JPH10168286A - 硬化促進剤含有マイクロカプセルおよびそれを用いた熱硬化性樹脂組成物ならびに半導体装置 - Google Patents
硬化促進剤含有マイクロカプセルおよびそれを用いた熱硬化性樹脂組成物ならびに半導体装置Info
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Abstract
する。 【解決手段】下記の硬化促進剤含有マイクロカプセル
(A)とともに、熱硬化性樹脂および硬化剤を含有する
熱硬化性樹脂組成物である。 (A)熱硬化性樹脂用の硬化促進剤からなるコア部が熱
可塑性樹脂からなるシェル部で被覆されたコア/シェル
構造を有する硬化促進剤含有マイクロカプセルであっ
て、上記マイクロカプセルの平均粒径が0.3〜4μm
であり、かつ、上記マイクロカプセルの分散係数(粒径
の標準偏差/平均粒径)が1以下である。
Description
た熱硬化性樹脂組成物およびそれを用いた信頼性の高い
半導体装置に関するものである。
素子は、一般にエポキシ樹脂組成物を用いて封止され半
導体装置化されている。この種のエポキシ樹脂組成物に
は、通常、エポキシ樹脂とともに、各種硬化剤、無機質
充填剤、さらに、硬化促進剤が含有される。
は、予め、硬化促進剤を配合しておくと、硬化反応が進
行するために、通常は、使用する直前に硬化促進剤を混
合して用いられる。このようなエポキシ樹脂組成物は、
硬化促進剤を別に保存しておき必要に応じて配合し混合
するが、混合後の可使時間が比較的短いため多量に混合
することができず、従って、多量に使用する場合は、少
量ずつ複数回に分けて配合しなければならず、作業能率
が極めて悪いものである。
て、例えば、エポキシ樹脂をシェル部(壁膜)形成材料
として用いたマイクロカプセル内に硬化促進剤を封入し
た、硬化促進剤含有マイクロカプセルを含有するエポキ
シ樹脂組成物が提案されている(特開平1−24261
6号公報)。さらに、上記マイクロカプセルのシェル部
(壁膜)形成材料として、上記エポキシ樹脂以外に、ポ
リスチレン、ポリメタクリル酸メチルエステル、エチレ
ン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルトルエン、アクリ
ルゴム等の各種重合体や、塩化ビニリデンやアクリロニ
トリル、メタクリル酸等のエチレン系単量体を主成分の
単量体として得られる重合体を用いた硬化促進剤含有マ
イクロカプセルを含有するエポキシ樹脂組成物が種々提
案されている。
ような各種の硬化促進剤含有マイクロカプセルを他の成
分とともに配合し混練して得られたエポキシ樹脂組成物
を用いてなる硬化物では、硬化が均一になされず硬化均
一性に劣るという問題がある。また、このように硬化均
一性に劣るエポキシ樹脂組成物を半導体封止材料として
用いた場合、ボイドや金線流れが生じるため、均一な樹
脂封止によるパッケージが得られ難いという問題が発生
する。
もので、硬化均一性に優れた熱硬化性樹脂組成物と、そ
れを用いて得られる信頼性の高い半導体装置の提供をそ
の目的とする。
め、本発明は、熱硬化性樹脂用の硬化促進剤からなるコ
ア部が熱可塑性樹脂からなるシェル部で被覆されたコア
/シェル構造を有する硬化促進剤含有マイクロカプセル
であって、上記マイクロカプセルの平均粒径が0.3〜
4μmであり、かつ、上記マイクロカプセルの分散係数
(粒径の標準偏差/平均粒径)が1以下である硬化促進
剤含有マイクロカプセルを第1の要旨とし、また、この
硬化促進剤含有マイクロカプセルとともに、熱硬化性樹
脂および硬化剤を含有する熱硬化性樹脂組成物を第2の
要旨とし、さらに、この熱硬化性樹脂組成物を用いて半
導体素子を封止してなる半導体装置を第3の要旨とす
る。
が硬化均一性に劣るという問題の原因を追求すべく、ま
ず、熱硬化性樹脂組成物中に含まれる硬化促進剤含有マ
イクロカプセルを中心に研究を重ねた。その研究の過程
で、上記硬化促進剤含有マイクロカプセルの平均粒径と
分散係数(粒径の標準偏差/平均粒径)に着目し、これ
らが熱硬化性樹脂組成物の硬化均一性の問題と深く関与
するのではないかと想起した。そして、さらに研究を続
けた結果、従来の硬化促進剤含有マイクロカプセルには
分散係数が1を超えるものが含まれるため、上記熱硬化
性樹脂組成物の硬化均一性が劣るということを突き止め
た。すなわち、上記硬化促進剤含有マイクロカプセルの
平均粒径を0.3〜4μmの範囲に設定するとともに、
上記マイクロカプセルの分散係数(粒径の標準偏差/平
均粒径)を1以下に設定すると、上記マイクロカプセル
が正規分布を示すことを見出した。そして、この正規分
布を示す硬化促進剤含有マイクロカプセルを、熱硬化性
樹脂や硬化剤とともに用いると、硬化均一性に優れた熱
硬化性樹脂組成物が得られることを見出し本発明に到達
した。
樹脂組成物を用いて、例えば、トランスファー成形等の
半導体装置の封止作業を行うと、ボイドや金線流れの発
生を防止でき、均一な樹脂封止によるパッケージを得る
ことができることを突き止めた。
しく説明する。
は、熱硬化性樹脂用の硬化促進剤からなるコア部が、熱
可塑性樹脂からなるシェル部で被覆されたコア/シェル
構造を有するマイクロカプセルである。
しては、熱硬化性樹脂用のものであれば特に限定するも
のではなく従来公知のものが用いられる。そして、この
場合、マイクロカプセルを調製する際の作業性や得られ
るマイクロカプセルの特性の点から、常温で液状を有す
るものが好ましい。なお、常温で液状とは、硬化促進剤
自身の性状が常温で液状を示す場合の他、常温で固体で
あっても任意の有機溶剤等に溶解もしくは分散させて液
状にしたものをも含む。
ば、アミン系、イミダゾール系、リン系、ホウ素系、リ
ン−ホウ素系等の硬化促進剤があげられる。具体的に
は、エチルグアニジン、トリメチルグアニジン、フェニ
ルグアニジン、ジフェニルグアニジン等のアルキル置換
グアニジン類、3−(3,4−ジクロロフェニル)−
1,1−ジメチル尿素、3−フェニル−1,1−ジメチ
ル尿素、3−(4−クロロフェニル)−1,1−ジメチ
ル尿素等の3−置換フェニル−1,1−ジメチル尿素
類、2−メチルイミダゾリン、2−フェニルイミダゾリ
ン、2−ウンデシルイミダゾリン、2−ヘプタデシルイ
ミダゾリン等のイミダゾリン類、2−アミノピリジン等
のモノアミノピリジン類、N,N−ジメチル−N−(2
−ヒドロキシ−3−アリロキシプロピル)アミン−N′
−ラクトイミド等のアミンイミド系類、エチルホスフィ
ン、プロピルホスフィン、ブチルホスフィン、フェニル
ホスフィン、トリメチルホスフィン、トリエチルホスフ
ィン、トリブチルホスフィン、トリオクチルホスフィ
ン、トリフェニルホスフィン、トリシクロヘキシルホス
フィン、トリフェニルホスフィン/トリフェニルボラン
錯体、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレ
ート等の有機リン系化合物、1,8−ジアザビシクロ
〔5,4,0〕ウンデセン−7、1,4−ジアザビシク
ロ〔2,2,2〕オクタン等のジアザビシクロウンデセ
ン系化合物等があげられる。これらは単独でもしくは2
種以上併せて用いられる。なかでも、硬化促進剤含有マ
イクロカプセルの作製の容易さ、また取扱い性の容易さ
という点から、上記イミダゾール系化合物や有機リン系
化合物が好適に用いられる。
ルのシェル部(壁膜)内に内包することができる有機溶
剤としては、常温で液状であれば特に限定するものでは
ないが、少なくともシェル部(壁膜)を溶解しないもの
を選択する必要がある。具体的には、酢酸エチル、メチ
ルエチルケトン、アセトン、塩化メチレン、キシレン、
トルエン、テトラヒドロフラン等の有機溶剤の他、フェ
ニルキシリルエタン、ジアルキルナフタレン等のオイル
類を用いることができる。
樹脂としては、例えば、ポリウレア、ポリウレタン、ア
ミノ樹脂、アクリル樹脂等があげられる。なかでも、貯
蔵時の安定性を考慮した場合、ポリウレアが好適であ
る。
式(1)で表される繰り返し単位を主要構成成分とする
重合体が好ましい。
R2 としては、水素原子または1価の有機基であり、R
は2価の有機基である。
要構成成分とする重合体は、例えば、多価イソシアネー
ト類と多価アミン類との重付加反応によって得られる。
あるいは、多価イソシアネート類と水との反応によって
得られる。
内に2個以上のイソシアネート基を有する化合物であれ
ばよく、具体的には、m−フェニレンジイソシアネー
ト、p−フェニレンジイソシアネート、2,4−トリレ
ンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネー
ト、ナフタレン−1,4−ジイソシアネート、ジフェニ
ルメタン−4,4′−ジイソシアネート、3,3′−ジ
メトキシ−4,4′−ビフェニルジイソシアネート、
3,3′−ジメチルジフェニルメタン−4,4′−ジイ
ソシアネート、キシリレン−1,4−ジイソシアネー
ト、4,4′−ジフェニルプロパンジイソシアネート、
トリメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソ
シアネート、プロピレン−1,2−ジイソシアネート、
ブチレン−1,2−ジイソシアネート、シクロヘキシレ
ン−1,2−ジイソシアネート、シクロヘキシレン−
1,4−ジイソシアネート等のジイソシアネート類、p
−フェニレンジイソチオシアネート、キシリレン−1,
4−ジイソチオシアネート、エチリジンジイソチオシア
ネート等のトリイソシアネート類、4,4′−ジメチル
ジフェニルメタン−2,2′,5,5′−テトライソシ
アネート等のテトライソシアネート類、ヘキサメチレン
ジイソシアネートとヘキサントリオールとの付加物、
2,4−トリレンジイソシアネートとプレンツカテコー
ルとの付加物、トリレンジイソシアネートとヘキサント
リオールとの付加物、トリレンジイソシアネートとトリ
メチロールプロパンの付加物、キシリレンジイソシアネ
ートとトリメチロールプロパンの付加物、ヘキサメチレ
ンジイソシアネートとトリメチロールプロパンの付加
物、トリフェニルジメチレントリイソシアネート、テト
ラフェニルトリメチレンテトライソシアネート、ペンタ
フェニルテトラメチレンペンタイソシアネート、リジン
イソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等の
脂肪族多価イソシアネートの三量体のようなイソシアネ
ートプレポリマー等があげられる。これらは単独でもし
くは2種以上併せて用いられる。
クロカプセルを調製する際の造膜性や機械的強度の点か
ら、トリレンジイソシアネートとトリメチロールプロパ
ンの付加物、キシリレンジイソシアネートとトリメチロ
ールプロパンの付加物、トリフェニルジメチレントリイ
ソシアネート等のポリメチレンポリフェニルイソシアネ
ート類に代表されるイソシアネートプレポリマーを用い
ることが好ましい。
せる多価アミン類としては、分子内に2個以上のアミノ
基を有する化合物であればよく、具体的にはジエチレン
トリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレン
ペンタミン、1,6−ヘキサメチレンジアミン、1,8
−オクタメチレンジアミン、1,12−ドデカメチレン
ジアミン、o−フェニレンジアミン、m−フェニレンジ
アミン、p−フェニレンジアミン、o−キシリレンジア
ミン、m−キシリレンジアミン、p−キシリレンジアミ
ン、メンタンジアミン、ビス(4−アミノ−3−メチル
シクロヘキシル)メタン、イソホロンジアミン、1,3
−ジアミノシクロヘキサン、スピロアセタール系ジアミ
ン等があげられる。これらは単独でもしくは2種以上併
せて用いられる。
反応では、まず、多価イソシアネート類の加水分解によ
ってアミンが形成され、このアミンが未反応のイソシア
ネート基と反応(いわゆる自己重付加反応)することに
よって、前記一般式(1)で表される繰り返し単位を主
要構成成分とする重合体が形成される。
マイクロカプセル化することができるならば特に限定す
るものではなく従来公知の各種方法にて調製することが
できる。特に界面重合法を用いて、シェル部(壁膜)を
形成しマイクロカプセル化することが、シェル部(壁
膜)の均質化や壁膜厚みの調整という観点から好まし
い。
クロカプセルは、例えば、つぎのようにして得られる。
すなわち、液状の硬化促進剤をコア成分として、ここに
多価イソシアネート類を溶解させる。このようにして得
られる溶液は油状であって、これを水相中に油相として
油滴状に分散させてO/W型(油相/水相型)のエマル
ジョンを作製する。このとき、分散した各油滴の粒径は
0.05〜20μm、好ましくは0.1〜10μm程度
とすることが、重合中のエマルジョンの安定性の点から
好ましい。
解してコア成分とする場合には、S/O/W(固相/油
相/水相)タイプのエマルジョンとなる。また、このエ
マルジョンタイプは硬化促進剤が親油性の場合であり、
硬化促進剤が親水性を有する場合には上記エマルジョン
タイプに形成され難いが、この場合には溶解度の調整を
行うことによりO/O(油相/油相)型のエマルジョン
タイプや、S/O/O(固相/油相/油相)型のエマル
ジョンタイプとして界面重合を行えばよい。
アミンや多価アルコールを添加することによって、油相
中の多価イソシアネートとの間で界面重合させ重付加反
応を行い、好ましくはポリウレア系の重合体をシェル部
(壁膜)とする、硬化促進剤含有マイクロカプセルが得
られる。
イクロカプセルは、コア/シェル構造の形態をとり、シ
ェル部内にコア成分として硬化促進剤を内包してなるも
のである。そして、この硬化促進剤含有マイクロカプセ
ルは、従来からの公知の手段、例えば、遠心分離後に乾
燥したり、噴霧乾燥したりする手段によって単離するこ
とができる。また、後述の熱硬化性樹脂や硬化剤中に溶
解混合させることができる。この際、必要に応じてマイ
クロカプセル中の有機溶剤を減圧乾燥等の手段を併用し
て除去することもできる。
均粒径は、後述のように、熱硬化性樹脂組成物の製造の
際に加わる剪断力や、上記マイクロカプセルを含有する
熱硬化性樹脂組成物の保存性を考慮して、0.3〜4μ
mの範囲に設定する必要がある。なかでも、マイクロカ
プセルの安定性および分散性の点から、上記マイクロカ
プセルの平均粒径は、0.7〜2.0μmの範囲に設定
することが好ましい。なお、本発明において、この硬化
促進剤含有マイクロカプセルの形状としては球状が好ま
しいが楕円状であってもよい。そして、このマイクロカ
プセルの形状が真球状ではなく楕円状や偏平状等のよう
に一律に粒径が定まらない場合には、その最長径と最短
径との単純平均値を平均粒径とする。また、上記熱硬化
性樹脂組成物の示差走査熱量計(DSC)による発熱ピ
ークや、上記熱硬化性樹脂組成物成形体の離型性を考慮
して、上記硬化促進剤含有マイクロカプセルの分散係数
は1以下に設定する必要があり、好ましくは0.6以下
である。そして、上記分散係数は、下記の式により求め
られ、この分散係数は、粒子の均一性を示す値である。
ロカプセルは、平均粒径および分散係数が、いずれも上
記特定の範囲に設定されたものでなければならない。す
なわち、上記平均粒径および分散係数のいずれか一方が
上記特定の範囲から外れると、上記マイクロカプセルが
正規分布を示さず、このマイクロカプセルを含有する熱
硬化性樹脂組成物を用いてなる硬化物の硬化均一性に劣
るからである。そして、本発明の硬化促進剤含有マイク
ロカプセルとしては、よりシャープなピークを示す正規
分布を有するものが一層好ましい。
いて、内包される硬化促進剤の量は、マイクロカプセル
全量の5〜70重量%に設定することが好ましく、特に
好ましくは10〜50重量%である。すなわち、硬化促
進剤の内包量が5重量%未満では、硬化反応の時間が長
過ぎて、反応性に乏しくなり、逆に硬化促進剤の内包量
が70重量%を超えるとシェル部(壁膜)の厚みが薄過
ぎて内包される硬化促進剤(コア成分)の隔離性や機械
的強度に乏しくなる恐れがあるからである。
ルの粒径に対するシェル部(壁膜)の厚みの比率は3〜
25%に設定することが好ましく、特に好ましくは5〜
25%に設定される。すなわち、上記比率が3%未満で
は熱硬化性樹脂組成物製造時の混練工程において加わる
剪断力(シェア)に対して充分な機械的強度が得られ
ず、また、25%を超えると内包される硬化促進剤の放
出が不充分となる傾向がみられるからである。
上記特定の硬化促進剤含有マイクロカプセルと、熱硬化
性樹脂と、硬化剤を用いて得られるものであって、通
常、粉末状もしくはそれを打錠したタブレット状になっ
ている。
ものではなく、エポキシ樹脂、マレイミド化合物等の従
来公知の各種熱硬化性樹脂があげられ、用途によって適
宜に選択される。例えば、半導体封止用材料としては、
一般には、エポキシ樹脂が汎用されている。上記エポキ
シ樹脂としては、特に限定するものではなく、例えば、
クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボ
ラック型エポキシ樹脂、ノボラックビスフェノールA型
エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ジシ
クロペンタジエン系エポキシ樹脂等があげられる。なか
でも、低粘度で低吸湿性を備えているという点から、下
記の一般式(2)で表されるビフェニル型エポキシ樹脂
を用いることが好ましい。
て、水素原子、メチル基を有するものが、低吸湿性およ
び反応性の点から一層好ましい。
エポキシ樹脂としては、エポキシ当量160〜350、
軟化点50〜150℃のものが好ましい。
剤としては、上記熱硬化性樹脂に対して硬化作用を奏す
るものであれば特に限定するものではなく各種硬化剤が
用いられる。例えば、上記熱硬化性樹脂としてエポキシ
樹脂を使用する場合には、硬化剤としてフェノール樹脂
が一般に用いられる。上記フェノール樹脂としては、特
に限定するものではなく従来からエポキシ樹脂の硬化剤
として作用する各種フェノール樹脂が用いられる。なか
でも、フェノールアラルキル樹脂を用いることが好まし
く、具体的には下記の一般式(3)で表されるフェノー
ルアラルキル樹脂を用いることが特に好ましい。
〜40の範囲が好ましく、特に好ましくはn=0〜30
の範囲である。
ラルキル樹脂は、水酸基当量150〜220、軟化点4
0〜110℃が好ましく、より好ましくは水酸基当量1
50〜200、軟化点50〜90℃である。
例えば、熱硬化性樹脂としてエポキシ樹脂を用い、か
つ、硬化剤としてフェノール樹脂を用いた場合、上記エ
ポキシ樹脂成分中のエポキシ基1当量当たりフェノール
樹脂中の水酸基が0.8〜1.2当量となるように配合
することが好適である。より好適なのは0.9〜1.1
当量である。
いては、特定の硬化促進剤含有マイクロカプセル、熱硬
化性樹脂、硬化剤の他に無機質充填剤を配合することが
できる。この無機質充填剤としては、シリカ、クレー、
石膏、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化アルミナ、
酸化ベリリウム、炭化ケイ素、窒化ケイ素等があげられ
る。なかでも、球状溶融シリカ、破砕溶融シリカ、結晶
性シリカが特に好ましく用いられる。上記無機質充填剤
の配合量は、熱硬化性樹脂組成物全体の70重量%以上
に設定することが好ましく、特に好ましくは80〜95
重量%である。
上記特定の硬化促進剤含有マイクロカプセル、熱硬化性
樹脂、硬化剤および無機質充填剤以外に、必要に応じて
他の添加剤を適宜に配合することができる。
剤、ワックス等があげられる。
化エポキシ樹脂、ブロム化ビスフェノールA型エポキシ
樹脂、三酸化アンチモン、五酸化アンチモン等があげら
れ、これらは単独でもしくは2種以上併せて用いられ
る。
脂肪酸エステル、高級脂肪酸カルシウム等の化合物があ
げられ、単独でもしくは2種以上併せて用いられる。
は、上記他の添加剤以外にシリコーンオイルおよびシリ
コーンゴム、合成ゴム等の成分を配合して低応力化を図
ったり、耐湿信頼性テストにおける信頼性向上を目的と
してハイドロタルサイト類、水酸化ビスマス等のイオン
トラップ剤を配合してもよい。
つぎのようにして製造することができる。まず、先に述
べたように、界面重合法にて、硬化促進剤含有マイクロ
カプセルを作製する。
セルとともに、残りの他の成分を全て混合した後、ミキ
シングロール機等の混練機にかけ加熱状態で混練りして
溶融混合する。このとき、硬化促進剤含有マイクロカプ
セルには熱と剪断力が働くが、この段階では熱安定性が
良好であり、このマイクロカプセルには封止成形時に簡
単にシェル部(壁膜)が熱により破壊される性質を有す
る熱可塑性樹脂がシェル部(壁膜)形成材料として用い
られている。特にこの熱可塑性樹脂としては、先に述べ
たようにポリウレアが好適に用いられる。そして、上記
硬化促進剤含有マイクロカプセルの配合量は、熱硬化性
樹脂としてエポキシ樹脂を使用する場合には、エポキシ
樹脂100重量部(以下「部」と略す)に対して0.1
〜30部に設定することが好ましい。特に好ましくは5
〜15部の割合である。すなわち、上記硬化促進剤含有
マイクロカプセルの配合量が、0.1部未満では、硬化
速度が遅過ぎて強度の低下を引き起こし、逆に30部を
超えると、硬化速度が速過ぎて流動性が損なわれるから
である。
の手段によって粉砕し、必要に応じて打錠するという一
連の工程を経由することにより目的とする熱硬化性樹脂
組成物を製造することができる。
を用いてなる半導体素子の封止は、特に限定するもので
はなく、通常のトランスファー成形等の公知のモールド
方法により行うことができる。
記熱硬化性樹脂、硬化剤とともに、特定の硬化促進剤含
有マイクロカプセルを用いた熱硬化性樹脂組成物によっ
て樹脂封止されているため、硬化均一性に優れた熱硬化
性樹脂組成物による樹脂封止によって、パッケージ製造
時のボイドや金線流れの発生を防止でき、均一な樹脂封
止による半導体パッケージが得られる。
明する。
硬化促進剤含有マイクロカプセルを作製した。なお、マ
イクロカプセルの平均粒径および標準偏差は、レーザ回
折/散乱式粒度分布測定装置(堀場製作所社製)を用い
て測定した。ここでいう粒径とは、体積平均に基づくも
のである。
前述の界面重合法にて作製した。すなわち、より詳しく
述べると、キシリレンジイソシアネート3モルと、トリ
メチロールプロパン1モルとの付加物10部を、硬化剤
としてのトリフェニルホスフィン4部に均一に溶解させ
て油相を調製した。また、蒸留水95部とポリビニルア
ルコール5部とドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム
0.15部からなる水相を別途調製し、このなかに上記
調製した油相を添加して分散機(回転数:15000r
pm)にて加圧、加温下で乳化しエマルジョン状態に
し、これを還流管、攪拌機、滴下ロートを備えた重合反
応器に仕込んだ。
水溶液13部を調製し、これを上記重合反応器に備えた
滴下ロート内に入れ、反応器中のエマルジョンに滴下し
て70℃で3時間重合を行い、マイクロカプセルC1を
作製した。このようにしてトリフェニルホスフィンを内
包したポリウレアシェル(粒径に対するシェル厚み比率
13%)構造のマイクロカプセルC1を製造した(平均
粒径0.6μm、分散係数0.55)。
前述の界面重合法にて作製した。作製方法は、上述と同
一であるが、乳化したエマルジョンを作製する際の分散
機の回転数を4000rpmで行った。このようにして
トリフェニルホスフィンを内包したポリウレアシェル
(粒径に対するシェル厚み比率13%)構造のマイクロ
カプセルを製造した。そして、この分散機から遠心分離
機を用いてマイクロカプセルC2を取り出した(平均粒
径4μm、分散係数0.98)。
前述の界面重合法にて作製した。作製方法は、上述と同
一であるが、乳化したエマルジョンを作製する際の分散
機の回転数を6000rpmで行った。このようにして
トリフェニルホスフィンを内包したポリウレアシェル
(粒径に対するシェル厚み比率13%)構造のマイクロ
カプセルを製造した。そして、この分散機から遠心分離
機を用いてマイクロカプセルC3を取り出した(平均粒
径1.2μm、分散係数0.27)。
前述の界面重合法にて作製した。作製方法は、上述と同
一であるが、乳化したエマルジョンを作製する際の分散
機の回転数を18000rpmで行った。このようにし
てトリフェニルホスフィンを内包したポリウレアシェル
(粒径に対するシェル厚み比率13%)構造のマイクロ
カプセルC4を製造した(平均粒径0.15μm、分散
係数0.50)。
前述の界面重合法にて作製した。作製方法は、上述と同
一であるが、乳化したエマルジョンを作製する際の分散
機の回転数を3000rpmで行った。このようにして
トリフェニルホスフィンを内包したポリウレアシェル
(粒径に対するシェル厚み比率14%)構造のマイクロ
カプセルを製造した。そして、この分散機から遠心分離
機を用いてマイクロカプセルC5を取り出した(平均粒
径6μm、分散係数0.56)。
前述の界面重合法にて作製した。作製方法は、上述と同
一であるが、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを
使用せず、乳化したエマルジョンを作製する際の分散機
の回転数を15000rpmで行った。このようにして
トリフェニルホスフィンを内包したポリウレアシェル
(粒径に対するシェル厚み比率14%)構造のマイクロ
カプセルC6を製造した(平均粒径0.3μm、分散係
数1.1)。
前述の界面重合法にて作製した。作製方法は、上述と同
一であるが、乳化したエマルジョンを作製する際の分散
機の回転数を8000rpmで行った。このようにして
トリフェニルホスフィンを内包したポリウレアシェル
(粒径に対するシェル厚み比率13%)構造のマイクロ
カプセルC7を製造した(平均粒径3.9μm、分散係
数1.1)。
前述の界面重合法にて作製した。作製方法は、上述と同
一であるが、乳化したエマルジョンを作製する際の分散
機の回転数を3000rpmで行った。このようにして
トリフェニルホスフィンを内包したポリウレアシェル
(粒径に対するシェル厚み比率13%)構造のマイクロ
カプセルC8を製造した(平均粒径6μm、分散係数
1.4)。
3′,5,5′−テトラメチルビフェニルエポキシ樹脂
(エポキシ当量200)
98)
るフェノールアラルキル樹脂(水酸基当量175:式
(2)中、n=0〜21)
溶融シリカ粉末
75でブロム含有量36%
に示す各成分を同表に示す割合で配合し、ミキシングロ
ール機(100℃)で混練りして冷却した後粉砕するこ
とにより目的とする粉末状の熱硬化性樹脂組成物を得
た。
例の各粉末状の熱硬化性樹脂組成物を用いて下記に示す
評価試験(175℃におけるゲルタイム、175℃で6
0秒後の硬度、保存性)に供した。これらの結果を後記
の表3および表4に併せて示す。
におけるゲルタイムを熱板式ゲルタイムに従って測定し
た。
60秒の条件で成形した直後、ショアーD硬度計を用い
て、熱時の硬度を測定した。
物をタブレット状(直径24.5mm×厚み20mm)
に予備成形した。このタブレットを予め規定温度(17
5±5℃)に加熱した渦巻状のスパイラルフロー用金型
のポットの奥まで挿入し、型締めして型締め圧力を21
0±10kg/cm2 まで上げた。つぎに、型締め圧力
が210±10kg/cm2 に達した時点で、プランジ
ャーで熱硬化性樹脂組成物を注入し、注入圧力70±5
kg/cm2 に到達した後、1分50秒注入圧力をかけ
た。ついで、トランスファー成形機のプランジャー圧力
を抜き、さらに型締め圧を抜いて金型を開いた。そし
て、成形物の渦巻長さを最小2.5mmまで測定するこ
とによりスパイラルフロー値を得た(EMMI 1−6
6に準ずる)。これを初期のスパイラルフロー値(初期
SF値)とした。
脂組成物をタブレット状(直径24.5mm×厚み20
mm)に予備成形し、このタブレットを30℃の温度条
件で3日間放置した。この放置後のタブレットを用い、
上記初期SF値の測定と同様にしてスパイラルフロー値
を得た。これを3日間保存後のスパイラルフロー値(保
存後SF値)とした。
の式によりスパイラルフロー保持率(%)を算出した。
値)/(初期SF値)×100
走査熱量計(セイコー電子工業社製)を用いて試料約1
5mgを精秤し、昇温速度(10℃/分)にて測定し
た。すなわち、図1に示すように、発熱ピークにおける
ピーク温度での熱量値(2a)の1/2の熱量値(a)
におけるピーク幅(℃)を求めた。
造(上型10,中型11,下型12)の成形型を用い
て、175℃×60秒の条件で成形を行い、エポキシ樹
脂組成物硬化体における離型時の荷重を測定した。図に
おいて、13はカル、14はスプルー、15はランナ
ー、16はキャビティーである。離型時の荷重の測定
は、図3に示すように、成形型の中型11を支持台17
上に載置し、プッシュプルゲージ18を用いて上方から
中型11内のエポキシ樹脂組成物硬化体19を脱型し
た。このときの荷重値を測定した。
れた粉末状の熱硬化性樹脂組成物を用いてタブレット状
(直径24.5mm×厚み20mm)に予備成形し、こ
のタブレットを30℃の温度条件で3日間放置した。つ
いで、この放置したタブレットを用いて半導体装置〔8
0ピン四方向フラットパッケージ:QFP−80(14
mm×20mm×厚み2.7mm)、リードフレームM
F202、半導体素子(8mm×8mm×厚み0.37
mm)〕をトランスファー成形(条件:175℃×2
分)にて作製した。
置について、成形不良が発生した個数(120個中)を
測定した。すなわち、自動成形機(TOWA社製、VP
S−40)で上記QFP−80(14mm×20mm×
厚み2.7mm)を10ショット成形して、未充填の発
生、ボイドの形成を評価した。なお、上記ボイドの形成
は、軟X線装置にて測定し、直径0.1mm以上のもの
が形成されたものを不良とした。また、得られた半導体
装置を、121℃×2気圧×100%RH放置の条件に
供し(PCTテスト)、パッケージ中のテストデバイス
の通電試験を行い、ショートしたものを不良とした。そ
の結果を下記の表3〜表5に示す。
施例品はスパイラルフロー保持率が高く保存性に優れて
いることがわかる。また、熱時硬度が高く、離型性にも
優れていることから、実施例品の熱硬化性樹脂組成物
は、貯蔵安定性が高く、これを半導体装置の封止材料と
して用いるのに適していることがわかる。さらに、成形
不良発生率も0%で、DSC半値幅においても良好な結
果(DSCによる発熱ピークがシャープになる)が得ら
れた。このことから、実施例品の熱硬化性樹脂組成物を
半導体装置の封止材料として用いると高い信頼性を備え
た半導体装置が得られる。これに対して、比較例1,2
品は、硬化促進剤含有マイクロカプセルの分散係数が上
記特定の範囲内であるものの、上記マイクロカプセルの
平均粒径が上記特定の範囲外であるため、保存性に劣る
ことがわかる。また、比較例3,4品は、上記マイクロ
カプセルの平均粒径が上記特定の範囲内であるものの、
上記マイクロカプセルの分散係数が上記特定の範囲外で
あるため、熱時硬度が低く、また離型性も悪く、DSC
半値幅の結果も劣る(DSCによる発熱ピークがブロー
ドになる)ことがわかる。そして、比較例5品は、上記
マイクロカプセルの平均粒径および分散係数が、いずれ
も上記特定の範囲外であるため、保存性に劣り、熱時硬
度が低く、離型性も悪く、しかもDSC半値幅の結果も
劣ることがわかる。
マイクロカプセルは、平均粒径および分散係数(粒径の
標準偏差/平均粒径)が、いずれも特定の範囲に設定さ
れているため、上記マイクロカプセルが正規分布を示す
ようになる。そして、この正規分布を示す硬化促進剤含
有マイクロカプセルを、熱硬化性樹脂や硬化剤とともに
用いると、硬化均一性に優れた熱硬化性樹脂組成物を得
ることができる。
樹脂組成物を半導体装置の封止材料として用いると、ボ
イドや金線流れの発生を防止でき、均一な樹脂封止よる
半導体パッケージを得ることができる。また、DSCに
よる発熱ピークがシャープになる。そして、本発明の熱
硬化性樹脂組成物は、上記のように半導体装置の封止材
料として最適であるが、他の分野、例えば、接着や塗料
等の分野においても有用である。
硬化体の成形方法を示す説明図である。
説明図である。
Claims (5)
- 【請求項1】 熱硬化性樹脂用の硬化促進剤からなるコ
ア部が熱可塑性樹脂からなるシェル部で被覆されたコア
/シェル構造を有する硬化促進剤含有マイクロカプセル
であって、上記マイクロカプセルの平均粒径が0.3〜
4μmであり、かつ、上記マイクロカプセルの分散係数
(粒径の標準偏差/平均粒径)が1以下であることを特
徴とする硬化促進剤含有マイクロカプセル。 - 【請求項2】 上記硬化促進剤含有マイクロカプセルの
シェル部を構成する熱可塑性樹脂がポリウレアである請
求項1記載の硬化促進剤含有マイクロカプセル。 - 【請求項3】 請求項1または2記載の硬化促進剤含有
マイクロカプセルとともに、熱硬化性樹脂および硬化剤
を含有することを特徴とする熱硬化性樹脂組成物。 - 【請求項4】 上記熱硬化性樹脂がエポキシ樹脂であ
り、かつ、上記硬化剤がフェノール樹脂である請求項3
記載の熱硬化性樹脂組成物。 - 【請求項5】 請求項3または4記載の熱硬化性樹脂組
成物を用いて半導体素子を封止してなる半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33395696A JP3892514B2 (ja) | 1996-12-13 | 1996-12-13 | 熱硬化性樹脂組成物およびそれを用いた半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33395696A JP3892514B2 (ja) | 1996-12-13 | 1996-12-13 | 熱硬化性樹脂組成物およびそれを用いた半導体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10168286A true JPH10168286A (ja) | 1998-06-23 |
JP3892514B2 JP3892514B2 (ja) | 2007-03-14 |
Family
ID=18271874
Family Applications (1)
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---|---|---|---|
JP33395696A Expired - Lifetime JP3892514B2 (ja) | 1996-12-13 | 1996-12-13 | 熱硬化性樹脂組成物およびそれを用いた半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3892514B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1557880A1 (en) * | 2004-01-21 | 2005-07-27 | Nitto Denko Corporation | Resin composition for encapsulating semiconductor |
JP2007204669A (ja) * | 2006-02-03 | 2007-08-16 | Asahi Kasei Chemicals Corp | 特定小粒径粒度分布エポキシ樹脂用硬化剤およびエポキシ樹脂組成物 |
WO2021025146A1 (ja) * | 2019-08-08 | 2021-02-11 | 住友ベークライト株式会社 | 封止樹脂組成物、および電子部品 |
-
1996
- 1996-12-13 JP JP33395696A patent/JP3892514B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
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JP2007204669A (ja) * | 2006-02-03 | 2007-08-16 | Asahi Kasei Chemicals Corp | 特定小粒径粒度分布エポキシ樹脂用硬化剤およびエポキシ樹脂組成物 |
WO2021025146A1 (ja) * | 2019-08-08 | 2021-02-11 | 住友ベークライト株式会社 | 封止樹脂組成物、および電子部品 |
JP6892024B1 (ja) * | 2019-08-08 | 2021-06-18 | 住友ベークライト株式会社 | 封止樹脂組成物、および電子部品 |
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A02 | Decision of refusal |
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A521 | Written amendment |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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