JPWO2005026090A1 - ハイドロフルオロカーボンの製造方法、その製品およびその用途 - Google Patents
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Abstract
Description
ジフルオロメタンの製造方法としては、例えば、塩化メチレン(以下、「ジクロロメタン」ということがある)またはクロロフルオロメタン(以下、「HCFC−31」ということがある)とフッ化水素とを、フッ素化触媒の存在下に、気相で反応させる方法(米国特許第2745886号明細書、米国特許第3235612号明細書)等が知られ、一方液相法でハロゲン化アンチモンを触媒として使用する方法(米国特許第2005711号明細書)等も知られているが、いずれも主として触媒に関する提案である。
フルオロメタンの製造方法としては、例えば、メチルアルコールとフッ化水素とを気相でフッ化クロム触媒を用いてフッ素化する方法(特開平4−7330号公報)等や塩化メチルとフッ化水素とをフッ化クロム触媒の存在下に、気相で反応させる方法(特開昭60−13726号公報)等が知られているが、生成水による腐食や選択率が悪い等の問題がある。
また、2種以上のハイドロフルオロカーボンの製造方法としては、例えば、2−クロロ−1,1,1−トリフルオロエタンとフッ化水素とを反応させて1,1,1,2−テトラフルオロエタンを生成させ、この1,1,1,2−テトラフルオロエタンの存在下に塩化メチルおよびトリクロロエチレンをフッ化水素と反応させる方法(WO95/15937号公報)やトリクロロエチレンとフッ化水素とを反応させて2−クロロ−1,1,1−トリフルオロエタンを生成させ、次いで2−クロロ−1,1,1−トリフルオロエタンとフッ化水素とを反応させて1,1,1,2−テトラフルオロエタンを生成させる工程中に、例えば、2,2−ジクロロ−1,1,1−トリフルオロエタンや2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロエタンを添加することにより1,1,1,2−テトラフルオロエタンと共にペンタフルオロエタンを生成させる方法(特表平7−507787号公報)等が知られているが、いずれも反応条件の異なる2つの反応帯(第1反応器及び第2反応器)を有しており、経済的でない等の問題があり、課題を残している。
本発明者は、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、原料としてハロゲン化メタン混合物とフッ化水素とを用い、これらを気相で、フッ素化触媒の存在下に、単一反応帯(1つの反応器)で反応させ、生成ガスを蒸留塔に導いて分離精製後、2種以上のハイドロフルオロカーボンを得る工程を含む方法を用いれば前記課題を解決できることを見出し、本発明を完成する至った。
よって、本発明は、ハロゲン化メタン混合物とフッ化水素とを、気相で、フッ素化触媒の存在下に単一反応帯で反応させ、生成ガスを蒸留塔に導いて分離精製後、2種以上のハイドロフルオロカーボンを得る工程を含むことを特徴とするハイドロフルオロカーボンの製造方法を提供する。
本発明は、また、上記の製造方法を用いて得られ、純度が99.999vol%以上であるフルオロメタンを含むことを特徴とするフルオロメタン製品または純度が99.999vol%以上であるジフルオロメタンを含むことを特徴とするジフルオロメタン製品を提供する。
本発明は、さらに、上記のフルオロメタン製品またはジフルオロメタン製品を含有することを特徴とするエッチングガスまたはクリーニングガスを提供する。
すなわち、本発明は、例えば、以下の[1]〜[19]に示される事項を含む。
〔1〕 ハロゲン化メタン混合物とフッ化水素とを、気相で、フッ素化触媒の存在下に単一反応帯で反応させ、生成ガスを蒸留塔に導き分離精製後、2種以上のハイドロフルオロカーボンを得る工程を含むことを特徴とするハイドロフルオロカーボンの製造方法。
〔2〕 原料のハロゲン化メタン混合物が、塩化メチル、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロフロオロメタン、クロロフルオロメタンおよびクロロジフルオロメタンからなる群から選ばれる少なくとも2種の化合物からなる上記〔1〕に記載のハイドロフルオロカーボンの製造方法。
〔3〕 ハロゲン化メタン混合物が、塩化メチルおよび塩化メチレンからなる上記〔1〕または〔2〕に記載のハイドロフルオロカーボンの製造方法。
〔4〕 得られるハイドロフルオロカーボンが、フルオロメタン、ジフルオロメタンおよびトリフルオロメタンからなる群から選ばれる少なくとも2種の化合物である上記〔1〕〜〔3〕のいずれかに記載のハイドロフルオロカーボンの製造方法。
〔5〕 得られるハイドロフルオロカーボンが、フルオロメタンおよびジフルオロメタンである上記〔1〕〜〔4〕のいずれかに記載のハイドロフルオロカーボンの製造方法。
〔6〕 ハロゲン化メタン混合物中に含まれる1種のハロゲン化メタンの濃度が5〜95質量%の範囲内にある上記〔1〕〜〔5〕のいずれかに記載のハイドロフルオロカーボンの製造方法。
〔7〕 ハロゲン化メタン混合物中に含まれる1種のハロゲン化メタンの濃度が10〜90質量%の範囲内にある上記〔6〕に記載のハイドロフルオロカーボンの製造方法。
〔8〕 反応原料であるフッ化水素とハロゲン化メタンとのモル比が5〜30の範囲内で反応が行なわれる上記〔1〕〜〔7〕のいずれかに記載のハイドロフルオロカーボンの製造方法。
〔9〕 反応が150〜350℃の温度範囲内で行なわれる上記〔1〕〜〔8〕のいずれかに記載のハイドロフルオロカーボンの製造方法。
〔10〕 反応が0.05〜1MPaの圧力範囲内で行なわれる上記〔1〕〜〔9〕のいずれかに記載のハイドロフルオロカーボンの製造方法。
〔11〕 フッ素化触媒が3価の酸化クロムを主成分とする担持型または塊状型触媒である上記〔1〕〜〔10〕のいずれかに記載のハイドロフルオロカーボンの製造方法。
〔12〕 単一反応帯で反応させた生成ガスを第1蒸留塔に導入し、塔頂より主として塩化水素とハイドロフルオロカーボンを分離し、塔底より主としてフッ化水素と未反応のハロゲン化メタンを分離する上記〔1〕〜〔11〕のいずれかに記載のハイドロフルオロカーボンの製造方法。
〔13〕 第1蒸留塔の塔頂より分離された主として塩化水素とハイドロフルオロカーボンを第2蒸留塔に導入し、塔頂より主として塩化水素を分離し、塔底より主としてハイドロフルオロカーボンを分離し、ハイドロフルオロカーボンを分離精製して製品として回収する上記〔1〕〜〔12〕のいずれかに記載のハイドロフルオロカーボンの製造方法。
〔14〕 第1蒸留塔の塔底より分離された主としてフッ化水素と未反応のハロゲン化メタンを反応工程である単一反応帯に循環させる上記〔1〕〜〔13〕のいずれかに記載のハイドロフルオロカーボンの製造方法。
〔15〕 第1蒸留塔および第2蒸留塔の操作圧力が0.3〜3MPaの範囲内にある上記〔1〕〜〔14〕のいずれかに記載のハイドロフルオロカーボンの製造方法。
〔16〕 上記〔1〕〜〔15〕のいずれかに記載の製造方法を用いて得られ、純度が99.999vol%以上であるフルオロメタンを含むことを特徴とするフルオロメタン製品。
〔17〕 上記〔1〕〜〔15〕のいずれかに記載の製造方法を用いて得られ、純度が99.999vol%以上であるジフルオロメタンを含むことを特徴とするジフルオロメタン製品。
〔18〕 上記〔16〕に記載のフルオロメタン製品を含有することを特徴とするエッチングガスまたはクリーニングガス。
〔19〕 上記〔17〕に記載のジフルオロメタン製品を含有することを特徴とするエッチングガスまたはクリーニングガス。
本発明によれば、半導体デバイスの製造工程でエッチングガスあるいはクリーニングガスとして使用することができる、高純度のハイドロフルオロカーボン類、特にフルオロメタン、ジフルオロメタンを工業的に有利に製造することができる。
フルオロメタンの製造方法としては、前述したように、従来より様々な方法が知られている。これらのうち、(1)メチルアルコールとフッ化水素とを、気相で、フッ素化触媒の存在下にフッ素化する方法、(2)塩化メチルとフッ化水素とを、フッ化クロム触媒の存在下に、気相で反応させる方法について、(1)のメチルアルコールを用いる方法は、生成水による装置材料の腐食や選択率が悪い等の問題を有しており、(2)の塩化メチルを用いる方法は、反応に平衡が存在し、収率が低い等の問題を有している。一方、ジフルオロメタンの製造方法としては、(3)塩化メチレンまたはクロロフルオロメタンとフッ化水素を、気相または液相で、反応させる方法が知られているが、経済的で安価な製造法としては課題を残している。
また、2種以上のハイドロフルオロカーボンの製造方法としては、前述の如く、1,1,1,2−テトラフルオロエタンを2つの反応器で製造する工程中に、塩化メチルやトリクロロエチレンを添加し、反応させる方法等が知られているが、いずれも反応条件の異なる2つの反応帯(第1反応器及び第2反応器)を有しており、経済的で安価な製造法としては課題を残している。
以下に、本発明のハイドロフルオロカーボンの製造方法の好ましい態様について詳しく説明する。
本発明のハイドロフルオロカーボンの製造方法は、原料としてハロゲン化メタン混合物とフッ化水素とを用い、これらを気相でフッ素化触媒の存在下に単一反応帯(1つの反応器)で反応させ、生成ガスを蒸留塔に導いて分離精製後、2種以上のハイドロフルオロカーボンを得る工程を含むことを特徴とする。原料のハロゲン化メタン混合物は、好ましくは塩化メチル(CH3Cl)、塩化メチレン(CH2Cl2)、クロロホルム(CHCl3)、ジクロロフルオロメタン(CHCl2F)、クロロフルオロメタン(CH2ClF)およびクロロジフルオロメタン(CHClF2)からなる群から選ばれる少なくとも2種の化合物からなり、より好ましくは塩化メチルと塩化メチレンからなるものが選択される。これらの供給方法としては、それぞれ単独で供給し、反応器入り口で混合する方法や初めから混合状態で供給する方法のどちらをも選択できる。また、ハロゲン化メタン混合物は、反応器に供給する前段で、例えば、モレキュラーシーブス等の脱水剤を使用して水分除去や安定剤の除去等を実施したものであるのが好ましい。
ハロゲン化メタン混合物中に含まれる1種のハロゲン化メタンの濃度は、好ましくは5〜95質量%、より好ましくは10〜90質量%の範囲内であり、この濃度範囲にあれば、例えば、必要な生産量を任意に調整できるという利点が得られる。出発原料であるハロゲン化メタンとフッ化水素は反応器入り口で混合される。フッ化水素とハロゲン化メタンのモル比(供給割合)は5〜30が好ましく、5未満では不純物の生成割合が多く、選択率が悪くなることがある。また、30を超えると、収率が低下したり、未反応原料や中間体の循環量が多くなって装置が大きくなることがあり、好ましくない。原料のハロゲン化メタン混合物とフッ化水素は、反応器入り口で混合され、予熱器で加熱後、単一反応帯(反応器)に導入される。反応器は偏流防止の観点から多管式のものが好ましい。反応器に充填されるフッ素化触媒は3価の酸化クロムを主成分とし、担持型または塊状型触媒が好ましい。担持型触媒の担体としてはアルミナ、フッ化アルミナ、活性炭等が好ましい。また、3価の酸化クロム以外に少量の添加金属を含んでいてもよく、添加金属としてはインジウム、ニッケル、亜鉛および/またはコバルトが好ましい。これらのフッ素化触媒は、反応の前段で、例えば、少なくとも一部がフッ化水素等によりフッ素化されたものであるのが好ましい。反応の温度範囲は150〜350℃が好ましく、より好ましくは200〜300℃である。150℃未満では反応収率が低下し、好ましくなく、350℃を超えると好ましくない不純物が増加することがある。反応の圧力範囲は、0.05〜1.0MPaが好ましく、より好ましくは0.1〜0.7MPaである。0.05MPa未満では操作が困難であり、1.0MPaを超えるとより耐圧構造にしなければならない等、経済的でない。反応器で反応させた生成(出口)ガスの少なくとも一部を、例えば、冷却し、ポンプで第1蒸留塔に導入するか、またはコンプレッサーを用いて第1蒸留塔に導入する。第1蒸留塔の操作圧力は、経済性、操作性の観点から、0.3〜3MPaが好ましい。蒸留方式の(a)では、第1蒸留塔に導入された生成ガスは、塔頂より主として塩化水素、ハイドロフルオロカーボンが分離され、第2蒸留塔に導かれ、第1蒸留塔の塔底より主として未反応フッ化水素、未反応ハロゲン化メタンが分離され、これは反応工程である単一反応帯に循環使用される。第2蒸留塔に導入された主として塩化水素、ハイドロフルオロカーボンは、操作圧力0.3〜3MPaの圧力範囲で塔頂より主として塩化水素が分離され、塩化水素は、例えば、水に吸収させる等により別用途に使用される。塩化水素中に含まれる少なくとも一部のハイドロフルオロカーボンは回収され、再利用される。第2蒸留塔の塔底より主としてハイドロフルオロカーボンが分離され、これらは第3蒸留塔に導入され、操作圧力0.3〜3MPaの圧力範囲で塔頂より低沸の、例えば、フルオロメタンが分離され、精製工程で精製されて製品として回収される。また、塔底より高沸の、例えば、ジフルオロメタンが分離され、精製工程で精製されて製品として回収される。蒸留方式の(b)では、第1蒸留塔に導入された生成ガスは、塔頂より主として塩化水素が分離され、(a)と同様に回収、再利用される。塔底より主として未反応フッ化水素、未反応ハロゲン化メタン、ハイドロフルオロカーボンが分離され、これらは第2蒸留塔に導入され、第2蒸留塔では、塔頂より主としてハイドロフルオロカーボンが分離され、これは第3蒸留塔に導入される。第2蒸留塔の塔底より主として未反応フッ化水素、未反応ハロゲン化メタンが分離され、これらは(a)と同様に反応工程に循環され、利用される。第3蒸留塔に導入された主としてハイドロフルオロカーボンは、塔頂より低沸の、例えば、フルオロメタンが分離され、精製工程で精製され、製品として回収される。また、塔底より高沸の、例えば、ジフルオロメタンが分離され、精製工程で精製されて、製品として回収される。
蒸留方式の(a)および(b)ともに、第3蒸留塔の塔頂より分離された低沸の、例えば、フルオロメタン、塔底より分離された高沸の、例えば、ジフルオロメタンとも、精製工程でイナート(酸素、窒素等)カット、吸着剤による吸着処理(モレキュラーシーブスおよび/または活性炭)等に付され、純度が99.999vol%以上の高純度品を得ることができる。純度が99.999vol%以上の、例えば、フルオロメタンまたはジフルオロメタンは、ガスクロマトグラフ(GC)のTCD法、FID法(いずれもプレカット法を含む)、ECD法あるいはガスクロマトグラフ質量分析計(GC−MS)等の分析機器を用いて分析することができる。
次に、本発明の製造方法を用いて得られるハイドロフルオロカーボン、特にフルオロメタン、ジフルオロメタンの用途について説明する。高純度のフルオロメタン、ジフルオロメタン、あるいはHe、N2、Ar等の不活性ガス、O2、NF3等のガスとの混合ガス(本明細書においては、あわせて「フルオロメタン製品」、「ジフルオロメタン製品」という)は、半導体デバイス製造工程の中のエッチング工程におけるエッチングガスとして、あるいは半導体デバイス製造工程におけるクリーニングガスとして用いることができる。エッチング方法は、プラズマエッチング、マイクロ波エッチング等の各種ドライエッチング条件で行なうことができ、He、N2、Ar等の不活性ガス、あるいはHCl、O2、H2、F2、NF3等のガスと適当な割合で混合して使用してもよい。
以下、実施例により本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
10Lの容器に純水0.6Lを入れて撹拌し、この中に純水1.2Lに452gのCr(NO3)3・9H2Oと42gのIn(NO3)3・nH2O(nは約5)を溶かした溶液と、0.31Lの28%アンモニア水とを、反応液のpHが7.5〜8.5の範囲内になるように、2種の水溶液の流量をコントロールしながら、約1時間かけて滴下した。得られたスラリーを濾別し、濾別した固形物を純水でよく洗浄した後、120℃で12時間乾操した。乾燥した固形物を粉砕後、黒鉛と混合し、打錠成型器によってペレットを作製した。このペレットを窒素気流下、400℃で4時間焼成して、触媒前駆体とした。次に、触媒前駆体をインコネル製反応器に充填し、先ず常圧下350℃で、窒素希釈したフッ化水素気流下にフッ素化処理(触媒の活性化)を行った。次いで、0.3MPaの圧力下で、更に窒素希釈したフッ化水素気流下、次いで100%フッ化水素気流下でフッ素化処理(触媒の活性化)を行い、触媒を調製した。
塩化クロム(CrCl3・6H2O)191.5gを純水132mlに投入し、湯浴上で70〜80℃に加熱して溶解した。溶液を室温まで冷却後、活性アルミナ(日揮ユニバーサル(株)NST−7)400gを浸漬して、アルミナに前記溶液を全量吸収させた。
次いで、濡れた状態のアルミナを90℃の湯浴上で乾燥し、乾固した。乾固した触媒を空気循環型の熱風乾燥器内で110℃で3時間乾燥した。乾燥触媒をSUS製容器に充填し、空気を空間速度(SV)540Hr−1で流し、流通下で焼成した。200℃で触媒層の発熱がなくなるまで焼成した後、さらに400℃まで昇温し、3時間焼成して触媒を得た。この触媒をインコネル製反応器に充填し、先ず常圧下250℃で、窒素希釈したフッ化水素気流下に、さらに除々に温度を上げて350℃でフッ素化処理を行い、次いで0.3MPaの圧力下で、更に窒素希釈したフッ化水素気流下、次いで100%フッ化水素気流下でフッ素化処理を行い、触媒を調製した。
内径1インチ、長さ1mのインコネル600型反応器に、実施例1で得られた触媒100mlを充填し、窒素ガスを流しながら、反応器温度を300℃、圧力を0.2MPaに保持した。
次に、フッ化水素を82NL/hrの流速で供給し、その後窒素ガスの供給を停止した。一方の原料導入口より、ゼオライト(モレキュラーシーブス:3A)で脱水処理した塩化メチル(CH3Cl)を3NL/hrで供給し、もう一方の原料導入口よりゼオライト(モレキュラーシーブス:3A)で脱水処理した塩化メチレン(CH2Cl2)を1NL/hrで供給し、反応を開始した。2時間後、反応器からの出口ガスを水酸化カリウム水溶液で洗浄して酸分を除去した後、ガスの組成をガスクロマトグラフで分析したところ、以下に示す組成(単位:vol%)を有していた。
CH3F 13.3253 CH2F2 24.6108
CH2ClF 0.3720 CH2Cl2 0.0205
CH3Cl 61.6557 その他 0.0157
実施例3と同様に、内径1インチ、長さ1mのインコネル600型反応器に、実施例1で得られた触媒100mlを充填し、窒素ガスを流しながら、反応器温度を300℃、圧力を0.2MPaに保持した。
次に、フッ化水素を82NL/hrの流速で供給し、その後窒素ガスの供給を停止した。一方の原料導入口より、ゼオライト(モレキュラーシーブス:3A)で脱水処理した塩化メチル(CH3Cl)を2NL/hrで供給し、もう一方の原料導入口よりゼオライト(モレキュラーシーブス:3A)で脱水処理した塩化メチレン(CH2Cl2)を2NL/hrで供給し、反応を開始した。2時間後、反応器からの出口ガスを水酸化カリウム水溶液で洗浄して酸分を除去した後、ガスの組成をガスクロマトグラフで分析したところ、以下に示す組成(単位:vol%)を有していた。
CH3F 8.8892 CH2F2 49.1216
CH2ClF 0.7210 CH2Cl2 0.1374
CH3Cl 41.0983 その他 0.0325
内径1インチ、長さ1mのインコネル600型反応器に、実施例1で得られた触媒100mlを充填し、窒素ガスを流しながら、反応器温度を290℃、圧力を0.2MPaに保持した。
次に、フッ化水素を73.85NL/hrの流速で供給し、その後窒素ガスの供給を停止した。一方の原料導入口より、ゼオライト(モレキュラーシーブス:3A)で脱水処理した塩化メチレン(CH2Cl2)を2NL/hrで供給し、もう一方の原料導入口よりゼオライト(モレキュラーシーブス:3A)で脱水処理したクロロホルム(CHCl3)を2NL/hrで供給し、反応を開始した。2時間後、反応器からの出口ガスを水酸化カリウム水溶液で洗浄して酸分を除去した後、ガス組成をガスクロマトグラフで分析したところ、以下に示す組成(単位:vol%)を有していた。
CH2F2 47.6317 CHF3 49.0118
CH2ClF 1.7578 CHClF2 0.8808
CHCl2F 0.0631 CH2Cl2 0.5924
CHCl3 0.0321 その他 0.0303
内径1インチ、長さ1mのインコネル600型反応器に、実施例2で得られた触媒100mlを充填し、窒素ガスを流しながら、反応器温度を315℃、圧力を0.2MPaに保持した。
次に、フッ化水素を73.85NL/hrの流速で供給し、その後窒素ガスの供給を停止した。一方の原料導入口より、ゼオライト(モレキュラーシーブス:3A)で脱水処理した塩化メチル(CH3Cl)を2NL/hrで供給し、もう一方の原料導入口よりゼオライト(モレキュラーシーブス:3A)で脱水処理したクロロホルム(CHCl3)を2NL/hrで供給し、反応を開始した。2時間後、反応器からの出口ガスを水酸化カリウム水溶液で洗浄して酸分を除去した後、ガスの組成をガスクロマトグラフで分析したところ、以下に示す組成(単位:vol%)を有していた。
CH3F 9.4268 CHF3 49.3833
CHClF2 0.4712 CHCl2F 0.1176
CH3Cl 40.5561 CHCl3 0.0108
その他 0.0342
図1に示す装置を用い、実施例3と同様に反応を行って得られた反応器出口ガスを第1蒸留塔に導入し、塔頂より塩化水素およびハイドロフルオロカーボンを分離し、次いで第2蒸留塔の塔底より分離したハイドロフルオロカーボンを第3蒸留塔に導入して分類精製を行った。なお、図1において、1は反応器(単一反応帯)、2は第1蒸留塔、3は第2蒸留塔、4は第3蒸留塔、5はフルオロメタン精製工程、6はジフルオロメタン精製工程である。
図1に示す第3蒸留塔4の塔頂留出成分を、ガスクロマトグラフ(GC)のTCD法、FID法およびガスクロマトグラフ質量分析計(GC−MS)で分析したところ、以下に示す組成(単位:vol%)であった。
CH3F 99.9984 CH4 0.0005
CH2=CH2 0.0005 CO2 0.0003
その他 0.0003
容積100mlのステンレス製シリンダーにゼオライト(モレキュラーシーブス3A(ユニオン昭和(株)製:平均細孔径3Å)およびモレキュラーシーブス4A(ユニオン昭和(株)製:平均細孔径3.5Å)を等量混合したものを20g充填し、真空乾燥後、シリンダーを冷却しながら上記の塔頂留出物を約50g充填し、温度を−10℃に保ちながら時々撹拌し、約5時間後、液相部をガスクロマトグラフのTCD法、FID法およびガスクロマトグラフ質量分析計にて分析したところ、以下に示す組成(単位:vol%)であった。
CH3F 99.9993 CH4 <0.0001
CH2=CH2 0.0002 CO2 0.0002
その他 0.0002
実施例7の第3蒸留塔4の塔底留出成分を、ガスクロマトグラフ(GC)のTCD法、FID法およびガスクロマトグラフ質量分析計(GC−MS)で分析したところ、以下に示す組成(単位:vol%)であった。
CH2F2 99.9986 CH3Cl 0.0007
CH2ClF 0.0005 その他 0.0002
容積100mlのステンレス製シリンダーにゼオライト(モレキュラーシーブス3A)を15gと炭素質吸着剤(モレキュラーシービングカーボン、武田薬品工業(株)製:平均細孔径4Å)を5gを混合したもの充填し、真空乾燥後、シリンダーを冷却しながら上記の塔底留出物を約50g充填し、温度を−10℃に保ちながら時々撹拌し、約5時間後、液相部をガスクロマトグラフのTCD法、FID法およびガスクロマトグラフ質量分析計にて分析したところ、以下に示す組成(単位:vol%)であった。
CH2F2 99.9996 CH3Cl 0.0002
CH2ClF 0.0001 その他 0.0001
Claims (19)
- ハロゲン化メタン混合物とフッ化水素とを、気相で、フッ素化触媒の存在下に単一反応帯で反応させ、生成ガスを蒸留塔に導き分離精製後、2種以上のハイドロフルオロカーボンを得る工程を含むことを特徴とするハイドロフルオロカーボンの製造方法。
- 原料のハロゲン化メタン混合物が、塩化メチル、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロフロオロメタン、クロロフルオロメタンおよびクロロジフルオロメタンからなる群から選ばれる少なくとも2種の化合物からなる請求項1に記載のハイドロフルオロカーボンの製造方法。
- ハロゲン化メタン混合物が、塩化メチルおよび塩化メチレンからなる請求項1または2に記載のハイドロフルオロカーボンの製造方法。
- 得られるハイドロフルオロカーボンが、フルオロメタン、ジフルオロメタンおよびトリフルオロメタンからなる群から選ばれる少なくとも2種の化合物である請求項1〜3のいずれかに記載のハイドロフルオロカーボンの製造方法。
- 得られるハイドロフルオロカーボンが、フルオロメタンおよびジフルオロメタンである請求項1〜4のいずれかに記載のハイドロフルオロカーボンの製造方法。
- ハロゲン化メタン混合物中に含まれる1種のハロゲン化メタンの濃度が5〜95質量%の範囲内にある請求項1〜5のいずれかに記載のハイドロフルオロカーボンの製造方法。
- ハロゲン化メタン混合物中に含まれる1種のハロゲン化メタンの濃度が10〜90質量%の範囲内にある請求項6に記載のハイドロフルオロカーボンの製造方法。
- 反応原料であるフッ化水素とハロゲン化メタンとのモル比が5〜30の範囲内で反応が行なわれる請求項1〜7のいずれかに記載のハイドロフルオロカーボンの製造方法。
- 反応が150〜350℃の温度範囲内で行なわれる請求項1〜8のいずれかに記載のハイドロフルオロカーボンの製造方法。
- 反応が0.05〜1MPaの圧力範囲内で行なわれる請求項1〜9のいずれかに記載のハイドロフルオロカーボンの製造方法。
- フッ素化触媒が3価の酸化クロムを主成分とする担持型または塊状型触媒である請求項1〜10のいずれかに記載のハイドロフルオロカーボンの製造方法。
- 単一反応帯で反応させた生成ガスを第1蒸留塔に導入し、塔頂より主として塩化水素とハイドロフルオロカーボンを分離し、塔底より主としてフッ化水素と未反応のハロゲン化メタンを分離する請求項1〜11のいずれかに記載のハイドロフルオロカーボンの製造方法。
- 第1蒸留塔の塔頂より分離された主として塩化水素とハイドロフルオロカーボンを第2蒸留塔に導入し、塔頂より主として塩化水素を分離し、塔底より主としてハイドロフルオロカーボンを分離し、ハイドロフルオロカーボンを分離精製して製品として回収する請求項1〜12のいずれかに記載のハイドロフルオロカーボンの製造方法。
- 第1蒸留塔の塔底より分離された主としてフッ化水素と未反応のハロゲン化メタンを反応工程である単一反応帯に循環させる請求項1〜13のいずれかに記載のハイドロフルオロカーボンの製造方法。
- 第1蒸留塔および第2蒸留塔の操作圧力が0.3〜3MPaの範囲内にある請求項1〜14のいずれかに記載のハイドロフルオロカーボンの製造方法。
- 請求項1〜15のいずれかに記載の製造方法を用いて得られ、純度が99.999vol%以上であるフルオロメタンを含むことを特徴とするフルオロメタン製品。
- 請求項1〜15のいずれかに記載の製造方法を用いて得られ、純度が99.999vol%以上であるジフルオロメタンを含むことを特徴とするジフルオロメタン製品。
- 請求項16に記載のフルオロメタン製品を含有することを特徴とするエッチングガスまたはクリーニングガス。
- 請求項17に記載のジフルオロメタン製品を含有することを特徴とするエッチングガスまたはクリーニングガス。
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