JPH10177851A - 真空容器 - Google Patents
真空容器Info
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- JPH10177851A JPH10177851A JP33841796A JP33841796A JPH10177851A JP H10177851 A JPH10177851 A JP H10177851A JP 33841796 A JP33841796 A JP 33841796A JP 33841796 A JP33841796 A JP 33841796A JP H10177851 A JPH10177851 A JP H10177851A
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/38—Exhausting, degassing, filling, or cleaning vessels
- H01J9/385—Exhausting vessels
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- H—ELECTRICITY
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- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/94—Selection of substances for gas fillings; Means for obtaining or maintaining the desired pressure within the tube, e.g. by gettering
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- H—ELECTRICITY
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- H01J2329/00—Electron emission display panels, e.g. field emission display panels
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)
- Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
- Common Detailed Techniques For Electron Tubes Or Discharge Tubes (AREA)
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 外囲器の全高を厚くすることなく、ゲッター
部材を配設できる。 【解決手段】 表示部をなす陽極電極１２が形成された
陽極基板１と、電界放射素子５が形成された陰極基板２
とを対向配置し、これら基板１，２の外周部を封着して
外囲器４が構成される。陰極基板２には、外囲器４内部
に連通する貫通穴１４が形成される。貫通穴１４内には
ゲッター部材１５が収納される。貫通穴１４が位置する
陰極基板２の外壁面には、外囲器４内を排気するための
排気管１６が設けられる。
部材を配設できる。 【解決手段】 表示部をなす陽極電極１２が形成された
陽極基板１と、電界放射素子５が形成された陰極基板２
とを対向配置し、これら基板１，２の外周部を封着して
外囲器４が構成される。陰極基板２には、外囲器４内部
に連通する貫通穴１４が形成される。貫通穴１４内には
ゲッター部材１５が収納される。貫通穴１４が位置する
陰極基板２の外壁面には、外囲器４内を排気するための
排気管１６が設けられる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、薄型に形成された
外囲器の内部に発生するガスをゲッターにより吸着して
高真空状態に気密保持された真空容器に関する。
外囲器の内部に発生するガスをゲッターにより吸着して
高真空状態に気密保持された真空容器に関する。
【０００２】
【従来の技術】内部が高真空状態に保持される真空容器
として、例えば電界放射形陰極を電子源とした電界放射
形表示装置（以下、ＦＥＤという）が知られている。こ
のＦＥＤは、蛍光体層を有する表示部を備えた陽極基板
と、陽極基板の表示部と対面する内面側に電界放射形陰
極を備えた陰極基板とを、所定のギャップを隔てて外周
部で封止することにより外囲器が構成されている。
として、例えば電界放射形陰極を電子源とした電界放射
形表示装置（以下、ＦＥＤという）が知られている。こ
のＦＥＤは、蛍光体層を有する表示部を備えた陽極基板
と、陽極基板の表示部と対面する内面側に電界放射形陰
極を備えた陰極基板とを、所定のギャップを隔てて外周
部で封止することにより外囲器が構成されている。
【０００３】この種のＦＥＤは、細かいドットピッチで
表示部が形成される陽極基板と、電界放射形陰極の形成
される陰極基板がいずれも薄いガラス板（例えば厚さ
２．５ｍｍ）で構成され、両基板間のギャップも例えば
０．２ｍｍと極めて狭く薄型に構成されている。
表示部が形成される陽極基板と、電界放射形陰極の形成
される陰極基板がいずれも薄いガラス板（例えば厚さ
２．５ｍｍ）で構成され、両基板間のギャップも例えば
０．２ｍｍと極めて狭く薄型に構成されている。
【０００４】ところで、この種のＦＥＤを表示装置とし
て機能させるためには、電界放射形陰極より効率的に電
子が放出されるように、陽極基板と陰極基板とで構成さ
れる外囲器内を高真空状態に保持する必要がある。
て機能させるためには、電界放射形陰極より効率的に電
子が放出されるように、陽極基板と陰極基板とで構成さ
れる外囲器内を高真空状態に保持する必要がある。
【０００５】そこで、外囲器内の排気を行って外囲器内
を例えば１０-6Ｔｏｒｒの真空状態に保持し、更に外囲
器内の残留ガスをゲッター部材により吸着させて例えば
１０ -7Ｔｏｒｒの高真空状態に保持している。
を例えば１０-6Ｔｏｒｒの真空状態に保持し、更に外囲
器内の残留ガスをゲッター部材により吸着させて例えば
１０ -7Ｔｏｒｒの高真空状態に保持している。
【０００６】しかしながら、ＦＥＤは、上述したよう
に、陽極基板と陰極基板との間のギャップが狭く、外囲
器自体が極めて薄型に構成されるので、外囲器内の残留
ガスを吸着するためのゲッター部材を外囲器内に設ける
ことができなかった。
に、陽極基板と陰極基板との間のギャップが狭く、外囲
器自体が極めて薄型に構成されるので、外囲器内の残留
ガスを吸着するためのゲッター部材を外囲器内に設ける
ことができなかった。
【０００７】そこで、従来のＦＥＤでは、図１２又は図
１３に示すように、外囲器の外側に箱状のゲッターボッ
クスを別途設け、このゲッターボックス内に蒸着により
ゲッター膜を形成させていた。
１３に示すように、外囲器の外側に箱状のゲッターボッ
クスを別途設け、このゲッターボックス内に蒸着により
ゲッター膜を形成させていた。
【０００８】更に説明すると、ＦＥＤの外囲器５１は、
内面に陽極導体と蛍光体層からなる表示部が形成された
陽極基板５２と、内面に電界放射形陰極が形成された陰
極基板５３とが、面方向に位置をずらして対面してその
外周部分に例えば低融点ガラス等の接着剤からなるスペ
ーサ部材５４を介して固着されている。
内面に陽極導体と蛍光体層からなる表示部が形成された
陽極基板５２と、内面に電界放射形陰極が形成された陰
極基板５３とが、面方向に位置をずらして対面してその
外周部分に例えば低融点ガラス等の接着剤からなるスペ
ーサ部材５４を介して固着されている。
【０００９】外囲器５１の側面部は一部が除去されてお
り、外囲器５１の側面には内部に連通する排気孔５５が
形成されている。この排気孔５５に近接した陽極基板５
２の非対面部分及び外囲器５１の側面には、ゲッターボ
ックス５６が固着され、排気孔５５に連通するゲッター
室５７が形成されている。
り、外囲器５１の側面には内部に連通する排気孔５５が
形成されている。この排気孔５５に近接した陽極基板５
２の非対面部分及び外囲器５１の側面には、ゲッターボ
ックス５６が固着され、排気孔５５に連通するゲッター
室５７が形成されている。
【００１０】ゲッターボックス５６には排気孔５５に連
通して貫通穴５８が形成されている。図１２に示すＦＥ
Ｄにおいて、貫通穴５８が形成されたゲッターボックス
５６の陰極基板５３側の外壁面には、外囲器５１内を排
気するための排気管５９が設けられている。尚、図１３
に示すＦＥＤでは、排気管５９に代えて板状の金属蓋６
０が設けられている。
通して貫通穴５８が形成されている。図１２に示すＦＥ
Ｄにおいて、貫通穴５８が形成されたゲッターボックス
５６の陰極基板５３側の外壁面には、外囲器５１内を排
気するための排気管５９が設けられている。尚、図１３
に示すＦＥＤでは、排気管５９に代えて板状の金属蓋６
０が設けられている。
【００１１】ゲッターボックス５６内にはゲッター部材
６１が設けられており、このゲッター部材６１の加熱に
よりゲッター室５７の壁面にゲッター膜が形成されてい
る。そして、外囲器５１内の残留ガスをゲッター膜に吸
着させて外囲器５１内を例えば例えば１０-7Ｔｏｒｒの
高真空状態に保持している。
６１が設けられており、このゲッター部材６１の加熱に
よりゲッター室５７の壁面にゲッター膜が形成されてい
る。そして、外囲器５１内の残留ガスをゲッター膜に吸
着させて外囲器５１内を例えば例えば１０-7Ｔｏｒｒの
高真空状態に保持している。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】このように、図１２及
び図１３に示す従来のＦＥＤは、外囲器５１を構成する
陰極基板５３の外側に突出してゲッターボックス５６が
別途設けられており、ゲッターボックス５６が配設され
た部分の厚みが増すので、外囲器５１の全高が厚くな
り、ＦＥＤの薄型のメリットが生かしきれないという問
題があった。具体的には、厚さ２．５ｍｍの外囲器５１
に対し、ゲッターボックス５６部分の厚さは７ｍｍに設
定されている。
び図１３に示す従来のＦＥＤは、外囲器５１を構成する
陰極基板５３の外側に突出してゲッターボックス５６が
別途設けられており、ゲッターボックス５６が配設され
た部分の厚みが増すので、外囲器５１の全高が厚くな
り、ＦＥＤの薄型のメリットが生かしきれないという問
題があった。具体的には、厚さ２．５ｍｍの外囲器５１
に対し、ゲッターボックス５６部分の厚さは７ｍｍに設
定されている。
【００１３】又、ゲッターボックス５６は、外囲器５１
の排気孔５５と連通した密閉空間を形成するように、段
差のある陽極基板５２と陰極基板５３に渡って固設され
るので、形状が複雑となり、製作上での加工が難しく、
コスト面でも高くなるという問題があった。
の排気孔５５と連通した密閉空間を形成するように、段
差のある陽極基板５２と陰極基板５３に渡って固設され
るので、形状が複雑となり、製作上での加工が難しく、
コスト面でも高くなるという問題があった。
【００１４】更に、外囲器５１内を排気する際、外囲器
５１内のガスは排気孔５５を通った後、外囲器５１から
突出して設けられたゲッターボックス５６を経由して排
気されるので、ゲッターボックス５６がある分だけ排気
経路も長く、このため、排気抵抗が大きくなり、所要の
真空度を得るまで排気に時間がかかるという問題があっ
た。
５１内のガスは排気孔５５を通った後、外囲器５１から
突出して設けられたゲッターボックス５６を経由して排
気されるので、ゲッターボックス５６がある分だけ排気
経路も長く、このため、排気抵抗が大きくなり、所要の
真空度を得るまで排気に時間がかかるという問題があっ
た。
【００１５】そこで、本発明は、上記問題点に鑑みてな
されたものであり、外囲器の全高を厚くすることなく、
ゲッターを配設でき、従来のような面倒な加工を必要と
せずコストの低減も図れ、排気抵抗を小さくして排気時
間を短縮できる真空容器を提供することを目的としてい
る。
されたものであり、外囲器の全高を厚くすることなく、
ゲッターを配設でき、従来のような面倒な加工を必要と
せずコストの低減も図れ、排気抵抗を小さくして排気時
間を短縮できる真空容器を提供することを目的としてい
る。
【００１６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１の発明は、対向配置された２枚の基板の外
周部を封着して内部が高真空状態に気密保持された真空
容器において、前記基板の何れか一方には容器内部に連
通した貫通穴が形成され、該貫通穴内にゲッター部材の
少なくとも一部が収納されて前記貫通穴が封止されたこ
とを特徴としている。
め、請求項１の発明は、対向配置された２枚の基板の外
周部を封着して内部が高真空状態に気密保持された真空
容器において、前記基板の何れか一方には容器内部に連
通した貫通穴が形成され、該貫通穴内にゲッター部材の
少なくとも一部が収納されて前記貫通穴が封止されたこ
とを特徴としている。
【００１７】請求項２の発明は、対向配置された２枚の
基板の外周部を封着して内部が高真空状態に気密保持さ
れ、前記外周部の一部に容器内部に連通する貫通穴が形
成された真空容器において、前記２枚の基板の少なくと
も一方側に非対面部分が形成され、該非対面部分には前
記貫通穴を介して容器内部に連通する貫通部を有する前
記基板と略同一厚さの板部材が配設され、前記貫通部内
にゲッター部材の少なくとも一部が収納されて前記貫通
部が封止されたことを特徴としている。
基板の外周部を封着して内部が高真空状態に気密保持さ
れ、前記外周部の一部に容器内部に連通する貫通穴が形
成された真空容器において、前記２枚の基板の少なくと
も一方側に非対面部分が形成され、該非対面部分には前
記貫通穴を介して容器内部に連通する貫通部を有する前
記基板と略同一厚さの板部材が配設され、前記貫通部内
にゲッター部材の少なくとも一部が収納されて前記貫通
部が封止されたことを特徴としている。
【００１８】請求項３の発明は、請求項１の真空容器に
おいて、前記貫通穴は容器内部を排気するための排気孔
を兼ね、前記貫通穴上には排気管又は蓋部材が設けられ
ることを特徴としている。
おいて、前記貫通穴は容器内部を排気するための排気孔
を兼ね、前記貫通穴上には排気管又は蓋部材が設けられ
ることを特徴としている。
【００１９】請求項４の発明は、請求項２の真空容器に
おいて、前記貫通部は一側面が開口した切欠き又は貫通
穴からなることを特徴としている。
おいて、前記貫通部は一側面が開口した切欠き又は貫通
穴からなることを特徴としている。
【００２０】請求項５の発明は、請求項４の真空容器に
おいて、前記貫通部は容器内部を排気するための排気孔
を兼ね、前記貫通部上には排気管又は蓋部材が設けられ
ることを特徴としている。
おいて、前記貫通部は容器内部を排気するための排気孔
を兼ね、前記貫通部上には排気管又は蓋部材が設けられ
ることを特徴としている。
【００２１】
【発明の実施の形態】図１は真空容器をなすＦＥＤの一
般的構成を示す部分断面図である。まず、各実施の形態
の構成が適用される真空容器としてＦＥＤの構成を図１
に基いて説明する。
般的構成を示す部分断面図である。まず、各実施の形態
の構成が適用される真空容器としてＦＥＤの構成を図１
に基いて説明する。
【００２２】図１に示すように、ＦＥＤは、絶縁性及び
透光性を有する陽極基板１と、絶縁性を有する陰極基板
２とが、例えば低融点ガラス等の接着剤からなる絶縁性
のスペーサ部材３を介して一体に封着された薄い箱形の
外囲器４を構成している。両基板１，２間のギャップは
例えば０．２ｍｍ程度に設定されている。
透光性を有する陽極基板１と、絶縁性を有する陰極基板
２とが、例えば低融点ガラス等の接着剤からなる絶縁性
のスペーサ部材３を介して一体に封着された薄い箱形の
外囲器４を構成している。両基板１，２間のギャップは
例えば０．２ｍｍ程度に設定されている。
【００２３】外囲器４内の陽極基板１と対面する陰極基
板２上には、表示部の電子源として縦型の電界放射素子
（電界放射形陰極）５が形成されている。電界放射素子
５は、陰極基板２の内面に形成された陰極電極６と、陰
極電極６上に形成された抵抗層７と、抵抗層７上に形成
された酸化シリコン等の絶縁層８と、絶縁層８上に形成
されたゲート電極９と、隣接する絶縁層８とゲート電極
９との間に形成されたホール１０内の抵抗層７上に設け
られたコーン形状のエミッタ１１を有している。尚、Ｆ
ＥＤとして抵抗層７の無いものもある。
板２上には、表示部の電子源として縦型の電界放射素子
（電界放射形陰極）５が形成されている。電界放射素子
５は、陰極基板２の内面に形成された陰極電極６と、陰
極電極６上に形成された抵抗層７と、抵抗層７上に形成
された酸化シリコン等の絶縁層８と、絶縁層８上に形成
されたゲート電極９と、隣接する絶縁層８とゲート電極
９との間に形成されたホール１０内の抵抗層７上に設け
られたコーン形状のエミッタ１１を有している。尚、Ｆ
ＥＤとして抵抗層７の無いものもある。
【００２４】外囲器４内の陽極基板１の内面には、電界
放射素子５と対面する位置に、表示部をなす陽極電極１
２が形成されている。陽極電極１２は、陽極基板１上に
設けられた透光性の陽極導体１２ａと、陽極導体１２ａ
上に設けられた蛍光体層１２ｂからなる。
放射素子５と対面する位置に、表示部をなす陽極電極１
２が形成されている。陽極電極１２は、陽極基板１上に
設けられた透光性の陽極導体１２ａと、陽極導体１２ａ
上に設けられた蛍光体層１２ｂからなる。
【００２５】そして、このＦＥＤでは、電界放射素子５
から電子が放出されると、この電子が陽極電極１２の蛍
光体層１２ｂに射突して励起発光する。このときの発光
は陽極導体１２ａと透光性の陽極基板１を介して観察さ
れる。
から電子が放出されると、この電子が陽極電極１２の蛍
光体層１２ｂに射突して励起発光する。このときの発光
は陽極導体１２ａと透光性の陽極基板１を介して観察さ
れる。
【００２６】図２は本発明による真空容器の第１実施の
形態を示す図である。陰極基板２の一端部（図示の例で
は、右側端部）には、外囲器４の内部に連通して例えば
円形の貫通穴１４が形成されている。貫通穴１４内に
は、外囲器４内の残留ガスを吸着するリング形状のゲッ
ター部材１５が収納され、陰極基板２の板厚内に納めら
れる。
形態を示す図である。陰極基板２の一端部（図示の例で
は、右側端部）には、外囲器４の内部に連通して例えば
円形の貫通穴１４が形成されている。貫通穴１４内に
は、外囲器４内の残留ガスを吸着するリング形状のゲッ
ター部材１５が収納され、陰極基板２の板厚内に納めら
れる。
【００２７】このように、貫通穴１４は、ゲッター部材
１５を収納するためのゲッター室を形成している。貫通
穴１４が位置する陰極基板２の外壁面には排気管１６が
設けられている。尚、貫通穴１４は円形に限らず、他の
形状であってもよい。
１５を収納するためのゲッター室を形成している。貫通
穴１４が位置する陰極基板２の外壁面には排気管１６が
設けられている。尚、貫通穴１４は円形に限らず、他の
形状であってもよい。
【００２８】ゲッター部材１５は、例えば板バネ部材か
らなるゲッター支持具１７により陽極基板１及び排気管
１６に固定支持されている。尚、貫通穴１４は、外囲器
４内のガスを排気管１６より排気する際の排気孔として
の役目も兼ねている。
らなるゲッター支持具１７により陽極基板１及び排気管
１６に固定支持されている。尚、貫通穴１４は、外囲器
４内のガスを排気管１６より排気する際の排気孔として
の役目も兼ねている。
【００２９】次に、図３は本発明による真空容器の第２
実施の形態を示す図である。第２実施の形態は、第１実
施の形態における排気管１６に代え、排気後に貫通穴１
４を覆って塞ぐようにガラス板又は金属板からなる蓋部
材１８が設けられている。
実施の形態を示す図である。第２実施の形態は、第１実
施の形態における排気管１６に代え、排気後に貫通穴１
４を覆って塞ぐようにガラス板又は金属板からなる蓋部
材１８が設けられている。
【００３０】又、貫通穴１４内に収納されるゲッター部
材１５は、ゲッター支持具１７により陽極基板１に固定
支持されている。その他の構成については、第１実施の
形態と同一である。この第２実施の形態によれば、第１
実施の形態に比べ、ゲッター部材１５が収納される部分
の厚さが薄くなり、真空容器全体を薄型化することがで
きる。
材１５は、ゲッター支持具１７により陽極基板１に固定
支持されている。その他の構成については、第１実施の
形態と同一である。この第２実施の形態によれば、第１
実施の形態に比べ、ゲッター部材１５が収納される部分
の厚さが薄くなり、真空容器全体を薄型化することがで
きる。
【００３１】次に、図４及び図５は本発明による真空容
器の第３実施の形態を示す図である。第３実施の形態で
は、外囲器４の内部に連通する貫通穴１４が陰極基板２
の複数箇所に形成されている。図示の例では、貫通穴１
４が陰極基板２の四隅に形成されている。
器の第３実施の形態を示す図である。第３実施の形態で
は、外囲器４の内部に連通する貫通穴１４が陰極基板２
の複数箇所に形成されている。図示の例では、貫通穴１
４が陰極基板２の四隅に形成されている。
【００３２】この第３実施の形態では、図５に示すよう
に、陰極基板２上の対称に位置する左上と右下の貫通穴
１４Ａ内にそれぞれゲッター部材１５が収納されてい
る。各ゲッター部材１５は、ゲッター支持具１７により
陽極基板１に固定支持されている。貫通穴１４Ａが位置
する陰極基板２の外壁面には、貫通穴１４Ａを覆って塞
ぐように蓋部材１８Ａが設けられている。
に、陰極基板２上の対称に位置する左上と右下の貫通穴
１４Ａ内にそれぞれゲッター部材１５が収納されてい
る。各ゲッター部材１５は、ゲッター支持具１７により
陽極基板１に固定支持されている。貫通穴１４Ａが位置
する陰極基板２の外壁面には、貫通穴１４Ａを覆って塞
ぐように蓋部材１８Ａが設けられている。
【００３３】又、図５に示すように、陰極基板２上の対
称に位置する左下と右上の貫通穴１４Ｂは、外囲器４内
のガスを排気する際の排気孔として機能している。これ
らの貫通穴１４Ｂには、排気後に蓋部材１８Ｂが固着さ
れる。そして、排気孔として機能する貫通穴１４Ｂを複
数設けることにより、排気効率を向上させることができ
る。
称に位置する左下と右上の貫通穴１４Ｂは、外囲器４内
のガスを排気する際の排気孔として機能している。これ
らの貫通穴１４Ｂには、排気後に蓋部材１８Ｂが固着さ
れる。そして、排気孔として機能する貫通穴１４Ｂを複
数設けることにより、排気効率を向上させることができ
る。
【００３４】尚、上記第３実施の形態では、陰極基板２
の四隅に形成された貫通穴１４を、ゲッター部材１５の
収納するための貫通穴１４Ａと、排気孔として機能する
貫通穴１４Ｂとに分けて使用しているが、貫通穴１４
は、例えば外囲器４のサイズに応じて１箇所又は複数箇
所に設けることができる。
の四隅に形成された貫通穴１４を、ゲッター部材１５の
収納するための貫通穴１４Ａと、排気孔として機能する
貫通穴１４Ｂとに分けて使用しているが、貫通穴１４
は、例えば外囲器４のサイズに応じて１箇所又は複数箇
所に設けることができる。
【００３５】又、ゲッター部材１５は、貫通穴１４の１
箇所のみに収納する他、排気孔として機能する貫通穴１
４Ｂに収納してもよい。更に、図示の例では、排気孔と
して機能する貫通穴１４Ｂに蓋部材１８Ｂが固着されて
いるが、蓋部材１８Ｂに代えて排気管を設ける構成とし
てもよい。
箇所のみに収納する他、排気孔として機能する貫通穴１
４Ｂに収納してもよい。更に、図示の例では、排気孔と
して機能する貫通穴１４Ｂに蓋部材１８Ｂが固着されて
いるが、蓋部材１８Ｂに代えて排気管を設ける構成とし
てもよい。
【００３６】次に、図６は本発明による真空容器の第４
実施の形態を示す図である。第４実施の形態は、第２実
施の形態の変形例であり、蓋部材１８に貫通穴１４に連
通する貫通穴１８ａが形成され、蓋部材１８には排気管
１６が設けられている。その他の構成については、第２
実施の形態と同一である。
実施の形態を示す図である。第４実施の形態は、第２実
施の形態の変形例であり、蓋部材１８に貫通穴１４に連
通する貫通穴１８ａが形成され、蓋部材１８には排気管
１６が設けられている。その他の構成については、第２
実施の形態と同一である。
【００３７】次に、図７及び図８は本発明による真空容
器の第５実施の形態を示す図である。第５実施の形態で
は、陽極基板１が陰極基板２よりも幅広縦長に形成され
ており、陽極基板１上に非対面部分１ａを有して外周部
がスペーサ部材３により封着されている。スペーサ部材
３の一部には、外囲器４の内部に連通する貫通穴１９が
形成されている。
器の第５実施の形態を示す図である。第５実施の形態で
は、陽極基板１が陰極基板２よりも幅広縦長に形成され
ており、陽極基板１上に非対面部分１ａを有して外周部
がスペーサ部材３により封着されている。スペーサ部材
３の一部には、外囲器４の内部に連通する貫通穴１９が
形成されている。
【００３８】陽極基板１上の非対面部分１ａには、板部
材２０が固設されている。板部材２０は、例えば外囲器
４を構成する各基板１，２と同様のガラス部材からな
り、陰極基板２と略同一厚さに設定されている。板部材
２０は、一側面に開口した円弧状の切欠き部２０ａが形
成されている。
材２０が固設されている。板部材２０は、例えば外囲器
４を構成する各基板１，２と同様のガラス部材からな
り、陰極基板２と略同一厚さに設定されている。板部材
２０は、一側面に開口した円弧状の切欠き部２０ａが形
成されている。
【００３９】板部材２０は、切欠き部２０ａにより貫通
穴１９に連通した弓状の空間部２１を形成するように、
開口側平坦面２０ｂが陰極基板２及びスペーサ部材３の
側端面に当接し密着した状態で陽極基板１上に接着剤に
より固着される。空間部２１内には、外囲器４内の残留
ガスを吸着するリング形状のゲッター部材１５が２個並
設して収納されている。
穴１９に連通した弓状の空間部２１を形成するように、
開口側平坦面２０ｂが陰極基板２及びスペーサ部材３の
側端面に当接し密着した状態で陽極基板１上に接着剤に
より固着される。空間部２１内には、外囲器４内の残留
ガスを吸着するリング形状のゲッター部材１５が２個並
設して収納されている。
【００４０】空間部２１が形成された部分の陰極基板２
及び板部材２０上には、空間部２１を覆って塞ぐように
蓋部材１８が設けられる。ゲッター部材１５は、ゲッタ
ー支持具１７により陽極基板１及び蓋部材１８に固定支
持されている。
及び板部材２０上には、空間部２１を覆って塞ぐように
蓋部材１８が設けられる。ゲッター部材１５は、ゲッタ
ー支持具１７により陽極基板１及び蓋部材１８に固定支
持されている。
【００４１】次に、図９は本発明による真空容器の第６
実施の形態を示す図である。第６実施の形態は、第５実
施の形態における蓋部材１８に空間部２１に連通する貫
通穴１８ａが形成されており、蓋部材１８上に排気管１
６が設けられている。その他の構成については、第５実
施の形態と同一である。
実施の形態を示す図である。第６実施の形態は、第５実
施の形態における蓋部材１８に空間部２１に連通する貫
通穴１８ａが形成されており、蓋部材１８上に排気管１
６が設けられている。その他の構成については、第５実
施の形態と同一である。
【００４２】次に、図１０は本発明による真空容器の第
７実施の形態を示す図である。第７実施の形態では、陰
極基板２の角部分が三角形状（図示の例では、直角二等
辺三角形）に切除されており、陽極基板１上に非対面部
分１ａを形成している。スペーサ部材３は、陰極基板２
の外周に沿って枠状に設けられ、陰極基板２の切除部分
に外囲器４の内部に連通する三角形状の穴２２を形成し
ている。
７実施の形態を示す図である。第７実施の形態では、陰
極基板２の角部分が三角形状（図示の例では、直角二等
辺三角形）に切除されており、陽極基板１上に非対面部
分１ａを形成している。スペーサ部材３は、陰極基板２
の外周に沿って枠状に設けられ、陰極基板２の切除部分
に外囲器４の内部に連通する三角形状の穴２２を形成し
ている。
【００４３】陰極基板２の切除された部分のスペーサ部
材３上には、陰極基板２の切除面２ａに当接して三角形
状（図示の例では、直角二等辺三角形）の板部材２３が
固設されている。板部材２３は、例えば外囲器４を構成
する各基板１，２と同様のガラス部材からなり、陰極基
板２と略同一厚さに設定されている。板部材２３には、
一側面に開口したＵ字状の切欠き部２３ａが形成されて
いる。
材３上には、陰極基板２の切除面２ａに当接して三角形
状（図示の例では、直角二等辺三角形）の板部材２３が
固設されている。板部材２３は、例えば外囲器４を構成
する各基板１，２と同様のガラス部材からなり、陰極基
板２と略同一厚さに設定されている。板部材２３には、
一側面に開口したＵ字状の切欠き部２３ａが形成されて
いる。
【００４４】板部材２３は、切欠き部２３ａにより穴２
２に連通する空間部を形成するようように、斜辺部２３
ｂが陰極基板２の切除面２ａに当接し密着した状態でス
ペーサ部材３上に固着される。前記空間部内には、外囲
器４内の残留ガスを吸着するリング形状のゲッター部材
１５が収納される。
２に連通する空間部を形成するようように、斜辺部２３
ｂが陰極基板２の切除面２ａに当接し密着した状態でス
ペーサ部材３上に固着される。前記空間部内には、外囲
器４内の残留ガスを吸着するリング形状のゲッター部材
１５が収納される。
【００４５】空間部が形成された部分の陰極基板２及び
板部材２３上には、空間部を覆って塞ぐように蓋部材１
８が設けられる。ゲッター部材１５は、ゲッター支持具
１７により陽極基板１及び蓋部材１８に固定支持されて
いる。
板部材２３上には、空間部を覆って塞ぐように蓋部材１
８が設けられる。ゲッター部材１５は、ゲッター支持具
１７により陽極基板１及び蓋部材１８に固定支持されて
いる。
【００４６】次に、図１１は本発明による真空容器の第
８実施の形態を示す図である。第８実施の形態は、第７
実施の形態における三角形状の板部材２３の切欠き部２
３ａに収納されるゲッター部材１５として通電ゲッター
が用いられている。そして、ゲッター部材１５の電極１
５ａは、スペーサ部材３を介して外囲器４の外まで引き
出されて不図示の電源に接続され、外部電源によって通
電される。その他の構成については、第７実施の形態と
同一である。
８実施の形態を示す図である。第８実施の形態は、第７
実施の形態における三角形状の板部材２３の切欠き部２
３ａに収納されるゲッター部材１５として通電ゲッター
が用いられている。そして、ゲッター部材１５の電極１
５ａは、スペーサ部材３を介して外囲器４の外まで引き
出されて不図示の電源に接続され、外部電源によって通
電される。その他の構成については、第７実施の形態と
同一である。
【００４７】したがって、第１乃至第４実施の形態の構
成によれば、陰極基板２に外囲器４内部に連通する貫通
穴１４を形成し、この貫通穴１４内にゲッター部材１５
を収納しているので、外囲器の厚さを厚くすることな
く、ゲッター部材を陰極基板２の板厚内で収納すること
ができる。
成によれば、陰極基板２に外囲器４内部に連通する貫通
穴１４を形成し、この貫通穴１４内にゲッター部材１５
を収納しているので、外囲器の厚さを厚くすることな
く、ゲッター部材を陰極基板２の板厚内で収納すること
ができる。
【００４８】又、第５乃至第８実施の形態の構成によれ
ば、陽極基板１上に陰極基板２との非対面部分１ａを形
成し、陰極基板２とほぼ同一厚さを有して外囲器４とは
別体に構成された板部材２０（２３）にゲッター部材１
５を収納するための切欠き部２０ａ（２３ａ）を形成
し、切欠き部２０ａ（２３ａ）が空間部２１に連通する
ように非対面部分１ａ上に板部材２０（２３）を固設す
る構成なので、第１乃至第４実施の形態と同様に、外囲
器の厚さを厚くすることなく、ゲッター部材を切欠き部
２０ａ（２３ａ）内に収納することができる。
ば、陽極基板１上に陰極基板２との非対面部分１ａを形
成し、陰極基板２とほぼ同一厚さを有して外囲器４とは
別体に構成された板部材２０（２３）にゲッター部材１
５を収納するための切欠き部２０ａ（２３ａ）を形成
し、切欠き部２０ａ（２３ａ）が空間部２１に連通する
ように非対面部分１ａ上に板部材２０（２３）を固設す
る構成なので、第１乃至第４実施の形態と同様に、外囲
器の厚さを厚くすることなく、ゲッター部材を切欠き部
２０ａ（２３ａ）内に収納することができる。
【００４９】そして、従来のような外囲器の外側に突出
して設けられるゲッターボックスが不要となるため、真
空容器自体の薄型、軽量化が図れ、応用製品の薄型化が
可能となる。又、従来に比べて材料費、輸送コストが低
減できる。更に、従来のようなゲッターボックスが不要
な分だけ従来に比べて排気経路を短くできるので、排気
抵抗が小さくなり、特性の向上が期待できる。
して設けられるゲッターボックスが不要となるため、真
空容器自体の薄型、軽量化が図れ、応用製品の薄型化が
可能となる。又、従来に比べて材料費、輸送コストが低
減できる。更に、従来のようなゲッターボックスが不要
な分だけ従来に比べて排気経路を短くできるので、排気
抵抗が小さくなり、特性の向上が期待できる。
【００５０】又、特に第５乃至第８実施の形態の構成に
よれば、陽極基板１や陰極基板２に直接ガラス加工を行
わずに、別のガラス部材からなる板部材２０（２３）に
ゲッター部材１５を収納する切欠き部２０ａ（２３ａ）
を設け、この切欠き部２０ａ（２３ａ）を外囲器４の内
部と空間的に連結でき、電極等が配設された基板を汚さ
ないという利点がある。具体的には、加工時のガラス粉
末がゴミとなり、基板上に電極を印刷形成する際に、ガ
ラス粉末によるゴミがマスクを浮かせて絶縁不良を起こ
すことがない。
よれば、陽極基板１や陰極基板２に直接ガラス加工を行
わずに、別のガラス部材からなる板部材２０（２３）に
ゲッター部材１５を収納する切欠き部２０ａ（２３ａ）
を設け、この切欠き部２０ａ（２３ａ）を外囲器４の内
部と空間的に連結でき、電極等が配設された基板を汚さ
ないという利点がある。具体的には、加工時のガラス粉
末がゴミとなり、基板上に電極を印刷形成する際に、ガ
ラス粉末によるゴミがマスクを浮かせて絶縁不良を起こ
すことがない。
【００５１】尚、外囲器４内の残留ガスを吸着するゲッ
ター部材１５は、例えばＴｉ−Ｚｒ−Ａｌ，Ｔｉ−Ｚｒ
−Ｖ−Ｆｅ合金等による非蒸発型の材料によるもの、例
えばＢａ−Ａｉ等による蒸発型の材料によるものを適宜
選択して用いる他、非蒸発型の材料と蒸発型の材料によ
るものを兼用して用いてもよい。
ター部材１５は、例えばＴｉ−Ｚｒ−Ａｌ，Ｔｉ−Ｚｒ
−Ｖ−Ｆｅ合金等による非蒸発型の材料によるもの、例
えばＢａ−Ａｉ等による蒸発型の材料によるものを適宜
選択して用いる他、非蒸発型の材料と蒸発型の材料によ
るものを兼用して用いてもよい。
【００５２】ところで、上述した各実施の形態では、ゲ
ッター部材１５が収納されるゲッター室を陰極基板２側
に設けた構成としたが、陽極基板１側に設ける構成とし
てもよい。又、１つのゲッター室に収納されるゲッター
部材１５の数も、その大きさによって１個に限らず複数
個収納するようにしてもよい。更に、図示の例では、ゲ
ッター部材１５をリング形状としているが、収納可能な
形状であれば、例えば棒状等その形状は問わない。
ッター部材１５が収納されるゲッター室を陰極基板２側
に設けた構成としたが、陽極基板１側に設ける構成とし
てもよい。又、１つのゲッター室に収納されるゲッター
部材１５の数も、その大きさによって１個に限らず複数
個収納するようにしてもよい。更に、図示の例では、ゲ
ッター部材１５をリング形状としているが、収納可能な
形状であれば、例えば棒状等その形状は問わない。
【００５３】第５乃至第８実施の形態における板部材２
０，２３は、ゲッター部材１５が収納される部分を一側
面が開口した切欠き部２０ａ，２３ａで形成したが、外
囲器４の内部に連通する貫通穴で形成してもよい。
０，２３は、ゲッター部材１５が収納される部分を一側
面が開口した切欠き部２０ａ，２３ａで形成したが、外
囲器４の内部に連通する貫通穴で形成してもよい。
【００５４】又、図示の例では、ゲッター部材１５の厚
さが外囲器４を構成する基板１，２よりも薄い場合で説
明したが、ゲッター部材１５の厚さが基板１，２より厚
い場合や、ゲッター部材を飛散させてゲッター膜を形成
する空間を確保する場合には、箱状の蓋部材が用いられ
る。例えば図２や図３の構成では、蓋部材が貫通穴１４
に臨んで外囲器４の外側に設けられる。これにより、貫
通穴１４に加え、蓋部材の空間をゲッター部材１５やゲ
ッター膜を形成するためのスペースとして利用でき、使
用される蓋部材も従来に比べて薄くできる。
さが外囲器４を構成する基板１，２よりも薄い場合で説
明したが、ゲッター部材１５の厚さが基板１，２より厚
い場合や、ゲッター部材を飛散させてゲッター膜を形成
する空間を確保する場合には、箱状の蓋部材が用いられ
る。例えば図２や図３の構成では、蓋部材が貫通穴１４
に臨んで外囲器４の外側に設けられる。これにより、貫
通穴１４に加え、蓋部材の空間をゲッター部材１５やゲ
ッター膜を形成するためのスペースとして利用でき、使
用される蓋部材も従来に比べて薄くできる。
【００５５】更に、上述した実施の形態では、真空容器
としてＦＥＤを例にとって説明したが、高真空状態で薄
型の気密構造が要求される容器であれば、これに限るこ
とはなく、例えば真空マイクロ磁気センサ、高速スイッ
チング素子、撮像素子、読取装置等の真空容器であって
もよい。
としてＦＥＤを例にとって説明したが、高真空状態で薄
型の気密構造が要求される容器であれば、これに限るこ
とはなく、例えば真空マイクロ磁気センサ、高速スイッ
チング素子、撮像素子、読取装置等の真空容器であって
もよい。
【００５６】
【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明に
よれば、貫通穴又は貫通部を利用してゲッター部材を収
納することができ、従来に比べて外囲器の厚さを薄くす
ることができる。
よれば、貫通穴又は貫通部を利用してゲッター部材を収
納することができ、従来に比べて外囲器の厚さを薄くす
ることができる。
【００５７】そして、従来のような外囲器の外側に突出
して設けられるゲッターボックスが不要となるため、真
空容器自体の薄型、軽量化が図れ、応用製品の薄型化が
可能となる。又、従来に比べて材料費、輸送コストが低
減できる。更に、排気経路を従来に比べて短くできるの
で、排気抵抗が小さくなり、特性の向上が期待できる。
して設けられるゲッターボックスが不要となるため、真
空容器自体の薄型、軽量化が図れ、応用製品の薄型化が
可能となる。又、従来に比べて材料費、輸送コストが低
減できる。更に、排気経路を従来に比べて短くできるの
で、排気抵抗が小さくなり、特性の向上が期待できる。
【００５８】請求項２の発明によれば、基板に直接ガラ
ス加工を行わずに、基板とは別部材からなる板部材にゲ
ッター部材を収納する切欠き部を設け、この切欠き部を
外囲器の内部と空間的に連結でき、電極等が配設された
基板を汚さないという利点がある。
ス加工を行わずに、基板とは別部材からなる板部材にゲ
ッター部材を収納する切欠き部を設け、この切欠き部を
外囲器の内部と空間的に連結でき、電極等が配設された
基板を汚さないという利点がある。
【００５９】又、ゲッター部材が収納される貫通穴又は
切欠き部は、容器内部を排気するための排気孔を兼ねて
いるので、外囲器内に連通させて外囲器内を排気するこ
とができる。
切欠き部は、容器内部を排気するための排気孔を兼ねて
いるので、外囲器内に連通させて外囲器内を排気するこ
とができる。
【図１】本発明が適用される真空容器としてのＦＥＤの
構成を示す部分側断面図
構成を示す部分側断面図
【図２】本発明による真空容器の第１実施の形態を示す
側断面図
側断面図
【図３】本発明による真空容器の第２実施の形態を示す
側断面図
側断面図
【図４】本発明による真空容器の第３実施の形態を示す
側断面図
側断面図
【図５】図４において陰極基板を上から見たときの平面
図
図
【図６】本発明による真空容器の第４実施の形態を示す
側断面図
側断面図
【図７】本発明による真空容器の第５実施の形態を示す
斜視図
斜視図
【図８】図５の側断面図
【図９】本発明による真空容器の第６実施の形態を示す
側断面図
側断面図
【図１０】本発明による真空容器の第７実施の形態を示
す斜視図
す斜視図
【図１１】本発明による真空容器の第８実施の形態を示
す斜視図
す斜視図
【図１２】従来の真空容器の構成を示す側断面図
【図１３】従来の真空容器の他の構成を示す側断面図
１…陽極基板、２…陰極基板、４…外囲器、１４…貫通
穴、１５…ゲッター部材、１６…排気管、１７…ゲッタ
ー支持具、１８…蓋部材、１９…貫通穴、２０…板部
材、２０ａ…切欠き部（貫通部）、２１…空間部、２３
…板部材、２３ａ…切欠き部（貫通部）。
穴、１５…ゲッター部材、１６…排気管、１７…ゲッタ
ー支持具、１８…蓋部材、１９…貫通穴、２０…板部
材、２０ａ…切欠き部（貫通部）、２１…空間部、２３
…板部材、２３ａ…切欠き部（貫通部）。
フロントページの続き (72)発明者 利根川 武 千葉県茂原市大芝629 双葉電子工業株式 会社内
Claims (5)
- 【請求項１】 対向配置された２枚の基板の外周部を封
着して内部が高真空状態に気密保持された真空容器にお
いて、 前記基板の何れか一方には容器内部に連通した貫通穴が
形成され、該貫通穴内にゲッター部材の少なくとも一部
が収納されて前記貫通穴が封止されたことを特徴とする
真空容器。 - 【請求項２】 対向配置された２枚の基板の外周部を封
着して内部が高真空状態に気密保持され、前記外周部の
一部に容器内部に連通する貫通穴が形成された真空容器
において、 前記２枚の基板の少なくとも一方側に非対面部分が形成
され、該非対面部分には前記貫通穴を介して容器内部に
連通する貫通部を有する前記基板と略同一厚さの板部材
が配設され、前記貫通部内にゲッター部材の少なくとも
一部が収納されて前記貫通部が封止されたことを特徴と
する真空容器。 - 【請求項３】 前記貫通穴は容器内部を排気するための
排気孔を兼ね、前記貫通穴上には排気管又は蓋部材が設
けられる請求項１記載の真空容器。 - 【請求項４】 前記貫通部は一側面が開口した切欠き又
は貫通穴からなる請求項２記載の真空容器。 - 【請求項５】 前記貫通部は容器内部を排気するための
排気孔を兼ね、前記貫通部上には排気管又は蓋部材が設
けられる請求項４記載の真空容器。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33841796A JPH10177851A (ja) | 1996-12-18 | 1996-12-18 | 真空容器 |
| US08/988,065 US6084344A (en) | 1996-12-18 | 1997-12-10 | Reduced thickness vacuum container with getter |
| FR9715992A FR2757311B1 (fr) | 1996-12-18 | 1997-12-17 | Recipient a vide |
| KR1019970069889A KR100322795B1 (ko) | 1996-12-18 | 1997-12-17 | 진공용기 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33841796A JPH10177851A (ja) | 1996-12-18 | 1996-12-18 | 真空容器 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10177851A true JPH10177851A (ja) | 1998-06-30 |
Family
ID=18317967
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33841796A Pending JPH10177851A (ja) | 1996-12-18 | 1996-12-18 | 真空容器 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6084344A (ja) |
| JP (1) | JPH10177851A (ja) |
| KR (1) | KR100322795B1 (ja) |
| FR (1) | FR2757311B1 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100447130B1 (ko) * | 2002-01-31 | 2004-09-04 | 엘지전자 주식회사 | 전계 방출 표시소자의 캡 실링방법 및 그의 제조방법 |
| JP2008034109A (ja) * | 2006-07-26 | 2008-02-14 | Sony Corp | 平面型表示装置 |
| JP2009211812A (ja) * | 2008-02-29 | 2009-09-17 | Sony Corp | 平面型表示装置の製造方法、排気管の組立方法、及び、平面型表示装置 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000067741A (ja) * | 1998-08-26 | 2000-03-03 | Futaba Corp | 扁平型真空容器の電極構造 |
| KR100804687B1 (ko) * | 2001-03-28 | 2008-02-18 | 삼성에스디아이 주식회사 | 평판 표시 소자의 게터 고정 방법 및 이 게터를 갖는 전계방출 표시 소자 |
| CN1323416C (zh) * | 2003-01-08 | 2007-06-27 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种平板玻璃真空显示器件的封口工艺方法 |
| US7604643B2 (en) * | 2004-04-06 | 2009-10-20 | Synthes Usa, Llc | Adjustable tool for cannulated fasteners |
| US20060012301A1 (en) * | 2004-07-16 | 2006-01-19 | Frank Yang | Vacuum getter chamber |
| US20060250086A1 (en) * | 2004-07-16 | 2006-11-09 | Frank Yang | Vacuum Getter Chamber |
| US20060145595A1 (en) * | 2004-11-30 | 2006-07-06 | Youn Hae-Su | Image display device |
| US7408298B2 (en) * | 2004-12-28 | 2008-08-05 | Hitachi Displays, Ltd. | Image display device |
| US7701137B2 (en) * | 2007-02-08 | 2010-04-20 | Copytele, Inc. | Apparatus for evacuating a field emission display |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR0139489B1 (ko) * | 1993-07-08 | 1998-06-01 | 호소야 레이지 | 전계방출형 표시장치 |
| JP2570697Y2 (ja) * | 1993-07-14 | 1998-05-06 | 双葉電子工業株式会社 | 真空電子装置およびその外囲器 |
| IT1269978B (it) * | 1994-07-01 | 1997-04-16 | Getters Spa | Metodo per la creazione ed il mantenimento di un'atmosfera controllata in un dispositivo ad emissione di campo tramite l'uso di un materiale getter |
| US5587622A (en) * | 1994-07-12 | 1996-12-24 | Fallon Luminous Products | Low pressure gas discharge lamps with low profile sealing cover plate |
| FR2724041B1 (fr) * | 1994-08-24 | 1997-04-11 | Pixel Int Sa | Ecran plat de visualisation a haute tension inter-electrodes |
| FR2724047A1 (fr) * | 1994-08-31 | 1996-03-01 | Pixel Int Sa | Ecran plat de visualisation a acces etendu vers la zone interne |
-
1996
- 1996-12-18 JP JP33841796A patent/JPH10177851A/ja active Pending
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1997
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| KR100447130B1 (ko) * | 2002-01-31 | 2004-09-04 | 엘지전자 주식회사 | 전계 방출 표시소자의 캡 실링방법 및 그의 제조방법 |
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