JPH10173008A - Adhesive-coated tape for tab, tab tape and semiconductor device - Google Patents

Adhesive-coated tape for tab, tab tape and semiconductor device

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JPH10173008A
JPH10173008A JP8325247A JP32524796A JPH10173008A JP H10173008 A JPH10173008 A JP H10173008A JP 8325247 A JP8325247 A JP 8325247A JP 32524796 A JP32524796 A JP 32524796A JP H10173008 A JPH10173008 A JP H10173008A
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adhesive
tab
tape
film
overhang
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康博 小山
Akihiro Kabashima
昭紘 椛島
Masami Tokunaga
正実 徳永
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    • H01L2224/50Tape automated bonding [TAB] connectors, i.e. film carriers; Manufacturing methods related thereto
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/38Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
    • H05K3/386Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by the use of an organic polymeric bonding layer, e.g. adhesive

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve the reliability of the insulation of a TAB tape or adhesion of TAB leads by strictly controlling the fluidity of adhesive so that the max. overhang of an adhesive-coated tape for TAB is at most a specified value. SOLUTION: An adhesive-coated tape for TAB is a laminate of an insulation film 1, adhesive 2 and protective film as a basic structure. The protective film is used for the dust proofing and handling purpose. The adhesive-coated tape has a max. overhang(OH) of 20μm, pref. 2-20μm at a Cu foil laminating process. If an adhesive-coated tape having an OH value of over 20μm, foams are produced in the adhesive heating to cure step and thermally broken into defective connections or resulting in peel because of poor adhesion of TAB leads when the IC mounting or connection to a circuit board.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、TAB(テープ・
オートメーテッド・ボンディング)方式と称する半導体
集積回路実装用テープ(以下、TABテープと略す)に
使用される接着剤付きテープに関するものである。さら
に詳しくは該テープの接着剤の流動性に関し、TABテ
ープの製造工程において、接着剤のはみ出しやTABリ
ードの接続不良や密着不良がなく、加工性および生産性
に優れたTAB用接着剤付きテープを提供することに関
する。
[0001] The present invention relates to a TAB (tape / tape).
The present invention relates to a tape with an adhesive used for a tape for mounting a semiconductor integrated circuit (hereinafter, abbreviated as a TAB tape) called an "automated bonding" method. More specifically, regarding the fluidity of the adhesive of the tape, a tape with an adhesive for TAB which is excellent in processability and productivity without extruding the adhesive or inferior connection or adhesion of the TAB lead in a TAB tape manufacturing process. Related to providing.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、TAB用テープは、ポリイミド
フィルム等の可撓性を有する有機絶縁性フィルム上に、
接着剤層および保護フィルム層として離型性を有するポ
リエステルフィルム等を積層した3層構造より構成され
ている。
2. Description of the Related Art In general, TAB tape is formed on a flexible organic insulating film such as a polyimide film.
It has a three-layer structure in which a polyester film having releasability is laminated as an adhesive layer and a protective film layer.

【0003】TAB用テープは、(1)スプロケットお
よびデバイス孔の穿孔、(2)銅箔との熱ラミネート、
(3)接着剤加熱キュア、(4)パターン形成(レジス
ト塗布、エッチング、レジスト除去)、(5)スズまた
は金メッキ処理などの加工工程を経てTABテープ(パ
ターンテープ)に加工される。図1にパターンテープの
形状を示す。図2に半導体装置の一態様の断面図を示
す。パターンテープのインナーリード部6を、半導体集
積回路8の金バンプ10に熱圧着(インナーリードボン
ディング)し、半導体集積回路(IC)を搭載する。次
いで、封止樹脂9による樹脂封止工程を経て半導体装置
が作成される。このような半導体装置をテープキャリア
パッケージ(TCP)型半導体装置と称する。TCP型
半導体装置は、他の部品を搭載した回路基板等とアウタ
ーリード7を介して接続(アウターリードボンディン
グ)され、電子機器への実装がなされる。
[0003] TAB tapes include (1) perforation of sprocket and device holes, (2) thermal lamination with copper foil,
It is processed into a TAB tape (pattern tape) through processing steps such as (3) adhesive curing, (4) pattern formation (resist coating, etching, and resist removal), and (5) tin or gold plating. FIG. 1 shows the shape of the pattern tape. FIG. 2 is a cross-sectional view of one embodiment of a semiconductor device. The inner lead portion 6 of the pattern tape is thermocompression-bonded (inner lead bonding) to the gold bump 10 of the semiconductor integrated circuit 8 to mount the semiconductor integrated circuit (IC). Next, a semiconductor device is manufactured through a resin sealing step using a sealing resin 9. Such a semiconductor device is called a tape carrier package (TCP) type semiconductor device. The TCP type semiconductor device is connected to a circuit board or the like on which other components are mounted via outer leads 7 (outer lead bonding), and is mounted on an electronic device.

【0004】一方、近年の電子機器の小型・軽量化に伴
い、半導体パッケージも高密度実装化を目的に、従来の
接続端子(アウターリード)をパッケージ側面に配列し
ていたQFP(クワッド・フラット・パッケージ)、S
OP(スモール・アウトライン・パッケージ)に代わ
り、パッケージの裏面に接続端子を配列するBGA(ボ
ールグリッドアレイ)、CSP(チップスケールパッケ
ージ)が一部用いられるようになってきた。BGA、C
SPがQFP、SOPと構造的に最も大きく異なる点
は、前者は、インターポーザーと称される基板を必要と
するのに対し、後者は金属製のリードフレームを用いる
ことにより必ずしも基板を必要としない点にある。ここ
でいうインターポーザーは、ガラスエポキシ基板やポリ
イミド等の有機絶縁性フイルムに銅箔を張り合わせたも
のが一般的に用いられる。したがって、これらBGA、
CSPなどの半導体装置にも本発明のTAB用接着剤付
きテープを使用することができ、得られたBGA、CS
Pも本発明の半導体装置に含まれる。図3および図4に
本発明の半導体装置(BGA、CSP)の一態様の断面
図を示す。
On the other hand, as electronic devices have become smaller and lighter in recent years, a semiconductor package has a QFP (quad flat flat) in which conventional connection terminals (outer leads) are arranged on the side of the package for the purpose of high-density mounting. Package), S
Instead of OPs (small outline packages), BGAs (ball grid arrays), in which connection terminals are arranged on the back surface of the package, and CSPs (chip scale packages) have been used in part. BGA, C
The biggest difference between SP and QFP and SOP in terms of structure is that the former requires a substrate called an interposer, whereas the latter does not necessarily require a substrate by using a metal lead frame. On the point. As the interposer referred to here, one obtained by laminating a copper foil on an organic insulating film such as a glass epoxy substrate or polyimide is generally used. Therefore, these BGAs,
The tape with an adhesive for TAB of the present invention can also be used for semiconductor devices such as CSP, and the obtained BGA, CS
P is also included in the semiconductor device of the present invention. 3 and 4 are cross-sectional views of one embodiment of the semiconductor device (BGA, CSP) of the present invention.

【0005】最終的にTABテープは、高密度なパッケ
ージ内部に残留するため、絶縁性、耐熱性、銅箔との接
着性、寸法安定性、平面性が要求される。
[0005] Since the TAB tape ultimately remains inside the high-density package, it is required to have insulation properties, heat resistance, adhesion to copper foil, dimensional stability, and flatness.

【0006】近年、電子機器の小型化、高性能化、高密
度化に伴い、それらに搭載される半導体デバイスの高機
能化、高集積化、スリム化が進んでいる。このため半導
体デバイスの電極およびTABリードのピッチの微細化
は急速に進行しており、それに伴い絶縁性やTABテー
プの銅箔との接着力や接着剤面の平滑性や微細加工性が
これまでにも増して重要になってきた。
In recent years, with the miniaturization, high performance, and high density of electronic devices, semiconductor devices mounted on them have become more sophisticated, highly integrated, and slimmer. For this reason, the miniaturization of the pitch of the electrodes of semiconductor devices and the TAB leads is progressing rapidly, and as a result, the insulating properties, the adhesive strength with the copper foil of the TAB tape, the smoothness of the adhesive surface, and the fine workability have been improved. It has become even more important.

【0007】これらの特性を満足するためには接着剤の
流動性管理が特に重要である。この接着剤の流動性が適
正でないと、TABリードの接着力不足やIC実装時に
接続不良等が生じる。
[0007] In order to satisfy these properties, it is particularly important to control the fluidity of the adhesive. If the fluidity of the adhesive is not appropriate, insufficient adhesive strength of the TAB lead and poor connection at the time of IC mounting will occur.

【0008】すなわち、接着剤の流動性が大きいと、接
着剤加熱キュア工程で発泡が生じIC実装時や回路基板
への接続時に該部が熱によりはじけ接続不良となった
り、TABリードの密着不足により剥がれが生じてしま
う。また、ICを搭載するデバイス孔に接着剤がはみ出
すことにより、ICを熱圧着する際に障害となり歩留ま
りの低下となる。
That is, if the fluidity of the adhesive is large, foaming occurs in the adhesive heating and curing step, and this portion is rejected by heat during IC mounting or connection to a circuit board, resulting in poor connection or insufficient adhesion of the TAB lead. Causes peeling. In addition, since the adhesive protrudes into the device hole in which the IC is mounted, it becomes an obstacle when the IC is thermocompression-bonded, and the yield is reduced.

【0009】これらの改善方法としては、接着剤成分で
あるポリアミド樹脂の重量平均分子量を規定した方法
(特開平2−143447号公報)などが提案されてい
る。
As a method for improving these, a method in which the weight average molecular weight of a polyamide resin as an adhesive component is specified (Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-143447) has been proposed.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記方
法は改善効果があるものの、近年の電子機器の軽薄短小
化に伴う急速なTABリードの微細化の進行に対応する
には充分でなかった。
However, although the above method has an effect of improvement, it has not been sufficient to cope with the rapid progress of miniaturization of TAB leads accompanying the recent reduction in the size and weight of electronic devices.

【0011】そこで本発明は、接着剤の流動性を厳密に
管理することにより、TABテープの絶縁性やTABリ
ード接着力等の信頼性を向上し、高密度TABテープに
適したTAB用接着剤付きテープおよびそれから得られ
たTABテープおよび半導体装置を提供するものであ
る。
[0011] Accordingly, the present invention improves the reliability of the TAB tape, such as the insulating properties and the adhesive strength of the TAB lead, by strictly controlling the fluidity of the adhesive. An object of the present invention is to provide an attached tape, a TAB tape obtained therefrom, and a semiconductor device.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、絶縁フ
イルム、接着剤層および保護フイルムをこの順に積層し
たものであるTAB用接着剤付きテープにおいて、該テ
ープの最大のオーバーハング(OH)量が20μm以下
の範囲であることを特徴とするTAB用接着剤付きテー
プにより達成される。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a TAB adhesive tape in which an insulating film, an adhesive layer and a protective film are laminated in this order, the largest overhang (OH) of the tape. This is achieved by an adhesive tape for TAB, wherein the amount is in the range of 20 μm or less.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】本発明のTAB用接着剤付きテー
プは、基本構成が絶縁フイルム、接着剤および保護フイ
ルムがこの順に積層されたものである。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The tape with an adhesive for TAB of the present invention has a basic structure in which an insulating film, an adhesive and a protective film are laminated in this order.

【0014】本発明に使用される保護フイルムは、防塵
あるいは取り扱い性の目的から使用されるものである。
The protective film used in the present invention is used for the purpose of preventing dust or handling.

【0015】本発明の保護フイルムとしては、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリフェニレンサルファイド、ポ
リエチレン、ポリプロピレンなどが使用可能である。な
かでも、ポリエチレンテレフタレートおよびポリフェニ
レンサルファイドは、引張り弾性率、引張り伸度がパン
チングに適しており、シャープなホール断面を形成する
ことができ特に好ましい。保護フイルムの厚みとして
は、10〜100μmのものが使用できるが、好ましく
は、20〜40μmである。
As the protective film of the present invention, polyethylene terephthalate, polyphenylene sulfide, polyethylene, polypropylene and the like can be used. Among them, polyethylene terephthalate and polyphenylene sulfide are particularly preferable because they have a tensile modulus of elasticity and a tensile elongation suitable for punching and can form a sharp hole cross section. The thickness of the protective film may be from 10 to 100 μm, but is preferably from 20 to 40 μm.

【0016】本発明に使用される絶縁フイルムとして
は、ポリイミド、ポリエーテルイミド、芳香族ポリアミ
ドなどのいわゆる耐熱性フイルム、あるいはフレキシブ
ルエポキシ/ガラスクロスなどの複合材料などが使用で
きる。なかでも、ポリイミドフイルムは、熱寸法安定性
の点から特に好ましい。
As the insulating film used in the present invention, a so-called heat-resistant film such as polyimide, polyetherimide, or aromatic polyamide, or a composite material such as flexible epoxy / glass cloth can be used. Among them, a polyimide film is particularly preferable from the viewpoint of thermal dimensional stability.

【0017】本発明に使用される接着剤層は、熱硬化型
のもので半硬化状の接着剤であることが好ましい。たと
えば、ポリアミド樹脂、フェノール樹脂などを含有する
ものである。さらに好ましくはエポキシ樹脂、硬化剤な
どを含有するものである。接着剤の諸特性を劣化させな
い範囲で、シリカ、アルミナなどの微粒子を添加しても
よい。
The adhesive layer used in the present invention is preferably a thermosetting adhesive and a semi-cured adhesive. For example, it contains a polyamide resin, a phenol resin and the like. More preferably, it contains an epoxy resin, a curing agent and the like. Fine particles such as silica and alumina may be added as long as the properties of the adhesive are not deteriorated.

【0018】接着剤層の成分であるポリアミド樹脂は、
酸とジアミンの混合物を熱重合することによって得られ
るもので、メタノールなどのアルコール類を主要成分と
する混合溶剤に溶解可能なものがすべて使用できる。と
りわけ、ポリアミド樹脂の原料として炭素数が36個で
あるジカルボン酸(いわゆる「ダイマー酸」)が主要成
分となっているもの(通称「ダイマー酸系ポリアミ
ド」)が好ましい。ポリアミド樹脂は一般的に吸水率が
大きいため絶縁抵抗が低くなる傾向があるが、ダイマー
酸を使用することによって、吸水率を小さくし電気絶縁
性を高くすることが可能となるためである。
The polyamide resin, which is a component of the adhesive layer,
Any one obtained by thermally polymerizing a mixture of an acid and a diamine, which can be dissolved in a mixed solvent containing an alcohol such as methanol as a main component, can be used. In particular, as a raw material of the polyamide resin, a resin containing a dicarboxylic acid having 36 carbon atoms (so-called “dimer acid”) as a main component (commonly called “dimer acid polyamide”) is preferable. The polyamide resin generally has a high water absorption and thus tends to have a low insulation resistance. However, the use of dimer acid makes it possible to reduce the water absorption and increase the electrical insulation.

【0019】ダイマー酸系ポリアミドは、ダイマー酸と
ジアミンの等モル混合物を熱重合することによって得る
ことができる。ジカルボン酸成分としてダイマー酸だけ
でなく、アゼライン酸、セバシン酸などの他のジカルボ
ン酸を共重合成分として含有していてもかまわない。こ
のときダイマー酸が、酸成分中で70mol%以上であるこ
とがより好ましい。ダイマー酸系ポリアミドの中では、
高重合度のものの方が、吸水率が比較的低く、高湿度の
雰囲気でも電気絶縁性が高くなりやすいので好ましい。
The dimer acid polyamide can be obtained by thermally polymerizing an equimolar mixture of dimer acid and diamine. As the dicarboxylic acid component, not only dimer acid but also other dicarboxylic acids such as azelaic acid and sebacic acid may be contained as copolymer components. At this time, the dimer acid content is more preferably 70 mol% or more in the acid component. Among the dimer acid polyamides,
Those having a high degree of polymerization are preferred because they have a relatively low water absorption rate and tend to have high electrical insulation even in a high humidity atmosphere.

【0020】ジアミン成分としては、ヘキサメチレンジ
アミン、エチレンジアミン、ピペラジン、ビス(4-ア
ミノシクロヘキシル)メタン、ビス(4-アミノ-1,2-
ジメチルシクロヘキシル)メタンなどがあげられるが、
特に好ましいものは、ヘキサメチレンジアミンである。
ヘキサメチレンジアミンを主成分としたダイマー酸系ポ
リアミドは、総合性能において優れた特性を発揮するた
め特に好ましい。また、ジアミン成分も一種だけでな
く、二種以上混合したものも使用することができる。
The diamine components include hexamethylenediamine, ethylenediamine, piperazine, bis (4-aminocyclohexyl) methane, and bis (4-amino-1,2-)
Dimethylcyclohexyl) methane and the like,
Particularly preferred is hexamethylenediamine.
A dimer acid-based polyamide containing hexamethylenediamine as a main component is particularly preferable because it exhibits excellent characteristics in overall performance. Further, not only one kind of diamine component but also a mixture of two or more kinds can be used.

【0021】接着剤層の成分であるエポキシ樹脂として
は、ビスフェノール型、ノボラック型、クレゾールノボ
ラック型、多官能型、ビフェニル型、ナフタレン型、ジ
シクロペンタジエン骨格を有するなどの公知のエポキシ
樹脂が使用可能である。
As the epoxy resin which is a component of the adhesive layer, known epoxy resins such as bisphenol type, novolak type, cresol novolak type, polyfunctional type, biphenyl type, naphthalene type and dicyclopentadiene skeleton can be used. It is.

【0022】接着剤層の成分であるフェノール樹脂は、
ノボラック型、レゾール型、クレゾールノボラック型の
各種タイプをはじめ、ポリパラビニルフェノールなど公
知のフェノール樹脂が使用可能である。
The phenol resin, which is a component of the adhesive layer,
Known phenolic resins such as polyparavinylphenol, including various types such as novolak type, resol type and cresol novolak type can be used.

【0023】接着剤層の成分である硬化剤としては、一
般的なエポキシ樹脂用硬化剤が使用可能である。例え
ば、ジアミン、酸無水物、ルイス酸型エポキシ硬化剤な
どである。
As the curing agent which is a component of the adhesive layer, a general curing agent for epoxy resin can be used. For example, diamines, acid anhydrides, Lewis acid type epoxy curing agents, and the like.

【0024】接着剤層中のそれぞれの成分比は、ポリア
ミド樹脂を100重量部とした場合、エポキシ樹脂は3
0〜80重量部の範囲、フェノール系樹脂は20〜70
重量部の範囲から選択される。また、硬化剤は0.1〜
10重量部の範囲で使用されることが好ましい。
The respective component ratios in the adhesive layer are as follows: when the polyamide resin is 100 parts by weight, the epoxy resin is 3 parts by weight.
0-80 parts by weight, phenolic resin 20-70
It is selected from the range of parts by weight. The curing agent is 0.1 to 0.1.
It is preferably used in a range of 10 parts by weight.

【0025】上記の各成分を溶媒に溶解することによ
り、接着剤樹脂混合溶液を得る。接着剤各成分を溶解す
る溶媒としては、トルエン、キシレン、クロロベンゼ
ン、ベンジルアルコールなどの芳香族系溶媒、メタノー
ル、エタノール、イソプロピルアルコール、ブチルアル
コールなどのアルコール系溶媒などが、それぞれ単独で
あるいは二種以上の混合溶媒として使用できる。
By dissolving each of the above components in a solvent, an adhesive resin mixed solution is obtained. Solvents for dissolving each component of the adhesive include aromatic solvents such as toluene, xylene, chlorobenzene, and benzyl alcohol, and alcohol solvents such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, and butyl alcohol. Can be used as a mixed solvent.

【0026】TAB用接着剤付きテープは、通常、次に
示すいずれかの方法で作られる。
A tape with an adhesive for TAB is usually produced by any of the following methods.

【0027】まず、第1の離型フイルムに、接着剤樹脂
混合溶液を塗布、乾燥し、これに必要に応じ第2の離型
フイルムを張り合わせる。次に、目的とする幅にスリッ
トする。これをあらかじめ目的の幅にスリットされたポ
リイミドなどの可撓性絶縁フイルムに、第1もしくは第
2の離型フイルムを剥がして接着剤面を張り合わせる。
また、別の方法として、絶縁フイルムに、直接、所定の
幅に接着剤樹脂混合溶液を塗布、乾燥し、離型フイルム
(保護フイルム)を張り合わせてもよい。
First, an adhesive resin mixed solution is applied to a first release film, dried, and a second release film is attached to the first release film if necessary. Next, slitting is performed to a target width. The first or second release film is peeled off from a flexible insulating film made of polyimide or the like which has been slit to a desired width in advance, and the adhesive surface is adhered.
As another method, an adhesive resin mixed solution may be directly applied to a predetermined width on the insulating film, dried, and a release film (protective film) may be attached.

【0028】通常、テープの接着剤の幅は、スプロケッ
ト孔開孔予定部にはかからないように基材である絶縁フ
イルムより狭く設定されているのが好ましい。
Usually, it is preferable that the width of the adhesive of the tape is set to be narrower than that of the insulating film as the base material so as not to cover the portion where the sprocket holes are to be formed.

【0029】IC搭載用のTABテープは、上記TAB
用接着剤付きテープを使用して、概略次の工程を経て作
られ、かくして得られたTABテープにICが搭載され
る。
The TAB tape for mounting the IC is the above-mentioned TAB tape.
An IC is mounted on the TAB tape obtained through the following steps using a tape with an adhesive.

【0030】(1)スプロケット穴、デバイス穴などの
パンチング工程 (2)保護フイルム除去、銅箔ラミネート工程 (3)接着剤加熱キュア工程 (4)フォトレジスト塗布、パターン露光、現像工程 (5)銅箔パターンエッチング工程 (6)フォトレジスト剥離工程 (7)(必要によりソルダーレジスト塗布工程) (8)メッキ工程(スズ、半田、金など)。
(1) Punching process for sprocket holes, device holes, etc. (2) Removal of protective film, copper foil laminating process (3) Adhesive heating curing process (4) Photoresist coating, pattern exposure, developing process (5) Copper Foil pattern etching step (6) Photoresist stripping step (7) (Solder resist coating step if necessary) (8) Plating step (tin, solder, gold, etc.).

【0031】本発明におけるTAB用接着剤付きテープ
は、上記銅箔ラミネート工程での最大のオーバーハング
(OH)量が20μm以下、好ましくは2〜20μm、
さらに好ましくは2〜15μmの範囲であることが重要
である。最大のオーバーハング(OH)量が20μmよ
りも大きいTAB用接着剤付きテープを用いると、接着
剤加熱キュア工程で発泡が生じIC実装時や回路基板へ
の接続時に該部が熱によりはじけ接続不良となったり、
TABリードの密着不足により剥がれが生じてしまうの
で好ましくない。また、ICを搭載するデバイス孔に接
着剤がはみ出すことによる寸法変化により、ICを熱圧
着する際に障害となり歩留まりの低下となるので好まし
くない。
The TAB adhesive tape according to the present invention has a maximum overhang (OH) amount of 20 μm or less, preferably 2 to 20 μm in the above copper foil laminating step.
More preferably, it is important to be in the range of 2 to 15 μm. When a TAB adhesive tape with a maximum overhang (OH) amount larger than 20 μm is used, foaming occurs in the adhesive heating curing step, and the part is rejected by heat during IC mounting or connection to a circuit board, resulting in poor connection. Become
It is not preferable because the TAB lead is peeled off due to insufficient adhesion. In addition, the dimensional change due to the protrusion of the adhesive into the device hole on which the IC is mounted is unfavorable because it causes an obstacle when the IC is thermocompression-bonded and lowers the yield.

【0032】なお、オーバーハング(OH)量とは、T
AB用接着剤付きテープと25μm電解銅箔とを温度1
30℃、圧力3kg/cm、速度1m/minで熱圧着し、80℃
×3時間、100℃×5時間、150℃×5時間の条件
で加熱キュアを行い、エッチングをした後に接着剤がは
み出した大きさの値を測定したものである。
The amount of overhang (OH) is defined as T
A tape with an adhesive for AB and a 25 μm electrolytic copper foil were heated at a temperature of 1
Thermocompression bonding at 30 ℃, pressure 3kg / cm, speed 1m / min, 80 ℃
Heat curing was performed under the conditions of × 3 hours, 100 ° C. × 5 hours, and 150 ° C. × 5 hours, and after etching, the value of the size of the protruding adhesive was measured.

【0033】[0033]

【実施例】以下、実施例により本発明の内容を詳細に説
明する。なお、本実施例における各試験は次のようにし
て行った。
EXAMPLES The contents of the present invention will be described in detail below with reference to examples. In addition, each test in this example was performed as follows.

【0034】[オーバーハング(OH)量測定法]TA
B用接着剤付きテープに5mm×7mm□の穴を開け、保護
フイルムを除去し、25μm電解銅箔と接着面とを13
0℃、3kg/cm、1m/minでラミネートした。エアオーブ
ン中で、80℃×3時間、100℃×5時間、150℃
×5時間の条件で接着剤の加熱キュアを行い、銅箔付き
TAB用テープを得た。得られた銅箔付きTAB用テー
プの銅箔面を全面エッチングし、顕微鏡(×200)で
該穴部での接着剤のしみ出し量(μm)を測定した。
[Method of measuring overhang (OH) amount] TA
Drill a 5 mm x 7 mm square hole in the tape with adhesive for B, remove the protective film, and remove the 25 µm electrolytic copper foil from the adhesive surface.
Lamination was performed at 0 ° C., 3 kg / cm, and 1 m / min. 80 ° C x 3 hours, 100 ° C x 5 hours, 150 ° C in an air oven
The adhesive was heated and cured under the conditions of × 5 hours to obtain a TAB tape with a copper foil. The entire copper foil surface of the obtained TAB tape with copper foil was etched, and the amount of the exuded adhesive (μm) at the hole was measured with a microscope (× 200).

【0035】[接着強度測定法]TAB用接着剤付きテ
ープの保護フイルムを除去し、25μm電解銅箔と接着
面とを130℃、3kg/cm、1m/minでラミネートした。
エアオーブン中で、80℃×3時間、100℃×5時
間、150℃×5時間の条件で接着剤の加熱キュアを行
い、銅箔付きTAB用テープを得た。得られた銅箔付き
TAB用テープの銅箔面に常法によりフォトレジスト膜
形成、エッチング、レジスト剥離を行い、導体幅50μ
mのサンプルを得た。その導体を90゜方向に50mm/m
inの速度で剥離し、接着力を測定した。
[Measurement Method of Adhesive Strength] The protective film of the tape with an adhesive for TAB was removed, and a 25 μm electrolytic copper foil and an adhesive surface were laminated at 130 ° C., 3 kg / cm, 1 m / min.
The adhesive was heated and cured in an air oven at 80 ° C. × 3 hours, 100 ° C. × 5 hours, and 150 ° C. × 5 hours to obtain a TAB tape with copper foil. A photoresist film is formed on the copper foil surface of the obtained TAB tape with copper foil, etching and resist peeling are performed by a conventional method, and the conductor width is 50 μm.
m samples were obtained. 50mm / m in 90 ° direction
The film was peeled at a speed of in, and the adhesive strength was measured.

【0036】[外観検査法]TAB用接着剤付きテープ
の保護フイルムを除去し、25μm電解銅箔と接着面と
を130℃、3kg/cm、1m/minでラミネートした。エア
オーブン中で、80℃×3時間、100℃×5時間、1
50℃×5時間の条件で接着剤の加熱キュアを行い、銅
箔付きTAB用テープを得た。得られた銅箔付きTAB
用テープの銅箔面を全面エッチングし、発泡等の外観検
査を顕微鏡(×20)で行った。150cm2の大きさ
を検査し、発泡が5個以下を良好とし、6個以上を不良
とした。
[Appearance Inspection Method] The protective film of the TAB adhesive tape was removed, and a 25 μm electrolytic copper foil and an adhesive surface were laminated at 130 ° C., 3 kg / cm, 1 m / min. 80 ° C. × 3 hours, 100 ° C. × 5 hours, 1 in air oven
The adhesive was heated and cured at 50 ° C. for 5 hours to obtain a TAB tape with a copper foil. TAB with copper foil obtained
The entire surface of the copper foil surface of the tape for etching was etched, and an appearance inspection such as foaming was performed with a microscope (× 20). The size of 150 cm 2 was inspected, and when 5 or less foaming was good, when 6 or more foaming was bad.

【0037】[実施例1]下記接着剤組成物を固形分濃
度20重量%となるようにメタノール/モノクロルベン
ゼン混合溶液に溶解した後、離型処理を施した厚さ25
μmのポリエチレンテレフタレートフイルムに、乾燥膜
厚が18μmとなるように塗布し、エアオーブンを使用
し100℃で1分、150℃で2分乾燥した。該フイル
ムの接着面を厚さ75μmのポリイミドフイルム(宇部
興産製“ユーピレックス”75S)にロールラミネート
方式により、120℃、2kg/cm、1m/min熱圧着し、T
AB用接着剤付きテープを作成した。
Example 1 The following adhesive composition was dissolved in a mixed solution of methanol / monochlorobenzene so as to have a solid concentration of 20% by weight, and then subjected to a release treatment to a thickness of 25%.
It was applied to a μm polyethylene terephthalate film so as to have a dry film thickness of 18 μm, and dried at 100 ° C. for 1 minute and 150 ° C. for 2 minutes using an air oven. The adhesive surface of the film was thermocompression-bonded to a 75 μm-thick polyimide film (“UPILEX” 75S manufactured by Ube Industries, Ltd.) by roll lamination at 120 ° C., 2 kg / cm, 1 m / min.
A tape with an adhesive for AB was prepared.

【0038】<接着剤組成> ポリアミド樹脂(ヘンケル社製ナイロン“MACROM
ELT”6901):100重量部 熱硬化型アルキルフェノール樹脂(大日本インキ社製T
D-2625):75重量部。
<Adhesive Composition> Polyamide resin (Nylon “MACROM” manufactured by Henkel Co.)
ELT "6901): 100 parts by weight Thermosetting type alkylphenol resin (T by Nippon Ink Co., Ltd.)
D-2625): 75 parts by weight.

【0039】上記で得られたTAB用接着剤付きテープ
を60℃×4日の条件で加熱キュア処理した。得られた
TAB用接着剤付きテープの特性を表1に示した。
The TAB adhesive tape obtained above was heated and cured at 60 ° C. for 4 days. Table 1 shows the properties of the obtained tape with an adhesive for TAB.

【0040】[実施例2]TAB用接着剤付きテープの
加熱キュア条件を60℃×6日処理とすること以外は、
実施例1と全く同じTAB用接着剤付きテープを作成し
た。得られたTAB用接着剤付きテープの特性を表1に
示した。
[Example 2] [0040] Except that the heating and curing conditions of the TAB adhesive-attached tape were 60 ° C x 6 days,
A tape with the same adhesive for TAB as in Example 1 was produced. Table 1 shows the properties of the obtained tape with an adhesive for TAB.

【0041】[実施例3]TAB用接着剤付きテープの
加熱キュア条件を60℃×8日処理とすること以外は、
実施例1と全く同じTAB用接着剤付きテープを作成し
た。得られたTAB用接着剤付きテープの特性を表1に
示した。
[Example 3] A heating and curing condition of a TAB adhesive-attached tape was set to a treatment at 60 ° C for 8 days.
A tape with the same adhesive for TAB as in Example 1 was produced. Table 1 shows the properties of the obtained tape with an adhesive for TAB.

【0042】[実施例4]接着剤の組成が下記であるこ
と以外は実施例1と全く同じTAB用接着剤付きテープ
を作成した。得られたTAB用接着剤付きテープの特性
を表1に示した。
Example 4 A tape with an adhesive for TAB was prepared in exactly the same manner as in Example 1 except that the composition of the adhesive was as follows. Table 1 shows the properties of the obtained tape with an adhesive for TAB.

【0043】<接着剤組成> ポリアミド樹脂(ユニケマ社製ナイロン6・36“PR
IADIT”2053):100重量部 熱硬化型アルキルフェノール樹脂(群栄化学社製PS2
780):80重量部。
<Adhesive composition> Polyamide resin (nylon 6.36 "PR manufactured by Unichema")
IADIT "2053): 100 parts by weight Thermosetting alkylphenol resin (PS2 manufactured by Gunei Chemical Co., Ltd.)
780): 80 parts by weight.

【0044】[実施例5]TAB用接着剤付きテープの
加熱キュア条件を60℃×6日処理とすること以外は、
実施例4と全く同じTAB用接着剤付きテープを作成し
た。得られたTAB用接着剤付きテープの特性を表1に
示した。
Example 5 The conditions for heating the tape with the TAB adhesive were as follows:
The exactly same tape with an adhesive for TAB as in Example 4 was produced. Table 1 shows the properties of the obtained tape with an adhesive for TAB.

【0045】[実施例6]TAB用接着剤付きテープの
加熱キュア条件を60℃×8日処理とすること以外は、
実施例4と全く同じTAB用接着剤付きテープを作成し
た。得られたTAB用接着剤付きテープの特性を表1に
示した。
[Example 6] A heating and curing condition of a tape with an adhesive for TAB was set at 60 ° C x 8 days, except that
The exactly same tape with an adhesive for TAB as in Example 4 was produced. Table 1 shows the properties of the obtained tape with an adhesive for TAB.

【0046】[比較例1]TAB用接着剤付きテープの
加熱キュア条件を60℃×2日処理とすること以外は、
実施例1と全く同じTAB用接着剤付きテープを作成し
た。得られたTAB用接着剤付きテープの特性を表1に
示した。
[Comparative Example 1] A heating and curing condition of a tape with an adhesive for TAB was set to be a treatment at 60 ° C for 2 days.
A tape with the same adhesive for TAB as in Example 1 was produced. Table 1 shows the properties of the obtained tape with an adhesive for TAB.

【0047】[比較例2]TAB用接着剤付きテープの
加熱キュア条件を60℃×3日処理とすること以外は、
実施例1と全く同じTAB用接着剤付きテープを作成し
た。得られたTAB用接着剤付きテープの特性を表1に
示した。
[Comparative Example 2] Except that the heating and curing conditions of the tape with the TAB adhesive were set to 60 ° C x 3 days,
A tape with the same adhesive for TAB as in Example 1 was produced. Table 1 shows the properties of the obtained tape with an adhesive for TAB.

【0048】[比較例3]TAB用接着剤付きテープの
加熱キュア条件を60℃×2日処理とすること以外は、
実施例4と全く同じTAB用接着剤付きテープを作成し
た。得られたTAB用接着剤付きテープの特性を表1に
示した。
COMPARATIVE EXAMPLE 3 Except that the heating and curing conditions of the TAB adhesive tape were 60 ° C. × 2 days,
The exactly same tape with an adhesive for TAB as in Example 4 was produced. Table 1 shows the properties of the obtained tape with an adhesive for TAB.

【0049】[比較例4]TAB用接着剤付きテープの
加熱キュア条件を60℃×3日処理とすること以外は、
実施例4と全く同じTAB用接着剤付きテープを作成し
た。得られたTAB用接着剤付きテープの特性を表1に
示した。
[Comparative Example 4] Except that the heating and curing conditions for the TAB-attached tape were 60 ° C x 3 days,
The exactly same tape with an adhesive for TAB as in Example 4 was produced. Table 1 shows the properties of the obtained tape with an adhesive for TAB.

【0050】[0050]

【表1】 [Table 1]

【0051】[0051]

【発明の効果】本発明にかかるTAB用接着剤付きテー
プは、従来よりTABテープの加工工程において、接着
剤のはみ出しやTABリードの接続不良や密着不良等の
問題が生じ、TABテープの歩留まり低下を発生させて
いたのに対して、これらの問題を発生することなく高歩
留まりで良品のTABテープを得ることができる高性能
なものである。
The tape with an adhesive for TAB according to the present invention conventionally causes problems such as protrusion of the adhesive, poor connection of the TAB lead and poor adhesion in the process of processing the TAB tape, and the yield of the TAB tape is reduced. However, high-quality TAB tapes can be obtained with a high yield without causing these problems.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のTAB用接着剤付きテープを加工して
得られた、半導体集積回路搭載前のパターンテープの一
態様の斜視図。
FIG. 1 is a perspective view of one embodiment of a pattern tape before mounting a semiconductor integrated circuit, obtained by processing a tape with an adhesive for TAB of the present invention.

【図2】本発明のTAB用接着剤付きテープを用いた半
導体装置の一態様の断面図。
FIG. 2 is a cross-sectional view of one embodiment of a semiconductor device using the tape with an adhesive for TAB of the present invention.

【図3】本発明のTAB用接着剤付きテープを用いた半
導体装置(BGA)の一態様の断面図。
FIG. 3 is a cross-sectional view of one embodiment of a semiconductor device (BGA) using a tape with an adhesive for TAB of the present invention.

【図4】本発明のTAB用接着剤付きテープを用いた半
導体装置(CSP)の一態様の断面図。
FIG. 4 is a cross-sectional view of one embodiment of a semiconductor device (CSP) using a tape with an adhesive for TAB of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 可撓性を有する絶縁性フィルム 2,13,21 接着剤 3 スプロッケト孔 4 デバイス孔 5,14、22 半導体集積回路接続用の導体 6 インナーリード部 7 アウターリード部 8,15,23 半導体集積回路 9,16,24 封止樹脂 10,17,25 金バンプ 11 保護膜 18,26 ハンダボール 19 補強板 27 ソルダーレジスト DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Insulating film which has flexibility 2,13,21 Adhesive 3 Sprocket hole 4 Device hole 5,14,22 Conductor for connecting a semiconductor integrated circuit 6 Inner lead part 7 Outer lead part 8,15,23 Semiconductor integrated circuit 9, 16, 24 Sealing resin 10, 17, 25 Gold bump 11 Protective film 18, 26 Solder ball 19 Reinforcement plate 27 Solder resist

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】絶縁フイルム、接着剤層および保護フイル
ムをこの順に積層したものであるTAB用接着剤付きテ
ープにおいて、該テープの最大のオーバーハング量が2
0μm以下の範囲であることを特徴とするTAB用接着
剤付きテープ。
1. A TAB adhesive tape comprising an insulating film, an adhesive layer and a protective film laminated in this order, has a maximum overhang of 2 tapes.
A tape with an adhesive for TAB, which is in a range of 0 μm or less.
【請求項2】最大のオーバーハング量が2〜20μmの
範囲であることを特徴とする請求項1記載のTAB用接
着剤付きテープ。
2. The tape with an adhesive for TAB according to claim 1, wherein the maximum amount of overhang is in the range of 2 to 20 μm.
【請求項3】最大のオーバーハング量が2〜15μmの
範囲であることを特徴とする請求項1記載のTAB用接
着剤付きテープ。
3. The tape with TAB adhesive according to claim 1, wherein the maximum amount of overhang is in the range of 2 to 15 μm.
【請求項4】絶縁フイルムがポリイミドフイルムである
ことを特徴とする請求項1記載のTAB用接着剤付きテ
ープ。
4. The tape with an adhesive for TAB according to claim 1, wherein the insulating film is a polyimide film.
【請求項5】接着剤層がポリアミド樹脂およびフェノー
ル樹脂を含有することを特徴とする請求項1記載のTA
B用接着剤付きテープ。
5. The TA according to claim 1, wherein the adhesive layer contains a polyamide resin and a phenol resin.
Tape with adhesive for B.
【請求項6】ポリアミド樹脂が炭素数36のジカルボン
酸を構成成分として含有することを特徴とする請求項5
記載のTAB用接着剤付きテープ。
6. A polyamide resin comprising a dicarboxylic acid having 36 carbon atoms as a constituent.
The adhesive tape for TAB according to the above.
【請求項7】請求項1〜6のいずれかに記載のTAB用
接着剤付きテープを用いたTABテープ。
7. A TAB tape using the tape with an adhesive for TAB according to claim 1.
【請求項8】請求項1〜6のいずれかに記載のTAB用
接着剤付きテープを用いた半導体装置。
8. A semiconductor device using the tape with an adhesive for TAB according to claim 1.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2022201979A1 (en) * 2021-03-23 2022-09-29 パナソニックIpマネジメント株式会社 Resin composition, prepreg, resin-equipped film, resin-equipped metal foil, metal-cladded laminated plate, and printed wiring board

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