したがって本発明は上記事情に鑑みて完成
されたものであり、その目的はコロ当て制御の精度を高
めて、さらに異常放電の発生を防止した高信頼性の感光
体を提供することにある。
されたものであり、その目的はコロ当て制御の精度を高
めて、さらに異常放電の発生を防止した高信頼性の感光
体を提供することにある。
【０００７】また、本発明の他の目的は上記のような高
信頼性の感光体を作製するグロー放電分解装置を提供す
ることにある。
信頼性の感光体を作製するグロー放電分解装置を提供す
ることにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の感光体は、円筒
状基板の外周面上にａ−Ｓｉ膜を端部以外の領域は一様
な膜厚に、端部は端面に向けて膜厚が漸次薄くなるよう
に成膜形成したことを特徴とする。
状基板の外周面上にａ−Ｓｉ膜を端部以外の領域は一様
な膜厚に、端部は端面に向けて膜厚が漸次薄くなるよう
に成膜形成したことを特徴とする。
【０００９】本発明のグロー放電分解装置は、ａ−Ｓｉ
成膜用ガスが導入される真空容器の内部に円筒状基板を
設置し、円筒状基板と対向してグロー放電用電極板を配
置し、グロー放電により円筒状基板の外周面上にａ−Ｓ
ｉ膜を成膜形成せしめる構成であって、上記円筒状基板
の端部にリング状体を冠着し、リング状体に円筒状基板
外周面の端部とに隙間が形成されるように鍔部を設けた
ことを特徴とする。
成膜用ガスが導入される真空容器の内部に円筒状基板を
設置し、円筒状基板と対向してグロー放電用電極板を配
置し、グロー放電により円筒状基板の外周面上にａ−Ｓ
ｉ膜を成膜形成せしめる構成であって、上記円筒状基板
の端部にリング状体を冠着し、リング状体に円筒状基板
外周面の端部とに隙間が形成されるように鍔部を設けた
ことを特徴とする。
【００１０】
【発明の実施の形態】図１は本発明のグロー放電分解装
置１の概略図、図２は成膜前におけるグロー放電分解装
置１の要部拡大断面図、図３は成膜後におけるグロー放
電分解装置１の要部拡大断面図、図４は本発明の感光体
の要部拡大断面図である。
置１の概略図、図２は成膜前におけるグロー放電分解装
置１の要部拡大断面図、図３は成膜後におけるグロー放
電分解装置１の要部拡大断面図、図４は本発明の感光体
の要部拡大断面図である。
【００１１】図１において、２は円筒形状の金属製反応
炉、３は感光体ドラム装着用の円筒形状の導電性基板支
持体、４は基板加熱用ヒーター、５はａ−Ｓｉの成膜に
用いられる円筒形状のグロー放電用電極板であり、この
電極板５にはガス噴出口６が形成されており、そして、
７は反応炉内部へガスを導入するためのガス導入口、８
はグロー放電により反応させられたガスの残余を排気す
るためのガス排出口であり、９は基板支持体３とグロー
放電用電極板５の問でグロー放電を発生させる高周波電
源である。また、この反応炉２は円筒体２ａと、蓋体２
ｂと、底体２ｃとからなり、そして、円筒体２ａと蓋体
２ｂとの間、ならびに円筒体２ａと底体２ｃとの間には
それぞれ絶縁性のリング１０、１１を設けており、これ
によって高周波電源９の一方の端子は円筒体２ａを介し
て基板支持体３と導通している。また、蓋体２ｂの上に
付設したモーター１２により回転軸１３を介して基板支
持体３が回転駆動され、これに伴って導電性基板支持体
３に装着したアルミニウムなどからなる円筒状基板１４
（φ２０〜３００ｍｍ）も回転する。そして、図２に示
すように基板１４の上端および／または下端にそれぞれ
リング状体１５を装着している。
炉、３は感光体ドラム装着用の円筒形状の導電性基板支
持体、４は基板加熱用ヒーター、５はａ−Ｓｉの成膜に
用いられる円筒形状のグロー放電用電極板であり、この
電極板５にはガス噴出口６が形成されており、そして、
７は反応炉内部へガスを導入するためのガス導入口、８
はグロー放電により反応させられたガスの残余を排気す
るためのガス排出口であり、９は基板支持体３とグロー
放電用電極板５の問でグロー放電を発生させる高周波電
源である。また、この反応炉２は円筒体２ａと、蓋体２
ｂと、底体２ｃとからなり、そして、円筒体２ａと蓋体
２ｂとの間、ならびに円筒体２ａと底体２ｃとの間には
それぞれ絶縁性のリング１０、１１を設けており、これ
によって高周波電源９の一方の端子は円筒体２ａを介し
て基板支持体３と導通している。また、蓋体２ｂの上に
付設したモーター１２により回転軸１３を介して基板支
持体３が回転駆動され、これに伴って導電性基板支持体
３に装着したアルミニウムなどからなる円筒状基板１４
（φ２０〜３００ｍｍ）も回転する。そして、図２に示
すように基板１４の上端および／または下端にそれぞれ
リング状体１５を装着している。
【００１２】このリング状体１５は円筒状基板１４に冠
着し、そのリング状体１５に設けた鍔部１５ａでもって
円筒状基板１４の外周面の端部とに隙間１７が形成され
る。
着し、そのリング状体１５に設けた鍔部１５ａでもって
円筒状基板１４の外周面の端部とに隙間１７が形成され
る。
【００１３】そして、ａ−Ｓｉ感光体を作製する場合に
は、円筒状基板１４を基板支持体３に装着し、ａ−Ｓｉ
生成用ガスをガス導入口７より反応炉内部へ導入し、ガ
ス噴出口１４を介して基板面に噴出し、基板加熱用ヒー
ター４により円筒状基板１４を所定の温度にまで高め、
さらにグロー放電を発生させて円筒状基板１４を回転さ
せることで、円筒状基板１４の外周面にａ−Ｓｉ膜１６
が成膜形成される。
は、円筒状基板１４を基板支持体３に装着し、ａ−Ｓｉ
生成用ガスをガス導入口７より反応炉内部へ導入し、ガ
ス噴出口１４を介して基板面に噴出し、基板加熱用ヒー
ター４により円筒状基板１４を所定の温度にまで高め、
さらにグロー放電を発生させて円筒状基板１４を回転さ
せることで、円筒状基板１４の外周面にａ−Ｓｉ膜１６
が成膜形成される。
【００１４】かくして上記構成のグロー放電分解装置１
により製作したａ−Ｓｉ感光体は図３に示すような成膜
状態になり、さらに図４に示すようなａ−Ｓｉ感光体が
得られる。
により製作したａ−Ｓｉ感光体は図３に示すような成膜
状態になり、さらに図４に示すようなａ−Ｓｉ感光体が
得られる。
【００１５】円筒状基板１４の外周面に被着されたａ−
Ｓｉ膜１６については、円筒状基板１４の端部にその端
面に向けて漸次膜厚が薄くなる領域、すなわち漸次薄膜
領域１６ｅを設け、さらに漸次薄膜領域１６ｅ以外の領
域では一様な膜厚になるように成膜形成されている。こ
のａ−Ｓｉ膜１６のうち、１６ａで示す領域はコロ当て
制御部である。また、ａ−Ｓｉ膜１６の膜厚１６ｂが１
５〜１００μｍの範囲であれば、ａ−Ｓｉ膜１６の端面
１６ｃの厚みは、たとえば５μｍ以下、好適には０．１
〜５μｍの範囲にするとよい。
Ｓｉ膜１６については、円筒状基板１４の端部にその端
面に向けて漸次膜厚が薄くなる領域、すなわち漸次薄膜
領域１６ｅを設け、さらに漸次薄膜領域１６ｅ以外の領
域では一様な膜厚になるように成膜形成されている。こ
のａ−Ｓｉ膜１６のうち、１６ａで示す領域はコロ当て
制御部である。また、ａ−Ｓｉ膜１６の膜厚１６ｂが１
５〜１００μｍの範囲であれば、ａ−Ｓｉ膜１６の端面
１６ｃの厚みは、たとえば５μｍ以下、好適には０．１
〜５μｍの範囲にするとよい。
【００１６】そして、このように円筒状基板１４の端部
に漸次薄膜領域１６ｅを設けることで、そこでの膜剥が
れを防ぐことができる。
に漸次薄膜領域１６ｅを設けることで、そこでの膜剥が
れを防ぐことができる。
【００１７】すなわち、グロー放電分解装置１を用いて
成膜形成した場合、成膜加熱後の冷却の際に、一般的に
厚膜ではバイメタル効果が大きく作用し、膜剥がれが生
じやすいので、本発明のようにもっとも膜剥がれが発生
しやすい端部に、漸次薄膜化した漸次薄膜領域１６ｅを
設けることで、かかる問題点が解決できる。この漸次薄
膜領域１６ｅの幅はリング状体１５の鍔部１５ａの形状
と大きさによるが、たとえば１〜３０ｍｍにするとよ
い。
成膜形成した場合、成膜加熱後の冷却の際に、一般的に
厚膜ではバイメタル効果が大きく作用し、膜剥がれが生
じやすいので、本発明のようにもっとも膜剥がれが発生
しやすい端部に、漸次薄膜化した漸次薄膜領域１６ｅを
設けることで、かかる問題点が解決できる。この漸次薄
膜領域１６ｅの幅はリング状体１５の鍔部１５ａの形状
と大きさによるが、たとえば１〜３０ｍｍにするとよ
い。
【００１８】上記リング状体１５の材質については、３
５０℃以下で変形しない耐熱性に優れたものを選択する
のがよく、たとえばステンレス、アルミニウム、セラミ
ック等がある。就中、リング状体１５の熱膨張率が円筒
状基板１４のものとくらべて、同等もしくはそれ以下に
あるものがよく、これによってグロー放電に伴う昇温に
よって隙間１７の変化が小さくなり、高い品質の感光体
が得られる。
５０℃以下で変形しない耐熱性に優れたものを選択する
のがよく、たとえばステンレス、アルミニウム、セラミ
ック等がある。就中、リング状体１５の熱膨張率が円筒
状基板１４のものとくらべて、同等もしくはそれ以下に
あるものがよく、これによってグロー放電に伴う昇温に
よって隙間１７の変化が小さくなり、高い品質の感光体
が得られる。
【００１９】つぎに外径１００ｍｍφ、内径９２ｍｍ
φ、長尺寸法３６４ｍｍのアルミニウム製円筒状基板１
４に対して、それに適したアルミニウム製リング状体１
５の寸法形状について実験をおこなったところ、下記の
ような結果が得られた。
φ、長尺寸法３６４ｍｍのアルミニウム製円筒状基板１
４に対して、それに適したアルミニウム製リング状体１
５の寸法形状について実験をおこなったところ、下記の
ような結果が得られた。
【００２０】図２にて表示するように、リング状体１５
の内径１５ｂおよび隙間１７の深さ１７ａとを表１に示
すように変えて、円筒状基板１４端部の膜剥がれ状態な
らびにリング状体１５の変形状態をテストしたところ、
同表に示すとおりの結果が得られた。
の内径１５ｂおよび隙間１７の深さ１７ａとを表１に示
すように変えて、円筒状基板１４端部の膜剥がれ状態な
らびにリング状体１５の変形状態をテストしたところ、
同表に示すとおりの結果が得られた。
【００２１】
【表１】
【００２２】膜剥がれテストは、隙間１７の深さ１７ａ
を１ｍｍに設定してリング状体１５の内径１５ｂを幾と
おりにも変え、そして、各感光体に対して、水に４８時
間漬けて膜剥がれが生じているか、目視でもって判断す
ると方法でもっておこない、○印はまったく膜剥がれが
生じなった場合であり、△印は一部膜剥がれが発生した
場合であり、×印は大部分膜剥がれが発生して実用に適
していない場合である。
を１ｍｍに設定してリング状体１５の内径１５ｂを幾と
おりにも変え、そして、各感光体に対して、水に４８時
間漬けて膜剥がれが生じているか、目視でもって判断す
ると方法でもっておこない、○印はまったく膜剥がれが
生じなった場合であり、△印は一部膜剥がれが発生した
場合であり、×印は大部分膜剥がれが発生して実用に適
していない場合である。
【００２３】また、変形テストは、リング状体１５の内
径１５ｂを１００．１ｍｍに設定して隙間１７の深さ１
７ａを幾とおりにも変え、そして、真円度測定機（ＭＩ
ＴＵＴＯＭＯ製ＲＡ−４００）にて測定をおこなって、
それぞれの真円度を測定するという方法でもっておこな
い、○印はまったく変形しなかった場合であり、△印は
一部変形が認められた場合であり、×印は大部分変形が
生じて実用に適していない場合である。
径１５ｂを１００．１ｍｍに設定して隙間１７の深さ１
７ａを幾とおりにも変え、そして、真円度測定機（ＭＩ
ＴＵＴＯＭＯ製ＲＡ−４００）にて測定をおこなって、
それぞれの真円度を測定するという方法でもっておこな
い、○印はまったく変形しなかった場合であり、△印は
一部変形が認められた場合であり、×印は大部分変形が
生じて実用に適していない場合である。
【００２４】表１に示す結果から明らかなとおり、外径
１００ｍｍφの円筒状基板１４に対しては、リング状体
１５の内径１５ｂを１００．０５〜１００．４ｍｍφが
適している。また、隙間１７の深さ１７ａを２ｍｍ未満
に設定するのがよい。
１００ｍｍφの円筒状基板１４に対しては、リング状体
１５の内径１５ｂを１００．０５〜１００．４ｍｍφが
適している。また、隙間１７の深さ１７ａを２ｍｍ未満
に設定するのがよい。
【００２５】
【発明の効果】以上のとおり、本発明の感光体によれ
ば、円筒状基板外周面の端部以外の領域では一様な膜厚
に、かつ端部では端面に向けて膜厚が漸次薄くなるよう
に、円筒状基板の外周面上にａ−Ｓｉ膜を成膜形成した
ことで、その端部での膜剥がれが生じなくなり、その結
果、コロ当て制御の精度を高めて、さらに異常放電の発
生を防止した高信頼性の感光体が提供できた。
ば、円筒状基板外周面の端部以外の領域では一様な膜厚
に、かつ端部では端面に向けて膜厚が漸次薄くなるよう
に、円筒状基板の外周面上にａ−Ｓｉ膜を成膜形成した
ことで、その端部での膜剥がれが生じなくなり、その結
果、コロ当て制御の精度を高めて、さらに異常放電の発
生を防止した高信頼性の感光体が提供できた。
【００２６】また、本発明のグロー放電分解装置によれ
ば、被成膜用の円筒状基板の端部にリング状体を冠着
し、そのリング状体に円筒状基板外周面の端部とに隙間
が形成されるように鍔部を設けたことで、上記本発明の
感光体を容易に作製することができた。
ば、被成膜用の円筒状基板の端部にリング状体を冠着
し、そのリング状体に円筒状基板外周面の端部とに隙間
が形成されるように鍔部を設けたことで、上記本発明の
感光体を容易に作製することができた。
【図１】本発明のグロー放電分解装置の概略図である。
【図２】本発明の成膜前におけるグロー放電分解装置の
要部拡大断面図である。
要部拡大断面図である。
【図３】本発明の成膜後におけるグロー放電分解装置の
要部拡大断面図である。
要部拡大断面図である。
【図４】本発明の感光体の要部拡大断面図である。
１ グロー放電分解装置 ２ 金属製反応炉 ３ 導電性基板支持体 ４ 基板加熱用ヒーター ５ グロー放電用電極板 １４ 円筒状基板 １５ リング状体 １５ａ 鍔部 １６ ａ−Ｓｉ膜 １６ｅ 漸次薄膜領域 １７ 隙間
Claims (2)
- 【請求項１】 円筒状基板の外周面上にアモルファスシ
リコン膜を端部以外の領域は一様な膜厚に、端部は端面
に向けて膜厚が漸次薄くなるように成膜形成したことを
特徴とする感光体。 - 【請求項２】 アモルファスシリコン成膜用ガスが導入
される真空容器の内部に円筒状基板を設置し、該円筒状
基板と対向してグロー放電用電極板を配置し、グロー放
電により円筒状基板の外周面上にアモルファスシリコン
膜を成膜形成せしめるグロー放電分解装置であって、上
記円筒状基板の端部にリング状体を冠着し、該リング状
体に円筒状基板外周面の端部とに隙間が形成されるよう
に鍔部を設けたことを特徴とするグロー放電分解装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34826096A JPH10186698A (ja) | 1996-12-26 | 1996-12-26 | 感光体およびグロー放電分解装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34826096A JPH10186698A (ja) | 1996-12-26 | 1996-12-26 | 感光体およびグロー放電分解装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10186698A true JPH10186698A (ja) | 1998-07-14 |
Family
ID=18395841
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34826096A Pending JPH10186698A (ja) | 1996-12-26 | 1996-12-26 | 感光体およびグロー放電分解装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10186698A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7618759B2 (en) | 2006-03-30 | 2009-11-17 | Kyocera Corporation | Electrophotographic photosensitive member, and image forming apparatus using same |
| JP2012032787A (ja) * | 2010-06-28 | 2012-02-16 | Canon Inc | 電子写真感光体および電子写真装置 |
| US8295732B2 (en) | 2006-06-30 | 2012-10-23 | Kyocera Corporation | Electrophotographic photosensitive member and method of producing the same |
-
1996
- 1996-12-26 JP JP34826096A patent/JPH10186698A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7618759B2 (en) | 2006-03-30 | 2009-11-17 | Kyocera Corporation | Electrophotographic photosensitive member, and image forming apparatus using same |
| US8295732B2 (en) | 2006-06-30 | 2012-10-23 | Kyocera Corporation | Electrophotographic photosensitive member and method of producing the same |
| JP2012032787A (ja) * | 2010-06-28 | 2012-02-16 | Canon Inc | 電子写真感光体および電子写真装置 |
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