JPH10163375A - 高周波用半導体装置 - Google Patents

高周波用半導体装置

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JPH10163375A
JPH10163375A JP31807296A JP31807296A JPH10163375A JP H10163375 A JPH10163375 A JP H10163375A JP 31807296 A JP31807296 A JP 31807296A JP 31807296 A JP31807296 A JP 31807296A JP H10163375 A JPH10163375 A JP H10163375A
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幹男 藤井
Kenji Kitazawa
謙治 北澤
Shinichi Koriyama
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Abstract

(57)【要約】 【課題】マイクロ波やミリ波の高周波伝送線路における
伝送損失が小さく、且つ簡略した構造からなる高信頼性
の高周波用半導体装置を提供する。 【解決手段】誘電体基板2の表面に高周波用半導体素子
5を搭載するとともに、高周波用半導体素子5と電気的
に接続された第1の高周波用伝送線路6を被着形成し、
誘電体基板2の底面には第2の高周波用伝送線路8を被
着形成し、半導体素子5および伝送線路6を取り囲むよ
うに誘電体基板2表面に第1の接地層7を被着形成し、
第1の伝送線路6と第2の伝送線路8とを電磁的に結合
するとともに、第1の接地層7に半導体素子5および伝
送線路6を気密に封止するように導電性蓋体3を取り付
ける。また、誘電体基板2内にはスロット孔12を有す
る第2の接地層9を形成し、第1の高周波用伝送線路6
の終端部と第2の高周波用伝送線路8の終端部とをスロ
ット孔12を介して対峙させて電磁的に結合させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、マイクロ波帯から
ミリ波帯領域の高周波回路素子を搭載した高周波用半導
体装置に関し、特に、高周波信号の特性を劣化させるこ
となく半導体素子や回路部品に信号を伝送することがで
きる半導体装置に関する。
【0002】
【従来技術】従来、マイクロ波やミリ波を取り扱う高周
波回路素子を搭載した半導体装置においては、高周波用
半導体素子を誘電体基板と高周波用伝送線路が形成され
た半導体パッケージ内に収納されてなり、この半導体装
置は、所定の外部電気回路基板の表面に実装され、半導
体装置の高周波用伝送線路と外部電気回路基板に形成さ
れた高周波用伝送線路とを電気的に接続して高周波信号
の入出力が行われる。
【0003】このような高周波用半導体装置の実装構造
においては、高周波信号を劣化させることなく信号を入
出力することが可能なパッケージ構造および伝送線路の
設計及び製造と、外部電気回路基板に精度よく半導体装
置を実装する実装技術が要求される。
【0004】そこで、従来から、この種の半導体装置で
は、図4(a)(b)に示すように、誘電体からなる誘
電体基板40と蓋41により形成されたキャビティ42
内に高周波用半導体素子43を搭載して気密に封止され
ている。そして高周波信号の入出力および外部電機回路
基板への実装は、図4(a)に示されるように、高周波
用半導体素子43と接続された、ストリップ線路等の高
周波伝送線路44を壁体45を通過してキャビティ42
外に引き出し、これをさらに基板の側面を経由して底面
に配設し、底面に形成された線路を外部電気回路基板4
6の表面に形成された導体層47にロウ付け実装された
半導体装置が昭61−168939号等にて提案されて
いる。
【0005】また、図4(b)に示すように、誘電体基
板40の底面に信号伝送線路48を形成し、この伝送線
路48と半導体素子43とをスル−ホ−ル導体49を通
じて接続した半導体装置が提案されている。この半導体
装置は、通常、伝送線路48を外部電気回路基板46の
導体層47と半田等によって接続し、実装される。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図4
(a)において、伝送線路44が壁体45を通過する場
合、壁体通過部で信号線路がマイクロストリップ線路か
らストリップ線路へと変換されるため、信号線路幅を狭
くする必要がある。その結果、この通過部で反射損、放
射損が発生しやすいため高周波信号の特性劣化が起こり
やすくなるという問題がある。また、伝送線路44が基
板の側面で曲折することから、ミリ波帯で用いた場合、
伝送線路が曲折することにより反射が大きくなり信号を
送受することが困難となる。また、素子搭載面の側面に
伝送線路を形成する関係上、半導体装置自体も必然的に
大きくなるため回路基板の小型化が困難であった。しか
も、伝送線路44をキャビティ42の外側に引出すため
に、壁体の少なくとも線路通過部は誘電体によって形成
する必要があるため、構造が複雑になり、半導体装置全
体のコストを高める要因にもなっていた。
【0007】これに対して、図4(b)は、スルーホー
ル導体49によって壁体を通過しないために、信号の特
性劣化は小さいが、伝送する信号の使用周波数が10G
Hz以上になるとスルーホール導体49での透過損失が
急激に大きくなるために、マイクロ波帯からミリ波帯領
域の信号を特性劣化なく伝送することが困難であった。
【0008】従って、本発明は、高周波伝送線路におけ
る伝送損失が小さく、且つ簡略した構造からなる小型化
が可能な高信頼性の高周波用半導体装置を提供すること
を目的とするものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、高周波用
としての配線基板において、低損失化、小型化をもたら
す構造について検討を重ねた結果、誘電体基板と配線に
より形成される配線基板の表面に半導体素子が搭載され
た半導体装置において、誘電体基板の表面側に半導体素
子と電気的に接続された第1の高周波用伝送線路と、前
記誘電体基板の底面側に第2の高周波用伝送線路とを形
成し、第1の高周波用伝送線路と第2の高周波用伝送線
路を電磁的に結合させることにより、伝送特性を劣化さ
せることなく、高周波信号を基板の表面から底面に伝送
することができることを見いだした。さらに、誘電体基
板表面側に、半導体素子および第1の高周波伝送線路を
取り囲むように、接地層を形成し、その接地層に、金属
などの導電性材料からなる蓋体を取り付けて気密に封止
することにより、簡単な構造によって小型のパッケージ
化が可能であるとともに、回路全体の保護、ならびに外
部からの電磁波の影響や、半導体装置からの電磁波のも
れを防止することができるものである。
【0010】即ち、本発明の高周波用半導体装置は、誘
電体基板と,該誘電体基板の表面に搭載された高周波用
半導体素子と、該誘電体基板の表面に被着形成され前記
高周波用半導体素子と電気的に接続された第1の高周波
用伝送線路と、前記誘電体基板の底面に被着形成された
第2の高周波用伝送線路と、前記高周波用半導体素子お
よび前記第1の高周波用伝送線路を取り囲むように誘電
体基板表面に被着形成された第1の接地層とを具備し、
前記第1の高周波用伝送線路と前記第2の高周波用伝送
線路とは電磁的に結合され、且つ前記接地層には前記高
周波用半導体素子および前記第1の高周波用伝送線路を
気密に封止するように導電性蓋体が取り付けられてなる
ことを特徴とするものであり、さらには、前記誘電体基
板内に、スロット孔を有する第2の接地層が形成され、
前記第1の高周波用伝送線路の終端部と前記第2の高周
波用伝送線路の終端部とを前記スロット孔を介して対峙
させて電磁的に結合させてなることを特徴とするもので
ある。
【0011】本発明によれば、誘電体基板の表面側に
て、半導体素子を搭載し、この素子と電気的に接続され
た第1の高周波用伝送線路を形成し、誘電体基板の底面
に第2の高周波用伝送線路を形成し、これらを誘電体基
板内で電磁結合させることにより、伝送線路が誘電体か
らなる壁体内を通過したり、スルーホール導体等を経由
することがないために、高周波信号が線路内を通過する
際に生じる反射損や放射損の発生を極力抑制することが
でき、低伝送損失で且つ小型化が可能な半導体装置を提
供することができる。
【0012】また、誘電体基板表面の半導体素子や第1
の高周波伝送線路は、その周囲に形成された第1の接地
層、その接地層と電気的に接続された導電性蓋体によっ
て囲まれた構造となるために、外部電磁波の影響や電磁
波のもれを防止することができる。
【0013】さらに、高周波用伝送線路間の電磁結合構
造としては、前記誘電体基板内に第2の接地層を形成す
るとともに、該第2の接地層にスロット孔を形成し、前
記第1の高周波用伝送線路と、前記第2の高周波用伝送
線路とを前記スロット孔を介して対峙する位置に形成し
て電磁結合させることにより、伝送線路間での信号の損
失なく信号の伝達が可能となる。
【0014】さらに、第1の高周波伝送線路および第2
の高周波伝送線路をマイクロストリップ線路により構成
する場合、誘電体基板内に第2の接地層を形成し、その
第2の接地層と第1の接地層とを電気的に接続すること
により、半導体素子は、3次元的にその周囲を完全に接
地層により取り囲まれた構造となるために、外部電磁波
の影響や電磁波のもれをさらに防止することが可能とな
る。
【0015】
【発明の実施の形態】本発明における高周波用半導体装
置の一例を図1に示した。図1によれば、高周波用半導
体装置1は、誘電体材料からなる誘電体基板2と導電性
蓋体3によりキャビティ4が形成されており、そのキャ
ビティ4内には、MMIC、MIC等の半導体素子5が
搭載されている。誘電体基板2を構成する誘電体材料と
しては誘電率が20以下のセラミックス、ガラスセラミ
ックス、セラミック金属複合材料、ガラス有機樹脂系複
合材料等などが望ましい。
【0016】本発明によれば、上記の半導体装置のキャ
ビティ4内には、半導体素子5に信号を伝送するための
線路として、マイクロストリップ線路、ストリップ線
路、グランド付コプレーナ線路のうちから選ばれる1種
からなる第1の高周波伝送線路6が誘電体基板2の表面
に形成されている。また、誘電体基板2の表面には、図
2の誘電体基板2の平面図に示すように、半導体素子5
および第1の高周波伝送線路6を取り囲むように、第1
の接地層7が被着形成されており、この第1の接地層7
は、導電性蓋体3がロウ付け、半田付け等の手法により
電気的に接地層7と接続されている。一方、誘電体基板
2の底面には、マイクロストリップ線路、ストリップ線
路、グランド付コプレーナ線路のうちから選ばれる1種
からなる第2の高周波伝送線路8が被着形成されてい
る。
【0017】導電性蓋体3は、キャビティ4からの電磁
波が外部に漏洩したり、電磁波が外部にもれるのを防止
できる導電性材料から構成され、金属、導電性セラミッ
クス、セラミック金属複合材料等が使用できるが、絶縁
基体の表面に導電性物質を塗布したものであってもよい
が、コストの点から考慮すれば金属であるのがよい。
【0018】図1は、第1の高周波伝送線路6および第
2の高周波伝送線路8がマイクロストリップ線路の場合
の構造を示すものである。図1によれば、誘電体基板2
内には導体層からなる第2の接地層9がほぼ全面にわた
り形成され、キャビティ4内の誘電体基板2表面に形成
されたストリップ導体路10により第1の信号伝送線路
6が形成されている。また、半導体装置1の底面にも、
ストリップ導体路11が形成され、接地層9間において
第2の高周波伝送線路8が形成されている。
【0019】そして、接地層9内には、スロット孔12
が形成されており、第1の信号伝送線路6と第2の信号
伝送線路8とは、このスロット孔12を介して、各伝送
線路6、8の終端部が図1に示すような配置で対峙する
ように形成することにより、第1の高周波伝送線路6と
第2の高周波伝送線路8とは電磁結合され、損失のない
信号の伝達が行われる。より具体的には、このスロット
孔12を介したストリップ導体路10、11は、スロッ
ト孔12を挟んで必要な周波数伝送信号の1/2波長で
平面的にみて重なる対峙位置に形成されることが望まし
く、スロット孔12の形状は、長辺と短辺とからなる長
方形の孔であり、そのサイズは、使用周波数や周波数の
帯域幅により適宜設定される。特に、スロット孔の長辺
は信号周波数の1/2波長相当長さにするのが望まし
く、スロット孔の短辺は1/5波長相当長さから1/5
0波長相当長さに設定することが望ましい。
【0020】また、第2の高周波伝送線路8のストリッ
プ線路11は、外部電気回路基板(図示せず)に実装す
る際の接続端子としての機能も兼ね備え、外部電気回路
基板に形成された導体層と半田等によるロウ付けによっ
て電気的接続される。
【0021】また、誘電体基板2の表面に形成された第
1の接地層7は、スルーホール導体13を介して、第2
の接地層9と電気的に接続することにより、誘電体基板
2の表面に搭載および形成された半導体素子5および第
1の高周波伝送線路6は、導電性蓋体3、第1の接地層
7および第2の接地層9によって3次元的に囲まれるこ
とになり、外部からの電磁波による半導体素子の誤動作
等を防止し、また電磁波のもれを防止して半導体装置の
信頼性を高めることができる。
【0022】なお、図1の半導体装置におけるキャビテ
ィ4内には、半導体素子5と、第1の信号伝送線路6を
形成するストリップ導体路10の他に、半導体素子5に
電力を供給するための電源供給層14が形成されてい
る。この電源供給層14は、低周波であるために、格別
な高周波線路により形成する必要がないため、電源供給
層14は、誘電体基板2内に形成されたスルーホール導
体15を介して誘電体基板2の底面に引き出され、外部
電気回路基板(図示せず)の導体層と電気的に接続され
る。
【0023】また、ストリップ導体路10および電源供
給層13の端部は、半導体素子5とリボン、ワイヤ、T
AB(Tape Automated Bonding) 等によってそれぞれ電
気的に接続され、特に、半導体素子5は、ストリップ導
体路10の上に半田や金バンプ等により直接載置される
ことにより、伝送損失なく接続することができる。導体
路10と半導体素子5との接続方法としては、これに限
られるものではなく、例えば、金リボンや数本のワイヤ
ボンディングにより接続したり、ポリイミド等の基板に
Cu等の導体を形成した導体板等により接続することも
できる。
【0024】次に、図1、図2に示された高周波用半導
体装置の伝送特性を求めた。誘電体としては、誘電率
5.6、誘電損失31.0×10-4(測定周波数60G
Hz)の誘電体材料と、導体に銅を用いて配線基板を作
製し、配線基板の入力部における伝送特性をネットワ−
クアナライザ−により測定した。図3にその結果を示
す。この図3から、電磁結合部分を2ヶ所と全長8mm
のマイクロストリップ線路を含んで、60GHzにおい
て、S11:−25dB、S21:−1.7dB以上の
伝送特性が得られ、きわめて低損失であることが示され
た。
【0025】
【発明の効果】以上詳述した通り、本発明の高周波用半
導体装置は、誘電体基板表面の高周波伝送線路と誘電体
基板の底面に形成された高周波伝送線路とを電磁的に結
合させたことをにより、伝送線路がキャビティ形成のた
めの壁体等を通過することがないために、伝送線路間を
低伝送損失で信号を伝達することが可能となる。しか
も、半導体素子が収納されるキャビティが、誘電体基板
表面の接地層に導電性蓋体を取り付けることにより形成
されるために、非常に簡単な構造で、且つ外部からの電
磁波による影響を防止することができ、特に、誘電体基
板内に形成した接地層と電気的に接続することによりさ
らにその効果を高められ、高信頼性の小型化が可能な高
周波用半導体装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の高周波用半導体装置の一例を示す概略
図である。
【図2】図1の半導体装置の誘電体基板表面の平面図で
ある。
【図3】図1の半導体装置の伝送特性を示す図である。
【図4】従来の高周波用半導体装置の概略図である。
【符号の説明】
1 高周波用半導体装置 2 誘電体基板 3 導電性蓋体 4 キャビティ 5 半導体素子 6 第1の高周波伝送線路 7 第1の接地層 8 第2の高周波伝送線路 9 第2の接地層 10ストリップ導体路 11ストリップ導体路 12スロット孔 13スルーホール導体 14電源供給層 15スルーホール導体

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】誘電体基板と、該誘電体基板の表面に搭載
    された高周波用半導体素子と、該誘電体基板の表面に被
    着形成され前記高周波用半導体素子と電気的に接続され
    た第1の高周波用伝送線路と、前記誘電体基板の底面に
    被着形成された第2の高周波用伝送線路と、前記高周波
    用半導体素子および前記第1の高周波用伝送線路を取り
    囲むように前記誘電体基板表面に被着形成された第1の
    接地層とを具備し、前記第1の高周波用伝送線路と前記
    第2の高周波用伝送線路とを電磁的に結合するととも
    に、前記接地層に前記高周波用半導体素子および前記第
    1の高周波用伝送線路を気密に封止するように導電性蓋
    体を取り付けたことを特徴とする高周波用半導体装置。
  2. 【請求項2】前記誘電体基板内に、スロット孔を有する
    第2の接地層を形成し、前記第1の高周波用伝送線路の
    終端部と前記第2の高周波用伝送線路の終端部とを前記
    スロット孔を介して対峙させて電磁的に結合させてなる
    請求項1記載の高周波用半導体装置。
  3. 【請求項3】前記第1の接地層と、前記第2の接地層と
    を電気的に接続してなる請求項2記載の高周波用半導体
    装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100365823B1 (ko) * 1999-06-03 2002-12-26 알프스 덴키 가부시키가이샤 전자유닛
JP2003168901A (ja) * 2001-11-29 2003-06-13 Kyocera Corp 電子部品装置

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KR100365823B1 (ko) * 1999-06-03 2002-12-26 알프스 덴키 가부시키가이샤 전자유닛
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