JP3326372B2 - Adhesive for electronic parts and adhesive tape for electronic parts - Google Patents

Adhesive for electronic parts and adhesive tape for electronic parts

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce heat absorption of a bonding agent layer during a thermal process, and to improve reliability both at the time of mounting and after mounting, by permitting the bonding agent to contain a group of trihydroxyphenylmethane phenol resin having a structurally large free volume. SOLUTION: Trihydroxyphenylmethane phenol resins are generally represented by formula. The content of a trihydroxyphenylmethane phenol resin should desirably be at 5-15 wt.% in consideration of low-heat shrinkage and insulation reliability of a bonding agent. Less than 5 wt.% content of the phenol resin renders a tape to suffer great warpage, which is liable to cause problems such as a bonding failure ascribed to positional shift of the leads, at the time of bonding an inner lead and an outer lead to a semiconductor chip. On the other hand, a content greater than 15 wt.% is apt to cause the problem of lowering insulation reliability.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体デバイスの
組立工程において、デバイスの多ピン化、小型化、高密
度実装に適した例えばTAB(Tape Automated Bondin
g)方式等に用いて好適な電子部品用接着剤、および、
この接着剤を用いたTAB用テープ、リードフレーム固
定用テープ、およびリードフレームとTABテープをワ
イヤーボンディングにより接続する方式等に用いる電子
部品用接着テープに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a process for assembling a semiconductor device, such as a TAB (Tape Automated Bondin) suitable for increasing the number of pins, miniaturizing the device, and mounting the device at high density.
g) Adhesives for electronic components suitable for use in methods, etc., and
The present invention relates to a TAB tape and a lead frame fixing tape using this adhesive, and an electronic component adhesive tape used for a method of connecting a lead frame and a TAB tape by wire bonding.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、TAB方式によるフィルムテープ
キャリアは、次のような加工工程を経て製造されてい
る。 1)TAB用テープに、スプロケット・デバイスホール
をスタンピングにより穿孔する。 2)穿孔されたTAB用テープに銅箔を熱圧着した後、
加熱により接着剤を硬化させる。 3)フォトレジストを塗布し、マスクを通して紫外線等
を照射した後、現像する。 4)デバイスホールの裏打ち、銅のエッチング、レジス
ト除去、裏打ちの除去を行い、回路を作成し、ソルダー
レジストをかける。 5)錫、金メッキ等を行う。 以上の工程を経て作製されたテープに、チップをインナ
ーリードボンディングした後、アウターリードを切断
し、プリント基盤等にアウターリードボンディングし、
樹脂で封止する。あるいは、インナーリードボンディン
グした後、樹脂で封止し、周辺回路も含めて切断し、ア
ウターリードボンディングする。
2. Description of the Related Art Conventionally, a film tape carrier based on the TAB method has been manufactured through the following processing steps. 1) Drill a sprocket device hole into a TAB tape by stamping. 2) After thermocompression bonding copper foil to the perforated TAB tape,
The adhesive is cured by heating. 3) A photoresist is applied, irradiated with ultraviolet rays or the like through a mask, and then developed. 4) Backing the device hole, etching copper, removing the resist, and removing the backing to create a circuit and apply a solder resist. 5) Perform tin or gold plating. After performing the inner lead bonding of the chip to the tape manufactured through the above steps, the outer lead is cut, and the outer lead is bonded to a printed board or the like,
Seal with resin. Alternatively, after inner lead bonding, sealing is performed with a resin, cutting is performed including peripheral circuits, and outer lead bonding is performed.

【0003】また、リードフレーム固定用テープは、リ
ードピン上にテーピングされた後、半導体メーカに納入
され、ICを搭載した後に樹脂封止される。そのため、
リードフレーム固定用テープには、半導体レベルでの絶
縁信頼性および十分な接着力並びに半導体装置組立工程
での加熱に耐える充分な耐熱性等が要求される。
[0003] Further, the lead frame fixing tape is taped on lead pins, delivered to a semiconductor maker, and sealed with a resin after mounting an IC. for that reason,
The lead frame fixing tape is required to have insulation reliability and sufficient adhesive strength at a semiconductor level and sufficient heat resistance to withstand heating in a semiconductor device assembly process.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】上記したフィルムテー
プキャリアの製造工程のうち、テープに半導体チップを
インナーリードボンディングする際および/またはアウ
ターリードボンディングする際に、接着剤の熱収縮に起
因したテープのソリが問題となっている。すなわち、今
後益々高集積、小型化する中で、組立工程時の熱プロセ
スによるテープのソリが、半導体デバイスの製造不良の
大きな原因となってきている。テープのソリは、ベース
フィルム自身の熱収縮も挙げられるが、多くは接着剤の
熱硬化過程およびその後の熱履歴による収縮に起因する
ところが多い。特に、接着剤の組成により熱収縮は大き
く支配される。
In the film tape carrier manufacturing process described above, when the semiconductor chip is subjected to the inner lead bonding and / or the outer lead bonding to the tape, the tape is caused by heat shrinkage of the adhesive. Sledding is a problem. In other words, as the integration and miniaturization continue to increase in the future, warpage of the tape caused by a thermal process during the assembly process has become a major cause of defective manufacturing of semiconductor devices. The warpage of the tape includes the heat shrinkage of the base film itself, but most of the warp is caused by the heat curing process of the adhesive and the subsequent shrinkage due to the heat history. In particular, heat shrinkage is largely controlled by the composition of the adhesive.

【0005】従来用いられてきたTAB用テープの接着
剤は、集積回路の高集積化、高電圧化が進む現在、より
耐熱性、絶縁信頼性の高い接着剤が要求されてきた経緯
で、その組成、反応機構から、熱収縮を伴う場合が多か
った。たとえば、従来においては、ポリアミド樹脂、エ
ポキシ樹脂、レゾール型フェノール樹脂を含有するもの
が使用されていた。そして、このような接着剤を用いた
TAB用テープでは、パターン形成されたテープにソリ
が生じ、テープに半導体チップをインナーリードボンデ
ィングする場合に、ボンディング不良、インナーリード
ボンディング後のリードの断線等が発生する恐れがあっ
た。
[0005] As the adhesive for TAB tapes which has been conventionally used, as the degree of integration and the voltage of integrated circuits are increasing, adhesives having higher heat resistance and insulation reliability have been demanded. In many cases, thermal shrinkage was involved due to the composition and reaction mechanism. For example, conventionally, those containing a polyamide resin, an epoxy resin, and a resol-type phenol resin have been used. In a TAB tape using such an adhesive, warpage occurs in the tape on which the pattern is formed, and when the semiconductor chip is subjected to inner lead bonding to the tape, bonding failure, disconnection of the lead after the inner lead bonding, and the like occur. There was a risk of occurrence.

【0006】また、従来のリードフレーム固定用テープ
では、接着剤層として例えばポリイミドフィルム等の支
持体上にポリアクリロニトリル、ポリアクリル酸エステ
ルあるいはアクリロニトリル−ブタジエン共重合体等の
合成ゴム系樹脂等の単独、または他の樹脂で変性したも
の、あるいは他の樹脂と混合した接着剤を塗布したもの
が使用されている。しかしながら、このような接着剤
は、耐熱性については充分な特性を備えているが、耐熱
性の改善に伴って熱収縮が大きくなり、加熱、冷却後に
リードピンの位置に狂いが生じるという問題があった。
In a conventional tape for fixing a lead frame, an adhesive layer such as a synthetic rubber resin such as polyacrylonitrile, polyacrylate or acrylonitrile-butadiene copolymer is formed on a support such as a polyimide film. Or modified with another resin, or coated with an adhesive mixed with another resin. However, such adhesives have sufficient heat resistance, but there is a problem in that heat shrinkage increases with the improvement in heat resistance, and the position of the lead pin becomes irregular after heating and cooling. Was.

【0007】よって、本発明は、従来のTAB用テープ
やリードフレーム固定用テープ等の電子部品用接着テー
プにおける上記のような問題を解決することを目的とす
るものであって、各組立工程時の熱プロセスによる接着
剤層の熱収縮を低減し、実装時及び実装後において信頼
性の高い電子部品用接着剤および電子部品用接着テープ
を提供することを目的としている。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to solve the above-mentioned problems in the conventional adhesive tapes for electronic parts such as TAB tapes and lead frame fixing tapes. It is an object of the present invention to provide a highly reliable electronic component adhesive and an electronic component adhesive tape at the time of mounting and after mounting by reducing the heat shrinkage of the adhesive layer due to the heat process.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者は、耐熱性およ
び耐絶縁性はもちろんのこと、熱収縮の少ない接着剤を
完成させるべく鋭意研究を行った結果、構造的に自由体
積の大きなトリヒドロキシフェニルメタン型フェノール
樹脂に着目し、種々の実験の結果、接着剤に含有させる
樹脂として最も好適であることを発見した。すなわち、
本発明の電子部品用接着剤は、トリヒドロキシフェニル
メタン型フェノール樹脂を含有する熱硬化型接着剤であ
ることを特徴としている。具体的には、本発明で用いら
れるトリヒドロキシフェニルメタン型フェノール樹脂
は、一般に下記一般式で示されるものをいう。
Means for Solving the Problems The present inventor has conducted intensive studies to complete an adhesive having low heat shrinkage as well as heat resistance and insulation resistance. Focusing on hydroxyphenylmethane type phenolic resin, as a result of various experiments, it was found that it is most suitable as a resin to be contained in an adhesive. That is,
The adhesive for electronic parts of the present invention is a thermosetting adhesive containing a trihydroxyphenylmethane type phenol resin. Specifically, the trihydroxyphenylmethane type phenol resin used in the present invention generally refers to a resin represented by the following general formula.

【0009】[0009]

【化5】 Embedded image

【0010】[0010]

【化6】 Embedded image

【0011】[0011]

【化7】 Embedded image

【0012】[0012]

【化8】 Embedded image

【0013】本発明におけるトリヒドロキシフェニルメ
タン型フェノール樹脂の含有率は、接着剤の低熱収縮、
絶縁信頼性の点を考慮すると、5〜15重量%であるこ
とが望ましい。すなわち、本発明においてトリヒドロキ
シフェニルメタン型フェノール樹脂の含有率が5重量%
より少ないと、テープのソリが大きくなり、半導体チッ
プとのインナーリードボンディングの際とアウターリー
ドボンディングの際に、リードの位置ずれによるボンデ
ィング不良、ボンディング後のリードの断線といった問
題が生じ易くなる。一方、含有率が15重量%より多い
と、絶縁信頼性の低下といった問題を生じ易くなる。ト
リヒドロキシフェニルメタン型フェノール樹脂の含有率
は、5〜12重量%であればさらに好適である。
The content of the trihydroxyphenylmethane type phenol resin in the present invention is determined by the low heat shrinkage of the adhesive,
In consideration of insulation reliability, the content is desirably 5 to 15% by weight. That is, in the present invention, the content of the trihydroxyphenylmethane type phenol resin is 5% by weight.
If the number is smaller, warpage of the tape becomes large, and problems such as bonding failure due to misalignment of the lead and disconnection of the lead after bonding are liable to occur at the time of inner lead bonding with the semiconductor chip and at the time of outer lead bonding. On the other hand, when the content is more than 15% by weight, a problem such as a decrease in insulation reliability tends to occur. More preferably, the content of the trihydroxyphenylmethane type phenol resin is 5 to 12% by weight.

【0014】本発明における接着剤の構成成分には、ト
リヒドロキシフェニルメタン型フェノール樹脂の他に、
その構造中に官能基を有し、該成分自体、及び/または
他の成分と反応を起こして硬化する成分を使用すること
ができる。例えばエポキシ樹脂、上記以外のフェノール
樹脂、マレイミド化合物を挙げることができる。以下、
それらの具体例について説明する。
The components of the adhesive in the present invention include, in addition to the trihydroxyphenylmethane type phenol resin,
A component having a functional group in its structure and reacting with the component itself and / or another component to cure the component can be used. For example, an epoxy resin, a phenol resin other than the above, and a maleimide compound can be used. Less than,
Specific examples thereof will be described.

【0015】A.エポキシ樹脂 本発明に使用できるエポキシ化合物としては、1分子中
に2個以上のエポキシ基を含有することが必要である。
具体的にはアリルグリシジルエーテル、ブチルグリシジ
ルエーテル、グリシジルメタクリレート、3、4−エポ
キシ−6−メチルシクロヘキシルメチル−3、4−エポ
キシ−6−メチルシクロヘキセンカルボキシレート、ビ
ニルシクロヘキセンカルボキシレート、ビニルシクロヘ
キセンジオキサイド、ジペンテンジオキサイド、ジシク
ロペンタジエンジオキサイド、ビス(3、4−エポキシ
−6−メチルシクロヘキシルメチル)アジペート、テト
ラヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、フェノールノ
ボラックエポキシ樹脂、トリグリシジルイソシアネート
ビスフェノールAとエピクロルヒドリンから得られるビ
スフェノールAジグリシジルエーテルなどのビスフェノ
ールA型エポキシ樹脂、エポキシ化クレゾールノボラッ
ク樹脂、トリヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂
に代表される多官能型エポキシ樹脂、上記エポキシ化合
物を脂肪酸で部分変性したエポキシ化合物などが例示さ
れる。さらにその他の構造のエポキシ化合物例えば、シ
リコン、NBR、SBR、ダイマー酸等の各種エラスト
マー変性エポキシ樹脂等を併用することもできる。
A. Epoxy resin The epoxy compound that can be used in the present invention must contain two or more epoxy groups in one molecule.
Specifically, allyl glycidyl ether, butyl glycidyl ether, glycidyl methacrylate, 3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl-3, 4-epoxy-6-methylcyclohexenecarboxylate, vinylcyclohexenecarboxylate, vinylcyclohexene dioxide, Bisphenol A obtained from dipentenedionoxide, dicyclopentadienedioxide, bis (3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl) adipate, diglycidyl tetrahydrophthalate, phenol novolak epoxy resin, triglycidyl isocyanate bisphenol A and epichlorohydrin Bisphenol A type epoxy resin such as diglycidyl ether, epoxidized cresol novolak resin, trihydric Polyfunctional epoxy resins represented by hydroxyphenyl methane type epoxy resins, etc. The epoxy compound of the epoxy compound was partially modified with fatty acids are exemplified. Further, epoxy compounds having other structures, for example, various elastomer-modified epoxy resins such as silicon, NBR, SBR, and dimer acid can be used in combination.

【0016】B.フェノール樹脂 本発明に使用できるフェノール樹脂としては、アルキル
フェノール樹脂、パラフェニルフェノール樹脂、ビスフ
ェノールA型フェノール樹脂等のノボラックフェノール
樹脂およびアルキルフェノール樹脂、クレゾール型フェ
ノール樹脂、ビスフェノールA型フェノール等のレゾー
ルフェノール樹脂、ポリフェニルパラフェノール樹脂
等、公知のフェノール樹脂が挙げられる。
B. Phenol resin Examples of the phenolic resin that can be used in the present invention include alkylphenol resin, paraphenylphenol resin, novolak phenol resin such as bisphenol A type phenol resin and alkylphenol resin, cresol type phenol resin, resol phenol resin such as bisphenol A type phenol, and polyphenol resin. Known phenol resins such as phenyl paraphenol resin are exemplified.

【0017】C.マレイミド化合物 本発明に使用できるマレイミド化合物としては、基本骨
格中に官能基としてマレイミド基を少なくとも1個以上
有するものであって、一般にはビスマレイミド類が挙げ
られる。具体的には、N,N’−m−フェニレンビスマ
レイミド、N,N’−m−トルイレンビスマレイミド、
N,N’−4,4−ビフェニレンビスマレイミド、N,
N’−4,4’−〔3,3’−ジメチルビフェニレ
ン〕ビスマレイミド、N,N’−〔3,3−ジメチルジ
フェニルメタン〕ビスマレイミド、N,N’−4,4’
−〔3,3−ジエチルジフェニルメタン〕ビスマレイミ
ド、N,N’−4,4’−ジフェニルメタンビスマレイ
ミド、N,N’−4,4’−ジフェニルプロパンビスマ
レイミド、N,N’−4,4’−ジフェニルエーテルビ
スマレイミド、N,N’−3,3’ージフェニルスルフ
ォンビスマレイミド、N, N’−4,4’−ジフェニ
ルスルフォンビスマレイミド等を挙げることができる。
また、本発明の接着剤には、硬化促進剤としてイミダゾ
ール化合物を含有してもよい。
C. Maleimide compound The maleimide compound that can be used in the present invention has at least one maleimide group as a functional group in the basic skeleton, and generally includes bismaleimides. Specifically, N, N'-m-phenylenebismaleimide, N, N'-m-toluylenebismaleimide,
N, N'-4,4-biphenylenebismaleimide, N,
N'-4,4 '-[3,3'-dimethylbiphenylene] bismaleimide, N, N'-[3,3-dimethyldiphenylmethane] bismaleimide, N, N'-4,4 '
-[3,3-diethyldiphenylmethane] bismaleimide, N, N'-4,4'-diphenylmethanebismaleimide, N, N'-4,4'-diphenylpropanebismaleimide, N, N'-4,4 ' -Diphenylether bismaleimide, N, N'-3,3'diphenylsulfonebismaleimide, N, N'-4,4'-diphenylsulfonebismaleimide and the like.
Further, the adhesive of the present invention may contain an imidazole compound as a curing accelerator.

【0018】D.電子部品用接着テープ 上記した本発明の接着剤を絶縁フィルムに接着剤層とし
て設けることによって、電子部品用接着テープを構成す
ることができる。接着剤層の層厚は6〜40μmが好ま
しく、さらに好ましくは10〜20μmが良い。接着剤
層は、絶縁フィルムに直接接するので、高温時において
も高い粘着性を示すとともに、絶縁フィルムとの高い接
着力を示し、かつ、銅箔等との高い接着性とフィルムキ
ャリアへの加工時にさらされる薬液に対して、優れた耐
薬品性を有することが要求される。さらに、フィルムキ
ャリアはスタンピング等の加工性が要求されるため、硬
化後の接着剤層にはフレキシビリティーがなければなら
ない。そのような条件を満たすために、本発明において
は、接着剤にポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、
ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂、NBR、SBR、
ポリビニルアセタール樹脂等の熱可塑性樹脂の少なくと
も1種を含有させることが好ましい。
D. Electronic Component Adhesive Tape An electronic component adhesive tape can be formed by providing the above-described adhesive of the present invention as an adhesive layer on an insulating film. The thickness of the adhesive layer is preferably 6 to 40 μm, more preferably 10 to 20 μm. Since the adhesive layer is in direct contact with the insulating film, it shows high adhesiveness even at high temperatures, shows high adhesive strength with the insulating film, and has high adhesiveness with copper foil and the like when processing into a film carrier. It is required that the chemicals to be exposed have excellent chemical resistance. Further, since the film carrier is required to have processability such as stamping, the adhesive layer after curing must have flexibility. In order to satisfy such conditions, in the present invention, a polyamide resin, a polyamide-imide resin,
Polyimide resin, polyester resin, NBR, SBR,
It is preferable to include at least one kind of thermoplastic resin such as polyvinyl acetal resin.

【0019】本発明の電子部品用接着シートを構成する
絶縁フィルムとしては、厚さ25〜188μm のものが
好ましく、さらに好ましい厚さは50〜125μmが良
い。絶縁フィルムは、ポリイミド、ポリエーテルイミ
ド、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルケトン
等の耐熱性プラスチックフィルムやエポキシ樹脂ーガラ
スクロス、エポキシ樹脂ーポリイミドーガラスクロス等
の複合耐熱フィルムからなる絶縁フィルムを使用するこ
とができる。
The insulating film constituting the adhesive sheet for electronic parts of the present invention preferably has a thickness of 25 to 188 μm, and more preferably 50 to 125 μm. As the insulating film, an insulating film made of a heat-resistant plastic film such as polyimide, polyetherimide, polyphenylene sulfide, or polyether ketone, or a composite heat-resistant film such as an epoxy resin-glass cloth or an epoxy resin-polyimide-glass cloth can be used.

【0020】電子部品用接着シートの接着剤層の表面に
は、剥離可能な保護フィルム(保護層)を設けることが
できる。この保護フィルムは、銅箔等を接着剤層に貼着
させるまでの間、接着剤層を保護するものであり、銅箔
等を貼着する際に剥離される。保護フィルムの好ましい
厚さは、15〜50μmである。保護フィルムの材料と
しては、例えば、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリプロピレン等のフィルムを使用することが
できる。なお、保護フィルムを剥離可能に構成するに
は、保護フィルムに剥離処理を施せば良い。
A peelable protective film (protective layer) can be provided on the surface of the adhesive layer of the adhesive sheet for electronic parts. This protective film protects the adhesive layer until the copper foil or the like is adhered to the adhesive layer, and is peeled off when the copper foil or the like is adhered. The preferred thickness of the protective film is 15 to 50 μm. As a material for the protective film, for example, a film such as polyethylene, polyethylene terephthalate, or polypropylene can be used. In order to form the protective film so that the protective film can be peeled, the protective film may be subjected to a peeling treatment.

【0021】E.電子部品用接着テープの製造方法 次に、本発明の電子部品用接着テープの製造方法をTA
B用テープを例にとって説明する。まず、(イ)保護フ
ィルムの上に、所定の配合の接着剤を乾燥後の膜厚が上
記した範囲になるように塗布し、接着剤層を形成する。
その際、半硬化状の状態にするために、100〜150
℃で5分間の加熱条件にて乾燥させる。次に、(ロ)形
成された接着剤層の表面に絶縁フィルムを重ね合わせ、
(ハ)100〜130℃で1kg/cm2以上の条件で
熱圧着し、(ニ)絶縁フィルムの上に接着剤層を介して
保護フィルムを積層したTAB用テープを得る。得られ
たTAB用テープは、例えば、幅30〜200mmで3
0〜300mの長さのものであり、巻軸に巻回されてス
トックされる。
E. Next, the method for producing the adhesive tape for electronic parts of the present invention is described by TA.
This will be described by taking the B tape as an example. First, (a) an adhesive having a predetermined composition is applied on the protective film so that the film thickness after drying is in the above-mentioned range, and an adhesive layer is formed.
At this time, in order to obtain a semi-cured state, 100 to 150
Dry under heating conditions at 5 ° C. for 5 minutes. Next, (b) an insulating film is superimposed on the surface of the formed adhesive layer,
(C) A thermocompression bonding is performed at 100 to 130 ° C. under a condition of 1 kg / cm 2 or more, and (d) a TAB tape in which a protective film is laminated on an insulating film via an adhesive layer. The obtained TAB tape is, for example, 3 to 30 mm in width and 200 mm in width.
It has a length of 0 to 300 m and is wound around a winding shaft and stocked.

【0022】[0022]

【実施例】以下、本発明を実施例によって説明する。な
お、以下の説明において「部」は全て「重量部」を意味
し、「%」は「重量%」を意味する。また、括弧内の数
値は固形分の重量部を示す。 [実施例1]厚さ38μmのポリエチレンテレフタレー
トからなる保護層に、下記組成の接着剤層形成用塗料を
塗布し、130℃5分間乾燥して、乾燥後の膜厚が12
μmの接着剤層を形成し、さらにその上に厚さ25μm
のポリエチレンテレフタレートからなる保護層を設けて
接着フィルムを作製した。
The present invention will be described below with reference to examples. In the following description, “parts” means “parts by weight”, and “%” means “% by weight”. Numerical values in parentheses indicate parts by weight of solids. Example 1 An adhesive layer forming paint having the following composition was applied to a protective layer made of polyethylene terephthalate having a thickness of 38 μm, and dried at 130 ° C. for 5 minutes.
μm adhesive layer, and further 25 μm thick
The protective film made of polyethylene terephthalate was provided to prepare an adhesive film.

【0023】 ・ポリアミド樹脂(“マクロメルト6239” ヘンケルジャパン社製)の25 %イソプロピルアルコール/トルエン混合溶液 45部(11.25部 )・ビスマレイミド樹脂(“BMI−MP” 三井東圧化学社製)の20%テト ラヒドロフラン溶液 17部(3.4 部)・エポキシ樹脂(“エピコート1031S” 油化シェル社製)の50%メ チルエチルケトン溶液 11部(5. 5部)・フェノール樹脂(本発明における必須成分:[化1]記載のトリヒドロ キシフェニルメタン型フェノール樹脂)の50%メタノール溶液 5.5部(2.75部 )・2−エチル−4−メチルイミダゾールの1%メチルエチルケトン溶液 22部(0.22部 ) (上記組成におけるフェノール樹脂は12.0%)• 45 parts (11.25 parts) of a 25% isopropyl alcohol / toluene mixed solution of a polyamide resin (“Macromelt 6239” manufactured by Henkel Japan) • bismaleimide resin (“BMI-MP” manufactured by Mitsui Toatsu Chemicals, Inc.) ) 20% tetrahydrofuran solution 17 parts (3.4 parts) · Epoxy resin (“Epicoat 1031S” manufactured by Yuka Shell Co., Ltd.) 50% methyl ethyl ketone solution 11 parts (5.5 parts) Essential component in the invention: 50% methanol solution of trihydroxyphenylmethane-type phenol resin described in [Chemical Formula 1] 5.5 parts (2.75 parts) 22% of 1% 2-ethyl-4-methylimidazole in 1% methyl ethyl ketone solution (0.22 parts) (Phenol resin in the above composition is 12.0%)

【0024】[実施例2]接着剤層形成用塗料として下
記組成のものを用いた以外は、実施例1と同様の方法に
て実施例2の接着フィルムを作製した。 ・ポリアミド樹脂(“マクロメルト6240” ヘンケルジャパン社製)の25 %イソプロピルアルコール/トルエン混合溶液 33部(16.5部 )・エポキシ樹脂(“TMII574” 住友化学工業社製)の50%メチルエ チルケトン溶液 13部(6.5 部) ・レゾール型フェノール樹脂(“BKM2620” 昭和高分子社製)の50% メチルエチルケトン溶液 6部(3部 )・ノボラック型フェノール樹脂(“CRG951” 昭和高分子社製)の50 %メチルエチルケトン溶液 6部(3 部)・フェノール樹脂(本発明における必須成分:[化2]記載のトリヒドロキ シフェニルメタン型フェノール樹脂)の50%メタノール溶液 8部( 4部)・2−エチル−4−メチルイミダゾールの1%メチルエチルケトン溶液 33部(0.33部 ) (上記組成におけるフェノール樹脂は12.0%)
Example 2 An adhesive film of Example 2 was prepared in the same manner as in Example 1 except that the coating composition for forming the adhesive layer had the following composition.・ 33 parts (16.5 parts) of 25% isopropyl alcohol / toluene mixed solution of polyamide resin (“Macromelt 6240” manufactured by Henkel Japan) ・ 50% methyl ethyl ketone solution of epoxy resin (“TMII574” manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) 13 parts (6.5 parts) ・ Resol type phenol resin (“BKM2620” manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.) 50% methyl ethyl ketone solution 6 parts (3 parts) ・ Novolak type phenol resin (“CRG951” manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.) 6 parts (3 parts) of a 50% methyl ethyl ketone solution 8 parts (4 parts) 2-ethyl- of a 50% methanol solution of a phenol resin (an essential component in the present invention: a trihydroxyphenylmethane type phenol resin described in Chemical Formula 2) 33 parts of a 1% solution of 4-methylimidazole in methyl ethyl ketone (0. 3) (12.0 percent phenolic resin in the composition)

【0025】[実施例3]接着剤層形成用塗料として下
記組成のものを用いた以外は、実施例1と同様の方法に
て実施例3の接着フィルムを作製した。 ・ポリアミド樹脂(“マクロメルト6240” ヘンケルジャパン社製)の25 %イソプロピルアルコール/トルエン混合溶液 50部(12.5部 )・エポキシ樹脂(“エピコート157S65” 油化シェル社製)の50%メ チルエチルケトン溶液 12部(6 部)・レゾール型フェノール樹脂(“CKM908” 昭和高分子社製)の50 %メチルエチルケトン溶液 7部(3. 5部)・フェノール樹脂(本発明における必須成分:[化3]記載のトリヒドロ キシフェニルメタン型フェノール)の50%メタノール溶液 6部 (3部)・2−エチル−4−メチルイミダゾールの1%メチルエチルケトン溶液 25部(0.25部 ) (上記組成におけるフェノール樹脂は11.9%)
Example 3 An adhesive film of Example 3 was prepared in the same manner as in Example 1, except that the coating composition for forming the adhesive layer had the following composition.・ 50 parts (12.5 parts) of a 25% isopropyl alcohol / toluene mixed solution of a polyamide resin (“Macromelt 6240” manufactured by Henkel Japan) ・ 50% methyl of an epoxy resin (“Epicoat 157S65” manufactured by Yuka Shell) 12 parts (6 parts) of ethyl ketone solution, 7 parts (3.5 parts) of a 50% methyl ethyl ketone solution of resole type phenol resin (“CKM908” manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.), and phenol resin (an essential component in the present invention: 6 parts (3 parts) of a 50% methanol solution of the above-mentioned trihydroxyphenylmethane-type phenol) and 25 parts (0.25 parts) of a 1% methyl ethyl ketone solution of 2-ethyl-4-methylimidazole (the phenol resin in the above composition is 11.9%)

【0026】[実施例4]接着剤層形成用塗料として下
記組成のものを用いた以外は、実施例1と同様の方法に
て実施例4の接着フィルムを作製した。 ・ポリアミド樹脂(“マクロメルト6239” ヘンケルジャパン社製)の25 %イソプロピルアルコール/トルエン混合溶液 50部(12.5部 )・エポキシ樹脂(“EOCN1020” 日本化薬社製)の50%メチルエチ ルケトン溶液 14部(7 部)・フェノール樹脂(本発明における必須成分:[化4]記載のトリヒドロキ シフェニルメタン型フェノール)の50%メタノール溶液 6部( 3部)・ノボラック型フェノール樹脂(“BRG555” 昭和高分子社製)の 50%メチルエチルケトン溶液 5部(2 .5部)・2−エチル−4−メチルイミダゾールの1%メチルエチルケトン溶液 25部(0.25部 ) (上記組成におけるフェノール樹脂は11.9%)
Example 4 An adhesive film of Example 4 was produced in the same manner as in Example 1, except that the coating composition for forming the adhesive layer had the following composition.・ 50 parts (12.5 parts) of a 25% isopropyl alcohol / toluene mixed solution of a polyamide resin (“Macromelt 6239” manufactured by Henkel Japan) ・ 50% methyl ethyl ketone solution of an epoxy resin (“EOCN1020” manufactured by Nippon Kayaku) 14 parts (7 parts) of a 50% methanol solution of a phenol resin (an essential component in the present invention: trihydroxyphenylmethane type phenol described in Chemical Formula 4) 6 parts (3 parts) of a novolak type phenol resin ("BRG555" Showa) 5 parts (2.5 parts) of a 50% methyl ethyl ketone solution of a polymer company) 25 parts (0.25 parts) of a 1% methyl ethyl ketone solution of 2-ethyl-4-methylimidazole (the phenol resin in the above composition is 11.9) %)

【0027】[実施例5] 接着剤層形成用塗料として下記組成のものを用いた以外
は、実施例1と同様の方法にて実施例5の接着フィルム
を作製した。 ・ポリアミド樹脂(“マクロメルト6239” ヘンケルジャパン社製)の25 %イソプロピルアルコール/トルエン混合溶液 44部(11部) ・ビスマレイミド樹脂(“BMI−MP” 三井東圧化学社製)の20%テトラ ヒドロフラン溶液 21部(4.2部) ・エポキシ樹脂(“エピコート1031S” 油化シェル社製)の50%メチル エチルケトン溶液 12部(6部) ・フェノール樹脂(本発明における必須成分:[化1]記載のトリヒドロキシフ ェニルメタン型フェノール樹脂)の50%メタノール溶液 1部(0.5部) ・2−エチル−4−メチルイミダールの1%メチルエチルケトン溶液 22部(0.22部) (上記組成におけるフェノール樹脂は2.3%)
Example 5 An adhesive film of Example 5 was produced in the same manner as in Example 1, except that the coating composition for forming an adhesive layer was of the following composition. -44 parts (11 parts) of a 25% isopropyl alcohol / toluene mixed solution of a polyamide resin ("Macromelt 6239" manufactured by Henkel Japan)-20% tetras of a bismaleimide resin ("BMI-MP" manufactured by Mitsui Toatsu Chemicals, Inc.) Hydrofuran solution 21 parts (4.2 parts) ・ Epoxy resin (“Epicoat 1031S” manufactured by Yuka Shell Co., Ltd.) 50% methyl ethyl ketone solution 12 parts (6 parts) ・ Phenol resin (essential component in the present invention: [Chemical Formula 1] 50% methanol solution of 1 part (0.5 parts), 2-ethyl-4-Mechiruimida 1% methyl ethyl ketone solution 22 parts of zone Lumpur trihydroxy full Enirumetan type phenol resin) according (0.22 parts) (the composition 2.3% of phenolic resin in

【0028】[実施例6]接着剤層形成用塗料として下
記組成のものを用いた以外は、実施例1と同様の方法に
て実施例6の接着フィルムを作製した。 ・ポリアミド樹脂(“マクロメルト6239” ヘンケルジャパン社製)の25 %イソプロピルアルコール/トルエン混合溶液 44部(11部 )・ビスマレイミド樹脂(“BMI−MP” 三井東圧化学社製)の20%テト ラヒドロフラン溶液 19部(3.8 部)・エポキシ樹脂(“エピコート1031S” 油化シェル社製)の50%メ チルエチルケトン溶液 12部( 6部)・フェノール樹脂(本発明における必須成分:[化1]記載のトリヒドロ キシフェニルメタン型フェノール樹脂)の50%メタノール溶液 3部(1 .5部)・2−エチル−4−メチルイミダゾールの1%メチルエチルケトン溶液 22部(0 .22部) (上記組成におけるフェノール樹脂は6.6%)
Example 6 An adhesive film of Example 6 was produced in the same manner as in Example 1 except that the paint for forming the adhesive layer had the following composition. 44% (11 parts) of a 25% isopropyl alcohol / toluene mixed solution of a polyamide resin ("Macromelt 6239" manufactured by Henkel Japan) 20% tet of a bismaleimide resin ("BMI-MP" manufactured by Mitsui Toatsu Chemicals, Inc.) 19 parts (3.8 parts) of a lahydrofuran solution, 12 parts (6 parts) of a 50% methyl ethyl ketone solution of an epoxy resin (“Epicoat 1031S” manufactured by Yuka Shell Co., Ltd.), and a phenol resin (an essential component in the present invention: 3] (1.5 parts) of a 50% methanol solution of trihydroxyphenylmethane type phenol resin described in [1]; 22 parts (0.22 parts) of a 1% methyl ethyl ketone solution of 2-ethyl-4-methylimidazole (the above composition) 6.6% in phenolic resin)

【0029】[実施例7]接着剤層形成用塗料として下
記組成のものを用いた以外は、実施例1と同様の方法に
て実施例7の接着フィルムを作製した。 ・ポリアミド樹脂(“マクロメルト6239” ヘンケルジャパン社製)の25 %イソプロピルアルコール/トルエン混合溶液 46部(11.5部 )・ビスマレイミド樹脂(“BMI−MP” 三井東圧化学社製)の20%テト ラヒドロフラン溶液 15部(3 部)・エポキシ樹脂(“エピコート1031S” 油化シェル社製)の50%メ チルエチルケトン溶液 9部(4. 5部)・フェノール樹脂(本発明における必須成分:[化1]記載のトリヒドロ キシフェニルメタン型フェノール樹脂)の50%メタノール溶液 8部 (4部)・2−エチル−4−メチルイミダゾールの1%メチルエチルケトン溶液 22部(0 .22部) (上記組成におけるフェノール樹脂は17.2%)
Example 7 An adhesive film of Example 7 was produced in the same manner as in Example 1, except that the coating composition for forming the adhesive layer had the following composition. -46 parts (11.5 parts) of a 25% isopropyl alcohol / toluene mixed solution of a polyamide resin ("Macromelt 6239" manufactured by Henkel Japan)-20 of a bismaleimide resin ("BMI-MP" manufactured by Mitsui Toatsu Chemicals, Inc.) 9 parts (4.5 parts) of a 50% methyl ethyl ketone solution of an epoxy resin (“Epicoat 1031S” manufactured by Yuka Shell Co.) 15 parts (3 parts) of a 15% tetrahydrofuran solution and a phenol resin (an essential component in the present invention: 8 parts (4 parts) of a 50% methanol solution of trihydroxyphenylmethane-type phenol resin according to [Chemical Formula 1], 22 parts (0.22 parts) of a 1% solution of 2-ethyl-4-methylimidazole in methyl ethyl ketone (the above composition) Phenolic resin in 17.2%)

【0030】[比較例1]接着剤層形成用塗料として下
記組成のものを用いた以外は、実施例1と同様にして比
較例1の接着フィルムを作製した。 ・ポリアミド樹脂(“マクロメルト6239” ヘンケルジャパン社製)の25 %イソプロピルアルコール/トルエン混合溶液 53部 ・エポキシ樹脂(“エピコート828” 油化シェル社製) 7部 ・レゾール型フェノール樹脂(“CKM1634” 昭和高分子社製)の50% メチルエチルケトン溶液 8部 ・ノボラック型フェノール樹脂(“CKM2400” 昭和高分子社製)の50 %メチルエチルケトン溶液 5部 ・2−エチル−4−メチルイミダゾールの1%メチルエチルケトン溶液 27部
Comparative Example 1 An adhesive film of Comparative Example 1 was prepared in the same manner as in Example 1, except that the coating composition for forming the adhesive layer had the following composition. -Polyamide resin ("Macromelt 6239", manufactured by Henkel Japan) 53% 25% isopropyl alcohol / toluene mixed solution-Epoxy resin ("Epicoat 828" manufactured by Yuka Shell Co., Ltd.) 7 parts-Resol type phenolic resin ("CKM1634") 8 parts of 50% methyl ethyl ketone solution of Showa Polymer Co., Ltd. ・ 5 parts of 50% methyl ethyl ketone solution of novolak type phenol resin (“CKM2400” manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.) ・ 1% methyl ethyl ketone solution of 2-ethyl-4-methylimidazole 27 Department

【0031】[比較例2]接着剤層形成用塗料として下
記組成のものを用いた以外は、実施例1と同様にして比
較例2の接着フィルムを作製した。 ・ポリアミド樹脂(“マクロメルト6239” ヘンケルジャパン社製)の25 %イソプロピルアルコール/トルエン混合溶液 45部 ・ビスマレイミド樹脂(“BMI−MP” 三井東圧化学社製)の20%テトラ ヒドロフラン溶液 17部 ・エポキシ樹脂(“エピコート1031S” 油化シェル社製)の50%メチル エチルケトン溶液 11部 ・ノボラック型フェノール樹脂(“CKM2432” 昭和高分子社製)の50 %メタノール溶液 5部 ・2−エチル−4−メチルイミダゾールの1%メチルエチルケトン溶液 22部
Comparative Example 2 An adhesive film of Comparative Example 2 was prepared in the same manner as in Example 1, except that the coating composition for forming the adhesive layer had the following composition. 45 parts of a 25% isopropyl alcohol / toluene mixed solution of a polyamide resin ("Macromelt 6239" manufactured by Henkel Japan) 45 parts 17 parts of a 20% tetrahydrofuran solution of a bismaleimide resin ("BMI-MP" manufactured by Mitsui Toatsu Chemicals, Inc.) 11 parts of 50% methyl ethyl ketone solution of epoxy resin ("Epicoat 1031S" manufactured by Yuka Shell Co., Ltd.) 5 parts of 50% methanol solution of novolak type phenol resin ("CKM2432" manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.) 2-ethyl-4 -22 parts of a 1% solution of methylimidazole in methyl ethyl ketone

【0032】(1)熱収縮測定用サンプルの作製 次に、実施例および比較例で作製した接着フィルムの保
護層両面を剥離し、1オンスの電解銅箔(厚さ35〜4
0μm)を両面に貼り合わせ、130℃、1kg/cm
2の条件で加熱加圧処理を行った。その後さらに70℃
で4時間加熱し、その70℃から160℃まで8時間か
けて等速昇温させ、160℃で6時間加熱し、接着剤層
の硬化を行った。さらに銅箔面の片面をエッチングにて
除去し、これを熱収縮測定用サンプルとした。
(1) Preparation of Sample for Measurement of Heat Shrinkage Next, both sides of the protective layer of the adhesive films prepared in Examples and Comparative Examples were peeled off, and 1 oz of electrolytic copper foil (thickness of 35 to 4
0 μm) on both sides, 130 ° C., 1 kg / cm
The heating and pressurizing treatment was performed under the conditions of 2 . Then 70 ° C
For 4 hours, and the temperature was increased from 70 ° C. to 160 ° C. at a constant speed over 8 hours, and then heated at 160 ° C. for 6 hours to cure the adhesive layer. Further, one side of the copper foil surface was removed by etching, and this was used as a sample for measuring heat shrinkage.

【0033】(2)バイアス試験用サンプルの作製 また、実施例および比較例で作製した接着フィルムの保
護層片面を剥離し、これに厚さ75μmのポリイミドフ
ィルムからなる絶縁フィルムを重ね合わせ、100℃、
1kg/cm2の条件で加熱圧着して、TAB用テープ
を作製した。次に、このTAB用テープの保護フィルム
を剥離し、1オンスの電解銅箔(厚さ35〜40μm)
を貼り合わせ、130℃、1kg/cm2の条件で加熱
加圧処理を行った。その後さらに70℃で4時間加熱
し、その後70℃から160℃まで8時間かけて等速昇
温させ、160℃で6時間加熱し、接着剤層の硬化を行
った。さらに、常法により銅箔上にフォトレジスト膜を
形成して処理し、銅箔をエッチングし、櫛形回路を形成
してフィルムキャリアテープを作製し、これをPCBT
試験(バイアス試験)用サンプルとした。
(2) Preparation of Sample for Bias Test Further, one side of the protective layer of the adhesive film prepared in each of Examples and Comparative Examples was peeled off, and an insulating film made of a polyimide film having a thickness of 75 μm was laminated thereon. ,
It was heated and pressed under the condition of 1 kg / cm 2 to prepare a TAB tape. Next, the protective film of this TAB tape is peeled off, and 1 oz of electrolytic copper foil (thickness: 35 to 40 μm)
And heat-pressurized at 130 ° C. and 1 kg / cm 2 . Thereafter, the mixture was further heated at 70 ° C. for 4 hours, then heated at a constant speed from 70 ° C. to 160 ° C. over 8 hours, and heated at 160 ° C. for 6 hours to cure the adhesive layer. Further, a photoresist film is formed on the copper foil by a conventional method and processed, the copper foil is etched, a comb-shaped circuit is formed, and a film carrier tape is produced.
A sample for a test (bias test) was used.

【0034】(特性試験)実施例1〜7および比較例
1,2の接着フィルムから得られた熱収縮測定用サンプ
ルに対して、下記の特性評価試験を行った。 1)熱収縮の測定 接着テープを縦40mm、横40mmの寸法に切断し
た。 切断した接着テープを室温23℃、相対湿度65%の
雰囲気下に48時間以上放置した。 接着テープを接着剤面を下にして台の上に置き、顕微
鏡にて焦点深度でカール高さを測定した。 ちなみに本試験では、ポリイミドフィルム等加熱収縮に
影響する基材は用いていないので、本試験で測定される
カール高さは全て接着剤自身のものである。
(Characteristics Test) The following property evaluation test was performed on the heat shrinkage measurement samples obtained from the adhesive films of Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 and 2. 1) Measurement of heat shrinkage The adhesive tape was cut into dimensions of 40 mm in length and 40 mm in width. The cut adhesive tape was left for 48 hours or more in an atmosphere at a room temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 65%. The adhesive tape was placed on a table with the adhesive side down, and the curl height was measured with a microscope at the depth of focus. By the way, in this test, a substrate which affects the heat shrinkage such as a polyimide film is not used, so that the curl height measured in this test is all that of the adhesive itself.

【0035】2)PCBT試験(バイアス試験) 実施例1〜7の各テープのサンプルについて、PCBT
試験を行い、電気抵抗が急激に低下する時間を測定し
た。試験条件は、PCBT試験機を使用して130℃/
85%RH/2.7atm、線間/線幅が50μm/1
00μmの櫛形回路に100Vの電圧を印加した。表1
にカールの測定結果と、PCBT試験における電気抵抗
値が低下するまでの時間を示した。なお、本発明のフェ
ノール樹脂の含有率も表1に併記した。
2) PCBT Test (Bias Test) For each of the tape samples of Examples 1 to 7,
A test was performed to measure the time at which the electrical resistance suddenly dropped. The test conditions were 130 ° C. /
85% RH / 2.7 atm, line / line width 50 μm / 1
A voltage of 100 V was applied to a 00 μm comb circuit. Table 1
2 shows the results of curl measurement and the time required for the electric resistance value to decrease in the PCBT test. Table 1 also shows the content of the phenol resin of the present invention.

【0036】表1から明らかなように、本発明の電子部
品用接着テープは、比較例と比べてカール高さが低く、
優れた低熱収縮性を示した。また、PCBT試験におい
ても長時間にわたって電気抵抗が低下せず、実用上充分
な電気的信頼性を有している。特に、トリヒドロキシフ
ェニルメタン型フェノール樹脂の含有率が5〜15重量
%である実施例1〜4,6では、電気抵抗が極めて長時
間にわたって低下せず、しかも、優れた低熱収縮性を示
すことが確認された。
As is clear from Table 1, the adhesive tape for electronic parts of the present invention has a lower curl height as compared with the comparative example.
Excellent heat shrinkage was exhibited. Further, even in the PCBT test, the electric resistance does not decrease for a long time, and the device has sufficient electric reliability for practical use. In particular, in Examples 1 to 4 and 6 in which the content of the trihydroxyphenylmethane-type phenol resin is 5 to 15% by weight, the electric resistance does not decrease for an extremely long time and shows excellent low heat shrinkage. Was confirmed.

【0037】[0037]

【表1】 [Table 1]

【0038】[0038]

【発明の効果】以上説明したとおり本発明においては、
接着剤中にトリヒドロキシフェニルメタン型フェノール
樹脂を含有しているので、熱硬化後およびその後の熱プ
ロセスにおける低熱収縮性に優れ、しかも電気的信頼性
を向上させることができる。よって、接着テープとチッ
プとをインナーリードボンディングする際や、アウター
リードボンディングを行う際の製造不良の発生を低減す
ることができるとともに、電気的信頼性も長期にわたっ
て維持することができる。
As described above, in the present invention,
Since the adhesive contains a trihydroxyphenylmethane-type phenol resin, the adhesive has excellent low heat shrinkage after thermal curing and subsequent thermal processes, and can improve electrical reliability. Therefore, it is possible to reduce the occurrence of manufacturing defects when performing the inner lead bonding and the outer lead bonding between the adhesive tape and the chip, and it is possible to maintain the electrical reliability for a long time.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 塩澤 卓士 静岡県静岡市用宗巴町3番1号 株式会 社 巴川製紙所 電子材料事業部内 (72)発明者 吉岡 建 静岡県静岡市用宗巴町3番1号 株式会 社 巴川製紙所 電子材料事業部内 (72)発明者 山田 裕美 静岡県静岡市用宗巴町3番1号 株式会 社 巴川製紙所 電子材料事業部内 (56)参考文献 特開 平11−49846(JP,A) 特開 平5−175368(JP,A) 特開 平6−181239(JP,A) 特開 平10−7764(JP,A) 特開 平10−7769(JP,A) 特開 平10−7770(JP,A) 特開 平10−67914(JP,A) 特開 平11−5824(JP,A) 特開 平11−21418(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/52 H01L 21/60 C08G 8/04 C08G 59/62 C09J 7/02 C09J 163/00 ──────────────────────────────────────────────────の Continuing from the front page (72) Inventor Takushi Shiozawa 3-1 Yomoe Tomoecho, Shizuoka City, Shizuoka Prefecture Inside the Electronic Materials Division, Hamakawa Paper Mill Co., Ltd. (72) Inventor Takeshi Yoshioka Shimooka, Shizuoka City, Shizuoka Prefecture 3-1, Machikawa Paper Mill Co., Ltd.Electronic Materials Division (72) Inventor Hiromi Yamada 3-1 Yomunehacho, Shizuoka City, Shizuoka Prefecture Hamakawa Paper Mills Electronic Materials Division (56) References Special JP-A-11-49846 (JP, A) JP-A-5-175368 (JP, A) JP-A-6-181239 (JP, A) JP-A-10-7764 (JP, A) JP-A-10-7769 (JP JP, A) JP-A-10-7770 (JP, A) JP-A-10-67914 (JP, A) JP-A-11-5824 (JP, A) JP-A-11-21418 (JP, A) (58) ) Surveyed field (Int.Cl. 7 , DB name) H01L 21/52 H01L 21/60 C08G 8/04 C08G 59/62 C09J 7/02 C09J 163/00

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 下記一般式で示されたトリヒドロキシフ
ェニルメタン型フェノール樹脂のいずれかと、熱可塑性
樹脂とを含有することを特徴とする電子部品用接着剤。 【化1】 【化2】 【化3】 【化4】
1. A thermoplastic resin comprising one of a trihydroxyphenylmethane type phenol resin represented by the following general formula :
An adhesive for electronic parts, characterized by containing a resin . Embedded image Embedded image Embedded image Embedded image
【請求項2】 エポキシ樹脂を含有することを特徴とす
る請求項1記載の電子部品用接着剤。
2. The electronic component adhesive according to claim 1 , further comprising an epoxy resin.
【請求項3】 前記熱可塑性樹脂がポリアミド樹脂であ
ことを特徴とする請求項1または2に記載の電子部品
用接着剤。
Wherein the thermoplastic resin is polyamide resin der
The adhesive for electronic components according to claim 1 or 2, characterized in that that.
【請求項4】 前記トリヒドロキシフェニルメタン型フ
ェノール樹脂が、接着剤中に5〜15重量%含有されて
いることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の
電子部品用接着剤。
4. The adhesive for electronic parts according to claim 1, wherein said trihydroxyphenylmethane type phenol resin is contained in the adhesive in an amount of 5 to 15% by weight.
【請求項5】 絶縁フィルムに請求項1〜4のいずれか
の接着剤からなる接着剤層を設けたことを特徴とする電
子部品用接着テープ。
5. An adhesive tape for electronic parts, comprising an insulating film provided with an adhesive layer comprising the adhesive according to claim 1.
【請求項6】 前記接着剤層の表面に、剥離可能な保護
層を設けたことを特徴とする請求項5に記載の電子部品
用接着テープ。
6. The adhesive tape for electronic parts according to claim 5, wherein a peelable protective layer is provided on the surface of the adhesive layer.
JP28906897A 1997-10-06 1997-10-06 Adhesive for electronic parts and adhesive tape for electronic parts Expired - Fee Related JP3326372B2 (en)

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