JPH10160671A - 反射率測定装置 - Google Patents
反射率測定装置Info
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- JPH10160671A JPH10160671A JP33745596A JP33745596A JPH10160671A JP H10160671 A JPH10160671 A JP H10160671A JP 33745596 A JP33745596 A JP 33745596A JP 33745596 A JP33745596 A JP 33745596A JP H10160671 A JPH10160671 A JP H10160671A
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- measured
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 被測定物がレンズなどの曲面を有する光学部
材であっても、各位置の反射率を測定することができる
反射率測定装置を提供する。 【解決手段】 光源からの光を照射側光学系を介して、
測定台に載置された被測定物に照射し、該被測定物１２
からの反射光を反射側光学系を介して受光器に入射させ
て反射光量を測定する反射率測定装置において、前記被
測定物１２に対する照射位置を変える照射位置変更手段
（Ｘステージ１５及び回転ステージ３２）と、該照射位
置変更手段により照射位置が変わった場合でも、前記受
光器に反射光が入射されるように制御する入射方向制御
手段（チルトステージ２７）と、前記照射位置への入射
光の焦点を合わせる焦点調整手段（Ｚステージ１８）と
を有する。
材であっても、各位置の反射率を測定することができる
反射率測定装置を提供する。 【解決手段】 光源からの光を照射側光学系を介して、
測定台に載置された被測定物に照射し、該被測定物１２
からの反射光を反射側光学系を介して受光器に入射させ
て反射光量を測定する反射率測定装置において、前記被
測定物１２に対する照射位置を変える照射位置変更手段
（Ｘステージ１５及び回転ステージ３２）と、該照射位
置変更手段により照射位置が変わった場合でも、前記受
光器に反射光が入射されるように制御する入射方向制御
手段（チルトステージ２７）と、前記照射位置への入射
光の焦点を合わせる焦点調整手段（Ｚステージ１８）と
を有する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、光学部材等の被
測定物の反射率を測定する装置に関するものである。
測定物の反射率を測定する装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来のこの種の反射率測定装置として
は、例えば図５に示すようなものがある。すなわち、こ
の反射率測定装置は、光源１，レンズ系２，第１ミラー
３，測定台４，第２ミラー５及び受光器６で構成されて
おり、光学部材等の被測定物７の反射率の測定は、以下
のような手順によって行われる。
は、例えば図５に示すようなものがある。すなわち、こ
の反射率測定装置は、光源１，レンズ系２，第１ミラー
３，測定台４，第２ミラー５及び受光器６で構成されて
おり、光学部材等の被測定物７の反射率の測定は、以下
のような手順によって行われる。
【０００３】まず、既知の反射率を持つ反射基準部材を
測定台４に載置して、その反射基準部材に光源１からの
光をレンズ系２及び第１ミラー３に照射する。この反射
基準部材からの反射光量を第２ミラー５を介して受光器
６で測定し、ベースラインとする。次に、反射基準部材
に換えて被測定物７を測定台４に載せ、同様に反射光量
を測定する。この反射光量から以下の式によって被測定
物７の相対反射率が求められる。
測定台４に載置して、その反射基準部材に光源１からの
光をレンズ系２及び第１ミラー３に照射する。この反射
基準部材からの反射光量を第２ミラー５を介して受光器
６で測定し、ベースラインとする。次に、反射基準部材
に換えて被測定物７を測定台４に載せ、同様に反射光量
を測定する。この反射光量から以下の式によって被測定
物７の相対反射率が求められる。
【０００４】
【数１】 また、その測定台４は二軸構成の移動テーブルとなって
おり、これを平面内で動かすことにより、被測定物７の
測定位置を変えて測定することができるようになってい
る。
おり、これを平面内で動かすことにより、被測定物７の
測定位置を変えて測定することができるようになってい
る。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来の反射率測定装置においては、被測定物７が曲
面を有するレンズなどの場合には、測定位置を変えて反
射率を測定しようとすると、光の当たる面によって反射
の方向が変わってしまい、受光器６に反射光が入らない
ため測定できなかった。
うな従来の反射率測定装置においては、被測定物７が曲
面を有するレンズなどの場合には、測定位置を変えて反
射率を測定しようとすると、光の当たる面によって反射
の方向が変わってしまい、受光器６に反射光が入らない
ため測定できなかった。
【０００６】そこで、この代わりに、レンズ面を被覆す
る反射防止膜などの評価は、レンズ面に形成するのと同
じ条件で被覆した反射防止膜を有する平面ガラスを測定
した値を用いていた。しかし、曲面の場合には、平面と
異なり、蒸着装置などによりレンズ面に反射防止膜を被
覆しても、曲面であるが故に場所によって膜厚が多少異
なってしまう。従って、曲面レンズの代わりに平面ガラ
スを用いたものでは、実際の曲面レンズ上に形成されて
いる反射防止膜の反射率を測定できない、という問題が
あった。
る反射防止膜などの評価は、レンズ面に形成するのと同
じ条件で被覆した反射防止膜を有する平面ガラスを測定
した値を用いていた。しかし、曲面の場合には、平面と
異なり、蒸着装置などによりレンズ面に反射防止膜を被
覆しても、曲面であるが故に場所によって膜厚が多少異
なってしまう。従って、曲面レンズの代わりに平面ガラ
スを用いたものでは、実際の曲面レンズ上に形成されて
いる反射防止膜の反射率を測定できない、という問題が
あった。
【０００７】そこで、この発明は、被測定物がレンズな
どの曲面を有する光学部材であっても、各位置の反射率
を測定することができる反射率測定装置を提供すること
を課題とする。
どの曲面を有する光学部材であっても、各位置の反射率
を測定することができる反射率測定装置を提供すること
を課題とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】かかる課題を達成するた
めに、請求項１に記載の発明は、光源からの光を照射側
光学系を介して、測定台に載置された被測定物に照射
し、該被測定物からの反射光を反射側光学系を介して受
光器に入射させて反射光量を測定する反射率測定装置に
おいて、前記被測定物に対する照射位置を変える照射位
置変更手段と、該照射位置変更手段により照射位置が変
わった場合でも、前記受光器に反射光が入射されるよう
に制御する入射方向制御手段と、前記照射位置への入射
光の焦点を合わせる焦点調整手段とを有する反射率測定
装置としたことを特徴とする。
めに、請求項１に記載の発明は、光源からの光を照射側
光学系を介して、測定台に載置された被測定物に照射
し、該被測定物からの反射光を反射側光学系を介して受
光器に入射させて反射光量を測定する反射率測定装置に
おいて、前記被測定物に対する照射位置を変える照射位
置変更手段と、該照射位置変更手段により照射位置が変
わった場合でも、前記受光器に反射光が入射されるよう
に制御する入射方向制御手段と、前記照射位置への入射
光の焦点を合わせる焦点調整手段とを有する反射率測定
装置としたことを特徴とする。
【０００９】請求項２に記載の発明は、請求項１に記載
の構成に加え、前記照射位置変更手段は、前記被測定物
を載置する測定台を、前記入射光と反射光とのなす角を
２分する法線に垂直な面内で、一方向にスライド自在に
配設すると共に、回転自在に設けたことを特徴とする。
の構成に加え、前記照射位置変更手段は、前記被測定物
を載置する測定台を、前記入射光と反射光とのなす角を
２分する法線に垂直な面内で、一方向にスライド自在に
配設すると共に、回転自在に設けたことを特徴とする。
【００１０】請求項３に記載の発明は、請求項１又は２
に記載の構成に加え、前記入射方向制御手段は、前記法
線と直交し、且つ、前記スライド方向と交差するチルト
軸を中心に前記測定台が回動自在に配設されたことを特
徴とする。
に記載の構成に加え、前記入射方向制御手段は、前記法
線と直交し、且つ、前記スライド方向と交差するチルト
軸を中心に前記測定台が回動自在に配設されたことを特
徴とする。
【００１１】請求項４に記載の発明は、請求項１乃至３
の何れかに記載の構成に加え、前記焦点調整手段は、前
記測定台を前記法線の方向に沿って平行移動可能に配設
したことを特徴とする。
の何れかに記載の構成に加え、前記焦点調整手段は、前
記測定台を前記法線の方向に沿って平行移動可能に配設
したことを特徴とする。
【００１２】請求項５に記載の発明は、請求項１乃至４
の何れかに記載の構成に加え、前記測定台と被測定物と
の間にアダプターを配設し、前記被測定物の基準測定位
置を、前記チルト軸と一致させたことを特徴とする。
の何れかに記載の構成に加え、前記測定台と被測定物と
の間にアダプターを配設し、前記被測定物の基準測定位
置を、前記チルト軸と一致させたことを特徴とする。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態につ
いて説明する。
いて説明する。
【００１４】図１乃至図４には、この発明の実施の形態
を示す。
を示す。
【００１５】まず構成について説明すると、図中符号１
は光源で、この光源１から出射された光が、レンズ系２
及び第１ミラー３を介して、載置装置１１にセットされ
た被測定物１２に照射され、ここから反射された光が第
２ミラー５を介して受光器６に入射されるようになって
いる。そのレンズ系２及び第１ミラー３で「照射側光学
系」が構成され、第２ミラー５で「反射側光学系」が構
成されている。
は光源で、この光源１から出射された光が、レンズ系２
及び第１ミラー３を介して、載置装置１１にセットされ
た被測定物１２に照射され、ここから反射された光が第
２ミラー５を介して受光器６に入射されるようになって
いる。そのレンズ系２及び第１ミラー３で「照射側光学
系」が構成され、第２ミラー５で「反射側光学系」が構
成されている。
【００１６】その載置装置１１は、まず、ベース１３に
一対のスライドレール１４が設けられ、このスライドレ
ール１４にＸステージ１５が一方向（Ｘ方向）にスライ
ド自在に配設され、Ｘ軸用モータ１６により、図示省略
のウオームギヤ等を介してＸステージ１５が駆動される
ようになっている。詳しくは、このＸステージ１５は、
被測定物１２への入射光と反射光とのなす角を２分する
法線Ｎと垂直な面内でスライドするように設定されてい
る。
一対のスライドレール１４が設けられ、このスライドレ
ール１４にＸステージ１５が一方向（Ｘ方向）にスライ
ド自在に配設され、Ｘ軸用モータ１６により、図示省略
のウオームギヤ等を介してＸステージ１５が駆動される
ようになっている。詳しくは、このＸステージ１５は、
被測定物１２への入射光と反射光とのなす角を２分する
法線Ｎと垂直な面内でスライドするように設定されてい
る。
【００１７】また、このＸステージ１５には、支柱１７
が突設され、この支柱１７にＺステージ１８が上下方向
（Ｚ方向）に移動可能に配設されている。詳しくは、支
柱１７にネジ棒１９が上下方向に沿って回転自在に配設
され、このネジ棒１９にＺステージ１８に設けられたナ
ット部２０が螺合されている。また、このネジ棒１９の
下端部が、傘歯歯車２１，２２を介して、左右の支柱１
７に架設された連結シャフト２３の両端部に連結されて
いる。この連結シャフト２３がＺ軸用モータ２４にオウ
ームギヤ２５等を介して連結されている。これにより、
このＺ軸用モータ２４を駆動させると、連結シャフト２
３が回転されて、ネジ棒１９が回転されることにより、
ナット部２０を介してＺステージ１８が上下動されるよ
うになっている。
が突設され、この支柱１７にＺステージ１８が上下方向
（Ｚ方向）に移動可能に配設されている。詳しくは、支
柱１７にネジ棒１９が上下方向に沿って回転自在に配設
され、このネジ棒１９にＺステージ１８に設けられたナ
ット部２０が螺合されている。また、このネジ棒１９の
下端部が、傘歯歯車２１，２２を介して、左右の支柱１
７に架設された連結シャフト２３の両端部に連結されて
いる。この連結シャフト２３がＺ軸用モータ２４にオウ
ームギヤ２５等を介して連結されている。これにより、
このＺ軸用モータ２４を駆動させると、連結シャフト２
３が回転されて、ネジ棒１９が回転されることにより、
ナット部２０を介してＺステージ１８が上下動されるよ
うになっている。
【００１８】さらに、このＺステージ１８には、上部側
に設けられた回転軸２６を介してコ字状を呈するチルト
ステージ２７がチルト軸Ｏ１を中心に回動自在に配設さ
れている。すなわち、Ｚステージ１８にチルト用モータ
２８が配設され、このモータ２８に図３に示すように、
ウオームギヤ２９が設けられ、このウオームギヤ２９
に、チルトステージ２７に設けられた扇形のウオームホ
イール３０が噛合されている。これにより、チルト用モ
ータ２８が駆動されると、ウオームギヤ２９等を介して
チルトステージ２７が所定角度回動されるようになって
いる。このチルト軸Ｏ１は、前記法線Ｎと直交し、且
つ、前記Ｘステージ１５のスライド方向と交差するよう
になっている。
に設けられた回転軸２６を介してコ字状を呈するチルト
ステージ２７がチルト軸Ｏ１を中心に回動自在に配設さ
れている。すなわち、Ｚステージ１８にチルト用モータ
２８が配設され、このモータ２８に図３に示すように、
ウオームギヤ２９が設けられ、このウオームギヤ２９
に、チルトステージ２７に設けられた扇形のウオームホ
イール３０が噛合されている。これにより、チルト用モ
ータ２８が駆動されると、ウオームギヤ２９等を介して
チルトステージ２７が所定角度回動されるようになって
いる。このチルト軸Ｏ１は、前記法線Ｎと直交し、且
つ、前記Ｘステージ１５のスライド方向と交差するよう
になっている。
【００１９】さらにまた、このチルトステージ２７の底
面部２７ａには、「測定台」としての回転ステージ３２
が中心軸Ｏ２を中心に回転自在に配設され、この回転ス
テージ３２は、回転用モータ３３を駆動させることによ
り、歯車３４，３５を介して回転されるようになってい
る。
面部２７ａには、「測定台」としての回転ステージ３２
が中心軸Ｏ２を中心に回転自在に配設され、この回転ス
テージ３２は、回転用モータ３３を駆動させることによ
り、歯車３４，３５を介して回転されるようになってい
る。
【００２０】そして、この回転ステージ３２にアダプタ
ー３７がボルト３８にて取り付けられ、このアダプター
３７に前記被測定物１２がセットされるようになってい
る。このアダプター３７は、被測定物１２に対応して適
当な厚さ又は形状のものが用いられる。すなわち、この
実施の形態では、被測定物１２は凹レンズで、この凹面
の中心Ｐ（測定基準部位）がチルトステージ２７の中心
軸Ｏ１に一致するように、そのアダプター３７の厚さ等
が設定されている。
ー３７がボルト３８にて取り付けられ、このアダプター
３７に前記被測定物１２がセットされるようになってい
る。このアダプター３７は、被測定物１２に対応して適
当な厚さ又は形状のものが用いられる。すなわち、この
実施の形態では、被測定物１２は凹レンズで、この凹面
の中心Ｐ（測定基準部位）がチルトステージ２７の中心
軸Ｏ１に一致するように、そのアダプター３７の厚さ等
が設定されている。
【００２１】この実施の形態では、Ｘステージ１５及び
回転ステージ３２により、被測定物１２に対する照射位
置を変える「照射位置変更手段」が構成され、又、チル
トステージ２７により、その「照射位置変更手段」によ
り照射位置が変わった場合でも、受光器６に反射光が入
射されるようにする「入射方向制御手段」が構成され、
更に、Ｚステージ１８により、照射位置への入射光の焦
点を合わせる「焦点調整手段」が構成されている。
回転ステージ３２により、被測定物１２に対する照射位
置を変える「照射位置変更手段」が構成され、又、チル
トステージ２７により、その「照射位置変更手段」によ
り照射位置が変わった場合でも、受光器６に反射光が入
射されるようにする「入射方向制御手段」が構成され、
更に、Ｚステージ１８により、照射位置への入射光の焦
点を合わせる「焦点調整手段」が構成されている。
【００２２】次に、作用について説明する。
【００２３】まず、被測定物１２の凹面の中心Ｐの反射
率を測定する場合には、図１及び図２に示す状態で、光
源１から光を出射し、レンズ系２及び第１ミラー３を介
して被測定物１２の中心Ｐに照射し、この反射光を第２
ミラー５を介して受光器６に入射させることにより、そ
の中心Ｐの反射率を測定する。
率を測定する場合には、図１及び図２に示す状態で、光
源１から光を出射し、レンズ系２及び第１ミラー３を介
して被測定物１２の中心Ｐに照射し、この反射光を第２
ミラー５を介して受光器６に入射させることにより、そ
の中心Ｐの反射率を測定する。
【００２４】次に、例えば、図１及び図４のＳ点を測定
するには、例えば以下のようにする。すなわち、回転用
モータ３３を駆動させて、回転ステージ３２を図４中９
０°矢印方向に回動させて、Ｓ点を図中一点鎖線に示す
位置まで移動させる。
するには、例えば以下のようにする。すなわち、回転用
モータ３３を駆動させて、回転ステージ３２を図４中９
０°矢印方向に回動させて、Ｓ点を図中一点鎖線に示す
位置まで移動させる。
【００２５】次いで、Ｘ軸用モータ１６を駆動させて、
Ｘステージ１５をＸ軸方向に所定量スライドさせて、図
４中一点鎖線に示す位置から、図４中二点鎖線に示すま
で移動させる。
Ｘステージ１５をＸ軸方向に所定量スライドさせて、図
４中一点鎖線に示す位置から、図４中二点鎖線に示すま
で移動させる。
【００２６】その後、Ｚ軸用モータ２４を駆動させて、
Ｚステージ１８を下降させて、このＳ点の高さを調整
し、チルト軸Ｏ１と一致させる。このように上下位置を
調整することにより、フォーカシングを制御する。
Ｚステージ１８を下降させて、このＳ点の高さを調整
し、チルト軸Ｏ１と一致させる。このように上下位置を
調整することにより、フォーカシングを制御する。
【００２７】そして、チルト用モータ２８を駆動させ
て、チルトステージ２７をチルト軸０１を中心として所
定量回動させ、Ｓ点から反射された光が受光器６に正確
に受光されるように調整する。
て、チルトステージ２７をチルト軸０１を中心として所
定量回動させ、Ｓ点から反射された光が受光器６に正確
に受光されるように調整する。
【００２８】これにより、Ｓ点の位置の反射率が測定さ
れることとなる。
れることとなる。
【００２９】なお、上記では各モータ３３，１６，２
４，２８を順番に駆動させて説明したが、駆動させる順
番はこれに限定されるものでない。すなわち、被測定物
１２の測定面の曲率等に応じて各モータ３３，１６，２
４，２８の駆動量は予め設定されているため、各々が独
自に回動しても、測定点を所定の位置に制御できるもの
である。
４，２８を順番に駆動させて説明したが、駆動させる順
番はこれに限定されるものでない。すなわち、被測定物
１２の測定面の曲率等に応じて各モータ３３，１６，２
４，２８の駆動量は予め設定されているため、各々が独
自に回動しても、測定点を所定の位置に制御できるもの
である。
【００３０】また、上記と同様の操作で、他の位置を測
定することができ、被測定物１２の測定面の各位置の反
射率を正確に測定できる。
定することができ、被測定物１２の測定面の各位置の反
射率を正確に測定できる。
【００３１】このように被測定物１２の測定面の曲率等
に応じて各種制御を行うことにより、従来のように、曲
面レンズの代わりに平面ガラスを用いることなく、曲面
の各位置の反射率を正確に測定することができる。
に応じて各種制御を行うことにより、従来のように、曲
面レンズの代わりに平面ガラスを用いることなく、曲面
の各位置の反射率を正確に測定することができる。
【００３２】
【実施例】上記実施の形態を具体的に示すと、Ｘステー
ジ１５はストロークが２５０ｍｍ、分解能が０．００５
ｍｍ、Ｚステージ１８はストロークが±７０ｍｍ、分解
能が０．００１ｍｍ、チルトステージ２７は揺動範囲が
±４５°、分解能が０．００１°、回転ステージ３２は
回転範囲が３６０°、分解能０．０５°であり、総合位
置決め精度は±０．０５ｍｍである。
ジ１５はストロークが２５０ｍｍ、分解能が０．００５
ｍｍ、Ｚステージ１８はストロークが±７０ｍｍ、分解
能が０．００１ｍｍ、チルトステージ２７は揺動範囲が
±４５°、分解能が０．００１°、回転ステージ３２は
回転範囲が３６０°、分解能０．０５°であり、総合位
置決め精度は±０．０５ｍｍである。
【００３３】また、測定可能な被測定物１２の大きさ
は、φ３０ｍｍ〜φ３００ｍｍ、測定ポイント径はφ
０．０５ｍｍである。
は、φ３０ｍｍ〜φ３００ｍｍ、測定ポイント径はφ
０．０５ｍｍである。
【００３４】なお、この発明の構成要素である「照射位
置変更手段」、「入射方向制御手段」、「焦点調整手
段」は、上記実施の形態に限定されるものでなく、駆動
機構等、他の構成でも良いことは勿論である。例えば、
上記実施の形態では、被測定物を載置する側を可動させ
て照射位置を変更したり、焦点を合わせたりしている
が、これに限らず、光学系側を可動させてそれらの調整
を行うことも可能である。また、上記実施の形態では、
被測定物１２として凹面のレンズを用いて説明したが、
これに限らず、凸面のレンズ等でも良いことは勿論であ
る。
置変更手段」、「入射方向制御手段」、「焦点調整手
段」は、上記実施の形態に限定されるものでなく、駆動
機構等、他の構成でも良いことは勿論である。例えば、
上記実施の形態では、被測定物を載置する側を可動させ
て照射位置を変更したり、焦点を合わせたりしている
が、これに限らず、光学系側を可動させてそれらの調整
を行うことも可能である。また、上記実施の形態では、
被測定物１２として凹面のレンズを用いて説明したが、
これに限らず、凸面のレンズ等でも良いことは勿論であ
る。
【００３５】
【発明の効果】以上説明してきたように、請求項１乃至
５の何れかに記載された発明によれば、平面形状の光学
部材ばかりでなく、凸レンズや凹レンズのように曲面形
状を呈する光学部材であっても反射率を測定することが
できる、という実用上有益な効果を発揮する。
５の何れかに記載された発明によれば、平面形状の光学
部材ばかりでなく、凸レンズや凹レンズのように曲面形
状を呈する光学部材であっても反射率を測定することが
できる、という実用上有益な効果を発揮する。
【図１】この発明の実施の形態に係る反射率測定装置の
載置装置の正面図である。
載置装置の正面図である。
【図２】同実施の形態に係る反射率測定装置の概略正面
図である。
図である。
【図３】同実施の形態に係るチルトステージ駆動機構を
示す図である。
示す図である。
【図４】同実施の形態に係る照射位置の変更例を示す平
面説明図である。
面説明図である。
【図５】従来例を示す図２に相当する概略図である。
１ 光源 照射側光学系 ２ レンズ系 ３ 第１ミラー 反射側光学系 ５ 第２ミラー ６ 受光器 12 被測定物 照射位置変更手段 15 Ｘステージ 32 回転ステージ（測定台） 入射方向制御手段 27 チルトステージ 焦点調整手段 18 Ｚステージ 37 アダプター
Claims (5)
- 【請求項１】 光源からの光を照射側光学系を介して、
測定台に載置された被測定物に照射し、該被測定物から
の反射光を反射側光学系を介して受光器に入射させて反
射光量を測定する反射率測定装置において、 前記被測定物に対する照射位置を変える照射位置変更手
段と、 該照射位置変更手段により照射位置が変わった場合で
も、前記受光器に反射光が入射されるように制御する入
射方向制御手段と、 前記照射位置への入射光の焦点を合わせる焦点調整手段
とを有することを特徴とする反射率測定装置。 - 【請求項２】 前記照射位置変更手段は、前記被測定物
を載置する測定台を、前記入射光と反射光とのなす角を
２分する法線に垂直な面内で、一方向にスライド自在に
配設すると共に、回転自在に設けたことを特徴とする請
求項１に記載の反射率測定装置。 - 【請求項３】 前記入射方向制御手段は、前記法線と直
交し、且つ、前記スライド方向と交差するチルト軸を中
心に前記測定台が回動自在に配設されたことを特徴とす
る請求項１又は２に記載の反射率測定装置。 - 【請求項４】 前記焦点調整手段は、前記測定台を前記
法線の方向に沿って平行移動可能に配設したことを特徴
とする請求項１乃至３の何れか一つに記載の反射率測定
装置。 - 【請求項５】 前記測定台と被測定物との間にアダプタ
ーを配設し、前記被測定物の基準測定位置を、前記チル
ト軸と一致させたことを特徴とする請求項１乃至４の何
れか一つに記載の反射率測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33745596A JPH10160671A (ja) | 1996-12-03 | 1996-12-03 | 反射率測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33745596A JPH10160671A (ja) | 1996-12-03 | 1996-12-03 | 反射率測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10160671A true JPH10160671A (ja) | 1998-06-19 |
Family
ID=18308806
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33745596A Pending JPH10160671A (ja) | 1996-12-03 | 1996-12-03 | 反射率測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10160671A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101224883B1 (ko) | 2010-12-07 | 2013-02-06 | (주)자비스 | 엑스레이검사장치 |
| DE102013213599A1 (de) * | 2013-07-11 | 2015-01-15 | Leica Microsystems Cms Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur spektrometrischen Reflexionsmessung bei sphärischen Flächen |
-
1996
- 1996-12-03 JP JP33745596A patent/JPH10160671A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101224883B1 (ko) | 2010-12-07 | 2013-02-06 | (주)자비스 | 엑스레이검사장치 |
| DE102013213599A1 (de) * | 2013-07-11 | 2015-01-15 | Leica Microsystems Cms Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur spektrometrischen Reflexionsmessung bei sphärischen Flächen |
| DE102013213599B4 (de) * | 2013-07-11 | 2016-05-04 | Leica Microsystems Cms Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur spektrometrischen Reflexionsmessung bei sphärischen Flächen |
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