JPH1015550A - 流体処理装置 - Google Patents

流体処理装置

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JPH1015550A
JPH1015550A JP8178311A JP17831196A JPH1015550A JP H1015550 A JPH1015550 A JP H1015550A JP 8178311 A JP8178311 A JP 8178311A JP 17831196 A JP17831196 A JP 17831196A JP H1015550 A JPH1015550 A JP H1015550A
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arc tube
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Tsutomu Kakiya
勉 垣谷
Ichiro Yokozeki
一郎 横関
Kozo Kamimura
幸三 上村
Akihiro Inoue
昭浩 井上
Kazuhiko Yoshikawa
和彦 吉川
Keisuke Kuga
圭介 空閑
Akihiro Yonezawa
昭弘 米沢
Yoshio Nakayama
芳夫 中山
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 無電極の発光管を用いた流体処理装置におい
て処理能力を高めて大量の流体を均一に処理する。 【解決手段】 複数の発光管1の各々の回りに誘導コイ
ル2が巻回され、また、この複数の発光管1が1本のパ
イプ4内に平行に配置されている。誘導コイル2には1
MHz以上の高周波電力が高周波電源3から印加され、
誘導コイル2からの磁界により発光管1内の放電ガスが
放電、点灯してUV光を発する。パイプ4内には水や有
機溶媒などの流体5が流れ、流体5に対してUV光を曝
露することにより殺菌、高分子化などの処理を行う。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、細長い無電極の発
光管の回りに誘導コイルを配置して発光管から放射され
る紫外線(UV)光により水、汚水、空気などの流体に
対して殺菌等の処理を行う流体処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、この種の装置としては、特開平2
−37660号公報に示すように、軸線に沿う中空部分
を形成しこの中空部分を照射空間とした略円筒状の発光
管と、この発光管の外周に設けられ高周波電圧が印加さ
れるコイルとを備え、発光管の中空部分に処理対象を流
して処理を行う方法(1)が知られている。また、処理
対象が流れる1本のパイプの外側に1以上の無電極又は
有電極の発光管を配置する方法(2)も知られている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記方
法(1)における略円筒状の発光管では、中空部分に照
射されるUV光が外側に照射されるUV光より弱いので
処理能力が低く、大量の流体を均一に処理することがで
きないという問題点がある。また、上記方法(2)も同
様に、発光管から処理対象の方向以外に照射されたUV
光が利用されないので処理能力が低く、大量の流体を均
一に処理することができない。
【0004】本発明は上記従来の問題点に鑑み、処理能
力を高めて大量の流体を均一に処理することができる流
体処理装置を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は上
記目的を達成するために、処理対象の流体を流すための
パイプと、前記パイプ内において平行に配置された複数
の細長い無電極の発光管と、前記複数の発光管の各々の
回りに巻回された複数の誘電コイルと、前記誘電コイル
に対して高周波電圧を印加する高周波電源とを有するこ
とを特徴とする。上記構成により、パイプ内を流れる流
体が複数の発光管から外側に照射されるUV光により処
理されるので、処理能力を高めて大量の流体を均一に処
理することができる。
【0006】請求項2記載の発明は、請求項1記載の流
体処理装置において複数の誘電コイルが直列又は並列に
接続されていることを特徴とする。上記構成により、1
つの高周波電源により複数の発光管を発光させることが
できるので構成を簡略化することができる。
【0007】請求項3記載の発明は、請求項1又は2記
載の流体処理装置において前記発光管が、放電ガスが封
入される発光空間が筒形であって内部の長手方向に空洞
を有するように形成され、前記空洞内に処理対象の流体
を流すことを特徴とする。上記構成により、パイプ内を
流れる流体が複数の発光管から外側と内側の両方に照射
されるUV光により処理されるので、処理能力を高めて
大量の流体を均一に処理することができる。
【0008】請求項4記載の発明は、請求項1乃至3記
載の流体処理装置において前記発光管が、放電ガスが封
入される発光空間が筒形であって内部の長手方向に空洞
を有するように形成され、前記コイルはコアの回りに巻
回された状態で前記空洞内に配置されていることを特徴
とする。上記構成により、誘導コイルと発光管との磁気
誘導結合係数を高めることができるので、ランプ効率を
向上させることができる。
【0009】請求項5記載の発明は、請求項1乃至4記
載の流体処理装置において前記発光管が、外管を有する
2重構造であることを特徴とする。上記構成により、冷
たい流体に対して発光管の効率が低下したり、発光管が
点灯しにくくなることを防止することができる。
【0010】請求項6記載の発明は、請求項1乃至5記
載の流体処理装置において前記発光管の流体が接する面
を紫外線透過フッ素樹脂によりコーティングしたことを
特徴とする。上記構成により、処理対象の流体が発光管
に付着することを防止することができるので、処理能力
が低下することを防止することができる。
【0011】請求項7記載の発明は、請求項1乃至6の
いずれかに記載の流体処理装置において前記発光管の放
射光が到達する範囲の面を光半導体によりコーティング
したことを特徴とする。上記構成により、UV光が光半
導体に当たると光電子が発生して流体内の酸素を活性化
して有機物を分解するので、UV光を更に有効に利用す
ることができる。
【0012】請求項8記載の発明は、請求項1乃至7の
いずれかに記載の流体処理装置において前記発光管の内
面をセラミックによりコーティングしたことを特徴とす
る。上記構成により、発光管の寿命を長くすることがで
きる。
【0013】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を説明する。図1は本発明に係る流体処理装置
の一実施形態を示す構成図、図2は図1の流体処理装置
を示す横断面図である。
【0014】図1及び図2において、複数の細長い発光
管1の各々の内部には放電ガスGが封入され、電極は設
けられていない。なお、放電ガスGとしては例えばUV
光を発光させる場合にはHgと、Ar、Kr、Xe及び
Neの少なくとも1つが封入される。そして、発光管1
の各々の回りに誘導コイル2が巻回され、また、この複
数の発光管1が1本のパイプ4内に平行に配置されてい
る。誘導コイル2には1MHz以上の例えば2MHz帯
や13.56MHzの高周波電力が高周波電源3から印
加され、誘導コイル2からの磁界により発光管1内の放
電ガスが放電、点灯する。パイプ4内には水や有機溶媒
などの流体5が流れ、流体5に対してUV光を曝露する
ことにより殺菌、高分子化などの処理を行う。
【0015】このような構成によれば、発光管1から外
側に放射されたUV光により流体5を曝露するのでUV
光を有効に利用することができ、また、複数の発光管1
を設けたので、簡単な構成で処理能力を高めて大量の流
体を均一に処理することができる。
【0016】ここで、上記構成では複数の誘導コイル2
に対して独立した個々の高周波電源3から電源を供給す
るように構成したが、図3に示す第2の実施形態のよう
に複数の誘導コイル2を直列に接続したり、図4に示す
第3の実施形態のように複数の誘導コイル2を並列に接
続し、1つの高周波電源3から電源を供給するように構
成してもよい。
【0017】また、図5に示す第4の実施形態のように
パイプ4の周囲に電極として一対の導電性金属6を巻き
付け、この一対の導電性金属6に対して複数のコイル2
の両端を並列に接続するようにしてもよい。このような
構成によれば、コイル2を導電性金属6に接続すること
により発光管1をパイプ4内で固定することができる。
【0018】次に、図6を参照して第5の実施形態につ
いて説明する。この第5の実施形態では発光管10の構
成のみが異なり、誘導コイル2、高周波電源3及びパイ
プ4は上記第1〜第4の実施形態と同一である。発光管
10は放電ガスGが封入される発光空間(放電空間)が
筒形であって内部の長手方向に空洞(中空部)10aを
有するように形成されたいわゆる竹輪形で形成されてい
る。より詳細には、空洞10aは外気に導通しており、
表面が筒形の発光管10の内部に放電ガスが封入されて
いる。このような構成によれば、発光管10の外側と空
洞10a内に流体5を流すことにより、発光管10から
外側と内側の両方に放射されたUV光により流体5を曝
露することができるのでUV光を更に有効に利用するこ
とができる。
【0019】また、図7に示す第6の実施形態のように
竹輪形の発光管10の空洞10a内に、カーボニル鉄ダ
ストのコア11の回りに巻回された誘導コイル2を配置
し、コイル2と発光管10との結合係数を高めることに
より、ランプ効率を改善するようにしてもよい。また、
図8に示す第7の実施形態のように発光管1(及び1
0)が冷たい流体5に直接触れると点灯しにくくなるの
で、これを防止するために発光管1(及び10)を外管
12の間に配置し、冷たい流体5に対して間接的に触れ
るようにしてもよい。
【0020】また、図9に示すように発光管1、10の
外面16、すなわち流体5が接触する面にテフロン等の
紫外線透過フッ素樹脂をコーティングすることにより流
体5が付着することを防止することができる(第8の実
施形態)。また、UV光が到達する範囲の外面16にT
iO2 のような光半導体を塗布するようにしてもよく、
この場合には放電ガスGから照射されたUV光がTiO
2 に当たると光電子が発生して流体5内の酸素を活性化
して有機物を分解するので、UV光を更に有効に利用す
ることができる(第9の実施形態)。また、図10に示
すように発光管1、10の内面17、すなわち放電ガス
Gが接触する面に発光管1、10の内面17にセラミッ
クをコーティングすることにより寿命を長くすることが
できる(第10の実施形態)。
【0021】
【発明の効果】以上説明したように請求項1記載の発明
によれば、処理対象の流体を流すためのパイプと、前記
パイプ内において平行に配置された複数の細長い無電極
の発光管と、前記複数の発光管の各々の回りに巻回され
た複数の誘電コイルと、前記誘電コイルに対して高周波
電圧を印加する高周波電源とを有するので、パイプ内を
流れる流体が複数の発光管から外側に照射されるUV光
により処理され、したがって、処理能力を高めて大量の
流体を均一に処理することができる。
【0022】請求項2記載の発明は、複数の誘電コイル
は直列又は並列に接続されているので、1つの高周波電
源により複数の発光管を発光させることができ、したが
って、構成を簡略化することができる。
【0023】請求項3記載の発明は、発光管の空洞内に
処理対象の流体を流すので、パイプ内を流れる流体が複
数の発光管から外側と内側の両方に照射されるUV光に
より処理され、したがって、処理能力を高めて大量の流
体を均一に処理することができる。
【0024】請求項4記載の発明は、コイルがコアに回
りに巻回された状態で発光管の空洞内に配置されている
ので、誘導コイルと発光管との磁気誘導結合係数を高め
ることができ、したがって、ランプ効率を向上させるこ
とができる。
【0025】請求項5記載の発明は、発光管が外管を有
する2重構造であるので、冷たい流体に対して発光管の
効率が低下したり、発光管が点灯しにくくなることを防
止することができる。
【0026】請求項6記載の発明は、発光管の流体が接
する面を紫外線透過フッ素樹脂によりコーティングした
ので、処理対象の流体が発光管に付着することを防止す
ることができ、したがって、処理能力が低下することを
防止することができる。
【0027】請求項7記載の発明は、発光管の放射光が
到達する範囲の面を光半導体によりコーティングしたの
で、UV光が光触媒膜に当たると光電子が発生して流体
内の酸素を活性化して有機物を分解し、したがって、U
V光を更に有効に利用することができる。
【0028】請求項8記載の発明は、発光管の内面をセ
ラミックによりコーティングしたので、発光管の寿命を
長くすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る流体処理装置の一実施形態を示す
構成図である。
【図2】図1の流体処理装置を示す横断面図である。
【図3】第2の実施形態の流体処理装置を示す構成図で
ある。
【図4】第3の実施形態の流体処理装置を示す構成図で
ある。
【図5】第4の実施形態の流体処理装置を示す構成図で
ある。
【図6】第5の実施形態の流体処理装置の発光管を示す
構成図である。
【図7】第6の実施形態の流体処理装置の発光管を示す
構成図である。
【図8】第7の実施形態の流体処理装置の発光管を示す
構成図である。
【図9】第8及び第9の実施形態の流体処理装置の発光
管を示す構成図である。
【図10】第10の実施形態の流体処理装置の発光管を
示す構成図である。
【符号の説明】
G 放電ガス 1,10 発光管 2 誘導コイル 3 高周波電源 4 パイプ 5 流体 6 導電性金属 10a 空洞 11 コア 12 外管 16 外面 17 内面
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 上村 幸三 東京都品川区東品川四丁目3番1号 東芝 ライテック株式会社内 (72)発明者 井上 昭浩 東京都品川区東品川四丁目3番1号 東芝 ライテック株式会社内 (72)発明者 吉川 和彦 東京都品川区東品川四丁目3番1号 東芝 ライテック株式会社内 (72)発明者 空閑 圭介 東京都品川区東品川四丁目3番1号 東芝 ライテック株式会社内 (72)発明者 米沢 昭弘 東京都品川区東品川四丁目3番1号 東芝 ライテック株式会社内 (72)発明者 中山 芳夫 東京都港区芝浦一丁目1番1号 株式会社 東芝本社事務所内

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 処理対象の流体を流すためのパイプと;
    前記パイプ内において平行に配置された複数の細長い無
    電極の発光管と;前記複数の発光管の各々の回りに巻回
    された複数の誘電コイルと;前記誘電コイルに対して高
    周波電圧を印加する高周波電源と;を有する流体処理装
    置。
  2. 【請求項2】 前記複数の誘電コイルは直列又は並列に
    接続されていることを特徴とする請求項1記載の流体処
    理装置。
  3. 【請求項3】 前記発光管は、放電ガスが封入される発
    光空間が筒形であって内部の長手方向に空洞を有するよ
    うに形成され、前記空洞内に処理対象の流体を流すこと
    を特徴とする請求項1又は2記載の流体処理装置。
  4. 【請求項4】 前記発光管は、放電ガスが封入される発
    光空間が筒形であって内部の長手方向に空洞を有するよ
    うに形成され、前記コイルはコアの回りに巻回された状
    態で前記空洞内に配置されていることを特徴とする請求
    項1乃至3のいずれかに記載の流体処理装置。
  5. 【請求項5】 前記発光管は、外管を有する2重構造で
    あることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載
    の流体処理装置。
  6. 【請求項6】 前記発光管の流体が接する面を紫外線透
    過フッ素樹脂によりコーティングしたことを特徴とする
    請求項1乃至5のいずれかに記載の流体処理装置。
  7. 【請求項7】 前記発光管の放射光が到達する範囲の面
    を光半導体によりコーティングしたことを特徴とする請
    求項1乃至6のいずれかに記載の流体処理装置。
  8. 【請求項8】 前記発光管の内面をセラミックによりコ
    ーティングしたことを特徴とする請求項1乃至7のいず
    れかに記載の流体処理装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10269993A (ja) * 1997-03-25 1998-10-09 Toshiba Lighting & Technol Corp 無電極放電ランプユニット、無電極放電ランプ装置および流体処理装置
JP2008186609A (ja) * 2007-01-26 2008-08-14 Matsushita Electric Works Ltd 無電極放電灯装置および照明器具

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH10269993A (ja) * 1997-03-25 1998-10-09 Toshiba Lighting & Technol Corp 無電極放電ランプユニット、無電極放電ランプ装置および流体処理装置
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