JPH10177632A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 特定の変調方式に基づくディジタル磁気情報
を備え、セキュリティ性の極めて高いディジタル磁気情
報を備える磁気記録媒体を提供する。 【解決手段】 基板と、この上に形成された磁性層とを
備える磁気記録媒体であって、前記磁性層は、磁気ヘッ
ドの走査方向に沿って、配列された複数の磁気凹凸部を
備えており、該磁気凹凸部は、ディジタル磁気情報を形
成し、「一の基本データ値」として、１ビット幅内に磁
気凹部２１から磁気凸部２５への変移部位（前ビットの
終端が磁気凸部である場合）または磁気凸部から磁気凹
部への変移部位（前ビットの終端が磁気凹部である場
合）を存在させ、「他の基本データ値」として、１ビッ
ト幅内に１ビット幅と同じ幅で磁気凹部厚さを備える平
坦部（前ビットの終端が磁気凸部である場合）または磁
気凸部厚さを備える平坦部（前ビットの終端が磁気凹部
である場合）を存在させてなるように構成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は磁気記録媒体、特
に、偽造防止のために磁気的に消去および書き換えが不
能であり、媒体の不正な再利用を不可能とする機能を備
えた磁気記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、磁気情報の付与の手段の一つ
として、磁気ヘッドを用いて磁性層に飽和書き込みを行
って磁気情報を付与する方法が一般によく知られてい
る。この方法は極めて簡便な方法ではあるが、付与され
た磁気情報をリード／ライト磁気ヘッドにより簡単に消
去および書き換えすることができ、カードの変造が容易
にできてしまうという問題がある。

【０００３】このような問題に対処するために、従来よ
り、例えば、プリペイドカード等のカードの偽造防止の
ために、カード上に所定の磁気パターンからなる書き換
え不能な固定情報を予め形成することが行われている。
これは、予め形成された磁気パターンを使用時に読み取
り、所定の磁気出力信号が得られるか否かを判定するこ
とによりカードの真偽を決定しようとするものである。

【０００４】磁気的に書き換え不能な固定情報を与える
ための方法として、従来よりシルク印刷等で所定パター
ンの磁気バーコードを形成する方法が広く知られてい
る。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、磁気的
に消去および書き換えができない固定の磁気情報として
の磁気バーコードは、そのバーコードパターンの形成に
印刷の手法を用いるため、多くのパターンの情報に対応
することができず、カード毎に情報を変えるという要望
に適用することは困難である。また、特定の変調方式に
基づくディジタル磁気情報にまで発展させたものではな
く、磁気情報の高密度化にも適したものとは言えない。
さらに、情報パターンの高密度化の形成ができたとして
も安定して磁気出力を得ることが困難となってしまう。
さらに、従来からすでに使用されているリード／ライト
機能を備えるハードを改変することなくそのままの状態
で、カード情報の読み取りができることも必要とされる
大きな要素の一つである。

【０００６】このような実状のもとに本発明は創案され
たものであって、その目的は、特定の変調方式に基づく
ディジタル磁気情報を備え、しかも、そのディジタル磁
気情報の書き換えおよび消去が実質的に不能であってセ
キュリティ性の極めて高いディジタル磁気情報を備える
磁気記録媒体を提供することにある。さらには、磁気情
報の高密度化にも対応でき、しかもカード毎に磁気情報
を変えることもでき多品種少量の磁気カードの作製も極
めて容易となる磁気記録媒体を提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明は、基板と、この基板の上に形成され
た磁性層とを備える磁気記録媒体であって、前記磁性層
は、磁気ヘッドの走査方向に沿って、配列された複数の
磁気凹凸部を備えており、該磁気凹凸部は、ディジタル
磁気情報を形成し、『一の基本データ値』として、１ビ
ット幅内に磁気凹部から磁気凸部への変移部位（前ビッ
トの終端が磁気凸部である場合）または磁気凸部から磁
気凹部への変移部位（前ビットの終端が磁気凹部である
場合）を存在させ、『他の基本データ値』として、１ビ
ット幅内に１ビット幅と同じ幅で磁気凹部厚さを備える
平坦部（前ビットの終端が磁気凸部である場合）または
磁気凸部厚さを備える平坦部（前ビットの終端が磁気凹
部である場合）を存在させてなるように構成される。

【０００８】また、好ましい態様として、前記磁気凹部
は、均一厚さに形成された磁性層を物理的除去して形成
される。

【０００９】また、好ましい態様として、前記磁気凹部
は、基板を所定の凹凸パターンに物理的除去し、当該凹
凸パターンの上に磁性層を積層して形成される。

【００１０】また、前記磁気凹凸部は、ＦＭ変調方式の
ディジタル磁気情報として形成される。

【００１１】また、好ましい態様として、前記磁気凹凸
部は、レーザー光を照射することにより磁性層を物理的
に除去して形成される。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。図１は本発明の一例であるカード状
の磁気記録媒体の斜視図を示しており、図２（ａ）は、
図１のＡ−Ａ断面矢視図を示す図である。

【００１３】本発明の磁気記録媒体１は、図１および図
２（ａ）に示されるように基板１０と、この基板１０の
上に形成された磁性層２０と、この磁性層２０の上に形
成された隠蔽層３０を備えている。

【００１４】本発明の磁気記録媒体１を構成する基板１
０は、基板として要求される耐熱性、強度、剛性等を考
慮して、ナイロン、セルロースジアセテート、セルロー
ストリアセテート、塩化ビニル、ポリスチレン、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリイミド、
ポリカーボネート等の樹脂、銅、アルミニウム等の金
属、紙、含浸紙等の材料の中から適宜選択した材料の単
独あるいは組み合わせた複合体により構成することがで
きる。また、いわゆる光分解性や生物分解性のプラスチ
ック材質のものを用いてもよい。このような基板１０の
厚さは、０．００５ｍｍ〜５ｍｍ程度とすることができ
る。

【００１５】磁性層２０は、磁気ヘッドの走査方向に沿
って、配列された複数の磁気凹凸部を備えており、この
磁気凹凸部は、ディジタル磁気情報を形成し、図２
（ａ）に示される実施の態様では、『一の基本データ
値』（例えば、２進値の『１』）として、１ビット幅内
に磁気凸部から磁気凹部へ変移部位Ｐ１（前ビットの終
端が磁気凹部である場合）、および１ビット幅内に磁気
凹部から磁気凸部への変移部位Ｐ２（前ビットの終端が
磁気凸部である場合）を存在させ、『他の基本データ
値』（例えば、２進値の『０』）として、１ビット幅内
に１ビット幅と同じ幅で磁気凸部厚さを備える平坦部Ｆ
１（前ビットの終端が磁気凹部である場合）および１ビ
ット幅内に１ビット幅と同じ幅で磁気凹部厚さを備える
平坦部Ｆ２（前ビットの終端が磁気凸部である場合）を
存在させている。

【００１６】これらの『一の基本データ値』（例えば、
２進値の『１』）および『他の基本データ値』（例え
ば、２進値の『０』）の表現手法を、図３（ａ）および
（ｂ）ならびに図４（ａ）および（ｂ）に基づいてさら
に詳細に説明する。なお、図３および図４において、説
明の便宜上、図面の左側が前ビット側、図面の右側が後
ビット側を示している。

【００１７】本発明において磁性層２０に付与される凹
凸パターン（磁気凹凸部）は、Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ Ｍ
ｏｄｕｌａｔｉｏｎ（ＦＭ）変調方式の基本形（double
frequency) におけるディジタル磁気情報の『１』およ
び『０』を形成しており、図３（ａ）および（ｂ）で示
される磁気層の１ビット形状が、それぞれ、データ
『１』を形成している。図３（ａ）に示される磁気層の
１ビット形状（データ『１』）は、１ビット幅Ａ内に磁
気凹部２１から磁気凸部２５への（垂直に上がる）変移
部位Ｐ２を備えている。この変移部位Ｐ２は、例えば、
図示のごとく、１ビット分の磁性層の約左上半分を除去
深さＤ、除去幅Ｂで除去することによって形成される。
図３（ａ）に示される磁気層の１ビット形状（データ
『１』）は、前ビットが磁性層厚さＣの磁気凸部で終わ
っている場合に形成される形である。図３（ｂ）で示さ
れる磁気層の１ビット形状もデータ『１』を形成してお
り、この磁気層の１ビット形状（データ『１』）は、１
ビット幅Ａ内に磁気凸部２５から磁気凹部２１への（垂
直に下がる）変移部位Ｐ１を備えている。この変移部位
Ｐ１は、例えば、図示のごとく、１ビット分の磁性層の
約右上半分を除去深さＤ、除去幅Ｂで除去することによ
って形成される。図３（ｂ）に示される磁気層の１ビッ
ト形状（データ『１』）は、前ビットが磁性層厚さ（Ｃ
−Ｄ）の磁気凹部で終わっている場合に形成される形で
ある。

【００１８】従って、データ『１』が『１，１，１…』
と言うように連続するときには、前ビット形態との関係
より、上記図３（ａ）（または上記図３（ｂ））で示さ
れる同じパターンの磁性層形態が連続して繰り返され
る。なお、１ビット幅Ａは所望の記録密度によって適宜
決定される。

【００１９】この一方で、図４（ａ）および（ｂ）で示
される磁気層の１ビット形状は、それぞれ、１ビット内
に変移部位を備えていない平坦形状であり、データ
『０』を形成している。図４（ａ）に示される磁気層の
１ビット形状（データ『０』）は、１ビット幅Ａ内に１
ビット幅と同じ幅で磁気凹部厚さ（Ｃ−Ｄ）を備える平
坦部Ｆ２（除去深さＤで除去された磁性層部分である）
を存在させている。図４（ａ）に示される磁気層の１ビ
ット形状（データ『０』）は、前ビットが磁性層厚さＣ
の磁気凸部で終わっている場合に形成される形である。

【００２０】また、図４（ｂ）に示される磁気層の１ビ
ット形状（データ『０』）は、１ビット幅Ａ内に１ビッ
ト幅と同じ幅で磁気凸部厚さＣを備える平坦部Ｆ１を存
在させている。図４（ｂ）に示される磁気層の１ビット
形状（データ『０』）は、前ビットが磁性層厚さ（Ｃ−
Ｄ）の磁気凹部で終わっている場合に形成される形であ
る。

【００２１】従って、データ『０』が『０，０，０…』
と言うように同じ値が連続するときには、前ビット形態
との関係より、上記図４（ａ）と上記図４（ｂ）で示さ
れる磁性層形態が交互に連続して繰り返される。

【００２２】上記図１〜図４に示される態様は、磁性層
厚さＣの磁性層を基板の上に形成した後、所定箇所の磁
性層を部分的に除去して凹部深さＤを形成したものであ
り、凹部深さＤは、その磁性層の厚さＣ以下の値で任意
に設定すればよい。凹部深さＤと磁性層の厚さＣを同じ
にして基板に到達するまで凹部を形成してもよい。すな
わち、本発明における磁気凹凸部という表現は、基板に
到達するまで磁性層を除去した場合をも含んでいるので
ある。

【００２３】上記の説明においては、図３（ａ）および
（ｂ）に示される状態を『一の基本データ値』（２進値
の『１』）とし、図４（ａ）および（ｂ）に示される状
態を『他の基本データ値』（２進値の『０』）として説
明してきたが、これらを互いに、逆転して『０』と
『１』を表現してもよい。

【００２４】ところで、図２（ａ）の実施の態様に示さ
れるように、磁気凹部２１においては、磁気凹部２１の
左エッジ側がＮ極に、磁気凹部２１の右エッジ側がＳ極
にそれぞれ磁化される。このような磁化形成に際して、
磁性層２０が硬磁性粉末を含有する硬磁性層であるなら
ば、磁性層塗布後に磁場配向処理を行えばよく、また、
磁性層２０が軟磁性粉末を含有する軟磁性層であるなら
ば、いわゆるバイアス磁界をかけながら磁気の読み取り
を行えばよい。図２（ａ）の状態における再生波形は図
２（ｂ）に示されるように磁気凹部２１のエッジ部（Ｎ
極，Ｓ極）に対応して各波形ピークが現われる。また、
上記磁気凹部２１における左右のエッジの磁極を逆にし
てもよい。

【００２５】さらに、図２（ａ）に示されるごとく形成
された磁気記録媒体の磁気凹凸部と、ＦＭ変調との対応
関係が、図５（ａ）〜（ｃ）に示される。図５（ａ）
は、図２（ａ）の磁性層２０を単独で示しており、図５
（ｂ）は、磁気記録媒体の再生波形を示しており、図５
（ｃ）はＦＭ変調方式による変調波形および対応するデ
ータ値『１』，『０』を示している。図５からわかるよ
うに、ＦＭ変調方式の変調規則は、情報が『１』の場合
には『０』の場合の２倍の周波数を読み出しパルスを発
生するように磁化反転させる。磁化反転間隔は、Ａ／
２，Ａ（Ａ：ビット間隔）であり、記録密度比（ＤＲ）
は１／２である。

【００２６】上記磁性層２０をいわゆる磁性塗料を塗布
する方法により形成した場合には、通常、磁性粉末と樹
脂バインダとが含有される。磁性粉末としては、強磁性
粉末であれば、硬磁性粉末、軟磁性粉末いずれでもよ
い。硬磁性粉末としては、例えば、γ−Ｆｅ₂ Ｏ₃ 、Ｃ
ｏ被着γ−Ｆｅ₂ Ｏ₃ 、Ｆｅ₃ Ｏ₄ 、Ｆｅ、Ｆｅ−Ｃ
ｒ、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｂａフェラ
イト、Ｓｒフェライト、ＣｒＯ₂ 等の磁性微粒子が挙げ
られる。軟磁性粉末の材料としては、Ａｌ、Ｓｉ、Ｆｅ
等からなる磁性合金材料、パーマロイ、センダスト、Ｆ
ｅ等の金属高透磁率材料、Ｍｎ−Ｚｎフェライト、Ｃｏ
−Ｚｎフェライト、Ｎｉ−Ｚｎフェライト等のフェライ
ト、金属アモルファス材料等を挙げることができる。

【００２７】上記の磁性粉末が分散される樹脂バインダ
（あるいはインキビヒクル）としては、ブチラール樹
脂、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体樹脂、ウレタン樹
脂、ポリエステル樹脂、セルロース樹脂、アクリル樹
脂、スチレン／マレイン酸共重合体樹脂等が用いられ、
必要に応じてニトリルゴム等のゴム系樹脂あるいはウレ
タンエラストマー等が添加される。また、紫外線硬化型
や電子線硬化型の放射線硬化型樹脂を用いてもよい。紫
外線硬化型の樹脂成分としては、エポキシアクリレー
ト、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレー
ト、ポリエーテルアクリレート、シリコンアクリレー
ト、不飽和ポリエステル等の光重合性オリゴマー；単官
能アクリレート（スチレン、酢酸ビニル等）、多官能ア
クリレート等の光重合性モノマー（反応希釈剤）；ベン
ゾイン系、アセトフェノン系、チオキサントン系、パー
オキシド系等の光重合開始剤；アミン系、キノン系等の
光重合開始剤；熱重合禁止剤、無機ないし有機の充填
剤、接着剤付与剤、チクソ付与剤、可塑剤、非反応性ポ
リマー等のその他の添加剤；顔料等の着色剤が挙げられ
る。また、電子線硬化型の樹脂成分としては、上記紫外
線硬化型の樹脂成分から光重合開始剤を除外して調製す
れば良い。さらに、樹脂バインダとして、耐熱性を考慮
して、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルサルホン
等のガラス転移温度（Ｔｇ）の高い樹脂、あるいは硬化
反応によりＴｇが上昇する系を用いることができる。上
記のような樹脂あるいはインキビヒクル中に磁性粒子が
分散されてなる分散物中に、必要に応じて界面活性剤、
シランカップリング剤、可塑剤、ワックス、シリコーン
オイル、カーボン等の顔料を添加してもよい。塗布方法
としてはグラビア法、ロール法、ナイフエッジ法等の公
知の方法が用いられる。

【００２８】また、磁性層２０は、上記の塗布方法に限
定されることなく、上記の磁性材料そのものを用いて、
真空蒸着法、スパッタリング法、メッキ法等により形成
することもできる。

【００２９】このような磁性層２０の上には、図２
（ａ）に示されるように磁性層２０表面の凹凸をフラッ
トにし、ヘッドタッチを良くするとともに、外観的に磁
化パターンの認識を困難にさせるための隠蔽層３０や、
保護・装飾効果を上げるための保護層を形成することが
好ましい。

【００３０】隠蔽層３０や保護層（絵柄も含む）は、エ
チルセルロース、硝酸セルロース、エチルヒドロキシエ
チルセルロース、セルロースアセテートプロピオネー
ト、酢酸セルロース等のセルロース誘導体；ポリスチレ
ン、ポリ−α−メチルスチレン等のスチレン樹脂、ある
いはスチレン共重合樹脂；ポリメタクリル酸メチル、ポ
リメタクリル酸エチル、ポリアクリル酸エチル、ポリア
クリル酸ブチル等のアクリル樹脂またはメタクリル樹脂
の単独あるいは共重合樹脂；ロジン、ロジン変性マレイ
ン酸樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、重合ロジン等の
ロジンエステル樹脂；ポリ酢酸ビニル樹脂、クマロン樹
脂、ビニルトルエン樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリエステ
ル樹脂、ポリウレタン樹脂、ブチラール樹脂等のバイン
ダーに、着色すべき色に応じて各種の顔料を添加し、必
要に応じて磁気ヘッドのクリーニング効果をもたせるよ
う酸化チタン、アルミナ粉末、マイクロシリカ等を添加
し、さらに必要に応じて、可塑剤、安定剤、ワックス、
グリース、乾燥剤、乾燥補助剤、硬化剤、増粘剤、分散
剤を添加した後、溶剤あるいは希釈剤で充分に混練して
なる着色塗料あるいはインキを用いて、通常のグラビア
法、ロール法、ナイフエッジ法、オフセット法等の塗布
方法あるいは印刷方法により、形成される。

【００３１】なお、隠蔽層３０の形成に際しては、図２
（ａ）に示されるように磁性層２０の磁気凹部２１を、
隠蔽層３０形成塗料で埋設するようにすることが好まし
い。表面平滑性を上げるためである。

【００３２】次に、このような磁気記録媒体１の具体的
製造方法を、図２（ａ）に基づいて説明する。

【００３３】まず、シート上の基板１０を準備し、この
基板１０上に磁性層２０を形成する。磁性層２０の形成
は、前述したように予め調合された磁性塗料をシルクス
クリーン印刷法、グラビア法、ロール法、ナイフエッジ
法等の公知の塗布方法に従って行ってもよいし、磁性材
料そのものを用いて、真空蒸着法、スパッタリング法、
メッキ法等により形成してもよい。

【００３４】このような磁性層２０は、基板１０の全面
に形成してもよいが、一般的には経済性を考慮して、磁
気情報を形成するのに必要な部分のみに、例えば、スト
ライプ形状に形成される。もちろん、磁性層２０は、均
一厚さに形成する必要があるが、上記の公知の連続的塗
布法であれば、十分な均一厚さが得られる。

【００３５】次いで、図２（ａ）に示されるように、均
一厚さに形成された磁性層２０は、所定のフォーマット
に基づいて部分的に物理的除去されて複数の磁気凹部２
１が所定の位置および大きさに形成される。その結果、
図３（ａ），（ｂ）および図４（ａ），（ｂ）の形状が
組み合わされて、所定のディジタル磁気情報を備える磁
気記録媒体が形成される。

【００３６】磁性層２０を部分的に物理的除去する好適
な方法としては、例えば、磁気凹部２１の対応位置にレ
ーザー光を照射する方法や、電子線を照射する方法、放
電による破壊、ルーチング（彫刻）加工等が挙げられ
る。このような方法により磁気凹部２１が形成されるの
で、磁性層２０にかき込まれる不変記録としての情報
は、一枚一枚容易に個別のデータとすることができ、い
わゆるＩＤカード等の作製には好適に応用される。

【００３７】レーザー光を用いる場合には、部分的に物
理的除去される磁性層２０の物性や、除去すべき線幅等
を考慮しつつ、用いるレーザーの種類、レーザー波長、
レーザーパワー等を適宜設定すればよい。また、レーザ
ー照射により物理的除去して凹部を形成する際には、Ｃ
Ｗ（Constant Wave ）を用いて直線状に設けてもよい
し、あるいはパルスを用いて点線状に設けてもよい。

【００３８】気体レーザーとしては、Ｈｅ−Ｎｅレーザ
ー、Ｈｅ−Ｃｄレーザー、アルゴンレーザー（０．４８
８μｍ連続発振，０．１〜２０Ｗ）等の稀ガスイオンレ
ーザー；炭酸ガスレーザー（１０．６μｍ連続発振，１
Ｗ〜１０ｋＷ）；金属蒸気レーザー等を使用することが
できる。また、固体レーザーとしては、ルビーレーザー
（０．６９４３μｍパルス発振，１０〜１０００Ｊ）、
Ｎｄガラスレーザー（１．０６μｍパルス発振，１０〜
１０００Ｊ）、Ｎｄ：ＹＡＧレーザー等のパルス励起固
体レーザー；あるいはルビーレーザー、Ｎｄガラスレー
ザー、Ｎｄ：ＹＡＧレーザー（１．０６μｍ連続発振，
１〜２００Ｗ）、Ｎｄ：ＹＡｌＯ₃ レーザー等の連続励
起固体レーザー等を使用することができる。また、液体
レーザーとしては、色素レーザー、ラマンレーザー、キ
レートレーザー、Ｎｄ³⁺液体レーザー等を使用すること
ができ、半導体レーザーとしては、ＧａＡｓダイオード
レーザー等を使用することができる。

【００３９】これらの中でも特に、波長１０．６μｍの
ＣＯ₂ ガスレーザー（出力０．５Ｗ〜２０Ｗ）、波長
０．４８８μｍ（または０．５１４５μｍ）のＡｒガス
レーザー（出力０．５Ｗ〜２０Ｗ）、波長１．０６μｍ
のＮｄ：ＹＡＧレーザー（出力０．５Ｗ〜２０Ｗ）が好
適例として挙げられる。なお、レーザーの出力が大きく
なり過ぎると、高温による基板の損傷や磁性層を構成す
るバインダー樹脂の熱収縮によりパターンの精度不良が
おこり、この一方で出力が小さ過ぎると、十分なパター
ンの削除ができない。

【００４０】このような磁性層２０の上には、通常、磁
気パターンが直接目に触れないように隠蔽層３０が塗布
形成される。さらに、隠蔽層３０の上には、通常、保護
・装飾効果を上げるための保護層を塗布形成してもよ
い。

【００４１】次に、上記してきた本発明の実施の形態の
変形例を、図６に基づいて説明する。図６は、本発明の
第２の実施の態様を示す断面図であり、前記図２（ａ）
に相当する図面である。図６に示される第２の実施の態
様の磁気記録媒体は、基板１０の表面を物理的除去して
凹部を設け、この凹部に磁性層２０の一部を埋設して、
結果として磁気凹凸部を形成させている。図６に示され
る態様においても、前述した図３（ａ），（ｂ）および
図４（ａ），（ｂ）に示される法則をそのまま適用する
ことができ、これらを組み合わせることによって書き換
え不能なセキュリティ性の高いディジタル磁気情報が実
現できる。

【００４２】また、他の実施の態様として、磁性層を磁
気特性の異なる多層構造に積層して、これらの中の一つ
の層に本発明の書き換え不能なディジタル磁気情報、す
なわち、『一の基本データ値』として、１ビット幅内に
磁気凹部から磁気凸部への変移部位（前ビットの終端が
磁気凸部である場合）または磁気凸部から磁気凹部への
変移部位（前ビットの終端が磁気凹部である場合）を存
在させ、『他の基本データ値』として、１ビット幅内に
１ビット幅と同じ幅で磁気凹部厚さを備える平坦部（前
ビットの終端が磁気凸部である場合）または磁気凸部厚
さを備える平坦部（前ビットの終端が磁気凹部である場
合）を存在させるようにしてもよい。この場合、もちろ
ん硬磁性層や軟磁性層を同時に積層した組み合わせであ
ってもよい。さらに、本発明の書き換え不能な凹凸部に
よるディジタル磁気情報以外に、通常の書き換え可能な
磁気情報を他の磁性層に入れるように構成してもよい。

【００４３】

【実施例】以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明
をさらに詳細に説明する。

【００４４】（実施例１）まず、最初に磁性層２０形成
のために下記の組成を有する磁性塗料を準備した。

【００４５】 磁性塗料の組成 ・磁性粉末（Ｂａフェライト） … ４１重量部 ・ポリウレタン樹脂 … ７重量部 ・トルエン … ２５重量部 ・メチルエチルケトン … ２５重量部 ・イソシアネート系硬化剤 … ２重量部 次に、被印刷物（基板）としてのポリエチレンテレフタ
レート製のカード（厚さ２５０μｍ）を準備し、このカ
ードの上にグラビアコート印刷法で、ストライプ状に磁
性塗料を塗設し、塗設された磁性層の磁場配向処理を行
った後、乾燥させて、塗布厚さ１０μｍ、塗布長さ８５
ｍｍの磁性層（磁気ストライプ）を作製した。

【００４６】次に、波長λ＝１．０６ｎｍ、出力５Ｗの
Ｎｄ：ＹＡＧレーザ光を用いて、磁気ストライプの長手
方向に対して垂直方向に磁性層を部分的に物理的除去し
て線幅６０μｍ、ビット間隔１２０μｍ、記録密度約２
１０ｂｐｉの条件で、図２（ａ）に示すような所定のマ
ーキング（磁気凹部２１の形成）を行った。

【００４７】さらに、この磁性層２０の上に下記の組成
からなる隠蔽層インキ組成物をグラビアコート印刷法
で、厚さ５μｍに塗布して隠蔽層を形成し、本発明の情
報記録媒体サンプルを作製した。

【００４８】 隠蔽層インキ組成物 ・アルミ粉体 …１０．５重量部 ・ポリウレタン樹脂 … ４重量部 ・メチルエチルケトン … ５０重量部 ・トルエン … ２５重量部 ・酸化チタン粉体 …１０．５重量部 このサンプルを用いて、上記のＦＭ変調方式による磁気
凹凸部の磁気情報を再生したところ、所定の変調波形に
基づく２進値のデータが再生できることが確認された。
さらに、この磁気凹凸部による磁気情報は、磁気的に消
去および書き換えができないものでもあった。

【００４９】

【発明の効果】上記の結果より本発明の効果は明らかで
ある。すなわち、本発明は、基板と、この基板の上に形
成された磁性層とを備える磁気記録媒体であって、前記
磁性層は、磁気ヘッドの走査方向に沿って、配列された
複数の磁気凹凸部を備えており、該磁気凹凸部は、ディ
ジタル磁気情報を形成し、『一の基本データ値』とし
て、１ビット幅内に磁気凹部から磁気凸部への変移部位
（前ビットの終端が磁気凸部である場合）または磁気凸
部から磁気凹部への変移部位（前ビットの終端が磁気凹
部である場合）を存在させ、『他の基本データ値』とし
て、１ビット幅内に１ビット幅と同じ幅で磁気凹部厚さ
を備える平坦部（前ビットの終端が磁気凸部である場
合）または磁気凸部厚さを備える平坦部（前ビットの終
端が磁気凹部である場合）を存在させてなるように構成
している。従って、本発明の磁気記録媒体（磁性層）に
は特定の変調方式に基づくディジタル磁気情報が書き込
まれ、この書き込まれたディジタル磁気情報は、書き換
えおよび消去が実質的に不能であり、従来にも増してセ
キュリティ性の向上が図れる。さらには、磁気情報の高
密度化にも対応でき、しかもカード毎に磁気情報を変え
ることもでき多品種少量の磁気カードの作製も極めて容
易となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一例であるカード状の磁気記録媒体の
斜視図である。

【図２】図２（ａ）は、図１のＡ−Ａ断面矢視図であっ
て、本発明の理解を容易にするために断面状態を模式的
かつ簡略に描いたものであり、図２（ｂ）は、図２
（ａ）の磁気状態に対応した再生波形を示すものであ
る。

【図３】図３（ａ）および（ｂ）は、それぞれ、『一の
基本データ値』に対応する１ビット幅の磁性層形状を示
す断面図である。

【図４】図４（ａ）および（ｂ）は、それぞれ、『他の
基本データ値』に対応する１ビット幅の磁性層形状を示
す断面図である。

【図５】図５（ａ），（ｂ）および（ｃ）は、それぞ
れ、磁性層断面形状、再生波形、および変調波形（デー
タを含む）を示す図である。

【図６】図２（ａ）に相当する他の実施態様を示す断面
図である。

【符号の説明】

１０…基板 ２０…磁性層 ２１…磁気凹部 ２５…磁気凸部 ３０…隠蔽層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｇ１１Ｂ 5/80 Ｂ４１Ｍ 5/26 Ｙ 5/84 Ｇ０６Ｋ 19/00 Ｂ

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板と、この基板の上に形成された磁性
   層とを備える磁気記録媒体であって、 前記磁性層は、磁気ヘッドの走査方向に沿って、配列さ
   れた複数の磁気凹凸部を備えており、 該磁気凹凸部は、ディジタル磁気情報を形成し、 『一の基本データ値』として、１ビット幅内に磁気凹部
   から磁気凸部への変移部位（前ビットの終端が磁気凸部
   である場合）または磁気凸部から磁気凹部への変移部位
   （前ビットの終端が磁気凹部である場合）を存在させ、 『他の基本データ値』として、１ビット幅内に１ビット
   幅と同じ幅で磁気凹部厚さを備える平坦部（前ビットの
   終端が磁気凸部である場合）または磁気凸部厚さを備え
   る平坦部（前ビットの終端が磁気凹部である場合）を存
   在させてなることを特徴とする磁気記録媒体。
2. 【請求項２】 前記磁気凹部は、均一厚さに形成された
   磁性層を物理的除去して形成されている請求項１に記載
   の磁気記録媒体。
3. 【請求項３】 前記磁気凹部は、基板を所定の凹凸パタ
   ーンに物理的除去し、当該凹凸パターンの上に磁性層を
   積層して形成されている請求項１に記載の磁気記録媒
   体。
4. 【請求項４】 前記磁気凹凸部は、ＦＭ変調方式のディ
   ジタル磁気情報として形成されている請求項１ないし請
   求項３のいずれかに記載の磁気記録媒体。
5. 【請求項５】 前記磁気凹凸部は、レーザー光を照射す
   ることにより磁性層を物理的に除去して形成される請求
   項１ないし請求項４のいずれかに記載の磁気記録媒体。