JPH1015400A - 気相フッ素化用触媒の再生方法 - Google Patents

気相フッ素化用触媒の再生方法

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JPH1015400A
JPH1015400A JP9076054A JP7605497A JPH1015400A JP H1015400 A JPH1015400 A JP H1015400A JP 9076054 A JP9076054 A JP 9076054A JP 7605497 A JP7605497 A JP 7605497A JP H1015400 A JPH1015400 A JP H1015400A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 実質的に発熱を伴うことなく、気相フッ素化
用触媒を再生させる方法の提供。 【解決手段】 使用済触媒を250℃から450℃の範
囲内の温度で塩素とフッ化水素とで処理する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、フッ素化によるヒ
ドロハロアルカンの合成に係わる。特に、本発明は、H
Fと塩素との流れによって使用済の触媒を処理すること
を含む気相フッ素化用触媒の再生ほうほうに係わる。
【0002】
【従来の技術】クロロフルオロカーボン(CFC)の代
替物に対する広範な研究の中で、ヒドロハロアルカンの
合成に関する研究が特に注目されている。ヒドロハロア
ルカンの合成の幾つかの段階を、不均一系気相触媒を使
用して、フッ化水素によるフッ素化によって行うことが
可能である。この目的のために様々なフッ素化触媒が開
発されており、文献にも記述されている。
【0003】水素原子を含むハロゲン化合物をフッ素化
して合成することは、過ハロゲン化分子(CFC)の合
成よりも複雑であることが既に知られている。事実、こ
の水素化合物(原料、反応中間体、又は、最終生成物)
は、過ハロゲン化化合物よりも脆く、水素原子が存在す
るために脱ハロゲン化水素反応が生じ、分解され易く且
つ触媒を汚損し易いオレフィンを発生させる可能性があ
る。更に、水素原子も有する炭素含有基上の塩素をフッ
素で置換することは困難であり、多くの場合、この置換
は過酷な操作条件下で行わなければならず、触媒が更に
急速に失活する結果となる。
【0004】こうした困難さを明瞭に示す例として、文
献中によく記述されているF133a(CF3 −CH2
Cl)からF134a(CF3 −CH2 F)へのフッ素
化が挙げられる。この場合、F133aの脱フッ化水素
により、F1122(CF2=CHCl)が生じ、この
F1122は、触媒汚損をもたらす「コークス(cok
es)」の前駆物質の1つである。更に、このCl/F
置換は困難であり、熱力学的に不利である。従って、こ
の置換は比較的高い温度(>300℃)を必要とし、こ
のことは上記コークス化を加速し、触媒構造の変化(結
晶化等)に起因する失活の危険性を生じさせる。基本的
により容易な他のフッ素化反応は、ハロゲン化オレフィ
ン(C2 HCl3 、C2 Cl4 等)のフッ素化、又は、
熱分解し易い化合物(F30等)のフッ素化に基づいて
いる。従って、こうしたフッ素化反応もコークス化の危
険性を生じさせる。
【0005】術語「コークス」は、触媒上に付着した本
来のコークスだけでなく、触媒を汚損し且つハロゲン化
ポリマーの化学式に類似した化学式を有する重質有機物
質も意味すると理解されたい。こうした有機物質は、反
応体の分解や気相フッ素化条件での反応生成物の分解に
よって生じる。
【0006】フッ素化触媒の耐久性を改善するために、
フッ化触媒活性の再生又は維持のための様々な方法が多
くの文献に記載されている。例えば、日本特許出願第1
262946/89号は、酸素の存在下での処理によ
る、有機物質の不在下での、クロムを主成分とするフッ
素化触媒の再生を開示している。
【0007】EP 475 693号も、クロムを主成
分とする触媒の再生方法を開示しているが、この場合に
は、300℃から500℃の範囲内の温度で、含酸素酸
化剤とHFとの混合物(更に明確には、空気/HF混合
物)を用いて処理している。米国特許第5 407 8
77号は、同様に、水蒸気の存在下での上記触媒の再生
を開示している。
【0008】クロムを主成分とする触媒の活性を維持す
るために、不均化反応中に塩素を連続的に添加すること
(HFは存在せず)が、日本特許出願49−13461
2/74号に開示されている。
【0009】最後に、H1129(米国法定発明登録)
は、クロムを主成分とする触媒の触媒活性を維持するた
めに、F133aのフッ素化の際に塩素を連続添加する
ことを開示している。
【0010】しかし、これらの方法は、完全に満足でき
るものとは言えない。実際、「コークス」を燃焼させる
ことによる酸素の存在下での再生方法では、触媒にとっ
て有害である触媒床内の高温スポットの発生を防ぐため
に、再生中発熱を完全に制御することが必要である。
【0011】恐らくはヒドロフルオロアルカン又はヒド
ロクロロフルオロアルカンの合成中における触媒の寿命
を改善するために塩素を連続添加すると、有機生成物が
塩素化(塩素原子による水素原子の置換)されるが、適
正な生成物に対する選択性が低下し、従って、収率も低
下する。
【0012】
【発明が解決しようとする課題と課題を解決するための
手段】上記の欠点を持たない、失活したフッ素化触媒の
再生方法が、現在発見された。塩素とフッ化水素とで失
活触媒を処理することに基づく本発明方法は、触媒の活
性を回復できるだけでなく、工業用に実用化することも
容易であり、これに加えて、発熱が非常に少ないので、
触媒の不可逆的な結晶化を防ぐこともできる。実際に
は、HFと有機生成物とを脱着済みの触媒の上に反応体
を導入してから最初の数分間の反応体の吸着熱を別にす
れば、Cl2 /HF混合物を使用する再生は実際上発熱
を伴わず、「コークス」を(酸素の存在下で)燃焼させ
ることによる触媒再生とは対照的に、再生中の発熱を完
全に制御する必要がない。
【0013】従って、本発明の主題は、250℃から4
50℃の範囲内の温度で、随意に不活性物質の存在下
で、失活した触媒をCl2 とHFとで処理することを含
むことを特徴とする、フッ素化触媒の気相再生方法であ
る。
【0014】
【発明の実施の形態】再生の前に行われるフッ素化の条
件(有機化合物の種類、温度等)に応じて、最適温度を
選択しなければならない。この最適温度は、一般的に、
フッ素化中に実際に使用される温度にほぼ等しいか又は
それより僅かに高い温度である。従って、この最適温度
は、殆どの場合、300℃から430℃の範囲内であ
る。
【0015】有機化合物の不在下で、フッ化水素と塩素
とを同時に導入しても、又はこれらの反応体を交互に導
入してもよい。後者の場合には、効果的で迅速に再生さ
せるために、この交替を頻繁に(例えば10分毎に)行
わなければならない。しかし、再生の効率に関しては、
HFと塩素を同時に導入しながら処理することが好まし
いことが知見されている。同時導入の際、HF/HF+
Cl2 モル比(MR)は任意に変更可能であるが(0<
MR<1)、効率の点から、0.05から0.995の
範囲内、更に特に0.3から0.99の範囲内のHF/
HF+Cl2 モル比で処理を行うことが好ましい。MR
の値は再生中に変更することも可能であり、例えば、塩
素に富む混合物から出発して、HFに富む混合物で終わ
ることが可能である。
【0016】当然のことながら、再生の持続時間は、触
媒の失活状態、再生条件、及び、所望する再生の程度と
に依存する。この時間は、一般的に、10時間から30
0時間の範囲内であり、大半の場合には、24時間から
150時間の範囲内である。顕著な(すなわち再生がよ
り困難な)失活が生じるのを待つのではなく、失活の最
初の徴候が出現した直後に触媒を再生することが好まし
い(「予防的」再生)。こうした再生の頻度は、触媒再
生のために生じる製造損失に対する触媒寿命の節約に応
じて、最適化しなければならない。
【0017】再生処理中に反応体が触媒と接触する時間
も任意に変更可能であり、この時間は1秒から無限大の
間である(静的再生)。更に一般的には、この接触時間
は、5秒間から300秒間の範囲内であり、好ましくは
10秒間から60秒間の範囲内である。
【0018】フッ素化反応の圧力と同じ圧力、又は、こ
れより低い圧力で、再生を行うことが多い。触媒上に付
着した重質物質をより良好に脱着させるために、低真空
下での操作を想定することも可能である。一般的には1
0kPaから5MPaの範囲内の圧力で、殆どの場合に
は50kPaから2MPaの範囲内の圧力で、再生を行
う。
【0019】本発明による再生は、(触媒表面上への反
応体HF及びCl2 の吸着熱を別にすれば)発熱性が低
いので、フッ素化反応器が単管式反応器である場合でさ
え、フッ素化反応器内で行うことが可能である。予防的
に(従って頻繁に)再生を行おうとする場合には、この
ような状況は極めて実際的である。一方、プラントの生
産高を高めるためには、触媒を取り出して、触媒再生用
装置の中で触媒を再生させると同時に、別の触媒を再投
入し、フッ素化装置内で使用することが有利である。別
の可能性は、2つの反応器を同時に使用すること、即
ち、一方の反応器でフッ素化を行うと同時に、他方の反
応器で再生を行い、その後で、各々の反応器で逆の作業
を行うことである。
【0020】本発明によるCl2 /HF再生を、文献に
記述されている気相フッ素化用の触媒のいずれにも適用
することが可能である。本発明によるCl2 /HF再生
は、Cr、V、Co、Mg、Fe、Ni、及び、Znの
中の少なくとも1つから成る触媒に特に良く適してい
る。
【0021】クロムを主成分とする触媒の場合、本発明
による再生によれば、CrIII の酸化に起因したクロム
の損失が全く生じない。酸素を使用する場合にはこうし
た損失が認められるが、Cl2 /HFの組合せはこの欠
点をもたない。
【0022】上記のように、含水素有機化合物のフッ素
化の際に塩素を連続的に添加することは、収率の低下を
招くので、一般的には有利とは言えない。しかし、塩素
との反応が不十分である(触媒上1回通過当たり95%
未満の塩素変換率)、例えばジクロロメタン(F30)
及び/又はクロロフルオロメタン(F31)のような有
機化合物の場合には、フッ素化反応中に塩素を非連続的
に添加することによって触媒を再生することが経済的に
見て有利であろう。有機物質からの触媒の再生とは対照
的に、この方法では、フッ素化装置における製造を中断
しなくてもよく、有機物質と反応する塩素の一部のため
に生じる一時的な選択性の損失は、生産高の増大によっ
て補償される。
【0023】再生頻度を最適化すると、一般的に、触媒
がその活性を5%から60%の範囲内、好ましくは10
%から30%の範囲内で失ったときに再生が行われるよ
うにプログラムされる。(例えば、C2 Cl4 又はC2
HCl3 のようなオレフィンのフッ素化の場合のよう
に)有機化合物が塩素に対して高い反応性を有する場合
には、フッ素化装置での生産を中断しないで行う上記再
生は推奨できない。
【0024】
【実施例】以下の実施例は、非限定的に本発明を例示す
る。
【0025】実施例1 Cr2 3 触媒(F133aのフッ素化) F133aからF134aへのフッ素化に使用した後の
失活した、CrIII オキシドを主成分とする触媒(50
mL)を、72時間、350℃、大気圧で、各々0.2
5モル/時と0.01モル/時の流量のHFと塩素の混
合物で処理する。
【0026】再生の前と後の上記触媒の活性を、表Iに
示す条件で試験し、この表に示す結果を得た。
【0027】再生処理中とその後のフッ素化反応中に、
反応器の出口の気体洗浄用水の中に含まれるクロムを定
量測定することによって、この再生方法に起因するクロ
ムの損失が全くないと結論することが可能である。
【0028】実施例2 Cr2 3 触媒(F133aのフッ素化) Cl2 /HF再生を、工業用単管反応器内へのCr2
3 触媒の装入量を2m 3 として試験した。最終的には純
粋なHFとるように、次第にHF/有機化合物モル比を
増加させながら再生を行うことによって、F133aの
フッ素化を停止させる。HF流に塩素を加えることによ
って、再生を確実なものにする。使用する流量は実施例
1の流量であるが、処理対象の触媒装入量に比例させ
る。この工業的規模での再生では、5℃より高い発熱は
観察されなかった。表Iに示す結果は、実験室における
試験(実施例1)の結果と同じ変換の増大が再生によっ
て生じたことを示している。
【0029】実施例3 Cr−Zn/AlF3 触媒(F133aのフッ素化) F133aをF134aにフッ素化するために使用した
後の失活した、フッ素化アルミナ上に担持させたCrと
Znを主成分とする触媒(50mL)を、72時間、3
50℃、大気圧で、各々0.25モル/時と0.01モ
ル/時間の流量のHF/Cl2 混合物によって処理し
た。再生の前と後の活性の測定結果を表Iに示す。
【0030】実施例4 Ni−Cr/AlF3 触媒(F133aのフッ素化) F133aをF134aにフッ素化するために使用した
後の失活した、フッ素化アルミナ上に担持させたNiと
Crを主成分とする触媒(50mL)を、68時間、3
50℃、大気圧で、各々0.25モル/時と0.01モ
ル/時の流量のHF/Cl2 混合物によって処理した。
再生の前と後の活性の測定結果を表Iに示す。
【0031】実施例5 Ni/AlF3 触媒(F133aのフッ素化) F133aをF134aにフッ素化するために使用した
後の失活した、フッ素化アルミナ上に担持させたNiを
主成分とする触媒(50mL)を、90時間、350
℃、大気圧で、各々0.25モル/時間と0.01モル
/時の流量のHF/Cl2 混合物によって処理した。再
生の前と後の活性の測定結果を表Iに示す。
【0032】実施例6 Ni−Cr/AlF3 触媒(F1110のフッ素化) ペルクロロエチレンのフッ素化のために使用した後の失
活した、フッ素化アルミナ上に担持させたNiとCrと
を主成分とする触媒(50mL)を、72時間、350
℃、大気圧で、各々0.25モル/時と0.02モル/
時の流量のHF/Cl2 混合物によって処理した。再生
の前と後の活性の測定結果を表IIに示す。
【0033】実施例7(比較) F1110のフッ素化におけるNi−Cr/AlF3
媒(塩素だけを使用する再生) 実施例6で述べた触媒と同じ使用済触媒バッチの試料
(50mL)を、HFの導入なしであることを除いて実
施例5の条件と同じ条件で処理した(Cl2 だけによる
再生)。再生の前と後の活性の測定結果を表IIに示
す。
【0034】実施例8(比較) F1110のフッ素化におけるNi−Cr/AlF3
媒(HFだけを使用する再生) 実施例6で述べた触媒と同じ使用済触媒バッチの試料
(50mL)を、塩素の導入なしであることを除いて実
施例5の条件と同じ条件で処理した(HFだけによる再
生)。再生の前と後の活性の測定結果を表IIに示す。
【0035】実施例9 Ni−Cr/AlF3 触媒(F123のフッ素化) F123(CF3 −CHCl2 )のフッ素化に使用した
後の失活した、フッ素化アルミナ上に担持させたNiと
Crとを主成分とする触媒(50mL)を、48時間、
350℃、大気圧で、各々0.25モル/時と0.02
モル/時の流量のHF/Cl2 混合物によって処理し
た。再生の前と後の活性の測定結果を表IIに示す。
【0036】実施例10 Ni−Cr/AlF3 触媒(F30のフッ素化) F30(CHCl2 )のフッ素化に使用した後の失活し
た、フッ素化アルミナ上に担持させたNiとCrとを主
成分とする触媒(50mL)を、96時間、350℃、
大気圧で、各々0.25モル/時と0.02モル/時の
流量のHF/Cl2 混合物によって処理した。再生の前
と後の活性の測定結果を表IIIに示す。
【0037】実施例11 Ni−Cr/AlF3 触媒(F30のフッ素化の際の再
生) フッ素化アルミナ上に担持させたNiとCrとを主成分
とする触媒(35mL)を、15バール、300℃、H
F/F30モル比=3で使用する。活性が約30%低下
したときに、塩素を反応体に12時間加えることによっ
て(Cl2 /F30モル比=0.02)、フッ素化を中
断することなく触媒を再生させる。
【0038】再生の前と後の活性の測定結果を表III
に示す。選択性の損失は約1%である。
【0039】実施例12 Cr/木炭触媒(F1216のフッ素化) F1216(CF3 −CF=CF2 )をF227e(C
3 −CHF−CF3)に気相フッ素化することによっ
て失活した、木炭上に担持させたCrIII オキシドを主
成分とする触媒(50mL)を、72時間、350℃、
大気圧で、各々0.25モル/時と0.01モル/時の
流量のHF/Cl2 混合物によって再生させた。再生の
前と後の活性の測定結果を表IIIに示す。
【0040】酸素の存在下での再生とは異なって、Cl
2 /HF再生は、木炭上に担持させた触媒を含む触媒装
入物が発火する危険が全くない(再生前に反応器が不活
性物質下に置かれる)。
【0041】上記の実施例は、フッ素化反応で使用した
後の失活した様々なフッ素化触媒に対する、Cl2 /H
F再生の有効性を示している。実施例7及び実施例8と
実施例6を比較すれば、Cl2 とHFの一方を単独で使
用する再生に比較して、Cl2 /HF再生の効果が優れ
ていることが明瞭である。
【0042】最後に、実施例1と実施例12は、酸素の
存在下での再生に比較したCl2 /HF再生の利点を示
しており、即ち、Cl2 /HF再生の場合には、クロム
損失が全く無く、発熱が極めて僅かであるか全く無く、
木炭の存在下でさえ触媒装入物の発火の危険性がないこ
とを示している。
【0043】表Iから表IIIで使用する略語は次の意
味を有する。
【0044】− tc.(s) = 接触時間(秒) − OC = 総変換
【0045】
【表1】
【0046】
【表2】
【0047】
【表3】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ベルナール・シユミナル フランス国、69510・ソシユー−アン−ジ ヤレ、シユマン・ドウ・シヨシエール・ 11、レ・イリス (72)発明者 ブノワ・ルキエム フランス国、69390・シヤルリイ、シユマ ン・ドウ・ラ・クロワ・ブルギニオン・ 225

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 失活した気相フッ素化用触媒を250℃
    から450℃の範囲内の温度で塩素とフッ化水素とで処
    理することを特徴とする、気相フッ素化用の触媒の再生
    方法。
  2. 【請求項2】 前記処理を300℃から430℃の範囲
    内の温度で行う請求項1に記載の方法。
  3. 【請求項3】 前記処理を0.05から0.995の範
    囲内、好ましくは0.3から0.99の範囲内のHF/
    HF+Cl2 モル比で行う請求項2に記載の方法。
  4. 【請求項4】 塩素に富む混合物を最初に使用し、HF
    に富む混合物で再生を終わらせる請求項1から3のいず
    れか一項に記載の方法。
  5. 【請求項5】 前記処理を10kPaから5MPaの範
    囲内、好ましくは50kPaから2MPaの範囲内の圧
    力で行う請求項1から4のいずれか一項に記載の方法。
  6. 【請求項6】 前記触媒と前記反応体との接触時間が5
    秒間から300秒間の範囲内、好ましくは10秒間から
    60秒間の範囲内である請求項1から5のいずれか一項
    に記載の方法。
  7. 【請求項7】 再生の継続時間が10時間から300時
    間の範囲内、好ましくは24時間から150時間の範囲
    内である請求項1から6のいずれか一項に記載の方法。
  8. 【請求項8】 前記処理を有機化合物の不在下で行う請
    求項1から7のいずれか一項に記載の方法。
  9. 【請求項9】 塩素に対する反応性があまり高くない有
    機化合物のフッ素化の際に、塩素の非連続的添加によっ
    て前記再生を行う請求項1から7のいずれか一項に記載
    の方法。
  10. 【請求項10】 前記有機化合物がジクロロメタン及び
    /又はクロロフルオロメタンである請求項9に記載の方
    法。
JP07605497A 1996-03-29 1997-03-27 気相フッ素化用触媒の再生方法 Expired - Lifetime JP3863626B2 (ja)

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FR9603972 1996-03-29
FR9603972A FR2746674B1 (fr) 1996-03-29 1996-03-29 Regeneration des catalyseurs de fluoration en phase gazeuse

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US (1) US5880049A (ja)
EP (1) EP0798043B1 (ja)
JP (1) JP3863626B2 (ja)
KR (1) KR100457137B1 (ja)
CN (1) CN1091657C (ja)
AU (1) AU711704B2 (ja)
CA (1) CA2201164C (ja)
DE (1) DE69735909T2 (ja)
ES (1) ES2267123T3 (ja)
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