JP2004253200A - エキシマランプ及びエキシマランプ照射装置 - Google Patents

エキシマランプ及びエキシマランプ照射装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2004253200A
JP2004253200A JP2003040672A JP2003040672A JP2004253200A JP 2004253200 A JP2004253200 A JP 2004253200A JP 2003040672 A JP2003040672 A JP 2003040672A JP 2003040672 A JP2003040672 A JP 2003040672A JP 2004253200 A JP2004253200 A JP 2004253200A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
excimer lamp
power supply
frequency power
discharge
excimer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2003040672A
Other languages
English (en)
Inventor
Minoru Matsumoto
稔 松本
Takenobu Iida
武伸 飯田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Iwasaki Denki KK
Original Assignee
Iwasaki Denki KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Iwasaki Denki KK filed Critical Iwasaki Denki KK
Priority to JP2003040672A priority Critical patent/JP2004253200A/ja
Publication of JP2004253200A publication Critical patent/JP2004253200A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

【課題】高周波放電(RF放電)を使用して放電させるエキシマランプであって、ランプに入力する高周波電力を増大させてもアーク放電に移行することなしに非常に強いエキシマ発光出力が維持され、かつ長寿命なエキシマランプを提供する。また、そのようなエキシマランプを搭載した照射装置であって、高い出力電圧の高周波電源(RF電源)を必要としないエキシマランプ照射装置を提供する。
【解決手段】内部に60〜200kPa程度の希ガスを充填した放電容器と一対の外部電極を具備し、周波数1〜100MHzの高周波電源(RF電源)を使用して放電させるエキシマランプにおいて、前記一対の外部電極を共に、線状または点状に構成する。また、そのようなエキシマランプを搭載した照射装置において、エキシマランプと前記高周波電源との間に直列にチョークコイルを入れて共振回路を構成する。
【選択図】 図2

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光化学反応を利用した処理(例えば、フロンガス、各種の廃ガスの処理、あるいは上水、下水、各種の工場廃水の処理、あるいは洗浄)、または太陽電池に使用される水素化アモルファスシリコンの薄膜等の製造における光化学反応用の光源に関する。
【0002】
特に、高周波放電、別名、無線周波放電(RF放電)を利用した無電極電界放電によるエキシマランプにおいてその点灯回路の高出力化を図ったエキシマランプ、及びそのようなエキシマランプを搭載したエキシマランプ照射装置に関するものである。
【0003】
【従来の技術】
内部に放電ガスを封入した容器の外側に配置した電極に高周波電力を供給してそのガスを放電させる静電結合型放電(いわゆるE放電)を利用した無電極放電ランプについては既に知られていて、例えば参考文献1に記載されている。また、放電容器にエキシマ分子を形成する放電ガスを充填し、このエキシマ分子から放射される光を取り出すエキシマランプについては、例えば参考文献2に記載がある。
【0004】
【参考文献1】
東方、四宮:無電極放電ランプの技術動向、照明学会誌、第77巻、第5号、p.20〜25(1993年)。
【0005】
【参考文献2】
特開平7−142037号。
【0006】
しかし、従来のエキシマランプにおいては、例えば参考文献3にも記載されているように発光出力(放射照度)が約10mW/cm程度ないしそれ以下であって十分な強度ではなく、洗浄等の処理速度、および光CVDの生成の点で問題があった。ところが、ランプに入力する高周波電力(RF電力)を増大させていくと、霧状(ランプ放電容器内に一様に広がる)のグロー放電がピンチ効果(電流が流れることにより発生する磁場により自らの放電路が狭められる現象)により収束し、放電路の電気抵抗が減少し、アーク放電となり、エキシマランプの発光状態が変化し、可視光成分、および紫外光の長波長成分(UVA,UVB成分)が増大し、必要とするエキシマ光成分(紫外光短波長成分)が減少してしまうという欠点があった。また、高周波電力がアークの発生点に集中することにより、ランプ容器が破損するという欠点もあった。
【0007】
【参考文献3】
ウシオ電機株式会社 技術資料「エキシマ光照射装置」(1998年)。
【0008】
また、図3の等価回路で表現されるエキシマランプ照射装置で、ランプに入力する高周波電力(RF電力)を増大させるためには、高周波電源(RF電源)の出力電圧を増大させる必要がある。そのためには、変成器(トランス)の二次側の巻き数を増やす必要があるが、そのことにより、二次側の巻き線間の浮遊容量も増加するので、高い周波数で、高電圧の高出力を得ることが可能な変成器の製作が困難であるという欠点もあった。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の一つの目的は、ランプに入力する高周波電力を増大させてもアーク放電に移行することなしに非常に強い発光出力が維持され、かつ長寿命なエキシマランプを提供することである。また、もう一つの目的は、そのようなエキシマランプを搭載した照射装置であって、高い出力電圧の高周波電源(RF電源)を必要としない照射装置を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、本発明は次の構成とする。すなわち、請求項1記載のエキシマランプは、内部に60〜200kPa程度の希ガスを充填した放電容器と一対の外部電極を具備し、周波数1〜100MHzの高周波電源(RF電源)を使用して放電させるエキシマランプにおいて、前記一対の外部電極はともに線状または点状に構成したことを特徴とする。
【0011】
請求項2記載のエキシマランプは、内部に60〜200kPa程度の希ガスを充填した放電容器と一対の外部電極を具備し、周波数1〜100MHzの高周波電源(RF電源)を使用して放電させるエキシマランプにおいて、前記一対の外部電極のうちいずれか一方を金属箔とし、前記金属箔の前記放電容器に面する側の面全体に、線状または点状の凸部を配置したことを特徴とする。
【0012】
請求項3記載のエキシマランプ照射装置は、高周波電源(RF電源)を用いて動作させるエキシマランプ照射装置において、エキシマランプと前記高周波電源との間に直列にチョークコイルLを入れ、外部電極とプラズマ間の静電容量C1とC2の直列接続による合成静電容量CとチョークコイルLとで直列共振回路を構成させたことを特徴とする。
【0013】
請求項4記載のエキシマランプ照射装置は、請求項3記載のエキシマランプ照射装置において、前記チョークコイルLと前記エキシマランプの外部電極との間の配線ケーブルの長さを30cm以内とし、前記配線ケーブルを照射器のケースから1cm以上離したことを特徴とする。
【0014】
【発明の実施の形態】
次に、実施の形態について説明する。エキシマランプからのエキシマ光を増大させるためには、単にランプに入力する高周波電力を増大させるだけでなく、エキシマ光を放射するエキシマ分子の数を増やす必要がある。すなわち、ランプ内の希ガスの圧力を増大させる必要がある。具体的には、希ガスを60〜200kPa程度充填する。また、同時に、ランプ内の希ガスの圧力を増大させることにより、アーク放電が発生し易くなるので、グロー放電からアーク放電に移行しにくい外部電極の構造にする必要がある。
【0015】
図1に示される代表的な中空円筒形状のエキシマランプを例にして、アーク放電に移行しにくい外部電極の構造とはどのような構造かについて説明する。
【0016】
もし外部電極が面状で、凹凸がなくてなめらかな形状の場合、その電極と最も近接した放電容器内でプラズマが高密度に生成し、一カ所に集中し、電流密度が大きくなってアーク放電が発生する。60kPa以上の圧力下でのアーク放電は熱プラズマに転換し易く、多量の高周波電力を消費し、放電容器を破壊するという可能性がある。さらに、アーク放電では、エキシマ光が発生しないという問題点もある。
【0017】
アーク放電の発生を防ぎ、グロー放電を維持するための解決策の一つは、外部電極に近接した放電容器内でプラズマが高密度に生成しないように、外部電極による単位面積当たりの静電容量を少なくする必要がある。そこで、外部電極を面ではなく、線または点の形状で構成する。本発明によるエキシマランプの軸方向の概略断面図を図2に示す。
【0018】
さらに、もう一つのアーク放電の発生を防ぐ手段は、外部電極の表面全体に、凹凸を形成することである。外部電極の凸部分では電界が集中して強くなるが、放電は外部電極の表面全体で起こり、分散化するので、一カ所にアーク放電が集中するという現象が発生しにくくなるという利点がある。具体的には、面状の金属外部電極にネット状の金属網をかぶせるのが有効である。このネット状の金属網は、面状の金属外部電極の放電容器に面する側の面に配置する。ネットの網目間隔は、1mm〜5mm程度がよい。
【0019】
図3は、内側の外部電極として金属箔に金属網をかぶせた構造の電極を配置し、外側の外部電極として金属網を配置した、本発明によるエキシマランプの軸方向の概略断面図であって、外側にエキシマ光を取り出し、主に板状の固体の処理を行なうのに用いるエキシマランプの構造を示している。
【0020】
図4は、外側の外部電極として金属箔に金属網をかぶせた構造の電極を配置し、内側の外部電極として金属網を配置した、本発明によるエキシマランプの軸方向の概略断面図であって、ランプの内側(中空部)にエキシマ光を取り出し、主にこの中空部に流体を通過させて処理を行なうのに用いるエキシマランプの構造を示している。
【0021】
図6の等価回路で表現される従来のエキシマランプで、入力する高周波電力を増大させていくと、ランプの外部電極とプラズマ間の静電容量(コンデンサー,C1,C2)の影響、すなわち、図8のベクトル図の小容量のコンデンサー(C1とC2の直列接続による合成静電容量をCとする)による電圧降下VCが大きくなり、高周波電力が入りにくくなる。このことは、高い出力電圧(実効値で2〜3kV)の高周波電源(RF電源)必要とすることになり、高周波電源(RF電源)の設計および製造が困難となる。
【0022】
これを解決するためには、図7のベクトル図のように、ランプの外部電極とプラズマ間の静電容量(コンデンサー,C1,C2)による電圧降下VCをうち消すために、図4のようにエキシマランプと高周波電源(RF電源)との間に直列にチョークコイルLを入れる必要がある。図7のベクトル図では、コイルにより発生する電圧VLによりVCをうち消すことが可能となる。これは、C1とC2の直列接続による合成静電容量CとLとで直列共振回路を構成させることでもある。このことにより、高周波電源(RF電源)の出力電圧を増大させる必要がなくなり、実効値で0.5〜1.0kVの高周波電源でよく、高周波電源(RF電源)の製造が容易となる。
【0023】
図5の等価回路で追加コイルとランプの外部電極間の電圧はVoscのQ倍(直列共振回路のリアクタンス成分と抵抗成分の比)の高電圧であり、周波数も高く空間への放射強度も強いので、照射器のケースから1cm以上離す必要がある。また、追加コイル(チョークコイルL)とランプの外部電極間の配線のケーブルの長さは、周波数高く、かつ高電圧であり、減衰が非常に激しいので30cm以内とする必要がある。
【0024】
【実施例】
本発明のエキシマランプの実施例として、図1のような同軸円筒型無電極E(電界)放電エキシマランプを示す。1は放電容器で、全長約300mmの石英ガラス製で、外側管の外径約35mm、肉厚1.5mm、内管の内径約16mm、肉厚1.0mm、同軸に配置して中空円筒状にしたものである。放電容器に希ガスであるキセノンガスを80kPa充填し、点灯周波数2.65MHzの正弦波で点灯したところ、ランプ入力電力300Wのとき、ランプから20mm離れた位置における真空紫外線の強度は約70mW/cmの高出力を記録した。
【0025】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、電極間で一ヶ所に放電が集中しないので、アークに移行することがなく、従って高出力のエキシマ光を照射でき、かつランプ容器の破損の恐れがない、長寿命のエキシマランプを提供できる。また、本発明によれば、高い出力電圧の高周波電源(RF電源)を必要としないので、比較的安価なエキシマランプ照射装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るエキシマランプの外観図。
【図2】内側および外側外部電極としていずれもメッシュ状の金属線で構成された電極を配置した、本発明に係るエキシマランプの軸方向の概略断面図。
【図3】内側外部電極として金属箔に金属網をかぶせた構造の電極を配置した、本発明に係るエキシマランプの軸方向の概略断面図。
【図4】外側外部電極として金属箔に金属網をかぶせた構造の電極を配置した、本発明に係るエキシマランプの軸方向の概略断面図。
【図5】本発明のエキシマランプと高周波電源(RF電源)との接続方法を示す等価回路図。
【図6】従来のエキシマランプと高周波電源(RF電源)との接続方法を示す等価回路図。
【図7】本発明のエキシマランプと高周波電源(RF電源)との電圧の位相関係を示すベクトル図。
【図8】従来のエキシマランプと高周波電源(RF電源)との電圧の位相関係を示すベクトル図。
【符号の説明】
1… 放電ガスを充填した中空円筒状の放電容器。
2… メッシュ状の金属線で構成された外側外部電極。
3… メッシュ状の金属線で構成された内側外部電極。
4… 高周波電源(RF電源)。
5… 外側の外部電極とプラズマ間の静電容量。
6… 内側の外部電極とプラズマ間の静電容量。
7… 放電プラズマの等価的電気抵抗。
8… 本発明のエキシマランプと高周波電源(RF電源)との間に直列に挿入されたチョークコイル。
9… 金属箔に金属網をかぶせた構造の内側外部電極。
10… 金属箔に金属網をかぶせた構造の外側外部電極。

Claims (4)

  1. 内部に60〜200kPa程度の希ガスを充填した放電容器と一対の外部電極を具備し、周波数1〜100MHzの高周波電源(RF電源)を使用して放電させるエキシマランプにおいて、前記一対の外部電極はともに線状または点状に構成したことを特徴とするエキシマランプ。
  2. 内部に60〜200kPa程度の希ガスを充填した放電容器と一対の外部電極を具備し、周波数1〜100MHzの高周波電源(RF電源)を使用して放電させるエキシマランプにおいて、前記一対の外部電極のうちいずれか一方を金属箔とし、前記金属箔の前記放電容器に面する側の面全体に、線状または点状の凸部を配置したことを特徴とするエキシマランプ。
  3. 高周波電源(RF電源)を用いて動作させるエキシマランプ照射装置において、エキシマランプと前記高周波電源との間に直列にチョークコイルLを入れ、外部電極とプラズマ間の静電容量C1とC2の直列接続による合成静電容量CとチョークコイルLとで直列共振回路を構成させたことを特徴とするエキシマランプ照射装置。
  4. 高周波電源(RF電源)を用いて動作させるエキシマランプ照射装置において、前記チョークコイルLと前記エキシマランプの外部電極との間の配線ケーブルの長さを30cm以内とし、前記配線ケーブルを照射器のケースから1cm以上離したことを特徴とする、請求項3記載のエキシマランプ照射装置。
JP2003040672A 2003-02-19 2003-02-19 エキシマランプ及びエキシマランプ照射装置 Pending JP2004253200A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003040672A JP2004253200A (ja) 2003-02-19 2003-02-19 エキシマランプ及びエキシマランプ照射装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003040672A JP2004253200A (ja) 2003-02-19 2003-02-19 エキシマランプ及びエキシマランプ照射装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2004253200A true JP2004253200A (ja) 2004-09-09

Family

ID=33024470

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003040672A Pending JP2004253200A (ja) 2003-02-19 2003-02-19 エキシマランプ及びエキシマランプ照射装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2004253200A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009510709A (ja) * 2005-10-04 2009-03-12 トパンガ テクノロジーズ,インク 外部共振器/キャビティ無電極プラズマランプおよび無線周波数エネルギーで励起する方法
JP2017120699A (ja) * 2015-12-28 2017-07-06 ウシオ電機株式会社 高周波用導線および高周波点灯型光源装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009510709A (ja) * 2005-10-04 2009-03-12 トパンガ テクノロジーズ,インク 外部共振器/キャビティ無電極プラズマランプおよび無線周波数エネルギーで励起する方法
JP2017120699A (ja) * 2015-12-28 2017-07-06 ウシオ電機株式会社 高周波用導線および高周波点灯型光源装置
CN107062168A (zh) * 2015-12-28 2017-08-18 优志旺电机株式会社 高频用导线以及高频点亮型光源装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7800289B2 (en) Electrodeless gas discharge lamp
KR19990013744A (ko) 자기 간섭을 억제하기 위한 보상 루프를 가지는 무전극 램프
JP2716306B2 (ja) 高周波蛍光システム
JPS61208743A (ja) 紫外線処理装置
JP2004253200A (ja) エキシマランプ及びエキシマランプ照射装置
TWI451472B (zh) Ultraviolet radiation device
RU2236060C1 (ru) Газоразрядный источник ультрафиолетового излучения
JP2007080705A (ja) マイクロ波放電ランプおよび当該マイクロ波放電ランプを備えたマイクロ波放電光源装置
JP2775698B2 (ja) 誘電体バリヤ放電ランプ装置
TWI264037B (en) Dielectric barrier discharge lamp, and ultraviolet-ray irradiation device
US9334177B1 (en) Coreless transformer UV light source system
JP3637697B2 (ja) 紫外線ランプおよびその点灯装置
Golovitskiı̆ Low-pressure inductive rf discharge in a rare gas-halogen mixture for economical mercury-free luminescence light sources.
RU2390498C2 (ru) Установка для обеззараживания воды ультрафиолетовым излучением
JPH10241635A (ja) 無電極放電ランプ、無電極放電ランプ装置、無電極放電ランプ点灯装置及び流体処理装置
JP3660057B2 (ja) 流体処理装置
JP3078810B1 (ja) 励起原子酸素発生装置
JP2001155687A (ja) 誘電体バリヤ放電ランプ装置,誘電体バリヤ放電ランプ点灯装置および紫外線照射装置
JP3910666B2 (ja) 無電極放電ランプ、無電極放電ランプ点灯装置、照明装置及び液体処理装置
JPH1012195A (ja) 無電極ランプ、無電極ランプ点灯装置及び紫外線照射装置
JPH1050269A (ja) 無電極放電ランプ、無電極放電ランプ装置、無電極放電ランプ点灯装置及び流体処理装置
JP2002313599A (ja) プラズマ処理装置及びプラズマ点灯方法
JP2004146077A (ja) 紫外線照射装置
JP4389682B2 (ja) エキシマ放電ランプ装置
JPH1015546A (ja) 流体処理装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060106

A977 Report on retrieval

Effective date: 20070221

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

A131 Notification of reasons for refusal

Effective date: 20070228

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

A521 Written amendment

Effective date: 20070416

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

A521 Written amendment

Effective date: 20070426

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

A131 Notification of reasons for refusal

Effective date: 20081020

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

A02 Decision of refusal

Effective date: 20090302

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02