JPH05507028A - フッ素と少なくとも1種の他のハロゲンとを含有するハロゲン置換炭化水素の水素化脱ハロゲンに使用するための貴金属触媒の活性化 - Google Patents
フッ素と少なくとも1種の他のハロゲンとを含有するハロゲン置換炭化水素の水素化脱ハロゲンに使用するための貴金属触媒の活性化Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
フッ素と少なくとも1種の他のハロゲンとを含有するハロゲン置換炭化水素の水
素化脱ハロゲンに使用するための貴金属触媒の活性化本発明は、ハロゲン置換炭
化水素の製造に使用する触媒の活性化に、より特定的にはフルオロハロカーボン
またはフルオロハロ炭化水素の水素化脱ハロゲンに使用する担持貴金属触媒の活
性化に関するものである。
背景
フッ素を含有するハロゲン置換炭化水素中の非フツ素ハロゲン原子を水素で置換
するための有用な接触工程が開発されてきている。たとえば英国特許明細書 1
578933は、4個または5個のフッ素原子を含有するある種のハロゲン化エ
タンを水素化触媒の存在下に高温で水素と反応させることを特徴とする、テトラ
フルオロエタン(およびある種の有機副生成物)の製造を開示している。活性炭
に担持されたパラジウムよりなる触媒およびアルミナに担持されたパラジウムよ
りなる触媒の使用が、特に例示されている。米国特許第4.873.381号は
、基本的にフッ化アルミニウム担体またはフッ素化アルミナ担体上のパラジウム
よりなる触媒の存在下における1、 1.1.2−テトラフルオロクロロエタン
の蒸気相水素化脱ハロゲンによる1、 1.1.2−テトラフルオロエタンの製
造方法を開示している。
担持貴金属触媒は多年にわたり、ある種の還元、ハイドロフォーミングおよび水
素化工程等のための触媒として使用されている。これらの工程で遭遇する一般的
な問題は時間の経過に伴う触媒活性の低下である。
これらの触媒は比較的高価であるので、交換するより再生する方が明らかに有利
である。したがって、種々の工程用の触媒の再生方法が開発されている。たとえ
ば米国特許第4.164.481号は、有機ニトロ化合物の還元に使用する貴金
属触媒の再生方法を指向している。
触媒の失活には多くの因子が包含されている。失活は焼結、活性部位の被毒、物
理的劣化、たとえば崩壊、およびコーキングを含む種々の原因に帰せられている
。触媒活性の退行の正確な原因およびその工程への効果は、工程の性質に応じて
異なる。
リフォーミング触媒に関する活性の再生は多年にわたり研究されてきた。触媒活
性を復元するには、典型的には労力と費用とを要する方法が必要である。たとえ
ば、フランク(J、 P、 Franck)およびマルチーノ(G、 Mart
ino)は、“触媒脱活における進歩(Progress in Cataly
stDeactivation) ”、 フィゲイレード(J、L、 Figu
eiredo) AI、 ?ルチヌス・ヌキホフ(輩artinus Nkjh
off、 The Hague) 、 1982.386ページ以下において、
4個の段階を包含するリフォーミング触媒用の正常な再生方法を記述している。
第1の段階は、通常は操作温度(約200℃)より若干低い温度への触媒の冷却
と、それに続く窒素による炭化水素および水素の除去とを包含する。第2の段階
は、380℃ないし約500℃での燃焼によるコークの除去を包含する。この段
階中には、HCl、CCt4.1,2−ジクロロプロパンまたは他の燃焼相中で
MCIを生成するいずれかのハロゲン化炭化水素を注入することが必要であろう
。第3の段階は空気の存在下、約500℃でのHCIまたは塩素化化合物、たと
えばCCl4の形状でのその塩素含有量の所望のレベルへの上昇による、触媒の
酸性度の復元を包含する。この最終段階は通常は、約510℃−530℃での塩
素および酸素による、白金微結晶を再分散させるための触媒の処理を包含する。
塩素を使用する種々の触媒活性化方法が、米国特許第2.85L 398号:米
国特許第2.906.702号;米国特許第3.134.732号;米国特許第
3,147、229号:およびドイツ公開明細書D E 2.009.114に
開示されているが、これらの方法はフッ素と少なくとも1個の他のハロゲンとを
含有するハロゲン置換炭化水素の水素化脱ハロゲンに関する触媒活性を扱っハロ
フルオロカーボンまたはハロフルオロ炭化水素の水素化説/′Sロゲンに使用す
る貴金属を含有する担持金属触媒の時間の経過に伴う失活は確認されている。本
発明は、ハロフルオロカーボンまたはハロフルオロ炭化水素の水素化脱ハロゲン
用の工程において使用するためのその活性を改善する、この種の失活した触媒の
再生法(すなわち活性化法)を提供する。再生は、上記の触媒を十分な時間、塩
素を含有する雰囲気と少なくとも約100℃の温度で接触させることにより達成
される。貴金属を含有する新しい(すなわち製造直後の)担持金属触媒の活性を
、しばしばハロフルオロカーボンまたはハロフルオロ炭化水素を水素化脱ハロゲ
ンする工程用に上昇させ得ることも見いだされている。本発明は、新しい触媒を
塩素を含有する雰囲気と少なくとも約100℃の温度で十分な時間接触させるこ
とによる、貴金属を含有する新しい担持金属触媒の、ハロフルオロカーボンまた
はハロフルオロ炭化水素を水素化脱ハロゲンする工程で使用するための活性化法
を提供する。触媒の保護のためには(たとえば貴金属、たとえばパラジウムの蒸
発による損失を防止するためには)、約400℃、またはそれ以下の温度が好ま
しく:また、水の存在下における塩素に伴う腐食条件を回避するためには無水条
件が好ましい。
本発明に従えば、触媒を気体塩素を含有する雰囲気と約100℃ないし400℃
の温度で、その水素化脱ハロゲンに関する触媒活性を改善するのに十分な時間接
触させる段階よりなる、式中の各Xが独立に01およびBrから選択したもので
あり、n b4 lないし6の整数であり、mが口ないし12の整数であり、p
が1ないし13の整数であり、qが1ないし13の整数であり、また式中のm+
p+qが、非環状の飽和の化合物に対しては2n+2に等しく、環状の飽和の化
合物に対して、および非環状のオレフィン性化合物に対しては2nに等しく、環
状のオレフィン性化合物に対しては2n −2に等しい式C,H,,F、X、を
有する化合物の水素化脱ハロゲンに使用する触媒を製造するための、貴金属を含
有する新しい、または失活した担持金属触媒の処理方法が提供される。この方法
は、リフォーミング触媒の再生に一般的に伴う、より高い温度を回避し、余分の
溶媒処理段階、および空気または酸素による処理を回避する触媒活性化方法との
組合わせにおいて有用である。
本発明の実施に使用する触媒の再生および/または初期活性化は、ハロフルオロ
カーボンのハロフルオロ炭化水素への転化に使用する、またはハロフルオロ炭化
水素のより水素化された形状への転化に使用するパラジウム触媒の寿命の延長に
有用である。本発明に従えば、気体塩素を含有する雰囲気と約100℃ないし4
00℃の温度で、その水素化脱ハロゲンに関する触媒活性を改善するのに十分な
時間接触させた貴金属を含有する担持金属触媒を使用することを特徴とする、上
に定義したものと同様の式C,H,F、X、を有する化合物の接触水素化脱ハロ
ゲン方法が提供される。この方法は、2,2−ジクロロ−1,1,1,2−テト
ラフルオロエタン(CF C−114a)の1.1.1.2−テトラフルオロ−
2−クロロエタン(HCFC−124)および1.1.1.2−テトラフルオロ
エタン(HFC−134a) への、ならびにHCF C−124のRFC−1
34aへの転化に特に有用である。
発明の詳細
な説明に従えば、触媒を気体塩素を含有する雰囲気と少な(とも約100℃の温
度で、その水素化脱ハロゲンに関する触媒活性を改善するのに十分な時間接触さ
せる段階よりなる、フッ素および少なくとも1個の他のハロゲンを含有するハロ
ゲン置換炭化水素の水素化脱ハロゲンに使用するための、貴金属を含有する新し
い、または失活した担持金属触媒の処理方法が提供される。
本発明に従う新しい触媒の処理は、典型的には触媒を約120℃の温度で乾燥し
、この触媒を約140℃で水素を用いて還元し、この触媒を窒素でパージし、こ
の触媒を塩素に暴露し、暴露した触媒を活性化温度に加熱し、この温度を適当な
活性化時間の間維持し、活性化した触媒を窒素でパージすることにより達成され
る。本発明に従う失活した触媒の処理は、典型的には、触媒と接触している全て
のフルオロカーボンおよび/またはフルオロ炭化水素を除去し:触媒と接触して
いる全ての水素を(たとえば気体N2でパージして)除去し;この触媒を C1
2と所望の温度で適当な活性化時間の間接触させ:活性化した触媒を窒素でパー
ジすることにより達成される。処理に先立って、失活した触媒に新しい触媒を添
加することもできる。
本発明の実施に有用な貴金属にはルテニウム、ロジウム、パラジウム、イリジウ
ムおよび白金が含まれる。これらの貴金属は、いかなる比率ででも配合すること
ができ、担持させることができる。適当な担体には活性炭、アルミナ、フッ素化
アルミナ、フッ化アルミニウム、フッ化カルシウムおよび炭化ケイ素が含まれる
。他の担体も使用することができる。
活性炭が好ましい担体である。活性炭担体上のパラジウムの触媒が特に好ましい
。
本発明記載の方法による触媒の再生および/または初期活性化には、貴金属を担
体上に沈積させる方法は厳密なものではない。適当な製造方法は多くの刊行物に
記載されている(たとえば米国特許第2.823.235号、米国特許第3.2
65.636号および米国特許第3.27L 327号を参照)。
また、多くの担持貴金属触媒が市販されてもいるが、本発明に従えば、本件明細
書に記載されている水素化脱ハロゲン用の担持触媒の活性は、上記の触媒を塩素
を含有する雰囲気と適当な温度で接触させて改善することができる。
処理し々触媒は、接触水素化脱ハロゲンに有用である。本発明に従えば、気体塩
素を含有する雰囲気と少なくとも約100℃の温度で、その水素化脱ハロゲンに
関する活性を改善するのに十分な時間接触させた貴金属を含有する担持金属触媒
を使用することを特徴とする、フッ素と少なくとも1個の他のハロゲンとを含有
するハロゲン置換炭化水素の接触水素化脱ハロゲン方法が、このようにして提供
される。水素化脱ハロゲン触媒の寿命を、このようにして延長することができる
。
多くの好ましい具体例に関して、本発明に使用する貴金属触媒を失活させる水素
化脱ハロゲン反応に使用するフルオロハロカーボンおよび/またはフルオロハロ
炭化水素は、そのハロがクロロまたはブロモである化合物である。炭素、フッ素
ならびに少なくとも1個の塩素および臭素よりなるハロカーボンが、また、炭素
、水素、フッ素ならびに少な(とも1個の塩素および臭素よりなるハロ炭化水素
が含まれる。適当なフルオロハロカーボンおよびフルオロハロ炭化水素は工ない
し6個の炭素原子を含有することができ、好ましくは1ないし3個の炭素原子を
含有する。適当なフルオロハロカーボンおよびフルオロハロ炭化水素には、式中
の各Xが独立に01およびBrから選択したもの、好ましくはC1であり、nが
1ないし6の整数であり、mが口ないし12の整数であり、pが1ないし13の
整数であり、qが1ないし13の整数であるが、前提としてm+ p 十qが、
化合物が飽和で非環状の場合には2n+2に等しく、化合物が飽和で環状である
か、またはオレフィン性で非環状である場合には2n に等しく、化合物がオレ
フィン性で環状である場合には2n −2に等しい経験的な式C,H,F、X、
により表される環状および非環状の化合物が含まれる。
非環状化合物の例には2.2−ジクロロ−1,1,1,2−テトラフルオロエタ
ン(2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロエタンおよび1.1.1.2
−テトラフルオロエタンに水素化脱ハロゲンすることができる)=2−クロロ−
1,1゜1.2−テトラフルオロエタン自体(1,1,1,2−テトラフルオロ
エタンに水素化脱ハロゲンすることができる);2.2−ジクロロ−1,1,1
−トリフルオロエタン(2−クロロ−1,1,1−トリフルオロエタンに水素化
脱ハロゲンすることができる)および1.1.1−トリフルオロエタン、ならび
に1.1.2.2−テトラクロロ−1,2−ジフルオロエタン(1,2−ジフル
オロエタンに水素化脱ハロゲンすることができる)が含まれる。環状化合物の例
には4.5−ジクロロ−1,1,2,2,3,3−へキサフルオロシクロペンタ
ン(1,1,2,2,3,3−ヘキサフルオロシクロペンタンに水素化脱ハロゲ
ンすることができる)が含まれる。
好ましい具体例において、フルオロバカ−ボンおよび/またはフルオロハロ炭化
水素は、式中のnが1ないし3であり、mが0ないし6であり、pが1ないし7
であり、qが1ないし7である上記の経験的な式により表される。上記のように
、活性化温度(すなわち、再生または初期活性化中の効率的な温度)は少なくと
も約100℃であるべきではあるが、活性化工程中に温度が担体(たとえば活性
炭)を破壊するレベルに、または貴金属(たとえばパラジウム)が触媒表面から
(たとえば蒸発により)実質的に除去されるレベルに達してはならない。
したがって、触媒処理の全ての段階において温度が約400℃、またはそれ以下
に維持されることが好ましい。したがって、本発明に従って触媒を気体塩素と接
触させるのに適した温度範囲は約100℃ないし400℃である。好ましい温度
範囲は約150℃ないし300℃である。
本件触媒は回分式反応器中で、または固定床反応器中で行われる接触反応におい
て使用するために活性化することができる。活性化した触媒は、液相水素化脱ハ
ロゲン反応においても、蒸気相水素化脱ハロゲン反応においても使用することが
できる。一般には蒸気相反応が好ましい。
液相反応に関しては、本発明記載の再生方法は一般に通常の手段、たとえば濾過
または傾瀉による失活した触媒粒子の反応に使用した溶液からの分離に続いて行
われる。ある種の液相反応に関しては、使用済みの失活した触媒を接触反応に使
用した溶液から単に排出することにより、または上記の溶液を接触反応容器から
放出することにより容易に分離し得る場合には、本発明記載の活性化方法は固定
床反応器において、より幸便に実行することができる。ここでは反応容器を、失
活した触媒を本発明記載の方法により再生する容器として幸便に使用することが
できる。
触媒は、連続流中の塩素と接触させることも、静的な条件化で塩素と接触させる
こともできる。
塩素は水の存在下において特に腐食性である。したがって、本発明記載の活性化
処理は好ましくは、水が水素化脱ノ)ロゲン反応器に導入されないように、また
触媒が水の不存在で塩素と接触するように、好ましくは無水状態で行う。活性化
は溶媒処理なしに行われ、一般には活性化工程中の溶媒処理段階を回避するのが
好ましい。
塩素と反応してMCIを形成するHzのような気体も、好ましくは活性化中に存
在させない。したがって、5%またはそれ以下のHzが反応器中に存在してもよ
いが、活性化は好ましくは実質的に水素の不存在で行う。偶発的な酸素がしばし
ばある程度存在し得るが、活性化はまた、好ましくは実質的に、触媒と反応し得
る空気または他の酸素源の不存在で行う。しかし、活性化中に触媒が接触する塩
素含有雰囲気は、触媒との反応に関して不活性な気体を含有していてもよい。こ
の種の不活性気体の例は窒素、ヘリウムおよびアルゴンである。好ましくは、雰
囲気は少なくとも約0.5体積パーセントの012を含有する。
圧力は厳密なものではない。大気圧以下の圧力も、大気圧も、大気圧以上の圧力
も使用することができる。
活性化時間(すなわち新しい触媒および/または失活した触媒を塩素を含有する
雰囲気と適当な活性化温度で接触させる時間)は、水素化脱ハロゲン工程用の触
媒の触媒活性を改良するのに十分な時間であるべきであり、活性化温度、雰囲気
中の塩素濃度、失活の程度および触媒活性の所望の程度のような因子に応じて異
なり得る。一般には、活性化の時間は好ましくは少なくとも約15分である。
触媒の選択性も、本発明記載の処理により影響を受ける。したがって、ある具体
例においては、本発明記載の処理により所望の生成物への改良された選択性が得
られる。
本発明に従って処理する触媒は、新しい(たとえば製造直後の)触媒であっても
水素化脱ハロゲン中に失活した触媒であってもよい。したがって、処理する触媒
には2.2〜ジクロロ−1,1,1,2−テトラフルオロエタンおよび/または
2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロエタンの水素化脱ハロゲン中に失
活したものが可能であり、処理した触媒は上記の水素化脱ハロゲン工程に使用す
ることができる。
本発明の実施態様は、以下の非限定的な実施例により、さらに明らかになるであ
ろう。
実施例
実施例 1
水素化脱ハロゲン触媒の初期活性化
インコネル合金(Inconel” A11ay) 600ニッケル合金製の、
またはハステロイ合金(Ilastelloy” A11oy) C−276ニ
ツケル合金製の固定床反応器中で反応を行わせた。この反応器を温度制御付きの
流動砂浴中に沈めて加熱した。水素の供給速度は質量流動制御装置で制御した。
液体クロマトグラフィー用のポンプを用いてクロロフルオロカーボンおよびクロ
ロフルオロ炭化水素を液体として計量導入し、ついで水素と配合し、蒸発させた
。反応剤の比率は実施例中にモル比で表しである。ついで、この配合流を反応器
に供給した。反応器圧は、反応器の排出配管中に位置する背圧制御装置で制御し
た。
生成物の分析はガスクロマトグラフィーにより行ったが:水素は熱伝導度検出器
で分析し、他の全ての生成物は火炎イオン化検出器で分析した。カラムは、カー
ポシーブ(Carbosieve”) B活性炭モレキュラーシーブに担持させ
た5%のクライトツクス(KrytoxTM)過フ・ソ素化ポリエーテルであり
;70℃から190℃まで10℃/分に温度プログラムしてあった。この系で、
全ての成分の基線分離が得られた。
0.5%Pd/4 X 8メツシユ活性炭触媒の新しい試料を反応器に装入した
。評価条件は以下のとおりであった:温度は140℃であり:圧力は50 ps
igであり:H0の供給速度は1000 secmであり、CFC−114aの
供給速度は5.2111/分であり; CF C−114a/ Hz = 1で
あった。全ての場合に使用前に触媒を 125℃で乾燥し、140℃でHzで還
元し、ついでN2でパージした。活性化前の触媒性能は以下のとおりであった:
CFsCCIJ (CFC−114a)の転化率=5.6%;CF3CH2F
(RFC−134a) への選択率=83%;CFsCHCIF(HCF C
f124)への選択率=13%。250℃で70分間、C1t/ N 2(モル
比約172)混合物を触媒上に通じて触媒を活性化した。この活性化処理ののち
の触媒性能は以下のとおりであった:CFC−114aの転化率=8.7%:
HF C−134a ヘの選択率=85%、HCFC−124への選択率=8%
。
水素化脱ハロゲン触媒の再生
一般的な方法および評価条件は実施例1に記載したものと同一であった。CF3
CC1□F (CFC−114a)の水素化脱ハロゲン反応中に失活した0、5
%Pd/4 X 8メツシユ活性炭触媒を、250℃で70分間、C1□/N2
(モル比的l/2)混合物を触媒上に通じて再生した。再生前の触媒性能は以下
のとおりであつた: CF sCCl2F (CF C−114a)の転化率=
0.7%;CF、CH,F (RFC−134a) への選択率±77%;CF
ICHCIF (HCFC−124)への選択率=16%。この再生処理ののち
の触媒性能は以下のとおりであった: CF C−114aの転化率=6.7%
:HFC−134a への選択率=87%、 HCF C−124への選択率=
6%。
一般的な方法および評価条件は実施例1に記載したものと同一であった。CF3
CC1□F (CFC−1148)の水素化脱ハロゲン反応中に失活した0、5
%Pd/4 X 8メツシユ活性炭触媒。再生前の触媒性能は実施例2と同様で
あり;この触媒は同様の様式で失活したものであったが、活性は評価していなか
った。140℃で16時間、Ch/ N ! (モル比的172)混合物を触媒
上に通じてこの触媒を再生した。この再生処理ののちの触媒性能は以下のとおり
であった: CF C−114aの転化率=2.5%:HFC−134a への
選択率=89%、HCFC(24への選択率=5%。
一般的な方法は実施例1に記載したものと同様であった。評価条件は以下のとお
りであった:温度は275℃であり:圧力は55 psigであり:H3の供給
速度は10005cCnであり、CF、CHCIF (HCFC−124)の供
給速度は4.4ml/分であり;HCFC−124/H! = Lであつた。C
F、CCl2F (CFC−114a)の水素化脱ハロゲン反応中に失活した0
、5%Pd/4 X 8メツシユ活性炭触媒を、275℃で120分間、Ch/
r’h(モル比的1/2)混合物を触媒上に通じて再生した。再生前の触媒性能
は: HCF C−124の転化率=4%;CFsCHJ (RFC−134a
)への選択率=93%であった。この再生処理ののちの触媒性能は以下のとおり
であった: HCF C−124の転化率=20%:CF、CH,F (RFC
−L34a) への選択率=99%。
一般的な方法は実施例1に記載したものと同一であった。評価条件は以下のとお
りであった:温度は199℃であり;圧力は55 psigであり;H6の供給
速度は1005cc11であり; CF C−114aの供給速度は0.5ml
/分であり; CFC−114a/Hz = 1であった。200℃で255分
間、C1□/N2(モル比的1/2)混合物を触媒上に通じて、0.1%Pd/
1/8”×178”Al2O8錠剤触媒を活性化した。活性化前の触媒性能は:
CFC−L14aの転化率=29%; CF、CH!F (HFC−134a)
への選択率=71%、CF、CHCIF (HCFC−124)への転化率=1
8%であった。この活性化処理ののちの触媒性能は以下のとおりであった:CF
C−114aの転化率=33%: CF3CH2F (RFC−L34a)への
選択率=72%、CF、CHCIF (HCFC−124)への選択率=16%
。
本発明の特定の具体例はこれらの実施例に包含されている。他の具体例は、本件
明細書または本件明細書中に開示した本発明の実施態様に関する考慮から、当業
者には明らかになるであろう。本発明の精神および新規な概念の範囲から離れる
ことなく、改良および変更がなわれ得ると理解される。さらに、本発明が本件明
細書中で説明した特定の配合剤および各実施例に限定されるものではなく、以下
の請求の範囲の範囲に現れるその改良された形態をも包含することも理解される
。
要 約 書
触媒を気体塩素を含有する雰囲気と約100℃ないし400℃の温度で、その水
素化脱ハロゲンに関する触媒活性を改善するのに十分な時間接触させる段階より
なる、式中の各Xが独立にCIおよびBrから選択したものであり、nが1ない
し6の整数であり、mが0ないし12の整数であり、pが1ないし13の整数で
あり、qが1なしル13の整数であり、また、非環状の飽和の化合物に対しては
m + p +qが2n+2に等しく、環状の飽和の化合物に対して、および非
環状のオレフィン性化合物に対してはm十p 十qが2nに等しく、環状のオレ
フィン性化合物に対してはm + p + qが釦−2に等しい式C7H,F、
X、を有する化合物の、水素化脱ハロゲンに使用する触媒を製造するための、貴
金属を含有する新しい、または失活した担持金属の処理方法が開示されている。
上記のように塩素を含有する雰囲気と接触させた貴金属を含有する担持金属触媒
を使用することを特徴とする接触水素化脱ハロゲン方法も開示されている。
補正音の写しく翻訳文)提出書 (特許法第184条の8)平成4年11月20
日
Claims (18)
- 1.触媒を気体塩素を含有する雰囲気と約100℃ないし400℃の温度で、そ の水素化脱ハロゲンに関する触媒活性を改善するのに十分な時間接触させる段階 よりなる、式中の各Xが独立にC1およびBrから選択したものであり、そのn が1ないし6の整数であり、mが0ないし12の整数であり、pが1ないし13 の整数であり、qが1ないし13の整数であり、また、非環状の飽和の化合物に 対してはm+p+qが2n+2に等しく、環状の飽和の化合物に対して、および 非環状のオレフィン性化合物に対してはm+p+qが2nに等しく、環状のオレ フィン性化合物に対してはm+p+qが2n−2に等しい式CnHmFpXqを 有する化合物の水素化脱ハロゲンに使用する触媒を製造するための、貴金属を含 有する製造直後の、または失活した担持金属の処理方法。
- 2.上記の処理が無水条件であることを特徴とする請求の範囲1記載の方法。
- 3.製造直後の触媒を活性化することを特徴とする請求の範囲1記載の方法。
- 4.水素化脱ハロゲン反応中に失活した触媒を再生することを特徴とする請求の 範囲1記載の方法。
- 5.上記の活性化を実質的に水素の不存在で実施することを特徴とする請求の範 囲1記載の方法。
- 6.上記の活性化を実質的に酸素の不存在で実施することを特徴とする請求の範 囲1記載の方法。
- 7.上記の雰囲気が少なくとも約0.5体積パーセントのCl2を含有すること を特徴とする請求の範囲1記載の方法。
- 8.2,2−ジクロロ−1,1,1,2−テトラフルオロエタンの水素化脱ハロ ゲン中に失活した触媒を再生することを特徴とする請求の範囲1記載の方法。
- 9.2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロエタンの水素化脱ハロゲン中 に失活した触媒を再生することを特徴とする請求の範囲1記載の方法。
- 10.上記の触媒が活性炭担体を有するものであることを特徴とする請求の範囲 1記載の方法。
- 11.上記の触媒が活性炭担持パラジウム触媒であることを特徴とする請求の範 囲1記載の方法。
- 12.上記の活性化時間が少なくとも約15分であることを特徴とする請求の範 囲1記載の方法。
- 13.上記の担体がアルミナ、フッ素化アルミナ、フッ化アルミニウム、フッ化 カルシウムおよび炭化ケイ素から選択したものであることを特徴とする請求の範 囲1記載の方法。
- 14.上記の温度が約150℃ないし約300℃であることを特徴とする請求の 範囲1記載の方法。
- 15.気体塩素を含有する雰囲気と約100℃ないし400℃の温度でその水素 化脱ハロゲンに関する触媒活性を改善するのに十分な時間接触させた貴金属を含 有する担持金属触媒を使用することを特徴とする、式中の各Xが独立にClおよ びBrから選択したものであり、そのnが1ないし6の整数であり、mが0ない し12の整数であり、pが1ないし13の整数であり、qが1ないし13の整数 であり、また、この化合物が飽和で非環状である場合にはm+p+qが2n+2 に等しく、この化合物が飽和で環状である場合、またはこの化合物がオレフィン 性でかつ非環状である場合にはm+p+qが2nに等しく、この化合物がオレフ ィン性でかつ環状である場合にはm+p+qが2n−2に等しい式CnHmFp Xqを有する化合物の接触水素化脱ハロゲン方法。
- 16.上記の触媒が活性炭担持パラジウム触媒であることを特徴とする請求の範 囲15記載の方法。
- 17.2,2−ジクロロ−1,1,1,2−テトラフルオロエタンを水素化脱ハ ロゲンすることを特徴とする請求の範囲15記載の方法。
- 18.2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロエタンを水素化脱ハロゲン することを特徴とする請求の範囲15記載の方法。
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