JP3533291B2

JP3533291B2 - 流体処理装置

Info

Publication number: JP3533291B2
Application number: JP17831096A
Authority: JP
Inventors: 勉垣谷; 一郎横関; 幸三上村; 昭浩井上; 和彦吉川; 圭介空閑; 昭弘米沢; 芳夫中山
Original assignee: Toshiba Corp; Harison Toshiba Lighting Corp
Current assignee: Toshiba Corp; Toshiba Lighting and Technology Corp
Priority date: 1996-07-08
Filing date: 1996-07-08
Publication date: 2004-05-31
Anticipated expiration: 2016-07-08
Also published as: JPH1015546A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、細長い無電極の発
光管の回りに誘導コイルを配置して発光管から放射され
る紫外線（ＵＶ）光により水、汚水、空気などの流体に
対して殺菌等の処理を行う流体処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、この種の装置としては、特開平２
−３７６６０号公報に示すように、軸線に沿う中空部分
を形成しこの中空部分を照射空間とした略円筒状の発光
管と、この発光管の外周に設けられ高周波電圧が印加さ
れるコイルとを備え、発光管の中空部分に処理対象を流
して処理を行う方法（１）が知られている。また、処理
対象が流れる１本のパイプの外側に１以上の無電極又は
有電極の発光管を配置する方法（２）も知られている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記方
法（１）における略円筒状の発光管では、中空部分に照
射されるＵＶ光が外側に照射されるＵＶ光より弱いので
処理能力が低く、大量の流体を均一に処理することがで
きないという問題点がある。また、上記方法（２）も同
様に、発光管から処理対象の方向以外に照射されたＵＶ
光が利用されないので処理能力が低く、大量の流体を均
一に処理することができない。

【０００４】なお、発光管から照射されるＵＶ光を有効
に利用するためには、処理対象の流体内に発光管を配置
する方法が考えられるが、この場合には発光管の回りに
巻回される誘導コイルを絶縁する手段が必要になる。ま
た、処理能力を高めて大量の流体を均一に処理するため
には上記方法（１）（２）の無電極の発光管を複数個設
ける方法が考えられるが、個々の無電極の発光管に対し
てそれぞれ高周波電源を供給するための電源が必要にな
るという問題点がある。

【０００５】本発明は上記従来の問題点に鑑み、簡単な
構成で処理能力を高めて大量の流体を均一に処理するこ
とができる流体処理装置を提供することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は上
記目的を達成するために、処理対象の流体を流すための
パイプと、前記パイプ内において平行に配置された複数
の細長い無電極の発光管と、前記パイプの回りに巻回さ
れた誘電コイルと、前記誘電コイルに対して高周波電圧
を印加する高周波電源とを有することを特徴とする。上
記構成により、パイプ内を流れる流体が複数の発光管か
ら外側に照射されるＵＶ光により処理されるので処理能
力を高めて大量の流体を均一に処理することができ、ま
た、１つの誘導コイル及び高周波電源により複数の発光
管を発光させることができるので構成を簡略化すること
ができる。

【０００７】請求項２記載の発明は、請求項１記載の流
体処理装置において複数の発光管が前記パイプの横断面
において同心円状に配置されていることを特徴とする。
上記構成により、パイプ内を流れる大量の流体が複数の
発光管により均一に処理される。

【０００８】請求項３記載の発明は、請求項１又は２記
載の流体処理装置において前記発光管が、外管を有する
２重構造であることを特徴とする。上記構成により、冷
たい流体により発光管の効率や始動性が悪化することを
防止することができる。

【０００９】請求項４記載の発明は、請求項１乃至３記
載の流体処理装置において前記誘導コイルから比較的遠
い位置に配置された発光管の表面と前記誘導コイルを電
気的に接続したことを特徴とする。上記構成により、誘
導コイルから比較的遠い位置に配置された発光管の効率
や始動性を向上させることができる。

【００１０】請求項５記載の発明は、請求項１乃至４記
載の流体処理装置において前記誘導コイルのコアとなる
磁性体を、前記誘導コイルの軸上に位置する発光管の表
面に長手方向に沿って設けたことを特徴とする。上記構
成により、誘導コイルと複数の発光管との磁気誘導結合
係数を高めることができるので、ランプ効率や始動性を
向上させることができる。

【００１１】請求項６記載の発明は、請求項１乃至５記
載の流体処理装置において前記発光管が前記パイプ内に
おいて導電性保持部により保持され、前記導電性保持部
と前記誘導コイルを電気的に接続したことを特徴とす
る。上記構成により、誘導コイルから比較的遠い位置に
配置された発光管の効率や始動性を向上させることがで
きる。

【００１２】請求項７記載の発明は、請求項１乃至５記
載の流体処理装置において前記発光管が前記パイプ内に
おいて導電性保持部により保持され、前記導電性保持部
を始動用補助電極と兼用したことを特徴とする。上記構
成により、誘導コイルから比較的遠い位置に配置された
発光管の効率や始動性を安価な構成で向上させることが
できる。

【００１３】請求項８記載の発明は、請求項１乃至７記
載の流体処理装置において前記発光管の放電ガスが封入
される発光空間が筒形であって内部の長手方向に空洞を
有するように形成され、前記空洞内に処理対象の流体を
流すことを特徴とする。上記構成により、パイプ内を流
れる流体が複数の発光管から外側と内側の両方に照射さ
れるＵＶ光により処理されるので、処理能力を高めて大
量の流体を均一に処理することができる。

【００１４】請求項９記載の発明は、処理対象の流体を
流すための複数のパイプと、前記パイプに対して平行に
配置された複数の細長い無電極の発光管と、前記複数の
パイプ及び複数の発光管をまとめた回りに巻回された誘
電コイルと、前記誘電コイルに対して高周波電圧を印加
する高周波電源とを有することを特徴とする。上記構成
により、パイプ内を流れる流体が複数の発光管から外側
に照射されるＵＶ光により処理されるので、処理能力を
高めて大量の流体を均一に処理することができ、また、
１つの誘導コイル及び高周波電源により複数の発光管を
発光させることができるので構成を簡略化することがで
きる。

【００１５】請求項１０記載の発明は、請求項９記載の
流体処理装置において前記発光管は、放電ガスが封入さ
れる発光空間が筒形であって内部の長手方向に空洞を有
するように形成され、前記空洞内に磁性体が配置されて
いることを特徴とする。上記構成により、誘導コイルと
複数の発光管との磁気誘導結合係数を高めることができ
るので、ランプ効率や始動性を向上させることができ
る。

【００１６】請求項１１記載の発明は、請求項９又は１
０記載の流体処理装置において前記複数のパイプ及び複
数の発光管の各々の横断面が多角形で形成されているこ
とを特徴とする。上記構成により、複数のパイプ内を流
れる大量の流体が複数の発光管により均一に処理され
る。

【００１７】請求項１２記載の発明は、請求項９乃至１
１のいずれかに記載の流体処理装置において前記複数の
パイプ及び複数の発光管が隣接するように配置されてい
ることを特徴とする。上記構成により、複数のパイプ内
を流れる大量の流体が複数の発光管により簡単な構成で
均一に処理される。

【００１８】請求項１３記載の発明は、請求項１乃至１
２のいずれかに記載の流体処理装置において前記発光管
の流体が接する面を紫外線透過フッ素樹脂によりコーテ
ィングしたことを特徴とする。上記構成により、処理対
象の流体が発光管に付着することを防止することができ
るので、処理能力が低下することを防止することができ
る。

【００１９】請求項１４記載の発明は、請求項１乃至１
３のいずれかに記載の流体処理装置において前記発光管
の放射光が到達する範囲の面を光半導体によりコーティ
ングしたことを特徴とする。上記構成により、ＵＶ光が
光半導体に当たると光電子が発生して流体内の酸素を活
性化して有機物を分解するので、ＵＶ光を更に有効に利
用することができる。

【００２０】請求項１５記載の発明は、請求項１乃至１
４のいずれかに記載の流体処理装置において前記発光管
の内面をセラミックによりコーティングしたことを特徴
とする。上記構成により、発光管の寿命を長くすること
ができる。

【００２１】請求項１６記載の発明は、請求項９乃至１
５のいずれかに記載の流体処理装置において前記発光管
を構成する管壁と前記パイプを構成する管壁を共通の隔
壁により形成したことを特徴とする。上記構成により、
ＵＶ光の減衰量を少なくすることができるので、処理能
力を高めて大量の流体を均一に処理することができる。

【００２２】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を説明する。図１は本発明に係る流体処理装置
の一実施形態を示す横断面図、図２は図１の流体処理装
置を示す斜視図である。

【００２３】図１及び図２において、複数の細長い発光
管１（１−１〜１−９）の各々の内部には放電ガスＧが
封入され、電極は設けられていない。なお、放電ガスＧ
としては例えばＵＶ光を発光させる場合にはＨｇと、Ａ
ｒ、Ｋｒ、Ｘｅ及びＮｅの少なくとも１つが封入され
る。そして、複数の発光管１が１本のパイプ４内に平行
に配置され、パイプ４の回りに誘導コイル２が巻回され
ている。誘導コイル２には１ＭＨｚ以上の例えば２ＭＨ
ｚ帯や１３．５６ＭＨｚの高周波電力が高周波電源３か
ら印加され、誘導コイル２からの磁界により発光管１内
の放電ガスが放電、点灯する。パイプ４内には水や有機
溶媒などの流体５が流れ、流体５に対してＵＶ光を曝露
することにより殺菌、高分子化などの処理を行う。

【００２４】このような構成によれば、発光管１から外
側に放射されたＵＶ光により流体５を曝露するのでＵＶ
光を有効に利用することができ、また、複数の発光管１
を設けたので、簡単な構成で処理能力を高めて大量の流
体を均一に処理することができる。また、複数の発光管
１を各々１つの誘導コイル２及び高周波電源３により駆
動し、また、誘導コイル２は流体５に接触しないので絶
縁する必要もなく、したがって、簡単な構成で実現する
ことができる。

【００２５】次に、図３及び図４を参照して第２の実施
形態について説明する。この第２の実施形態では発光管
１０の構成のみが異なり、誘導コイル２、高周波電源３
及びパイプ４は第１の実施形態と同一である。発光管１
０は放電ガスＧが封入される発光空間（放電空間）が筒
形であって内部の長手方向に空洞（中空部）１０ａを有
するように形成されたいわゆる竹輪形で形成されてい
る。より詳細には、空洞１０ａは外気に導通しており、
表面が筒形の発光管１０の内部に放電ガスが封入されて
いる。このような構成によれば、発光管１０の放電空間
から外側と内側の両方に放射されたＵＶ光により流体５
を曝露するのでＵＶ光を更に有効に利用することができ
る。

【００２６】また、図５に示す第３の実施形態のように
複数の発光管１、１０を同心円状に配列したり、その間
隔を適宜考慮することにより、パイプ４内を流れる流体
５に対してＵＶ光を効率的に曝露することができる。ま
た、図６に示す第４の実施形態のように複数の発光管
１、１０の各々を外管１１内に収納してパイプ４内に配
置したり、図７に示す第５の実施形態のように複数の発
光管１、１０をまとめて１つの外管１１内に収納してパ
イプ４内に配置することにより、冷たい流体５により発
光管１、１０の効率や始動性が悪化することを防止する
ことができる。

【００２７】また、複数の発光管１、１０の１つをパイ
プ４の軸上すなわち中央に配置し、他を同心円状に配列
すると、コイル２から最も遠い中央の発光管１、１０は
点灯時に点きにくくなって効率や始動性が悪くなること
がある。そこで、図８に示す第６の実施形態のように導
線１２を介してコイル２を中央の発光管１、１０に接続
することにより効率や始動性を向上させることができ
る。

【００２８】また、図９に示す第７の実施形態のように
複数の発光管１、１０を導電性保持部１３により保持
し、この導電性保持部１３とコイル２を導線１２を介し
て電気的に接続することにより効率や始動性を向上させ
ることができる。また、図９において破線（第８の実施
形態）で示すように導電性保持部１３をコイル２ではな
く、専用の始動回路１４に接続し、導電性保持部１３を
始動用補助電極と兼用するようにしてもよい。更に、図
１０（第９の実施形態）に示すようにコイル２のコアと
して、中央の発光管１、１０の外面の長手方向に沿って
例えばカーボニル鉄ダストのような磁性体１４を配設す
ることにより、誘導コイル２と複数の発光管１、１０と
の磁気誘導結合係数を高めることができるので、ランプ
効率や始動性を向上させることができる。

【００２９】また、図１１に示すように発光管１、１０
の外面１６、すなわち流体５が接触する面にテフロン等
の紫外線透過フッ素樹脂をコーティングすることにより
流体５が付着することを防止することができる（第１０
の実施形態）。また、ＵＶ光が到達する範囲の外面１６
にＴｉＯ2 のような光半導体を塗布するようにしてもよ
く、この場合には放電ガスＧから照射されたＵＶ光がＴ
ｉＯ2 に当たると光電子が発生して流体５内の酸素を活
性化して有機物を分解するので、ＵＶ光を更に有効に利
用することができる（第１１の実施形態）。また、図１
２に示すように発光管１、１０の内面１７、すなわち放
電ガスＧが接触する面に発光管１、１０の内面１７にセ
ラミックをコーティングすることにより寿命を長くする
ことができる（第１２の実施形態）。

【００３０】次に、図１３を参照して第１３の実施形態
について説明する。図１３では一例として、中央の発光
管１の回りには６個のパイプ（丸管）４が隣接して配置
され、更にこの６個のパイプ４の回りには同じく６個の
発光管１が隣接して配置されている。なお、外側の発光
管１は１個の発光管１が２個のパイプ４に当接するよう
に配置されている。そして、外側の発光管１の回りには
誘導コイル２が巻回され、誘導コイル２は高周波電源３
に接続されている。このような構成によれば、パイプ４
内を流れる流体５が内側と外側の両方の発光管１からの
ＵＶ光により曝露されるので処理効果を向上させること
ができる。

【００３１】図１４に示す第１４の実施形態では、発光
管１とパイプ４として横断面が正６角形のものが用いら
れている。図１５に示す第１５の実施形態では、発光管
１とパイプ４として横断面が四角形のものが用いられ、
更に発光管１とパイプ４が交互に隣接して配置されてい
る。また、図１６に示す第１６の実施形態では、発光管
１とパイプ４が同心円状に且つが交互に隣接して配置さ
れている。

【００３２】図１７に示す第１７の実施形態は図１３に
示す第１３の実施形態の変形例であり、発光管として放
電空間が筒形（竹輪形）の放電管１０が用いられ、更に
放電管１０の空洞１０ａ内に例えばカーボニル鉄ダスト
のコア１８を配置して発光管１０とコイル２との結合係
数を高めることにより、ランプ効率を改善するようにし
ている。また、発光管１、１０を構成する管壁とパイプ
４を構成する管壁を共通の隔壁により形成することによ
り、ＵＶ光の減衰量を少なくすることができるので、処
理能力を高めて大量の流体を均一に処理することができ
る。

【００３３】

【発明の効果】以上説明したように請求項１記載の発明
によれば、処理対象の流体を流すためのパイプと、前記
パイプ内において平行に配置された複数の細長い無電極
の発光管と、前記パイプの回りに巻回された誘電コイル
と、前記誘電コイルに対して高周波電圧を印加する高周
波電源とを有するので、パイプ内を流れる流体が複数の
発光管から外側に照射されるＵＶ光により処理され、し
たがって、処理能力を高めて大量の流体を均一に処理す
ることができ、また、１つの誘導コイル及び高周波電源
により複数の発光管を発光させることができるので構成
を簡略化することができる。

【００３４】請求項２記載の発明は、複数の発光管がパ
イプの横断面において同心円状に配置されているので、
パイプ内を流れる大量の流体を簡単な構成で均一に処理
することができる。

【００３５】請求項３記載の発明は、発光管が外管を有
する２重構造であるので、流体の温度によらず発光管の
効率及び始動性を向上することができる。

【００３６】請求項４記載の発明は、誘導コイルから比
較的遠い位置に配置された発光管の表面と誘導コイルを
電気的に接続したので、誘導コイルから比較的遠い位置
に配置された発光管の効率や始動性を向上させることが
できる。

【００３７】請求項５記載の発明は、誘導コイルのコア
となる磁性体を、前記誘導コイルの軸上に位置する発光
管の表面に長手方向に沿って設けたので、誘導コイルと
複数の発光管との磁気誘導結合係数を高めることがで
き、したがって、ランプ効率や始動性を向上させること
ができる。

【００３８】請求項６記載の発明は、発光管がパイプ内
において導電性保持部により保持され、導電性保持部と
誘導コイルを電気的に接続したので、誘導コイルから比
較的遠い位置に配置された発光管の効率や始動性を向上
させることができる。

【００３９】請求項７記載の発明は、発光管がパイプ内
において導電性保持部により保持され、導電性保持部を
始動用補助電極と兼用したので、誘導コイルから比較的
遠い位置に配置された発光管の効率や始動性を安価な構
成で向上させることができる。

【００４０】請求項８記載の発明は、発光管の空洞内に
処理対象の流体を流すので、パイプ内を流れる流体が複
数の発光管から外側と内側の両方に照射されるＵＶ光に
より処理され、したがって、処理能力を高めて大量の流
体を均一に処理することができる。

【００４１】請求項９記載の発明は、処理対象の流体を
流すための複数のパイプと、前記パイプに対して平行に
配置された複数の細長い無電極の発光管と、前記複数の
パイプ及び複数の発光管をまとめた回りに巻回された誘
電コイルと、前記誘電コイルに対して高周波電圧を印加
する高周波電源とを有するので、パイプ内を流れる流体
が複数の発光管から外側に照射されるＵＶ光により処理
され、したがって、処理能力を高めて大量の流体を均一
に処理することができ、また、１つの誘導コイル及び高
周波電源により複数の発光管を発光させることができる
ので構成を簡略化することができる。平成１５年７月７
日出願人名義変更届提出済

【００４２】請求項１０記載の発明は、発光管の空洞内
に磁性体が配置されているので、誘導コイルと複数の発
光管との磁気誘導結合係数を高めることができ、したが
って、ランプ効率や始動性を向上させることができる。

【００４３】請求項１１記載の発明は、複数のパイプ及
び複数の発光管の各々の横断面が多角形で形成されてい
るので、複数のパイプ内を流れる大量の流体を簡単な構
成で均一に処理することができる。

【００４４】請求項１２記載の発明は、複数のパイプ及
び発光管が隣接するように配置されているので、複数の
パイプ内を流れる大量の流体を簡単な構成で均一に処理
することができる。

【００４５】請求項１３記載の発明は、発光管の流体が
接する面を紫外線透過フッ素樹脂によりコーティングし
たので、処理対象の流体が発光管に付着することを防止
することができ、したがって、処理能力が低下すること
を防止することができる。

【００４６】請求項１４記載の発明は、発光管の放射光
が到達する範囲の面を光半導体によりコーティングした
ので、ＵＶ光が光触媒膜に当たると光電子が発生して流
体内の酸素を活性化して有機物を分解し、したがって、
ＵＶ光を更に有効に利用することができる。

【００４７】請求項１５記載の発明は、発光管の内面を
セラミックによりコーティングしたので、発光管の寿命
を長くすることができる。

【００４８】請求項１６記載の発明は、発光管を構成す
る管壁とパイプを構成する管壁を共通の隔壁により形成
したので、ＵＶ光の減衰量を少なくすることができ、し
たがって、処理能力を高めて大量の流体を均一に処理す
ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る流体処理装置の一実施形態を示す
横断面図である。

【図２】図１の流体処理装置を示す斜視図である。

【図３】第２の実施形態の流体処理装置を示す横断面図
である。

【図４】図３の発光管を示す斜視図である。

【図５】第３の実施形態の流体処理装置を示す横断面図
である。

【図６】第４の実施形態の流体処理装置を示す横断面図
である。

【図７】第５の実施形態の流体処理装置を示す横断面図
である。

【図８】第６の実施形態の流体処理装置を示す横断面図
である。

【図９】第７及び第８の実施形態の流体処理装置を示す
横断面図である。

【図１０】第９の実施形態の流体処理装置を示す構成図
である。

【図１１】第１０及び第１１の実施形態の流体処理装置
を示す横断面図である。

【図１２】第１２の実施形態の流体処理装置を示す横断
面図である。

【図１３】第１３の実施形態の流体処理装置を示す横断
面図である。

【図１４】第１４の実施形態の流体処理装置を示す横断
面図である。

【図１５】第１５の実施形態の流体処理装置を示す横断
面図である。

【図１６】第１６の実施形態の流体処理装置を示す横断
面図である。

【図１７】第１７の実施形態の流体処理装置を示す横断
面図である。

【符号の説明】

Ｇ放電ガス１，１０発光管２誘導コイル３高周波電源４パイプ５流体１０ａ空洞１１外管１２導線１３導電性保持部１４始動回路１５磁性体１６外面１７内面１８コア

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者上村幸三東京都品川区東品川四丁目３番１号東芝ライテック株式会社内 (72)発明者井上昭浩東京都品川区東品川四丁目３番１号東芝ライテック株式会社内 (72)発明者吉川和彦東京都品川区東品川四丁目３番１号東芝ライテック株式会社内 (72)発明者空閑圭介東京都品川区東品川四丁目３番１号東芝ライテック株式会社内 (72)発明者米沢昭弘東京都品川区東品川四丁目３番１号東芝ライテック株式会社内 (72)発明者中山芳夫東京都港区芝浦一丁目１番１号株式会社東芝本社事務所内 (56)参考文献特開昭50−66952（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C02F 1/30 - 1/32 B01J 19/00 H01J 65/04

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】処理対象の流体を流すためのパイプと；
前記パイプ内において平行に配置された複数の細長い無
電極の発光管と；前記パイプの回りに巻回された誘電コ
イルと；前記誘電コイルに対して高周波電圧を印加する
高周波電源と；を有する流体処理装置。
【請求項２】前記複数の発光管は、前記パイプの横断
面において同心円状に配置されていることを特徴とする
請求項１記載の流体処理装置。
【請求項３】前記発光管は、外管を有する２重構造で
あることを特徴とする請求項１又は２記載の流体処理装
置。
【請求項４】前記誘導コイルから比較的遠い位置に配
置された発光管の表面と前記誘導コイルを電気的に接続
したことを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載
の流体処理装置。
【請求項５】前記誘導コイルのコアとなる磁性体を、
前記誘導コイルの軸上に位置する発光管の表面に長手方
向に沿って設けたことを特徴とする請求項１乃至４のい
ずれかに記載の流体処理装置。
【請求項６】前記発光管は、前記パイプ内において導
電性保持部により保持され、前記導電性保持部と前記誘
導コイルを電気的に接続したことを特徴とする請求項１
乃至５のいずれかに記載の流体処理装置。
【請求項７】前記発光管は、前記パイプ内において導
電性保持部により保持され、前記導電性保持部を始動用
補助電極と兼用したことを特徴とする請求項１乃至５の
いずれかに記載の流体処理装置。
【請求項８】前記発光管は、放電ガスが封入される発
光空間が筒形であって内部の長手方向に空洞を有するよ
うに形成され、前記空洞内に処理対象の流体を流すこと
を特徴とする請求項１乃至７のいずれかに記載の流体処
理装置。
【請求項９】処理対象の流体を流すための複数のパイ
プと；前記パイプに対して平行に配置された複数の細長い無電
極の発光管；前記複数のパイプ及び複数の発光管をまとめた回りに巻
回された誘電コイルと；前記誘電コイルに対して高周波電圧を印加する高周波電
源と；を有する流体処理装置。
【請求項１０】前記発光管は、放電ガスが封入される
発光空間が筒形であって内部の長手方向に空洞を有する
ように形成され、前記空洞内に磁性体が配置されている
ことを特徴とする請求項９記載の流体処理装置。
【請求項１１】前記複数のパイプ及び複数の発光管の
各々の横断面が多角形で形成されていることを特徴とす
る請求項９又は１０記載の流体処理装置。
【請求項１２】前記複数のパイプ及び複数の発光管が
隣接するように配置されていることを特徴とする請求項
９乃至１１のいずれかに記載の流体処理装置。
【請求項１３】前記発光管の流体が接する面を紫外線
透過フッ素樹脂によりコーティングしたことを特徴とす
る請求項１乃至１２のいずれかに記載の流体処理装置。
【請求項１４】前記発光管の放射光が到達する範囲の
面を光半導体によりコーティングしたことを特徴とする
請求項１乃至１３のいずれかに記載の流体処理装置。
【請求項１５】前記発光管の内面をセラミックにより
コーティングしたことを特徴とする請求項１乃至１４の
いずれかに記載の流体処理装置。
【請求項１６】前記発光管を構成する管壁と前記パイ
プを構成する管壁を共通の隔壁により形成したことを特
徴とする請求項９乃至１５のいずれかに記載の流体処理
装置。