JPH10158722A - 取鍋精錬における揺動防止方法 - Google Patents
取鍋精錬における揺動防止方法Info
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- JPH10158722A JPH10158722A JP31621496A JP31621496A JPH10158722A JP H10158722 A JPH10158722 A JP H10158722A JP 31621496 A JP31621496 A JP 31621496A JP 31621496 A JP31621496 A JP 31621496A JP H10158722 A JPH10158722 A JP H10158722A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 取鍋精錬における揺動防止方法に関し、高い
反応速度を維持したままスロッシングによる歩留まり低
下を抑制した精錬を可能とする方法を提供する。 【解決手段】 ガス吹き込み深さＨに対して０．０５Ｈ
〜０．１５Ｈの半径を有する円盤を、ガス撹拌用ノズル
の浴表面での垂直投影点を中心とした０．２Ｈの半径を
有する円内に、０．１Ｈ以下の深さに浸漬する。
反応速度を維持したままスロッシングによる歩留まり低
下を抑制した精錬を可能とする方法を提供する。 【解決手段】 ガス吹き込み深さＨに対して０．０５Ｈ
〜０．１５Ｈの半径を有する円盤を、ガス撹拌用ノズル
の浴表面での垂直投影点を中心とした０．２Ｈの半径を
有する円内に、０．１Ｈ以下の深さに浸漬する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本技術は取鍋精錬における揺
動防止方法に関する。
動防止方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】溶銑の脱硫や脱燐処理、叉は溶鋼の脱硫
処理等において、取鍋内溶鉄に対しガス吹き込みによる
撹拌を付与した溶鉄精錬方法が広く用いられている。ま
た、溶鋼の真空処理においても、取鍋全体を真空容器へ
収納し取鍋内溶鉄に対しガス吹き込みによる撹拌を付与
したタンク式取鍋脱ガス装置がある。例えば、鉄と鋼、
１９８８年、２７０ページ以降には溶銑脱燐処理が、鉄
と鋼、１９８８年、８２３ページ以降には溶鋼脱硫処理
が、鉄と鋼、１９８６年、Ｓ２４９及びＳ２５０に開示
されているタンク式取鍋脱ガス装置が開示されている。
処理等において、取鍋内溶鉄に対しガス吹き込みによる
撹拌を付与した溶鉄精錬方法が広く用いられている。ま
た、溶鋼の真空処理においても、取鍋全体を真空容器へ
収納し取鍋内溶鉄に対しガス吹き込みによる撹拌を付与
したタンク式取鍋脱ガス装置がある。例えば、鉄と鋼、
１９８８年、２７０ページ以降には溶銑脱燐処理が、鉄
と鋼、１９８８年、８２３ページ以降には溶鋼脱硫処理
が、鉄と鋼、１９８６年、Ｓ２４９及びＳ２５０に開示
されているタンク式取鍋脱ガス装置が開示されている。
【０００３】これらの方法においては、吹き込みガス流
量を増やすことで撹拌エネルギーが増大し、均一混合時
間が短縮されるため精錬効果が向上するが、多量のガス
を吹き込んだ場合には、溶鉄表面が揺動（いわゆるスロ
ッシング現象）し始め、溶鉄が容器外へ飛散する挙動が
起こる。この場合には、歩留まりが大きく低下し、か
つ、安全上も問題があるため操業できず、実際には、ス
ロッシングが起こる限界以下の流量で操業をしている。
量を増やすことで撹拌エネルギーが増大し、均一混合時
間が短縮されるため精錬効果が向上するが、多量のガス
を吹き込んだ場合には、溶鉄表面が揺動（いわゆるスロ
ッシング現象）し始め、溶鉄が容器外へ飛散する挙動が
起こる。この場合には、歩留まりが大きく低下し、か
つ、安全上も問題があるため操業できず、実際には、ス
ロッシングが起こる限界以下の流量で操業をしている。
【０００４】このスロッシングが発生する条件について
は、鉄と鋼、１９９２年、１７７８ページ以降に詳細な
研究結果が開示されているが、吹き込みガス流量を低下
させずにスロッシングを回避するには浴深を深くする方
法がある。しかし、取鍋形状を大きく変更することは多
大の投資が必要となり実際的ではない。また、鉄と鋼、
１９９３年、９３４ページ以降には、円筒管を気泡塔の
浮上領域を囲むように浸漬することでスロッシングが抑
制されることが示されている。しかし、この方法では同
時に均一混合時間も大幅に長くなるため精錬効果が低下
するという問題を生じる。
は、鉄と鋼、１９９２年、１７７８ページ以降に詳細な
研究結果が開示されているが、吹き込みガス流量を低下
させずにスロッシングを回避するには浴深を深くする方
法がある。しかし、取鍋形状を大きく変更することは多
大の投資が必要となり実際的ではない。また、鉄と鋼、
１９９３年、９３４ページ以降には、円筒管を気泡塔の
浮上領域を囲むように浸漬することでスロッシングが抑
制されることが示されている。しかし、この方法では同
時に均一混合時間も大幅に長くなるため精錬効果が低下
するという問題を生じる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、スロッシン
グを抑制する方法である、吹き込みガス流量を低下させ
る方法や円筒管を気泡塔の浮上領域を囲むように浸漬す
る方法では、均一混合時間が長くなり精錬効率を低下さ
せるという問題を解決し、多量のガスを吹き込んでも均
一混合時間を延長させずにスロッシングを抑制させるこ
とを目的とする。
グを抑制する方法である、吹き込みガス流量を低下させ
る方法や円筒管を気泡塔の浮上領域を囲むように浸漬す
る方法では、均一混合時間が長くなり精錬効率を低下さ
せるという問題を解決し、多量のガスを吹き込んでも均
一混合時間を延長させずにスロッシングを抑制させるこ
とを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、表面のガ
ス吹き込み位置の投影位置に、小さな円盤を浅く漬ける
だけで、スロッシングが防止できることを見いだした。
ス吹き込み位置の投影位置に、小さな円盤を浅く漬ける
だけで、スロッシングが防止できることを見いだした。
【０００７】本発明の要旨は、以下の各方法にある。
【０００８】（１） 取鍋内溶鉄に対しガス吹き込みに
よる撹拌を付与した溶鉄精錬装置において、浴表面の少
なくとも一部に円盤底面を浸すことを特徴とする取鍋精
錬における揺動防止方法。
よる撹拌を付与した溶鉄精錬装置において、浴表面の少
なくとも一部に円盤底面を浸すことを特徴とする取鍋精
錬における揺動防止方法。
【０００９】（２） ガス吹き込み深さＨに対して０．
０５Ｈ〜０．１５Ｈの半径を有する円盤底面を浸すこと
を特徴とする（１）記載の取鍋精錬における揺動防止方
法。
０５Ｈ〜０．１５Ｈの半径を有する円盤底面を浸すこと
を特徴とする（１）記載の取鍋精錬における揺動防止方
法。
【００１０】（３） ガス吹き込み深さＨに対してガス
撹拌用ノズルの浴表面での垂直投影点を中心とした０．
２Ｈの半径を有する円内に、０．１Ｈ以下の深さに円盤
底面を浸すことを特徴とする（１）又は（２）記載の取
鍋精錬における揺動防止方法。
撹拌用ノズルの浴表面での垂直投影点を中心とした０．
２Ｈの半径を有する円内に、０．１Ｈ以下の深さに円盤
底面を浸すことを特徴とする（１）又は（２）記載の取
鍋精錬における揺動防止方法。
【００１１】
【発明の実施の形態】本発明の実施形態の模式図を図１
に示す。図中１は取鍋、２は溶鉄、３はガス吹き込み用
ポーラス煉瓦、４は気泡塔、５は円盤、６はスラグを示
す。本発明の基本となる構成要件及びさらに好ましい条
件の限定理由を以下に説明する。
に示す。図中１は取鍋、２は溶鉄、３はガス吹き込み用
ポーラス煉瓦、４は気泡塔、５は円盤、６はスラグを示
す。本発明の基本となる構成要件及びさらに好ましい条
件の限定理由を以下に説明する。
【００１２】鋼浴中に吹き込まれた気泡は鋼浴全体に広
がるのではなく、吹き込み孔を頂点とした逆円錐状に広
がりながら上昇する。この気泡が含まれる領域は気泡塔
（あるいはプルーム）と呼ばれる。通常は、気泡塔はガ
ス吹き込み孔を頂点として２４度の立体角を持った逆円
錐状に広がりながら垂直上方に向かって上昇する。これ
に対して、スロッシングとは、気泡塔が吹き込み孔を頂
点として円周方向に旋回運動をし、それにより溶鉄表面
が上下方向に激しく揺れ動く現象である。これは、吹き
込まれたガス気泡が表面で破泡する時に、浴表面を部分
的に上方へ持ち上げる力が作用することにより引き起こ
される現象である。従って、上方へ持ち上げる力を打ち
消せばスロッシングは防止することができ、具体的には
浴表面の少なくとも一部に円盤を浸漬することにより強
制的に上方へ持ち上げる力を打ち消すことができ、揺動
をも防止することができるのである。
がるのではなく、吹き込み孔を頂点とした逆円錐状に広
がりながら上昇する。この気泡が含まれる領域は気泡塔
（あるいはプルーム）と呼ばれる。通常は、気泡塔はガ
ス吹き込み孔を頂点として２４度の立体角を持った逆円
錐状に広がりながら垂直上方に向かって上昇する。これ
に対して、スロッシングとは、気泡塔が吹き込み孔を頂
点として円周方向に旋回運動をし、それにより溶鉄表面
が上下方向に激しく揺れ動く現象である。これは、吹き
込まれたガス気泡が表面で破泡する時に、浴表面を部分
的に上方へ持ち上げる力が作用することにより引き起こ
される現象である。従って、上方へ持ち上げる力を打ち
消せばスロッシングは防止することができ、具体的には
浴表面の少なくとも一部に円盤を浸漬することにより強
制的に上方へ持ち上げる力を打ち消すことができ、揺動
をも防止することができるのである。
【００１３】浴表面の少なくとも一部に浸漬させる円盤
の具備すべき条件として、ガス吹き込み深さＨに対して
０．０５Ｈ〜０．１５Ｈの半径を有することが好ましい
理由と、ガス撹拌用ノズルの浴表面での垂直投影点を中
心とした０．２Ｈの半径を有する円内に、０．１Ｈ以下
の深さに浸漬することにより精錬効果を維持したままス
ロッシングを防止することができる理由について以下に
説明する。
の具備すべき条件として、ガス吹き込み深さＨに対して
０．０５Ｈ〜０．１５Ｈの半径を有することが好ましい
理由と、ガス撹拌用ノズルの浴表面での垂直投影点を中
心とした０．２Ｈの半径を有する円内に、０．１Ｈ以下
の深さに浸漬することにより精錬効果を維持したままス
ロッシングを防止することができる理由について以下に
説明する。
【００１４】図２は、溶銑脱硫での試験結果を示したも
のであるが、円盤の半径が０．０５Ｈよりも小さい場合
にはスロッシングが抑制できず、０．１５Ｈよりも大き
い場合にはスロッシングは抑制できるものの、表面の溶
鋼流速が著しく低下するため脱硫速度も低下することが
わかる。特に、０．１５Ｈよりも大きい場合には、均一
混合時間の低下のみならず、表面流速の低下によるスラ
グの溶鋼への巻き込みも低下されるため、著しい反応速
度の低下が引き起こされている。さらに、０．０５Ｈよ
りも小さくスロッシングが起こった場合の反応速度より
も、０．０５Ｈ〜０．１５Ｈの範囲の円盤を浸漬させた
場合の方が反応速度が大きい点は注目すべきである。こ
れは、溶鉄が取鍋外へ飛散しない範囲で適度に気泡塔の
旋回を与えることで、表面のスラグが溶鉄中に巻き込ま
れ易くなり反応速度が増加するのに対し、激しくスロッ
シングした場合には、撹拌エネルギーが溶鉄の飛散に消
費されるため有効にスラグの巻き込みが起こらず、かえ
って反応速度が低下することを示している。円盤は、ガ
ス撹拌用ノズルの浴表面での垂直投影点を中心とした
０．２Ｈの半径を有する円内に浸漬する必要がある。
０．２Ｈよりも外側では気泡塔の表面への浮上域から外
れるためスロッシングは抑制できない。また、図３に示
すように適正な半径の円盤を用いた場合であっても、
０．１Ｈ以下の深さに浸漬する必要がある。浸漬深さが
０．１Ｈよりも深い場合には、スロッシングは抑制され
るものの表面流速の低下によるスラグの溶鋼への巻き込
みが低下され、著しい反応速度の低下が引き起こされて
いる。このように、円盤の浸漬は単にスロッシングを抑
制するだけでなく、表面流速を確保して反応効率を最大
限に引き出す効果もある。
のであるが、円盤の半径が０．０５Ｈよりも小さい場合
にはスロッシングが抑制できず、０．１５Ｈよりも大き
い場合にはスロッシングは抑制できるものの、表面の溶
鋼流速が著しく低下するため脱硫速度も低下することが
わかる。特に、０．１５Ｈよりも大きい場合には、均一
混合時間の低下のみならず、表面流速の低下によるスラ
グの溶鋼への巻き込みも低下されるため、著しい反応速
度の低下が引き起こされている。さらに、０．０５Ｈよ
りも小さくスロッシングが起こった場合の反応速度より
も、０．０５Ｈ〜０．１５Ｈの範囲の円盤を浸漬させた
場合の方が反応速度が大きい点は注目すべきである。こ
れは、溶鉄が取鍋外へ飛散しない範囲で適度に気泡塔の
旋回を与えることで、表面のスラグが溶鉄中に巻き込ま
れ易くなり反応速度が増加するのに対し、激しくスロッ
シングした場合には、撹拌エネルギーが溶鉄の飛散に消
費されるため有効にスラグの巻き込みが起こらず、かえ
って反応速度が低下することを示している。円盤は、ガ
ス撹拌用ノズルの浴表面での垂直投影点を中心とした
０．２Ｈの半径を有する円内に浸漬する必要がある。
０．２Ｈよりも外側では気泡塔の表面への浮上域から外
れるためスロッシングは抑制できない。また、図３に示
すように適正な半径の円盤を用いた場合であっても、
０．１Ｈ以下の深さに浸漬する必要がある。浸漬深さが
０．１Ｈよりも深い場合には、スロッシングは抑制され
るものの表面流速の低下によるスラグの溶鋼への巻き込
みが低下され、著しい反応速度の低下が引き起こされて
いる。このように、円盤の浸漬は単にスロッシングを抑
制するだけでなく、表面流速を確保して反応効率を最大
限に引き出す効果もある。
【００１５】以上述べたことを整理すると、スロッシン
グを抑制するには気泡塔の表面への浮上域に円盤の底面
を浸すこととが重要であり、その条件は、０．０５Ｈ以
上の半径を有する円盤底面を浸すことと、ガス撹拌用ノ
ズルの浴表面での垂直投影点を中心とした０．２Ｈの半
径を有する円内に浸すことである。また、スロッシング
を抑制した上で表面流速を低下させずに反応速度を高く
維持する条件は、０．１５Ｈ以下の半径を有する円盤底
面を浸すことと、０．１Ｈ以下の深さに浸漬すことであ
る。
グを抑制するには気泡塔の表面への浮上域に円盤の底面
を浸すこととが重要であり、その条件は、０．０５Ｈ以
上の半径を有する円盤底面を浸すことと、ガス撹拌用ノ
ズルの浴表面での垂直投影点を中心とした０．２Ｈの半
径を有する円内に浸すことである。また、スロッシング
を抑制した上で表面流速を低下させずに反応速度を高く
維持する条件は、０．１５Ｈ以下の半径を有する円盤底
面を浸すことと、０．１Ｈ以下の深さに浸漬すことであ
る。
【００１６】尚、円盤としてはアルミナ等の不定形耐火
物製のものや、マグネシウム等の定形耐火物製のものが
望ましく、中実であっても管であっても良く、また、円
柱でも角柱でも良い。
物製のものや、マグネシウム等の定形耐火物製のものが
望ましく、中実であっても管であっても良く、また、円
柱でも角柱でも良い。
【００１７】脱硫速度（Ｋ）は次式で表される。
【００１８】Ｋ＝（ｌｎ［Ｓ］Ｉ／［Ｓ］Ｆ）／ｔ ここで、［Ｓ］Ｉは処理前［Ｓ］濃度、［Ｓ］Ｆは処理
後［Ｓ］濃度、ｔは処理時間（分）である。
後［Ｓ］濃度、ｔは処理時間（分）である。
【００１９】
【実施例】実施例は、３００トン規模の取鍋精錬装置で
実施した。ガス撹拌は取鍋底に設けたポーラス煉瓦から
Ａｒガスを吹き込んだ。取鍋の内直径Ｄは４００ｃｍ、
浴深Ｈは３００ｃｍであった。操業は、炭素：４．３
％、Ｓｉ：０．２５％、Ｍｎ：０．３％、Ｐ：０．０８
５％、Ｓ：０．０３５％の溶銑に対して、ＣａＯが９０
％、Ａｌ灰が１０％からなるフラックスを上方から約４
ｋｇ／ｔ添加し、１０分間、Ａｒガスを５００Ｎｌ／分
の流量で供給しガス撹拌して実施した。
実施した。ガス撹拌は取鍋底に設けたポーラス煉瓦から
Ａｒガスを吹き込んだ。取鍋の内直径Ｄは４００ｃｍ、
浴深Ｈは３００ｃｍであった。操業は、炭素：４．３
％、Ｓｉ：０．２５％、Ｍｎ：０．３％、Ｐ：０．０８
５％、Ｓ：０．０３５％の溶銑に対して、ＣａＯが９０
％、Ａｌ灰が１０％からなるフラックスを上方から約４
ｋｇ／ｔ添加し、１０分間、Ａｒガスを５００Ｎｌ／分
の流量で供給しガス撹拌して実施した。
【００２０】実施例では、マグネシウム定形耐火物製の
半径３０ｃｍで３０ｃｍの厚みを有する円盤をポーラス
煉瓦の表面投影点を中心に、表面から１５ｃｍの深さま
で浸漬した。その結果、スロッシングは軽微であり歩留
まりも９８％と高く、更に、［Ｓ］は０．０１０％まで
低下し、脱硫速度Ｋは０．１２６であった。
半径３０ｃｍで３０ｃｍの厚みを有する円盤をポーラス
煉瓦の表面投影点を中心に、表面から１５ｃｍの深さま
で浸漬した。その結果、スロッシングは軽微であり歩留
まりも９８％と高く、更に、［Ｓ］は０．０１０％まで
低下し、脱硫速度Ｋは０．１２６であった。
【００２１】比較例では、円盤を浸漬しなかったが、そ
の結果、激しいスロッシングにより歩留まりは９１％ま
で低下し、［Ｓ］も０．０１９％までしか低下せず、脱
硫速度Ｋは０．０６１であった。
の結果、激しいスロッシングにより歩留まりは９１％ま
で低下し、［Ｓ］も０．０１９％までしか低下せず、脱
硫速度Ｋは０．０６１であった。
【００２２】
【発明の効果】本発明により、高い反応速度を維持した
ままスロッシングによる歩留まり低下を抑制した精錬が
可能となった。
ままスロッシングによる歩留まり低下を抑制した精錬が
可能となった。
【図１】本発明の実施形態の模式図。
【図２】円盤半径と脱硫速度との関係を示す実験結果を
示す図。
示す図。
【図３】円盤浸漬深さと脱硫速度との関係を示す実験結
果を示す図で、円盤の半径が０．１Ｈの場合の例。
果を示す図で、円盤の半径が０．１Ｈの場合の例。
１…取鍋 ２…溶鉄 ３…ガス吹き込み用ポーラス煉瓦 ４…気泡塔 ５…円盤 ６…スラグ
Claims (3)
- 【請求項１】 取鍋内溶鉄に対しガス吹き込みによる撹
拌を付与した溶鉄精錬装置において、浴表面の少なくと
も一部に円盤底面を浸すことを特徴とする取鍋精錬にお
ける揺動防止方法。 - 【請求項２】 ガス吹き込み深さＨに対して０．０５Ｈ
〜０．１５Ｈの半径を有する円盤底面を浸すことを特徴
とする請求項１記載の取鍋精錬における揺動防止方法。 - 【請求項３】 ガス吹き込み深さＨに対してガス撹拌用
ノズルの浴表面での垂直投影点を中心とした０．２Ｈの
半径を有する円内に、０．１Ｈ以下の深さに円盤底面を
浸すことを特徴とする請求項１又は２に記載の取鍋精錬
における揺動防止方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31621496A JPH10158722A (ja) | 1996-11-27 | 1996-11-27 | 取鍋精錬における揺動防止方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31621496A JPH10158722A (ja) | 1996-11-27 | 1996-11-27 | 取鍋精錬における揺動防止方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10158722A true JPH10158722A (ja) | 1998-06-16 |
Family
ID=18074580
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31621496A Withdrawn JPH10158722A (ja) | 1996-11-27 | 1996-11-27 | 取鍋精錬における揺動防止方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10158722A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111172354A (zh) * | 2020-02-28 | 2020-05-19 | 鞍钢股份有限公司 | 一种微气泡钢液净化装置及净化方法 |
-
1996
- 1996-11-27 JP JP31621496A patent/JPH10158722A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111172354A (zh) * | 2020-02-28 | 2020-05-19 | 鞍钢股份有限公司 | 一种微气泡钢液净化装置及净化方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20040203 |