JPH10183329A - 真空処理用バルブ装置 - Google Patents
真空処理用バルブ装置Info
- Publication number
- JPH10183329A JPH10183329A JP34182896A JP34182896A JPH10183329A JP H10183329 A JPH10183329 A JP H10183329A JP 34182896 A JP34182896 A JP 34182896A JP 34182896 A JP34182896 A JP 34182896A JP H10183329 A JPH10183329 A JP H10183329A
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- JP
- Japan
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- vacuum
- vacuum processing
- pump
- processing chamber
- ring
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- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】シール部材が腐食したりあるいはシール部材に
異物が堆積するという課題を有する。 【解決手段】真空処理室(12)とこの真空処理室(12)を排
気するための真空ポンプ(13)との開閉を行う真空処理用
バルブ装置において、前記真空処理室(12)とポンプ(13)
とを連通させる通路を有する筐体(11)と、この筐体(11)
の通路(14)を開閉し、前記真空処理室(12)とポンプ(13)
とを連通させる貫通穴(17)を有する弁体(16)と、前記真
空処理室側とポンプ側とを隔離する第１のＯリング(18)
と、前記第１のＯリング(18)により押圧される筐体内壁
を前記通路(14)に流れるガス，生成物より保護する第２
のＯリング(19)とを具備することを特徴とする真空処理
用バルブ装置。
異物が堆積するという課題を有する。 【解決手段】真空処理室(12)とこの真空処理室(12)を排
気するための真空ポンプ(13)との開閉を行う真空処理用
バルブ装置において、前記真空処理室(12)とポンプ(13)
とを連通させる通路を有する筐体(11)と、この筐体(11)
の通路(14)を開閉し、前記真空処理室(12)とポンプ(13)
とを連通させる貫通穴(17)を有する弁体(16)と、前記真
空処理室側とポンプ側とを隔離する第１のＯリング(18)
と、前記第１のＯリング(18)により押圧される筐体内壁
を前記通路(14)に流れるガス，生成物より保護する第２
のＯリング(19)とを具備することを特徴とする真空処理
用バルブ装置。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は真空処理用バルブ装
置に関し、特にエッチング，スパッタ，ＣＶＤなどの真
空処理に使用される真空処理用バルブ装置に関する。
置に関し、特にエッチング，スパッタ，ＣＶＤなどの真
空処理に使用される真空処理用バルブ装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】真空に維持された室内にて種々の処理を
する装置、例えばエッチング，スパッタ，ＣＶＤを行う
装置などでは、メンテナンスなどを目的として真空処理
室を真空処理室を排気するポンプとの間に隔離バルブが
設けられている。これにより、真空処理室を真空に保持
したままポンプのメンテナンスが可能となったり、ある
いは真空ポンプを起動のまま真空処理室のメンテナンス
が可能となる。
する装置、例えばエッチング，スパッタ，ＣＶＤを行う
装置などでは、メンテナンスなどを目的として真空処理
室を真空処理室を排気するポンプとの間に隔離バルブが
設けられている。これにより、真空処理室を真空に保持
したままポンプのメンテナンスが可能となったり、ある
いは真空ポンプを起動のまま真空処理室のメンテナンス
が可能となる。
【０００３】図１は、従来の真空処理用バルブ装置の一
例を示す。図中の付番１は筐体であり、真空処理室２と
この真空処理室２を排気するための真空ポンプ３とを連
通させる通路４を有している。前記筐体１と真空処理室
２，真空ポンプ３間は、各々のフリンジ５に図示しない
ボルト，ナット等を用いて気密に連結されている。前記
筐体１内には、前記通路４を開閉する円板状の弁体６が
配置されている。この弁体６の先端面には、真空処理室
２と真空ポンプ３間を気密に隔離するためのＯリング７
が設けられている。前記弁体６には、該弁体６を駆動す
るシリンダー８が連結されている。
例を示す。図中の付番１は筐体であり、真空処理室２と
この真空処理室２を排気するための真空ポンプ３とを連
通させる通路４を有している。前記筐体１と真空処理室
２，真空ポンプ３間は、各々のフリンジ５に図示しない
ボルト，ナット等を用いて気密に連結されている。前記
筐体１内には、前記通路４を開閉する円板状の弁体６が
配置されている。この弁体６の先端面には、真空処理室
２と真空ポンプ３間を気密に隔離するためのＯリング７
が設けられている。前記弁体６には、該弁体６を駆動す
るシリンダー８が連結されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
真空処理用バルブ装置においては、真空処理中にＯリン
グ７及び該Ｏリング７により押圧される筐体内壁面がエ
ッチングガスやエッチングにより生じる生成物にさらさ
れるため、エッチングガスによりＯリング７及び前記筐
体内壁面が腐食したり、あるいは生成物による異物がＯ
リング７及び前記筐体内壁面に堆積したりし、エッチン
グ等の処理時、真空処理室２と真空ポンプ３との隔離が
できなくなるという課題があった。
真空処理用バルブ装置においては、真空処理中にＯリン
グ７及び該Ｏリング７により押圧される筐体内壁面がエ
ッチングガスやエッチングにより生じる生成物にさらさ
れるため、エッチングガスによりＯリング７及び前記筐
体内壁面が腐食したり、あるいは生成物による異物がＯ
リング７及び前記筐体内壁面に堆積したりし、エッチン
グ等の処理時、真空処理室２と真空ポンプ３との隔離が
できなくなるという課題があった。
【０００５】本発明は上記事情を考慮してなされたもの
で、真空処理室側とポンプ側とを隔離する真空用シール
部材の他、少なくとも前記真空用シール部材により押圧
される筐体内壁面を前記通路に流れるガス，生成物より
保護する保護用シール部材を設けることにより、シール
部材により押圧される内壁面などが腐食したりあるいは
前記内壁面などに異物が堆積するのを防ぐことができる
真空処理用バルブ装置を提供することを目的とする。
で、真空処理室側とポンプ側とを隔離する真空用シール
部材の他、少なくとも前記真空用シール部材により押圧
される筐体内壁面を前記通路に流れるガス，生成物より
保護する保護用シール部材を設けることにより、シール
部材により押圧される内壁面などが腐食したりあるいは
前記内壁面などに異物が堆積するのを防ぐことができる
真空処理用バルブ装置を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、真空処理室と
この真空処理室を排気するためのポンプとの開閉を行う
真空処理用バルブ装置において、前記真空処理室とポン
プとを連通させる通路を有する筐体と、この筐体の通路
を開閉し、前記真空処理室とポンプとを連通させる貫通
穴を有する弁体と、前記真空処理室側とポンプ側とを隔
離する真空用シール部材と、少なくともこの真空用シー
ル部材により押圧される筐体内壁を前記通路に流れるガ
ス，生成物より保護する保護用シール部材とを具備する
ことを特徴とする真空処理用バルブ装置である。
この真空処理室を排気するためのポンプとの開閉を行う
真空処理用バルブ装置において、前記真空処理室とポン
プとを連通させる通路を有する筐体と、この筐体の通路
を開閉し、前記真空処理室とポンプとを連通させる貫通
穴を有する弁体と、前記真空処理室側とポンプ側とを隔
離する真空用シール部材と、少なくともこの真空用シー
ル部材により押圧される筐体内壁を前記通路に流れるガ
ス，生成物より保護する保護用シール部材とを具備する
ことを特徴とする真空処理用バルブ装置である。
【０００７】本発明において、ガスとはＡｌのエッチン
グ時に使用されるＣｌ2 ，ＢＣｌ3のガスやＳｉ系のエ
ッチング時に使用されるＣＦ4 ，ＮＦ3 のガスなどを意
味する。また、生成物とはエッチング時等に生じるＡｌ
Ｃｌx ，ＳｉＣｌx などを意味する。
グ時に使用されるＣｌ2 ，ＢＣｌ3のガスやＳｉ系のエ
ッチング時に使用されるＣＦ4 ，ＮＦ3 のガスなどを意
味する。また、生成物とはエッチング時等に生じるＡｌ
Ｃｌx ，ＳｉＣｌx などを意味する。
【０００８】本発明において、真空用シール部材及び保
護用シール部材としては夫々Ｏリングが挙げられ、かか
るＯリングを用いることにより、真空処理室とポンプと
の隔離、あるいは前記筐体の通路に流れるガス，生成物
から真空用シール部材により押圧される筐体内壁面を少
なくとも確実に保護することができる。
護用シール部材としては夫々Ｏリングが挙げられ、かか
るＯリングを用いることにより、真空処理室とポンプと
の隔離、あるいは前記筐体の通路に流れるガス，生成物
から真空用シール部材により押圧される筐体内壁面を少
なくとも確実に保護することができる。
【０００９】本発明において、前記保護用シール部材
は、真空用シール部材により押圧される筐体内壁を通路
に流れるガス，生成物より保護する場合と、前記筐体内
壁及び真空用シール部材を通路に流れるガス，生成物よ
り保護する場合との２つのケースで使用される。
は、真空用シール部材により押圧される筐体内壁を通路
に流れるガス，生成物より保護する場合と、前記筐体内
壁及び真空用シール部材を通路に流れるガス，生成物よ
り保護する場合との２つのケースで使用される。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例を図面を参
照して説明する。 （実施例１）図２（Ａ），（Ｂ）を参照する。ここで、
図２（Ａ）は本発明の実施例１に係る真空処理用バルブ
装置の断面図、図２（Ｂ）は同装置の一構成である弁体
の正面図を示す。
照して説明する。 （実施例１）図２（Ａ），（Ｂ）を参照する。ここで、
図２（Ａ）は本発明の実施例１に係る真空処理用バルブ
装置の断面図、図２（Ｂ）は同装置の一構成である弁体
の正面図を示す。
【００１１】図中の付番11は筐体であり、真空処理室12
とこの真空処理室12を排気するための真空ポンプ13とを
連通させる通路14を有している。前記筐体11と真空処理
室12，真空ポンプ13間は、各々のフリンジ15に図示しな
いボルト，ナット等を用いて気密に連結されている。前
記筐体11内には、前記通路14を開閉する円板状の弁体16
が移動可能に配置されている。この弁体16には、真空処
理室12と真空ポンプ13とを連通させる貫通穴17が開口さ
れている。前記弁体16の先端面でかつ前記貫通穴17の周
縁部には環状の第１凹部が形成され、この第１凹部に保
護用シール部材としての第１のＯリング18が設けられて
いる。この第１のＯリング18により、真空処理室側とポ
ンプ側を隔離する後述の第２のＯリングが押圧する内壁
が、通路14に流れるガス，生成物より保護される。
とこの真空処理室12を排気するための真空ポンプ13とを
連通させる通路14を有している。前記筐体11と真空処理
室12，真空ポンプ13間は、各々のフリンジ15に図示しな
いボルト，ナット等を用いて気密に連結されている。前
記筐体11内には、前記通路14を開閉する円板状の弁体16
が移動可能に配置されている。この弁体16には、真空処
理室12と真空ポンプ13とを連通させる貫通穴17が開口さ
れている。前記弁体16の先端面でかつ前記貫通穴17の周
縁部には環状の第１凹部が形成され、この第１凹部に保
護用シール部材としての第１のＯリング18が設けられて
いる。この第１のＯリング18により、真空処理室側とポ
ンプ側を隔離する後述の第２のＯリングが押圧する内壁
が、通路14に流れるガス，生成物より保護される。
【００１２】また、前記弁体16の先端面でかつ前記第１
凹部の近くには環状の第２凹部が形成され、この第２凹
部に真空用シール部材としての第２のＯリング19が設け
られている。この第２のＯリング19は、内壁に押圧され
ていることにより通路14に流れるガス，生成物より保護
される。前記弁体16には、該弁体16を駆動するシリンダ
ー20が連結されている。なお、図中の付番21は、筐体11
とシリンダー20の軸間をシールする第３のＯリングであ
る。
凹部の近くには環状の第２凹部が形成され、この第２凹
部に真空用シール部材としての第２のＯリング19が設け
られている。この第２のＯリング19は、内壁に押圧され
ていることにより通路14に流れるガス，生成物より保護
される。前記弁体16には、該弁体16を駆動するシリンダ
ー20が連結されている。なお、図中の付番21は、筐体11
とシリンダー20の軸間をシールする第３のＯリングであ
る。
【００１３】こうした構成の装置において、真空処理室
12を真空ポンプ13により排気するときは、弁体16の先端
面に取り付けた第１のＯリング18を筐体11の内壁に押圧
させながら、弁体16に開口した貫通穴17を介して筐体11
の通路14により真空処理室12を真空ポンプ13を連通させ
ることにより行う。また、真空処理室12と真空ポンプ13
間を隔離する時は、シリンダー20を駆動させて弁体16を
後退させ、弁体16を矢印Ｘ方向に半回転させた後、弁体
16の先端面に取り付けた第２のＯリング19を図３に示す
ように筐体11の内壁に押圧させることにより行う。
12を真空ポンプ13により排気するときは、弁体16の先端
面に取り付けた第１のＯリング18を筐体11の内壁に押圧
させながら、弁体16に開口した貫通穴17を介して筐体11
の通路14により真空処理室12を真空ポンプ13を連通させ
ることにより行う。また、真空処理室12と真空ポンプ13
間を隔離する時は、シリンダー20を駆動させて弁体16を
後退させ、弁体16を矢印Ｘ方向に半回転させた後、弁体
16の先端面に取り付けた第２のＯリング19を図３に示す
ように筐体11の内壁に押圧させることにより行う。
【００１４】上記実施例１によれば、排気時に真空用シ
ール部材としての第２のＯリング19が筐体11の内壁に押
圧されているため、第２のＯリング19がエッチングされ
たり異物が堆積することがない。また、真空処理室12と
真空ポンプ13間を隔離するとき、第２のＯリング19が押
圧する内壁側は、排気時には保護用シール部材としての
第１のＯリング18により押圧されているため、筐体11の
内壁面がエッチングされたり、異物が堆積することな
く、確実に真空処理室12と真空ポンプ13間を隔離するこ
とができる。
ール部材としての第２のＯリング19が筐体11の内壁に押
圧されているため、第２のＯリング19がエッチングされ
たり異物が堆積することがない。また、真空処理室12と
真空ポンプ13間を隔離するとき、第２のＯリング19が押
圧する内壁側は、排気時には保護用シール部材としての
第１のＯリング18により押圧されているため、筐体11の
内壁面がエッチングされたり、異物が堆積することな
く、確実に真空処理室12と真空ポンプ13間を隔離するこ
とができる。
【００１５】（実施例２）図４（Ａ），（Ｂ）を参照す
る。但し、図４（Ａ）は真空処理室を排気する時の状
態、図４（Ｂ）は真空処理室と真空ポンプ間を隔離する
時の状態を示す。なお、図２と同部材は同符号を付して
説明する。図４において、シリンダー20の移動方向に沿
う弁体16表面には環状の凹部が設けられ、この凹部に真
空用シール部材としての第１のＯリング41が埋め込まれ
ている。また、真空処理室を真空処理する時に弁体16と
対向する筐体11の内壁には凹部が設けられ、これら凹部
に保護用シール部材としての第２のＯリング42，43，44
が埋め込まれている。
る。但し、図４（Ａ）は真空処理室を排気する時の状
態、図４（Ｂ）は真空処理室と真空ポンプ間を隔離する
時の状態を示す。なお、図２と同部材は同符号を付して
説明する。図４において、シリンダー20の移動方向に沿
う弁体16表面には環状の凹部が設けられ、この凹部に真
空用シール部材としての第１のＯリング41が埋め込まれ
ている。また、真空処理室を真空処理する時に弁体16と
対向する筐体11の内壁には凹部が設けられ、これら凹部
に保護用シール部材としての第２のＯリング42，43，44
が埋め込まれている。
【００１６】こうした構成の装置において、第２のＯリ
ング42により第１のＯリング41を保護し、第２のＯリン
グ43，44により真空処理室と真空ポンプ間を隔離すると
き、第１のＯリング41が押圧する筐体11の内壁を保護す
る。従って、実施例２においては、実施例１と同様、真
空処理室12と真空ポンプ13間を確実に隔離することがで
きるとともに、第１のＯリング41及び該第１のＯリング
41が押圧する筐体11の内壁の両者を保護することができ
る。
ング42により第１のＯリング41を保護し、第２のＯリン
グ43，44により真空処理室と真空ポンプ間を隔離すると
き、第１のＯリング41が押圧する筐体11の内壁を保護す
る。従って、実施例２においては、実施例１と同様、真
空処理室12と真空ポンプ13間を確実に隔離することがで
きるとともに、第１のＯリング41及び該第１のＯリング
41が押圧する筐体11の内壁の両者を保護することができ
る。
【００１７】なお、上記実施例では、真空用シール部材
及び保護用シール部材としてＯリングを用いた場合につ
いて述べたが、これに限定されず、シールできる部材で
あれば何でもよい。また、弁体の構造も上記実施例のも
のに限定されない。
及び保護用シール部材としてＯリングを用いた場合につ
いて述べたが、これに限定されず、シールできる部材で
あれば何でもよい。また、弁体の構造も上記実施例のも
のに限定されない。
【００１８】
【発明の効果】以上詳述した如く本発明によれば、真空
処理室側とポンプ側とを隔離する真空用シール部材の
他、前記真空用シール部材により押圧される筐体内壁面
を少なくとも前記通路に流れるガス，生成物より保護す
る保護用シール部材を設けることにより、シール部材に
より押圧される内壁面などが腐食したりあるいは前記内
壁面などに異物が堆積するのを防ぐことができる真空処
理用バルブ装置を提供できる。
処理室側とポンプ側とを隔離する真空用シール部材の
他、前記真空用シール部材により押圧される筐体内壁面
を少なくとも前記通路に流れるガス，生成物より保護す
る保護用シール部材を設けることにより、シール部材に
より押圧される内壁面などが腐食したりあるいは前記内
壁面などに異物が堆積するのを防ぐことができる真空処
理用バルブ装置を提供できる。
【図１】従来の真空処理用バルブ装置の断面図。
【図２】本発明の実施例１に係る真空処理用バルブ装置
の説明図であり、図２（Ａ）は同装置の断面図、図２
（Ｂ）は同装置の一構成である弁体の正面図。
の説明図であり、図２（Ａ）は同装置の断面図、図２
（Ｂ）は同装置の一構成である弁体の正面図。
【図３】図２の真空処理用バルブ装置において、第２の
Ｏリングで真空処理室と真空ポンプを隔離した状態の説
明図。
Ｏリングで真空処理室と真空ポンプを隔離した状態の説
明図。
【図４】本発明の実施例２に係る真空処理用バルブ装置
の説明図であり、図４（Ａ）は真空処理室の排気時の状
態の断面図、図４（Ｂ）は真空処理室と真空ポンプと隔
離した状態の断面図。
の説明図であり、図４（Ａ）は真空処理室の排気時の状
態の断面図、図４（Ｂ）は真空処理室と真空ポンプと隔
離した状態の断面図。
11…筐体、 12…真空処理室、 13…真空バルブ、 14…通路、 16…弁体、 17…貫通穴、 18，41…第１のＯリング、 19，42〜44…第２のＯリング、 20…シリンダー。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｌ 21/205 Ｈ０１Ｌ 21/205 21/3065 21/302 Ｂ
Claims (2)
- 【請求項１】 真空処理室とこの真空処理室を排気する
ためのポンプとの開閉を行う真空処理用バルブ装置にお
いて、 前記真空処理室とポンプとを連通させる通路を有する筐
体と、この筐体の通路を開閉し、前記真空処理室とポン
プとを連通させる貫通穴を有する弁体と、前記真空処理
室側とポンプ側とを隔離する真空用シール部材と、少な
くともこの真空用シール部材により押圧される筐体内壁
を前記通路に流れるガス，生成物より保護する保護用シ
ール部材とを具備することを特徴とする真空処理用バル
ブ装置。 - 【請求項２】 前記真空用シール部材及び保護用シール
部材は、それぞれ弁体に取り付けられたＯリングである
ことを特徴とする請求項１記載の真空処理用バルブ装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34182896A JPH10183329A (ja) | 1996-12-20 | 1996-12-20 | 真空処理用バルブ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34182896A JPH10183329A (ja) | 1996-12-20 | 1996-12-20 | 真空処理用バルブ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10183329A true JPH10183329A (ja) | 1998-07-14 |
Family
ID=18349069
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34182896A Pending JPH10183329A (ja) | 1996-12-20 | 1996-12-20 | 真空処理用バルブ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10183329A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001262375A (ja) * | 2000-03-22 | 2001-09-26 | Shibaura Mechatronics Corp | ドライエッチング装置 |
| JP2007155005A (ja) * | 2005-12-05 | 2007-06-21 | Ulvac Japan Ltd | 真空用ゲ−トバルブ |
| JP2009188066A (ja) * | 2008-02-04 | 2009-08-20 | Applied Materials Inc | ゲートバルブ及び成膜システム |
| JP2010059465A (ja) * | 2008-09-03 | 2010-03-18 | Hitachi High-Technologies Corp | プラズマ処理装置 |
| JP2010114119A (ja) * | 2008-11-04 | 2010-05-20 | Covalent Materials Corp | 減圧排気弁及びこの減圧排気弁を含む減圧排気機構を用いた減圧装置 |
| JP2010203585A (ja) * | 2009-03-05 | 2010-09-16 | Smc Corp | 真空バルブ |
| CN108456856A (zh) * | 2017-02-22 | 2018-08-28 | 萨特隆股份公司 | 用于基材、特别是眼镜镜片的真空涂布的箱式涂布设备 |
| KR20210099337A (ko) * | 2020-02-04 | 2021-08-12 | 프리시스 주식회사 | 게이트 밸브 |
-
1996
- 1996-12-20 JP JP34182896A patent/JPH10183329A/ja active Pending
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