JPH10162351A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 デジタル記録に用いられるＤＶＣ用テープと
して、金属蒸着テープとの互換性を採るために、入出力
特性とオーバーライト特性とのバランスを達成し、かつ
ノイズの低い磁気記録媒体を提供する。 【解決手段】 非磁性支持体上に、強磁性金属粉末を結
合剤中に分散してなる磁性層を設けてなる磁気記録媒体
において、該強磁性金属粉末は、長軸長が０．０５μｍ
以上０．１３μｍ以下で結晶子サイズが８０Å以上２０
０Å以下であるＦｅを主成分とし、磁性層の厚みが０．
０５μｍ以上０．５μｍ以下であり、媒体面内長手方向
のＳＦＤが０．４１以下であることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は磁気記録媒体、特にデジ
タル信号を高密度で記録再生する磁気記録媒体に関する
ものである。

【０００２】

【従来の技術】磁気記録媒体は、録音用テープ、ビデオ
テープ、コンピューターテープ、ディスク等として広く
用いられている。磁気記録媒体は年々高密度化され記録
波長が短くなっており、記録方式もアナログ方式からデ
ジタル方式まで検討されている。この高密度化の要求に
対して、強磁性粉末を結合剤中に分散して、支持体に塗
布したいわゆる塗布型の磁気記録媒体は金属薄膜に対し
て、磁性物の充填度が低いために電磁変換特性が劣って
いたが、ここ最近の磁性体の進歩、極薄層塗布技術の進
歩によってほぼ同等の特性に至っている。更に生産性、
腐食性等の点で優れる。塗布型磁気記録媒体としては、
強磁性酸化鉄、Ｃｏ変性強磁性酸化鉄、CrO₂、強磁性金
属（合金を含む）粉末等を結合剤中に分散した磁性層を
非磁性支持体に塗設したものが広く用いられる。

【０００３】塗布型磁気記録媒体の電磁変換特性の向上
には、強磁性粉末の磁気特性の改良、表面の平滑化など
があり、種々の方法が提案されているが、高密度化に対
しては十分なものではない。また、近年、高密度化と共
に記録波長が短くなる傾向にあり、磁性層の厚さが厚い
と出力が低下する記録時の自己減磁損失、再生時の厚み
損失の問題が大きくなっており、極薄層の塗布型磁気記
録媒体も提案されている。また、近年Ｈｉ−８や民生用
デジタルＶＣＲ（ＳＤ仕様）に使用される磁気テープカ
セット（以下、ＤＶＣという）では金属薄膜を蒸着した
テ−プ、いわゆるＭＥ(metal evaporated)テ−プが実用
化されており、強磁性金属粉末を使用した塗布型磁気記
録テープいわゆるＭＰ(metal particulate)テ−プとＭ
Ｅテ−プとの両者が使用されるシステムが実用化されて
きている。

【０００４】ＭＥテ−プと共存させるためには、ＭＰテ
ープもＭＥテープ同様、磁性層を薄層化して高出力化を
図らねばならないとともに、記録電流と再生出力との関
係を同じにする必要がある。従来より、ＭＰテープは記
録電流を大きくしていくと記録減磁により再生出力が低
下するが、ＭＥテープはその傾向が見られず、記録電流
を大きくしていくと再生出力が飽和する傾向にあった。
このため、実際にＨｉ−８デッキではＭＰとＭＥの両テ
ープに対して、それぞれ別の記録電流で記録するという
方式を取っており、回路が複雑化する欠点があった。こ
の難点を解消するためにはＭＰテープとＭＥテープとが
共用可能なシステムとし、同一の記録電流で記録する必
要があるが、ＭＥテープの最適記録電流でＭＰテープを
記録再生すると出力が低くなってしまうという問題があ
った。逆に、ＭＰテープの最適記録電流でＭＥテープを
記録再生するとＭＥテープがその実力を発揮できず、出
力が低くなってしまう。ＭＰテープの最適記録電流をＭ
Ｅテープのそれと殆ど同じにすることが求められてい
た。

【０００５】また、民生用デジタルＶＣＲでは記録波長
２２μｍの信号が同期信号として採用され、データは記
録波長０．４８８μｍの信号が採用された。また、軽量
化のため消去ヘッドを省略したオーバーライト消去が採
用された。オーバーライト消去を採用するためには、同
期信号をデータ信号で消去していく必要があり、そのオ
ーバーライト消去率は、−２０ｄＢ以下であることが望
ましいと言われている。磁気記録媒体に必要な特性とし
て、オーバーライト消去率を出来るだけ低くすことが望
まれる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】

【０００７】オーバーライト消去率を低くするには、磁
性層の抗磁力Ｈｃを低くすればよいとされていた。しか
しこの抗磁力Ｈｃを低くすることにより、オーバーライ
ト性能を改良は出来るが、記録減磁により、高周波出力
が低下してしまうので、限界がある。また磁性層厚みを
薄くすることも示されているが、薄すぎると磁化量が足
りなくなり、短波長、長波長を問わず、出力全体が小さ
くなるので限界がある。本発明は電磁変換特性が良好な
磁気記録媒体を提供することであり、特にデジタル記録
に用いられるＤＶＣ用テープとして、ＭＥテープとの互
換性を採るために、入出力特性とオーバーライト特性と
のバランスを達成し、かつノイズの低い磁気記録媒体を
提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、以下の
構成により達成できる。 （１）非磁性支持体上に、強磁性金属粉末を結合剤中に
分散してなる磁性層を設けてなる磁気記録媒体におい
て、該強磁性金属粉末は、長軸長が０．０５μｍ以上
０．１３μｍ以下で結晶子サイズが８０Å以上２００Å
以下であるＦｅを主成分とし、磁性層の厚みが０．０５
μｍ以上０．５μｍ以下であり、媒体面内長手方向のＳ
ＦＤが０．４１以下である磁気記録媒体。 （２）該強磁性金属粉末の抗磁力が１９５０〜２７５０
Ｏｅで、σＳが１４０〜１７０emu/gである前記（１）
記載の磁気記録媒体。 （３）該強磁性金属粉末のＢＥＴ法による比表面積が３
０m²/g以上５０m²/g未満であることを特徴とする前記
（１）記載の磁気記録媒体。 （４）該強磁性金属粉末に、ＣｏがＦｅに対して、１０
〜４０at％、Ａｌが２〜２０at％、Ｙが１〜１５at％含
まれることを特徴とする前記（１）記載の磁気記録媒
体。 （５）該磁気記録媒体の面内長手方向の角型比が０．８
５以上であることを特徴とする前記（１）記載の磁気記
録媒体。

【０００９】本発明の特徴は、磁性粉末の配向を高め、
磁化反転をシャープにし、磁性層厚みの深さ方向に渡っ
て、均一に磁化反転させることで磁性層の深く迄記録さ
せ、オーバーライト性能を向上させたものである。

【００１０】

【発明の実施の形態】強磁性金属粉末の長軸長は、好ま
しくは０．０６〜０．１１μｍ、更に好ましくは０．０
６５〜０．１で、結晶子サイズは、好ましくは１００〜
１８０Å、更に好ましくは１２０〜１７０Åである。該
長軸径は、透過型電子顕微鏡写真を撮影し、その写真か
ら強磁性粉末の短軸径と長軸径とを直接読みとる方法と
画像解析装置カールツァイス社製ＩＢＡＳＳＩで透過型
電子顕微鏡写真トレースして読みとる方法を適宜併用し
て求められる。磁性層の厚みは、高出力、特に２０ＭＨ
ｚを超える高周波数での入出力特性向上のためには、
０．０５〜０．５μｍが必要であり、好ましくは、０．
１〜０．３μｍ、更に好ましくは０．１１〜０．２７μ
ｍである。この極薄層の磁性層を安定的に塗布するには
支持体上に無機粉末を含有する下層非磁性層を介在させ
て、その上に磁性層をウエット・オン・ウエットで塗布
することが望ましい。強磁性金属粉末の抗磁力Ｈｃは、
好ましくは２０００〜２５００Ｏｅであり、更に好まし
くは２０００〜２３００Ｏｅで、σｓは、好ましくは１
４５〜１６０emu/g、更に好ましくは１５０〜１６０emu
/gである。

【００１１】本発明は、強磁性粉末の配向を高め、磁化
反転をシャープにし、磁性層厚みの深さ方向に渡って、
均一に磁化反転させることで磁性層の深く迄記録させ、
オーバーライト性能を向上させる技術である。しかしな
がら、低ノイズ性能の達成を目的として強磁性粉末を微
粒子化すると、該微粒子の凝集力が激しいため低いＳＦ
Ｄを得ることが困難だった。特に、長軸長が０．１３μ
以下の磁性体では、その傾向が顕著だった。これは、磁
性体同士の静磁気相互作用による磁性体配向の乱れによ
るところが大きいためであり、それに対して磁性層厚み
を薄くと反磁界が小さくなり、静磁気相互作用による配
向乱れも少なくなると考えられている。よって発明者ら
は、ＭＥテープ同等のオーバーライト性能を得るために
は、磁性層厚みを０．５μ以下で薄くすると静磁気相互
作用による配向の乱れなく、同時に、媒体面内長手方向
のＳＦＤが０．４１以下であることが望ましいというこ
とを見い出した。

【００１２】上記のような媒体面内長手方向のＳＦＤ
０．４１以下を達成する手段としては、以下のものを挙
げることができる。 磁性層の塗布直後に５０００ガウス以下の永久磁石で
配向する。 オープンニーダーや連続ニーダー等の混練操作をサン
ドグラインダで分散する前に加える。 サイドグラインダーで分散する際に、比重２．５以上
の分散メディアを用いる。好ましくは、ＺｒＯ₂を主成
分とする分散ビーズを用いる。 強磁性粉末と非磁性粉末の分散を別個に行った後、所
定量混合して更に分散を加える。 強磁性粉末のＳＦＤを０．６以下にする。 長軸長０．０５〜０．１３μｍ磁性体であれば、結晶
子サイズ２００Å以下である、細長い磁性体を採用す
る。

【００１３】また、本発明の更に好ましい態様として
は、以下のものが挙げられる。 少なくとも下層非磁性層に含まれる結合剤の一部に、
環状構造とエーテル基とを含むポリウレタン樹脂を含む
こと。 磁性層のＴｇが３０℃以上１５０℃以下であること。 全層厚みが３．０μｍ以上８．８μｍ以下のテープ状
磁気記録媒体であること。 下層非磁性層に長軸長が０．３μ以下の針状粉末を用
いたものであること。

【００１４】以下、本発明の磁気記録媒体について更に
詳細に説明する。本発明に使用される強磁性金属粉末と
しては、Ｆｅを主成分とするもの（合金も含む）であれ
ば、特に限定されないが、α−Ｆｅを主成分とする強磁
性合金粉末が好ましい。これらの強磁性粉末には所定の
原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｃａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃ
ｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、
Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂ
ｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、
Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂなどの原子を含んでもかまわない。特
に、Ａｌ、Ｓｉ、Ｃａ、Ｙ、Ｂａ、Ｌａ、Ｎｄ、Ｃｏ、
Ｎｉ、Ｂの少なくとも１つがα−Ｆｅ以外に含まれるも
のが好ましい。

【００１５】これらの強磁性粉末にはあとで述べる分散
剤、潤滑剤、界面活性剤、帯電防止剤などで分散前にあ
らかじめ処理を行ってもかまわない。具体的には、特公
昭44-14090号、特公昭45-18372号、特公昭47-22062号、
特公昭47-22513号、特公昭46-28466号、特公昭46-38755
号、特公昭47-4286号、特公昭47-12422号、特公昭47-17
284号、特公昭47-18509号、特公昭47-18573号、特公昭3
9-10307号、特公昭48-39639号、米国特許3026215号、同
3031341号、同3100194号、同3242005号、同3389014号な
どに記載されている。

【００１６】強磁性金属微粉末には少量の水酸化物、ま
たは酸化物を含んでもよい。強磁性金属粉末の公知の製
造方法により得られたものを用いることができ、下記の
方法を挙げることができる。複合有機酸塩（主としてシ
ュウ酸塩）と水素などの還元性気体で還元する方法、酸
化鉄を水素などの還元性気体で還元してＦｅあるいはＦ
ｅ−Ｃｏ粒子などを得る方法、金属カルボニル化合物を
熱分解する方法、強磁性金属の水溶液に水素化ホウ素ナ
トリウム、次亜リン酸塩あるいはヒドラジンなどの還元
剤を添加して還元する方法、金属を低圧の不活性気体中
で蒸発させて微粉末を得る方法などである。このように
して得られた強磁性合金粉末は公知の徐酸化処理、すな
わち有機溶剤に浸漬したのち乾燥させる方法、有機溶剤
に浸漬したのち酸素含有ガスを送り込んで表面に酸化膜
を形成したのち乾燥させる方法、有機溶剤を用いず酸素
ガスと不活性ガスの分圧を調整して表面に酸化皮膜を形
成する方法のいずれを施したものでも用いることができ
る。

【００１７】本発明の磁性層に使用される強磁性粉末の
ＢＥＴ法による比表面積は、好ましくは３０〜５０ｍ²
／ｇから選ばれる。これにより、良好な表面性と低いノ
イズの両立が可能となる。強磁性粉末の針状比は４以上
１８以下が好ましく、更に好ましくは５以上１２以下で
ある。強磁性粉末の含水率は０．０１〜２％とするのが
好ましい。結合剤の種類によって強磁性粉末の含水率は
最適化するのが好ましい。

【００１８】強磁性粉末のｐＨは用いる結合剤との組合
せにより最適化することが好ましい。その範囲は４〜１
２であるが、好ましくは７〜１０である。強磁性粉末は
必要に応じ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｐまたはこれらの酸化物など
で表面処理を施してもかまわない。その量は強磁性粉末
に対し０．１〜１０％であり表面処理を施すと脂肪酸な
どの潤滑剤の吸着が１００ｍｇ／ｍ²以下になり好まし
い。強磁性粉末には可溶性のＮａ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｎｉ、
Ｓｒなどの無機イオンを含む場合があるが２００ｐｐｍ
以下であれば特に特性に影響を与える事は少ない。ま
た、本発明に用いられる強磁性粉末は空孔が少ないほう
が好ましくその値は２０容量％以下、さらに好ましくは
５容量％以下である。また形状については先に示した粒
子サイズについての特性を満足すれば針状、粒状、米粒
状、板状いずれでもかまわない。針状強磁性粉末の場
合、針状比は４以上１２以下が好ましい。

【００１９】次に本発明の好ましい態様で使用される下
層非磁性層（下層ともいう）の詳細な内容について説明
する。本発明の下層に用いられる無機粉末は、非磁性粉
末であることが好ましく、例えば、金属酸化物、金属炭
酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化
物、等の無機質化合物から選択することができる。無機
化合物としては例えばα化率９０％以上のα−アルミ
ナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、θ−アルミナ、炭化
ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、ゲー
タイト、コランダム、窒化珪素、チタンカ−バイト、酸
化チタン、二酸化珪素、酸化スズ、酸化マグネシウム、
酸化タングステン、酸化ジルコニウム、窒化ホウ素、酸
化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウ
ム、二硫化モリブデンなどが単独または組合せで使用さ
れる。特に好ましいのは二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化
鉄、硫酸バリウムであり、更に好ましいのは二酸化チタ
ン、α酸化鉄である。

【００２０】これら非磁性粉末の粒子サイズは３μｍ以
下が好ましいが、必要に応じて粒子サイズの異なる非磁
性粉末を組み合わせたり、単独の非磁性粉末でも粒径分
布を広くして同様の効果をもたせることもできる。とり
わけ好ましいのは非磁性粉末の粒子サイズは０．０１μ
ｍ〜０．２μｍである。タップ密度は０．０５〜２ｇ／
ｍｌ、好ましくは０．２〜１．５ｇ／ｍｌである。非磁
性粉末の含水率は０．１〜５重量％、好ましくは０．２
〜３重量％、更に好ましくは０．３〜１．５重量％であ
る。非磁性粉末のｐＨは２〜１１であるが、ｐＨは７〜
１０の間が特に好ましい。非磁性粉末の比表面積は１〜
１００ｍ²／ｇ、好ましくは５〜７０ｍ²／ｇ、更に好ま
しくは１０〜６５ｍ²／ｇである。非磁性粉末の結晶子
サイズ は０．００４μｍ〜１μｍが好ましく、０．０
４μｍ〜０．１μｍが更に好ましい。ジブチルフタレー
ト（DBP）を用いた吸油量は５〜１００ml/100g、好まし
くは１０〜８０ml/100g、更に好ましくは２０〜６０ml/
100gである。比重は１〜１２、好ましくは３〜６であ
る。形状は針状、球状、多面体状、板状のいずれでも良
い。

【００２１】強熱減量は２０重量％以下であることが好
ましく、本来ないことが最も好ましいと考えられる。本
発明に用いられる上記無機粉体のモース硬度は４以上、１
２以下のものが好ましい。これらの粉体表面のラフネス
ファクターは０．８〜１．５が好ましく、更に好ましい
ラフネスファクターは０．９〜１．２である。無機粉体
のＳＡ（ステアリン酸）吸着量は１〜２０μmol／m²、
更に好ましくは２〜１５μmol/m²である。下層塗布層非
磁性粉体の２５℃での水への湿潤熱は２００erg/cm²〜
６００erg/cm²の範囲にあることが好ましい。また、こ
の湿潤熱の範囲にある溶媒を使用することができる。１
００〜４００℃での表面の水分子の量は１〜１０個/100
Åが適当である。水中での等電点のｐＨは３〜９の間に
あることが好ましい。

【００２２】これらの非磁性粉体の表面にはAl₂O₃ 、Si
O₂、TiO₂、ZrO₂、SnO₂、Sb₂O₃ 、ZnO で表面処理するこ
とが好ましい。特に分散性に好ましいのはAl₂O₃ 、Si
O₂、TiO₂、ZrO₂であるが、更に好ましいのはAl₂O₃ 、Si
O₂、ZrO₂である。これらは組み合わせて使用しても良い
し、単独で用いることもできる。また、目的に応じて共
沈させた表面処理層を用いても良いし、先ずアルミナで
処理した後にその表層をシリカで処理する方法、または
その逆の方法を採ることもできる。また、表面処理層は
目的に応じて多孔質層にしても構わないが、均質で密で
ある方が一般には好ましい。本発明の下層に用いられる
非磁性粉末の具体的な例としては、昭和電工製ナノタイト、住
友化学製HIT-100,ZA-G1、戸田工業社製DPN-250，DPN-25
0BX、DPN-245,DPN-270BX、DPB-550BX、DPN-550RX 石原産
業製酸化チタンTTO-51B、TTO-55A,TTO-55B、TTO-55C、TTO
-55S、TTO-55D、SN-100,MJ-7 α−酸化鉄E270,E271,E300,
チタン工業製STT-4D、STT-30D、STT-30、STT-65C、テイ
カ製MT-100S、MT-100T、MT-150W、MT-500B、MT-600B、MT-100
F、MT-500HD。堺化学製FINEX-25,BF-1,BF-10,BF-20,ST-
M、同和鉱業製DEFIC-Y,DEFIC-R、日本アエロジル製AS2BM,
TiO2P25,宇部興産製100A,500A、チタン工業製Y-LOP及び
それを焼成したものが挙げられる。

【００２３】特に好ましい非磁性粉体は二酸化チタンと
α−酸化鉄である。α−酸化鉄（ヘマタイト）は以下の
ような諸条件の基で実施される。α−Ｆｅ₂Ｏ₃粒子粉末
は、通常の第一鉄水溶液に等量以上の水酸化アルカリ
水溶液を加えて得られる水酸化第一鉄コロイドを含む懸
濁液をｐＨ１１以上にて８０℃以下の温度で酸素を含有
ガスを通気して酸化反応を行う事により針状ゲータイト
粒子を生成させる方法、第一鉄塩水溶液と炭酸アルカ
リ水溶液とを反応させて得られるＦｅＣＯ₃を含む懸濁
液に酸素含有ガスを通気して酸化反応を行う事により紡
錘状を呈したゲータイト粒子を生成させる方法、第一
鉄水溶液に等量未満の水酸化アルカリ水溶液または炭酸
アルカリ水溶液を添加して得られる水酸化第一鉄コロイ
ドを含む第一鉄塩水溶液に酸素含有ガスを通気して酸化
反応を行う事により針状ゲータイト核粒子を生成させ、
次いで、該針状ケータイト該粒子を含む第一鉄塩水溶液
に、該第一鉄塩水溶液中のＦｅ²⁺に対し等量以上の水酸
化アルカリ水溶液を添加した後、酸素含有ガスを通気し
て前期針状ゲータイト核粒子を成長させる方法及び、
第一鉄水溶液に等量未満の水酸化アルカリ水溶液または
炭酸アルカリ水溶液を添加して得られる水酸化第一鉄コ
ロイドを含む第一鉄塩水溶液に酸素含有ガスを通気して
酸化反応を行う事により針状ゲータイト核粒子を生成さ
せ、次いで、酸性または中性領域で前記針状ゲータイト
核粒子を成長させる方法等により得られた針状ゲータイ
ト粒子を前駆体粒子とする。

【００２４】尚、ゲータイト粒子の生成反応中に粒子粉
末の特性向上等の為に通常添加されている、Ｎｉ、Ｚ
ｎ、Ｐ、Ｓｉ等の異種元素が添加されていても支障がな
い。前駆体粒子である針状ゲータイト粒子を２００〜５
００℃の温度範囲で脱水するか、必要に応じて、更に３
５０〜８００℃の温度範囲で加熱処理により焼き鈍しを
して針状α−Ｆｅ₂Ｏ₃の粒子を得る。尚、脱水または焼
き鈍しされる針状ゲータイト粒子が表面にＰ、Ｓｉ、
Ｂ、Ｚｒ、Ｓｂ等の焼結防止剤が付着していても支障は
ない。３５０〜８００℃の温度範囲で加熱処理により焼
き鈍しをするのは、脱水されて得られた針状α−Ｆｅ₂
Ｏ₃粒子の粒子表面に生じている空孔を焼き鈍しによ
り、粒子の極表面を溶融させて空孔をふさいで平滑な表
面形態とさせる事が好ましいからである。

【００２５】本発明において用いられるα−Ｆｅ₂Ｏ₃粒
子粉末は前記脱水または焼き鈍しをして得られた針状α
−Ｆｅ₂Ｏ₃粒子を水溶液中に分散して懸濁液とし、Ａｌ
化合物を添加しｐＨ調整をして前記α−Ｆｅ₂Ｏ₃粒子の
粒子表面に前記添加化合物を被覆した後、濾過、推薦、
乾燥、粉砕、必要により更に脱気、圧密処理等を施す事
により得られる。用いられるＡｌ化合物は酢酸アルミニ
ウム、硫酸アルミニウム、塩化アルミニウム、硝酸アル
ミニウム等のアルミニウム塩やアルミン酸ソーダ等のア
ルミン酸アルカリ塩を使用することが出来る。この場合
のＡｌ化合物添加量はα−Ｆｅ₂Ｏ₃粒子粉末に対してＡ
ｌ換算で０．０１〜５０重量％である。０．０１重量％
未満である場合には、結合剤樹脂中における分散が不十
分であり、５０重量％を越える場合には粒子表面に浮遊
するＡｌ化合物同士が相互作用するために好ましくな
い。本発明における下層の無機質非磁性粉末において
は、Ａｌ化合物とともにＳｉ化合物を始めとして、Ｐ、
Ｔｉ、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂから選ばれ
る化合物の１種または２種以上を用いて被覆することも
できる。Ａｌ化合物とともに用いるこれらの化合物の添
加量はそれぞれα−Ｆｅ ₂Ｏ₃粒子粉末に対して０．０１
〜５０重量％の範囲である。０．０１重量％未満である
場合には添加による分散性向上の効果が殆どなく、５０
重量％を越える場合には、粒子表面以外に浮遊する化合
物同士が相互作用する為に好ましくない。

【００２６】二酸化チタンの製法に関しては以下の通り
である。これらの酸化チタンの製法は主に硫酸法と塩素
法がある。硫酸法はイルミナイトの源鉱石を硫酸で蒸解
し、Ｔｉ，Ｆｅなどを硫酸塩として抽出する。硫酸鉄を
晶析分離して除き、残りの硫酸チタニル溶液を濾過精製
後、熱加水分解を行なって、含水酸化チタンを沈澱させ
る。これを濾過洗浄後、夾雑不純物を洗浄除去し、粒径
調節剤などを添加した後、８０〜１０００℃で焼成すれ
ば粗酸化チタンとなる。ルチル型とアナターゼ型は加水
分解の時に添加される核剤の種類によりわけられる。こ
の粗酸化チタンを粉砕、整粒、表面処理などを施して作
成する。塩素法は原鉱石は天然ルチルや合成ルチルが用
いられる。鉱石は高温還元状態で塩素化され、ＴｉはＴ
ｉＣｌ₄にＦｅはＦｅＣｌ₂となり、冷却により固体とな
った酸化鉄は液体のＴｉＣｌ₄と分離される。得られた
粗ＴｉＣｌ₄は精留により精製した後核生成剤を添加
し、１０００℃以上の温度で酸素と瞬間的に反応させ、
粗酸化チタンを得る。この酸化分解工程で生成した粗酸
化チタンに顔料的性質を与えるための仕上げ方法は硫酸
法と同じである。

【００２７】表面処理は上記酸化チタン素材を乾式粉砕
後、水と分散剤を加え、湿式粉砕、遠心分離により粗粒
分級が行なわれる。その後、微粒スラリーは表面処理槽
に移され、ここで金属水酸化物の表面被覆が行われる。
まず、所定量のＡｌ，Ｓｉ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｓｂ，Ｓｎ，
Ｚｎなどの塩類水溶液を加え、これを中和する酸、また
はアルカリを加えて、生成する含水酸化物で酸化チタン
粒子表面を被覆する。副生する水溶性塩類はデカンテー
ション、濾過、洗浄により除去し、最終的にスラリーｐ
Ｈを調節して濾過し、純水により洗浄する。洗浄済みケ
ーキはスプレードライヤーまたはバンドドライヤーで乾
燥される。最後にこの乾燥物はジェットミルで粉砕さ
れ、製品になる。また、水系ばかりでなく酸化チタン粉
体にAlCl₃,SiCl₄の蒸気を通じその後水蒸気を流入してA
l,Si 表面処理を施すことも可能である。その他の顔料
の製法についてはG.D.Parfitt and K.S.W. Sing”Chara
cterization of Powder Surfaces”Academic Press,197
6を参考にすることができる。

【００２８】下層非磁性層にカ−ボンブラックを混合さ
せて公知の効果であるＲｓを下げること、光透過率を小
さくすることができるとともに、所望のマイクロビッカ
ース硬度を得る事ができる。下層非磁性層のマイクロビ
ッカース硬度は通常、２５〜６０ｋｇ／ｍｍ² 、好まし
くはヘッドあたりを調整するために、３０〜５０ｋｇ／
ｍｍ²であり、ＮＥＣ製薄膜硬度計ＨＭＡ−４００を用
いて、稜角８０度、先端半径０．１μｍのダイヤモンド
製三角錐針を圧子先端に用いて、測定する。光透過率は
一般に波長９００ｎｍ程度の赤外線の吸収が３％以下、
たとえばＶＨＳでは０．８％以下であることが規格化さ
れている。このためにはゴム用ファ−ネス、ゴム用サ−
マル、カラ−用ブラック、アセチレンブラック、等を用
いることができる。

【００２９】本発明の非磁性層に用いられるカーボンブ
ラックの比表面積は１００〜５００ｍ²／ｇ、好ましく
は１５０〜４００ｍ²／ｇ、ＤＢＰ吸油量は２０〜４０
０ml/100g、好ましくは３０〜２００ml/100gである。カ
−ボンブラックの粒子径は５ｍμ〜８０ｍμ、好ましく
１０〜５０ｍμ、さらに好ましくは１０〜４０ｍμであ
る。カ−ボンブラックのｐＨは２〜１０、含水率は０．
１〜１０％、タップ密度は０．１〜１ｇ／ml、が好まし
い。本発明に用いられるカ−ボンブラックの具体的な例
としてはキャボット社製、ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２
０００、１３００、１０００、９００、８００，８８
０，７００、ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７２、三菱化成工業
社製、＃３０５０Ｂ，３１５０Ｂ，３２５０Ｂ、＃３７
５０Ｂ、＃３９５０Ｂ、＃９５０、＃６５０Ｂ，＃９７
０Ｂ、＃８５０Ｂ、ＭＡ−６００、コンロンビアカ−ボ
ン社製、ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ ＳＣ、ＲＡＶＥＮ 880
0,8000,7000,5750,5250,3500,2100,2000,1800,1500,125
5,1250、アクゾー社製ケッチェンブラックECなどがあげ
られる。カ−ボンブラックを分散剤などで表面処理した
り、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部をグ
ラファイト化したものを使用してもかまわない。また、
カーボンブラックを塗料に添加する前にあらかじめ結合
剤で分散してもかまわない。これらのカーボンブラック
は上記無機質粉末に対して５０重量％を越えない範囲、
非磁性層総重量の４０％を越えない範囲で使用できる。
これらのカ−ボンブラックは単独、または組合せで使用
することができる。

【００３０】本発明の非磁性層で使用できるカーボンブ
ラックは例えば「カーボンブラック便覧」カーボンブラ
ック協会編」を参考にすることができる。また下層には
有機質粉末を目的に応じて、添加することもできる。例
えば、アクリルスチレン系樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉
末、メラミン系樹脂粉末、フタロシアニン系顔料が挙げられるが、
ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、
ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフ
ッ化エチレン樹脂も使用することができる。その製法は特開
昭62-18564号、特開昭60-255827号に記されているよう
なものが使用できる。下塗層は一般の磁気記録媒体にお
いて設けることが行われているが、これは支持体と磁性
層又は下層非磁性層との接着力を向上させるために設け
られるものであって、溶剤可溶性のポリエステルが使用
される。厚さも０．５μｍ以下が一般的である。下層の
バインダー、潤滑剤、分散剤、添加剤、溶剤、分散方法
その他は磁性層のそれが適用できる。特に、バインダー
量、種類、添加剤、分散剤の添加量、種類に関しては磁
性層に関する公知技術が適用できる。

【００３１】熱可塑系樹脂としては、ガラス転移温度が
−１００〜１５０℃、数平均分子量が１，０００〜２０
０，０００、好ましくは１０，０００〜１００，００
０、重合度が約５０〜１，０００程度のものである。こ
のような例としては、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニル
アルコ−ル、マレイン酸、アクルリ酸、アクリル酸エス
テル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリル
酸、メタクリル酸エステル、スチレン、ブタジエン、エ
チレン、ビニルブチラ−ル、ビニルアセタ−ル、ビニル
エ−テル、等を構成単位として含む重合体または共重合
体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂がある。また、
熱硬化性樹脂または反応型樹脂としてはフェノ−ル樹
脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹
脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル系反応樹
脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコ−ン樹脂、エポキシ
−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシアネ−ト
プレポリマ−の混合物、ポリエステルポリオ−ルとポリ
イソシアネ−トの混合物、ポリウレタンとポリイソシア
ネートの混合物等があげられる。これらの樹脂について
は朝倉書店発行の「プラスチックハンドブック」に詳細
に記載されている。また、公知の電子線硬化型樹脂を下
層塗布層、または上層磁性層に使用することも可能であ
る。

【００３２】これらの例とその製造方法については特開
昭６２−２５６２１９号に詳細に記載されている。以上
の樹脂は単独または組合せて使用できるが、好ましいも
のとして塩化ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル樹脂、
塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコ−ル樹脂、塩化ビニ
ル酢酸ビニル無水マレイン酸共重合体、の中から選ばれ
る少なくとも１種とポリウレタン樹脂の組合せ、または
これらにポリイソシアネ−トを組み合わせたものがあげ
られる。ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポリウ
レタン、ポリエ−テルポリウレタン、ポリエ−テルポリ
エステルポリウレタン、ポリカ−ボネ−トポリウレタ
ン、ポリエステルポリカ−ボネ−トポリウレタン、ポリ
カプロラクトンポリウレタン、ポリオレフィンポリウレ
タン、など公知のものが使用できる。特に、環状構造と
エーテル基を含むポリウレタンが好ましい。ここに示し
たすべての結合剤について、より優れた分散性と耐久性
を得るためには必要に応じ、−ＣＯＯＭ、−ＳＯ₃Ｍ、
−ＯＳＯ₃Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂、 −Ｏ−Ｐ＝Ｏ（Ｏ
Ｍ）₂、（以上につきＭは水素原子、またはアルカリ金
属塩基）、−ＯＨ、−ＮＲ²、−Ｎ⁺Ｒ³（Ｒは炭化水素
基）エポキシ基、−ＳＨ、−ＣＮ、スルホベタイン、ホ
スホベタイン、カルボキシベタインなどから選ばれる少
なくともひとつ以上の極性基を共重合または付加反応で
導入したものを用いることが好ましい。このような極性
基の量は１０^-1〜１０^-8モル／ｇであり、好ましくは１０
^-2〜１０^-6モル／ｇである。

【００３３】本発明に用いられるこれらの結合剤の具体
的な例としてはユニオンカ−バイト社製 ＶＡＧＨ、Ｖ
ＹＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ，ＶＲＯＨ，Ｖ
ＹＥＳ，ＶＹＮＣ，ＶＭＣＣ，ＸＹＨＬ，ＸＹＳＧ，Ｐ
ＫＨＨ，ＰＫＨＪ，ＰＫＨＣ，ＰＫＦＥ，日信化学工業
社製、ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５，ＭＰＲ−ＴＡ
Ｌ，ＭＰＲ−ＴＳＮ，ＭＰＲ−ＴＭＦ，ＭＰＲ−ＴＳ、
ＭＰＲ−ＴＭ、ＭＰＲ−ＴＡＯ、電気化学社製１０００
Ｗ、ＤＸ８０，ＤＸ８１，ＤＸ８２，ＤＸ８３、１００
ＦＤ、日本ゼオン社製のＭＲ−１０４、ＭＲ−１０５、
ＭＲ１１０、ＭＲ１００、４００Ｘ−１１０Ａ、日本ポ
リウレタン社製ニッポランＮ２３０１、Ｎ２３０２、Ｎ
２３０４、大日本インキ社製パンデックスＴ−５１０
５、Ｔ−Ｒ３０８０、Ｔ−５２０１、バ−ノックＤ−４
００、Ｄ−２１０−８０、クリスボン６１０９，７２０
９，東洋紡社製バイロンＵＲ８２００、ＵＲ８３００、
ＲＶ５３０、ＲＶ２８０、大日精化社製、ダイフェラミ
ン４０２０、５０２０、５１００、５３００、９０２
０、９０２２、７０２０、三菱化成社製、ＭＸ５００
４、三洋化成社製サンプレンＳＰ−１５０、ＴＩＭ−３
００３、旭化成社製サランＦ３１０、Ｆ２１０などがあ
げられる。この中でＭＲ−１０４、ＭＲ１１０、ＵＲ−
８２００、ＵＲ８３００、ＵＲ−８７００、およびジオ
ールと有機ジイソシアネートを主原料とした反応生成物
であり、環状構造とエーテル基を持つポリウレタンが好
ましい。

【００３４】本発明の磁性層に用いられる結合剤は強磁
性粉末に対し、５〜２５重量％の範囲、好ましくは８〜
２２重量％の範囲で用いられる。塩化ビニル系樹脂を用
いる場合は５重量％以下、ポリウレタン樹脂を用いる場
合は２〜２０重量％、ポリイソシアネ−トは２〜２０重
量％の範囲でこれらを組み合わせて用いるのが好まし
い。特に、磁性層には塩化ビニル樹脂を含まず、ウレタ
ンとポリイソシアネートととし、非磁性層に塩化ビニル
樹脂とポリウレタン、ポリイソシアネートを含む構成が
好ましい。本発明において、ポリウレタンを用いる場合
はガラス転移温度が−５０〜１１０℃、好ましくは５０
℃〜１１０℃、さらに好ましくは８０℃〜１００℃であ
る。破断伸びが１００〜２，０００％、破断応力は０．
０５〜１０Ｋｇ／ｃｍ²、降伏点は０．０５〜１０Ｋｇ
／ｃｍ²が好ましい。

【００３５】本発明に用いるポリイソシアネ−トとして
は、トリレンジイソシアネ−ト、４−４’−ジフェニル
メタンジイソシアネ−ト、ヘキサメチレンジイソシアネ
−ト、キシリレンジイソシアネ−ト、ナフチレン−１，
５−ジイソシアネ−ト、ｏ−トルイジンジイソシアネ−
ト、イソホロンジイソシアネ−ト、トリフェニルメタン
トリイソシアネ−ト等のイソシアネ−ト類、また、これ
らのイソシアネ−ト類とポリアルコールとの生成物、ま
た、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソ
シアネ−ト等が好ましい。これらのイソシアネート類の
市販されている商品名としては、日本ポリウレタン社
製、コロネートＬ、コロネ−トＨＬ，コロネ−ト２０３
０、コロネ−ト２０３１、ミリオネ−トＭＲミリオネ−
トＭＴＬ、武田薬品社製、タケネ−トＤ−１０２，タケ
ネ−トＤ−１１０Ｎ、タケネ−トＤ−２００、タケネ−
トＤ−２０２、住友バイエル社製、デスモジュ−ルＬ，
デスモジュ−ルＩＬ、デスモジュ−ルＮデスモジュ−ル
ＨＬ，等がありこれらを単独または硬化反応性の差を利
用して二つもしくはそれ以上の組合せで下層塗布層、上
層磁性層とも用いることができる。

【００３６】本発明の磁気記録媒体を二層以上から構成
した場合は、結合剤量、結合剤中に占める塩化ビニル系
樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネ−ト、あるい
はそれ以外の樹脂の量、磁性層を形成する各樹脂の分子
量、極性基量、あるいは先に述べた樹脂の物理特性など
を必要に応じ下層塗布層と上層磁性層、その他磁性層と
で変えることはもちろん可能であり、多層磁性層に関す
る公知技術を適用できる。例えば、上下層、中間層でバ
インダー量を変更する場合、磁性層表面の擦傷を減らす
ためには上層磁性層のバインダー量を増量することが有
効であり、ヘッドに対するヘッドタッチを良好にする為
には、上層磁性層以外の磁性層か中間層のバインダー量
を少なくして柔軟性を持たせることにより達成される。

【００３７】本発明に使用されるカ−ボンブラックはゴ
ム用ファ−ネス、ゴム用サ−マル、カラ−用ブラック、
アセチレンブラック、等を用いることができる。比表面
積は５〜５００ｍ²／ｇ、ＤＢＰ吸油量は１０〜４００
ｍｌ／１００ｇ、粒子径は５ｍμ〜３００ｍμ、ｐＨは
２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度は０．
１〜１ｇ／CC、が好ましい。本発明に用いられるカ−ボ
ンブラックの具体的な例としてはキャボット社製、ＢＬ
ＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２０００、１３００、１０００、
９００、８００，７００、ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７２、
旭カ−ボン社製、＃８０、＃６０，＃５５、＃５０、＃
３５、三菱化成工業社製、＃２４００Ｂ、＃２３００、
＃９００，＃１０００＃３０，＃４０、＃１０Ｂ、コン
ロンビアカ−ボン社製、ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ ＳＣ、Ｒ
ＡＶＥＮ １５０、５０，４０，１５などがあげられ
る。カ−ボンブラックを分散剤などで表面処理したり、
樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部をグラフ
ァイト化したものを使用してもかまわない。また、カ−
ボンブラックを磁性塗料に添加する前にあらかじめ結合
剤で分散してもかまわない。これらのカ−ボンブラック
は単独、または組合せで使用することができる。カ−ボ
ンブラックを使用する場合は強磁性粉末に対する量の
０．１〜３０％でもちいることが好ましい。カ−ボンブ
ラックは磁性層の帯電防止、摩擦係数低減、遮光性付
与、膜強度向上などの働きがあり、これらは用いるカ−
ボンブラックにより異なる。従って本発明に使用される
これらのカ−ボンブラックは上層磁性層、下層塗布層非
磁性層でその種類、量、組合せを変え、粒子サイズ、吸
油量、電導度、ｐＨなどの先に示した諸特性をもとに目
的に応じて使い分けることはもちろん可能である。本発
明の磁性層で使用できるカ−ボンブラックは例えば「カ
−ボンブラック便覧」カ−ボンブラック協会編を参考に
することができる。

【００３８】本発明に用いられる研磨剤としてはα化率
９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、炭化ケイ
素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダ
ム、人造ダイアモンド、窒化珪素、炭化珪素チタンカ−
バイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素、など主
としてモ−ス６以上の公知の材料が単独または組合せで
使用される。また、これらの研磨剤どうしの複合体（研
磨剤を他の研磨剤で表面処理したもの）を使用してもよ
い。これらの研磨剤には主成分以外の化合物または元素
が含まれる場合もあるが主成分が９０％以上であれば効
果にかわりはない。これら研磨剤の粒子サイズは０．０
１〜２μｍが好ましいが、必要に応じて粒子サイズの異
なる研磨剤を組み合わせたり、単独の研磨剤でも粒径分
布を広くして同様の効果をもたせることもできる。タッ
プ密度は０．３〜２ｇ／ｃｃ、含水率は０．１〜５％、
ＰＨは２〜１１、比表面積は１〜３０ｍ²／ｇ、が好ま
しい。

【００３９】本発明に用いられる研磨剤の形状は針状、
球状、サイコロ状、のいずれでも良いが、形状の一部に
角を有するものが研磨性が高く好ましい。本発明に用い
られる研磨剤の具体的な例としては、住友化学社製、Ａ
ＫＰ−２０，ＡＫＰ−３０，ＡＫＰ−５０、ＨＩＴ−５
０、ＨＩＴ−６０，ＨＩＴ−７０、ＨＩＴ−８０，ＨＩ
Ｔ−８０Ｇ，ＨＩＴ−１００、日本化学工業社製、Ｇ
５，Ｇ７，Ｓ−１、戸田工業社製、ＴＦ−１００，ＴＦ
−１４０などがあげられる。本発明に用いられる研磨剤
は下層塗布層、上層磁性層で種類、量および組合せを変
え、目的に応じて使い分けることはもちろん可能であ
る。これらの研磨剤はあらかじめ結合剤で分散処理した
のち磁性塗料中に添加してもかまわない。本発明の磁気
記録媒体の磁性層表面および磁性層端面に存在する研磨
剤は５個／１００μｍ²以上が好ましい。

【００４０】本発明に使用される、添加剤としては潤滑
効果、帯電防止効果、分散効果、可塑効果、などをもつ
ものが使用される。二硫化モリブデン、二硫化タングス
テングラファイト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコ−
ンオイル、極性基をもつシリコ−ン、脂肪酸変性シリコ
−ン、フッ素含有シリコ−ン、フッ素含有アルコ−ル、
フッ素含有エステル、ポリオレフィン、ポリグリコ−
ル、アルキル燐酸エステルおよびそのアルカリ金属
塩、、アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属
塩、ポリフェニルエ−テル、フッ素含有アルキル硫酸エ
ステルおよびそのアルカリ金属塩、炭素数１０〜２４の
一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐して
いてもかまわない）、および、これらの金属塩（Ｌｉ、
Ｎａ、Ｋ、Ｃｕなど）または、炭素数１２〜２２の一
価、二価、三価、四価、五価、六価アルコ−ル、（不飽
和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、
炭素数１２〜２２のアルコキシアルコ−ル、炭素数１０
〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また
分岐していてもかまわない）と炭素数２〜１２の一価、
二価、三価、四価、五価、六価アルコ−ルのいずれか一
つ（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわ
ない）とからなるモノ脂肪酸エステルまたはジ脂肪酸エ
ステルまたはトリ脂肪酸エステル、アルキレンオキシド
重合物のモノアルキルエ−テルの脂肪酸エステル、炭素
数８〜２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の脂肪族ア
ミン、などが使用できる。

【００４１】これらの具体例としてはラウリン酸、ミリ
スチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、ス
テアリン酸ブチル、オレイン酸、リノ−ル酸、リノレン
酸、エライジン酸、ステアリン酸オクチル、ステアリン
酸アミル、ステアリン酸イソオクチル、ミリスチン酸オ
クチル、ステアリン酸ブトキシエチル、アンヒドロソル
ビタンモノステアレ−ト、アンヒドロソルビタンジステ
アレ−ト、アンヒドロソルビタントリステアレ−ト、オ
レイルアルコ−ル、ラウリルアルコ−ル、があげられ
る。また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グ
リシド−ル系、アルキルフェノ−ルエチレンオキサイド
付加体、等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステ
ルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導
体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類、等
のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルフォン酸、
燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基、などの酸性基
を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホ
ン酸類、アミノアルコ−ルの硫酸または燐酸エステル
類、アルキルベダイン型、等の両性界面活性剤等も使用
できる。これらの界面活性剤については、「界面活性剤
便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載されてい
る。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも１００％
純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応
物、分解物、酸化物 等の不純分がふくまれてもかまわ
ない。これらの不純分は３０％以下が好ましく、さらに
好ましくは１０％以下である。

【００４２】本発明で使用されるこれらの潤滑剤、界面
活性剤は中間層、磁性層でその種類、量を必要に応じ使
い分けることができる。例えば、中間層、磁性層で融点
のことなる脂肪酸を用い表面へのにじみ出しを制御す
る、沸点や極性の異なるエステル類を用い表面へのにじ
み出しを制御する、界面活性剤量を調節することで塗布
の安定性を向上させる、潤滑剤の添加量を中間層で多く
して潤滑効果を向上させるなど考えられ、無論ここに示
した例のみに限られるものではない。また本発明で用い
られる添加剤のすべてまたはその一部は、磁性塗料製造
のどの工程で添加してもかまわない、例えば、混練工程
前に強磁性粉末と混合する場合、強磁性粉末と結合剤と
溶剤による混練工程で添加する場合、分散工程で添加す
る場合、分散後に添加する場合、塗布直前に添加する場
合などがある。また、目的に応じて磁性層を塗布した
後、同時または逐次塗布で、添加剤の一部または全部を
塗布することにより目的が達成される場合がある。ま
た、目的によってはカレンダーした後、またはスリット
終了後、磁性層表面に潤滑剤を塗布することもできる。

【００４３】本発明で使用されるこれら潤滑剤の商品例
としては、日本油脂社製、ＮＡＡ−１０２，ＮＡＡ−４
１５，ＮＡＡ−３１２，ＮＡＡ−１６０，ＮＡＡ−１８
０，ＮＡＡ−１７４，ＮＡＡ−１７５，ＮＡＡ−２２
２，ＮＡＡ−３４，ＮＡＡ−３５，ＮＡＡ−１７１，Ｎ
ＡＡ−１２２、ＮＡＡ−１４２、ＮＡＡ−１６０、ＮＡ
Ａ−１７３Ｋ，ヒマシ硬化脂肪酸、ＮＡＡ−４２，ＮＡ
Ａ−４４、カチオンＳＡ、カチオンＭＡ、カチオンＡ
Ｂ，カチオンＢＢ，ナイミ−ンＬ−２０１，ナイミ−ン
Ｌ−２０２，ナイミ−ンＳ−２０２，ノニオンＥ−２０
８，ノニオンＰ−２０８，ノニオンＳ−２０７，ノニオ
ンＫ−２０４，ノニオンＮＳ−２０２，ノニオンＮＳ−
２１０，ノニオンＨＳ−２０６，ノニオンＬ−２，ノニ
オンＳ−２，ノニオンＳ−４，ノニオンＯ−２、ノニオ
ンＬＰ−２０Ｒ，ノニオンＰＰ−４０Ｒ，ノニオンＳＰ
−６０Ｒ、ノニオンＯＰ−８０Ｒ、ノニオンＯＰ−８５
Ｒ，ノニオンＬＴ−２２１，ノニオンＳＴ−２２１，ノ
ニオンＯＴ−２２１，モノグリＭＢ，ノニオンＤＳ−６
０，アノンＢＦ，アノンＬＧ，ブチルステアレ−ト、ブ
チルラウレ−ト、エルカ酸、関東化学社製、オレイン
酸、竹本油脂社製、ＦＡＬ−２０５、ＦＡＬ−１２３、
新日本理化社製、エヌジェルブＬＯ、エヌジョルブＩＰ
Ｍ，サンソサイザ−Ｅ４０３０，、信越化学社製、ＴＡ
−３、ＫＦ−９６、ＫＦ−９６Ｌ、ＫＦ９６Ｈ、ＫＦ４
１０，ＫＦ４２０、ＫＦ９６５，ＫＦ５４，ＫＦ５０，
ＫＦ５６，ＫＦ９０７，ＫＦ８５１，Ｘ−２２−８１
９，Ｘ−２２−８２２，ＫＦ９０５，ＫＦ７００，ＫＦ
３９３，ＫＦ−８５７，ＫＦ−８６０，ＫＦ−８６５，
Ｘ−２２−９８０，ＫＦ−１０１，ＫＦ−１０２，ＫＦ
−１０３，Ｘ−２２−３７１０，Ｘ−２２−３７１５，
ＫＦ−９１０，ＫＦ−３９３５，ライオンア−マ−社
製、ア−マイドＰ、ア−マイドＣ，ア−モスリップＣ
Ｐ、ライオン油脂社製、デユオミンＴＤＯ、日清製油社
製、ＢＡ−４１Ｇ、三洋化成社製、プロファン２０１２
Ｅ、ニュ−ポ−ルＰＥ６１、イオネットＭＳ−４００，
イオネットＭＯ−２００ イオネットＤＬ−２００，イ
オネットＤＳ−３００、イオネットＤＳ−１０００イオ
ネットＤＯ−２００などが挙げられる。

【００４４】本発明で用いられる有機溶媒は任意の比率
でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホ
ロン、テトラヒドロフラン、等のケトン類、メタノ−
ル、エタノ−ル、プロパノ−ル、ブタノ−ル、イソブチ
ルアルコ−ル、イソプロピルアルコール、メチルシクロ
ヘキサノール、などのアルコ−ル類、酢酸メチル、酢酸
ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチ
ル、酢酸グリコ−ル等のエステル類、グリコ−ルジメチ
ルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサ
ン、などのグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼン、などの芳
香族炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロラ
イド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒド
リン、ジクロルベンゼン、等の塩素化炭化水素類、Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘ
キサン等のものが使用できる。これら有機溶媒は必ずし
も１００％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応
物、副反応物、分解物、酸化物、水分等の不純分がふく
まれてもかまわない。これらの不純分は３０％以下が好
ましく、さらに好ましくは１０％以下である。本発明で
用いる有機溶媒は磁性層と中間層でその種類は同じであ
ることが好ましい。その添加量は変えてもかまわない。
中間層に表面張力の高い溶媒（シクロヘキサノン、ジオ
キサンなど）を用い塗布の安定性をあげる、具体的には
上層磁性層溶剤組成の算術平均値が下層塗布層溶剤組成
の算術平均値を下回らないことが肝要である。分散性を
向上させるためにはある程度極性が強い方が好ましく、
溶剤組成の内、誘電率が１５以上２０以下の溶剤が５０
重量％以上含まれることが好ましい。また、溶解パラメ
−タは８〜１１であることが好ましい。

【００４５】本発明の磁気記録媒体の厚み構成は非磁性
支持体が１〜１００μｍであるが、特に、１〜８μｍの
薄い非磁性支持体を用いる場合に有効である。磁性層と
下層を合わせた厚みは非磁性支持体の厚みの１／１００
〜２倍の範囲で用いられる。また、非磁性支持体と下層
の間に密着性向上のためのの接着層を設けることが好ま
しい。接着層の厚みは０．０１〜２μｍ、このましくは
０．０２〜０．５μｍである。また、非磁性支持体の磁
性層側と反対側にバックコ−ト層を設けてもかまわな
い。この厚みは０．１〜２μｍ、好ましくは０．３〜
１．０μｍである。これらの接着層、バックコ−ト層は
公知のものが使用できる。本発明に用いられる非磁性支
持体は、マイクロビッカース硬度が７５kg/mm²以上のも
のであり、二軸延伸を行ったポリエチレンナフタレー
ト、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、芳香
族ポリアミド、ポリベンズオキシダゾールなどの公知の
フィルムが使用できる。特に、東レ社製「アラミド」又
は旭化成製「アラミカ」として入手できる芳香族ポリア
ミドもしくはポリエチレンナフタレートを用いた非磁性
支持体が好ましい。

【００４６】これらの非磁性支持体にはあらかじめコロ
ナ放電処理、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵
処理、などをおこなっても良い。本発明の目的を達成す
るには、非磁性支持体の磁性層を塗布する面の中心線平
均表面粗さが１０ｎｍ以下０．１ｎｍ以上、好ましくは
６ｎｍ以下０．２ｎｍ以上、さらに好ましくは４ｎｍ以
下０．５ｎｍ以上のものを使用する必要がある。また、
これらの非磁性支持体は単に中心線平均表面粗さが小さ
いだけではなく、１μｍ以上の粗大突起がないことが好
ましい。また表面の粗さ形状は必要に応じて非磁性支持
体に添加されるフィラ−の大きさと量により自由にコン
トロ−ルされるものである。これらのフィラ−としては
一例としてはＡｌ，Ｃａ，Ｓｉ、Ｔｉなどの酸化物や炭
酸塩で結晶性、非晶質を問わない他、アクリル系、メラ
ミン系などの有機微粉末があげられる。また、走行耐久
性との両立を図るためには、バック層を塗布する面の粗
さは磁性層を塗布する面の粗さより粗い事が好ましい。
バック層塗布面の中心線表面粗さは好ましくは１ｎｍ以
上、更に好ましくは４ｎｍ以上である。磁性層塗布面と
バック層塗布面との粗さを変える場合には、デュアル構
成の支持体を用いても良いし、コーテイング層を設ける
事によって変えても構わない。

【００４７】本発明に用いられる非磁性支持体のテ−プ
走行方向のＦ−５値は好ましくは１０〜５０ｋｇ／ｍｍ
²、テ−プ幅方向のＦ−５値は好ましくは１０〜３０Ｋ
ｇ／ｍｍ²であり、テ−プの長手方向のＦ−５値がテ−
プ幅方向のＦ−５値より高いのが一般的であるが、特に
幅方向の強度を高くする必要があるときはその限りでな
い。また、非磁性支持体のテ−プ走行方向および幅方向
の１００℃３０分での熱収縮率は好ましくは３％以下、
さらに好ましくは１．５％以下、８０℃３０分での熱収
縮率は好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％
以下である。破断強度は両方向とも５〜１００Ｋｇ／ｍ
ｍ²、弾性率は１００〜２，０００Ｋｇ／ｍｍ²、が好ま
しい。また、本発明での９００nmでの光透過率は３０％
以下が好ましく、更に好ましくは３％以下である。

【００４８】本発明の磁気記録媒体の磁性塗料を製造す
る工程は、少なくとも混練工程、分散工程、およびこれ
らの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程からな
る。個々の工程はそれぞれ２段階以上にわかれていても
かまわない。本発明に使用する強磁性粉末、結合剤、カ
−ボンブラック、研磨剤、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤な
どすべての原料はどの工程の最初または途中で添加して
もかまわない。また、個々の原料を２つ以上の工程で分
割して添加してもかまわない。例えば、ポリウレタンを
混練工程、分散工程、分散後の粘度調整のための混合工
程で分割して投入してもよい。本発明の目的を達成する
ためには、従来の公知の製造技術のを一部の工程として
を用いることができることはもちろんであるが、混練工
程では連続ニ−ダや加圧ニ−ダなど強い混練力をもつも
のを使用することにより初めて本発明の磁気記録媒体の
高いＢｒを得ることができた。連続ニーダまたは加圧ニ
−ダを用いる場合は強磁性粉末と結合剤のすべてまたは
その一部（ただし全結合剤の３０％以上が好ましい）お
よび強磁性粉末１００部に対し１５〜５００部の範囲で
混練処理される。これらの混練処理の詳細については特
開平１−１６６３３８号、特開昭６４−７９２７４号に
記載されている。また、磁性層液、非磁性層液、研磨剤
の調整する場合には高比重の分散メディアを用いること
が望ましく、ジルコニアビーズが好適である。

【００４９】本発明のような重層構成の磁気記録媒体を
塗布する装置、方法の例として以下のような構成を提案
できる。 １，磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗
布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗
布装置等により、まず下層塗布層を塗布し、下層塗布層
がウェット状態にのうちに特公平1-46186号や特開昭60-
238179号，特開平2-265672号に開示されている支持体加
圧型エクストルージョン塗布装置により上層磁性層を塗
布する。 ２，特開昭63-88080号、特開平2-17971号，特開平2-2656
72号に開示されているような塗布液通液スリットを二つ
内蔵する一つの塗布ヘッドにより上下層をほぼ同時に塗
布する。 ３，特開平2-174965号に開示されているバックアップロ
ール付きエクストルージョン塗布装置により上下層をほ
ぼ同時に塗布する。

【００５０】なお、磁性粒子の凝集による磁気記録媒体
の電磁変換特性等の低下を防止するため、特開昭62-951
74号や特開平1-236968号に開示されているような方法に
より塗布ヘッド内部の塗布液にせん断を付与することが
望ましい。さらに、塗布液の粘度については、特開平3-
8471号に開示されている数値範囲を満足する必要があ
る。本発明の磁気記録媒体を得るためには強力な配向を
行う必要がある。１，０００Ｇ以上、好ましくは３，０
００Ｇ以上のソレノイドとコバルト磁石を同極対向で
２，０００Ｇ以上、好ましくは４，０００Ｇ以上、さら
に好ましくは６、０００Ｇ以上の磁場を併用することが
好ましく、さらには乾燥後の配向性が最も高くなるよう
に配向前に予め適度の乾燥工程を設けることが好まし
い。高密度記録を行うためには、針状、板状に関わら
ず、磁化容易軸を垂直方向に傾けることが有効であるこ
とが知られており、これと組み合わせることも有効であ
る。

【００５１】また、非磁性層、磁性層を同時重層塗布す
る以前にポリマーを主成分とする接着層を設けることや
コロナ放電、ＵＶ照射、ＥＢ照射することにより接着性
を高める公知の手法を組み合わせることが好ましい。さ
らに、カレンダ処理ロ−ルとしてエポキシ、ポリイミ
ド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐熱性のあるプ
ラスチックロ−ルを使用する。また、金属ロ−ル同志で
処理することも出来る。処理温度は、好ましくは７０〜
１２０℃、さらに好ましくは８０〜１００℃以上であ
る。線圧力は好ましくは２００〜５００ｋｇ／ｃｍ、さ
らに好ましくは３００〜４００Ｋｇ／ｃｍ以上である。

【００５２】本発明の磁気記録媒体の磁性層面およびそ
の反対面のＳＵＳ４２０Ｊに対する摩擦係数は好ましく
は０．１〜０．５、さらに好ましくは０．２〜０．３で
ある。表面固有抵抗は好ましくは１０⁴〜１０¹²オ−ム
／ｓｑ、磁性層の０．５％伸びでの弾性率は走行方向、
幅方向とも好ましくは１００〜２，０００Ｋｇ／ｍ
ｍ ²、破断強度は好ましくは１〜３０Ｋｇ／ｃｍ²、磁気
記録媒体の弾性率は走行方向、長い方向とも好ましくは
１００〜１，５００Ｋｇ／ｍｍ²、残留伸びは好ましく
は０．５％以下、１００℃以下のあらゆる温度での熱収
縮率は好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％
以下、もっとも好ましくは０．１％以下で、０％が理想
である。磁性層のガラス転移温度(110HZで測定した動的
粘弾性測定の損失弾性率の極大点)は３０℃以上１５０
℃以下が好ましく、下層塗布層のそれは０℃〜１００℃
が好ましい。損失弾性率は１×１０⁸〜８×１０⁹dyne/c
m²の範囲にあることが好ましく、損失正接は０．２以下
であることが好ましい。

【００５３】損失正接が大きすぎると粘着故障がでやす
い。磁性層中に含まれる残留溶媒は好ましくは１００ｍ
ｇ／ｍ²以下、さらに好ましくは１０ｍｇ／ｍ²以下であ
り、上層磁性層に含まれる残留溶媒が下層塗布層に含ま
れる残留溶媒より少ないほうが好ましい。磁性層が有す
る空隙率は非磁性下層塗布層、磁性層とも好ましくは３
０容量％以下、さらに好ましくは２０容量％以下であ
る。空隙率は高出力を果たすためには小さい方が好まし
いが、目的によってはある値を確保した方が良い場合が
ある。例えば、繰り返し用途が重視されるデータ記録用
磁気記録媒体では空隙率が大きい方が走行耐久性は好ま
しいことが多い。

【００５４】本発明の磁気記録媒体の磁気特性は磁場１
０ｋＯｅでＶＳＭで測定した場合、テ−プ走行方向のＨ
ｃは１９５０〜２７５０Ｏｅ、更に好ましくは２０００
〜２５００Ｏｅ、最も好ましくは２０００〜２３００Ｏ
ｅである。角形比は０．８５以上であり、好ましくは
０．８５〜０．９５であり、さらに好ましくは０．８６
〜０．９２である。テ−プ走行方向に直角な二つの方向
の角型比、即ち、テープ面に平行かつテープ走行方向に
直交する方向とテープ面に垂直な方向の二つの各角形比
は、走行方向の角型比の８０％以下となることが好まし
い。磁性層のＳＦＤは０．４１以下であることが適当で
あり、より好ましくは０．１〜０．３５、更に好ましく
は０．１５〜０．３０である。長手方向ののレマネンス
抗磁力Ｈｒも１８００Ｏｅ以上３０００Ｏｅ以下が好ま
しい。垂直方向のＨｃ及びＨｒは１０００Ｏｅ以上５０
００Ｏｅ以下であることが好ましい。磁性層のＡＦＭに
よる評価で求めたＲＭＳ表面粗さＲRMSは２ｎｍ〜１５
ｎｍの範囲にあることが好ましい。

【００５５】本発明の磁気記録媒体は下層塗布層と上層
磁性層を有するが、目的に応じ下層塗布層と磁性層でこ
れらの物理特性を変えることができるのは容易に推定さ
れることである。例えば、磁性層の弾性率を高くし走行
耐久性を向上させると同時に下層塗布層の弾性率を磁性
層より低くして磁気記録媒体のヘッドへの当りを良くす
るなどである。また、支持体のテンシライズ方法を変更
して、ヘッド当たりを改良することが本発明においても
有効であり、テ−プ長手方向に対し、直角な方向にテン
シライズした支持体の方がヘッド当たりが良好になる場
合が多い。また、近年エクストルージョン塗布技術の発
達で０．５μm以下の極薄層を単層で塗布することも可
能になってきた。

【００５６】

〔実施例１〕

単層磁性層 強磁性金属微粉末 １００部 組成 Ｆｅ／Ｃｏ＝７０／３０ Ｈｃ ２２５０ Ｏｅ、 BET法による比表面積 45m²/g 結晶子サイズ１７０Ａ 表面処理剤 Al₂O₃ ，Y₂O₃ 粒子サイズ（長軸径）0.09μm 針状比 ８ σｓ：１５０emu/g

【００５７】 塩化ビニル系共重合体 １０部 日本ゼオン製ＭＲ−１１０ ポリウレタン樹脂（東洋紡製 UR-8200) ６部 α-Al₂O₃ (平均粒径0.15μm) ５部 カーボンブラック（平均粒径0.08μm) ０．５部 ブチルステアレート １部 ステアリン酸 ５部 メチルエチルケトン ９０部 シクロヘキサノン ３０部 トルエン ６０部

【００５８】上記の塗料について、各成分をオープンニ
ーダで混練したのち、サンドミルを用いて分散させた。
得られた分散液にポリイソシアネート（日本ポリウレタ
ン（株）製コロネートＬ）を５部加え、さらにそれぞれ
にメチルエチルケトン、シクロヘキサノン混合溶媒４０
部を加え、１μｍの平均孔径を有するフィルターを用い
て濾過し、塗布液を調整した。

【００５９】下層塗布層（非磁性） 非磁性粉体 ８０部 α-Fe₂O₃ ヘマタイト 長軸長 0.15μm BET法による比表面積 ５２m²/g ｐＨ ８ タップ密度 ０．８ ＤＢＰ吸油量 27〜38/g/100g 表面処理剤 Al₂O₃ , SiO₂ カーボンブラック ２０部 平均一次粒子径 １６μｍ ＤＢＰ吸油量 120ml/100g ｐＨ ８．０ ＢＥＴ法による比表面積 ２５０m²/g 揮発分 １．５％

【００６０】 塩化ビニル系共重合体 １２部 日本ゼオン製ＭＲ−１０４ ポリエステルポリウレタン樹脂 ５部 環状構造とポリエーテル基を含有する α-Al₂O₃（平均粒径0.2 μm) １部 エチルステアレート １部 ステアリン酸 １部 エチルエチルケトン １００部 シクロヘキサノン ５０部 トルエン ５０部

【００６１】上記の塗料のそれぞれについて、各成分を
オープンニーダで混練したのち、サンドミルを用いて分
散させた。得られた下層分散液にポリイソシアネート
（日本ポリウレタン（株）製コロネートＬ）を下層塗布
層の塗布液には５部加え、さらにそれぞれにメチルエチ
ルケトン、シクロヘキサノン混合溶媒４０部を加え、１
μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、下
層塗布層、磁性層形成用の塗布液をそれぞれ調整した。
得られた下層塗布層塗布液を、乾燥後の厚さが１．５μ
ｍになるようにさらにその直後にその上に磁性層の厚さ
が０．１５μｍになるように、厚さ５．２μｍで磁性層
塗布面の中心線表面粗さが０．００１μｍのポリエチレ
ンナフタレート支持体上に同時重層塗布をおこない、両
層がまだ湿潤状態にあるうちに５０００Ｇの磁力をもつ
コバルト磁石と４０００Ｇの磁力をもつソレノイドによ
り配向させ乾燥後、金属ロールとエポキシ樹脂ロールか
ら構成される７段のカレンダで温度１００℃にて分速２
００m/minで処理を行い、その後、厚み０．５μｍのバ
ック層を塗布した。６．３５mmの幅にスリットし、ＤＶ
Ｃビデオ用テープを作成した。

【００６２】〔実施例２〜５，比較例１〜５〕各条件を
第１表のようにした以外は、実施例１と同様にビデオテ
ープ作成した。上記実施例１〜５及び比較例１〜５の各
ビデオテープの下記項目特性を測定した。なお、測定方
法は下記に示す。測定方法 １／２Ｔｂ出力 松下電器産業製カムコーダー ＤＪ−１を改造して、Ｔ
ｂ：ＢＩＴ間隔として、１／２Ｔｂの周波数（２１ＭＨ
ｚ）の信号出力を測定した。記録電流はデッキ設定値。
０ｄＢはＤＶＣ用ＲＥＦ．テープ ＭＴＲ１２２１であ
る。なお、−１ｄＢ以上の値を適合基準とした。

【００６３】１／２ＴｂＣＮＲ １／２Ｔｂ信号周波数を所定の記録電流で記録する。そ
の後、１／２Ｔｂ信号出力と１／２．２５Ｔｂ周波数と
１／１．８Ｔｂ周波数のトータルノイズ、アンプノイズ
を測定する。すべての測定は解像度幅３０ｋＨｚで行
う。テープノイズは以下で定義する。 Ｎ_tape＝（Ｎ_tot ²−Ｎ_amp ²）^1/2 Ｎ_tot＝（Ｎ_tot１＋Ｎ_tot２）／２ Ｎ_tot１：１／２．２５Ｔｂ周波数でのトータルノイズ Ｎ_tot２：１／１．８Ｔｂ周波数でのトータルノイズ Ｎ_amp ：１／２Ｔｂ周波数でのアンプノイズ 上記１／２Ｔｂ出力と上記Ｎ_tapeとの比をＣＮＲとし、
ＤＶＣ用REF.TAPE MTR-1221を０ｄＢとする。なお、−
２ｄＢ以上の値を適合基準とした。

【００６４】１／７５ＴｂＯ／Ｗ（オーバーライト） なお、民生用デジタルＶＣＲ（ＳＤ仕様）の規格では、
１／９０Ｔｂオーバーライトの値が規定されているが、
これを直接測定しようとするとトラッキング方法を大幅
に改造せざるを得ない。それ故、トラッキングド動作に
影響を及ばさない周波数として、１／９０Ｔｂオーバー
ライト特性に代わる測定方法として、１／７５Ｔｂオー
バーライト特性を評価した。なお、１／９０Ｔｂオーバ
ーライト性能と１／７５Ｔｂオーバーライト性能とはほ
ぼ一致することは確認済である。まず、周波数１／７５
Ｔｂの信号を上記ＤＪ−１改造機で記録する。その後、
本１／７５Ｔｂ信号を再生し、その出力を測定する。そ
の後、データ信号でオーバーライトした後、１／７５Ｔ
ｂ信号の消え残りをスペクトラムアナライザで測定す
る。データ信号記録前後の１／７５Ｔｂ信号出力の差を
Ｏ／Ｗ消去率とする。同様な測定をDVC ref TAPE MTR-1
221 に関しても行い、その差を１／７５ＴｂＯ／Ｗとす
る。なお、＋１ｄＢ以上の値を適合基準とした。

【００６５】１／４ＴｂＯ／Ｗ まず、周波数１／４Ｔｂの信号を上記ＤＪ−１改造機で
記録する。その後、本１／４Ｔｂ信号を再生し、その出
力を測定する。その後、データ信号でオーバーライトし
た後、１／４Ｔｂ信号の消え残りをスペクトラムアナラ
イザで測定する。データ信号記録前後の１／４Ｔｂ信号
出力の差をＯ／Ｗ消去率とする。同様な測定をDVC ref
TAPE MTR-1221 に関しても行い、その差を１／４Ｔｂ
Ｏ／Ｗと定をＤＶＣｒｅｆ ＴＡＰＥ ＭＴＲ−１２２
１に関しても行い、その差を１／／４ＴｂＯ／Ｗとす
る。なお、＋２ｄＢ以上の値を適合基準とした。実施例
１〜５及び比較例１〜５の各ビデオテープの上記項目の
特性の測定結果は第１表に示す。

【００６６】

【表１】

【００６７】

【発明の効果】本発明は、磁性層の薄層化、強磁性粉末
の微粒化、かつ媒体面内長手方向のＳＦＤの低下を行う
ことにより、デジタル記録に用いられるシステムにおい
て、ＭＥテープとの互換性をとるために、入出力特性と
オーバーライト特性とのバランスを達成し、かつノイズ
が低い磁気記録媒体を得ることができる。

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 非磁性支持体上に、強磁性金属粉末を結
   合剤中に分散してなる磁性層を設けてなる磁気記録媒体
   において、該強磁性金属粉末は、長軸長が０．０５μｍ
   以上０．１３μｍ以下で結晶子サイズが８０Å以上２０
   ０Å以下であるＦｅを主成分とし、磁性層の厚みが０．
   ０５μｍ以上０．５μｍ以下であり、媒体面内長手方向
   のＳＦＤが０．４１以下である磁気記録媒体。
2. 【請求項２】 該強磁性金属粉末の抗磁力が１９５０〜
   ２７５０Ｏｅで、σＳが１４０〜１７０emu/gである請
   求項１記載の磁気記録媒体。
3. 【請求項３】 該強磁性金属粉末のＢＥＴ法による比表
   面積が３０m²/g以上５０m²/g未満であることを特徴とす
   る請求項１記載の磁気記録媒体。
4. 【請求項４】 該強磁性金属粉末に、ＣｏがＦｅに対し
   て、１０〜４０at％、Ａｌが２〜２０at％、Ｙが１〜１
   ５at％含まれることを特徴とする請求項１記載の磁気記
   録媒体。
5. 【請求項５】 該磁気記録媒体の面内長手方向の角型比
   が０．８５以上であることを特徴とする請求項１記載の
   磁気記録媒体。